JP7106685B2 - 電子線応用装置 - Google Patents
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Description
Electron Microscope)が開示されている。TEMの電子光学系では、光学顕微鏡と同様に、試料の観察領域全面に電子線を照射する。TEMの分解能は試料に照射される電子線の平行度によって決定される。
Claims (6)
- 屈折率が1.7を超える基板と光電膜とを有するフォトカソードと、
励起光を前記フォトカソードに向けて集光する集光レンズと、
前記フォトカソードに対向して配置され、前記励起光が前記集光レンズにより集光され、前記フォトカソードの基板を透過して入射されることにより、前記フォトカソードの光電膜から発生する電子ビームを加速させる引き出し電極と、
前記引き出し電極により加速された前記電子ビームを試料上で2次元に走査する偏向器を含む電子光学系とを有し、
前記集光レンズの球面収差は、前記光電膜上で前記球面収差の二乗平均平方根が前記励起光の波長の1/14以下であり、
前記集光レンズは、非球面レンズと少なくとも1枚の凸レンズとを含む複合レンズである電子線応用装置。 - 請求項1において、
前記フォトカソードの前記光電膜は、前記励起光に対して透明な単結晶基板上に結晶をエピタキシャル成長させて形成された電子線応用装置。 - 請求項1において、
前記引き出し電極及び前記フォトカソードが配置される真空容器と、
前記複合レンズを保持するレンズステージと、
前記レンズステージは、
前記真空容器に固定される真空フランジと、
前記真空フランジに対して可動に取り付けられ、一方の端部に前記励起光を入射させるための窓を有し、他方の端部に前記複合レンズを保持するレンズホルダを有し、前記窓と前記レンズホルダとの間に前記励起光を通過させるための空洞が設けられた可動部とを有する電子線応用装置。 - 請求項3において、
前記複合レンズの前記凸レンズは、前記レンズホルダにおいて前記非球面レンズよりも前記窓側で保持されており、前記レンズホルダは前記凸レンズの上下において前記真空容器と前記レンズホルダ内の空間とを導通させる排気孔を有する電子線応用装置。 - 請求項3において、
前記励起光を平行光として出射する光源とを有し、
前記光源は光路調整機構を介して前記レンズステージにマウントされ、
前記可動部の前記空洞の長手方向をz軸とし、前記窓が前記z軸と垂直なx軸とy軸とで張られる平面にあるとき、前記光路調整機構は、xy平面上の位置を調整する2軸と、xy平面に対するx軸方向の傾き及びy軸方向の傾きを調整する2軸とを有する電子線応用装置。 - 請求項1において、
前記引き出し電極及び前記フォトカソードが配置される真空容器を有し、
前記非球面レンズは前記真空容器内の真空中に配置され、前記凸レンズは大気中に配置される電子線応用装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/002803 WO2020157809A1 (ja) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | 電子線応用装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020157809A1 JPWO2020157809A1 (ja) | 2021-11-25 |
JP7106685B2 true JP7106685B2 (ja) | 2022-07-26 |
Family
ID=71842111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020568899A Active JP7106685B2 (ja) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | 電子線応用装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11784022B2 (ja) |
JP (1) | JP7106685B2 (ja) |
WO (1) | WO2020157809A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017054954A (ja) | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 発光装置 |
WO2017168554A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2530591B2 (ja) | 1984-10-12 | 1996-09-04 | 慶治 矢田 | 大電流密度の電子放出に適するパルス状レ−ザ−光励起による電子源装置 |
US5684360A (en) | 1995-07-10 | 1997-11-04 | Intevac, Inc. | Electron sources utilizing negative electron affinity photocathodes with ultra-small emission areas |
US5932966A (en) | 1995-07-10 | 1999-08-03 | Intevac, Inc. | Electron sources utilizing patterned negative electron affinity photocathodes |
US5898269A (en) * | 1995-07-10 | 1999-04-27 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Jr. University | Electron sources having shielded cathodes |
JPH1020198A (ja) * | 1996-07-02 | 1998-01-23 | Olympus Optical Co Ltd | 近赤外線顕微鏡及びこれを用いた顕微鏡観察システム |
US6005247A (en) | 1997-10-01 | 1999-12-21 | Intevac, Inc. | Electron beam microscope using electron beam patterns |
JP2001143648A (ja) | 1999-11-17 | 2001-05-25 | Hitachi Ltd | 光励起電子線源および電子線応用装置 |
JP2001176120A (ja) | 1999-12-17 | 2001-06-29 | Olympus Optical Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
US6828574B1 (en) | 2000-08-08 | 2004-12-07 | Applied Materials, Inc. | Modulator driven photocathode electron beam generator |
JP3987276B2 (ja) | 2000-10-12 | 2007-10-03 | 株式会社日立製作所 | 試料像形成方法 |
US20030048427A1 (en) * | 2001-01-31 | 2003-03-13 | Applied Materials, Inc. | Electron beam lithography system having improved electron gun |
JP2003303565A (ja) * | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線検査装置 |
US7250618B2 (en) | 2005-02-02 | 2007-07-31 | Nikon Corporation | Radiantly heated cathode for an electron gun and heating assembly |
US7573053B2 (en) | 2006-03-30 | 2009-08-11 | Uchicago Argonne, Llc | Polarized pulsed front-end beam source for electron microscope |
JP2008294124A (ja) | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Fujitsu Ltd | 光半導体素子 |
EP2270832B1 (en) | 2008-03-25 | 2016-02-10 | Japan Science and Technology Agency | Spin polarized electron source |
JP5354657B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-27 | 独立行政法人理化学研究所 | 偏極電子銃、偏極電子線の発生方法、電子銃の評価方法、及び逆光電子分光方法 |
EP2555222B1 (en) | 2010-03-29 | 2016-04-06 | Japan Science and Technology Agency | Electron microscope |
WO2012041721A1 (en) | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Attolight Sa | Deconvolution of time-gated cathodoluminescence images |
US10283315B2 (en) * | 2017-05-16 | 2019-05-07 | International Business Machines Corporation | Measuring spherical and chromatic aberrations in cathode lens electrode microscopes |
US10176965B1 (en) * | 2017-07-05 | 2019-01-08 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Aberration-corrected multibeam source, charged particle beam device and method of imaging or illuminating a specimen with an array of primary charged particle beamlets |
WO2019092833A1 (ja) * | 2017-11-09 | 2019-05-16 | 株式会社彩世 | 光学素子及びレーザ照射装置 |
-
2019
- 2019-01-28 JP JP2020568899A patent/JP7106685B2/ja active Active
- 2019-01-28 WO PCT/JP2019/002803 patent/WO2020157809A1/ja active Application Filing
- 2019-01-28 US US17/425,872 patent/US11784022B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017054954A (ja) | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 発光装置 |
WO2017168554A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
泉谷徹郎,非球面レンズの高精度モールディング成形,精密工学会誌,55巻6号,日本,精密工学会,1989年06月05日,p.972-975,https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjspe1986/55/6/55_6_972/_pdf/-char/ja |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11784022B2 (en) | 2023-10-10 |
JPWO2020157809A1 (ja) | 2021-11-25 |
US20220165536A1 (en) | 2022-05-26 |
WO2020157809A1 (ja) | 2020-08-06 |
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