JP7126027B2 - Chamber seal assembly and growth furnace - Google Patents

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Description

本発明は半導体製造の分野に関し、具体的には、チャンバーシールアセンブリ及び成長炉に関する。 The present invention relates to the field of semiconductor manufacturing, and in particular to chamber seal assemblies and growth reactors.

炭化ケイ素（ＳｉＣ）単結晶は高熱伝導率、高破壊電圧、高キャリア移動度、高化学的安定性等の優れた半導体の物理的性質を有し、高温、強放射条件下で動作する高周波、高出力の電子デバイス及び光電子デバイスを製造でき、国防、ハイテク、工業生産、給電、変電等の分野で大きな応用価値があり、発展の将来性が極めて期待できる第３世代広帯域半導体材料としてみなされている。 Silicon carbide (SiC) single crystal has excellent semiconductor physical properties such as high thermal conductivity, high breakdown voltage, high carrier mobility, and high chemical stability. It can be used to manufacture high-power electronic devices and optoelectronic devices, and has great application value in fields such as national defense, high-tech, industrial production, power supply, and substation. there is

炭化ケイ素単結晶材料の成長には特別のプロセス装置が必要である。該プロセス装置は主に成長炉アセンブリ、加熱アセンブリ、ガスアセンブリ及び制御アセンブリ等を含み、そのうち、成長炉アセンブリはキー構造の一つである。図１は成長炉の構造概略図である。図１を参照すると、成長炉は反応チャンバー１、上室２及び下室３を含み、上室２と下室３はそれぞれ反応チャンバー１の上端と下端から反応チャンバー１に套設される。そして、上室２と反応チャンバー１との間、及び下室３と反応チャンバー１との間にシールアセンブリ（図示せず）が設けられ、それによって反応チャンバー１の内部にシールチャンバーが形成される。従来のＳｉＣ成長プロセスのニーズに応じて、該密閉チャンバーは比較的高い真空度レベルを維持する必要がある。 The growth of silicon carbide single crystal material requires special process equipment. The process equipment mainly includes a growth furnace assembly, a heating assembly, a gas assembly and a control assembly, among which the growth furnace assembly is one of the key structures. FIG. 1 is a structural schematic diagram of a growth furnace. Referring to FIG. 1, the growth furnace includes a reaction chamber 1, an upper chamber 2 and a lower chamber 3, the upper chamber 2 and the lower chamber 3 are installed in the reaction chamber 1 from the upper end and the lower end of the reaction chamber 1 respectively. Seal assemblies (not shown) are provided between the upper chamber 2 and the reaction chamber 1 and between the lower chamber 3 and the reaction chamber 1, thereby forming seal chambers inside the reaction chamber 1. . Due to the needs of conventional SiC growth processes, the closed chamber must maintain a relatively high vacuum level.

従来のシールアセンブリは、通常、互いに間隔をあけた２つのシールリングを含む。この場合、実際の応用では以下の問題が存在し、即ち、取り付けるときに、２つのシールリングの間に空気が閉じ込められ、反応チャンバー１の真空引きが完了した後、チャンバー内部の真空度が比較的高く、２つのシールリング間の間隔内の圧力（空気が閉じ込められるため）とチャンバー内の圧力との差が比較的大きいため、不可避的に、間隔内に閉じ込められた空気がごくわずかにチャンバー内に漏れるとしても、チャンバーの圧力上昇率の上昇を招く可能性があり、晶体成長プロセスの展開に悪影響を与えてしまう。また、間隔内の圧力が外部大気圧力よりも低いため、該間隔が負圧状態になることを引き起こし、それによってチャンバーの取り外し・メンテナンスを行う際に、炉室フランジの取り外しが困難になることを引き起こし、それによって反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクが存在する。 A conventional seal assembly typically includes two seal rings spaced apart from each other. In this case, there are the following problems in practical application: air is trapped between the two seal rings during installation, and after the reaction chamber 1 is evacuated, the degree of vacuum inside the chamber is compared. is relatively high, and the difference between the pressure in the gap between the two seal rings (because air is trapped) and the pressure in the chamber is relatively large, so inevitably there is very little air trapped in the gap in the chamber. Even if it leaks inside, it can lead to an increase in the pressure rise rate of the chamber, which adversely affects the evolution of the crystal growth process. It is also noted that the pressure in the space is lower than the external atmospheric pressure, causing the space to become underpressure, thereby making it difficult to remove the furnace chamber flange during chamber removal and maintenance. There is a risk of causing damage to the reaction chamber.

本発明は、少なくとも従来技術に存在する技術的問題の一つを解決するために、チャンバーシールアセンブリ及び成長炉を提案し、それは空気が反応チャンバー内に漏れることを回避できるとともに、チャンバーの取り外し・メンテナンスの効率を向上させ、反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクを回避することができる。 The present invention proposes a chamber seal assembly and a growth furnace to solve at least one of the technical problems existing in the prior art, which can avoid the air from leaking into the reaction chamber and remove and remove the chamber. The efficiency of maintenance can be improved and the risk of causing damage to the reaction chamber can be avoided.

本発明の目的を実現するために、チャンバーシールアセンブリを提供し、炉室フランジと反応チャンバーとの間に周設され、
シールスペーサーリング、及びそれぞれ前記シールスペーサーリングの軸方向両側に設けられるシールリングを含み、そのうち、前記シールスペーサーリング内に第１排気通路が設けられ、前記第１排気通路が前記シールスペーサーリングの内側と連通し、そして、前記炉室フランジ内に第２排気通路が設けられ、前記第２排気通路がそれぞれ前記第１排気通路及び排気装置に接続される。 In carrying out the objects of the present invention, a chamber seal assembly is provided, disposed circumferentially between the furnace chamber flange and the reaction chamber,
a seal spacer ring, and seal rings respectively provided on both axial sides of said seal spacer ring, wherein a first exhaust passage is provided in said seal spacer ring, said first exhaust passage being inside said seal spacer ring and a second exhaust passage is provided in the furnace chamber flange, the second exhaust passage being connected to the first exhaust passage and an exhaust device, respectively.

選択肢として、前記第１排気通路は前記シールスペーサーリングの周方向に沿って均等に分布する複数の排気孔を含み、各前記排気孔は前記シールスペーサーリング内に穿設される。 Optionally, said first exhaust passage comprises a plurality of exhaust holes evenly distributed along the circumference of said seal spacer ring, each said exhaust hole being drilled in said seal spacer ring.

選択肢として、前記シールスペーサーリングの内周壁上に環状凹溝が形成され、各前記排気孔の内端はいずれも前記環状凹溝内に位置する。 Alternatively, an annular groove is formed on the inner peripheral wall of the seal spacer ring, and the inner end of each of the exhaust holes is located in the annular groove.

選択肢として、前記排気孔の直径は前記シールスペーサーリングの軸方向厚さの１／４である。 Optionally, the diameter of said exhaust hole is 1/4 of the axial thickness of said seal spacer ring.

選択肢として、前記排気孔の数は１２～３６個である。 Optionally, the number of vent holes is between 12 and 36.

選択肢として、前記排気孔の内端は前記シールスペーサーリングの軸方向厚さの中間位置に位置する。 Optionally, the inner end of the vent hole is located midway in the axial thickness of the seal spacer ring.

選択肢として、前記第１排気通路から遠い前記第２排気通路の一端は前記炉室フランジの外周壁上に位置する。 Optionally, one end of said second exhaust passage remote from said first exhaust passage is located on the outer peripheral wall of said furnace chamber flange.

選択肢として、さらに上裏当てリング及び下裏当てリングを含み、且つ前記シールリングと前記シールスペーサーリングが前記上裏当てリングと前記下裏当てリングとの間に設けられる。 Optionally, further comprising an upper backing ring and a lower backing ring, and wherein said seal ring and said seal spacer ring are provided between said upper backing ring and said lower backing ring.

別の技術案として、本発明はさらに成長炉を提供し、反応チャンバー、上室及び下室を含み、前記上室と下室はそれぞれ前記反応チャンバーの上端と下端に套設され、そして、前記上室及び下室はいずれも下から上に順に積層されたフランジエンドカバー、炉室フランジ及び炉室本体を含み、そのうち、前記炉室フランジの内周壁と前記反応チャンバーの外周壁との間に環状隙間を有し、
前記環状隙間内にチャンバーシールアセンブリが設けられ、前記チャンバーシールアセンブリは本発明が提供する上記チャンバーシールアセンブリを使用する。 As another technical solution, the present invention further provides a growth furnace, comprising a reaction chamber, an upper chamber and a lower chamber, wherein the upper chamber and the lower chamber are installed respectively at the upper end and the lower end of the reaction chamber, and The upper chamber and the lower chamber each include a flange end cover, a furnace chamber flange and a furnace chamber body, which are stacked in order from bottom to top, between the inner peripheral wall of the furnace chamber flange and the outer peripheral wall of the reaction chamber. having an annular gap,
A chamber seal assembly is provided within the annular gap, and the chamber seal assembly employs the chamber seal assembly provided by the present invention.

選択肢として、前記排気装置は真空コネクタ、排気配管及び排気ポンプを含み、そのうち、
前記真空コネクタは前記第２排気通路の第２端に接続され、
前記排気配管はそれぞれ前記排気ポンプ及び前記真空コネクタに接続される。 Optionally, said evacuation device comprises a vacuum connector, an evacuation pipe and an evacuation pump, wherein
the vacuum connector is connected to a second end of the second exhaust passage;
The exhaust pipes are respectively connected to the exhaust pump and the vacuum connector.

本発明は以下の有益な効果を有する。 The invention has the following beneficial effects.

本発明が提供するチャンバーシールアセンブリによれば、それはシールスペーサーリング内に第１排気通路が設けられ、且つ炉室フランジ内に第２排気通路が設けられることによって、排気装置を利用して順に該第２排気通路と第１排気通路を介してシールスペーサーリングと反応チャンバーとの間の間隔内の空気を排出することができ、それによって該間隔内の空気が反応チャンバー内に漏れることを回避でき、チャンバーの圧力上昇率の要件を確保し、また、さらにチャンバーの取り外し・メンテナンスを行う際に、第２排気通路及び第１排気通路を介して上記間隔と大気環境を連通させることができ、それによって間隔内の負圧状態を解除でき、炉室フランジの取り外しが容易になり、それによってチャンバーの取り外し・メンテナンスの効率を向上させ、反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクを回避することができる。 According to the chamber seal assembly provided by the present invention, it is provided with a first exhaust passage in the seal spacer ring and a second exhaust passage in the furnace chamber flange, thereby utilizing the exhaust device in turn. Air in the space between the seal spacer ring and the reaction chamber can be evacuated through the second exhaust passage and the first exhaust passage, thereby avoiding leakage of air in the space into the reaction chamber. , ensuring the requirements of the pressure rise rate of the chamber, and furthermore, when the chamber is removed and maintained, the space can be communicated with the atmospheric environment through the second exhaust passage and the first exhaust passage, can release the negative pressure condition in the interval and facilitate the removal of the furnace chamber flange, thereby improving the efficiency of chamber removal and maintenance and avoiding the risk of causing damage to the reaction chamber.

本発明が提供する成長炉によれば、それは本発明が提供する上記チャンバーシールアセンブリを使用することによって、空気が反応チャンバー内に漏れることを回避できるだけでなく、チャンバーの取り外し・メンテナンスの効率を向上させ、反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクを回避することができる。 According to the growth furnace provided by the present invention, by using the chamber seal assembly provided by the present invention, it can not only avoid air leakage into the reaction chamber, but also improve the efficiency of removing and maintaining the chamber. and avoid the risk of causing damage to the reaction chamber.

図１は成長炉の構造概略図である。FIG. 1 is a structural schematic diagram of a growth furnace. 図２は本発明の実施例が使用する成長炉の部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of a growth furnace used in embodiments of the present invention. 図３は図２中のＩ領域の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of region I in FIG. 図４は本発明の実施例が使用するシールスペーサーリングの構造図である。FIG. 4 is a structural diagram of a seal spacer ring used in an embodiment of the present invention.

当業者が本発明の技術案をよりよく理解するようにするために、以下、図面を参照しながら本発明が提供するチャンバーシールアセンブリ及び成長炉を詳細に説明する。 In order for those skilled in the art to better understand the technical solution of the present invention, the chamber seal assembly and the growth furnace provided by the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

図２を参照すると、本発明の実施例が使用する成長炉の部分断面図である。該成長炉は反応チャンバー１０、上室及び下室を含み、上室と下室はそれぞれ反応チャンバー１０の上端と下端から反応チャンバー１０上に套設される。図２には、上炉室及びそれと反応チャンバー１０とのシール構造の部分断面図のみが示される。下炉室と反応チャンバー１０との間のシール構造は上炉室と反応チャンバー１０とのシール構造に類似するため、本実施例では、上炉室と反応チャンバー１０とのシール構造のみを例とする。 Referring to FIG. 2, it is a partial cross-sectional view of a growth furnace used by embodiments of the present invention. The growth furnace includes a reaction chamber 10, an upper chamber and a lower chamber, and the upper chamber and the lower chamber are installed on the reaction chamber 10 from upper and lower ends of the reaction chamber 10 respectively. FIG. 2 only shows a partial cross-sectional view of the upper furnace chamber and the sealing structure between it and the reaction chamber 10 . Since the sealing structure between the lower furnace chamber and the reaction chamber 10 is similar to the sealing structure between the upper furnace chamber and the reaction chamber 10, only the sealing structure between the upper furnace chamber and the reaction chamber 10 is taken as an example in this embodiment. do.

本実施例では、上炉室は上から下に順に設けられる上エンドカバー１３、上炉室本体１２及び炉室フランジ１１を含み、そのうち、炉室フランジ１１は反応チャンバー１０上に套設され、且つ炉室フランジ１１と反応チャンバー１０との間の間隔内にチャンバーシールアセンブリ１４が周設され、炉室フランジ１１と反応チャンバー１０との密封を実現することに用いられる。 In this embodiment, the upper furnace chamber includes an upper end cover 13, an upper furnace chamber main body 12 and a furnace chamber flange 11, which are arranged in order from top to bottom, wherein the furnace chamber flange 11 is mounted on the reaction chamber 10, In addition, a chamber seal assembly 14 is provided around the space between the furnace chamber flange 11 and the reaction chamber 10 to achieve sealing between the furnace chamber flange 11 and the reaction chamber 10 .

図２及び図３を併せて参照すると、本実施例が提供するチャンバーシールアセンブリはシールスペーサーリング１４４、及びそれぞれ該シールスペーサーリング１４４の軸方向両側に設けられるシールリング１４３を含む。シールスペーサーリング１４４はシールリング１４３を隔離し且つ支持する役割を果たすことに用いられる。 2 and 3 together, the chamber seal assembly provided by this embodiment includes a seal spacer ring 144 and seal rings 143 provided on both axial sides of the seal spacer ring 144, respectively. Seal spacer ring 144 is used to serve to isolate and support seal ring 143 .

しかし、チャンバーシールアセンブリを取り付ける際に、シールスペーサーリング１４４の内側において、且つ２つのシールリング１４３の間に位置する間隔内に空気が閉じ込められ、反応チャンバー１０の内部の真空引きが完了した後、チャンバー内部の真空度が比較的高く、両側のシールリング１４３の間の間隔内の圧力とチャンバーの内圧との差が比較的大きいため、不可避的に、２つのシールリング１４３の間の間隔内に閉じ込められた空気がごくわずかにチャンバー内に漏れるとしても、チャンバーの圧力上昇率の上昇を招く可能性があり、晶体成長プロセスの展開に悪影響を与えてしまう。また、上記間隔内の圧力が外部大気圧力よりも低いため、該間隔が負圧状態であり、それによってチャンバーの取り外し・メンテナンスを行う際に、炉室フランジの取り外しが困難になり、反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクがある。 However, when the chamber seal assembly is installed, air is trapped inside the seal spacer ring 144 and in the space located between the two seal rings 143, and after the interior of the reaction chamber 10 has been evacuated, Because the vacuum inside the chamber is relatively high, and the difference between the pressure in the space between the sealing rings 143 on both sides and the internal pressure of the chamber is relatively large, it is inevitable that the space between the two sealing rings 143 Even a small leak of trapped air into the chamber can lead to an increase in the pressure rise rate of the chamber, adversely affecting the evolution of the crystal growth process. In addition, since the pressure in the space is lower than the external atmospheric pressure, the space is in a negative pressure state, which makes it difficult to remove the furnace chamber flange when removing and maintaining the chamber. Risk of injury.

上記問題を解決するために、本実施例では、シールスペーサーリング１４４内に第１排気通路１４４１が設けられ、該第１排気通路１４４１がシールスペーサーリング１４４の内側と連通し、具体的には、第１排気通路１４４１の第１端と第２端はそれぞれシールスペーサーリング１４４の内周壁と外周壁上に位置する。そして、炉室フランジ１１内に第２排気通路１１１が設けられ、該第２排気通路１１１の第１端が第１排気通路１４４１の第２端に接続され、第２排気通路１１１の第２端が排気装置（図示せず）を接続することに用いられる。 In order to solve the above problem, in this embodiment, a first exhaust passage 1441 is provided in the seal spacer ring 144, and the first exhaust passage 1441 communicates with the inner side of the seal spacer ring 144, specifically: A first end and a second end of the first exhaust passage 1441 are located on the inner and outer peripheral walls of the seal spacer ring 144, respectively. A second exhaust passage 111 is provided in the furnace chamber flange 11, the first end of the second exhaust passage 111 is connected to the second end of the first exhaust passage 1441, and the second end of the second exhaust passage 111 is connected to the second end of the first exhaust passage 1441. is used to connect an exhaust system (not shown).

チャンバーシールアセンブリの取り付けが完了した後、排気装置を利用して順に第２排気通路１１１及び第１排気通路１４４１を介してシールスペーサーリング１４４の内側の間隔内の空気を排出し、それによって該間隔内の空気が反応チャンバー１０の内部に漏れることを回避でき、チャンバーの圧力上昇率の要件を確保し、また、さらにチャンバーの取り外し・メンテナンスを行う際に、第２排気通路１１１及び第１排気通路１４４１を介して上記間隔と大気環境とを連通させることができ、それによって該間隔内の負圧状態を解除でき、炉室フランジ１１の取り外しが容易になり、それによってチャンバーの取り外し・メンテナンスの効率を向上させ、反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクを回避することができる。 After the installation of the chamber seal assembly is completed, the exhaust system is utilized to exhaust the air within the space inside the seal spacer ring 144 through the second exhaust passage 111 and the first exhaust passage 1441 in sequence, thereby removing the space. The internal air can be prevented from leaking into the interior of the reaction chamber 10, ensuring the requirements of the chamber pressure rise rate. Through 1441, the space can be communicated with the atmospheric environment, so that the negative pressure state in the space can be released, and the furnace chamber flange 11 can be easily removed, thereby improving the efficiency of removing and maintaining the chamber. can be improved and the risk of causing damage to the reaction chamber can be avoided.

本実施例では、図４に示すように、第１排気通路１４４１はシールスペーサーリング１４４の周方向に沿って均等に分布する複数の排気孔を含み、各排気孔はシールスペーサーリング１４４内に穿設される。選択肢として、各排気孔はシールスペーサーリング１４４の径方向に沿って設けられるストレート貫通孔である。シールスペーサーリング１４４の周方向に沿って均等に分布する複数の排気孔によって、シールスペーサーリング１４４の内側の間隔内の空気を均一に排出でき、それによってシールスペーサーリング１４４全体の円周方向に空気を完全に排出できるように確保できるとともに、均一に排気することでシールリング１４３の変形を回避することができる。 In this embodiment, as shown in FIG. 4, the first exhaust passage 1441 includes a plurality of exhaust holes evenly distributed along the circumferential direction of the seal spacer ring 144, each exhaust hole being drilled through the seal spacer ring 144. is set. Optionally, each vent hole is a straight through hole extending radially through the seal spacer ring 144 . The plurality of vent holes evenly distributed along the circumference of the seal spacer ring 144 allows the air within the inner space of the seal spacer ring 144 to be evenly evacuated, thereby venting the air circumferentially around the entire seal spacer ring 144 . can be completely discharged, and deformation of the seal ring 143 can be avoided by uniformly discharging the gas.

本実施例では、選択肢として、シールスペーサーリング１４４の内周壁上に環状凹溝１４４２が形成され、各排気孔１４４１の内端はいずれも環状凹溝１４４２内に位置する。環状凹溝１４４２によって、２つのシールリング１４３間の空気を完全に排出することにさらに有利である。 In this embodiment, an annular groove 1442 is optionally formed on the inner peripheral wall of the seal spacer ring 144 , and the inner end of each exhaust hole 1441 is located in the annular groove 1442 . The annular groove 1442 is further advantageous for completely discharging the air between the two sealing rings 143 .

選択肢として、排気孔の直径はシールスペーサーリング１４４の軸方向厚さの１／４である。例えば、シールスペーサーリング１４４の軸方向厚さが４ｍｍであると、排気孔の直径は１ｍｍである。シールスペーサーリング１４４の軸方向厚さが８ｍｍであると、排気孔の直径は２ｍｍである。このように、シールスペーサーリング１４４の強度を確保するうえに、排気速度を向上させることができる。 As an option, the diameter of the vent hole is 1/4 the axial thickness of the seal spacer ring 144 . For example, if the axial thickness of the seal spacer ring 144 is 4 mm, the diameter of the vent hole is 1 mm. If the axial thickness of the seal spacer ring 144 is 8 mm, the diameter of the exhaust hole is 2 mm. In this manner, the strength of the seal spacer ring 144 can be ensured and the exhaust speed can be improved.

選択肢として、排気孔の数は１２～３６個である。このように、シールスペーサーリング１４４の強度を確保するうえに、排気速度を向上させることができる。 Optionally, the number of vent holes is between 12 and 36. In this manner, the strength of the seal spacer ring 144 can be ensured and the exhaust speed can be improved.

選択肢として、排気孔の内端はシールスペーサーリング１４４の軸方向厚さの中間位置に位置し、このように、空気を完全に排出できることに有利である。 As an option, the inner end of the exhaust hole is located midway in the axial thickness of the seal spacer ring 144, thus advantageously allowing complete evacuation of air.

本実施例では、図２に示すように、第１排気通路１４４１から遠い第２排気通路１１１の一端は炉室フランジ１１の外周壁上に位置し、それによって排気装置を接続することに用いられる真空コネクタ１５の取り付けが容易になる。 In this embodiment, as shown in FIG. 2, one end of the second exhaust passage 111 remote from the first exhaust passage 1441 is located on the outer peripheral wall of the furnace chamber flange 11 and is thereby used to connect the exhaust device. Attachment of the vacuum connector 15 is facilitated.

本実施例では、チャンバーシールアセンブリはさらに上裏当てリング１４１及び下裏当てリング１４２を含み、そのうち、シールリング１４３及びシールスペーサーリング１４４が上裏当てリング１４１と下裏当てリング１４２との間に設けられる。上裏当てリング１４１及び下裏当てリング１４２は２つのシールリング１４３を固定して動かないようにすることに用いられる。 In this embodiment, the chamber seal assembly further includes an upper backing ring 141 and a lower backing ring 142, of which a seal ring 143 and a seal spacer ring 144 are between the upper backing ring 141 and the lower backing ring 142. be provided. An upper backing ring 141 and a lower backing ring 142 are used to fix the two sealing rings 143 to prevent them from moving.

本実施例では、上裏当てリング１４１の上端は炉室本体１２に接触し、下裏当てリング１４２の下端は下エンドカバー（図示せず）に接触する。そして、上炉室本体１２、炉室フランジ１１及び下エンドカバーはねじによって一体に固定され、且つねじを締めることで、上炉室本体１２及び下エンドカバーが反応チャンバー１０の軸方向に沿って２つのシールリング１４３を押し締め、それにより、シールリング１４３を反応チャンバー１０の径方向に沿って膨張変形させ、それによって炉室フランジ１１と反応チャンバー１０との間の隙間をシールすることを実現する。 In this embodiment, the upper end of the upper backing ring 141 contacts the furnace chamber body 12 and the lower end of the lower backing ring 142 contacts the lower end cover (not shown). The upper furnace chamber main body 12, the furnace chamber flange 11, and the lower end cover are integrally fixed with screws, and by tightening the screws, the upper furnace chamber main body 12 and the lower end cover are axially aligned with the reaction chamber 10. The two seal rings 143 are squeezed, thereby expanding and deforming the seal rings 143 along the radial direction of the reaction chamber 10, thereby realizing the sealing of the gap between the furnace chamber flange 11 and the reaction chamber 10. do.

なお、本実施例では、シールリング１４３は２つであるが、本発明はこれに限定されず、実際の応用では、シールリング１４３はまだ１つ又は３つ以上であってもよい。この場合、シールスペーサーリングの構造及び数に対して適応的な改良を行うことができ、シールリングを固定できればよい。 In addition, although there are two sealing rings 143 in this embodiment, the present invention is not limited to this, and in actual application, the number of sealing rings 143 may be one or more. In this case, adaptive improvements can be made to the structure and number of seal spacer rings, and the seal rings need only be fixed.

別の技術案として、本発明の実施例はさらに成長炉を提供し、それは反応チャンバー、上室及び下室を含み、上室と下室はそれぞれ反応チャンバーの上端と下端に套設され、そして、上室及び下室はいずれも下から上に順に積層されたフランジエンドカバー、炉室フランジ及び炉室本体を含み、そのうち、炉室フランジの内周壁と反応チャンバーの外周壁との間に環状隙間を有し、該環状隙間内にチャンバーシールアセンブリが設けられ、炉室フランジと反応チャンバーとの密封を実現することに用いられる。該チャンバーシールアセンブリは本発明の実施例が提供する上記チャンバーシールアセンブリを使用する。 As another technical solution, an embodiment of the present invention further provides a growth furnace, comprising a reaction chamber, an upper chamber and a lower chamber, wherein the upper chamber and the lower chamber are installed respectively at the upper end and the lower end of the reaction chamber, and , the upper chamber and the lower chamber each include a flange end cover, a furnace chamber flange and a furnace chamber body, which are stacked in order from bottom to top, wherein an annular ring is formed between the inner peripheral wall of the furnace chamber flange and the outer peripheral wall of the reaction chamber; A gap is provided, and a chamber seal assembly is provided within the annular gap and is used to achieve a seal between the furnace chamber flange and the reaction chamber. The chamber seal assembly uses the above chamber seal assembly provided by embodiments of the present invention.

本実施例では、成長炉は真空コネクタ、排気配管及び排気ポンプを含み、そのうち、真空コネクタは第２排気通路の第２端に接続され、排気配管はそれぞれ排気ポンプ及び真空コネクタに接続される。 In this embodiment, the growth furnace includes a vacuum connector, an exhaust pipe and an exhaust pump, wherein the vacuum connector is connected to the second end of the second exhaust passage, and the exhaust pipe is connected to the exhaust pump and the vacuum connector respectively.

本発明の実施例が提供する成長炉によれば、それは本発明の実施例が提供する上記チャンバーシールアセンブリを使用することによって、空気が反応チャンバー内に漏れることを回避できるだけでなく、チャンバーの取り外し・メンテナンスの効率を向上させ、反応チャンバーの損傷を引き起こすリスクを回避することができる。 According to the growth furnace provided by the embodiments of the present invention, by using the above chamber seal assembly provided by the embodiments of the present invention, it can not only avoid air leakage into the reaction chamber, but also remove the chamber. • The efficiency of maintenance can be improved and the risk of causing damage to the reaction chamber can be avoided.

理解できるように、以上の実施形態は単に本発明の原理を説明するために使用される例示的な実施形態であるが、本発明はこれに限定されない。当業者であれば、本発明の精神及び趣旨を逸脱しない場合に、様々な変形や改良を行うことができ、これらの変形や改良も本発明の保護範囲に属する。 It can be understood that the above embodiments are merely exemplary embodiments used to explain the principles of the invention, but the invention is not limited thereto. Persons skilled in the art can make various modifications and improvements without departing from the spirit and scope of the present invention, and these modifications and improvements also fall within the protection scope of the present invention.

１０ 反応チャンバー
１１ 炉室フランジ
１１１ 第２排気通路
１２ 上炉室本体
１３ エンドカバー
１４ チャンバーシールアセンブリ
１４１ 上裏当てリング
１４２ 下裏当てリング
１４３ シールリング
１４４ シールスペーサーリング
１４４１ 排気孔
１４４２ 環状凹溝 10 Reaction Chamber 11 Furnace Chamber Flange 111 Second Exhaust Passage 12 Upper Furnace Chamber Body 13 End Cover 14 Chamber Seal Assembly 141 Upper Backing Ring 142 Lower Backing Ring 143 Seal Ring 144 Seal Spacer Ring 1441 Exhaust Hole 1442 Annular Groove

Claims (10)

円筒形の反応チャンバーと、前記反応チャンバーの端部に配置されかつ前記反応チャンバーを包囲する炉室フランジと、の間に配置されるチャンバーシールアセンブリであって、前記チャンバーシールアセンブリは、前記反応チャンバーを包囲し、
シールスペーサーリング、及びそれぞれ前記シールスペーサーリングの軸方向両側に設けられるシールリングを含み、前記シールスペーサーリング内に第１排気通路が設けられ、前記第１排気通路が前記シールスペーサーリングの内側と連通し、そして、前記炉室フランジ内に第２排気通路が設けられ、前記第２排気通路がそれぞれ前記第１排気通路及び排気装置に接続されることを特徴とするチャンバーシールアセンブリ。 a chamber seal assembly disposed between a cylindrical reaction chamber and a furnace chamber flange disposed at an end of said reaction chamber and surrounding said reaction chamber , said chamber seal assembly closing said reaction chamber; surround the
a seal spacer ring; and seal rings provided on both sides of the seal spacer ring in the axial direction , wherein a first exhaust passage is provided in the seal spacer ring, and the first exhaust passage communicates with the inner side of the seal spacer ring. and a second exhaust passage within said furnace chamber flange, said second exhaust passage being connected to said first exhaust passage and said exhaust system, respectively. 前記第１排気通路は前記シールスペーサーリングの周方向に沿って均等に分布する複数の排気孔を含み、各前記排気孔は前記シールスペーサーリング内に穿設されることを特徴とする請求項１に記載のチャンバーシールアセンブリ。 2. The first exhaust passage includes a plurality of exhaust holes evenly distributed along the circumferential direction of the seal spacer ring, each of the exhaust holes being formed in the seal spacer ring. A chamber seal assembly as described in . 前記シールスペーサーリングの内周壁上に環状凹溝が形成され、各前記排気孔の内端はいずれも前記環状凹溝内に位置することを特徴とする請求項２に記載のチャンバーシールアセンブリ。 3. The chamber seal assembly as claimed in claim 2, wherein an annular groove is formed on the inner peripheral wall of said seal spacer ring, and the inner ends of each of said exhaust holes are positioned within said annular groove. 前記排気孔の直径は前記シールスペーサーリングの軸方向厚さの１／４であることを特徴とする請求項２に記載のチャンバーシールアセンブリ。 3. The chamber seal assembly of claim 2, wherein the diameter of said vent hole is 1/4 of the axial thickness of said seal spacer ring. 前記排気孔の数は１２～３６個であることを特徴とする請求項２に記載のチャンバーシールアセンブリ。 3. The chamber seal assembly of claim 2, wherein the number of exhaust holes is 12-36. 前記排気孔の内端は前記シールスペーサーリングの軸方向厚さの中間位置に位置することを特徴とする請求項２に記載のチャンバーシールアセンブリ。 3. The chamber seal assembly of claim 2, wherein an inner end of said exhaust hole is located midway in the axial thickness of said seal spacer ring. 前記第１排気通路から遠い前記第２排気通路の一端は前記炉室フランジの外周壁上に位置することを特徴とする請求項１に記載のチャンバーシールアセンブリ。 2. The chamber seal assembly of claim 1, wherein one end of said second exhaust passage remote from said first exhaust passage is located on the outer peripheral wall of said furnace chamber flange. 上裏当てリング及び下裏当てリングをさらに含み、且つ前記シールリング及び前記シールスペーサーリングが前記上裏当てリングと前記下裏当てリングとの間に設けられることを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載のチャンバーシールアセンブリ。 Claims 1-7, further comprising an upper backing ring and a lower backing ring, and wherein said seal ring and said seal spacer ring are provided between said upper backing ring and said lower backing ring. A chamber seal assembly according to any one of Claims 1 to 3. 反応チャンバー、上室及び下室を含み、前記上室と下室はそれぞれ前記反応チャンバーの上端と下端に套設され、そして、前記上室及び下室はいずれも下から上に順に積層されたフランジエンドカバー、炉室フランジ及び炉室本体を含み、そのうち、前記炉室フランジの内周壁と前記反応チャンバーの外周壁との間に環状隙間を有する成長炉であって、
前記環状隙間内にチャンバーシールアセンブリが設けられ、前記チャンバーシールアセンブリは請求項１～８のいずれか一項に記載のチャンバーシールアセンブリを使用することを特徴とする成長炉。 comprising a reaction chamber, an upper chamber and a lower chamber, wherein the upper chamber and the lower chamber are installed in the upper end and the lower end of the reaction chamber respectively, and the upper chamber and the lower chamber are stacked in order from bottom to top; A growth furnace comprising a flange end cover, a furnace chamber flange and a furnace chamber body, wherein an annular gap is formed between the inner peripheral wall of the furnace chamber flange and the outer peripheral wall of the reaction chamber,
A growth furnace, wherein a chamber seal assembly is provided in the annular gap, and the chamber seal assembly uses the chamber seal assembly according to any one of claims 1 to 8. 前記排気装置は真空コネクタ、排気配管及び排気ポンプを含み、そのうち、
前記真空コネクタは前記第２排気通路の第２端に接続され、
前記排気配管はそれぞれ前記排気ポンプ及び前記真空コネクタに接続されることを特徴とする請求項９に記載の成長炉。 The evacuation device includes a vacuum connector, an evacuation pipe and an evacuation pump, wherein
the vacuum connector is connected to a second end of the second exhaust passage;
10. The growth reactor according to claim 9, wherein said exhaust pipes are connected to said exhaust pump and said vacuum connector respectively.
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