JP7133042B2 - 光触媒、光触媒クラスター、および光触媒の製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。図1は、本実施の形態1に係る光触媒10の構成を表す模式断面図である。
光触媒10は、負極活物質2、正極活物質3、およびキャリア輸送体4によって構成されている。具体的には、光触媒10は、粒子状であるキャリア輸送体4の表面を、共に粒子状である負極活物質2および正極活物質3によって被覆した複合粒子である。負極活物質2および正極活物質3は、キャリア輸送体4よりも粒径が小さい。
続いて、本実施の形態1に係る光触媒10の製造工程を、図2を参照して説明する。図2は、本実施の形態1に係る光触媒10の製造手順を示す工程図である。尚、ここで説明する光触媒10の各部材の材料および各工程で用いる方法は一例である。
以下は、負極活物質2として、LaおよびRhをドープしたSrTiO3を用いる場合の例を記載する。この例に限定されず、負極活物質2に採用できる粒子であれば、市販のものを用いてもよい。
CoOxが担持されたBiVO4粒子を液固相法により作製した。具体的には、まず、K2CO3(関東化学製,99.5%)およびV2O5(和光純薬製,99.0%)をK:V=3.03:5(モル比)になるようにメノー乳鉢に入れ、エタノール(10mL)を添加した後30分間混合した。次いで、得られた混合物を磁性るつぼに入れて、電気炉にて大気中450℃で5時間焼成した。焼成後、焼成体を室温まで放冷させた後、解砕した。得られた粉末を、100mlの水およびBi(NO3)3・5H2O(和光純薬製,99.9%)が入った300ml三角フラスコに入れて(Bi:V=1:1)、70℃で10時間、攪拌子を用いて1500rpmで撹拌した。得られた沈殿物を吸引濾過により回収して水洗浄を行った後、乾燥器にて60℃で12時間乾燥させて、BiVO4粉末を得た。得られたBiVO4粉末0.5gを磁性るつぼに入れ、助触媒の原料としてCoOが0.5wt%になるように、Co(NO3)2(和光純薬製,99.5%)を磁性るつぼに入れ、純水を少量加えた。超音波でBiVO4粉末を十分に懸濁した後、湯浴で蒸発乾燥させた。最後に、電気炉にて大気中300℃で2時間焼成した。これにより、正極活物質3としてCoOxが担持されたBiVO4粉末を作製した。
1mol/Lとなるようヨウ化銅(CuI)をアセトニトリル(何れもシグマアルドリッチ製)へ溶解し撹拌することでヨウ化銅溶液を作成した。100℃設定のホットプレート上に置いたガラス基材上にヨウ化銅溶液を滴下して白色粉末を得た。この白色粉末をビーズミルで粉砕し、キャリア輸送体4として平均粒径2.5μmのヨウ化銅微粒子を作製した。
複合粒子形成工程では、上記の各工程で得られた剪断力を加えながら、負極活物質2および正極活物質3、キャリア輸送体4を混合する。剪断力を加えながら混合することで、キャリア輸送体4表面により粒径の小さい負極活物質2および正極活物質3が付着し、キャリア輸送体4の表面に負極活物質2および正極活物質3が埋め込まれるように固定化された光触媒10が作製できる。
図4は、本実施の形態2に係る光触媒10Bの構成を表す模式断面図である。光触媒10Bは、実施の形態1における光触媒10と同様に、粒子状であるキャリア輸送体4の表面を、共に粒子状である負極活物質2および正極活物質3によって被覆した複合粒子とされている。但し、光触媒10Bでは、負極活物質2および正極活物質3は、それぞれ一次粒子21および一次粒子31が凝集した二次粒子(一次粒子の集合体)により備え構成されている。尚、一次粒子21、31が凝集した二次粒子とされるのは負極活物質2および正極活物質3の何れか一方のみであってもよい。
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。図6は、本実施の形態3に係る光触媒10Cの構成を表す模式断面図である。光触媒10Cは、キャリア輸送体4と、キャリア輸送体4の表面の一部に設けられた負極20と、キャリア輸送体4の表面の他の一部に設けられた正極30とを備える。負極20と正極30とは、キャリア輸送体4を介して互いに離れている。
図7(a)は、基材100上に、負極20となる負極膜200を形成する負極膜形成工程を示している。この負極膜形成工程では、負極活物質2となる第一負極活物質2aを含むペーストと、負極活物質2となり、第一負極活物質2aよりも平均粒径が小さい第二負極活物質2bを含むペーストとを所定の割合で混合したペースト状の第1溶液を基材100上に塗布し、乾燥後、所定の温度で所定の時間焼成する。これにより、基材100上に負極膜200が形成される。基材100に第一負極活物質2aおよび第二負極活物質2bを含むペーストを塗布する方法は、特に限定されないが、スクリーン印刷やドクターブレード法で実施することができる。負極2に増感剤を付与する場合は、この後、予め調製しておいた増感剤を含む溶液に負極膜200を形成した基材100を浸漬させ、増感剤を担持した負極20となる負極膜200を形成する。
図7(b)は、負極膜200上に、キャリア輸送体4となる、キャリア輸送材料を含むキャリア輸送膜400を形成するキャリア輸送膜形成工程を示している。このキャリア輸送膜形成工程では、例えば、キャリア輸送材料を有機溶媒へ溶解して撹拌することでキャリア輸送材料を含む第2溶液を作成する。そして、当該キャリア輸送材料を含む溶液を負極膜200上へ滴下して、スピンコート(2000rpm、30s)等を行う。これにより、負極膜200上にキャリア輸送膜400が形成される。キャリア輸送材料を含む溶液を負極膜200上に塗布する方法は、スピンコート法以外にもディップコーティング法やドロップキャスト法が利用できる。また、キャリア輸送膜形成工程において、負極膜200は第一負極活物質2aと第二負極活物質2bとの混合物を焼結してなる多孔質体であるため、負極膜200上へ滴下されるキャリア輸送材料の一部は負極膜200内に浸透する。
図7(c)は、キャリア輸送膜400上に、正極30となる正極膜300を形成する正極膜形成工程を示している。この正極膜形成工程では、例えば、正極活物質3の微粒子を含む第3溶液として水スラリーをキャリア輸送膜400に塗布後、乾燥させる。キャリア輸送膜400に正極活物質3の微粒子を含む水スラリーを塗布する方法は、特に限定されないが、スクリーン印刷やドクターブレード法で実施することができる。これにより、キャリア輸送膜400上に正極膜300が形成される。
こうして、負極膜200、キャリア輸送膜400および正極膜300からなる積層体が形成された基材100を、純水の入った容器(不図示)に浸漬し、例えば、波長300nm~11000nm、周波数10000~1000000Hzのレーザ光Lを照射するレーザアブレーションにより粉砕する(図7(d)参照)。このレーザ光Lの照射装置としては、例えば、西進商事製の装置を用いることができる。これにより、基材100から、上記積層体を剥離しつつ、上記積層体を粉砕して微粒子化する。この結果、図6に示す光触媒粒子10Cが形成される。微粒子化の工程は上記方法に限定されることなく、例えば積層体を切削することで基板から剥離させた後、ミルなどを用いて粉砕することで微粒子化してもよい。
第一負極活物質2aとして平均粒径400nmの酸化チタン粒子を含む市販のチタンペースト(日揮触媒化成社製、商品名:PST-400C)と第二負極活物質2bとして平均粒径20nmの酸化チタン粒子を含む酸化チタンペースト(Solaronix社製、商品名:D/SP)とを、第一負極活物質2aと第二負極活物質2bとの合計に対する第二負極活物質2bの割合が30%となる酸化チタンペーストを調整した。
第一負極活物質2aと第二負極活物質2bとの合計に対する第二負極活物質2bの割合が50%となる酸化チタンペーストを調整すること以外は実施例1と同様の方法で実施例2の光触媒粒子および実施例2の試料を得た。
第一負極活物質2aと第二負極活物質2bの合計に対する第二負極活物質2bの割合が70%となる酸化チタンペーストを調整すること以外は実施例1と同様の方法で実施例3の光触媒および実施例3の試料を得た。
第一負極活物質2aのみを含む酸化チタンペーストを用いること以外は実施例1と同様の方法で実施例4の試料を得た。つまり、実施例4の光触媒の負極20では、第一負極活物質2aと第二負極活物質2bとの合計に対する第二負極活物質2bの割合が0%である。
第二負極活物質2bのみを含む酸化チタンペーストを用いること以外は実施例1と同様の方法で実施例5の試料を得た。つまり、比較例2の光触媒の負極20では、第一負極活物質2aと第二負極活物質2bとの合計に対する第二負極活物質2bの割合が100%である。
実施例1~5で得られた試料の反応効率を評価するために以下の評価を行った。
図9は、本実施の形態4に係る光触媒10Dの構成を表す側面図である。光触媒1Dは、キャリア輸送体4と、キャリア輸送体4の表面の一部に設けられた負極20Aと、キャリア輸送体4の表面の他の一部に設けられた正極4とを備える。負極20Aと正極4とは、キャリア輸送体4を介して互いに離れている。本実施の形態4に係る光触媒粒子10Dは、実施の形態3における負極20に代えて負極20Aを有した構造であり、キャリア輸送体4および正極30については実施の形態1における光触媒1と同様の構成である。
図10(a)は、基材100上に、負極20Aの第一層2Aとなる第一負極膜200aと、負極2の第二層2Bとなる第二負極膜200bを形成する負極膜形成工程を示している。この負極膜形成工程では、最初に、負極活物質2である第二粒子2bを含むペーストを基材10上に塗布し、乾燥後、300℃~550℃で30分~2時間焼成し、第二負極膜200bを形成する。さらに、負極活物質2であり、第二負極活物質2bよりも平均粒径が大きい第一負極活物質2aを含むペーストを第二負極膜200b上にスクリーン印刷で塗布し、乾燥後、300~550℃で30分~2時間焼成し、第一負極膜200aを形成する。負極2に増感剤を付与する場合は、この後、予め調製しておいた増感剤を含む溶液に24h浸漬させ、増感剤を担持した第一負極膜200aおよび第二負極膜200bを形成する。
図10(b)は、第一負極膜200a上に、キャリア輸送体4となる、キャリア輸送材料を含むキャリア輸送膜400を形成するキャリア輸送膜形成工程を示している。図10(c)は、キャリア輸送膜400上に、正極30となる正極膜300を形成する正極膜形成工程を示している。これらの工程は、実施の形態1における光触媒10Cの製造工程と同じである。
第二負極活物質2bとして平均粒径20nmの酸化チタン粒子を含む酸化チタンペースト(Solaronix社製、商品名:D/SP)をスクリーン印刷で20mm×40mm基材(青板ガラス、日本板硝子社製)に塗布し、120℃で乾燥後、500℃1hで焼成し、基材上に厚み(第二膜厚)3μmの負極膜200の第二膜200Bを形成した。
第一膜200Aと第二膜200Bとの膜厚の合計は実施例6の負極膜と同じにし、第一膜200Aと第二膜200Bとの膜厚比を5:5にしたこと以外は実施例6と同様の方法で実施例7の光触媒10Dおよび実施例7の試料を得た。
第一膜200Aと第二膜200Bの膜厚の合計は実施例6の負極膜200と同じにし、第一膜200Aと第二膜200Bとの膜厚比を3:7にしたこと以外は実施例6と同様の方法で実施例8の光触媒および実施例8の試料を得た。
実施例6~実施例8の分解反応の効率を評価するために、実施例6~8の試料について、実施例4および実施例5の試料と同様の評価を行った。
図12は、本実施の形態5に係る光触媒10Eの構成を表す側面図である。光触媒10Eは、キャリア輸送体と、キャリア輸送体の表面の一部に設けられた負極20と、キャリア輸送体4の表面の他の一部に設けられた正極30と、負極20の表面を覆う第1絶縁層5Aと、正極4の表面を覆う第2絶縁層5Bを備える。第1絶縁層5Aおよび第2絶縁層5Bを備えていること以外は、実施の形態3または4で説明した構成なので、説明は省略する。
第1絶縁膜形成工程では、絶縁性粒子5pを含むペースト(例えば、ジルコニア粒子(シグマアルドリッチ社製)を含むペースト)を準備する。そして、絶縁性粒子5pを含むペーストを基材100上に塗布し、100℃~150℃で乾燥後、300℃~700℃で数時間焼成する。これにより、基材100上に絶縁膜500Aが形成される。絶縁性粒子5pを含むペーストに含まれる溶媒は水系または有機系溶媒から適宜選択できる。また、絶縁性粒子5pを含むペーストを基材100に塗布する方法は、公知の方法であってよく、例えば、スクリーン印刷などが挙げられる。
正極膜形成工程の後、第2絶縁膜形成工程では、第1絶縁膜形成工程と同様に、絶縁性粒子5pを含むペーストを準備する。そして、絶縁性粒子5pを含むペーストを正極膜300上に塗布し、100℃~150℃で乾燥後、300℃~700℃で数時間焼成する。これにより、正極膜300上に絶縁膜500Bが形成される。
Claims (22)
- キャリア輸送体と、
前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の負極活物質と、
前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の正極活物質と、を備え、
前記複数の負極活物質および前記複数の正極活物質の少なくともいずれか一方が集合体をなしている光触媒。 - キャリア輸送体と、
前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の負極活物質と、
前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の正極活物質と、を備え、
前記複数の負極活物質が集合した負極と、
前記複数の正極活物質が集合した正極と、含む、光触媒。 - 前記負極における前記負極活物質の粒度分布は、2つ以上のピークを有する、請求項2に記載の光触媒。
- 前記負極は、
第1負極活物質と、
前記第1負極活物質よりも平均粒径が小さい第2負極活物質を含む、請求項3に記載の光触媒。 - 前記負極は、
前記キャリア輸送体の一部を覆い、前記第1負極活物質を主として含む第1負極層と、
前記第1負極層の一部を覆い、前記第2負極活物質を主として含む第2負極層と、を備える、請求項4に記載の光触媒。 - 前記第1負極活物質の平均粒径は、100nm以上600nm以下であり、
前記第2負極活物質の平均粒径は、5nm以上100nm以下である、請求項4または5に記載の光触媒。 - 前記正極における前記正極活物質の粒度分布は、2つ以上のピークを有する、請求項2から6の何れかに記載の光触媒。
- 前記負極および前記正極の少なくともどちらか一方を覆う多孔質な絶縁層をさらに備える、請求項2から7の何れかに記載の光触媒。
- 前記キャリア輸送体に対する前記負極活物質の粒径比が0.05以上1以下である、請求項1から請求項8の何れかに記載の光触媒。
- 前記キャリア輸送体の平均粒径が50nm以上100μm以下である、請求項1から9の何れかに記載の光触媒。
- 前記負極活物質の総重量と、前記正極活物質の総重量の重量比が2:8~8:2の範囲にある、請求項1~10の何れかに記載の光触媒。
- 前記キャリア輸送体のフェルミ準位は、前記負極活物質の価電子帯上端の電子エネルギー準位よりも負な位置であり、前記正極活物質の伝導帯下端の電子エネルギー準位よりも正な位置である、請求項1~11の何れかに記載の光触媒。
- 前記キャリア輸送体は、ヨウ化銅、酸化ニッケル、PEDOT、PEDOT-PSS、spiro-OMeTADの何れかを含むホール輸送材料を有する、請求項1~12の何れかに記載の光触媒。
- 前記キャリア輸送体は、フラーレン、フラーレン誘導体、シロール系化合物、トリアジン系化合物の何れかを含む電子輸送材料である、請求項1~13の何れかに記載の光触媒。
- 前記負極活物質は、酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、タンタル酸塩の何れかを含む、請求項1から14の何れかに記載の光触媒。
- 前記正極活物質は、前記正極活物質は、酸化鉄(III)、酸化タングステン、バナジウム酸塩の何れかを含む、請求項1から15の何れかに記載の光触媒。
- 前記負極活物質および前記正極活物質の少なくともいずれか一方に担持された増感剤をさらに含む、請求項1~16の何れかに記載の光触媒。
- キャリア輸送体と、
前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の負極活物質と、
前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の正極活物質と、を備えた光触媒を複数含み、
前記光触媒が互いにランダムな方向に固着してクラスターを形成している、光触媒クラスター。 - 剪断力を与えながら、キャリア輸送体と、前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の負極活物質と、前記キャリア輸送体の粒径よりも小さく、前記キャリア輸送体の一部を覆う複数の正極活物質と、を混合する工程を含む光触媒の製造方法。
- 複数の負極活物質および複数の正極活物質のどちらか一方を含む第1溶液を基板に塗布し、前記基板上に第1電極膜を形成する工程と、
キャリア輸送体を含む第2溶液を前記第1電極膜に塗布し、前記第1電極膜上に前記キャリア輸送膜を形成する工程と、
前記第1溶液が前記負極活物質を含む場合、前記正極活物質を含み、
前記第1溶液が前記正極活物質を含む場合、前記負極活物質を含む第3溶液を前記キャリア輸送膜に塗布し、前記キャリア輸送膜上に第2電極膜を形成する工程と、
前記第1電極膜と前記キャリア輸送膜と前記第2電極膜を含む積層体を、前記基板から剥離し、前記積層体を粉砕する工程と、を含む光触媒の製造方法。 - 請求項20に記載の光触媒の製造方法であって、
前記基板は、第1絶縁性粒子を含む、第1絶縁膜を含み、
前記第1電極膜を形成する工程では、前記第1絶縁膜に前記第1溶液を塗布する、光触媒の製造方法。 - 請求項20または請求項21に記載の光触媒の製造方法であって、
前記基板は、第2絶縁性粒子を前記第2電極膜に塗布し、第2絶縁膜を形成する工程をさらに含み、
前記積層体は、さらに前記第2絶縁膜を含む、光触媒の製造方法。
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MAEDA, Kazuhiko,Z-Scheme Water Splitting Using Two Different Semiconductor Photocatalysts,ACS Catalysis,2013年,Vol. 3,pp.1486-1503 |
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