JP7101528B2 - Board processing equipment - Google Patents

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Description

本開示は、基板処理装置に関する。 The present disclosure relates to a substrate processing apparatus .

従来、基板を回転させつつ、回転する基板にブラシを押し当てることによって洗浄処理等の基板処理を行う基板処理装置が知られている。 Conventionally, there is known a substrate processing apparatus that performs substrate processing such as cleaning processing by pressing a brush against a rotating substrate while rotating the substrate.

特開2005-228961号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-228961

本開示は、ブラシの管理を容易化する技術を提供する。 The present disclosure provides techniques for facilitating brush management.

本開示の一態様による基板処理装置は、処理部と、情報保持部と、情報取得部とを備える。処理部は、ブラシを用いた基板処理を行う。情報保持部は、処理部に設けられ、ブラシに関する情報を保持する。情報取得部は、情報保持部から読み出された情報を取得する。 The substrate processing apparatus according to one aspect of the present disclosure includes a processing unit, an information holding unit, and an information acquisition unit. The processing unit processes the substrate using a brush. The information holding unit is provided in the processing unit and holds information about the brush. The information acquisition unit acquires the information read from the information holding unit.

本開示によれば、ブラシの管理を容易化する技術を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a technique for facilitating the management of brushes.

図1は、第1の実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a substrate processing apparatus according to the first embodiment. 図2は、第1の実施形態に係る処理部の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a processing unit according to the first embodiment. 図3は、第1の実施形態に係る処理部の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a processing unit according to the first embodiment. 図4は、第1の実施形態に係るアクセス部の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an access unit according to the first embodiment. 図5は、第1の実施形態に係る制御装置の構成を示すブロック図である。FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of the control device according to the first embodiment. 図6は、ブラシ情報の一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of brush information. 図7は、パラメータ設定処理の一例を示すフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart showing an example of the parameter setting process. 図8は、第1の実施形態における第1の変形例に係るリーダライタの配置を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an arrangement of a reader / writer according to the first modification in the first embodiment. 図9は、第1の実施形態における第2の変形例に係るリーダライタの配置を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing the arrangement of the reader / writer according to the second modification in the first embodiment. 図10は、第2の実施形態に係る洗浄部およびアクセス部の構成の一例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an example of the configuration of the cleaning unit and the access unit according to the second embodiment. 図11は、第2の実施形態に係る洗浄部およびアクセス部の構成の他の一例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing another example of the configuration of the cleaning unit and the access unit according to the second embodiment. 図12は、第2の実施形態に係る洗浄部およびアクセス部の構成の一例を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing an example of the configuration of the cleaning unit and the access unit according to the second embodiment. 図13は、第2の実施形態に係る洗浄部の構成の他の一例を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing another example of the configuration of the cleaning unit according to the second embodiment. 図14は、第3の実施形態に係る洗浄部の構成を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing the configuration of the cleaning unit according to the third embodiment. 図15は、回転板の構成の一例を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing an example of the configuration of the rotating plate. 図16は、ロータリーエンコーダによって検出されるパルスのデューティ比の一例を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing an example of the duty ratio of the pulse detected by the rotary encoder.

以下に、本開示による基板処理装置、基板処理方法およびブラシを実施するための形態(以下、「実施形態」と記載する)について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示による基板処理装置、基板処理方法およびブラシが限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。 Hereinafter, a substrate processing apparatus according to the present disclosure, a substrate processing method, and an embodiment for carrying out a brush (hereinafter, referred to as “embodiment”) will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that this embodiment does not limit the substrate processing apparatus, substrate processing method and brush according to the present disclosure. In addition, each embodiment can be appropriately combined as long as the processing contents do not contradict each other. Further, in each of the following embodiments, the same parts are designated by the same reference numerals, and duplicate explanations are omitted.

基板処理に用いられるブラシには、たとえば耐圧、推奨される使用圧力の範囲、寿命といった複数のパラメータが存在し、これらパラメータの値は、ブラシごとに異なる。従来、基板処理装置に対するブラシのパラメータ値の設定は、ユーザが手動入力により行っていた。しかしながら、ユーザによる手動入力では、たとえば入力ミスが発生した場合に誤ったパラメータ値が設定されるおそれがある。また、パラメータ値を手動で入力するのは、ユーザにとって手間でもある。 Brushes used for substrate processing have multiple parameters such as withstand voltage, recommended working pressure range, and life, and the values of these parameters vary from brush to brush. Conventionally, the user manually inputs the brush parameter values for the substrate processing device. However, in manual input by the user, for example, if an input error occurs, an erroneous parameter value may be set. It is also troublesome for the user to manually input the parameter value.

また、近年では、3Dプリンタ等の普及により、ブラシの模倣品が基板処理装置に取り付けられるリスクが高まっている。しかしながら、従来の基板処理装置では、ブラシの正規品と模倣品とを区別することが困難である。 Further, in recent years, with the spread of 3D printers and the like, there is an increasing risk that imitation brushes are attached to the substrate processing apparatus. However, in the conventional substrate processing apparatus, it is difficult to distinguish between a genuine brush and a counterfeit brush.

このため、ブラシのパラメータ管理や品質管理等を容易に行うことのできる技術が期待されている。 Therefore, a technique capable of easily performing brush parameter control, quality control, and the like is expected.

まず、第1の実施形態に係る基板処理装置の構成について図1を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図である。 First, the configuration of the substrate processing apparatus according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a substrate processing apparatus according to the first embodiment.

なお、以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す場合がある。また、鉛直軸を回転中心とする回転方向をθ方向と呼ぶ場合がある。 In each drawing referred to below, in order to make the explanation easy to understand, an orthogonal coordinate system in which the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction that are orthogonal to each other are defined and the Z-axis positive direction is the vertical upward direction is shown. In some cases. Further, the rotation direction centered on the vertical axis may be referred to as the θ direction.

図1に示すように、基板処理装置1は、搬入出ブロック2と、受渡ブロック3と、処理ブロック4とを備える。これらは、搬入出ブロック2、受渡ブロック3および処理ブロック4の順に並べて配置される。 As shown in FIG. 1, the substrate processing device 1 includes a loading / unloading block 2, a delivery block 3, and a processing block 4. These are arranged side by side in the order of the carry-in / out block 2, the delivery block 3 and the processing block 4.

基板処理装置1は、搬入出ブロック2から搬入された半導体ウェハ等の基板(以下、「ウェハW」と記載する)を受渡ブロック3経由で処理ブロック4へ搬送し、処理ブロック4において処理する。また、基板処理装置1は、処理後のウェハWを処理ブロック4から受渡ブロック3経由で搬入出ブロック2へ戻し、搬入出ブロック2から外部へ払い出す。以下、各ブロック2~4の構成について説明する。 The substrate processing apparatus 1 conveys a substrate such as a semiconductor wafer (hereinafter referred to as “wafer W”) carried in from the carry-in / out block 2 to the processing block 4 via the delivery block 3 and processes it in the processing block 4. Further, the substrate processing apparatus 1 returns the processed wafer W from the processing block 4 to the loading / unloading block 2 via the delivery block 3, and discharges the processed wafer W from the loading / unloading block 2 to the outside. Hereinafter, the configurations of the blocks 2 to 4 will be described.

搬入出ブロック2は、載置部11と、搬送部12とを備える。載置部11には、複数枚のウェハWを水平状態で収容する複数のカセットCが載置される。搬送部12は、載置部11に隣接して配置され、内部に搬送装置13を備える。搬送装置13は、載置部11と受渡ブロック3との間でウェハWの搬送を行う。 The loading / unloading block 2 includes a mounting section 11 and a transport section 12. A plurality of cassettes C for accommodating a plurality of wafers W in a horizontal state are mounted on the mounting section 11. The transport unit 12 is arranged adjacent to the mounting unit 11 and includes a transport device 13 inside. The transfer device 13 transfers the wafer W between the mounting unit 11 and the delivery block 3.

受渡ブロック3は、受渡部22を備える。受渡部22は、複数のウェハWを多段に収容可能である。 The delivery block 3 includes a delivery unit 22. The delivery unit 22 can accommodate a plurality of wafers W in multiple stages.

処理ブロック4は、搬送部16と、搬送装置17と、複数の処理部18とを備える。搬送装置17は、搬送部16の内部に配置され、複数の処理部18は、搬送部16の外部に配置される。また、複数の処理部18は、搬送部16に隣接して配置される。 The processing block 4 includes a transport unit 16, a transport device 17, and a plurality of processing units 18. The transport device 17 is arranged inside the transport unit 16, and the plurality of processing units 18 are arranged outside the transport unit 16. Further, the plurality of processing units 18 are arranged adjacent to the transport unit 16.

搬送装置17は、受渡ブロック3の受渡部22と処理部18との間でウェハWの搬送を行う。具体的には、搬送装置17は、受渡部22からウェハWを取り出して処理部18へ搬送する。また、搬送装置17は、処理部18によって処理されたウェハWを処理部18から取り出して受渡部22へ搬送する。 The transfer device 17 transfers the wafer W between the delivery section 22 and the processing section 18 of the delivery block 3. Specifically, the transfer device 17 takes out the wafer W from the delivery unit 22 and transfers it to the processing unit 18. Further, the transfer device 17 takes out the wafer W processed by the processing unit 18 from the processing unit 18 and conveys it to the delivery unit 22.

処理部18は、搬送装置17によって搬入されたウェハWに対してブラシを用いた基板処理を行う。ここでは、処理部18がウェハWの表面に付着したパーティクル等を除去する洗浄処理を行う場合の例について説明するが、処理部18が行う基板処理は、洗浄処理に限定されない。たとえば、処理部18が行う基板処理は、ウェハWの表面から凸部を除去する処理やウェハWの表面を研磨する処理であってもよい。 The processing unit 18 performs substrate processing using a brush on the wafer W carried in by the transfer device 17. Here, an example in which the processing unit 18 performs a cleaning process for removing particles and the like adhering to the surface of the wafer W will be described, but the substrate processing performed by the processing unit 18 is not limited to the cleaning process. For example, the substrate processing performed by the processing unit 18 may be a processing for removing the convex portion from the surface of the wafer W or a processing for polishing the surface of the wafer W.

ここで、処理部18の構成について図2および図3を参照して説明する。図2および図3は、第1の実施形態に係る処理部18の構成を示す図である。なお、図2は、処理部18の内部を上方から見た模式図であり、図3は、処理部18の内部を側方から見た模式図である。また、図3では、液供給部105を省略して示している。 Here, the configuration of the processing unit 18 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. 2 and 3 are views showing the configuration of the processing unit 18 according to the first embodiment. Note that FIG. 2 is a schematic view of the inside of the processing unit 18 as viewed from above, and FIG. 3 is a schematic view of the inside of the processing unit 18 as viewed from the side. Further, in FIG. 3, the liquid supply unit 105 is omitted.

図2および図3に示すように、処理部18は、チャンバ101と、基板保持部102と、カップ部103と、洗浄部104と、液供給部105と、アクセス部106とを備える。 As shown in FIGS. 2 and 3, the processing unit 18 includes a chamber 101, a substrate holding unit 102, a cup unit 103, a cleaning unit 104, a liquid supply unit 105, and an access unit 106.

チャンバ101は、基板保持部102、カップ部103、洗浄部104、液供給部105およびアクセス部106を収容する。チャンバ101の天井部には、チャンバ101内にダウンフローを形成するFFU(Fun Filter Unit)111が設けられる(図3参照)。 The chamber 101 accommodates a substrate holding unit 102, a cup unit 103, a cleaning unit 104, a liquid supply unit 105, and an access unit 106. An FFU (Fun Filter Unit) 111 that forms a downflow in the chamber 101 is provided on the ceiling of the chamber 101 (see FIG. 3).

基板保持部102は、ウェハWよりも大径の本体部121と、本体部121の上面に設けられた複数の把持部122と、本体部121を支持する支柱部材123と、支柱部材123を回転させる駆動部124とを備える。なお、把持部122の数は、図示のものに限定されない。 The substrate holding portion 102 rotates a main body portion 121 having a diameter larger than that of the wafer W, a plurality of grip portions 122 provided on the upper surface of the main body portion 121, a strut member 123 for supporting the main body portion 121, and a strut member 123. A drive unit 124 for driving is provided. The number of grip portions 122 is not limited to that shown in the figure.

かかる基板保持部102は、複数の把持部122を用いてウェハWの周縁部を把持することによってウェハWを保持する。これにより、ウェハWは、本体部121の上面からわずかに離間した状態で水平に保持される。 The substrate holding portion 102 holds the wafer W by gripping the peripheral edge portion of the wafer W using a plurality of gripping portions 122. As a result, the wafer W is held horizontally in a state slightly separated from the upper surface of the main body 121.

カップ部103は、基板保持部102を取り囲むように配置される。カップ部103の底部には、ウェハWに供給された処理液をチャンバ101の外部へ排出するための排液口131と、チャンバ101内の雰囲気を排気するための排気口132とが形成される。 The cup portion 103 is arranged so as to surround the substrate holding portion 102. At the bottom of the cup portion 103, a drainage port 131 for discharging the processing liquid supplied to the wafer W to the outside of the chamber 101 and an exhaust port 132 for exhausting the atmosphere inside the chamber 101 are formed. ..

洗浄部104は、ブラシ141と、鉛直方向に延在し、ブラシ141を回転可能に支持するスピンドル142(回転軸の一例)とを備える。スピンドル142は、図示しない回転機構に接続されており、回転機構は、スピンドル142を回転させることによって、ブラシ141を鉛直軸まわりに回転させる。 The cleaning unit 104 includes a brush 141 and a spindle 142 (an example of a rotating shaft) extending in the vertical direction and rotatably supporting the brush 141. The spindle 142 is connected to a rotation mechanism (not shown), which rotates the brush 141 around a vertical axis by rotating the spindle 142.

ブラシ141は、たとえば、円筒形状を有する樹脂製のブラシ本体と、ブラシ本体の下部に設けられ、ウェハWに押し当てられる洗浄体とを有する。洗浄体は、たとえば、多数の毛束で構成される。また、洗浄体は、スポンジ等で構成されてもよい。 The brush 141 has, for example, a resin brush body having a cylindrical shape, and a cleaning body provided at the lower part of the brush body and pressed against the wafer W. The wash body is composed of, for example, a large number of hair bundles. Further, the cleaning body may be composed of a sponge or the like.

また、洗浄部104は、水平方向に延在し、スピンドル142を介してブラシ141を上方から支持するアーム143と、アーム143を旋回および昇降させる旋回昇降機構144とを備える。旋回昇降機構144により、アーム143は、ウェハWの上方における処理位置とウェハWの外方における待機位置との間でブラシ141を移動させることができる。 Further, the cleaning unit 104 includes an arm 143 that extends in the horizontal direction and supports the brush 141 from above via the spindle 142, and a swivel elevating mechanism 144 that swivels and raises and lowers the arm 143. The swivel elevating mechanism 144 allows the arm 143 to move the brush 141 between a processing position above the wafer W and a standby position outside the wafer W.

また、洗浄部104は、バルブ146や流量調整器(図示せず)等を介して第1処理液供給源148に接続される。洗浄部104は、第1処理液供給源148から供給される第1処理液を、ブラシ141を上下に貫通する中空部からウェハWへ向けて吐出する。第1処理液は、たとえばDHF(希フッ酸)である。なお、第1処理液は、DHFに限定されず、SC1や純水(Deionized Water)等の他の処理液であってもよい。 Further, the cleaning unit 104 is connected to the first treatment liquid supply source 148 via a valve 146, a flow rate regulator (not shown), or the like. The cleaning unit 104 discharges the first treatment liquid supplied from the first treatment liquid supply source 148 toward the wafer W from the hollow portion that vertically penetrates the brush 141. The first treatment liquid is, for example, DHF (dilute hydrofluoric acid). The first treatment liquid is not limited to DHF, and may be another treatment liquid such as SC1 or pure water (Deionized Water).

液供給部105は、ノズル151と、水平方向に延在し、ノズル151を上方から支持するノズルアーム152と、ノズルアーム152を旋回および昇降させる旋回昇降機構153とを備える。 The liquid supply unit 105 includes a nozzle 151, a nozzle arm 152 extending in the horizontal direction and supporting the nozzle 151 from above, and a swivel elevating mechanism 153 that swivels and raises and lowers the nozzle arm 152.

ノズル151は、バルブ156や流量調整器(図示せず)等を介して第2処理液供給源158に接続される。かかる液供給部105は、第2処理液供給源158から供給される第2処理液をウェハWへ向けて吐出する。第2処理液は、たとえば純水等のリンス液である。なお、第2処理液は、リンス液に限らず、他の処理液であってもよい。 The nozzle 151 is connected to the second processing liquid supply source 158 via a valve 156, a flow rate regulator (not shown), or the like. The liquid supply unit 105 discharges the second treatment liquid supplied from the second treatment liquid supply source 158 toward the wafer W. The second treatment liquid is a rinse liquid such as pure water. The second treatment liquid is not limited to the rinsing liquid, and may be another treatment liquid.

処理部18には、ブラシ141に関する情報を保持するRFIDタグ145(情報保持部の一例)が設けられている。第1の実施形態において、RFIDタグ145は、ブラシ141に埋め込まれている。なお、ブラシ141は処理部18に対して着脱自在である。したがって、RFIDタグ145も、処理部18に対して着脱自在である。 The processing unit 18 is provided with an RFID tag 145 (an example of an information holding unit) that holds information about the brush 141. In the first embodiment, the RFID tag 145 is embedded in the brush 141. The brush 141 is removable from the processing unit 18. Therefore, the RFID tag 145 is also removable with respect to the processing unit 18.

RFIDタグ145は、ブラシ141に関する情報として、たとえば、「ブラシ種類」、「シリアルナンバー」、「部品番号」、「耐圧」、「使用圧力範囲」、「寿命」、「認証コード」等の情報を予め保持している。 The RFID tag 145 contains information such as "brush type", "serial number", "part number", "pressure resistance", "working pressure range", "lifetime", and "authentication code" as information regarding the brush 141. It is held in advance.

「ブラシ種類」は、ブラシ141の種類を示す情報である。「ブラシ種類」をRFIDタグ145に記憶させておくことで、ブラシ141の種類を基板処理装置1に認識させることができる。これにより、たとえば、基板処理装置1は、ある種類(種類Aとする)のブラシ141がアーム143に取り付けられたときに、種類Aのブラシ141のパラメータ値として予め記憶しておいた値をその処理部18のレシピ情報に自動的に反映させることができる。 The "brush type" is information indicating the type of the brush 141. By storing the "brush type" in the RFID tag 145, the substrate processing device 1 can recognize the type of the brush 141. As a result, for example, when the brush 141 of a certain type (referred to as type A) is attached to the arm 143, the substrate processing apparatus 1 has a value stored in advance as a parameter value of the brush 141 of type A. It can be automatically reflected in the recipe information of the processing unit 18.

「シリアルナンバー」は、ブラシ141に割り振られる固有の識別番号である。「シリアルナンバー」をRFIDタグ145に記憶させておくことで、たとえば、ブラシ141に問題が生じた場合に、製造時期、製造場所等のトレースが容易となるなど、品質管理を容易化することができる。 The "serial number" is a unique identification number assigned to the brush 141. By storing the "serial number" in the RFID tag 145, for example, when a problem occurs in the brush 141, it becomes easy to trace the manufacturing time, manufacturing location, etc., and it is possible to facilitate quality control. can.

「部品番号」は、たとえばブラシ141の品番である。「部品番号」をRFIDタグ145に記憶させておくことで、たとえばブラシ141を同じ種類の新品と交換する場合に、新品の手配を容易化することができる。 The "part number" is, for example, the part number of the brush 141. By storing the "part number" in the RFID tag 145, it is possible to facilitate the arrangement of new products, for example, when the brush 141 is replaced with a new product of the same type.

「耐圧」は、ブラシ141の耐圧を示す情報である。また、「使用圧力範囲」は、ブラシ141に推奨される使用圧力の範囲を示す情報である。「耐圧」や「使用圧力範囲」をRFIDタグ145に記憶させておくことで、たとえば基板処理装置1に登録されていない新規なブラシがアーム143に取り付けられた場合でも、処理部18のレシピ情報に使用圧力範囲等の情報を自動的に反映させることができる。このため、新規のブラシを基板処理装置1に登録するためのソフトウェアのバージョンアップ等が不要となる。 The "pressure resistance" is information indicating the pressure resistance of the brush 141. Further, the "working pressure range" is information indicating a range of working pressure recommended for the brush 141. By storing the "pressure resistance" and "working pressure range" in the RFID tag 145, for example, even if a new brush not registered in the substrate processing device 1 is attached to the arm 143, the recipe information of the processing unit 18 Information such as the working pressure range can be automatically reflected in. Therefore, it is not necessary to upgrade the software for registering a new brush in the substrate processing device 1.

「寿命」は、ブラシ141の寿命に関する情報である。ブラシ141の寿命は、たとえば、ブラシ141の使用圧力および使用時間の積算値により表される。「寿命」をRFIDタグ145に記憶させておくことで、たとえば、基板処理装置1においてブラシ141の使用圧力および使用時間を計測し、計測結果と寿命との差分に基づいてブラシ141の交換時期を予測することができる。また、複数の処理部18間でブラシ141の交換時期が揃うように、複数の処理部18に対する基板処理の割り振りを決定することができる。たとえば、残り寿命が長い処理部18に対し、残り寿命が短い処理部18よりも多くの基板処理を割り振ることで、これらの処理部18の交換時期を揃えることができる。これにより、処理部18の交換を効率的に行うことが可能となる。また、定期メンテナンスの計画立案が容易となる。 "Life" is information about the life of the brush 141. The life of the brush 141 is represented by, for example, the integrated value of the working pressure and the working time of the brush 141. By storing the "life" in the RFID tag 145, for example, the working pressure and the working time of the brush 141 are measured in the substrate processing device 1, and the replacement time of the brush 141 is determined based on the difference between the measurement result and the life. Can be predicted. Further, it is possible to determine the allocation of the substrate processing to the plurality of processing units 18 so that the replacement times of the brush 141 are aligned among the plurality of processing units 18. For example, by allocating more substrate processing to the processing unit 18 having a long remaining life than the processing unit 18 having a short remaining life, it is possible to align the replacement time of these processing units 18. This makes it possible to efficiently replace the processing unit 18. It also facilitates regular maintenance planning.

「認証コード」は、正規品のブラシ141を認証するための情報である。「認証コード」をRFIDタグ145に記憶させておくことで、模倣品のブラシがアーム143に取り付けられて使用されることを未然に防止することができる。 The "authentication code" is information for authenticating the genuine brush 141. By storing the "authentication code" in the RFID tag 145, it is possible to prevent the counterfeit brush from being attached to the arm 143 and used.

なお、RFIDタグ145は、たとえば、ブラシ141に穴を開け、この穴にRFIDタグ145を入れた後、樹脂材料でモールドすることにより、ブラシ141に埋め込むことができる。RFIDタグ145をブラシ141に埋め込む場合、RFIDタグ145は、極力小型のものを使用することが好ましい。たとえば、RFIDタグ145としては、円筒型、コイン型、ラベル型のRFIDタグが好適である。 The RFID tag 145 can be embedded in the brush 141 by, for example, making a hole in the brush 141, inserting the RFID tag 145 into the hole, and then molding the RFID tag 145 with a resin material. When the RFID tag 145 is embedded in the brush 141, it is preferable to use the RFID tag 145 as small as possible. For example, as the RFID tag 145, a cylindrical type, a coin type, or a label type RFID tag is suitable.

また、RFIDタグ145は、後述するアクセス部106とデータ通信を行う場合に周囲の水や金属に影響を与えにくい電磁誘導方式のRFIDを使用することが好ましい。 Further, for the RFID tag 145, it is preferable to use an electromagnetic induction type RFID that does not easily affect the surrounding water or metal when performing data communication with the access unit 106 described later.

アクセス部106は、ブラシ141に埋め込まれたRFIDタグ145との間でデータ通信を行う。かかるアクセス部106の構成について図4を参照して説明する。図4は、第1の実施形態に係るアクセス部106の構成を示す図である。 The access unit 106 performs data communication with the RFID tag 145 embedded in the brush 141. The configuration of the access unit 106 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the access unit 106 according to the first embodiment.

図4に示すように、アクセス部106は、筐体161と、筐体161の内部に配置されたリーダライタ162と、リーダライタ162と後述する制御装置5とを接続する通信ケーブル163とを備える。 As shown in FIG. 4, the access unit 106 includes a housing 161, a reader / writer 162 arranged inside the housing 161 and a communication cable 163 for connecting the reader / writer 162 and the control device 5 described later. ..

リーダライタ162は、ブラシ141に関する情報をRFIDタグ145から読み出して通信ケーブル163を介して制御装置5へ送信する。また、リーダライタ162は、制御装置5から通信ケーブル163を介して送信される情報をRFIDタグ145へ書き込む。 The reader / writer 162 reads information about the brush 141 from the RFID tag 145 and transmits the information to the control device 5 via the communication cable 163. Further, the reader / writer 162 writes the information transmitted from the control device 5 via the communication cable 163 to the RFID tag 145.

ここで、RFIDタグ145へ書き込まれる情報としては、たとえば、「使用圧力」、「使用時間」、「使用圧力および使用時間の積算値」、「使用装置」、「使用モジュール」、「使用済みフラグ」等がある。 Here, as the information written to the RFID tag 145, for example, "use pressure", "use time", "integrated value of use pressure and use time", "use device", "use module", "used flag". "And so on.

「使用圧力」は、ブラシ141の使用圧力を示す情報である。「使用時間」は、ブラシ141の使用時間を示す情報である。「使用圧力および使用時間の積算値」は、上記「使用圧力」に上記「使用時間」を乗じた値である。たとえばブラシ141を交換する際に、これらの情報をRFIDタグ145に書き込むことで、交換に至るまでのブラシ141の使用状況を容易に把握することができ、新規ブラシの開発や品質管理に役立つ。 The "working pressure" is information indicating the working pressure of the brush 141. The "use time" is information indicating the use time of the brush 141. The "integrated value of working pressure and working time" is a value obtained by multiplying the above "working pressure" by the above "using time". For example, when the brush 141 is replaced, by writing this information on the RFID tag 145, the usage status of the brush 141 up to the replacement can be easily grasped, which is useful for the development of a new brush and quality control.

「使用装置」は、ブラシ141が使用された基板処理装置1を識別する情報である。また、「使用モジュール」は、ブラシ141が使用された処理部18を識別する情報である。たとえばブラシ141を交換する際に、これらの情報をRFIDタグ145に書き込むことで、どの基板処理装置1のどの処理部18で使用されていたブラシ141であるかを容易に把握することができる。 The “device used” is information for identifying the substrate processing device 1 in which the brush 141 is used. Further, the "use module" is information for identifying the processing unit 18 in which the brush 141 is used. For example, when the brush 141 is replaced, by writing this information on the RFID tag 145, it is possible to easily grasp which processing unit 18 of which substrate processing device 1 is the brush 141 used.

「使用済みフラグ」は、ブラシ141が使用済みであることを示す情報である。たとえばブラシ141を交換する際に、「使用済みフラグ」をRFIDタグ145に書き込むことで、たとえば、使用済みのブラシ141が再度利用されることを防止することができる。また、たとえば、使用済みのブラシ141からRFIDタグ145を取り出し、取り出したRFIDタグ145を模倣品のブラシに取り付けた場合であっても、かかる模倣品の使用を防止することができる。 The "used flag" is information indicating that the brush 141 has been used. For example, when the brush 141 is replaced, the "used flag" can be written on the RFID tag 145 to prevent the used brush 141 from being reused, for example. Further, for example, even when the RFID tag 145 is taken out from the used brush 141 and the taken out RFID tag 145 is attached to the brush of the counterfeit product, the use of the counterfeit product can be prevented.

このように、アクセス部106のリーダライタ162は、RFIDタグ145からブラシ141に関する情報を読み出す情報読出部の一例である。また、リーダライタ162は、RFIDタグ145に対し、ブラシ141が使用済みであることを示す情報を書き込む情報書込部の一例でもある。 As described above, the reader / writer 162 of the access unit 106 is an example of an information reading unit that reads information about the brush 141 from the RFID tag 145. Further, the reader / writer 162 is also an example of an information writing unit for writing information indicating that the brush 141 has been used for the RFID tag 145.

RFIDタグ145に対する情報の読み出しや書き込みをウェハWの近傍で行うと、ウェハWが電磁波の影響を受けるおそれがある。また、アクセス部106は、処理液が直接かからない位置に設置することが好ましい。このため、図3に示すように、アクセス部106は、ブラシ141の待機位置に配置される。具体的には、アクセス部106は、RFIDタグ145との通信可能範囲に待機位置を含み、かつ、基板保持部102に保持されたウェハWが含まない位置を通信可能範囲に含まない位置に配置される。 If information is read or written to the RFID tag 145 in the vicinity of the wafer W, the wafer W may be affected by electromagnetic waves. Further, it is preferable to install the access unit 106 at a position where the treatment liquid does not directly come into contact with the access unit 106. Therefore, as shown in FIG. 3, the access unit 106 is arranged at the standby position of the brush 141. Specifically, the access unit 106 is arranged at a position that includes the standby position in the communicable range with the RFID tag 145 and does not include the wafer W held by the substrate holding unit 102 in the communicable range. Will be done.

図2に示すように、基板処理装置1は、制御装置5をさらに備える。制御装置5は、基板処理装置1の動作を制御する。具体的には、搬送装置13は、制御装置5の制御に従って、カセットCから未処理のウェハWを複数枚まとめて取り出して受渡部22に収容する。つづいて、搬送装置17は、制御装置5の制御に従って、受渡部22からウェハWを取り出して処理部18へ搬送する。 As shown in FIG. 2, the substrate processing device 1 further includes a control device 5. The control device 5 controls the operation of the substrate processing device 1. Specifically, the transfer device 13 takes out a plurality of unprocessed wafers W from the cassette C together and accommodates them in the delivery unit 22 under the control of the control device 5. Subsequently, the transfer device 17 takes out the wafer W from the delivery unit 22 and transfers it to the processing unit 18 under the control of the control device 5.

つづいて、処理部18は、制御装置5の制御に従って、ウェハWに対してブラシ141を用いた洗浄処理を行う。ここで、洗浄処理の手順の一例について説明する。 Subsequently, the processing unit 18 performs a cleaning process using the brush 141 on the wafer W under the control of the control device 5. Here, an example of the procedure of the cleaning process will be described.

まず、処理部18は、搬送装置17によって搬入されたウェハWの周縁部を基板保持部102で保持する。また、処理部18は、駆動部124を駆動させることで、ウェハWを所定の回転数で回転させる。 First, the processing unit 18 holds the peripheral edge portion of the wafer W carried in by the transport device 17 by the substrate holding unit 102. Further, the processing unit 18 drives the drive unit 124 to rotate the wafer W at a predetermined rotation speed.

つづいて、処理部18は、旋回昇降機構144を駆動させることで、ブラシ141を待機位置から処理位置に移動させる。また、処理部18は、旋回昇降機構144および図示しない回転機構を駆動させることで、ブラシ141を回転させるとともに、回転するブラシ141をウェハWに対して所定の押圧力で押し付ける。そして、処理部18は、旋回昇降機構144を駆動させることで、ブラシ141をウェハWの中心から外周へ向けて移動させる。その際、処理部18は、バルブ146を開くことで、ブラシ141の中空部からウェハWに向けて処理液を供給する。これにより、ウェハWに付着したパーティクル等がブラシ141によって除去される。その後、処理部18は、バルブ146を閉じ、図示しない回転機構を停止した後、旋回昇降機構144を駆動させてブラシ141を待機位置へ移動させる。 Subsequently, the processing unit 18 moves the brush 141 from the standby position to the processing position by driving the swivel elevating mechanism 144. Further, the processing unit 18 rotates the brush 141 by driving the swivel elevating mechanism 144 and the rotation mechanism (not shown), and presses the rotating brush 141 against the wafer W with a predetermined pressing force. Then, the processing unit 18 drives the swivel elevating mechanism 144 to move the brush 141 from the center of the wafer W toward the outer circumference. At that time, the processing unit 18 supplies the processing liquid from the hollow portion of the brush 141 toward the wafer W by opening the valve 146. As a result, the particles and the like adhering to the wafer W are removed by the brush 141. After that, the processing unit 18 closes the valve 146, stops the rotation mechanism (not shown), and then drives the swivel elevating mechanism 144 to move the brush 141 to the standby position.

つづいて、処理部18は、旋回昇降機構153を制御して、ノズル151の待機位置から処理位置へ移動させた後、バルブ156を開いてノズル151からウェハWへリンス液を供給する。これにより、ウェハW上に残存する処理液やパーティクル等がリンス液とともにウェハWから排出される。その後、処理部18は、バルブ156を閉じ、旋回昇降機構153を駆動させてノズル151を待機位置へ移動させる。 Subsequently, the processing unit 18 controls the swivel elevating mechanism 153 to move the nozzle 151 from the standby position to the processing position, and then opens the valve 156 to supply the rinse liquid from the nozzle 151 to the wafer W. As a result, the processing liquid, particles, and the like remaining on the wafer W are discharged from the wafer W together with the rinsing liquid. After that, the processing unit 18 closes the valve 156 and drives the swivel elevating mechanism 153 to move the nozzle 151 to the standby position.

つづいて、処理部18は、駆動部124によるウェハWの回転を増速させることにより、ウェハWを乾燥させた後、駆動部124を停止させる。これにより、処理部18による洗浄処理が終了する。 Subsequently, the processing unit 18 accelerates the rotation of the wafer W by the drive unit 124 to dry the wafer W and then stops the drive unit 124. As a result, the cleaning process by the processing unit 18 is completed.

洗浄処理が終了すると、搬送装置17は、制御装置5の制御に従って、処理済みのウェハWを処理部18から取り出して受渡部22に収容する。そして、搬送装置13は、制御装置5の制御に従って、処理済みのウェハWを受渡部22から複数枚まとめて取り出してカセットCへ収容する。これにより、基板処理装置1による一連の基板処理が終了する。 When the cleaning process is completed, the transfer device 17 takes out the processed wafer W from the processing unit 18 and accommodates it in the delivery unit 22 under the control of the control device 5. Then, according to the control of the control device 5, the transfer device 13 takes out a plurality of processed wafers W from the delivery unit 22 and stores them in the cassette C. As a result, a series of substrate processing by the substrate processing apparatus 1 is completed.

次に、制御装置5の具体的構成例について図5を参照して説明する。図5は、第1の実施形態に係る制御装置5の構成を示すブロック図である。 Next, a specific configuration example of the control device 5 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of the control device 5 according to the first embodiment.

制御装置5は、制御部51と、記憶部52とを備える。また、制御部51は、情報取得部511と、パラメータ設定部512と、認証処理部513と、レシピ実行部514と、使用状況取得部515と、残寿命算出部516と、書込制御部517とを備える。記憶部52は、ブラシ情報521と、レシピ情報522と、使用状況情報523とを記憶する。ここで、制御装置5は、たとえば、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、HDD(Hard Disk Drive)、入出力ポートなどを有するコンピュータや各種の回路を含む。 The control device 5 includes a control unit 51 and a storage unit 52. Further, the control unit 51 includes an information acquisition unit 511, a parameter setting unit 512, an authentication processing unit 513, a recipe execution unit 514, a usage status acquisition unit 515, a remaining life calculation unit 516, and a write control unit 517. And prepare. The storage unit 52 stores brush information 521, recipe information 522, and usage status information 523. Here, the control device 5 includes, for example, a computer having a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), an HDD (Hard Disk Drive), an input / output port, and various circuits. include.

コンピュータのCPUは、たとえば、ROMに記憶されたプログラムを読み出して実行する。これにより、コンピュータのCPUは、制御部51の情報取得部511、パラメータ設定部512、認証処理部513、レシピ実行部514、使用状況取得部515、残寿命算出部516および書込制御部517として機能する。情報取得部511、パラメータ設定部512、認証処理部513、レシピ実行部514、使用状況取得部515、残寿命算出部516および書込制御部517の少なくとも一つまたは全部は、ハードウェアで構成されてもよい。ハードウェハは、たとえば、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)やFPGA(Field Programmable Gate Array)等である。 The CPU of the computer reads, for example, a program stored in the ROM and executes it. As a result, the CPU of the computer can be used as an information acquisition unit 511, a parameter setting unit 512, an authentication processing unit 513, a recipe execution unit 514, a usage status acquisition unit 515, a remaining life calculation unit 516, and a write control unit 517 of the control unit 51. Function. At least one or all of the information acquisition unit 511, the parameter setting unit 512, the authentication processing unit 513, the recipe execution unit 514, the usage status acquisition unit 515, the remaining life calculation unit 516, and the write control unit 517 are composed of hardware. You may. The hard wafer is, for example, an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), an FPGA (Field Programmable Gate Array), or the like.

また、記憶部52は、たとえば、RAMやHDDに対応する。RAMやHDDは、ブラシ情報521、レシピ情報522および使用状況情報523を記憶することができる。なお、制御装置5は、有線や無線のネットワークで接続された他のコンピュータや可搬型記憶媒体を介して上記したプログラムや各種情報を取得することとしてもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、例えばハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリカードなどがある。 Further, the storage unit 52 corresponds to, for example, a RAM or an HDD. The RAM or HDD can store brush information 521, recipe information 522, and usage status information 523. The control device 5 may acquire the above-mentioned programs and various information via another computer or a portable storage medium connected by a wired or wireless network. Examples of the storage medium readable by a computer include a hard disk (HD), a flexible disk (FD), a compact disk (CD), a magnetic optical disk (MO), and a memory card.

情報取得部511は、アクセス部106によってRFIDタグ145から読み出された情報を通信ケーブル163を介して取得する。また、情報取得部511は、取得した情報をブラシ情報521として記憶部52に記憶させる。 The information acquisition unit 511 acquires the information read from the RFID tag 145 by the access unit 106 via the communication cable 163. Further, the information acquisition unit 511 stores the acquired information as brush information 521 in the storage unit 52.

たとえば、情報取得部511は、ブラシ141がアーム143に取り付けられたことを図示しないセンサにより検知した場合に、アクセス部106に対し、RFIDタグ145からの情報の読み出しを行わせてもよい。これにより、新たに取り付けられたブラシ141に関する情報を取得することができる。なお、情報取得部511は、ブラシ141がアーム143に取り付けられたことをユーザによる入力部108への入力操作により検知してもよい。 For example, when the information acquisition unit 511 detects that the brush 141 is attached to the arm 143 by a sensor (not shown), the information acquisition unit 106 may cause the access unit 106 to read information from the RFID tag 145. This makes it possible to obtain information about the newly attached brush 141. The information acquisition unit 511 may detect that the brush 141 is attached to the arm 143 by an input operation to the input unit 108 by the user.

ここで、ブラシ情報521の内容について図6を参照して説明する。図6は、ブラシ情報521の一例を示す図である。 Here, the contents of the brush information 521 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram showing an example of brush information 521.

図6に示すように、ブラシ情報521には、「ブラシ種類」、「シリアルナンバー」、「部品番号」、「耐圧」、「使用圧力範囲」、「寿命」および「認証コード」等が関連付けて記憶される。 As shown in FIG. 6, the brush information 521 is associated with a "brush type", a "serial number", a "part number", a "pressure resistance", a "working pressure range", a "lifetime", an "authentication code", and the like. It will be remembered.

たとえば、情報取得部511は、ブラシ141の情報として、ブラシ種類「D」、シリアルナンバー「a4」、部品番号「b4」、耐圧「c4」、使用圧力範囲「d4~e4」、寿命「f4」および認証コード「g5」を取得したとする。この情報が新規である場合、つまり、ブラシ情報521として記憶部52に記憶されていない場合、情報取得部511は、取得したこれらの情報を記憶部52に記憶させる。 For example, the information acquisition unit 511 uses the brush type "D", the serial number "a4", the part number "b4", the withstand voltage "c4", the working pressure range "d4 to e4", and the life "f4" as the information of the brush 141. And it is assumed that the authentication code "g5" is acquired. When this information is new, that is, when it is not stored in the storage unit 52 as brush information 521, the information acquisition unit 511 stores the acquired information in the storage unit 52.

これにより、基板処理装置1に登録されていない新規なブラシがアーム143に取り付けられた場合でも、処理部18のレシピ情報に耐圧や使用圧力範囲の情報を自動的に反映させることができる。このため、新規のブラシを基板処理装置1に登録するためのソフトウェアのバージョンアップ等が不要となる。 As a result, even when a new brush not registered in the substrate processing apparatus 1 is attached to the arm 143, information on the pressure resistance and the working pressure range can be automatically reflected in the recipe information of the processing unit 18. Therefore, it is not necessary to upgrade the software for registering a new brush in the substrate processing device 1.

なお、制御部51は、情報取得部511によって取得された情報を基板処理装置1の表示部107に表示させる処理を行ってもよい。 The control unit 51 may perform a process of displaying the information acquired by the information acquisition unit 511 on the display unit 107 of the board processing apparatus 1.

パラメータ設定部512は、情報取得部511によって取得された情報を用いて基板処理のパラメータを設定する。具体的には、パラメータ設定部512は、情報取得部511によって取得されたブラシ141に関する情報を記憶部52に記憶されたレシピ情報522に反映させる。 The parameter setting unit 512 sets the parameters of the board processing using the information acquired by the information acquisition unit 511. Specifically, the parameter setting unit 512 reflects the information about the brush 141 acquired by the information acquisition unit 511 in the recipe information 522 stored in the storage unit 52.

レシピ情報522は、処理部18に対して実行させる処理の内容を示す情報、言い換えれば、ウェハWの処理条件を規定する情報である。レシピ情報522には、基板処理における各プロセスステップについての所要時間、ウェハWの回転速度、ブラシ141の位置(始点および終点)、使用圧力範囲および移動速度などのパラメータが含まれる。パラメータ設定部512は、情報取得部511によって取得された情報のうち、たとえば使用圧力範囲の値をレシピ情報522の使用圧力範囲のパラメータ値として反映させる。また、パラメータ設定部512は、使用圧力範囲以外の情報、たとえば、耐圧の情報等をレシピ情報522に反映させてもよい。 The recipe information 522 is information indicating the content of the processing to be executed by the processing unit 18, in other words, information defining the processing conditions of the wafer W. The recipe information 522 includes parameters such as the time required for each process step in substrate processing, the rotation speed of the wafer W, the position (start point and end point) of the brush 141, the working pressure range, and the moving speed. The parameter setting unit 512 reflects, for example, the value of the working pressure range among the information acquired by the information acquisition unit 511 as the parameter value of the working pressure range of the recipe information 522. Further, the parameter setting unit 512 may reflect information other than the working pressure range, for example, pressure resistance information, etc. in the recipe information 522.

このように、RFIDタグ145から読み出されたブラシ141に関する情報をレシピ情報522に自動的に反映させることで、ユーザの手動入力によるパラメータ設定が不要となる。したがって、パラメータ値の入力ミス等を防止することができる。また、ユーザがパラメータ値を手動で入力する手間を省くことができる。 As described above, by automatically reflecting the information about the brush 141 read from the RFID tag 145 in the recipe information 522, it is not necessary to manually input the parameters by the user. Therefore, it is possible to prevent an input error of a parameter value or the like. In addition, the user can save the trouble of manually inputting the parameter value.

なお、パラメータ設定部512は、たとえばユーザが手動で使用圧力範囲のパラメータ値を変更する場合に、耐圧を超えるパラメータ値の入力を禁止したり、入力されたパラメータ値が不適切である旨を表示部107に表示したりしてもよい。 In addition, the parameter setting unit 512 prohibits the input of the parameter value exceeding the withstand voltage when the user manually changes the parameter value in the working pressure range, or displays that the input parameter value is inappropriate. It may be displayed on the unit 107.

認証処理部513は、ユーザによって入力部108に入力されたコードが情報取得部511によって取得された認証コードと一致した場合に、基板処理の実行を許可する。 The authentication processing unit 513 permits the execution of the board processing when the code input to the input unit 108 by the user matches the authentication code acquired by the information acquisition unit 511.

たとえば、認証処理部513は、ブラシ141がアーム143に取り付けられたことを検知した場合に、ユーザに対して認証コードの入力を求める認証画面を表示部107に表示させる。ユーザによりコードが入力されると、認証処理部513は、入力されたコードと、情報取得部511によって取得された情報に含まれる認証コードとが一致するか否かを判定する。そして、両者が一致した場合に、認証処理部513は、たとえば記憶部52に許可フラグを記憶させる等により、基板処理の実行を許可する。 For example, when the authentication processing unit 513 detects that the brush 141 is attached to the arm 143, the authentication processing unit 513 causes the display unit 107 to display an authentication screen asking the user to input an authentication code. When the code is input by the user, the authentication processing unit 513 determines whether or not the input code matches the authentication code included in the information acquired by the information acquisition unit 511. Then, when the two match, the authentication processing unit 513 permits the execution of the board processing by, for example, storing the permission flag in the storage unit 52.

このように、ブラシ141の認証処理を行うことで、模倣品のブラシがアーム143に取り付けられて使用されることを未然に防止することができる。 By performing the authentication process of the brush 141 in this way, it is possible to prevent the counterfeit brush from being attached to the arm 143 and used.

レシピ実行部514は、レシピ情報522に基づいて処理部18の各部を制御することにより、処理部18に対して基板処理を実行させる。 The recipe execution unit 514 controls each unit of the processing unit 18 based on the recipe information 522 to cause the processing unit 18 to execute the substrate processing.

レシピ実行部514は、認証処理部513によって基板処理の実行が許可されていない場合には、ユーザによって基板処理の実行を指示された場合であっても、基板処理を実行しない。これにより、模倣品のブラシの使用を防止することができる。 The recipe execution unit 514 does not execute the board processing even if the user instructs the execution of the board processing when the authentication processing unit 513 does not permit the execution of the board processing. This makes it possible to prevent the use of counterfeit brushes.

使用状況取得部515は、ブラシ141の使用圧力および使用時間を含む使用状況を取得する。たとえば、洗浄部104には、ブラシ141の使用圧力(ウェハWに対する押圧力)を検知する圧力センサ109が設けられている。使用状況取得部515は、かかる圧力センサ109からブラシ141の使用圧力を取得し、取得した使用圧力の経時変化を使用状況情報523として記憶部52に記憶させる。なお、使用状況取得部515は、レシピ情報522および基板処理の実行回数等に基づいてブラシ141の使用圧力および使用時間を取得してもよい。 The usage status acquisition unit 515 acquires the usage status including the usage pressure and the usage time of the brush 141. For example, the cleaning unit 104 is provided with a pressure sensor 109 that detects the working pressure (pressing pressure on the wafer W) of the brush 141. The usage status acquisition unit 515 acquires the usage pressure of the brush 141 from the pressure sensor 109, and stores the acquired usage pressure change with time in the storage unit 52 as usage status information 523. The usage status acquisition unit 515 may acquire the usage pressure and the usage time of the brush 141 based on the recipe information 522, the number of times the substrate processing is executed, and the like.

また、たとえば、ブラシ141の寿命が使用圧力および使用時間の積算値により表される場合、使用状況取得部515は、使用圧力および使用時間の積算値を求めて使用状況情報523として記憶部52に記憶させてもよい。 Further, for example, when the life of the brush 141 is represented by the integrated value of the working pressure and the usage time, the usage status acquisition unit 515 obtains the integrated value of the usage pressure and the usage time and stores the usage status information 523 in the storage unit 52. You may memorize it.

また、使用状況取得部515は、その他の使用状況として、上述した「使用装置」、「使用モジュール」、「使用済みフラグ」の情報を使用状況情報523として記憶部52に記憶させてもよい。使用状況取得部515は、これらの情報を、たとえばそのブラシ141を用いた最初の基板処理が実行された場合に記憶部52に記憶させる。 Further, the usage status acquisition unit 515 may store the above-mentioned information of the "used device", "used module", and "used flag" as the usage status information 523 in the storage unit 52 as other usage status. The usage status acquisition unit 515 stores this information in the storage unit 52, for example, when the first substrate processing using the brush 141 is executed.

残寿命算出部516は、使用状況取得部515によって取得されたブラシ141の使用状況と、情報取得部511によって取得されたブラシ141の寿命に関する情報とに基づき、ブラシ141の残り寿命を算出する。 The remaining life calculation unit 516 calculates the remaining life of the brush 141 based on the usage status of the brush 141 acquired by the usage status acquisition unit 515 and the information regarding the life of the brush 141 acquired by the information acquisition unit 511.

たとえば、残寿命算出部516は、使用状況情報523として記憶された「使用圧力および使用時間の積算値」の情報を記憶部52から取り出し、情報取得部511によって取得された寿命との差分に基づいてブラシ141の残寿命を算出する。上記差分が大きいほどブラシ141の残寿命は長く、上記差分が小さいほどブラシ141の残寿命は短い。 For example, the remaining life calculation unit 516 retrieves the information of the "integrated value of the working pressure and the usage time" stored as the usage status information 523 from the storage unit 52, and is based on the difference from the life acquired by the information acquisition unit 511. The remaining life of the brush 141 is calculated. The larger the difference, the longer the remaining life of the brush 141, and the smaller the difference, the shorter the remaining life of the brush 141.

残寿命算出部516は、残寿命を常時算出し、算出した残寿命が閾値を下回った場合に、ブラシ141の交換を促す情報を表示部107に対して表示させたり、図示しない上位装置へ送信したりすることができる。 The remaining life calculation unit 516 constantly calculates the remaining life, and when the calculated remaining life falls below the threshold value, displays information prompting the replacement of the brush 141 on the display unit 107 or transmits it to a higher-level device (not shown). Can be done.

制御部51は、複数の処理部18間でブラシ141の交換時期が揃うように、複数の処理部18で使用される各ブラシ141の残寿命に基づき、複数の処理部18に対する基板処理の割り振りを決定してもよい。たとえば、制御部51は、残り寿命が長い処理部18に対し、残り寿命が短い処理部18よりも多くの基板処理を割り振ることで、これらの処理部18の交換時期を揃えることができる。これにより、処理部18の交換を効率的に行うことが可能となる。また、定期メンテナンスの計画立案が容易となる。 The control unit 51 allocates substrate processing to the plurality of processing units 18 based on the remaining life of each brush 141 used in the plurality of processing units 18 so that the replacement times of the brush 141 are aligned among the plurality of processing units 18. May be decided. For example, the control unit 51 can arrange the replacement time of these processing units 18 by allocating more substrate processing to the processing unit 18 having a long remaining life than the processing unit 18 having a short remaining life. This makes it possible to efficiently replace the processing unit 18. It also facilitates regular maintenance planning.

書込制御部517は、アクセス部106を制御して、使用状況情報523として記憶部52に記憶されている各種の情報をRFIDタグ145に書き込ませる。たとえば、書込制御部517は、ブラシ141が待機位置に移動するごとに、アクセス部106に対してRFIDタグ145に使用状況情報523を書き込ませてもよい。また、書込制御部517は、ブラシ141の交換時に、アクセス部106に対してRFIDタグ145に使用状況情報523を書き込ませてもよい。 The write control unit 517 controls the access unit 106 to write various information stored in the storage unit 52 as the usage status information 523 to the RFID tag 145. For example, the write control unit 517 may have the access unit 106 write the usage status information 523 to the RFID tag 145 each time the brush 141 moves to the standby position. Further, the write control unit 517 may have the access unit 106 write the usage status information 523 on the RFID tag 145 when the brush 141 is replaced.

次に、パラメータ設定処理の一例について図7を参照して説明する。図7は、パラメータ設定処理の一例を示すフローチャートである。なお、パラメータ設定処理は、たとえば、ブラシ141がアーム143に取り付けられたことが検知された場合に、実行される。 Next, an example of the parameter setting process will be described with reference to FIG. 7. FIG. 7 is a flowchart showing an example of the parameter setting process. The parameter setting process is executed, for example, when it is detected that the brush 141 is attached to the arm 143.

図7に示すように、制御部51は、まず、アクセス部106によってブラシ141に関する情報が読み取れたか否かを判定する(ステップS101)。 As shown in FIG. 7, the control unit 51 first determines whether or not the information regarding the brush 141 has been read by the access unit 106 (step S101).

つづいて、ステップS101においてブラシ141に関する情報が読み取れたと判定した場合(ステップS101,Yes)、制御部51は、取り付けられたブラシ141が未使用であるか否かを判定する(ステップS102)。たとえば、制御部51は、ブラシ141に関する情報に「使用済みフラグ」が含まれていない場合、取り付けられたブラシ141が未使用であると判定する。 Subsequently, when it is determined in step S101 that the information regarding the brush 141 has been read (steps S101, Yes), the control unit 51 determines whether or not the attached brush 141 is unused (step S102). For example, if the information about the brush 141 does not include the "used flag", the control unit 51 determines that the attached brush 141 is unused.

ステップS102において、ブラシ141が未使用であると判定した場合(ステップS102,Yes)、制御部51は、ブラシ141を認証できたか否かを判定する(ステップS103)。 When it is determined in step S102 that the brush 141 is unused (steps S102, Yes), the control unit 51 determines whether or not the brush 141 can be authenticated (step S103).

たとえば、制御部51は、RFIDタグ145から読み出されたブラシ種類等の情報を表示部107に表示させるとともに、ブラシ141の交換作業が完了したかどうかの確認を促す画面を表示部107に表示させる。また、制御部51は、ブラシ141の交換作業が完了したことを示す入力部108への入力操作がユーザによって行われた場合に、認証コードの入力を促す画面を表示部107に表示させる。そして、制御部51は、ユーザによって入力部108に入力されたコードが情報取得部511によって取得された認証コードと一致した場合に、ブラシ141を認証できたと判定する。 For example, the control unit 51 displays information such as the brush type read from the RFID tag 145 on the display unit 107, and displays a screen on the display unit 107 prompting to confirm whether or not the brush 141 replacement work has been completed. Let me. Further, the control unit 51 causes the display unit 107 to display a screen prompting the user to input the authentication code when the user performs an input operation to the input unit 108 indicating that the brush 141 replacement work is completed. Then, the control unit 51 determines that the brush 141 can be authenticated when the code input to the input unit 108 by the user matches the authentication code acquired by the information acquisition unit 511.

ステップS103においてブラシ141を認証できたと判定した場合(ステップS103,Yes)、制御部51は、たとえば記憶部52に許可フラグを記憶させる等により、基板処理の実行を許可する(ステップS104)。 When it is determined in step S103 that the brush 141 can be authenticated (steps S103, Yes), the control unit 51 permits the execution of the substrate processing by, for example, storing the permission flag in the storage unit 52 (step S104).

そして、制御部51は、パラメータ設定を行う(ステップS105)。すなわち、情報取得部511によって取得されたブラシ141に関する情報をレシピ情報522に反映させる。 Then, the control unit 51 sets the parameters (step S105). That is, the information about the brush 141 acquired by the information acquisition unit 511 is reflected in the recipe information 522.

一方、ステップS101において、ブラシ141に関する情報が読み取れなかった場合(ステップS101,No)、制御部51は、たとえば記憶部52に禁止フラグを記憶させる等により、基板処理の実行を禁止する(ステップS106)。禁止フラグが記憶されている場合、制御部51は、ユーザによって基板処理の実行を指示された場合であっても、基板処理を実行しない。これにより、模倣品のブラシの使用を防止することができる。 On the other hand, when the information about the brush 141 cannot be read in step S101 (step S101, No), the control unit 51 prohibits the execution of the substrate processing by, for example, storing the prohibition flag in the storage unit 52 (step S106). ). When the prohibition flag is stored, the control unit 51 does not execute the board processing even when the user instructs the board processing to be executed. This makes it possible to prevent the use of counterfeit brushes.

また、ステップS102において、ブラシ141が未使用でなかった場合(ステップS102,No)、すなわち、RFIDタグ145に使用済みのフラグが書き込まれていた場合も、制御部51は、基板処理の実行を禁止する(ステップS106)。これにより、使用済みのブラシ141が再度利用されることを防止することができる。また、たとえば、使用済みのブラシ141からRFIDタグ145を取り出し、取り出したRFIDタグ145を模倣品のブラシに取り付けた場合であっても、かかる模倣品の使用を防止することができる。 Further, in step S102, even when the brush 141 is not unused (step S102, No), that is, when the used flag is written in the RFID tag 145, the control unit 51 executes the board processing. Prohibit (step S106). This makes it possible to prevent the used brush 141 from being reused. Further, for example, even when the RFID tag 145 is taken out from the used brush 141 and the taken out RFID tag 145 is attached to the brush of the counterfeit product, the use of the counterfeit product can be prevented.

また、ステップS103において、ブラシ141が認証できなかった場合(ステップS103,No)にも、制御部51は、基板処理の実行を禁止する(ステップS106)。これにより、ブラシ141の不正使用等を防止することができる。 Further, even when the brush 141 cannot be authenticated in step S103 (steps S103, No), the control unit 51 prohibits the execution of the substrate processing (step S106). This makes it possible to prevent unauthorized use of the brush 141.

ステップS105またはステップS106の処理を終えたとき、制御部51は、パラメータ設定処理を終える。 When the process of step S105 or step S106 is completed, the control unit 51 ends the parameter setting process.

ところで、上述した例では、アクセス部106のリーダライタ162が待機位置に配置されることとしたが、リーダライタ162の配置は、本例に限定されない。リーダライタ162の配置の変形例について図8および図9を参照して説明する。図8は、第1の実施形態における第1の変形例に係るリーダライタ162の配置を示す図である。また、図9は、第1の実施形態における第2の変形例に係るリーダライタ162の配置を示す図である。 By the way, in the above-mentioned example, the reader / writer 162 of the access unit 106 is arranged at the standby position, but the arrangement of the reader / writer 162 is not limited to this example. A modified example of the arrangement of the reader / writer 162 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a diagram showing the arrangement of the reader / writer 162 according to the first modification in the first embodiment. Further, FIG. 9 is a diagram showing the arrangement of the reader / writer 162 according to the second modification in the first embodiment.

図8に示すように、リーダライタ162は、洗浄部104におけるアーム143の内部に配置されてもよい。なお、RFIDタグ145の通信方式が電磁誘導方式である場合は、通信距離が比較的短いため、アーム143内においてブラシ141に極力近い場所にリーダライタ162を配置することが好ましい。 As shown in FIG. 8, the reader / writer 162 may be arranged inside the arm 143 in the cleaning unit 104. When the communication method of the RFID tag 145 is the electromagnetic induction method, it is preferable to arrange the reader / writer 162 in the arm 143 at a position as close as possible to the brush 141 because the communication distance is relatively short.

また、図9に示すように、リーダライタ162は、ハンディタイプのアクセス部106Aの筐体161A内に配置されてもよい。この場合、アクセス部106Aをチャンバ101の外部に配置しておくことができるため、アクセス部106Aの汚損等を防止することができる。このように、リーダライタ162は、必ずしも処理部18に設けられることを要しない。 Further, as shown in FIG. 9, the reader / writer 162 may be arranged in the housing 161A of the handy type access unit 106A. In this case, since the access unit 106A can be arranged outside the chamber 101, it is possible to prevent the access unit 106A from being soiled or the like. As described above, the reader / writer 162 does not necessarily have to be provided in the processing unit 18.

また、上記の例では、RFIDタグ145をブラシ141に埋め込むこととしたが、RFIDタグ145は、必ずしもブラシ141に埋め込まれることを要しない。たとえば、ブラシ141の周面にRFIDタグ145を貼り付けて樹脂部材でモールドしてもよい。 Further, in the above example, the RFID tag 145 is embedded in the brush 141, but the RFID tag 145 does not necessarily have to be embedded in the brush 141. For example, the RFID tag 145 may be attached to the peripheral surface of the brush 141 and molded with a resin member.

上述した第1の実施形態では、ブラシ141に関する情報を保持する情報保持部の一例として、RFIDタグ145を挙げて説明したが、情報保持部は、RFIDタグ145に限らず、たとえば、バーコードであってもよい。バーコードは、情報を読み出す際に電波を利用しないため、他の機器への影響が少ないというメリットがある。 In the first embodiment described above, the RFID tag 145 has been described as an example of the information holding unit that holds information about the brush 141, but the information holding unit is not limited to the RFID tag 145, and is, for example, a barcode. There may be. Barcodes do not use radio waves when reading information, so they have the advantage of having little effect on other devices.

そこで、第2の実施形態では、情報保持部がバーコードである場合の例について説明する。なお、ここでは、一次元バーコードを例に挙げて説明するが、一次元バーコードに限らず二次元バーコードであってもよい。 Therefore, in the second embodiment, an example in which the information holding unit is a barcode will be described. Here, a one-dimensional bar code will be described as an example, but the bar code is not limited to the one-dimensional bar code and may be a two-dimensional bar code.

図10は、第2の実施形態に係る洗浄部およびアクセス部の構成の一例を示す図である。また、図11および図12は、第2の実施形態に係る洗浄部およびアクセス部の構成の他の一例を示す図であり、図13は、第2の実施形態に係るアクセス部の構成の他の一例を示す図である。 FIG. 10 is a diagram showing an example of the configuration of the cleaning unit and the access unit according to the second embodiment. 11 and 12 are views showing another example of the configuration of the cleaning unit and the access unit according to the second embodiment, and FIG. 13 is a diagram showing another configuration of the access unit according to the second embodiment. It is a figure which shows an example.

図10に示すように、第2の実施形態に係る洗浄部104Bは、ブラシ141にバーコード145Bが設けられる。バーコード145Bは、ブラシ141の周面に印字されてもよい。この場合、バーコード145Bが印字されたブラシ141の周面を透明かつ耐薬品性のある保護部材で保護することが好ましい。これにより、バーコード145Bの汚損や劣化を抑制することができ、なお、保護部材としては、たとえばFEP等のフッ素樹脂を用いることが好ましい。 As shown in FIG. 10, in the cleaning unit 104B according to the second embodiment, the brush 141 is provided with the barcode 145B. The barcode 145B may be printed on the peripheral surface of the brush 141. In this case, it is preferable to protect the peripheral surface of the brush 141 on which the barcode 145B is printed with a transparent and chemical resistant protective member. As a result, it is possible to suppress contamination and deterioration of the barcode 145B, and it is preferable to use a fluororesin such as FEP as the protective member.

バーコード145Bは、ブラシ141に設けられており、ブラシ141は、処理部18に対して着脱自在である。したがって、バーコード145Bも、処理部18に対して着脱自在である。 The barcode 145B is provided on the brush 141, and the brush 141 is removable from the processing unit 18. Therefore, the barcode 145B is also detachable from the processing unit 18.

アクセス部106Bは、筐体161Bと、筐体161Bの内部に配置されたバーコードリーダ162B(情報読出部の一例)と、バーコードリーダ162Bと制御装置5とを接続する通信ケーブル163Bとを備える。アクセス部106Bは、たとえば待機位置に配置される。 The access unit 106B includes a housing 161B, a barcode reader 162B (an example of an information reading unit) arranged inside the housing 161B, and a communication cable 163B for connecting the barcode reader 162B and the control device 5. .. The access unit 106B is arranged at, for example, a standby position.

また、図11に示すように、アクセス部106Cは、洗浄部104Bのアーム143に取り付けられ、アーム143と一体的に移動可能に構成されてもよい。 Further, as shown in FIG. 11, the access unit 106C may be attached to the arm 143 of the cleaning unit 104B and may be configured to be integrally movable with the arm 143.

この場合、筐体161Cは、たとえば、アーム143に沿って水平方向に延在する水平部分と、水平部分の先端からブラシ141の高さ位置まで下方に延在する鉛直部分とを有していてもよい。そして、バーコードリーダ162Bは、筐体161Cの鉛直部分の下部においてバーコード145Bと対向する位置に配置されてもよい。また、通信ケーブル163Bは、アーム143の内部に挿通されてもよい。 In this case, the housing 161C has, for example, a horizontal portion extending horizontally along the arm 143 and a vertical portion extending downward from the tip of the horizontal portion to the height position of the brush 141. May be good. The barcode reader 162B may be arranged at a position facing the barcode 145B at the lower portion of the vertical portion of the housing 161C. Further, the communication cable 163B may be inserted inside the arm 143.

また、図12に示すように、バーコードリーダ162Bは、ハンディタイプのアクセス部106Dの筐体161D内に配置されてもよい。この場合、アクセス部106Dをチャンバ101の外部に配置しておくことができるため、アクセス部106Dの汚損等を防止することができる。 Further, as shown in FIG. 12, the barcode reader 162B may be arranged in the housing 161D of the handy type access unit 106D. In this case, since the access unit 106D can be arranged outside the chamber 101, it is possible to prevent the access unit 106D from being soiled or the like.

また、バーコード145Bは、アクセス部106B~106Dにより読み出し可能な位置であれば、ブラシ141以外の場所に設けられてもよい。たとえば、図13に示すように、バーコード145Bは、洗浄部104Bのアーム143に設けられてもよい。この場合、たとえばバーコード145Bが印字されたシールとブラシ141とを一組とし、ブラシ141をアーム143に取り付けるとともに、アクセス部106B~106Dにより読み出し可能な位置にバーコード145Bのシールを貼り付ける運用が考えられる。バーコード145Bが設けられる位置は、ブラシ141との対応関係がわかる場所であることが好ましい。このような観点から、バーコード145Bが設けられる位置は、少なくとも処理部18の何れかの場所であって、アクセス部106B~106Dにより読み出し可能な位置であることが好ましく、より好ましくは、ブラシ141の近傍である。 Further, the barcode 145B may be provided at a position other than the brush 141 as long as it can be read by the access units 106B to 106D. For example, as shown in FIG. 13, the barcode 145B may be provided on the arm 143 of the cleaning unit 104B. In this case, for example, a sticker on which the barcode 145B is printed and a brush 141 are set as a set, the brush 141 is attached to the arm 143, and the barcode 145B sticker is attached to a position readable by the access units 106B to 106D. Can be considered. The position where the barcode 145B is provided is preferably a place where the correspondence with the brush 141 can be understood. From such a viewpoint, the position where the barcode 145B is provided is preferably at least one of the processing units 18 and is a position that can be read by the access units 106B to 106D, and more preferably the brush 141. Is in the vicinity of.

第2の実施形態において、情報取得部511は、交換作業等によってブラシ141がアーム143に取り付けられたことを図示しないセンサにより検知した場合に、アクセス部106B~106Dに対してバーコード145Bからの情報の読み出しを行わせる。そして、パラメータ設定部512は、情報取得部511によって取得された情報を用いて基板処理のパラメータを設定する。これにより、処理部18のレシピ情報に耐圧や使用圧力範囲の情報を自動的に反映させることができる。 In the second embodiment, when the information acquisition unit 511 detects that the brush 141 is attached to the arm 143 by a sensor (not shown) due to replacement work or the like, the information acquisition unit 511 uses the barcode 145B for the access units 106B to 106D. Have the information read out. Then, the parameter setting unit 512 sets the parameters of the substrate processing using the information acquired by the information acquisition unit 511. As a result, information on the pressure resistance and the working pressure range can be automatically reflected in the recipe information of the processing unit 18.

情報保持部は、RFIDタグ145およびバーコード145Bに限定されない。たとえば、情報保持部は、ロータリーエンコーダの回転板であってもよい。 The information holding unit is not limited to the RFID tag 145 and the barcode 145B. For example, the information holding unit may be a rotary plate of a rotary encoder.

そこで、第3の実施形態では、情報保持部がロータリーエンコーダの回転板である場合の例について図14~図16を参照して説明する。図14は、第3の実施形態に係る洗浄部の構成を示す図である。また、図15は、回転板の構成の一例を示す図である。また、図16は、ロータリーエンコーダによって検出されるパルスのデューティ比の一例を示す図である。 Therefore, in the third embodiment, an example in which the information holding unit is a rotary plate of the rotary encoder will be described with reference to FIGS. 14 to 16. FIG. 14 is a diagram showing the configuration of the cleaning unit according to the third embodiment. Further, FIG. 15 is a diagram showing an example of the configuration of the rotating plate. Further, FIG. 16 is a diagram showing an example of the duty ratio of the pulse detected by the rotary encoder.

図14に示すように、洗浄部104Eは、ブラシ141の回転数を検出するためのロータリーエンコーダ106Eを備える。ロータリーエンコーダ106Eは、回転板145Eと、センサ部162E(情報読出部の一例)とを備える。回転板145Eは、スピンドル142に対して着脱自在に取り付けられ、スピンドル142と一体的に回転する。 As shown in FIG. 14, the cleaning unit 104E includes a rotary encoder 106E for detecting the rotation speed of the brush 141. The rotary encoder 106E includes a rotary plate 145E and a sensor unit 162E (an example of an information reading unit). The rotary plate 145E is detachably attached to the spindle 142 and rotates integrally with the spindle 142.

回転板145Eには、複数のスリット145E1が周方向の沿って一定のピッチで配列されている(図15参照)。センサ部162Eは、発光部と受光部とを有し、発光部および受光部は回転板145Eを挟んで対向配置される。また、ここでは、図示を省略するが、発光部と回転板145Eとの間には、回転板145Eと同ピッチのスリットを有する固定スリット板が配置される。 A plurality of slits 145E1 are arranged on the rotating plate 145E at a constant pitch along the circumferential direction (see FIG. 15). The sensor unit 162E has a light emitting unit and a light receiving unit, and the light emitting unit and the light receiving unit are arranged so as to face each other with the rotating plate 145E interposed therebetween. Further, although not shown here, a fixed slit plate having slits having the same pitch as the rotating plate 145E is arranged between the light emitting portion and the rotating plate 145E.

また、洗浄部104Eは、スピンドル142を回転させるモータ等の駆動部110を備える。駆動部110とスピンドル142とは、たとえば、プーリ111,112および伝達ベルト113によって接続される。ロータリーエンコーダ106E、駆動部110、プーリ111,112および伝達ベルト113は、アーム143(ここでは図示せず)内に収容される。 Further, the cleaning unit 104E includes a drive unit 110 such as a motor that rotates the spindle 142. The drive unit 110 and the spindle 142 are connected by, for example, pulleys 111 and 112 and a transmission belt 113. The rotary encoder 106E, the drive unit 110, the pulleys 111, 112, and the transmission belt 113 are housed in the arm 143 (not shown here).

ロータリーエンコーダ106Eは、センサ部162Eの発光部から受光部へ向けて光を照射する。このとき、回転板145Eがスピンドル142の回転に伴って回転すると、1ピッチの回転ごとに、1つの波形(パルス)が受光部によって検出される。制御部51は、受光部によって検出されたパルスの数をカウントし、単位時間あたりのパルスのカウント数からブラシ141の回転数を検出する。 The rotary encoder 106E irradiates light from the light emitting unit of the sensor unit 162E toward the light receiving unit. At this time, when the rotating plate 145E rotates with the rotation of the spindle 142, one waveform (pulse) is detected by the light receiving unit for each rotation of one pitch. The control unit 51 counts the number of pulses detected by the light receiving unit, and detects the rotation speed of the brush 141 from the number of pulse counts per unit time.

第3の実施形態において、回転板145Eに形成される複数のスリット145E1は、個々のブラシ141に特有のパターンで形成される。具体的には、複数のスリット145E1の幅が、複数のブラシ141間で異なるように形成される。一方、複数のスリット145E1のピッチは、複数のブラシ141間で同一となるように形成される。言い換えれば、複数のスリット145E1の個数、すなわち、回転板145Eが1回転するまでの間に検出されるパルスの数は、複数のブラシ141間で同一となるように形成される。 In the third embodiment, the plurality of slits 145E1 formed in the rotating plate 145E are formed in a pattern peculiar to each brush 141. Specifically, the widths of the plurality of slits 145E1 are formed so as to be different among the plurality of brushes 141. On the other hand, the pitches of the plurality of slits 145E1 are formed to be the same among the plurality of brushes 141. In other words, the number of the plurality of slits 145E1, that is, the number of pulses detected until the rotating plate 145E makes one rotation is formed to be the same among the plurality of brushes 141.

このように、複数のスリット145E1の幅は、複数のブラシ141間で異なるように形成されている。このため、図16に示すように、センサ部162Eから出力されるパルスのデューティ比(τ/T)は、個々のブラシ141(ここでは、ブラシA~ブラシC)に固有の値となる。 As described above, the widths of the plurality of slits 145E1 are formed to be different among the plurality of brushes 141. Therefore, as shown in FIG. 16, the duty ratio (τ / T) of the pulse output from the sensor unit 162E is a value peculiar to each brush 141 (here, brushes A to C).

第3の実施形態において、記憶部52には、たとえば、図6に示すブラシ情報521の各項目に加え、デューティ比の項目をさらに含むブラシ情報が記憶される。また、第3の実施形態において、制御部51の情報取得部511は、センサ部162Eから出力されるパルスのデューティ比を算出する。そして、情報取得部511は、算出したデューティ比に関連付けられたブラシ種類、耐圧等の情報をブラシ141に関する情報として記憶部52から取得することができる。 In the third embodiment, in the storage unit 52, for example, in addition to each item of the brush information 521 shown in FIG. 6, brush information including a duty ratio item is stored. Further, in the third embodiment, the information acquisition unit 511 of the control unit 51 calculates the duty ratio of the pulse output from the sensor unit 162E. Then, the information acquisition unit 511 can acquire information such as the brush type and the withstand voltage associated with the calculated duty ratio from the storage unit 52 as information regarding the brush 141.

上述してきたように、実施形態に係る基板処理装置1は、処理部18と、情報保持部(一例として、RFIDタグ145、バーコード145Bおよび回転板145E)と、情報取得部511とを備える。処理部18は、ブラシ141を用いた基板処理を行う。情報保持部は、処理部18に設けられ、ブラシ141に関する情報を保持する。情報取得部511は、情報保持部から読み出された情報を取得する。 As described above, the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment includes a processing unit 18, an information holding unit (for example, an RFID tag 145, a barcode 145B, and a rotary plate 145E), and an information acquisition unit 511. The processing unit 18 performs substrate processing using the brush 141. The information holding unit is provided in the processing unit 18 and holds information about the brush 141. The information acquisition unit 511 acquires the information read from the information holding unit.

このように、実施形態に係る基板処理装置1は、ブラシ141に関する情報を保持する情報保持部から読み出された情報を取得することで、パラメータ管理や品質管理といったブラシ141の管理を容易化することができる。 As described above, the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment facilitates the management of the brush 141 such as parameter management and quality control by acquiring the information read from the information holding unit that holds the information about the brush 141. be able to.

また、実施形態に係る基板処理装置1において、情報保持部は、RFIDタグ145であってもよい。情報保持部としてRFIDタグ145を使用することで、RFIDタグ145から情報を読み出すだけでなく、RFIDタグ145に情報を書き込むことも可能である。また、RFIDタグ145は、部品の内部に埋め込まれた状態でも情報を読み出すことができるため、処理液の影響を受けにくくすることが容易である。 Further, in the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment, the information holding unit may be an RFID tag 145. By using the RFID tag 145 as the information holding unit, it is possible not only to read the information from the RFID tag 145 but also to write the information to the RFID tag 145. Further, since the RFID tag 145 can read information even when it is embedded inside the component, it is easy to make it less susceptible to the influence of the processing liquid.

また、実施形態に係る基板処理装置1において、情報保持部は、バーコード145Bであってもよい。バーコード145Bは、情報を読み出す際に電波を利用しないため、他の機器への影響が少ないというメリットがある。 Further, in the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment, the information holding unit may be a barcode 145B. Since the barcode 145B does not use radio waves when reading information, it has an advantage that it has little influence on other devices.

また、実施形態に係る基板処理装置1は、情報保持部からブラシ141に関する情報を読み出す情報読出部(一例として、リーダライタ162、バーコードリーダ162Bおよびセンサ部162E)を備えていてもよい。また、処理部18は、ブラシ141を支持し、基板(一例として、ウェハW)の上方における処理位置と基板の外方における待機位置との間でブラシ141を移動させるアーム143を備えていてもよい。また、情報保持部は、ブラシ141またはアーム143に設けられ、情報読出部は、待機位置に配置されてもよい。 Further, the substrate processing device 1 according to the embodiment may include an information reading unit (for example, a reader / writer 162, a barcode reader 162B, and a sensor unit 162E) that reads information about the brush 141 from the information holding unit. Further, even if the processing unit 18 is provided with an arm 143 that supports the brush 141 and moves the brush 141 between the processing position above the substrate (for example, the wafer W) and the standby position outside the substrate. good. Further, the information holding unit may be provided on the brush 141 or the arm 143, and the information reading unit may be arranged at the standby position.

これにより、たとえば、情報保持部がRFIDタグ145である場合には、RFIDタグ145から情報を読み出す際に、ウェハWが電磁波の影響を受けることを抑制することができる。また、情報読出部を待機位置に配置することで、情報読出部に処理液がかかり難くすることができる。 Thereby, for example, when the information holding unit is the RFID tag 145, it is possible to suppress the influence of the electromagnetic wave on the wafer W when reading the information from the RFID tag 145. Further, by arranging the information reading unit at the standby position, it is possible to prevent the processing liquid from being applied to the information reading unit.

また、実施形態に係る基板処理装置1において、情報保持部は、ブラシ141の回転軸(一例として、スピンドル142)に取り付けられたロータリーエンコーダ106Eの回転板145Eであってもよい。この場合、回転板145Eは、ブラシ141に応じたパターンで周方向に配列された複数のスリット145E1を有していてもよい。 Further, in the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment, the information holding unit may be the rotary plate 145E of the rotary encoder 106E attached to the rotary shaft (for example, the spindle 142) of the brush 141. In this case, the rotating plate 145E may have a plurality of slits 145E1 arranged in the circumferential direction in a pattern corresponding to the brush 141.

このように、ブラシ141に応じたパターンで周方向に配列された複数のスリット145E1を回転板145Eに設けることで、たとえば、ロータリーエンコーダ106Eによって検出されるパルスのデューティ比によりブラシ141を識別することができる。 By providing the rotating plate 145E with a plurality of slits 145E1 arranged in the circumferential direction in a pattern corresponding to the brush 141 in this way, for example, the brush 141 can be identified by the duty ratio of the pulse detected by the rotary encoder 106E. Can be done.

また、実施形態に係る基板処理装置1は、情報取得部511によって取得された情報を用いて基板処理のパラメータを設定するパラメータ設定部512を備えていてもよい。これにより、たとえば、ユーザの手動入力によるパラメータ設定が不要となるため、パラメータ値の入力ミス等を防止することができる。また、ユーザがパラメータ値を手動で入力する手間を省くことができる。 Further, the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment may include a parameter setting unit 512 that sets parameters for substrate processing using the information acquired by the information acquisition unit 511. This eliminates the need for parameter setting by manual input by the user, so that it is possible to prevent an input error of a parameter value or the like. In addition, the user can save the trouble of manually inputting the parameter value.

また、実施形態に係る基板処理装置1において、ブラシ141に関する情報は、ブラシ141の寿命に関する情報を含んでいてもよい。この場合、実施形態に係る基板処理装置1は、使用状況取得部515と、残寿命算出部516とを備えていてもよい。使用状況取得部515は、ブラシ141の使用圧力および使用時間を含む使用状況を取得する。残寿命算出部516は、使用状況取得部によって取得された使用状況と、情報取得部511によって取得されたブラシの寿命に関する情報とに基づき、ブラシ141の残り寿命を算出する。 Further, in the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment, the information regarding the brush 141 may include information regarding the life of the brush 141. In this case, the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment may include a usage status acquisition unit 515 and a remaining life calculation unit 516. The usage status acquisition unit 515 acquires the usage status including the usage pressure and the usage time of the brush 141. The remaining life calculation unit 516 calculates the remaining life of the brush 141 based on the usage status acquired by the usage status acquisition unit and the information regarding the brush life acquired by the information acquisition unit 511.

これにより、たとえばブラシ141の交換時期を予測することができる。また、複数の処理部18間でブラシ141の交換時期が揃うように、複数の処理部18に対する基板処理の割り振りを決定することができる。 Thereby, for example, the replacement time of the brush 141 can be predicted. Further, it is possible to determine the allocation of the substrate processing to the plurality of processing units 18 so that the replacement times of the brush 141 are aligned among the plurality of processing units 18.

また、実施形態に係る基板処理装置1において、ブラシ141に関する情報は、認証コードを含んでいてもよい。この場合、実施形態に係る基板処理装置1は、ユーザによって入力されたコードが情報取得部511によって取得された認証コードと一致した場合に、基板処理の実行を許可する認証処理部513を備えていてもよい。 Further, in the substrate processing apparatus 1 according to the embodiment, the information regarding the brush 141 may include an authentication code. In this case, the board processing device 1 according to the embodiment includes an authentication processing unit 513 that permits execution of board processing when the code input by the user matches the authentication code acquired by the information acquisition unit 511. You may.

これにより、たとえば模倣品のブラシがアーム143に取り付けられて使用されることを未然に防止することができる。 This makes it possible to prevent, for example, a counterfeit brush from being attached to the arm 143 and used.

また、実施形態に係る基板処理装置1、情報保持部に対し、ブラシ141が使用済みであることを示す情報を書き込む情報書込部(一例として、リーダライタ162)を備えていてもよい。 Further, the substrate processing device 1 and the information holding unit according to the embodiment may be provided with an information writing unit (as an example, a reader / writer 162) for writing information indicating that the brush 141 has been used.

これにより、たとえば、使用済みのブラシ141が再度利用されることを防止することができる。また、たとえば、使用済みのブラシ141からRFIDタグ145を取り出し、取り出したRFIDタグ145を模倣品のブラシに取り付けた場合であっても、かかる模倣品の使用を防止することができる。 This makes it possible, for example, to prevent the used brush 141 from being reused. Further, for example, even when the RFID tag 145 is taken out from the used brush 141 and the taken out RFID tag 145 is attached to the brush of the counterfeit product, the use of the counterfeit product can be prevented.

今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。 It should be considered that the embodiments disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. Indeed, the above embodiments can be embodied in a variety of forms. Further, the above-described embodiment may be omitted, replaced or changed in various forms without departing from the scope of the attached claims and the purpose thereof.

W ウェハ
1 基板処理装置
5 制御装置
51 制御部
52 記憶部
18 処理部
104 洗浄部
106 アクセス部
141 ブラシ
143 アーム
145 RFIDタグ(情報保持部の一例)
162 リーダライタ
511 情報取得部
512 パラメータ設定部
W Wafer 1 Substrate processing device 5 Control device 51 Control unit 52 Storage unit 18 Processing unit 104 Cleaning unit 106 Access unit 141 Brush 143 Arm 145 RFID tag (example of information holding unit)
162 Reader / Writer 511 Information acquisition unit 512 Parameter setting unit

Claims (8)

ブラシを用いた基板処理を行う処理部と、
前記処理部に設けられ、前記ブラシに関する情報を保持する情報保持部と、
前記情報保持部から前記情報を読み出す情報読出部と、
前記情報読出部によって前記情報保持部から読み出された前記情報を取得する情報取得部と
を備え
前記処理部は、
前記ブラシを支持し、基板の上方における処理位置と前記基板の外方における待機位置との間で前記ブラシを移動させるアーム
を備え、
前記情報保持部は、
前記ブラシまたは前記アームに設けられ、
前記情報読出部は、
前記待機位置に配置される、基板処理装置。
A processing unit that processes the substrate using a brush,
An information holding unit provided in the processing unit and holding information about the brush,
An information reading unit that reads the information from the information holding unit, and an information reading unit.
An information acquisition unit that acquires the information read from the information holding unit by the information reading unit, and an information acquisition unit .
Equipped with
The processing unit
An arm that supports the brush and moves the brush between a processing position above the substrate and a standby position outside the substrate.
Equipped with
The information holding unit is
Provided on the brush or the arm
The information reading unit is
A substrate processing device arranged at the standby position .
ブラシを用いた基板処理を行う処理部と、
前記処理部に設けられ、前記ブラシに関する情報を保持する情報保持部と、
前記情報保持部から読み出された前記情報を取得する情報取得部と
を備え
前記情報保持部は、
前記ブラシの回転軸に取り付けられたロータリーエンコーダの回転板であり、前記ブラシに応じたパターンで周方向に配列された複数のスリットを有する、基板処理装置。
A processing unit that processes the substrate using a brush,
An information holding unit provided in the processing unit and holding information about the brush,
It is provided with an information acquisition unit that acquires the information read from the information holding unit .
The information holding unit is
A substrate processing apparatus which is a rotary plate of a rotary encoder attached to a rotary shaft of the brush and has a plurality of slits arranged in the circumferential direction in a pattern corresponding to the brush .
前記情報保持部は、
RFIDタグである、請求項1に記載の基板処理装置。
The information holding unit is
The substrate processing apparatus according to claim 1, which is an RFID tag.
前記情報保持部は、
バーコードである、請求項1に記載の基板処理装置。
The information holding unit is
The substrate processing apparatus according to claim 1, which is a barcode.
前記情報取得部によって取得された前記情報を用いて前記基板処理のパラメータを設定するパラメータ設定部
を備える、請求項1~のいずれか一つに記載の基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , further comprising a parameter setting unit for setting parameters for the substrate processing using the information acquired by the information acquisition unit.
前記情報は、前記ブラシの寿命に関する情報を含んでおり、
前記ブラシの使用圧力および使用時間を含む使用状況を取得する使用状況取得部と、
前記使用状況取得部によって取得された前記使用状況と、前記情報取得部によって取得された前記ブラシの寿命に関する情報とに基づき、前記ブラシの残り寿命を算出する残寿命算出部と
を備える、請求項1~のいずれか一つに記載の基板処理装置。
The information includes information regarding the life of the brush.
The usage status acquisition unit that acquires the usage status including the usage pressure and usage time of the brush, and
The claim includes a remaining life calculation unit for calculating the remaining life of the brush based on the usage status acquired by the usage status acquisition unit and the information regarding the life of the brush acquired by the information acquisition unit. The substrate processing apparatus according to any one of 1 to 5 .
前記情報は、認証コードを含んでおり、
ユーザによって入力されたコードが前記情報取得部によって取得された前記認証コードと一致した場合に、前記基板処理の実行を許可する認証処理部
を備える、請求項1~のいずれか一つに記載の基板処理装置。
The information includes an authorization code and
The invention according to any one of claims 1 to 6 , further comprising an authentication processing unit that permits execution of the board processing when the code input by the user matches the authentication code acquired by the information acquisition unit. Board processing equipment.
前記情報保持部に対し、前記ブラシが使用済みであることを示す情報を書き込む情報書込部
を備える、請求項に記載の基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 3 , further comprising an information writing unit for writing information indicating that the brush has been used to the information holding unit.
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