JP7143141B2 - Transparent electrode laminate and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、透明電極積層体及びその製造方法に関する。より詳しくは、複数の透明導電層を含む透明電極積層体及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent electrode laminate and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a transparent electrode laminate including a plurality of transparent conductive layers and a method for producing the same.

近年、情報化が進展するにつれて、ディスプレイ分野でも多様な形態の要求が増加している。これにより、薄型化、軽量化、低消費電力化、などの特徴を持つ各種のフラットパネルディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ、などが研究されている。 In recent years, as the computerization progresses, there is an increasing demand for various forms in the field of displays. Accordingly, various flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays, EL displays, organic light emitting diode displays, etc., which are characterized by thinness, weight reduction, and low power consumption, are being studied.

また、前記ディスプレイ上に貼り付けられ、画面に表示される指示内容を人の手や物体で選択し、ユーザの命令を入力する入力装置であるタッチパネル又はタッチセンサーをディスプレイ装置と結合することで、画像表示機能及び情報入力機能を共に実現した電子機器が開発されている。 In addition, by combining a touch panel or a touch sensor, which is an input device that is pasted on the display and displayed on the screen with a human hand or an object and inputs a user's command, to the display device, 2. Description of the Related Art Electronic devices that realize both an image display function and an information input function have been developed.

前記タッチセンサーの場合には、ユーザのタッチセンシングのための透明導電性酸化物を含むセンシング電極を基板上に配列することができる。前記タッチセンサーをディスプレイ装置に挿入すると、前記センシング電極により、ディスプレイ装置によって具現される画像の品質が低下することがある。例えば、前記センシング電極がユーザに視認され、前記画像を乱すことがある。また、前記センシング電極により画像の色感が変化してしまうことがある。 In the case of the touch sensor, sensing electrodes including a transparent conductive oxide can be arranged on the substrate for user's touch sensing. When the touch sensor is inserted into the display device, the sensing electrodes may degrade the quality of the image rendered by the display device. For example, the sensing electrodes may be visible to a user and disturb the image. In addition, the sensing electrodes may change the color of the image.

そのため、タッチセンシングのための所定の伝導性および感度を維持しつつ、画像品質の向上のための光学的特性も考慮して、前記センシング電極を設計する必要がある。 Therefore, it is necessary to design the sensing electrodes while maintaining a predetermined conductivity and sensitivity for touch sensing, while also considering optical properties for improving image quality.

最近では、例えば韓国公開特許第２０１４－００９２３６６号に示されるように、様々な画像表示装置にタッチセンサーを結合したタッチスクリーンパネルが開発されているが、前述のように光学的特性が向上したタッチセンサー又はタッチパネルの要求が続いている。 Recently, as shown in Korean Patent Publication No. 2014-0092366, for example, touch screen panels in which touch sensors are combined with various image display devices have been developed. The demand for sensors or touch panels continues.

韓国公開特許第２０１４－００９２３６６号公報Korean Patent Publication No. 2014-0092366

本発明は、向上した色感及び光学的特性を有する透明電極積層体を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a transparent electrode laminate having improved color and optical properties.

また、本発明は、向上した色感及び光学的特性を有する透明電極積層体の製造方法を提供することを目的とする。 Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a transparent electrode laminate having improved color and optical properties.

さらに、本発明は、前記透明電極積層体を含むタッチセンサーを提供することを目的とする。 A further object of the present invention is to provide a touch sensor including the transparent electrode laminate.

１．基材層上に所定の厚さの第１の透明酸化物電極層を形成する段階と、前記第１の透明酸化物電極層上に第２の透明酸化物電極層を形成する段階とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層を形成する段階は、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節して積層体全体の透過率及び色度（ｂ＊）を調節することを含む、透明電極積層体の製造方法。 1. forming a first transparent oxide electrode layer having a predetermined thickness on a substrate layer; and forming a second transparent oxide electrode layer on the first transparent oxide electrode layer. ,
The step of forming the second transparent oxide electrode layer includes adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer to adjust the transmittance and chromaticity (b*) of the entire laminate. , a method for producing a transparent electrode laminate.

２．前記項目１において、前記第１の透明酸化物電極層は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成され、前記第２の透明酸化物電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含むように形成される、透明電極積層体の製造方法。 2. 2. In Item 1, the first transparent oxide electrode layer is formed to contain indium zinc oxide (IZO), and the second transparent oxide electrode layer contains indium tin oxide (ITO). A method for manufacturing a transparent electrode laminate, which is formed as follows.

３．前記項目１において、前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１５０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、５以下に調節される、透明電極積層体の製造方法。 3. A transparent electrode according to item 1, wherein the thickness of the second transparent oxide electrode layer is adjusted to a range of 120 to 150 nm, and the chromaticity (b*) of the entire laminate is adjusted to 5 or less. A method for manufacturing a laminate.

４．前記項目１において、前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１４０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９～４．７の範囲に調節される、透明電極積層体の製造方法。 4. In item 1, the thickness of the second transparent oxide electrode layer is adjusted in the range of 120 to 140 nm, and the chromaticity (b*) of the entire laminate is in the range of 0.9 to 4.7. A method for producing a transparent electrode laminate, wherein the method is adjusted to

５．前記項目１において、前記第１の透明酸化物電極層は、厚さが１０～２０ｎｍの範囲で固定される、透明電極積層体の製造方法。 5. 2. The method for producing a transparent electrode laminate according to item 1, wherein the thickness of the first transparent oxide electrode layer is fixed within a range of 10 to 20 nm.

６．前記項目１において、前記積層体全体の透過率は、８７％以上に調節される、透明電極積層体の製造方法。 6. 2. A method for producing a transparent electrode laminate according to item 1, wherein the transmittance of the entire laminate is adjusted to 87% or more.

７．前記項目１において、前記第１の透明酸化物電極層を形成する前に、前記基材層上に屈折率整合層を形成する段階をさらに含む、透明電極積層体の製造方法。 7. 2. The method of manufacturing a transparent electrode laminate according to the item 1, further comprising forming a refractive index matching layer on the substrate layer before forming the first transparent oxide electrode layer.

８．前記項目７において、前記屈折率整合層を形成する段階は、屈折率が互いに異なる第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を順次形成することを含む、透明電極積層体の製造方法。 8. 8. Manufacturing a transparent electrode laminate according to Item 7, wherein the step of forming the refractive index matching layer includes sequentially forming a first refractive index matching layer and a second refractive index matching layer having different refractive indices. Method.

９．基材層と、前記基材層上に積層されたインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層と、前記第１の透明酸化物電極層上に積層されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１５０ｎｍであり、積層体全体の透過率は８７％以上であり、色度（ｂ＊）は５以下である、透明電極積層体。 9. a substrate layer; a first transparent oxide electrode layer comprising indium zinc oxide (IZO) deposited on the substrate layer; and indium tin oxide deposited on the first transparent oxide electrode layer. a second transparent oxide electrode layer comprising a material (ITO);
A transparent electrode laminate, wherein the second transparent oxide electrode layer has a thickness of 120 to 150 nm, a transmittance of the entire laminate of 87% or more, and a chromaticity (b*) of 5 or less.

１０．前記項目９において、前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１４０ｎｍであり、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９～４．７である、透明電極積層体。 10. 9. The transparent electrode according to item 9, wherein the thickness of the second transparent oxide electrode layer is 120 to 140 nm, and the chromaticity (b*) of the entire laminate is 0.9 to 4.7. laminate.

１１．前記項目９において、前記第１の透明酸化物電極層の厚さは１０～２０ｎｍである、透明電極積層体。 11. 10. The transparent electrode laminate according to item 9, wherein the first transparent oxide electrode layer has a thickness of 10 to 20 nm.

１２．前記項目１において、前記基材層と前記第１の透明酸化物電極層との間に形成される屈折率整合層をさらに含む、透明電極積層体。 12. 2. The transparent electrode laminate according to item 1, further comprising a refractive index matching layer formed between the substrate layer and the first transparent oxide electrode layer.

１３．前記項目１２において、前記屈折率整合層は、前記基材層から順次に積層された第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を含み、前記第１の屈折率整合層は、前記第２の屈折率整合層よりも大きい屈折率を有する、透明電極積層体。 13. 13. In Item 12, the refractive index matching layer includes a first refractive index matching layer and a second refractive index matching layer that are sequentially laminated from the base layer, and the first refractive index matching layer comprises: A transparent electrode laminate having a higher refractive index than the second refractive index matching layer.

１４．前記項目９～１３のいずれか一項に記載の透明電極積層体を含む、タッチセンサー。 14. A touch sensor comprising the transparent electrode laminate according to any one of items 9 to 13 above.

本発明の実施形態に係る透明電極積層体は、例えば、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層、およびインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層を含むことができる。前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節することで、前記透明電極積層体の色度（ｂ＊）を調節することができる。これにより、画像表示装置の構造によって前記透明電極積層体の所望の色度を容易に調節できる。 A transparent electrode laminate according to an embodiment of the present invention includes, for example, a first transparent oxide electrode layer containing indium zinc oxide (IZO) and a second transparent oxide electrode layer containing indium tin oxide (ITO). It can contain layers. By adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer, the chromaticity (b*) of the transparent electrode laminate can be adjusted. Thereby, the desired chromaticity of the transparent electrode laminate can be easily adjusted according to the structure of the image display device.

また、前記色度の範囲内で所定の透過率を有するように前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節することにより、色度および透過率を含む光学的特性を全体的に向上させることができる。 Further, by adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer so as to have a predetermined transmittance within the range of the chromaticity, overall optical properties including chromaticity and transmittance are improved. can be made

さらに、前記第１の透明酸化物電極層の厚さを所定の範囲内に固定または維持することにより、前記透明電極積層体の機械的安定性を向上させることができる。 Furthermore, by fixing or maintaining the thickness of the first transparent oxide electrode layer within a predetermined range, the mechanical stability of the transparent electrode laminate can be improved.

前記透明電極積層体を用いて、光学的特性および機械的信頼性が向上したタッチセンサーを製造することができ、画像表示装置内で目的の画像または色度を容易に高解像度で実現することができる。 A touch sensor with improved optical properties and mechanical reliability can be manufactured using the transparent electrode laminate, and a desired image or chromaticity can be easily realized with high resolution in an image display device. can.

図１は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transparent electrode laminate according to an exemplary embodiment. 図２は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a transparent electrode laminate according to an exemplary embodiment. 図３は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a transparent electrode laminate according to an exemplary embodiment. 図４は、例示的な実施形態に係るタッチセンサーを示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a touch sensor according to an exemplary embodiment; 図５は、第２の透明酸化物電極層の厚さの変化によるｂ＊値の変化を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing changes in b* value with changes in the thickness of the second transparent oxide electrode layer.

本発明の実施形態は、第１の透明酸化物電極層及び第２の透明酸化物電極層を含み、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節することにより、所定の色度を有する透明電極積層体及びその製造方法を提供する。 An embodiment of the present invention includes a first transparent oxide electrode layer and a second transparent oxide electrode layer, and by adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer, a predetermined chromaticity can be obtained. A transparent electrode laminate and a method for manufacturing the same are provided.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態をより具体的に説明する。ただし、本明細書に添付される図面は、本発明の好適な実施形態を例示するものであって、発明の詳細な説明とともに本発明の技術思想をさらに理解する一助となる役割を果たすものであるため、本発明は図面に記載された事項のみに限定されて解釈されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to the drawings. However, the drawings attached to this specification illustrate the preferred embodiments of the present invention, and play a role of helping to further understand the technical idea of the present invention together with the detailed description of the invention. Therefore, the present invention should not be construed as being limited only to the matters described in the drawings.

図１は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transparent electrode laminate according to an exemplary embodiment.

図１に示すように、透明電極積層体１００は、基材層１０５、並びに前記基材層１０５上に形成された第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０を含むことができる。 As shown in FIG. 1, the transparent electrode laminate 100 includes a substrate layer 105, and a first transparent oxide electrode layer 160 and a second transparent oxide electrode layer 170 formed on the substrate layer 105. can contain.

基材層１０５は、透明酸化物電極層１６０，１７０の形成のためにベース層として用いられるフィルムタイプの基材、または透明酸化物電極層１６０，１７０が形成される対象体を包括する意味で使用される。一部の実施形態では、基材層１０５は、タッチセンサーが形成または積層される表示パネルを指す場合もある。一部の実施形態では、基材層１０５は、画像表示装置のウィンドウ基板を含むこともできる。 The substrate layer 105 includes a film-type substrate used as a base layer for forming the transparent oxide electrode layers 160 and 170, or an object on which the transparent oxide electrode layers 160 and 170 are formed. used. In some embodiments, substrate layer 105 may refer to the display panel on which the touch sensors are formed or laminated. In some embodiments, substrate layer 105 can also comprise a window substrate for an image display device.

例えば、基材層１０５としては、タッチセンサーに通常使用される基板、またはフィルム素材を特に制限することなく使用でき、例えば、ガラス、高分子、及び／又は無機絶縁物質を含むことができる。前記高分子の例としては、環状オレフィン重合体（ＣＯＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（ＰＩ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などが挙げられる。前記無機絶縁物質の例としては、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、金属酸化物などが挙げられる。 For example, the substrate layer 105 can be any substrate or film material that is commonly used for touch sensors, and can include, for example, glass, polymer, and/or inorganic insulating materials. Examples of the polymer include cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), polyarylate. (polyallylate), polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC), polymethyl methacrylate (PMMA) ) and the like. Examples of the inorganic insulating material include silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, and metal oxide.

第１の透明酸化物電極層１６０は、基材層１０５上に、例えばスパッタリング（sputtering）工程のような蒸着工程により形成することができる。 The first transparent oxide electrode layer 160 can be formed on the substrate layer 105 by a deposition process, such as a sputtering process.

例示的な実施形態によると、第１の透明酸化物電極層１６０は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成することができる。例えば、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）の重量比が調節されたターゲットを用いたスパッタリング工程により、第１の透明酸化物電極層１６０を形成することができる。 According to an exemplary embodiment, first transparent oxide electrode layer 160 can be formed to include indium zinc oxide (IZO). For example, the first transparent oxide electrode layer 160 may be formed through a sputtering process using a target with a controlled weight ratio of indium oxide ( In2O3 ) and zinc oxide (ZnO).

一実施形態では、第１の透明酸化物電極層１６０において、酸化亜鉛の重量比は約５～１５重量％であってもよい。 In one embodiment, the weight percentage of zinc oxide in the first transparent oxide electrode layer 160 may be about 5-15 weight percent.

第１の透明酸化物電極層１６０の厚さは、約１０～２０ｎｍの範囲内で調節できる。 The thickness of the first transparent oxide electrode layer 160 can be adjusted within a range of about 10-20 nm.

相対的にインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）に比べて機械的安定性および表面特性が向上したＩＺＯを使用して第１の透明酸化物電極層１６０を形成する一方、厚さを前記範囲内に調節することにより、後述する第２の透明酸化物電極層１７０により調節される透過度、色度への影響を抑制または低減できる。 IZO, which has relatively improved mechanical stability and surface properties compared to indium tin oxide (ITO), is used to form the first transparent oxide electrode layer 160, while adjusting the thickness within the above range. By doing so, the influence on the transmittance and chromaticity adjusted by the second transparent oxide electrode layer 170, which will be described later, can be suppressed or reduced.

例示的な実施形態によると、第１の透明酸化物電極層１６０は、前述のように、ＩＺＯを用いて、相対的に低温工程により形成できるため、基材層１０５の損傷を防止できる。例えば、第１の透明酸化物電極層１６０は、約２０～１３０℃の範囲の低温蒸着工程により形成できる。 According to an exemplary embodiment, the first transparent oxide electrode layer 160 can be formed by a relatively low temperature process using IZO as described above, thereby preventing damage to the substrate layer 105 . For example, the first transparent oxide electrode layer 160 can be formed by a low temperature deposition process in the range of about 20-130.degree.

第１の透明酸化物電極層１６０上には、第２の透明酸化物電極層１７０を形成することができる。第２の透明酸化物電極層１７０は、第１の透明酸化物電極層１６０に比べて相対的に透過率および伝導性が向上した物質を含むように形成できる。 A second transparent oxide electrode layer 170 may be formed on the first transparent oxide electrode layer 160 . The second transparent oxide electrode layer 170 may be formed to include a material having relatively improved transmittance and conductivity compared to the first transparent oxide electrode layer 160 .

例示的な実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０は、ＩＴＯを含むようにスパッタリング工程のような蒸着工程により形成することができる。 In an exemplary embodiment, the second transparent oxide electrode layer 170 can be formed by a vapor deposition process such as a sputtering process to include ITO.

例えば、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）および酸化スズ（ＳｎＯ２）の重量比が調節されたターゲットを用いたスパッタリング工程により、第２の透明酸化物電極層１７０を形成することができる。一実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０における酸化スズの重量比は約５～１５重量％であってもよい。 For example, the second transparent oxide electrode layer 170 may be formed by a sputtering process using a target with a controlled weight ratio of indium oxide (In 2 O 3 ) and tin oxide (SnO 2 ). In one embodiment, the weight ratio of tin oxide in the second transparent oxide electrode layer 170 may be about 5-15 weight percent.

例示的な実施形態によると、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを調節することにより、透明電極積層体１００の色度及び透過率を調節できる。 According to an exemplary embodiment, the chromaticity and transmittance of the transparent electrode stack 100 can be adjusted by adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer 170 .

一部の実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さは約１２０～１５０ｎｍの範囲で調節できる。一部の実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０の前記厚さの範囲で透明電極積層体１００の色度（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるｂ＊）は、約５以下に調節できる。 In some embodiments, the thickness of the second transparent oxide electrode layer 170 can be adjusted in the range of about 120-150 nm. In some embodiments, the chromaticity (b* in the L*a*b* color system) of the transparent electrode stack 100 within the thickness range of the second transparent oxide electrode layer 170 is about 5 or less. can be adjusted to

一実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さは、約１２０～１４０ｎｍの範囲で調節でき、透明電極積層体１００の色度は、約０．９～４．７の範囲に調節できる。 In one embodiment, the thickness of the second transparent oxide electrode layer 170 can be adjusted in the range of about 120-140 nm, and the chromaticity of the transparent electrode stack 100 can be in the range of about 0.9-4.7. Adjustable.

例えば、透明電極積層体１００が、タッチセンサーのセンシング電極として使用される場合には、前記タッチセンサーは、画像表示装置の中間膜構造として挿入できる。前記画像表示装置の解像度および画像品質、前記タッチセンサーが挿入される画像表示装置内の位置等によって、求められる前記タッチセンサーの色度が異なり得る。 For example, when the transparent electrode laminate 100 is used as a sensing electrode of a touch sensor, the touch sensor can be inserted as an intermediate film structure of an image display device. The required chromaticity of the touch sensor may differ depending on the resolution and image quality of the image display device, the position in the image display device where the touch sensor is inserted, and the like.

例示的な実施形態によると、透明電極積層体１００内で、例えば、ＩＴＯを含む第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを調節することにより、透明電極積層体１００全体の色度を容易に調節できる。また、前記厚さの範囲で色度を約５以下、好ましくは約０．９～４．７の範囲に調節することにより、色偏差による画像表示装置での画像の変形または攪乱を防止できる。 According to an exemplary embodiment, within the transparent electrode stack 100, the chromaticity of the entire transparent electrode stack 100 can be easily adjusted by adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer 170 comprising, for example, ITO. can be adjusted to Further, by adjusting the chromaticity to about 5 or less, preferably in the range of about 0.9 to 4.7 within the thickness range, it is possible to prevent deformation or disturbance of the image on the image display device due to color deviation.

また、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを前記範囲に調節することにより、透明電極積層体１００全体の透過率を約８７％以上に調節することができる。透明電極積層体１００の透過率が約８７％未満の場合には、タッチセンサーのユーザに電極が視認されることがあり、前記画像表示装置の画像品質が劣化することがある。 Also, by adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer 170 within the above range, the transmittance of the entire transparent electrode stack 100 can be adjusted to about 87% or more. If the transmittance of the transparent electrode laminate 100 is less than about 87%, the electrodes may be visible to the user of the touch sensor, and the image quality of the image display device may deteriorate.

第２の透明酸化物電極層１７０は、第１の透明酸化物電極層１６０に比べて伝導性および透過率が向上した物質、例えばＩＴＯを含むように形成され、また第１の透明酸化物電極層１６０よりも大きい厚さを有するように形成することができる。 The second transparent oxide electrode layer 170 is formed to include a material, such as ITO, having improved conductivity and transmittance compared to the first transparent oxide electrode layer 160, and the first transparent oxide electrode layer It can be formed to have a greater thickness than layer 160 .

これにより、第２の透明酸化物電極層１７０によって、タッチセンサーの伝導性、透過率を確保するとともに、色度の微調節を行うことができる。また、第１の透明酸化物電極層１６０は、例えば、基材層１０５側から第２の透明酸化物電極層１７０に浸透する外部の不純物に対するバリアとして提供することができ、タッチセンサーに含まれるセンシング電極の機械的安定性を向上させることができる。 Accordingly, the second transparent oxide electrode layer 170 can ensure the conductivity and transmittance of the touch sensor and finely adjust the chromaticity. The first transparent oxide electrode layer 160 can also serve as a barrier against external impurities penetrating into the second transparent oxide electrode layer 170 from the substrate layer 105 side, for example, and included in the touch sensor. It is possible to improve the mechanical stability of the sensing electrode.

第２の透明酸化物電極層１７０は、第１の透明酸化物電極層１６０よりも相対的に高温工程により形成することができる。例えば、第２の透明酸化物電極層１７０は、約３０～２３０℃の温度の蒸着工程により形成できる。 The second transparent oxide electrode layer 170 can be formed using a relatively higher temperature process than the first transparent oxide electrode layer 160 . For example, the second transparent oxide electrode layer 170 can be formed by a deposition process at a temperature of about 30-230.degree.

一部の実施形態では、第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０は、互いに接触しており、この場合、タッチセンサーのセンシング電極は２層構造を有することができる。前記センシング電極において、前述のように、第１の透明酸化物電極層１６０はバリア電極または支持電極で提供され、第２の透明酸化物電極層１７０は伝導性、透過率、色度調整電極で提供され得る。 In some embodiments, the first transparent oxide electrode layer 160 and the second transparent oxide electrode layer 170 are in contact with each other, in which case the sensing electrode of the touch sensor can have a two-layer structure. can. In the sensing electrode, as described above, the first transparent oxide electrode layer 160 serves as a barrier electrode or support electrode, and the second transparent oxide electrode layer 170 serves as a conductive, transmittance, and chromaticity adjusting electrode. can be provided.

図２は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a transparent electrode laminate according to an exemplary embodiment.

図２に示すように、第１の透明酸化物電極層１６０と基材層１０５との間に屈折率整合層１４０を形成することができる。屈折率整合層１４０は、例えば、基材層１０５の屈折率と、透明酸化物電極層１６０，１７０の屈折率との間の屈折率を有し、第１の透明酸化物電極層１６０と基材層１０５との間の屈折率の変化を緩衝することができる。 As shown in FIG. 2, a refractive index matching layer 140 can be formed between the first transparent oxide electrode layer 160 and the substrate layer 105 . The refractive index matching layer 140 has, for example, a refractive index between the refractive index of the substrate layer 105 and the refractive indexes of the transparent oxide electrode layers 160 and 170, and the first transparent oxide electrode layer 160 and the substrate. The change in refractive index between the material layer 105 can be buffered.

一部の実施形態では、屈折率整合層１４０は、図２に示すように基材層１０５の上面から順次積層され、互いに異なる屈折率を有する第１の屈折率整合層１２０及び第２の屈折率整合層１３０を含むことができる。一実施形態では、第１の屈折率整合層１２０の屈折率を第２の屈折率整合層１３０の屈折率よりも高くしてもよい。 In some embodiments, the refractive index matching layer 140 is sequentially stacked from the top surface of the substrate layer 105 as shown in FIG. A rate matching layer 130 may be included. In one embodiment, the refractive index of the first index matching layer 120 may be higher than the refractive index of the second index matching layer 130 .

例えば、屈折率整合層１４０は、アクリル樹脂、シロキサン樹脂などのような有機絶縁物質、またはシリコン酸化物、シリコン窒化物などのような無機絶縁物質を含むことができる。一実施形態では、屈折率整合層１４０は、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）などの無機粒子をさらに含むことができる。例えば、前記無機粒子は、第１の屈折率整合層１２０に含まれ、相対的に屈折率を増加させることができる。 For example, the refractive index matching layer 140 may include an organic insulating material such as acrylic resin, siloxane resin, etc., or an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, and the like. In one embodiment, the index matching layer 140 is titanium oxide ( TiO2 ), zirconium oxide ( ZrO2), tin oxide ( SnO2), alumina ( Al2O3 ), tantalum oxide ( Ta2O5 ), or the like. of inorganic particles. For example, the inorganic particles may be included in the first refractive index matching layer 120 to relatively increase the refractive index.

屈折率整合層１４０の厚さは、透明電極積層体１００ａにおいて、第２の透明酸化物電極層１７０によって調節された色度、透過率に影響を与えないように設定できる。 The thickness of the refractive index matching layer 140 can be set so as not to affect the chromaticity and transmittance adjusted by the second transparent oxide electrode layer 170 in the transparent electrode stack 100a.

例えば、第１の屈折率整合層１２０の厚さは、約１０～８０ｎｍであってもよい。第２の屈折率整合層１３０の厚さは、約１００～２００ｎｍであってもよい。 For example, the thickness of the first index matching layer 120 may be about 10-80 nm. The thickness of the second index matching layer 130 may be about 100-200 nm.

図３は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a transparent electrode laminate according to an exemplary embodiment.

図３に示すように、透明電極積層体１００ｂは、基材層１０５の少なくとも一つの面上に形成されたハードコート層を含むことができる。一部の実施形態では、前記ハードコート層は、基材層１０５の底面上に形成された第１のハードコート層１１０ａと、基材層１０５の上面上に形成された第２のハードコート層１１０ｂとを含むことができる。 As shown in FIG. 3, the transparent electrode stack 100b may include a hard coat layer formed on at least one surface of the substrate layer 105. As shown in FIG. In some embodiments, the hard coat layers are a first hard coat layer 110a formed on the bottom surface of the base layer 105 and a second hard coat layer formed on the top surface of the base layer 105. 110b.

ハードコート層１１０ａ，１１０ｂは、例えば、光硬化性化合物、光開始剤および溶剤を含むハードコート組成物を使用して形成され、これにより、基材層１０５の柔軟性、耐摩耗性、表面硬度をさらに向上させることができる。 The hard coat layers 110a and 110b are formed using a hard coat composition containing, for example, a photocurable compound, a photoinitiator, and a solvent, thereby improving the flexibility, abrasion resistance, and surface hardness of the base layer 105. can be further improved.

前記光硬化性化合物は、例えばシロキサン系化合物、アクリレート系化合物、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を有する化合物などを含むことができる。これらは、単独に又は２種以上を組み合わせて用いることができる。 The photocurable compound may include, for example, a siloxane-based compound, an acrylate-based compound, a compound having a (meth)acryloyl group or a vinyl group, and the like. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

一部の実施形態では、基材層１０５は、画像表示装置のウィンドウで提供することができ、基材層１０５の前記底面又は第１のハードコート層１１０ａをユーザの視認側に配置することができる。 In some embodiments, the substrate layer 105 can be provided in a window of an image display device, and the bottom or first hard coat layer 110a of the substrate layer 105 can be positioned on the user viewing side. can.

図４は、例示的な実施形態に係るタッチセンサーを示す概略断面図である。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a touch sensor according to an exemplary embodiment;

図４に示すように、前記タッチセンサーは、基材層１０５上に形成されたセンシング電極１５０を含むことができる。センシング電極１５０は、前述のように、第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０の積層構造を含むことができる。 As shown in FIG. 4, the touch sensor may include sensing electrodes 150 formed on the substrate layer 105 . The sensing electrode 150 can include a laminate structure of a first transparent oxide electrode layer 160 and a second transparent oxide electrode layer 170, as described above.

一部の実施形態では、前記タッチセンサーは、相互静電容量（Mutual－Capacitance）方式により駆動できる。この場合には、センシング電極１５０は、ユーザのタッチ位置を検出するために、互いに異なる方向（例えば、Ｘ方向及びＹ方向）に交差するように配列される第１のセンシング電極及び第２のセンシング電極を含むことができる。 In some embodiments, the touch sensor can be driven by a mutual-capacitance method. In this case, the sensing electrodes 150 include first sensing electrodes and second sensing electrodes arranged to intersect in different directions (e.g., the X direction and the Y direction) to detect the touch position of the user. It can include electrodes.

例えば、第１のセンシング電極は、単位パターンがつなぎ部によって互に接続されてセンシングライン形状に延長され、複数の前記センシングラインが配列され得る。第２のセンシング電極は、それぞれ物理的に離隔している単位パターンを含むことができる。例えば、前記第１のセンシング電極を間に置いて互いに隣り合う第２のセンシング電極を電気的に接続するブリッジ電極をさらに含むことができる。この場合には、絶縁パターンが、前記つなぎ部及びブリッジ電極の交差部に形成され、前記第１及び第２のセンシング電極を互いに絶縁することができる。 For example, in the first sensing electrode, the unit patterns are connected to each other by a connecting portion and extended in the shape of a sensing line, so that a plurality of the sensing lines can be arranged. The second sensing electrodes may include physically separated unit patterns. For example, it may further include a bridge electrode that electrically connects adjacent second sensing electrodes with the first sensing electrode therebetween. In this case, insulating patterns may be formed at the intersections of the tethers and bridge electrodes to insulate the first and second sensing electrodes from each other.

一実施形態では、前記つなぎ部及びブリッジ電極もまた、前述した第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０の積層構造を含むことができる。 In one embodiment, the tethers and bridge electrodes can also include the laminate structure of the first transparent oxide electrode layer 160 and the second transparent oxide electrode layer 170 described above.

一部の実施形態では、前記タッチセンサーは、自己静電容量（Self－Capacitance）方式により駆動されるタッチセンサーを含むことができる。この場合には、センシング電極１５０は、それぞれ物理的に離隔している単位パターンを含むことができる。前記単位パターンは、それぞれ、トレースまたは配線ラインにより駆動回路と電気的に接続できる。 In some embodiments, the touch sensor may include a self-capacitance driven touch sensor. In this case, the sensing electrodes 150 may include physically separated unit patterns. Each of the unit patterns can be electrically connected to the driving circuit by traces or wiring lines.

絶縁層１８０は、基材層１０５上でセンシング電極１５０を覆うことができる。絶縁層１８０は、例えば、シリコン酸化物のような無機絶縁物質、またはアクリル系樹脂のような透明有機物質で形成することができる。 An insulating layer 180 can cover the sensing electrodes 150 on the substrate layer 105 . The insulating layer 180 can be made of, for example, an inorganic insulating material such as silicon oxide, or a transparent organic material such as acrylic resin.

基材層１０５上には、図２を参照して説明したように、屈折率整合層１４０を形成することができる。隣り合うセンシング電極１５０同士の間の領域、例えばセンシング電極１５０が形成されていない領域では、屈折率整合層１４０が露出して、電極領域と非電極領域との間の屈折率差による電極の視認を抑制または低減できる。 A refractive index matching layer 140 may be formed on the substrate layer 105 as described with reference to FIG. In a region between adjacent sensing electrodes 150, for example, a region where no sensing electrode 150 is formed, the refractive index matching layer 140 is exposed, and the electrode can be visually recognized due to the difference in refractive index between the electrode region and the non-electrode region. can be suppressed or reduced.

本発明の実施形態は、前述した透明電極積層体を含むタッチセンサーまたはタッチスクリーンパネルを提供する。また、本発明の実施形態は、前記タッチセンサーを含む、例えば、ＯＬＥＤ装置またはＬＣＤ装置のような画像表示装置を提供する。 An embodiment of the present invention provides a touch sensor or touch screen panel including the transparent electrode laminate described above. Embodiments of the present invention also provide an image display device, such as an OLED device or an LCD device, including the touch sensor.

前記画像表示装置において、ＯＬＥＤパネルまたはＬＣＤパネルのようなディスプレイパネル上に、例えば、図４に示すようなタッチセンサーを積層することができる。前記ディスプレイパネルは、ディスプレイ基板上に配列された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む画素回路、および前記画素回路と電気的に接続される画素部または発光部を含むことができる。 In the image display device, a touch sensor as shown in FIG. 4, for example, can be laminated on a display panel such as an OLED panel or an LCD panel. The display panel may include pixel circuits including thin film transistors (TFTs) arranged on a display substrate, and pixel units or light emitting units electrically connected to the pixel circuits.

前記ディスプレイパネルと前記タッチセンサーとの間に、または前記タッチセンサー上に偏光板を積層することもできる。前記タッチセンサー上には、ウィンドウが配置されて保護部材として提供され得る。一部の実施形態では、前記透明電極積層体または前記タッチセンサーの基材層１０５を前記ウィンドウとして提供することもできる。 A polarizer can also be laminated between the display panel and the touch sensor or on the touch sensor. A window may be disposed on the touch sensor to serve as a protective member. In some embodiments, the transparent electrode stack or the substrate layer 105 of the touch sensor may also serve as the window.

以下、具体的な実験例により、本発明の光学積層体の特性についてより詳細に説明する。これらの実施例は本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求の範囲を制限するものではない。これらの実施例に対し、本発明の範疇および技術思想の範囲内で種々の変更および修正を加えることが可能であることは当業者にとって明らかであり、これらの変形および修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。 Hereinafter, the characteristics of the optical layered body of the present invention will be described in more detail based on specific experimental examples. These examples merely illustrate the invention and do not limit the scope of the appended claims. It is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to these examples within the scope and technical idea of the present invention, and these changes and modifications are within the scope of the appended claims. It goes without saying that it belongs to the range.

実験例
上面及び下面に、それぞれ１．３８μｍのアクリル系ハードコート層が形成されたＣＯＰ材質の基材層（Ｚｅｏｎ社製、厚さ４０．５μｍ）を準備した。前記基材層上に順次に、第１の屈折率整合層（厚さ５０ｎｍ）および第２の屈折率整合層（厚さ１７０ｎｍ）を形成した。前記第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層は、それぞれアクリル系樹脂を含み、前記第１の屈折率整合層は、付加的に無機粒子が分散された樹脂を使用して形成した。 Experimental Example A substrate layer made of a COP material (manufactured by Zeon, thickness 40.5 μm) having an acrylic hard coat layer of 1.38 μm formed on each of the upper and lower surfaces was prepared. A first refractive index matching layer (50 nm thick) and a second refractive index matching layer (170 nm thick) were sequentially formed on the base layer. The first refractive index matching layer and the second refractive index matching layer each include an acrylic resin, and the first refractive index matching layer is additionally formed using a resin in which inorganic particles are dispersed. did.

前記第２の屈折率整合層上にＩＺＯをスパッタリング工程により蒸着して１０ｎｍの厚さの第１の透明酸化物電極層を形成した。その後、第１の透明酸化物電極層上にＩＴＯをスパッタリング工程により蒸着して第２の透明酸化物電極層を形成することにより、透明電極積層体を製造した。 IZO was deposited on the second refractive index matching layer by a sputtering process to form a first transparent oxide electrode layer with a thickness of 10 nm. Thereafter, ITO was vapor-deposited on the first transparent oxide electrode layer by a sputtering process to form a second transparent oxide electrode layer, thereby manufacturing a transparent electrode laminate.

前記第２の透明酸化物電極層の厚さを変更しながら、前記透明電極積層体全体の透過率及び色度（ａ＊、ｂ＊）を測定した。透過率及び色度は、ＣＭ－３６００Ａ（Ｍｉｎｏｌｔａ社製）を用いて測定した。 While changing the thickness of the second transparent oxide electrode layer, the transmittance and chromaticity (a*, b*) of the entire transparent electrode laminate were measured. Transmittance and chromaticity were measured using CM-3600A (manufactured by Minolta).

測定の結果を下記表１に示す。なお、図５は、第２の透明酸化物電極層の厚さの変化による透過率及びｂ＊値の変化を示すグラフである。 The measurement results are shown in Table 1 below. FIG. 5 is a graph showing changes in transmittance and b* value with changes in the thickness of the second transparent oxide electrode layer.

Figure 0007143141000001
Figure 0007143141000001

表１及び図５から分かるように、第２の透明酸化物電極層の厚さが増加するほど色度（ｂ＊）の値が増加し、厚さを約１２０～１５０ｎｍの間で調節することにより、８７％以上の透過率が維持され、かつ色度（ｂ＊）の値が５以下に調節された。また、第２の透明酸化物電極層の厚さを約１２０～１４０ｎｍの間に調節することにより、色度（ｂ＊）の値を約０．９～４．７の範囲に維持することができた。 As can be seen from Table 1 and FIG. 5, the chromaticity (b*) value increases as the thickness of the second transparent oxide electrode layer increases, and the thickness can be adjusted between about 120 and 150 nm. maintained a transmittance of 87% or more and adjusted the chromaticity (b*) value to 5 or less. Also, the chromaticity (b*) value can be maintained in the range of about 0.9 to 4.7 by adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer between about 120 and 140 nm. did it.

１００，１００ａ，１００ｂ：透明電極積層体
１０５：基材層
１２０：第１の屈折率整合層
１３０：第２の屈折率整合層
１４０：屈折率整合層
１５０：センシング電極
１６０：第１の透明酸化物電極層
１７０：第２の透明酸化物電極層 100, 100a, 100b: transparent electrode laminate 105: substrate layer 120: first refractive index matching layer 130: second refractive index matching layer 140: refractive index matching layer 150: sensing electrode 160: first transparent oxide material electrode layer 170: second transparent oxide electrode layer

Claims (13)

基材層上に所定の厚さの第１の透明酸化物電極層を形成する段階と、
前記第１の透明酸化物電極層上に第２の透明酸化物電極層を形成する段階とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層を形成する段階は、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節して積層体全体の透過率及び色度（ｂ＊）を調節することを含み、
前記第１の透明酸化物電極層は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成され、前記第２の透明酸化物電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含むように形成される、透明電極積層体の製造方法。 forming a first transparent oxide electrode layer having a predetermined thickness on the substrate layer;
forming a second transparent oxide electrode layer on the first transparent oxide electrode layer;
The step of forming the second transparent oxide electrode layer includes adjusting the thickness of the second transparent oxide electrode layer to adjust the transmittance and chromaticity (b*) of the entire laminate. fruit,
The first transparent oxide electrode layer is formed to include indium zinc oxide (IZO) and the second transparent oxide electrode layer is formed to include indium tin oxide (ITO). , a method for producing a transparent electrode laminate. 前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１５０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は５以下に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。 The transparent electrode according to claim 1, wherein the thickness of the second transparent oxide electrode layer is adjusted in the range of 120-150 nm, and the chromaticity (b*) of the entire laminate is adjusted to 5 or less. A method for manufacturing a laminate. 前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１４０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９～４．７の範囲に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。 The thickness of the second transparent oxide electrode layer is adjusted in the range of 120-140 nm, and the chromaticity (b*) of the entire laminate is adjusted in the range of 0.9-4.7. The method for manufacturing the transparent electrode laminate according to claim 1. 前記第１の透明酸化物電極層は、厚さが１０～２０ｎｍの範囲で固定される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。 2. The method for producing a transparent electrode laminate according to claim 1, wherein the thickness of the first transparent oxide electrode layer is fixed within a range of 10 to 20 nm. 前記積層体全体の透過率は８７％以上に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。 2. The method of manufacturing a transparent electrode laminate according to claim 1, wherein the transmittance of the entire laminate is adjusted to 87% or more. 前記第１の透明酸化物電極層を形成する前に、前記基材層上に屈折率整合層を形成する段階をさらに含む、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。 The method of claim 1, further comprising forming a refractive index matching layer on the substrate layer before forming the first transparent oxide electrode layer. 前記屈折率整合層を形成する段階は、屈折率が互いに異なる第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を順次形成することを含む、請求項６に記載の透明電極積層体の製造方法。 7. The transparent electrode laminate of claim 6 , wherein forming the refractive index matching layer comprises sequentially forming a first refractive index matching layer and a second refractive index matching layer having different refractive indices. Production method. 基材層と、
前記基材層上に積層されたインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層と、
前記第１の透明酸化物電極層上に積層されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１５０ｎｍであり、積層体全体の透過率は８７％以上であり、色度（ｂ＊）は５以下である、透明電極積層体。 a base layer;
a first transparent oxide electrode layer comprising indium zinc oxide (IZO) laminated on the substrate layer;
a second transparent oxide electrode layer comprising indium tin oxide (ITO) deposited on the first transparent oxide electrode layer;
A transparent electrode laminate, wherein the second transparent oxide electrode layer has a thickness of 120 to 150 nm, a transmittance of the entire laminate of 87% or more, and a chromaticity (b*) of 5 or less. 前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０～１４０ｎｍであり、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９～４．７である、請求項８に記載の透明電極積層体。 9. The transparent according to claim 8 , wherein the second transparent oxide electrode layer has a thickness of 120 to 140 nm, and the chromaticity (b*) of the entire laminate is 0.9 to 4.7. electrode laminate. 前記第１の透明酸化物電極層の厚さは１０～２０ｎｍである、請求項８に記載の透明電極積層体。 9. The transparent electrode laminate according to claim 8 , wherein the first transparent oxide electrode layer has a thickness of 10-20 nm. 前記基材層と前記第１の透明酸化物電極層との間に形成される屈折率整合層をさらに含む、請求項８に記載の透明電極積層体。 9. The transparent electrode laminate according to claim 8 , further comprising a refractive index matching layer formed between said substrate layer and said first transparent oxide electrode layer. 前記屈折率整合層は、前記基材層から順次に積層された第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を含み、前記第１の屈折率整合層は、前記第２の屈折率整合層よりも大きい屈折率を有する、請求項１１に記載の透明電極積層体。 The refractive index matching layer includes a first refractive index matching layer and a second refractive index matching layer that are sequentially laminated from the base layer, and the first refractive index matching layer is the second refractive index matching layer. 12. The transparent electrode stack of claim 11 , having a higher refractive index than the index matching layer. 請求項８～１２のいずれか一項に記載の透明電極積層体を含む、タッチセンサー。 A touch sensor comprising the transparent electrode laminate according to any one of claims 8 to 12 .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210004871A (en) * 2019-07-05 2021-01-13 동우 화인켐 주식회사 Transparent electrode structure and electric device including the same
WO2021006567A1 (en) * 2019-07-05 2021-01-14 동우화인켐 주식회사 Transparent electrode structure and electrical device comprising same
CN215989229U (en) * 2020-02-10 2022-03-08 东友精细化工有限公司 Antenna stack structure and display device including the same
KR20210123769A (en) * 2020-04-06 2021-10-14 동우 화인켐 주식회사 Antenna-inserted electrode structure and image display device including the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004152727A (en) 2002-11-01 2004-05-27 Toyo Metallizing Co Ltd Transparent conductive film
JP2010037575A (en) 2008-08-01 2010-02-18 Dainippon Printing Co Ltd Transparent conductive film forming substrate, display panel, and method for producing transparent conductive film forming substrate
JP2011003456A (en) 2009-06-19 2011-01-06 Bridgestone Corp Transparent conductive membrane, method for manufacturing transparent conductive film and transparent conductive membrane, and flexible display using transparent conductive membrane
WO2014181641A1 (en) 2013-05-09 2014-11-13 旭硝子株式会社 Light-transmitting substrate, organic led element, and method for producing light-transmitting substrate

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7071617B2 (en) * 2003-05-16 2006-07-04 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting apparatus and method for forming the same
US8217572B2 (en) * 2005-10-18 2012-07-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device with prism layer
JP2009032553A (en) * 2007-07-27 2009-02-12 Casio Comput Co Ltd Display device
EP2415597A4 (en) * 2009-03-31 2014-12-31 Teijin Ltd Transparent conductive laminate and transparent touch panel
CN102438822B (en) * 2009-03-31 2015-11-25 帝人株式会社 Transparent conductive laminate and transparent touch panel
KR101684488B1 (en) * 2010-11-30 2016-12-08 닛토덴코 가부시키가이샤 Display panel device having touch input function
US9904088B2 (en) * 2011-01-19 2018-02-27 Lg Innotek Co., Ltd. Touch panel and method for manufacturing the same
KR101990800B1 (en) * 2011-08-11 2019-06-19 도레이 카부시키가이샤 Laminate, transparent conductive laminate, touch panel, and method for producing laminate
TW201337705A (en) 2011-10-25 2013-09-16 Unipixel Displays Inc Polarizer resistive touch screen
JP5264979B2 (en) * 2011-11-25 2013-08-14 日東電工株式会社 Touch panel sensor
WO2013172055A1 (en) * 2012-05-17 2013-11-21 株式会社カネカ Substrate with transparent electrode, method for manufacturing same, and touch panel
KR101359403B1 (en) * 2012-07-16 2014-02-11 순천대학교 산학협력단 Method for forming a transparent conductive layer
CN103022376B (en) * 2012-12-06 2015-08-12 昆山维信诺显示技术有限公司 A kind of OLED
KR101879220B1 (en) * 2013-03-29 2018-07-17 동우 화인켐 주식회사 Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
KR101865685B1 (en) * 2013-05-23 2018-06-08 동우 화인켐 주식회사 Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
JP6260764B2 (en) * 2013-09-26 2018-01-17 セイコーエプソン株式会社 Photoelectric conversion element and manufacturing method thereof
CN104615292A (en) * 2013-11-05 2015-05-13 群创光电股份有限公司 Touch control display device
JP2015230510A (en) * 2014-06-03 2015-12-21 大日本印刷株式会社 Touch panel sensor substrate, touch panel sensor and display device
WO2015194359A1 (en) * 2014-06-20 2015-12-23 コニカミノルタ株式会社 Electroluminescent element design method, electroluminescent element manufactured using such design method, and electroluminescent element manufacturing method using such design method
US9680132B1 (en) * 2015-11-30 2017-06-13 Industrial Technology Research Institute Display device and optical film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004152727A (en) 2002-11-01 2004-05-27 Toyo Metallizing Co Ltd Transparent conductive film
JP2010037575A (en) 2008-08-01 2010-02-18 Dainippon Printing Co Ltd Transparent conductive film forming substrate, display panel, and method for producing transparent conductive film forming substrate
JP2011003456A (en) 2009-06-19 2011-01-06 Bridgestone Corp Transparent conductive membrane, method for manufacturing transparent conductive film and transparent conductive membrane, and flexible display using transparent conductive membrane
WO2014181641A1 (en) 2013-05-09 2014-11-13 旭硝子株式会社 Light-transmitting substrate, organic led element, and method for producing light-transmitting substrate

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