JP7089506B2 - ピリドン化合物を有効成分として含有する抗真菌剤およびその使用方法 - Google Patents

ピリドン化合物を有効成分として含有する抗真菌剤およびその使用方法 Download PDF

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Description

本発明は、ピリドン化合物を有効成分として含有する抗真菌剤に関するものである。
ヒトの感染症において、近年の抗細菌剤（抗生物質）に関する研究開発の急速な進歩により、細菌性感染症の多くが駆逐されている。一方で、真菌感染症の予防および治療に用いられる抗真菌剤に関する研究は十分には進められておらず、カンジダ症やアスペルギルス症をはじめとする真菌感染症が、高い頻度で発生し、死因に大きく関わっている。特に、免疫不全症や免疫抑制剤の使用により免疫機能が低下した患者や高齢者が真菌感染症を発症することが多く、高度に医療が発達した社会や高齢化社会において重大な脅威となっている（非特許文献１参照）。そこで、近い将来、新たな真菌感染症対策が重要な課題の一つとなると見込まれる。
従来、真菌感染症の治療に使用される抗真菌剤の分野では、フルコナゾール、イトラコナゾール等のアゾール系抗真菌剤、ブテナフィン等のベンジルアミン系抗真菌剤、テルビナフィン等のアリルアミン系抗真菌剤、アモロルフィン等のホルモリン系抗真菌剤、リラナフタート、トルナフテート等のチオカルバミン系抗真菌剤、ミコナゾール、ケトコナゾール、クロトリマゾール等のイミダゾール系抗真菌剤、エキノキャンディン等のエキノキャンディン系抗真菌剤、ミカファンギン、キャスポファンギン等のキャンディン系抗真菌剤、アンフォテイシンＢ、ナイスタチン等のポリエン系抗真菌剤、フルシトシン等のフルオピリジン系抗真菌剤、グリセオフルビン等のグリサン系抗真菌剤等の抗真菌剤が知られているが、その数は多くない。それだけに、一つでも主要な抗真菌剤に対する耐性菌が発生すると、真菌感染症の予防および治療に大きな影響を及ぼす。実際、主要な抗真菌剤に対する耐性菌の検出頻度は近年増加傾向にあり、深刻な状況に直面している（例えば、非特許文献２参照）。従って、既存の耐性菌に有効な新規の抗真菌剤の開発が望まれている。
ところで、１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物に関して、例えば、ＧＡＢＡアルファー２／３リガンドとして、３位にアリール基またはヘテロアリール基を有する１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物が開示されている（例えば、国際公開第９８／５５４８０号参照）。また、細菌性感染症の治療薬として、３位にカルボキシル基を有する１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物が開示されている（例えば、欧州特許第０３０８０２０明細書参照）。
国際公開第９８／５５４８０号 欧州特許第０３０８０２０明細書
病原真菌と真菌症 改訂３版 南山堂 Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｌｉｎｉｃａｌ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｙ（２００９）４７， １９４２－１９４６
しかしながら、国際公開第９８／５５４８０号および欧州特許第０３０８０２０明細書に記載されている化合物の用途は、それぞれ抗精神病剤や抗細菌剤に関するものであり、本発明に係る抗真菌剤とは相違する。
本発明の課題は、優れた抗真菌活性を有する抗真菌剤を提供することである。
本発明者らは、前記課題を解決すべく、１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物群および１，５，６－置換－２－ピリドン化合物群について鋭意検討を行った結果、当該２－ピリドン骨格中の６位に関して、オルト位に置換基を有するアリール基またはヘテロアリール基を導入した化合物群が優れた抗真菌活性を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
［１］
式（１）
Figure 0007089506000001
［式中、Ｒ１は、水酸基、
シアノ基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し；
Ｒ２は、ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ２１およびＲ２２は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）、
Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、
１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基、
Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ２は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、
Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）、
またはＲ２４Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２５）－（ここで、Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）を表し、Ｒ２５は、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）を表し；
Ｒ３は、水素原子、
ハロゲン原子、
ニトロ基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
Ｒ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ２３と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ２と同義である。）、
Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）、
またはＲ３３Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ３３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）を表し；
ｎは、０～５の整数（ただし、ｎが２以上のとき、２以上のＲ２は、それぞれ独立した置換基を表す。）を表し；
Ｘは、酸素原子、または硫黄原子を表し；
Ｙは、フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、またはチアジアゾリル基を表し、
該フェニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～４置換し、
該ピリジル基、該ピラジニル基、該ピリミジニル基、該ピリダジニル基、該トリアジニル基、または該テトラジニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～３置換し、
該チエニル基、該チアゾリル基、該イソチアゾリル基、または該チアジアゾリル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～２置換し；
破線部を含む結合は、二重結合、または単結合を表し、
そして、置換基Ａは、
水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒ１２Ｒ１３Ｎ－（ここで、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立していて、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ１２およびＲ１３は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）、およびＲ１４－Ｌ１－（ここで、Ｒ１４は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ１は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）からなる群から選択される少なくとも１種であり；
置換基Ｂは、
水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）、Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７およびＲ２８は、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ＣＨ２）ｓ－Ｏ－（ここで、ｓは、１～３の整数を表し、Ｒ２６、Ｒ２７およびＲ２８は、前記と同義である。）、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
置換基Ｂ１は、
シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
置換基Ｃは、
水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）、およびＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ１４と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ１と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種であり；
置換基Ｄは、
ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、およびＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
置換基Ｄ１は、
水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種である。］で表される化合物、またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。
［２］
Ｒ１は、シアノ基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し；
Ｒ２は、ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒ２０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ２１およびＲ２２は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）、
またはＲ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ２は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）を表し；
Ｒ３は、水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
またはＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ２３と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ２と同義である。）を表し；
Ｙは、フェニル基、またはピリジル基を表し、
該フェニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～４置換し、
該ピリジル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～３置換する、［１］に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。
［３］
Ｒ１は、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し；
Ｒ２は、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、または置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し；
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す、［２］に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。
［４］
［１］に記載の抗真菌剤を用いて真菌感染症を予防および／または治療する方法。
［５］
真菌感染症を予防および／または治療する方法であって、それを必要とする対象に［１］に記載の化合物またはその塩の有効量を投与することを含む方法。
［６］
真菌感染症が、深在性真菌症、深部皮膚真菌症、表在性真菌症から選ばれる真菌感染症である、［４］または［５］に記載の方法。
［７］
真菌感染症が、カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）、アスペルギルス属真菌（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐｐ．）、クリプトコッカス属真菌（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｓｐｐ．）、ミクロスポルム属真菌（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｓｐｐ．）、トリコフィトン属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｓｐｐ．）およびフザリウム属真菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｐｐ．）よりなる群から選択される１種以上の真菌により引き起こされる、［６］に記載の方法。
［８］
真菌感染症の予防および／または治療に使用するための［１］に記載の化合物またはその塩。
［９］
真菌感染症が、深在性真菌症、深部皮膚真菌症、表在性真菌症から選ばれる真菌感染症である、［８］に記載の化合物またはその塩。
［１０］
真菌感染症が、カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）、アスペルギルス属真菌（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐｐ．）、クリプトコッカス属真菌（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｓｐｐ．）、ミクロスポルム属真菌（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｓｐｐ．）、トリコフィトン属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｓｐｐ．）およびフザリウム属真菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｐｐ．）よりなる群から選択される１種以上の真菌により引き起こされる、［９］に記載の化合物またはその塩。
本発明の新規なピリドン化合物により、真菌感染症を予防または／および治療することができる。また、本発明のピリドン化合物を用いた方法により、真菌感染症に対する有効な予防および／または治療方法を提供することができる。
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
なお、特許請求の範囲および明細書中において用いられる各用語は、特に断らない限り、当該技術分野において一般的に用いられる定義によるものとする。
本明細書において、使用する略号を以下に説明する。
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ：プロピル基、Ｂｕ：ブチル基、Ｐｅｎｔｙｌ：ペンチル基、Ｈｅｘｙｌ：ヘキシル基、Ａｃ：アセチル基、Ｐｈ：フェニル基、Ｐｙ：ピリジル基、ｉ：イソ、ｓｅｃ：セカンダリ、ｔ：ターシャリ、ｃ：シクロ、＝：二重結合、≡：三重結合を表す。表のカラム中、単独の“－”は無置換を意味し、Ｐｒ、Ｂｕ、Ｐｅｎｔｙｌ、Ｈｅｘｙｌに関しては、接頭辞がない場合は、ノルマルを意味する。
以下に、本明細書中に使用される用語の定義を説明する。
Ｃｘ～Ｃｙとの記載は、ｘ個からｙ個の炭素原子を有することを表す。
用語「適宜置換されてもよい」とは、置換または無置換であることを意味する。この用語を用いる際、置換基の数が明示されていないときは、置換基の数は１であることを表す。
Ｃ１～Ｃ６のアルキル基とは、直鎖状または分岐状でよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、２－メチルブチル基、ネオペンチル基、１－エチルプロピル基、ヘキシル基、４－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、１－メチルペンチル基、３，３－ジメチルブチル基、２，２－ジメチルブチル基、１，１－ジメチルブチル基、１，２－ジメチルブチル基、１，３－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、または２－エチルブチル基等である。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子等である。
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルキル基における水素が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基の具体例として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、１－フルオロエチル基、２－フルオロエチル基、１，１－ジフルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチル基、ノナフルオロブチル基、ノナフルオロ－ｓｅｃ－ブチル基、３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、またはシクロオクチル基等である。
Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基とは、１個もしくは２個以上の二重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。また、幾何異性体がある場合、Ｅ体またはＺ体のどちらか一方のみ、あるいはＥ体とＺ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基の具体例として、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、４－メチル－３－ペンテニル基、３－メチル－２－ペンテニル基等が挙げられる。
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基の具体例として、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、３，３－ジクロロアリル基、４，４－ジフルオロ－３－ブテニル基、５，５－ジフルオロ－４－ペンテニル基、６，６－ジフルオロ－５－ヘキセニル基等が挙げられる。
Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基とは、１個もしくは２個以上の三重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基の具体例として、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１，１－ジメチル－２－プロピニル基、１－ヘキシニル基、２－ヘキシニル基、３－ヘキシニル基、４－ヘキシニル基、５－ヘキシニル基等が挙げられる。
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基の具体例として、２－フルオロエチニル基、２－クロロエチニル基、２－ブロモエチニル基、２－ヨードエチニル基、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３－クロロ－３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３－ブロモ－３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基、５，５－ジフルオロ－３－ペンチニル基、５－クロロ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニル基、５－ブロモ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニル基、５，５，５－トリフルオロ－３－ペンチニル基、６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニル基、６－クロロ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニル基、６－ブロモ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニル基、６，６，６－トリフルオロ－４－ヘキシニル基等が挙げられる。
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２－メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、１－エチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ基、４－メチルペンチルオキシ基、３－メチルペンチルオキシ基、２－メチルペンチルオキシ基、１－メチルペンチルオキシ基、３，３－ジメチルブトキシ基、２，２－ジメチルブトキシ基、１，１－ジメチルブトキシ基、１，２－ジメチルブトキシ基、１，３－ジメチルブトキシ基、２，３－ジメチルブトキシ基、および２－エチルブトキシ基等が挙げられる。
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基の具体例として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、２－フルオロエトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２－テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、２，２，２－トリクロロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）－エトキシ基、ノナフルオロブトキシ基、ノナフルオロ－ｓｅｃ－ブトキシ基、３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロペンチルオキシ基、ウンデカフルオロペンチルオキシ基、トリデカフルオロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基とは、前記のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、およびシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。
Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルケニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。また、幾何異性体がある場合、Ｅ体またはＺ体のどちらか一方のみ、あるいはＥ体とＺ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に制限されることはない。Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基の具体例として、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、３－ブテニルオキシ基、１－ペンテニルオキシ基、２－ペンテニルオキシ基、３－ペンテニルオキシ基、４－ペンテニルオキシ基、３－メチル－２－ブテニルオキシ基、１－ヘキセニルオキシ基、２－ヘキセニルオキシ基、３－ヘキセニルオキシ基、４－ヘキセニルオキシ基、５－ヘキセニルオキシ基、４－メチル－３－ペンテニルオキシ基、３－メチル－２－ペンテニルオキシ基等が挙げられる。
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基の具体例として、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、３，３－ジクロロアリルオキシ基、４，４－ジフルオロ－３－ブテニルオキシ基、５，５－ジフルオロ－４－ペンテニルオキシ基、６，６－ジフルオロ－５－ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。
Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルキニル基のうち、Ｃ３～Ｃ６のアルキニル基が酸素原子を介して結合したのものを表す。Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基の具体例として、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、３－ブチニルオキシ基、２－ペンチニルオキシ基、３－ペンチニルオキシ基、４－ペンチニルオキシ基、１，１－ジメチル－２－プロピニルオキシ基、２－ヘキシニルオキシ基、３－ヘキシニルオキシ基、４－ヘキシニルオキシ基、５－ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基とは、前記のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基の具体例として、１，１－ジフルオロ－２－プロピニルオキシ基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基、５，５－ジフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、５－クロロ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、５－ブロモ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、５，５，５－トリフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基、６－クロロ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基、６－ブロモ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基、６，６，６－トリフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基のうちＣ１～Ｃ５のアルコシキ基における水素原子が、１個または２個以上のＣ１～Ｃ５アルコキシ基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基の具体例として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロピルオキシメトキシ基、イソプロピルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシ基、イソプロピルオキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、エトキシプロピルオキシ基、プロピルオキシプロピルオキシ基、イソプロピルオキシプロピルオキシ基等が挙げられる。
１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基の具体例として、１，２－エポキシエタニル基、オキセタニル基、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、１，３－ジオキサニル基、１，４－ジオキサニル基等が挙げられる。
本発明のピリドン化合物は、下記式（１）で表される化合物とその塩（以下、単に式（１）で表される化合物、本発明化合物と呼ぶことがある）を包含する。
Figure 0007089506000002
以下、式（１）について説明する。
式（１）のＲ１は、水酸基、シアノ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）を表す。
中でもＲ１は、シアノ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、前記と同義である。）が好ましく、
特に、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基が好ましい。
式（１）の「置換基Ａ」とは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒ１２Ｒ１３Ｎ－（ここで、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立していて、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ１２およびＲ１３は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）、およびＲ１４－Ｌ１－（ここで、Ｒ１４は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ１は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
中でも置換基Ａは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、またはＲ１４－Ｌ１－（ここで、Ｒ１４およびＬ１は、前記と同義である。）が好ましく、
特に、シアノ基、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
置換基Ａの好ましい具体例として、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基；
Ｒ１２Ｒ１３Ｎ－（ここで、Ｒ１２およびＲ１３は、前記と同義である。）として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基；
ならびにＲ１４－Ｌ１－（ここで、Ｒ１４およびＬ１は、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
置換基Ａのさらに好ましい具体例として、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基；
Ｒ１２Ｒ１３Ｎ－（ここで、Ｒ１２およびＲ１３は、前記と同義である。）として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基；
ならびにＲ１４－Ｌ１－（ここで、Ｒ１４およびＬ１は、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
式（１）のＲ１には、水酸基、およびシアノ基が含まれる。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、またはアリル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、３－フルオロアリル基、または３，３－ジフルオロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、プロパルギル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基である。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、または３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、または２，２，２－トリフルオロエトキシ基である。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、または３，３－ジフルオロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、または２，２－ジフルオロビニルオキシ基である。
式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、または３－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
式（１）のＲ１における「Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基である。
式（１）のＲ１における「Ｒ１０Ｒ１１Ｎ－」（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義である。「Ｒ１０Ｒ１１Ｎ－」として、好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられ、さらに好ましくは、アミノ基、およびジメチルアミノ基が挙げられる。
Ｒ２は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ２１およびＲ２２は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基、Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ２は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）、またはＲ２４Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２５）－（ここで、Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）を表し、Ｒ２５は、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）を表す。
中でもＲ２は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、またはＲ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）が好ましく、
特に、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、または置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
式（１）の「置換基Ｂ」とは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）、Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、それぞれ独立していて、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ＣＨ２）ｓ－Ｏ－（ここで、ｓは、１～３の整数を表し、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、前記のＲ２０と同義である。）、および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
中でも置換基Ｂは、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ＣＨ２）ｓ－Ｏ－（ここで、ｓ、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、または１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基が好ましく、
特に、シアノ基、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
置換基Ｂの好ましい具体例として、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびイソブトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基；
Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記のと同義である。）として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基；
Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基；
Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）として、トリメチルシリル基、およびトリエチルシリル基；
Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ＣＨ２）ｓ－Ｏ－（ここで、ｓ、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）として、２－（トリメチルシリル）エトキシ基、および２－（トリエチルシリル）エトキシ基；
Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）として、アセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基；
ならびに１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、および１，３－ジオキサニル基が挙げられる。
置換基Ｂのさらに好ましい具体例として、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基；
Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基；
Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基；
Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）として、トリメチルシリル基；
Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ＣＨ２）ｓ－Ｏ－（ここで、ｓ、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は、前記と同義である。）として、２－（トリメチルシリル）エトキシ基；
Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）として、アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基；
ならびに１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基として、１，３－ジオキソラニル基、および１，３－ジオキサニル基が挙げられる。
式（１）の「置換基Ｂ１」とは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。中でも置換基Ｂ１は、シアノ基、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
置換基Ｂ１の好ましい具体例として、シアノ基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびイソブトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
置換基Ｂ１のさらに好ましい具体例として、シアノ基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
式（１）のＲ２におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
式（１）のＲ２には、水酸基、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、または３－ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、または３，３－ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、または３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基である。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、またはペンチルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはペンチルオキシ基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、または３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、または２，２，２－トリフルオロエトキシ基である。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、または３－ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、または３，３－ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、または２，２－ジフルオロビニルオキシ基である。
式（１）のＲ２における「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、または３－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Ｂを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
式（１）のＲ２における「Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基である。
式（１）のＲ２における「Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－」（ここで、Ｒ２０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ２１およびＲ２２は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。「Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－」として、好ましくは、アセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基が挙げられ、さらに好ましくは、アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基が挙げられる。
式（１）のＲ２における「Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－」のＲ２０は、前記と同義である。「Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－」として、好ましくは、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基が挙げられ、より好ましくは、アセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、およびジエチルアミノカルボニルオキシ基が挙げられる。
式（１）のＲ２における「１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、または１，３－ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、１，３－ジオキソラニル基、または１，３－ジオキサニル基である。
式（１）のＲ２における「Ｒ２３－Ｌ２－」（ここで、Ｒ２３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ２は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。「Ｒ２３－Ｌ２－」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、（クロロメチル）チオ基、（クロロメタン）スルフィニル基、および（クロロメタン）スルホニル基が挙げられ、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、（クロロメチル）チオ基、（クロロメタン）スルフィニル基、および（クロロメタン）スルホニル基が挙げられる。
式（１）のＲ２における「Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－」のＲ２１およびＲ２２は、前記と同義である。「Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－」として、好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基が挙げられ、さらに好ましくは、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられる。
式（１）のＲ２における「Ｒ２４Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２５）－」（ここで、Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）を表し、Ｒ２５は、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。Ｒ２４として、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、シクロプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、シクロプロピルオキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられる。また、Ｒ２５として、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、シアノメチル基、２－シアノエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、およびシクロプロピル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、シアノメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、および２，２，２－トリフルオロエチル基が挙げられる。
式（１）のｎは、０～５の整数である。ただし、ｎが２以上のとき、２以上のＲ２は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。
式（１）のＲ３は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、Ｒ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ２３と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ２と同義である。）、Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）、またはＲ３３Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ３３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）を表す。
中でもＲ３は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０およびＬ３は、前記と同義である。）が好ましく、
特に、水素原子、ハロゲン原子、または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基が好ましい。
式（１）の「置換基Ｃ」とは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）、およびＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ１４と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ１と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種を表す。中でも置換基Ｃは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、またはＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０およびＬ３は、前記と同義である。）が好ましく、
特に、シアノ基、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
置換基Ｃの好ましい具体例として、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびイソブトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基；
Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基；
ならびにＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ１４と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ１と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
置換基Ｃのさらに好ましい具体例として、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基；
Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記と同義である。）として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基；
ならびにＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０およびＬ３は、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
式（１）のＲ３には、水素原子、およびニトロ基が含まれる。
式（１）のＲ３における「ハロゲン原子」は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
式（１）のＲ３における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、またはイソプロピルオキシ基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
式（１）のＲ３における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、または３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、または２，２，２－トリフルオロエトキシ基である。
式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、または３－ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
式（１）のＲ３における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、または３，３－ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
式（１）のＲ３における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、または３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基である。
式（１）のＲ３における「Ｒ３０－Ｌ３－」は、Ｒ３０が前記のＲ２３と同義であり、Ｌ３が前記のＬ２と同義である。「Ｒ３０－Ｌ３－」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられ、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
式（１）のＲ３における「Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－」は、Ｒ３１およびＲ３２が、前記のＲ２１およびＲ２２と同義であり、好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。
式（１）のＲ３における「Ｒ３３Ｃ（＝Ｏ）－」（ここで、Ｒ３３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。「Ｒ３３Ｃ（＝Ｏ）－」として、好ましくは、アセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、およびシクロプロパンカルボニル基が挙げられ、さらに好ましくは、アセチル基、ジフルオロアセチル基、およびトリフルオロアセチル基が挙げられる。
式（１）のＸは、酸素原子、または硫黄原子を表す。好ましいＸは、酸素原子である。
式（１）のＹは、フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、またはチアジアゾリル基を表す。
該フェニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～４置換する。
該ピリジル基、該ピリダジニル基、該ピリミジニル基、該ピラジニル基、該トリアジニル基、または該テトラジニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～３置換する。
該チエニル基、該チアゾリル基、該イソチアゾリル基、または該チアジアゾリル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～２置換する。
式（１）の「置換基Ｄ」とは、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、およびＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
中でも置換基Ｄは、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基が好ましく、
特に、ハロゲン原子が好ましい。
置換基Ｄの好ましい具体例として、
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子；
Ｃ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、エチル基、およびプロピル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、および２，２，２－トリフルオロエチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびｔ－ブトキシ基；
ならびにＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基が挙げられる。
置換基Ｄのさらに好ましい具体例として、
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子；
Ｃ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、およびエチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基；
ならびにＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基が挙げられる。
式（１）の「置換基Ｄ１」とは、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
中でも置換基Ｄ１は、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基が好ましく、
さらに好ましくは、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基が好ましい。
置換基Ｄ１の好ましい具体例として、水酸基；
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子；
Ｃ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、エチル基、およびプロピル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、および２，２，２－トリフルオロエチル基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびｔ－ブトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
置換基Ｄ１のさらに好ましい具体例として、水酸基；
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子；
Ｃ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、およびエチル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、およびトリフルオロメチル基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
以下、式（１）のＹの具体的例を詳細に説明する。
Ａ） Ｙがフェニル基であるとき、Ｙは、式（ａ）
Figure 0007089506000003
で表される部分構造（ここで、ＤおよびＤ１は前記と同義であり、ｍａは０～４の整数を表す。）を表す。
式（ａ）のｍａは、０～４の整数を表す。
式（ａ）のｍａが２以上の場合、２以上のＤ１は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。
本明細書においてＹがフェニル基の場合、オルト位とは、式（ａ）に示されるように、置換基Ｄがあるフェニル基の位置を意味する。
置換基Ｄがオルト位に位置したフェニル基は、本発明の特徴をなしている。
式（ａ）の好ましい組み合わせは、２－Ｄ－６－Ｄ１－フェニル基、２－Ｄ－４－Ｄ１－フェニル基、または２－Ｄ－４－Ｄ１－６－Ｄ１－フェニル基である。ここで、例えば、「２－Ｄ－６－Ｄ１－フェニル基」は、２位に置換基Ｄ、６位に置換基Ｄ１を有する二置換フェニル基を意味し、以下の記載も同様である。
Ｂ） Ｙが、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、またはテトラジニル基のとき、Ｙは、式（ｂ）
Figure 0007089506000004
で表される部分構造（ここで、ＤおよびＤ１は前記と同義であり、ｍｂは０～３の整数を表す。）を表す。
式（ｂ）のＧ１、Ｇ２、Ｇ３およびＧ４は、それぞれ独立していて、炭素原子または窒素原子を表す。ただし、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３およびＧ４のうち、少なくとも一つは窒素原子である。好ましいＧ１、Ｇ２、Ｇ３およびＧ４は、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３およびＧ４のうち、いずれか一つが窒素原子である。すなわち、ピリジル基である。
式（ｂ）のｍｂは、０～３の整数を表す。
式（ｂ）のｍｂが２以上の場合、２以上のＤ１は、それぞれ独立した置換基を表し、同一、または異なっていてよく、任意に選択することができる。
本明細書においてＹがピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、またはテトラジニル基の場合、オルト位とは、式（ｂ）に示されるように、置換基Ｄがある６員環の位置を意味する。
式（ｂ）の部分構造の具体例を以下に示す。
Figure 0007089506000005
置換基Ｄがオルト位に位置したピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、またはテトラジニル基は、本発明の特徴をなしている。
式（ｂ）の好ましい組み合わせは、３－Ｄ－２－ピリジル基、３－Ｄ－５－Ｄ１－２－ピリジル基、２－Ｄ－３－ピリジル基、２－Ｄ－４－Ｄ１－３－ピリジル基、２－Ｄ－６－Ｄ１－３－ピリジル基、２－Ｄ－４－Ｄ１－６－Ｄ１－３－ピリジル基、４－Ｄ－３－ピリジル基、４－Ｄ－２－Ｄ１－３－ピリジル基、４－Ｄ－６－Ｄ１－３－ピリジル基、４－Ｄ－２－Ｄ１－６－Ｄ１－３－ピリジル基、３－Ｄ－４－ピリジル基、または３－Ｄ－５－Ｄ１－４－ピリジル基である。
Ｃ） Ｙが、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、またはチアジアゾリル基のとき、Ｙは、式（ｃ－１）
Figure 0007089506000006
 式（ｃ－２）
Figure 0007089506000007
 または、式（ｃ－３）
Figure 0007089506000008
で表される部分構造（ここで、ＤおよびＤ１は前記と同義であり、ｍｃは０～２の整数を表す。）を表す。
式（ｃ－１）、式（ｃ－２）および式（ｃ－３）におけるＧ５とＧ６は、それぞれ独立していて、炭素原子または窒素原子を表す。
式（ｃ－１）、式（ｃ－２）および式（ｃ－３）のｍｃは、０～２の整数を表す。
式（ｃ－１）、式（ｃ－２）および式（ｃ－３）のｍｃが２の場合、２のＤ１は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。
本明細書においてＹがチエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、またはチアジアゾリル基の場合、オルト位とは、式（ｃ－１）、式（ｃ－２）および式（ｃ－３）に示されるように、置換基Ｄがある５員環の位置を意味する。
式（ｃ－１）の部分構造の具体例を以下に示す。
Figure 0007089506000009
式（ｃ－２）の部分構造の具体例を以下に示す。
Figure 0007089506000010
式（ｃ－３）の部分構造の置換基の具体例を以下に示す。
Figure 0007089506000011
置換基Ｄがオルト位に位置したチエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、またはチアジアゾリル基は、本発明の特徴をなしている。
式（１）における破線部を含む結合は、
Figure 0007089506000012
で表される箇所を表す。
式（１）における破線部を含む結合は、二重結合または単結合を表す。
式（１）における破線部を含む結合が二重結合の場合は、式（１ａ）
Figure 0007089506000013
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙおよびｎは、式（１）と同義である。）で表される化合物、またはその塩を表す。
式（１）における破線部を含む結合が単結合の場合は、式（１ｂ）
Figure 0007089506000014
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙおよびｎは、式（１）と同義である。）で表される化合物、またはその塩を表す。
式（１ｂ）におけるＲ３が水素以外の置換基の場合、Ｒ体もしくはＳ体のどちらか一方のみ、またはＲ体とＳ体との任意の割合の混合物である。
式（１）で表される化合物は、１個または２個の軸不斉を有することがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。
式（１）で表される化合物は、不斉原子を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。
式（１）で表される化合物は、幾何異性体を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。
式（１）で表される化合物は、塩を形成できることがある。塩酸、硫酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸のような酸塩や、ナトリウム、カリウム、カルシウムのような金属塩等が例示されるが、抗真菌剤として使用できる限り、特に限定されることはない。
次に、本発明の具体的な化合物は表１に示す構造式と、表２に示す（Ｒ２）ｎと、酸素原子または硫黄原子であるＸとの組み合わせによって表される。これらの化合物は例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007089506000015
Figure 0007089506000016
Figure 0007089506000017
Figure 0007089506000018
Figure 0007089506000019
Figure 0007089506000020
Figure 0007089506000021
Figure 0007089506000022
Figure 0007089506000023
Figure 0007089506000024
Figure 0007089506000025
Figure 0007089506000026
Figure 0007089506000027
Figure 0007089506000028
Figure 0007089506000029
Figure 0007089506000030
Figure 0007089506000031
Figure 0007089506000032
Figure 0007089506000033
Figure 0007089506000034
以下、例えば、表２中の「２－Ｆ－」との記載は、（Ｒ２）ｎが結合するフェニル基の２位にフッ素原子が結合していることを意味し、「２－Ｆ－３－ＨＯ－」との記載は、２位にフッ素原子が結合し、３位に水酸基が結合していることを意味し、「２，３－ｄｉ－Ｆ」との記載は、２位と３位にフッ素原子が結合していることを意味し、他の記載も同様である。
Figure 0007089506000035
Figure 0007089506000036
Figure 0007089506000037
Figure 0007089506000038
Figure 0007089506000039
Figure 0007089506000040
Figure 0007089506000041
Figure 0007089506000042
Figure 0007089506000043
Figure 0007089506000044
Figure 0007089506000045
Figure 0007089506000046
Figure 0007089506000047
Figure 0007089506000048
Figure 0007089506000049
Figure 0007089506000050
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Figure 0007089506000052
Figure 0007089506000053
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Figure 0007089506000057
Figure 0007089506000058
Figure 0007089506000059
Figure 0007089506000060
Figure 0007089506000061
Figure 0007089506000062
以下に、式（１）で表される化合物の製造方法を例示する。
［製造方法Ａ］
Figure 0007089506000063
式中、Ｒ４は、水素原子、水酸基、シアノ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し、Ｒ５は、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、ｎ、Ｒ２、Ｒ３、ＸおよびＹは、前記と同義である。
製造方法Ａは、本発明化合物および本発明化合物の製造中間体を含む式（１ｂ－ａ）で表される化合物を得る方法であって、式（３）で表される化合物とＲ４ＮＨ２とを、酸存在下で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用するＲ４ＮＨ２は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。Ｒ４ＮＨ２は、塩酸、酢酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用するＲ４ＮＨ２は、式（３）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上２００当量以下である。
本反応に使用する酸として、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類が例示され、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定することはないが、好ましくは、酢酸である。また、Ｒ４ＮＨ２と酸性化合物との塩を使用する際には、酸の使用は必須ではない。
本反応に使用する酸の量は、Ｒ４ＮＨ２に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上２００当量以下である。また、使用する酸が液体である場合には、溶媒として使用することも可能である。
本反応には溶媒を使用することができるが、必ずしも必須ではない。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。溶媒として、好ましくは、酸性系溶媒が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸が挙げられる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（３）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、５０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１ｂ－ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ｂ－ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ｂ－ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
製造方法Ａによると、式（１ｂ－ａ）で表される化合物においてＲ４が水素原子を表すときに製造することができる式（２）で表される化合物は、本発明化合物のうち、式（１ｂ）で表される化合物を得る有用な製造中間体となりうる。
式（２）で表される製造中間体の具体例は、表３に示す構造式と、表２に示す（Ｒ２）ｎと、酸素原子または硫黄原子であるＸとの組み合せによって表される。これらの化合物は、例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007089506000064
Figure 0007089506000065
Figure 0007089506000066
Figure 0007089506000067
Figure 0007089506000068
Figure 0007089506000069
Figure 0007089506000070
この式（２）で表される化合物を製造中間体として利用し、本発明の式（１ｂ）を得る方法を説明する。
［製造方法Ｂ］
Figure 0007089506000071
式中、Ｌｖはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、ハロゲン原子等の脱離基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙおよびｎは、前記と同義である。
製造方法Ｂは、式（１ｂ）で表される化合物を得る方法であって、式（２）で表される製造中間体とＲ１Ｌｖとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用するＲ１Ｌｖは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
本反応に使用するＲ１Ｌｖの量は、式（２）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用する塩基の量は、式（２）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｃ］
Figure 0007089506000072
式中、ＳＲは硫黄化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｙおよびｎは前記と同義である。
製造方法Ｃは、式（１ｂ）で表される化合物のうち、式（１ｂ－ｃ）で表される化合物を得る製造方法であって、式（１ｂ－ｂ）で表される化合物と硫黄化剤（ＳＲ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用する硫黄化剤としては、ローソン試薬（２，４－ビス（４－メトキシフェニル）－１，３－ジチア－２，４－ジホスフェタン－２，４－ジスルフィド）等が挙げられる。
本反応に使用する硫黄化剤の量は、式（１ｂ－ｂ）で表される化合物に対して０．５当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｂ－ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、５０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応においては、分液操作は必須ではない。
前記で得られた式（１ｂ－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ｂ－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ｂ－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｄ］
Figure 0007089506000073
式中、Ｒ３ａは、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｌｖ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ｙおよびｎは前記と同義である。
製造方法Ｄは、式（１ｂ）で表される化合物のうち、Ｒ３ａが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基である式（１ｂ－ｅ）で表される化合物の合成方法であって、式（１ｂ－ｄ）で表される化合物とＲ３ａＬｖとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用するＲ３ａＬｖは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
本反応に使用するＲ３ａＬｖの量は、式（１ｂ－ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１．８当量以下である。
本反応に使用する塩基として、水素化ナトリウム等の金属ヒドリド類、メチルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔ－ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等の有機リチウム類や、リチウムジイソプロピルアミド、ヘキサメチルジシラザンリチウム、ヘキサメチルジシラザンナトリウム、ヘキサメチルジシラザンカリウム等の金属アミド類が例示される。
本反応に使用する塩基の量は、式（１ｂ－ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｂ－ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１ｂ－ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ｂ－ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ｂ－ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｅ］
Figure 0007089506000074
式中、Ｏｘは酸化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙおよびｎは、前記と同義である。
製造方法Ｅは、式（１ａ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｂ）で表される化合物と酸化剤（Ｏｘ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用する酸化剤としては、二酸化マンガン等の金属酸化物類、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－ｐ－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤とＮ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン等のハロゲン化剤とを組み合わせたもの等を使用することができる。
以下、酸化剤が金属酸化物類である方法について説明する。
本反応に使用する酸化剤の量は、式（１ｂ）に表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２００当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。
前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
以下、酸化剤がベンゾキノン類である方法について説明する。
本反応に使用する酸化剤の量は、式（１ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。
前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
以下、酸化剤がラジカル開始剤とハロゲン化剤との組み合わせである方法について説明する。
本反応に使用するラジカル開始剤とハロゲン化剤の量は、それぞれ、式（１ｂ）で表される化合物に対して０．０１当量以上と１．０当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。好ましくは、ラジカル開始剤が０．０１当量以上１当量以下であり、ハロゲン化剤が１当量以上３当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｆ］
Figure 0007089506000075
式中、Ｒ３ｂはハロゲン原子を表し、ＨａｌＲはハロゲン化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、Ｙおよびｎは前記と同義である。
製造方法Ｆは、式（１ａ）で表される化合物のうち、Ｒ３ｂがハロゲン原子を表す式（１ａ－ｂ）で表される化合物を得る製造方法であって、式（１ａ－ａ）で表される化合物とハロゲン化剤（ＨａｌＲ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル（Ｎ－フルオロ－Ｎ’－トリエチレンジアミン ビス（テトラフルオロボラート））、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式（１ａ－ａ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、０．５当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、好ましくは、１当量以上５当量以下である。
本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。
本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式（１ａ－ａ）で表される化合物に対して０．０１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、０．１当量以上３当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ａ－ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１ａ－ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１ａ－ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ－ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｇ］
Figure 0007089506000076
式中、Ｒ３ｃは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｊは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｑは水素原子または金属を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ｂ、Ｘ、Ｙおよびｎは前記と同義である。
製造方法Ｇは、式（１ａ）で表される化合物のうち、Ｒ３ｃが、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｊが酸素原子または硫黄原子を表す式（１ａ－ｃ）で表される化合物の合成法であって、式（１ａ－ｂ）で表される化合物とＲ３ｃ－Ｊ－Ｑとを、遷移金属類の存在下に反応させるカップリング反応によって得ることを含む製造方法である。
式（１ａ－ｂ）で表される化合物中、好ましいＲ３ｂは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応に使用するＲ３ｃ－Ｊ－Ｑは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいＱは、水素原子、または、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。
本反応に使用するＲ３ｃ－Ｊ－Ｑの量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。Ｑが水素原子のときは、溶媒としても使用可能である。
本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。
本反応に使用する遷移金属類の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’４’６’－トリイソプロピルビフェニル、２－ジ－ｔ－ブチルホスフィノ－２’４’６’－トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができる。
本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのような無機塩基類やトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類等である。
本反応に使用する塩基の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上５０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、Ｒ３ｃ－Ｊ－Ｈ（式中、Ｒ３ｃは前記と同義であり、Ｊは酸素原子である）で表されるアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、３０℃以上２００℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
前記で得られた式（１ａ－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｈ］
Figure 0007089506000077
式中、Ｒ３ｄは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基を表し、Ｒ３ｄ－Ｂは有機ボロン酸類を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ｂ、Ｘ、Ｙおよびｎは前記と同義である。
製造方法Ｈは、式（１ａ）で表される化合物のうち、Ｒ３ｄが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基である式（１ａ－ｄ）で表される化合物の合成方法であって、式（１ａ－ｂ）で表される化合物と有機ボロン酸類（Ｒ３ｄ－Ｂ）とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる鈴木－宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。
式（１ａ－ｂ）中、好ましいＲ３ｂは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応に使用するＲ３ｄ－Ｂは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。
本反応に使用するＲ３ｄ－Ｂの量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して、１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する遷移金属類は、パラジウム、ニッケル、ルテニウム等であり、配位子を有してよい。好ましくは、酢酸パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド等のパラジウム類が挙げられる。
本反応に使用する遷移金属類の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等のホスフィン配位子を添加することができる。
本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム ｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。
本反応に使用する塩基の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上５０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、３０℃以上２００℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
前記で得られた式（１ａ－ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ－ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｉ］
Figure 0007089506000078
式中、Ｒ３ｅは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ｂ、Ｘ、Ｙおよびｎは前記と同義である。
製造方法Ｉは、式（１ａ）で表される化合物のうち、Ｒ３ｅが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基である式（１ａ－ｅ）で表される化合物の合成方法であって、（１ａ－ｂ）で表される化合物と末端アルキン化合物とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる園頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。
式（１ａ－ｂ）中、好ましいＲ３ｂは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。この場合は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物にトリメチルシリルエチニル基を導入後、脱シリル化を行う必要がある。脱シリル化については、ジャーナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサエティー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）、第１３１巻、２号、６３４－６４３頁（２００９）．およびジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、６９６巻、２５号、４０３９－４０４５頁（２０１１）．等の非特許文献を参考にして行うことができる。
本反応に使用する末端アルキン化合物の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。また、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅類も同時に使用する。
本反応に使用する遷移金属類の量は、パラジウム類等および銅類が、それぞれ式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して０．００１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。好ましい量は、双方ともに０．００１当量以上１当量以下である。
本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類や、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基類等が挙げられる。
本反応に使用する塩基の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上５０当量以下である。また、有機塩基で液体状のものに関しては、溶媒として使用することができる。
本反応を効率的に進行させるために、トリｔ－ブチルホスフィン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’４’６’－トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができるが、必須ではない。
本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ａ－ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
前記で得られた式（１ａ－ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１ａ－ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｊ］
Figure 0007089506000079
式中、Ｒ２ａはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、ｎｂは０～４の整数（ただし、ｎｂが２以上のときは、２以上のＲ２はそれぞれ独立した置換基を表す。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙおよび破線部は前記と同義である。
製造方法Ｊは、式（１）で表される化合物のうち、水酸基を有する式（１－ｂ）で表される化合物の合成方法であって、Ｒ２ａがＣ１～Ｃ６のアルコキシ基である式（１－ａ）で表される化合物と酸とを反応させることによって得ることを含む製造方法である。
本反応に使用する酸として、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素類等がある。
本反応に使用する酸の量は、式（１－ａ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１－ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１－ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１－ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１－ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｋ］
Figure 0007089506000080
式中、Ｒ２ｂ－Ｏ－は、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－基を表し、Ｌｖ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ２０、Ｘ、Ｙ、ｎｂおよび破線部は前記と同義である。
製造方法Ｋは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ２ｂ－Ｏ－が、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－基（Ｒ２０は、前記と同義である。）を表す式（１－ｃ）で表される化合物の合成方法であって、式（１－ｂ）で表される化合物とＲ２ｂ－Ｌｖとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用するＲ２ｂ－Ｌｖは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
本反応に使用するＲ２ｂ－Ｌｖは、式（１－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用する塩基は、式（１－ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１－ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１－ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｌ］
Figure 0007089506000081
式中、Ｒ２ｃはハロゲン原子を表し、Ｒ２ｄは置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基を表し、Ｒ２ｄ－Ｂは有機ボロン酸類を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎｂ、Ｘ、Ｙおよび破線部は前記と同義である。
製造方法Ｌは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ２ｄが置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基である式（１－ｅ）で表される化合物の合成方法であって、式（１－ｄ）で表される化合物と有機ボロン酸類（Ｒ２ｄ－Ｂ）とを反応させる鈴木－宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。
式（１－ｄ）中、好ましいＲ２ｃは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
製造方法Ｈにおける式（１ａ－ｂ）で表される化合物とＲ３ｄ－Ｂとを、それぞれ式（１－ｄ）で表される化合物とＲ２ｄ－Ｂとに代えて使用することにより、製造方法Ｈに準じて製造方法Ｌを実施することができる。
［製造方法Ｍ］
Figure 0007089506000082
式中、Ｒ２ｅは置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ２ｃ、Ｒ３、ｎｂ、Ｘ、Ｙおよび破線部は前記と同義である。
製造方法Ｍは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ２ｅが置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基である式（１－ｆ）で表される化合物の合成方法であって、式（１－ｄ）で表される化合物と末端アルキン化合物とを反応させる園頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。
式（１－ｄ）で表される化合物中、好ましいＲ２ｃは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
製造方法Ｉにおける式（１ａ－ｂ）で表される化合物を式（１－ｄ）で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Ｉに準じて製造方法Ｍを実施することができる。
［製造方法Ｎ］
Figure 0007089506000083
式中、Ｄａはハロゲン原子を表し、Ｄ１ａはハロゲン原子を表し、Ｄ１ｂはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基を表し、Ｅはハロゲンで置換された炭素原子または窒素原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎ、Ｘ、Ｑおよび破線部は前記と同義である。
製造方法Ｎは、式（１）で表される化合物のうち、Ｄ１ｂがＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基であり、Ｅがハロゲン原子で置換された炭素原子または窒素原子である式（１－ｈ）で表される化合物の合成方法であって、式（１－ｇ）で表される化合物とＤ１ｂ－Ｑとを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応で使用されるＤ１ｂ－Ｑは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。好ましいＱは、水素原子、またはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。
本反応で使用されるＤ１ｂ－Ｑの量は、式（１－ｇ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上３０当量以下である。また、Ｑが水素原子を表すときは、溶媒として使用することができる。
本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が好ましい。また、Ｑがアルカリ金属類のときは、塩基の使用は、必須ではない。
本反応に使用する塩基の量は、式（１－ｇ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上３０当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、Ｄ１ｂ－Ｈで表されるアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１－ｇ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１－ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１－ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１－ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｏ］
Figure 0007089506000084
式中、Ｒ２ｅは置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、Ｒ２ｆは置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、Ｒ２ｇはハロゲン原子を表し、ＨａｌＲ、Ｒ１、Ｒ３、Ｘ、Ｙおよび破線部は前記と同義である。
製造方法Ｏは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ２ｅが置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基であり、Ｒ２ｆが置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基であり、Ｒ２ｇがハロゲン原子である式（１－ｊ）で表される化合物を得る製造方法であって、式（１－ｉ）で表される化合物とハロゲン化剤（ＨａｌＲ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル（Ｎ－フルオロ－Ｎ’－トリエチレンジアミン ビス（テトラフルオロボラート））、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式（１－ｉ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、１当量以上１０当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、０．５当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、好ましくは１当量以上５当量以下である。
本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。
本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式（１－ｉ）で表される化合物に対して０．０１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、０．１当量以上３当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１－ｉ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（１－ｊ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（１－ｊ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（１－ｊ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｐ］
Figure 0007089506000085
式中、ＬａはＳを表し、ＬｂはＳＯまたはＳＯ２を表し、Ｏｘ’は酸化剤を表す。
製造方法Ｐは、式（１）で表される化合物中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３に含まれるＬｂがＳＯまたはＳＯ２である式（Ｌｂ）で表される化合物の製造方法であって、一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２またはＲ３に含まれるＬａがＳである式（Ｌａ）で表される化合物と酸化剤（Ｏｘ’）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用する酸化剤は、過酸化水素水、メタ－クロロ過安息酸等の過酸化物類等が挙げられる。また、タングステン酸ナトリウムのような遷移金属類を添加することもできる。
本反応に使用する酸化剤の量は、ＳＯを製造する際には式（Ｌａ）で表される化合物に対して、通常、１．０当量以上１．２当量以下であり、ＳＯ２を製造する際には、通常、２当量以上１０当量以下である。また、遷移金属類を添加する際には、通常、０．００１当量以上１当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸等の酸性系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（Ｌａ）を有する式（１）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１２０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（Ｌｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（Ｌｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（Ｌｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
次に製造方法Ａに記載されている式（３）で表される化合物の合成方法について記載する。
［製造方法Ｑ］
Figure 0007089506000086
式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、ｎ、ＸおよびＹは、前記と同義である。
製造方法Ｑは、式（３）で表される製造中間体の製造方法であって、式（４）で表される化合物と式（５）で表される化合物とを、塩基存在下溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
本反応に使用する式（４）で表される化合物は、例えば、グリーン ケミストリー（Ｇｒｅｅｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第４１巻、５８０－５８５頁や、ザ ジャーナル オブ オルガニック ケミストリー（Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第６５巻、２０号、６４５８－６４６１頁（２０００）．等を参照に合成することができる。
本反応に使用する式（５）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
本反応に使用する式（５）で表される化合物の量は、式（４）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは１当量以上３当量以下である。
本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム ｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。
本反応に使用する塩基は、触媒量で実施することが可能であり、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、式（４）で表される化合物に対して０．０１当量以上３当量以下である。
本反応に使用する溶媒は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（４）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－５０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｒ］
Figure 0007089506000087
式中、Ｒ５ａはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ２、Ｒ３、ｎ、ＸおよびＹは前記と同義である。
製造方法Ｒは、式（３）で表される化合物のうち、式（３ｂ）で表される製造中間体の製造方法であって、式（３ａ）で表される化合物を、酸性条件または塩基性条件下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
まず、酸性条件の反応について説明する。
本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。
本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、式（３ａ）で表される化合物に対して０．０１当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（３ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
次に、塩基性条件の反応について説明する。
本反応に使用する塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
本反応に使用する塩基は、式（３ａ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上３０当量以下である、
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（３ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理は、酸性条件での反応と塩基性条件の反応は共通の方法で行える。反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
前記で得られた式（３ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
前記で得られた式（３ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
溶媒留去後に得られた式（３ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
式（３ｂ）で表される化合物は、式（３ｂ’）
Figure 0007089506000088
（式中、Ｒ２、Ｒ３、ｎ、ＸおよびＹは前記と同義である。）
で表される異性体も含む。式（３ｂ’）で表される化合物は、式（３ｂ）で表される化合物と同様に取り扱うことが可能であり、製造方法Ａを適応することができる。また、式（３ｂ’）で表される化合物は不斉炭素を含むが、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。さらに、式（３ｂ）で表される化合物と式（３ｂ’）で表される化合物との混合物でもよく、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。
以上に示した、製造方法Ａ～製造方法Ｒを任意に組み合わせて、式（１）で表される化合物を製造することができる。もしくは、公知の方法と製造方法Ａ～製造方法Ｒとを任意に組み合わせても、式（１）で表される化合物を製造することができる。
本発明における「真菌感染症」とは、哺乳動物（例えば、ヒト、マウス、ラット、ハムスター、ウサギ、ネコ、イヌ、ウシ、ヒツジ、サル等）や鳥類等に「真菌」が寄生・定着および／または感染した結果、引き起こされる症状であり、その症状により表在性真菌症、深在性真菌症、深部皮膚真菌症に分類される。
表在性真菌症とは、哺乳動物等の皮膚の表層（角層）、爪、毛髪または皮膚に隣接する扁平上皮粘膜等表層のみに真菌が感染することで引き起こされる真菌症であり、例えば、各種白癬、黒色癬、頑癬、乾癬、皮膚・粘膜カンジダ感染症、マラセチア・フルフル感染症等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。深在性真菌症とは、哺乳動物等の皮下組織、骨や関節、内臓、中枢神経等に真菌が侵入することで引き起こされる真菌症であり、疫学的ならびに病因的論点から日和見感染症と地域流行型感染症（輸入）に分けられる。日和見感染症とは、免疫力の低下した哺乳動物等に真菌が感染する真菌症であり、例えば、カンジダ感染症、アスペルギルス感染症、クリプトコッカス症、接合菌感染症、トリコスポリン感染症、ニューモシスチス感染症、フザリウム感染症、シュードアレシェリア感染症、ペロミセス感染症、マラセチア感染症、ロドトルラ感染症、アルタナリア感染症およびこれらが原因となる真菌性髄膜炎、眼内炎、真菌性呼吸器感染症、真菌血症、尿路真菌症等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。地域流行型真菌症（輸入真菌症）とは、地球上の特定の地理的・気候的条件の地域に限って生息する真菌によって引き起こされる真菌症であり、例えば、コクジオイデス症、ヒストプラズマ症、パラコクシジオイデス症、マルネフェイ型ペニシリウム症、ブラストミセス症等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。深部皮膚真菌症とは、土壌中や植物表面に生息する特定の真菌が皮膚の穿刺・創傷を介して偶発的に生体組織内へ侵入することによって引き起こされる真菌症であり、例えば、スポロトリコーシス・シェンキー感染症、黒色真菌感染症、真菌性菌腫等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
真菌感染症を引き起こす真菌、すなわち、哺乳動物等に病原性を示す病原性真菌は、真菌（菌類）の分類学上、子嚢菌類、担子菌類、接合菌類、不完全菌類等に含まれる。例えば、アスペルギルス属真菌（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐｐ．）、ヒストプラズマ属真菌（Ｈｉｓｔｏｐｌａｓｍａ ｓｐｐ．）、ブラストマイセス属菌（Ｂｌａｓｔｏｍｙｃｅｓ ｓｐｐ．）は子嚢菌類、クリプトコッカス属真菌（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｓｐｐ．）は担子菌類、リゾムコール属真菌（Ｒｈｉｚｏｍｕｃｏｒ ｓｐｐ．）、ムコール属真菌（Ｍｕｃｏｒ ｓｐｐ．）、リゾプス属真菌（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｓｐｐ．）、アブシダ属真菌（Ａｂｓｉｄｉａ ｓｐｐ．）、コニデオボルス属真菌（Ｃｏｎｉｄｉｏｂｏｌｕｓ ｓｐｐ．）、バシデオボルス属真菌（Ｂａｓｉｄｉｏｂｏｌｕｓ ｓｐｐ．）は接合菌類、カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）、フォンセカエラ属真菌（Ｆｏｎｓｅｃａｅｒａ ｓｐｐ．）、マラセッジア属真菌（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐｐ．）、トリコスポリウム属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｉｕｍ ｓｐｐ．）、スポロソリックス属真菌（Ｓｐｏｒｏｔｈｒｉｘ ｓｐｐ）、トリコスポロン属菌（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｓｐｐ．）、マラセッジア属真菌（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐｐ．）は不完全菌類に分類される。また、真菌は栄養を摂取する細胞の形態・外観から、糸状菌、酵母に分類されている。例えば、アスペルギルス属真菌（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐｐ．）、ムコール属真菌（Ｍｕｃｏｒ ｓｐｐ．）等は糸状菌、カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）は酵母に分類される。
表在性真菌症を引き起こす病原性真菌としては、例えば、トリコフィトン属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｓｐｐ．）、例えば、トリコフィトン・アジェロイ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ａｊｅｌｌｏｉ）、トリコフィトン・メンタグロフィテス（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｍｅｎｔａｇｒｏｐｈｙｔｅｓ）、トリコフィトン・テレストレ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｔｅｒｒｅｓｔｒｅ）、トリコフィトン・ルブルム（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｒｕｂｒｕｍ）、トリコフィトン・メグニニイ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｍｅｇｎｉｎｉｉ）、トリコフィトン・エクイヌム（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｅｑｕｉｎｕｍ）、トリコフィトン・シェーンライニイ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｓｈｏｅｈｌｅｉｎｉｉ）、トリコフィトン・ルブルム（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｒｕｂｕｒｕｍ）、トリコフィトン・ヤウンデイ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｙａｏｕｎｄｅｉ）、トリコフィトン・クインケアナム（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｑｕｉｎｋｅａｎｕｍ）、トリコフィトン・トンズランス（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｔｏｎｓｕｒａｎｓ）、トリコフィトン・ベルコスム（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｖｅｒｒｕｃｏｓｕｍ）、トリコフィトン・ビオラセウム（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｖｉｏｌａｃｅｕｍ）、トリコフィトン・インテルジギターレ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｌｅ）、トリコフィトン・ソウダネンセ（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｓｏｕｄａｎｅｎｓｅ）；ミクロスポルム属真菌（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｓｐｐ．）、例えば、ミクロスポルム・ガリネ（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｇａｌｌｉｎａｅ）、ミクロスポルム・フェルギネウム（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｆｅｒｒｕｇｉｎｅｕｍ）、ミクロスポルム・オーズイニイ（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ａｕｄｏｕｉｎｉｉ）、ミクロスポルム・ジストルツム（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｄｉｓｔｏｒｔｕｍ）、ミクロスポルム・ナヌム（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｎａｎｕｍ）、ミクロスポルム・カニス（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｃａｎｉｓ）、ミクロスポルム・ジプセウム（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｇｙｐｓｅｕｍ）、ミクロスポルム・クーケイ（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｃｏｏｋｅｉ）、ミクロスポルム・バンブルーゼゲミイ（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｖａｎｂｒｅｕｓｅｇｈｅｍｉｉ）；エピデルモフィトン属真菌（Ｅｐｉｄｅｒｍｏｐｈｙｔｏｎ ｓｐｐ．）、例えば、エピデルモフィトン・フロコッサム（Ｅｐｉｄｅｒｍｏｐｈｙｔｏｎ ｆｌｏｃｃｏｓｕｍ）；カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）、例えば、カンジダ・グラブラタ（Ｃａｎｄｉｄａ ｇｌａｂｒａｔａ）、カンジダ・アルビカンス（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）、カンジダ・パラピシロシシ（Ｃａｎｄｉｄａ ｐａｒａｐｓｉｌｏｓｉｓ）、カンジダ・トロピカリス（Ｃａｎｄｉｄａ ｔｒｏｐｉｃａｌｉｓ）、カンジダ・ギリエロモンディ（Ｃａｎｄｉｄａ ｇｕｉｌｌｉｅｒｍｏｎｄｉｉ）、カンジダ・クルセイ（Ｃａｎｄｉｄａ ｋｒｕｓｅｉ）、カンジダ・ケフィール（Ｃａｎｄｉｄａ ｋｅｆｙｒ）；マラセチア属真菌（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐｐ．）、例えば、マラセチア・フルフル（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｆｕｒｆｕｒ）、マラセチア・パキデルマチス（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｐａｃｈｙｄｅｒｍａｔｉｓ）；スコプラリオプシス属真菌（Ｓｃｏｐｕｌａｒｉｏｐｓｉｓ ｓｐｐ．）；スキタリジウム属真菌（Ｓｃｙｔａｌｉｄｉｕｍ ｓｐｐ．）、例えば、スキタリジウム・ディミディアツム（Ｓｃｙｔａｌｉｄｉｕｍ ｄｉｍｉｄｉａｔｕｍ）、スキタリジウム・ヒアリナム（Ｓｃｙｔａｌｉｄｉｕｍ ｈｙａｌｉｎｕｍ）、スタキリジウム・リグニコラ（Ｓｃｙｔａｌｉｄｉｕｍ ｌｉｇｎｉｃｏｌａ）等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
深在性真菌症を引き起こす病原性真菌として、例えば、アブシダ属真菌（Ａｂｓｉｄａ ｓｐｐ．）；アクレモニウム属真菌（Ａｃｒｅｍｏｎｉｕｍ ｓｐｐ．）；アルタナリア属真菌（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｓｐｐ．）；アスペルギルス属真菌（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐｐ．）、例えば、アスペルギルス・クラツバス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｃｌａｖａｔｕｓ）、アスペルギルス・フミガーツス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉｇａｔｕｓ）、アスペルギルス・ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）、アスペルギルス・フラブス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｌａｖｕｓ）、アスペルギルス・ニドランス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｄｕｌａｎｓ）、アスペルギルス・テレウス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｔｅｒｒｅｕｓ）；バイポラリス属真菌（Ｂｉｐｏｌａｒｉｓ ｓｐｐ．）；バシデオボルス属真菌（Ｂａｓｉｄｉｏｂｏｌｕｓ ｓｐｐ．）；ブラストシゾミセス属真菌（Ｂｌａｓｔｏｃｈｉｚｏｍｙｃｅｓ ｓｐｐ．）；ブラストマイセス属真菌（Ｂｌａｓｔｏｍｙｃｅｓ ｓｐｐ．）；カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）、例えば、カンジダ・アアセリ（Ｃａｎｄｉｄａ ａａｓｅｒｉ）、カンジダ・アルビカンス（Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ）、カンジダ・ギリエルモンジイ（Ｃａｎｄｉｄａ ｇｕｉｌｌｉｅｒｍｏｎｄｉｉ）、カンジダ・フミコラ（Ｃａｎｄｉｄａ ｈｕｍｉｃｏｌａ）、カンジダ・グラブラタ（Ｃａｎｄｉｄａ ｇｌａｂｒａｔａ）、カンジダ・クルセイ（Ｃａｎｄｉｄａ ｋｒｕｃｅｉ）、カンジダ・ランビカ（Ｃａｎｄｉｄａ ｌａｍｂｉｃａ）、カンジダ・リポリチカ（Ｃａｎｄｉｄａ ｌｉｐｏｌｙｔｉｃａ）、カンジダ・ルシタニエ（Ｃａｎｄｉｄａ ｌｕｓｉｔａｎｉｅ）、カンジダ・パラプシロシス（Ｃａｎｄｉｄａ ｐａｒａｐｓｉｌｏｓｉｓ）、カンジダ・パラトロピカリス（Ｃａｎｄｉｄａ ｐａｒａｔｒｏｐｉｃａｌｉｓ）、カンジダ・シュードトロピカリス（Ｃａｎｄｉｄａ ｐｓｅｕｄｏｔｒｏｐｉｃａｌｉｓ）、カンジダ・ルゴーサ（Ｃａｎｄｉｄａ ｒｕｇｏｓａ）、カンジダ・ステラトイデア（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｔｅｌｌａｔｏｉｄｅａ）、カンジダ・ケフィル（Ｃａｎｄｉｄａ ｋｅｆｙｒ）、カンジダ・トロピカリス（Ｃａｎｄｉｄａ ｔｒｏｐｉｃａｌｉｓ）、カンジダ・ゼイラノイデス（Ｃａｎｄｉｄａ ｚｅｙｌａｎｏｉｄｅｓ）；コニデオボルス属真菌（Ｃｏｎｉｄｉｏｂｏｌｕｓ ｓｐｐ．）；クリプトコッカス属真菌（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｓｐｐ．）、例えば、クリプトコッカス・ネオフォルマンス（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｎｅｏｆｏｒｍａｎｓ）、クリプトコッカス・アルビズス（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ａｌｂｉｄｕｓ）、クリプトコッカス・ガストリクス（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｇａｓｔｒｉｃｓ）、クリプトコッカス・ラウレンチイ（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｌａｕｒｅｎｔｉｉ）、クリプトコッカス・テレウス（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｔｅｒｒｅｕｓ）、クリプトコッカス・ユニグツラーツス（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｕｎｉｇｕｔｔｕｌａｔｕｓ）；フザリウム属真菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｐｐ．）、例えば、フザリウム・ソラニ（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｏｌａｎｉ）、フザリウム・オキシスポラム（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、フザリウム・プロリフェラツム（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｐｒｏｌｉｆｅｒａｔｕｍ）、フザリウム・ベルチシリオイデス（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｏｉｄｅｓ）；ヒストプラズマ属真菌（Ｈｉｓｔｏｐｌａｓｍａ ｓｐｐ．）、例えば、ヒストプラズマ・デルマチチデズ（Ｈｉｓｔｏｐｌａｓｍａ ｄｅｒｍａｔｉｔｉｄｉｓ）；パエシロミセス属真菌（Ｐａｅｃｉｌｏｍｙｃｅｓ ｓｐｐ．）；ペニシリウム属真菌（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｓｐｐ．）、例えば、ペニシリウム・マルネフェイ（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｍａｒｎｅｆｆｅｉ）；リゾプス属真菌（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｓｐｐ．）、例えば、リゾプス・オリゼ（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｏｒｙｚａｅ）、リゾプス・ミクロスポルス（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｅｓ）；トリコデルマ属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ ｓｐｐ．）；ムコール属真菌（Ｍｕｃｏｒ ｓｐｐ．）、例えば、ムコール・シルシネロイデス（Ｍｕｃｏｒ ｃｉｒｃｉｎｅｌｌｏｉｄｅｓ）；マラセチア属真菌（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐｐ．）、例えば、マラセチア・フルフル（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｆｕｒｆｕｒ）、マラセチア・パキデルマチス（Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｐａｃｈｙｄｅｒｍａｔｉｓ）；トリコスポロン属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｓｐｐ．）、例えば、トリコスポロン・ベイゲリ（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｂｅｉｇｌｉｉ）、トリコスポロン・カビターツム（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｃａｐｉｔａｔｕｍ）、トリコスポロン・フェルメンタス（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｆｅｒｍｅｎｔａｎｓ）、トリコスポロン・プルランス（Ｔｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ ｐｕｌｌｕｌａｎｓ）；ニューモシスチス属真菌（Ｐｎｅｕｍｏｃｙｓｔｉｓ ｓｐｐ．）、例えば、ニューモシスチス・イロヴェチ（Ｐｎｅｕｍｏｃｙｓｔｉｓ ｊｅｒｏｖｅｃｉｉ）、ニューモシスチス・カリニ（Ｐｎｅｕｍｏｃｙｓｔｉｓ ｃａｒｉｎｉｉ）；ロドトルラ属真菌（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｓｐｐ．）、例えば、ロドトルラ・ムシラギノーサ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ ｍｕｃｉｌａｇｉｎｏｓａ）；スケドスポリウム属真菌（Ｓｃｅｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｓｐｐ．）、例えば、スケドスポリウム・アピオスペルムム（Ｓｃｅｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ａｐｉｏｓｐｅｒｍｕｍ）、スケドスポリウム・プロリフィカンス（Ｓｃｅｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｐｒｏｌｉｆｉｃａｎｓ）等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
深部皮膚真菌症を引き起こす病原性真菌としては、例えば、アクレモニウム属真菌（Ａｃｒｅｍｏｎｉｕｍ ｓｐｐ．）；アルスログラフィス属真菌（Ａｒｔｈｒｏｇｒａｐｈｉｓ ｓｐｐ．）；スポロトリックス属真菌（Ｓｐｏｒｏｔｈｒｉｘ ｓｐｐ．）、例えば、スポロトリックス・シェンキイ（Ｓｐｏｒｏｔｈｒｉｘ ｓｃｈｅｎｃｋｉｉ）；フォンセケア属真菌（Ｆｏｎｓｅｃａｅａ ｓｐｐ．）、例えば、フォンセケア・ペドロソイ（Ｆｏｎｓｅｃａｅａ ｐｅｄｒｏｓｏｉ）；エクソフィアラ属真菌（Ｅｘｏｐｈｉａｌａ ｓｐｐ．）、例えば、エクソフィアラ・デルマチチデス（Ｅｘｏｐｈｉａｌａ ｄｅｒｍａｔｉｔｉｄｉｓ）；マヅレラ・マイセトマティス（Ｍａｄｕｒｅｌｌａ ｍｙｃｅｔｏｍａｔｉｓ）；クラドスポリウム属真菌（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｓｐｐ．）、例えば、クラドスポリウム・カリオニ（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃａｒｒｉｏｎｉｉ）；フィアロフォラ属真菌（Ｐｈｉａｌｏｐｈｏｒａ ｓｐｐ．）、例えば、フィアロフォラ・ベルコーサ（Ｐｈｉａｌｏｐｈｏｒａ ｖｅｒｒｕｃｏｓａ）；リゾムコール属真菌（Ｒｈｉｚｏｍｕｃｏｒ ｓｐｐ．）、例えば、リゾムコール・ミーヘイ（Ｒｈｉｚｏｍｕｃｏｒ ｍｉｅｈｅｉ）、リゾムコール・プシルス（Ｒｈｉｚｏｍｕｃｏｒ ｐｕｓｉｌｌｕｓ）等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
本発明における「抗真菌剤」とは、真菌感染症の予防剤および／または治療剤を意味する。また、本発明化合物は、下記に記される既知の抗真菌剤、抗細菌剤（抗生物質）から選ばれる１つまたはそれ以上の成分と組合せて使用することができる。抗真菌剤としては、例えば、フルコナゾール、イトラコナゾール、ホスホフルコナゾール、ボリコナゾールおよびその塩等のアゾール系抗真菌剤、ブテナフィンおよびその塩等のベンジルアミン系抗真菌剤、テルビナフィンおよびその塩等のアリルアミン系抗真菌剤、アモロルフィンおよびその塩等のホルモリン系抗真菌剤、リラナフタート、トルナフテート、トルシクラートおよびチルシクラート等のチオカルバミン系抗真菌剤、ミコナゾール、ケトコナゾール、クロトリマゾール、エコナゾール、イソコナゾール、スルコナゾール、オキシコナゾール、クロコナゾール、ビフォナゾール、イトラコナゾール、チオコナゾール、オモコナゾール、スルコナゾール、ネチコナゾール、ラノコナゾール、ルリコナゾールおよびこれらの塩等のイミダゾール系抗真菌剤、エキノキャンディン等のエキノキャンディン系抗真菌剤、ミカファンギン、キャスポファンギン等のキャンディン系抗真菌剤、アンフォテイシンＢ、リボゾームアムホテリシンＢ、ナイスタチン等のポリエン系抗真菌剤、フルシトシン等のフルオピリジン系抗真菌剤、グリセオフルビン等のグリサン系抗真菌剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、既知の抗細菌剤としては、例えば、ジフェニルエーテル系抗細菌剤、カルバニリド系抗細菌剤、フェノール系抗細菌剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明化合物は、その使用目的に合わせて、投与方法、剤型を適宜決定することができる。例えば、本発明化合物を有効成分として含有する抗真菌剤の投与形態は、経口投与でも非経口投与（例えば、静注、筋注、皮下投与、直腸投与、経皮投与）でもよい。剤型としては、例えば、錠剤、粉剤、カプセル剤、顆粒剤、エキス剤、シロップ、被覆錠剤、散剤、丸剤、細粒剤、トローチ剤等の経口投与剤または注射剤、点滴剤、坐剤、軟膏、クリーム、液剤、ローション、点鼻剤、点眼剤等の非経口投与剤を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
本発明化合物を経口的または非経口的に投与する場合、特に限定されるものではないが、本発明化合物の他、賦形剤、結合剤、滑沢剤、崩壊剤、コーティング剤、可塑剤、懸濁剤または乳化剤、糖衣剤、防湿剤、流動化剤、界面活性剤、分散剤、等張化剤、水性基剤、油性基剤、乳化剤、懸濁剤、乳化安定剤、溶解補助剤、粉末成分、高分子成分、粘着性改良剤、被膜形成剤、ｐＨ調整剤、抗酸化剤、安定化剤、防腐剤、保存剤、保型剤、保湿剤、皮膚保護剤、皮膚浸透剤、清涼化剤、香料、着色剤、キレート剤、潤沢剤、角質軟化剤、血行促進剤、収斂剤、組織修復促進剤、制汗剤、植物抽出成分、動物抽出成分、添加剤等を必要に応じて配合し、製剤化することができる。また、必要に応じて、抗炎症剤を配合し、製剤化することができる。
製剤化に用いられる成分としては、特に限定されるものではないが、下記の成分が挙げられる。
賦形剤としては、例えば、Ｄ－マンニトール、乳糖、白糖、塩化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、コムギデンプン、コメデンプン、部分アルファー化デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸、無水リン酸カルシウム、沈降炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム等；
結合剤としては、例えば、ポビドン、デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルスターチ、エチルセルロース、メチルセルロース、カラギーナン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、ゼラチン、寒天、コポリビドン、精製セラック、アルファー化デンプン、アルギン酸ナトリウム、ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合物、ペクチン、ポリビニルアルコールポリエチレングリコールグラフトコポリマー、ヒプロメロース、ポリビニルアルコール、メタクリル酸コポリマーＬ、メタクリル酸コポリマーＬＤ、メタクリル酸コポリマーＳ、プルラン、アラビアゴム末等；
滑沢剤としては、例えば、硬化油、硬化ヒマシ油、ベヘン酸グリセリド、フマル酸ステアリルナトリウム、タルク、酸化チタン、グリセリン、グリセリン脂肪酸エステル、コムギデンプン、ショ糖脂肪酸エステル、ステアリルアルコール、ステアリン酸およびその塩、セタノール、ゼラチン、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール類、ポリソルベート類、マクロゴール類、モノステアリン酸グリセリンおよびラウリル硫酸ナトリウム等；
崩壊剤としては、例えば、カルメロース、カルボキシメチルスターチナトリウム、クロスポビドン、トウモロコシデンプン、デンプン、結晶セルロース、ステアリン酸およびその塩、タルク、クロスポビドンおよびセルロースまたはその誘導体等；
コーティング剤としては、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、カルボキシメチルエチルセルロース、カルメロースナトリウム、カルメロースカリウム、酢酸セルロース、酢酸フタル酸セルロース等のセルロース誘導体、アクリル酸エチル・メタクリル酸メチルコポリマー分散液、アミノアルキルメタクリレートコポリマーＥ 、アミノアルキルメタクリレートコポリマーＲ Ｓ、メタクリル酸コポリマーＬ、メタクリル酸コポリマーＬＤ、メタクリル酸コポリマーＳ、２－メチル－５－ビニルピリジンメチルアクリレート・メタクリル酸コポリマー、ジメチルアミノエチルメタアクリレート・メチルメタアクリレートコポリマ等のアクリル酸系高分子、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、マクロゴール等の合成高分子物質、プルラン、キトサン等の多糖類やゼラチン、コハク化ゼラチン、アラビアゴム、セラック等；
可塑剤としては、例えば、アジピン酸ジオクチル、クエン酸トリエチル、トリアセチン、グリセリン、濃グリセリン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリソルベート８０、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、ステアリン酸等；
糖衣剤としては、例えば、白糖、乳糖、水アメ、沈降炭酸カルシウム、アラビアゴム、カルナウバロウ、セラック、ミツロウ、マクロゴール、エチルセルロース、メチルセルロース、ポピドン等；
防湿剤としては、例えば、ケイ酸マグネシウム、軽質無水ケイ酸、硬化油、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、パラフィン、ヒマシ油、マクロゴール、酢酸ビニル樹脂、酢酸フタル酸セルロース、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、セラック等；
流動化剤としては、例えば、含水二酸化ケイ素、軽質無水ケイ酸、重質無水ケイ酸、結晶セルロース、合成ケイ酸アルミニウム、水酸化アルミナマグネシウム、メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、酸化チタン、ステアリン酸およびその塩、第三リン酸カルシウム、タルク、トウモロコシデンプン等；
界面活性剤としては、例えば、リン脂質、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ショ糖脂肪酸エステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリソルベート類、リン酸水素ナトリウム類およびリン酸水素カリウム類等；
分散剤としては、例えば、ツイーン８ ０、ポリエチレングリコール、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等；
保存剤としては、例えば、メチルパラベン、プロピルパラベン、ベンジルアルコール、クロロブタノール、フェノール等；
等張化剤としては、例えば、塩化ナトリウム、グリセリン、ソルビトール、ブドウ糖等；
水性基剤としては、例えば、蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等；
油性基剤としては、例えば、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、セトステアリルアルコール、セタノール、ベンジルアルコール等の高級アルコール類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、アジピン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジエチル、ミリスチン酸イソプロピル、オレイン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸イソステアリル、ラノリン等の脂肪酸エステル類、大豆油、牛脂、オリーブ油、ゴマ油、綿実油、コーン油等の中鎖脂肪酸トリグリセリド類、スクワレン、スクワラン等の脂肪酸、ホホバ油、ゲイロウ、白色ワセリン、流動パラフィン、マイクロクリスタリンワックス、ｌ－メントール、ｄ－カンファー、シネオール、ゲラニオール、リモネン、プレゴン、チモール、アフィジコリン、ホルスコリン、フィタン酸、フィトール等のテルペン類、乳酸メンチル等のテルペノイドのカルボン酸エステル類、クロタミトン、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、２－メトキシエタノール、１，２－ジメトキシエタン等のエーテル類等；
乳化剤または懸濁剤としては、例えば、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステル、モノステアリン酸ソルビタン、モノパルミチン酸ソルビタン、モノステアリン酸グリセリン、モノラウリン酸ソルビタン、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリソルベート類、ラウリル硫酸ナトリウム、ショ糖脂肪酸エステル、レシチン等；
乳化安定剤としては、例えば、セトステアリルアルコール等の高級アルコール類、アクリル酸ポリマー、カルボキシビニルポリマー、キサンタンガム等の多糖類等；
溶解補助剤としては、例えば、プロピレングリコール、１，３－ブチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の低分子ケトン類、マクロゴール類等；
粉末成分としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、ステアリン酸マグネシウム、タルク、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、無水ケイ酸、含水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、カオリン、アエロジル、酸性白土、マイカ、トウモロコシデンプン、メタケイ酸アルミニウム等；
高分子成分としては、例えば、アクリル酸ポリマー、カルボキシビニルポリマー、例えばキサンタンガム等の多糖類、ポリペプチド等；
粘着性改良剤としては、例えば、セトステアリルアルコール等の高級アルコール類、アクリル酸ポリマー、カルボキシビニルポリマー、キサンタンガム等の多糖類、ポリペプチド等；
被膜形成剤としては、例えば、セトステアリルアルコール等の高級アルコール類、アクリル酸ポリマー、カルボキシビニルポリマー、キサンタンガム等の多糖類、ポリペプチド、コロジオン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、例えば、ニトロセルロース等のセルロース類等；
ｐＨ調整剤としては、例えば、クエン酸、リン酸、乳酸、炭酸、酒石酸、ステアリン酸、フマル酸、酢酸、パルミチン酸、オレイン酸、アミノ酸、コハク酸、乳酸等の有機酸類、ピロリン酸ナトリウム等の有機酸塩類、水酸化ナトリウム等の無機塩基類、ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アミン類等；
抗酸化剤としては、例えば、アスコルビン酸およびそのエステル、Ｌ－システイン、天然ビタミンＥ、エデト酸ナトリウム、塩酸システイン、重亜硫酸ナトリウム、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、α－トコフェロール、エリソルビン酸、ピロ亜硫酸ナトリウム、クエン酸水和剤、ジブチルヒドロキシトルエン、大豆レシチン、ブチルヒドロキシアニソール、没食子酸プロピル等；
安定化剤としては、例えば、ＥＤＴＡ－２ナトリウム等；
防腐剤または保存剤としては、例えば、二酸化塩素、第四級アンモニウム化合物、セトリミド、水銀剤、アルコール剤、抗菌性エステル、クロロクレゾール、メチルパラベン等のパラベン類、ベンジルアルコール、デヒドロ酢酸ナトリウム、クロロブタノール、フェノール、ソルビン酸、安息香酸等；
保型剤としては、例えば、植物性テキシトリン、ショ糖エステル等；
保湿剤としては、例えば、ヒアルロン酸ナトリウム、コンドロイチン硫酸ナトリウム、グリコシルトレハロース、キシリトール、ソルビトール等の糖類、コラーゲン、アルギニン、加水分解シルク、セリシン等の蛋白質やアミノ酸類、乳酸ナトリウム、後述の植物抽出成分等；
皮膚保護剤としては、例えば、リボフラビンリン酸ナトリウム、リン酸アスコルビルマグネシウム、シアノコバラミン等のビタミン誘導体類、グリコシルルチン等のポリフェノール類、ヒドロキシプロリン、ジパルミトイルヒドロキシプロリン等のヒドロキシプロリンまたはその誘導体、セラミド、アミノカプロン酸、ステアロキシメチルポリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸等のシロキサン誘導体、セレブロシド等の糖脂質類等；
皮膚浸透剤としては、例えば、エチルアルコール、２－プロパノール、オクチルフェニルポリエチレングリコール、オレイン酸、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、脂肪酸エステル等；
清涼化剤としては、例えば、ハッカ油、カンフル、エタノール、ユーカリ油等；
着香剤としては、例えば、メントール、はっか油、レモン油、オレンジ油等；
着色剤としては、例えば、食用黄色４号、食用黄色５号、食用赤色２号、食用赤色１０２号、食用青色１号、食用青色２号、食用黄色４号、アルミニウムキレート等のタール系色素、酸化チタン、酸化亜鉛、タルク、ウコン抽出液、カラメル、カロチン液、ベータカロテン、銅クロロフィル、銅クロロフィリンナトリウム、リボフラビン、カーボンブラック、薬用炭等；
キレート剤としては、例えば、エデト酸塩、エチドロン酸４ナトリウム、三リン酸５ナトリウム、ペンテト酸５ナトリウム等；
潤沢剤としては、例えば、シリカ、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム等；
角質軟化剤としては、例えば、尿素、フタル酸ジエチル等の有機酸エステル類、乳酸等の有機酸類、鯨蝋、コレステロール等の油脂類等；
血行促進剤としては、例えば、ニコチン酸ベンジル、ヘパリン類似物質、トウガラシ等；
収斂剤としては、例えば、塩化アルミニウム、アルジオキサ等；
組織修復促進剤としては、例えば、アルミニウムクロロヒドロキシアラントイネート、塩化リゾチーム等；
制汗剤としては、例えば、ハロゲン化アルミニウム、ヒドロキシハロゲン化アルミニウム、オキシハロゲン化ジルコニウム、ヒドロキシハロゲン化ジルコニウム、およびそれらの混合物のようなアルミニウム塩およびジルコニウム塩等のアルミニウム、ジルコニウムおよび亜鉛の無機塩および有機塩若しくは錯体およびそれらの混合物等、クエン酸、乳酸、こうじ酸、メントール等；
植物抽出成分としては、例えば、アロエエキス、オウゴンエキス、ソウハクヒエキス、モモ葉エキス、クチナシ葉エキス、エゾウゴキエキス、オウバクエキス、オトギリソウエキス、米糠エキス、緑茶エキス、甘草エキス、紅藻エキス、チョウジエキス、トウキエキス、トウガラシエキス、ローズマリー油等；
動物抽出成分としては、例えば、冬虫夏草エキス、ローヤルゼリーエキス等；
添加剤としては、例えば、乳糖、コーンスターチ、白糖、ブドウ糖、マンニトール、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアゴム、トラガント、ゼラチン、シェラック、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレン、ブロックポリマー、メグルミン、澱粉、寒天、ゼラチン末、結晶セルロース、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチン、カルボキシメチルセルロース、カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化植物油等；
抗炎症剤としては、例えば、クロタミトン、グリチルリチン酸塩、オレアノール酸等のサポゲニン類、ジフェンヒドラミン、クロルフェニラミン、マレイン酸クロルフェニラミン、ジメンヒドリナート、プロメタジン等の抗ヒスタミン剤、リドカイン、ジブカイン、プロカイン、アミノ安息香酸エチルおよびこれらの塩等の局所麻酔剤、アラントイン、オキシポリエントキシドデカン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明は、真菌感染症を予防および／または治療する方法であって、それを必要とする対象に本発明化合物の有効量を投与することを含む方法にも関する。ここで、対象とは、前述の哺乳動物及び鳥類等をいう。
本発明化合物を有効成分として含む抗真菌剤の投与量は症状、投与対象の年齢、体重、性別等を考慮して、個々の場合に応じて適宜決定され、特に限定されるものではないが、通常、成人１人当たりの経口投与の場合、０．１－１０００ｍｇ、非経口投与の場合０．０１－１００ｍｇ程度が適当であり、これを１日に１回または複数回投与する。投与量は種々の条件で変動するので、上記投与量範囲より少ない量で充分な場合もある。
以下に、合成例、参考例、および試験例を挙げて、本発明をさらに詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［合成例１］
ステップ１：５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure 0007089506000089
４－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－５－（２，６－ジフルオロフェニル）－５－オキソペンタン酸 １．４７ｇと酢酸アンモニウム ６．７５ｇを含む酢酸溶液 １０ｍｌを、１３０℃にて１４時間反応した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層に水を加え、さらに発砲がおさまるまで炭酸カリウムを加えた後に分液した。次いで、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行った後に、ジイソプロピルエーテルにより析出物を洗浄した。得られた紫色固体は表題の化合物であり、０．９８ｇであった。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．２５－７．２１ （１Ｈ， ｍ）， ７．１９ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．８ Ｈｚ）， ６．８３－６．７６ （３Ｈ， ｍ）， ６．６５ （１Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ８．８， ３．４ Ｈｚ）， ６．５３ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ３．４ Ｈｚ）， ３．６１ （３Ｈ， ｓ）， ２．９１－２．７６ （４Ｈ， ｍ）．
ステップ２：５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号５２）
Figure 0007089506000090
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ０．５０ｇを含むＤＭＦ溶液 ５ｍｌに、ヨウ化エチル ３４６μｌと炭酸セシウム １．４１ｇを加えて、６０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物は０．５４ｇの白色固体として得られた。
［合成例２］
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号５３）
Figure 0007089506000091
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ５２０ｍｇを含む四塩化炭素溶液 ２０ｍｌに、Ｎ－ブロモスクシンイミド ２５８ｍｇとアゾビスイソブチロニトリル ２３ｍｇを加えて、８０℃で９０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水を加えて、減圧下で四塩化炭素を留去した。これに酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が４６７ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例３］
３－クロロ－５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号５４）
Figure 0007089506000092
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オン １１０ｍｇを含むＤＭＦ溶液 ２ｍｌにＮ－クロロスクシンイミド ４３ｍｇを加えて、７０℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製を行った。表題の化合物が１１４ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例４］
５－（２－クロロ－５－ヒドロキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号２３４）
Figure 0007089506000093
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オン ４．０ｇを含むジクロロメタン溶液 ４０ｍｌを氷冷し、１．０ｍｏｌ／ｌの三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液 ２３．４ｍｌを滴下した。氷冷下で３０分間撹拌した後に、反応混合物に水を加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をヘキサンで洗浄した。表題の化合物が３．９ｇの白色固体として得られた。
［合成例５］
５－（２－クロロ－５－（メトキシメトキシ）フェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号９７）
Figure 0007089506000094
水素化ナトリウム（約６０重量％、流動パラフィンに分散した状態） ０．０８ｇと５－（２－クロロ－５－ヒドロキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オン ０．６２ｇを含むＴＨＦ溶液に、クロロメチルメチルエーテル ０．０８ｇを加えて、室温で３時間撹拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が０．４６ｇの白色固体として得られた。
［合成例６］
３－クロロ－５－（２－クロロ－５－（メトキシメトキシ）フェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号１２７）
Figure 0007089506000095
５－（２－クロロ－５－（メトキシメトキシ）フェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オン ２１９ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド ７９ｍｇを含むＤＭＦ溶液 ３ｍｌを７０℃にて１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２０３ｍｇの黄色ガム状物質として得られた。
［合成例７］
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，２－ジフルオロエチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号１９２）
Figure 0007089506000096
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ０．５０ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸２，２－ジフルオロエチル ０．６８ｇと炭酸セシウム １．４０ｇを含むＤＭＦ溶液１０ｍｌを、８０℃で４時間撹拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を１規定の塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が０．４８ｇの白色固体として得られた。
［合成例８］
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，２－ジフルオロエチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号１９４）
Figure 0007089506000097
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，２－ジフルオロエチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ０．４２ｇを含む四塩化炭素溶液 １５ｍｌに、Ｎ－ブロモスクシンイミド １９０ｍｇとアゾビスイソブチロニトリル １６ｍｇを加えて、８０℃で１５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水を加えて、減圧下で四塩化炭素を留去した。これに酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が０．３８ｇの白色固体として得られた。
［合成例９］
３－ブロモ－５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，２－ジフルオロエチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号１９８）
Figure 0007089506000098
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，２－ジフルオロエチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン １２５ｍｇとＮ－ブロモスクシンイミド ６５ｍｇを含むＤＭＦ溶液 ５ｍｌを７０℃で２時間撹拌した。これにＮ－ブロモスクシンイミド ２７ｍｇを追加して、さらに７０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去をした後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１０９ｍｇのオフホワイト固体として得られた。
［合成例１０］
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－３－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure 0007089506000099
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ５００ｍｇを含むＴＨＦ溶液 １０ｍｌを－７８℃に冷却し、１．０９ｍｏｌ／ｌのリチウムジイソプロピルアミドのＴＨＦ溶液 １．３３ｍｌを滴下して、同温で３０分間撹拌した。次いで、これにヨウ化メチル ８２μｌを含むＴＨＦ溶液 ２ｍｌを滴下して－７８℃で２時間撹拌した後に、室温まで昇温した。さらに室温で２時間撹拌した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１０１ｍｇの白色固体として得られた。また、得られた表題の化合物は立体異性混合物であった。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．２４－７．１７ （１Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， ７．１５－７．１３ （１Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， ６．８７－６．７１ （２Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， ６．５７－６．４９ （２Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， ３．７０－３．１４ （２Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， ３．６５ （３Ｈ， ｓ：ｍａｊｏｒ）， ３．５８ （３Ｈ， ｓ：ｍｉｎｏｒ）， ２．９８－２．７０ （２Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， ２．４６－２．３７ （１Ｈ， ｍ：ｍｉｘｔｕｒｅ）， １．３５ （３Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ６．７ Ｈｚ：ｍｉｎｏｒ）， １．３３ （３Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ７．０ Ｈｚ：ｍａｊｏｒ）， １．００－０．９６ （３Ｈ， ｍ）．
立体異性混合物比：約５７：４３
［合成例１１］
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－３－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号３２９）
Figure 0007089506000100
５－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－３－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ４１３ｍｇと二酸化マンガン ５．４８ｇを含むジクロロメタン溶液 １０ｍｌを加熱還流下で１１時間撹拌した。さらに二酸化マンガン １．８３ｇを追加して、加熱還流下で３時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物をセライト濾過した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２９１ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１２］
ステップ１：５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure 0007089506000101
４－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸 ４．４６ｇと酢酸アンモニウム ４５．９ｇを含む酢酸溶液 ２５ｍｌを１３０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層に水を加え、さらに発泡がおさまるまで炭酸カリウムを加えた後に分液した。次いで、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、ジイソプロピルエーテルで析出物を洗浄した。得られた白色固体は表題の化合物であり、２．２４ｇであった。また、析出物を洗浄した際に生じた濾液を、減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。濾液から得た白色固体も表題の化合物であり、０．４６ｇであった。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．２８－７．２６ （１Ｈ， ｍ）， ７．１８ （１Ｈ， ｂｒ ｓ）， ６．８６－６．８３ （１Ｈ， ｍ）， ６．７４－６．７２ （１Ｈ， ｍ）， ６．６１－６．５９ （２Ｈ， ｂｒ ｍ）， ２．８５－２．７４ （４Ｈ， ｂｒ ｍ）．
ステップ２：５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号３２０）
Figure 0007089506000102
５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ２．７０ｇ、炭酸セシウム ７．４２ｇとヨウ化エチル ３．５５ｇを含むＤＭＦ溶液 ３２ｍｌを、５５℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２．４７ｇの赤紫色ガム状物質として得られた。
［合成例１３］
５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号３２１）
Figure 0007089506000103
５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ０．２１ｇと二酸化マンガン １．４２ｇを含むトルエン溶液 ５ｍｌを、９０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物をセライト濾過した。濾液を減圧下で溶媒留去をした後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が０．１４ｇの白色固体として得られた。
［合成例１４］
３－ブロモ－５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号３８１）
Figure 0007089506000104
５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン ０．６０ｇとＮ－ブロモスクシンイミド ０．３３ｇを含むＤＭＦ溶液 ３０ｍｌを７５℃で２．５時間撹拌した。さらに、Ｎ－ブロモスクシンイミド ０．１０ｇを追加して、７５℃で１．５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が０．６４ｇの白色固体として得られた。
［合成例１５］
５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－３－メチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号４６１）
Figure 0007089506000105
３－ブロモ－５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン ２５０ｍｇ、メチルボロン酸４９ｍｇ、酢酸パラジウム（ＩＩ）６ｍｇ、リン酸三カリウム４０３ｍｇとトリシクロヘキシルホスフィン １５ｍｇを含むトルエン ８ｍｌと水 ０．８ｍｌの混合溶液を、１００℃で７時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１１６ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１６］
３－ブロモ－５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－６－（２，６－ジフルオロ－４－メトキシフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号４７６）
Figure 0007089506000106
３－ブロモ－５－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン ３００ｍｇのメタノール溶液 ８ｍｌに２８重量％のナトリウムメトキシドのメタノール溶液 ０．６３ｍｌを加えて、加熱還流下で１３時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２７１ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１７］
ステップ１：５－（３，５－ジメトキシフェニル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure 0007089506000107
参考例３で得られた未精製の４－（３，５－ジメトキシフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸に、酢酸アンモニウム １４．１８ｇと酢酸 １５ｍｌを加えて、１２０℃で１０時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体にイソプロピルエーテルを加えて洗浄した。表題の化合物が０．９９ｇの褐色固体として得られた。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ６．６８ （１Ｈ， ｓ）， ６．６２ （２Ｈ， ｔｄ， Ｊ ＝ ８．７， １．４ Ｈｚ）， ６．２６ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ２．１ Ｈｚ）， ６．１６ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ２．１ Ｈｚ）， ３．６５ （６Ｈ， ｓ）， ２．８７－２．８６ （２Ｈ， ｍ）， ２．７３－２．７１ （２Ｈ， ｍ）．
ステップ２：５－（３，５－ジメトキシフェニル）－１－メチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure 0007089506000108
５－（３，５－ジメトキシフェニル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ３４３ｍｇ、ヨウ化メチル １７６μｌと炭酸セシウム １．８５ｇを含むＤＭＦ溶液 ６ｍｌを室温で３時間撹拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水、チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が３４６ｍｇの白色固体として得られた。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ６．６２－６．６０ （２Ｈ， ｍ）， ６．２３ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ２．１ Ｈｚ）， ６．１３ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ２．１ Ｈｚ）， ３．６５ （６Ｈ， ｓ）， ２．８７ （３Ｈ， ｓ）， ２．７６－２．７４ （４Ｈ， ｍ）．
［合成例１８］
５－（３，５－ジメトキシフェニル）－１－メチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号１３４）
Figure 0007089506000109
５－（３，５－ジメトキシフェニル）－１－メチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン ３２０ｍｇと二酸化マンガン ４．４２ｇを含むジクロロメタン溶液 １２ｍｌを、加熱還流下で５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物をセライト濾過した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２６３ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１９］
５－（２－クロロ－３，５－ジメトキシフェニル）－１－メチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号１３６）
Figure 0007089506000110
５－（３，５－ジメトキシフェニル）－１－メチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン １６３ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド ６４ｍｇを含むＤＭＦ溶液 ６ｍｌを、８０℃で５時間撹拌した。さらにＮ－クロロスクシンイミド ４５ｍｇを追加して、１００℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１５０ｍｇの白色固体として得られた。
〈参考例１〉
ステップ１：２－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，６－ジフルオロフェニル）エタノンの合成
Figure 0007089506000111
２－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）酢酸 ２．０５ｇを含むＴＨＦ溶液 ３０ｍｌを－７８℃に冷却した後に、１．９ｍｏｌ／ＬのヘキサメチルジシラザンナトリウムのＴＨＦ溶液 １７．２１ｍｌを－５０℃以下で滴下して、－７８℃で４０分間撹拌した。これに２，６－ジフルオロ安息香酸メチル １．７６ｇを含むＴＨＦ溶液 １０ｍｌを－７８℃で滴下した後に、室温まで昇温して１．５時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後に、酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製することにより、表題の化合物を２．５８ｇの黄色油状物質として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．４０－７．３８ （１Ｈ， ｍ）， ７．２８－７．２７ （１Ｈ， ｍ）， ６．９６－６．９４ （２Ｈ， ｍ）， ６．８３ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ３．１ Ｈｚ）， ６．７８ （１Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ８．９， ３．１ Ｈｚ）， ４．２７ （２Ｈ， ｓ）， ３．７９ （３Ｈ， ｓ）．
ステップ２：４－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－５－（２，６－ジフルオロフェニル）－５－オキソペンタン酸エチルの合成
Figure 0007089506000112
２－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－１－（２，６－ジフルオロフェニル）エタノン １．３０ｇを含むＴＨＦ溶液 １５ｍｌに、カリウム ｔ－ブトキシド ９８ｍｇとアクリル酸エチル ５２５μｌを加えて、氷冷下で終夜で撹拌した。反応混合物に１規定の塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、表題の化合物を１．６９ｇの黄色油状物質として得た。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．３６－７．２５ （１Ｈ， ｍ）， ７．１９ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．９ Ｈｚ）， ６．８３ （２Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ８．１ Ｈｚ）， ６．７４－６．７１ （２Ｈ， ｍ）， ４．９１ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．２ Ｈｚ）， ４．１３ （２Ｈ， ｑ， Ｊ ＝ ７．１ Ｈｚ）， ３．７６ （３Ｈ， ｓ）， ２．５７－２．５３ （１Ｈ， ｍ）， ２．４２－２．２９ （２Ｈ， ｍ）， ２．１６－２．０７ （１Ｈ， ｍ）， １．２５ （３Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．１ Ｈｚ）．
ステップ３：４－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－５－（２，６－ジフルオロフェニル）－５－オキソペンタン酸の合成
Figure 0007089506000113
４－（２－クロロ－５－メトキシフェニル）－５－（２，６－ジフルオロフェニル）－５－オキソペンタン酸エチル １．６９ｇを含むＴＨＦ ４０ｍｌと水 １０ｍｌとの混合溶液に、水酸化リチウム１水和物 ０．７４ｇを加えて、６０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後に、液量が半分程度になるまで反応混合物の溶媒を留去した。これに水とジエチルエーテルを加えて分液し、得られた水層に濃塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで、減圧下にて溶媒留去した後に、表題の化合物を１．４７ｇの黄色ガム状物質として得た。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．２８－７．２７ （１Ｈ， ｍ）， ７．１９ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．６ Ｈｚ）， ６．８３ （２Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ８．３ Ｈｚ）， ６．７５－６．７４ （１Ｈ， ｍ）， ６．７１ （１Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ８．６， ３．１ Ｈｚ）， ４．９２ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．３ Ｈｚ）， ３．７５ （３Ｈ， ｓ）， ２．６０－２．３４ （３Ｈ， ｍ）， ２．１５－２．１２ （１Ｈ， ｍ）．
〈参考例２〉
ステップ１：Ｎ’－（２－クロロ－５－フルオロベンジリデン）－４－メチルベンゼンスルホニルヒドラジドの合成
Figure 0007089506000114
２－クロロ－５－フルオロベンズアルデヒド ２５．４３ｇと４－メチルベンゼンスルホニルヒドラジド ２９．８７ｇを含むエタノール溶液 ２５０ｍｌを室温で４時間撹拌した。次いで、反応混合物を氷冷下で１時間撹拌した後に析出物を濾過し、表題の化合物を４０．７４ｇの白色固体として得た。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ８．２７ （１Ｈ， ｓ）， ８．１０ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ １．８ Ｈｚ）， ７．８８ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．２ Ｈｚ）， ７．５８ （１Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ９．２， ３．１ Ｈｚ）， ７．３４ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．２ Ｈｚ）， ７．３０－７．２８ （１Ｈ， ｍ）， ７．０２－６．９９ （１Ｈ， ｍ）， ２．４３ （３Ｈ， ｓ）．
ステップ２：２－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－（２，４，６－トリフルオロフェニル）エタノンの合成
Figure 0007089506000115
水酸化ナトリウム ４．０ｇを含む水溶液 ６００ｍｌに、Ｎ’－（２－クロロ－５－フルオロベンジリデン）－４－メチルベンゼンスルホニルヒドラジド ３２．７ｇと２，４，６－トリフルオロベンズアルデヒド ８．０ｇを加えて、８０℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと塩化アンモニウム １５．０ｇを加えて撹拌し、分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が６．１３ｇの淡黄色固体として得られた。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．３６－７．３４ （１Ｈ， ｍ）， ７．０４－７．０２ （１Ｈ， ｍ）， ６．９８－６．９６ （１Ｈ， ｍ）， ６．７６－６．７２ （２Ｈ， ｍ） ４．２６ （２Ｈ， ｓ）．
ステップ３：４－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸エチルの合成
Figure 0007089506000116
２－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－１－（２，４，６－トリフルオロフェニル）エタノン ６．１３ｇを含むＴＨＦ溶液 ７５ｍｌを氷冷し、カリウム ｔ－ブトキシド ０．４５ｇとアクリル酸エチル ２．２３ｇを加えて、室温で８時間撹拌した。反応混合物に１０％の塩酸を加えた後に、水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が４．９７ｇの淡黄色油状物質として得られた。１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．３０ （１Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ８．９， ５．２ Ｈｚ）， ７．０１－６．９８ （１Ｈ， ｍ）， ６．９２－６．９０ （１Ｈ， ｍ）， ６．６６－６．６０ （２Ｈ， ｍ）， ４．８９ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．２ Ｈｚ）， ４．１３ （２Ｈ， ｑ， Ｊ ＝ ７．２ Ｈｚ）， ２．５４－２．５２ （１Ｈ， ｍ）， ２．３５－２．３１ （２Ｈ， ｍ）， ２．１２－２．０９ （１Ｈ， ｍ）， １．２５ （３Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．２ Ｈｚ）．
ステップ４：４－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸の合成
Figure 0007089506000117
４－（２－クロロ－５－フルオロフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸エチル ４．９７ｇを含むＴＨＦ溶液 １００ｍｌに、水 ２５ｍｌと水酸化リチウム１水和物２．５９ｇを加えて、６０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を減圧下で溶媒留去した。これに、水とジエチルエーテルを加えて分液を行った。次いで、得られた水層に濃塩酸を加えて酸性化した後に、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、表題の化合物が４．４６ｇの無色透明ガム状物質として得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ７．３２－７．２９ （１Ｈ， ｍ）， ７．００－６．９７ （１Ｈ， ｍ）， ６．９４－６．８９ （１Ｈ， ｍ）， ６．６４－６．６０ （２Ｈ， ｍ）， ４．８９ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．２ Ｈｚ）， ２．５８－２．０６ （４Ｈ， ｍ）．
〈参考例３〉
ステップ１：Ｎ’－（３，５－ジメトキシベンジリデン）－４－メチルベンゼンスルホニルヒドラジドの合成
Figure 0007089506000118
３，５－ジメトキシベンズアルデヒド １０．０ｇと４－メチルベンゼンスルホニルヒドラジド １１．２ｇを含むエタノール溶液 １００ｍｌを室温で５時間撹拌した。得られた反応混合物を減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物が２０．０ｇの黄色固体として得られた。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ８．１３ （１Ｈ， ｓ）， ７．８７ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ７．８ Ｈｚ）， ７．６８ （１Ｈ， ｓ）， ７．３０ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ７．８ Ｈｚ）， ６．７２ （２Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ２．４ Ｈｚ）， ６．４６ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ２．４ Ｈｚ）， ３．７９ （６Ｈ， ｓ）， ２．４０ （３Ｈ， ｓ）．
ステップ２：２－（３，５－ジメトキシフェニル）－１－（２，４，６－トリフルオロフェニル）エタノンの合成
Figure 0007089506000119
Ｎ’－（３，５－ジメトキシベンジリデン）－４－メチルベンゼンスルホニルヒドラジド ６．６８ｇを含む水溶液 １００ｍｌに、水酸化ナトリウム ０．８０ｇを溶解した水溶液 ２０ｍｌと ２，４，６－トリフルオロベンズアルデヒド １．６０ｇを加えて、８０℃で９０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１．８５ｇの黄色油状物質として得られた。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ６．６８－６．６６ （２Ｈ， ｍ）， ６．３５ （３Ｈ， ｓ），４．０６ （２Ｈ，ｓ）， ３．７５ （６Ｈ， ｓ）．
ステップ３：４－（３，５－ジメトキシフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸エチルの合成
Figure 0007089506000120
２－（３，５－ジメトキシフェニル）－１－（２，４，６－トリフルオロフェニル）エタノン １．８５ｇを含むＴＨＦ溶液 １８ｍｌに、カリウム ｔ－ブトキシド ６７ｍｇとアクリル酸エチル ７１４μｌを加えて、氷冷下で終夜撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１．５１ｇの褐色油状物質として得られた。
１Ｈ－ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ： ６．６１－６．５７ （２Ｈ， ｍ）， ６．３１－６．２９ （３Ｈ， ｍ）， ４．１９ （１Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．３ Ｈｚ）， ４．１３ （２Ｈ， ｑ， Ｊ ＝ ７．１ Ｈｚ）， ３．７３ （６Ｈ， ｓ）， ２．４９－２．４７ （１Ｈ， ｍ）， ２．３０ （２Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．５ Ｈｚ）， ２．０９－２．０７ （１Ｈ， ｍ）， １．２５ （３Ｈ， ｔ， Ｊ ＝ ７．１ Ｈｚ）
ステップ４：４－（３，５－ジメトキシフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸の合成
Figure 0007089506000121
４－（３，５－ジメトキシフェニル）－５－オキソ－５－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ペンタン酸エチル １．５１ｇと濃塩酸３ｍｌを含む酢酸溶液 １５ｍｌを６０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去し、表題の化合物が得られた。これ以上精製することなく、次工程の反応に使用した。
表４に、前記した実施例に準じて合成した化合物を示すが、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。
構造Ａは以下を表す。
Figure 0007089506000122
構造Ｂは以下を表す。
Figure 0007089506000123
構造Ｃは以下を表す。
Figure 0007089506000124
構造Ｄは以下を表す。
Figure 0007089506000125
Figure 0007089506000126
Figure 0007089506000127
Figure 0007089506000128
Figure 0007089506000129
Figure 0007089506000130
Figure 0007089506000131
Figure 0007089506000132
Figure 0007089506000133
Figure 0007089506000134
Figure 0007089506000135
Figure 0007089506000136
Figure 0007089506000137
Figure 0007089506000138
Figure 0007089506000139
Figure 0007089506000140
Figure 0007089506000141
Figure 0007089506000142
Figure 0007089506000143
Figure 0007089506000144
Figure 0007089506000145
次に、表４に記載の化合物について、表５にそれらの１Ｈ－ＮＭＲデータを示す。
Figure 0007089506000146
Figure 0007089506000147
Figure 0007089506000148
Figure 0007089506000149
Figure 0007089506000150
Figure 0007089506000151
Figure 0007089506000152
Figure 0007089506000153
Figure 0007089506000154
Figure 0007089506000155
Figure 0007089506000156
Figure 0007089506000157
Figure 0007089506000158
Figure 0007089506000159
Figure 0007089506000160
Figure 0007089506000161
Figure 0007089506000162
Figure 0007089506000163
Figure 0007089506000164
Figure 0007089506000165
Figure 0007089506000166
Figure 0007089506000167
Figure 0007089506000168
Figure 0007089506000169
Figure 0007089506000170
Figure 0007089506000171
Figure 0007089506000172
Figure 0007089506000173
Figure 0007089506000174
Figure 0007089506000175
Figure 0007089506000176
Figure 0007089506000177
Figure 0007089506000178
Figure 0007089506000179
Figure 0007089506000180
Figure 0007089506000181
Figure 0007089506000182
Figure 0007089506000183
Figure 0007089506000184
Figure 0007089506000185
Figure 0007089506000186
Figure 0007089506000187
Figure 0007089506000188
Figure 0007089506000189
Figure 0007089506000190
Figure 0007089506000191
Figure 0007089506000192
Figure 0007089506000193
Figure 0007089506000194
Figure 0007089506000195
Figure 0007089506000196
Figure 0007089506000197
Figure 0007089506000198
Figure 0007089506000199
Figure 0007089506000200
Figure 0007089506000201
Figure 0007089506000202
以下、本発明化合物が真菌感染症に有効であることを具体的に示すが、これらの例に限定されるものではない。
［試験例］
供試菌としてＣａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ、Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｎｅｏｆｏｒｍａｎｓ、Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉｇａｔｕｓ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｏｌａｎｉ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ、Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｒｕｂｒｕｍ、Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｇｙｐｓｅｕｍを用いて試験を行った。
供試化合物として化合物番号３２、５４、７５、８２、９８、１３６、１９７、２２４、３２２、３４２、３８６、４０３、４０４、４１６、４２１、４６１、４８８、４９０、５０４、５８５、５８７、６５２、６８３、７７９、８１６およびアムホテリシン Ｂ（ジメチルスルホシキドに溶解させて使用した）を用いて試験を行った。なお、各供試化合物は供試培地ロズウェルパーク記念研究所培地（以下、ＲＰＭＩ１６４０培地と称する；＋３－ｍｏｒｐｈｏｌｉｎｏｐｒｏｐａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ（最終濃度０．１６５ｍｏｌ／ｍＬ）、＋グルタミン、－炭酸水素ナトリウム）を用いて０．０００５～３２μｇ／ｍＬの濃度に希釈し、供試した。
各種供試菌を以下に示す方法で調整し、各供試化合物の抗菌活性を測定した。
Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓ、Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｎｅｏｆｏｒｍａｎｓ：サブロー・デキストロース寒天培地（以下、ＳＤＡと称する）（ペプトン １０ｇ、 ブドウ糖 ４０ｇ 、Ａｇａｒ １５ｇ／Ｌ）上で２日間培養後、数コロニーを０．０５％Ｔｗｅｅｎ８０含有滅菌生理食塩水で希釈、フォトメーターを用いて波長５３０ｎｍでの吸光度が０．０９－０．２２となるように調整後、試験培地で５０倍希釈し接種菌液とした。
Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉｇａｔｕｓ：ポテト・デキストロース（以下、ＰＤＡと称する）寒天培地で２５℃、２回継代培養後、形成した分生子を０．０５％Ｔｗｅｅｎ８０含有滅菌生理食塩水で希釈、セル・ストレイナー７０μｍにて菌糸塊を除去した分生子懸濁液を接種菌液とした。
Ｆｕｓａｒｉｕｍ属菌：胞子形成培地中で２５℃で振とう培養後、フォトメーターを用いて波長５３０ｎｍでの吸光度が０．０９－０．２２となるように胞子濃度を調整後、試験培地で５０倍希釈し接種菌液とした。
皮膚糸状菌（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｒｕｂｒｕｍ、Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｇｙｐｓｅｕｍ）：胞子着生に優れた高塩培地または、ポテトデキストロースブロス（以下、ＰＤＢと称する）培地を用いて２５℃で培養後、分生子を０．０５％Ｔｗｅｅｎ８０含有滅菌生理食塩水で希釈、セル・ストレイナー７０μｍにて菌糸塊を除去した。フォトメーターを用いて得られた胞子懸濁液を波長５３０ｎｍでの吸光度が０．０９－０．２２となるように胞子濃度を調整後、試験培地で５０倍希釈し接種菌液とした。
各供試化合物を所定の濃度になるようにＲＰＭＩ１６４０培地で希釈し、９６穴マイクロプレートの各ウェルに１００μＬずつ分注した。その後、各供試菌について調製した接種菌液を各ウェルに１００μＬずつ分注し、所定の期間培養後、抗菌活性を評価した。
調査は、Ｃａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｃａｎｓおよびＡｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉｇａｔｕｓは培養２日後、Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｎｅｏｆｏｒｍａｎｓ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｏｌａｎｉおよびＦｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｒｐｏｒｕｍは培養３日後、Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｒｕｂｒｕｍおよびＭｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｇｙｐｓｅｕｍは培養７日後に実施した。
供試化合物を含まない無処理区に比べて菌の増殖が明らかに抑制される最小生育阻止濃度ＭＩＣ（Ｍｉｎｉｍｕｍ Ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｙ Ｃｏｎｃｅｔｒａｔｉｏｎ、以下、ＭＩＣと称する。）を求めた。なお、対照剤として、アムホテリシン Ｂ（以下、ＡＭＰＨと称する。）を用いた。なお表中、Ｅ、Ｈ、ＭはそれぞれＭＩＣが１ｐｐｍ未満、１ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ未満、１０ｐｐｍ以上３０ｐｐｍ未満であることを、－は試験未実施であることを表す。
試験結果
各種化合物の各種供試菌に対するＭＩＣを表７６に示す。
Figure 0007089506000203
本発明の新規なピリドン化合物は、真菌感染症を予防および／または治療することができるので、抗真菌剤としての利用価値がある。

Claims (7)

  1. 式（１）
    Figure 0007089506000204
    [式中、Ｒ１は、水酸基、
    シアノ基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
    またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し；
    Ｒ２は、ハロゲン原子、
    水酸基、
    シアノ基、
    ニトロ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
    Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ２１およびＲ２２は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）、
    Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、
    １～２個の酸素原子を含む３～６員環の基、
    Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ２は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、
    Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）、
    またはＲ２４Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ２５）－（ここで、Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）を表し、Ｒ２５は、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）を表し；
    Ｒ３は、水素原子、
    ハロゲン原子、
    ニトロ基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    Ｒ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ２３と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ２と同義である。）、
    Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）、
    またはＲ３３Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ３３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。）を表し；
    ｎは、０～５の整数（ただし、ｎが２以上のとき、２以上のＲ２は、それぞれ独立した置換基を表す。）を表し；
    Ｘは、酸素原子、または硫黄原子を表し；
    Ｙは、フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、またはチアジアゾリル基を表し、
    該フェニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～４置換し、
    該ピリジル基、該ピラジニル基、該ピリミジニル基、該ピリダジニル基、該トリアジニル基、または該テトラジニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～３置換し、
    該チエニル基、該チアゾリル基、該イソチアゾリル基、または該チアジアゾリル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～２置換し；
    破線部を含む結合は、二重結合、または単結合を表し、
    そして、置換基Ａは、
    水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒ１２Ｒ１３Ｎ－（ここで、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立していて、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ１２およびＲ１３は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）、およびＲ１４－Ｌ１－（ここで、Ｒ１４は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ１は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    置換基Ｂは、
    水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、Ｒ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、前記と同義である。）、Ｒ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３およびＬ２は、前記と同義である。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ここで、Ｒ２６、Ｒ２７およびＲ２８は、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｒ２６Ｒ２７Ｒ２８Ｓｉ－（ＣＨ２）ｓ－Ｏ－（ここで、ｓは、１～３の整数を表し、Ｒ２６、Ｒ２７およびＲ２８は、前記と同義である。）、Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒ２０は、前記と同義である。）、および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    置換基Ｂ１は、
    シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    置換基Ｃは、
    水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒ３１Ｒ３２Ｎ－（ここで、Ｒ３１およびＲ３２は、前記のＲ２１およびＲ２２と同義である。）、およびＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ１４と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ１と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    置換基Ｄは、
    ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、およびＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    置換基Ｄ１は、
    水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種である。］で表される化合物、またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。
  2. Ｒ１は、シアノ基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    またはＲ１０Ｒ１１Ｎ－（ここで、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し；
    Ｒ２は、ハロゲン原子、
    水酸基、
    シアノ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    Ｒ２０Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒ２０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲ２１Ｒ２２Ｎ－（ここで、Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂ１で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲ２１およびＲ２２は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）、
    またはＲ２３－Ｌ２－（ここで、Ｒ２３は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌ２は、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）を表し；
    Ｒ３は、水素原子、
    ハロゲン原子、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    またはＲ３０－Ｌ３－（ここで、Ｒ３０は、前記のＲ２３と同義であり、Ｌ３は、前記のＬ２と同義である。）を表し；
    Ｙは、フェニル基、またはピリジル基を表し、
    該フェニル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～４置換し、
    該ピリジル基は、置換基Ｄがオルト位に置換し、さらに置換基Ｄ１が、それぞれ独立して適宜０～３置換する、
    請求項１に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。
  3. Ｒ１は、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し；
    Ｒ２は、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、または置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し；
    Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す、請求項２に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する抗真菌剤。
  4. 請求項１に記載の化合物またはその塩を有効成分として含有する、真菌感染症の予防および／または治療剤。
  5. 真菌感染症を予防および／または治療する方法であって、それを必要とする対象（ヒトを除く）に請求項１に記載の化合物またはその塩の有効量を投与することを含む方法。
  6. 真菌感染症が、深在性真菌症、深部皮膚真菌症、表在性真菌症から選ばれる真菌感染症である、請求項４に記載の予防および／または治療剤。
  7. 真菌感染症が、カンジダ属真菌（Ｃａｎｄｉｄａ ｓｐｐ．）、アスペルギルス属真菌（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｓｐｐ．）、クリプトコッカス属真菌（Ｃｒｙｐｔｏｃｏｃｃｕｓ ｓｐｐ．）、ミクロスポルム属真菌（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ ｓｐｐ．）、トリコフィトン属真菌（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ ｓｐｐ．）およびフザリウム属真菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｓｐｐ．）よりなる群から選択される１種以上の真菌により引き起こされる請求項６に記載の予防および／または治療剤。
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