JP7083199B1 - 3D modeling equipment - Google Patents

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Abstract

【課題】複数個のガルバノスキャナーをテーブル面の中心位置を基準として可能な限りコンパクトな状態にて配置を実現すると共に、均一な照射を実現し得るような三次元造形装置の構成の提供。【解決手段】複数個のガルバノスキャナー3を、隣接し合う長手方向を逆方向として平行に設定し、テーブル4の面の中心位置Pから前記平行方向と直交する方向に延設された直線Lに対し、第2ミラー32の回動面が所定の距離の範囲内となるように配列するか、又は複数個のガルバノスキャナー3を、隣接し合う長手方向が同一方向となるように設定し、前記中心位置Pと、当該位置Pからガルバノスキャナー3の長手方向の距離の1/2の距離の範囲内にある位置から前記平行方向と直交する直線Lに対し、第2ミラー32の回動面が所定の距離の範囲内であるように配列することによって前記課題を達成する三次元造形装置。【選択図】図3(a)PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a configuration of a three-dimensional modeling apparatus capable of arranging a plurality of galvano scanners in a state as compact as possible with reference to the center position of a table surface and realizing uniform irradiation. SOLUTION: A plurality of galvano scanners 3 are set in parallel with adjacent longitudinal directions as opposite directions, and a straight line L extending from a center position P of a surface of a table 4 in a direction orthogonal to the parallel direction. On the other hand, the rotating surfaces of the second mirror 32 are arranged so as to be within a predetermined distance range, or a plurality of galvano scanners 3 are set so that the adjacent longitudinal directions are in the same direction. The rotation surface of the second mirror 32 is relative to a straight line L orthogonal to the parallel direction from the center position P and a position within a distance of ½ of the longitudinal distance of the galvano scanner 3 from the position P. A three-dimensional modeling device that achieves the above-mentioned task by arranging them so as to be within a predetermined distance. [Selection diagram] FIG. 3 (a)

Description

本発明は、ダイナミックフォーカスレンズを透過して順次集束するレーザビーム又は電子ビームを、二次元方向に走査するガルバノスキャナーを複数個採用している三次元造形装置を対象としている。 The present invention is intended for a three-dimensional modeling apparatus that employs a plurality of galvano scanners that scan a laser beam or an electron beam that passes through a dynamic focus lens and sequentially focuses in a two-dimensional direction.

テーブル表面上に積層した粉末層5に対するレーザビーム又は電子ビームの照射によって焼結面を形成する三次元造形においては、焦点距離を調整し得るダイナミックフォーカスレンズを透過したレーザビーム又は電子ビームをガルバノスキャナーによって焼結面又はその近傍に集束するような走査(スキャニング)が行われている。 In three-dimensional modeling in which a sintered surface is formed by irradiating a powder layer 5 laminated on a table surface with a laser beam or an electron beam, a galvano scanner uses a laser beam or an electron beam transmitted through a dynamic focus lens whose focal length can be adjusted. Scanning is performed so as to focus on or in the vicinity of the sintered surface.

前記走査を実現するガルバノスキャナーを、2個又は4個採用することによって効率的な走査を実現する三次元造形方法は、特許文献1記載の発明(以下「先願発明1」と称する。)として開示されている。 The three-dimensional modeling method that realizes efficient scanning by adopting two or four galvano scanners that realize the scanning is described as the invention described in Patent Document 1 (hereinafter referred to as "prior application invention 1"). It has been disclosed.

しかも、先願発明1においては、水平方向にて向かい合う位置にある第2ミラーにおける反射位置の距離を150mm以下又は100mm以下とすることを要件としており、2個又は4個のガルバノスキャナーをコンパクトな配置とする説明が行われている。 Moreover, the prior invention 1 requires that the distance between the reflection positions of the second mirrors facing each other in the horizontal direction be 150 mm or less or 100 mm or less, and the two or four galvano scanners are compact. The explanation of the arrangement is given.

しかしながら、第2ミラーにおいて、回動中心軸と直交する方向の幅は必ずしも一定ではなく、如何なる設計幅の場合に150mm以下又は100mm以下とすることが可能であるかは全く明らかにされていない。 However, in the second mirror, the width in the direction orthogonal to the rotation center axis is not always constant, and it has not been clarified at all what design width can be 150 mm or less or 100 mm or less.

尤も、上記150mm以下又は100mm以下の趣旨は、技術常識の範囲内にある設計幅の場合に成立するという趣旨かもしれないが、どうして150mm以下又は100mm以下という最大値が採用可能であるかの根拠は、全く不明である。 However, the above-mentioned purpose of 150 mm or less or 100 mm or less may be established when the design width is within the range of common technical knowledge, but the grounds for why the maximum value of 150 mm or less or 100 mm or less can be adopted. Is completely unknown.

したがって、先願発明1においては、第2ミラーの回動中心軸と直交する方向の設計幅如何に拘らず、ガルバノスキャナーをコンパクトな配置とするような構成を客観的に提示している訳ではない。 Therefore, the invention 1 of the prior application does not objectively present a configuration in which the galvano scanner has a compact arrangement regardless of the design width in the direction orthogonal to the rotation center axis of the second mirror. do not have.

一般に、複数個の各第2ミラーがテーブル表面の中心位置、又は当該中心位置から延設された基準ラインに近いほど均一な照射を実現することができる。 In general, the closer each of the plurality of second mirrors is to the center position of the table surface or the reference line extending from the center position, the more uniform irradiation can be realized.

然るに、特許文献1の図5、6、13を参照するも、第2ミラー(X軸ガルバノミラー32a、42a、52a、62a)は造形テーブル5の中心位置(筐体14、114の中心位置)から離れており、前記中心位置を基準とするコンパクトな配置と均一な照射との両立を可能とするような工夫は行われていない。 However, with reference to FIGS. 5, 6 and 13 of Patent Document 1, the second mirror (X-axis galvano mirrors 32a, 42a, 52a, 62a) is at the center position of the modeling table 5 (center position of the housings 14 and 114). It is far from the center position, and no device has been devised to enable both a compact arrangement based on the center position and uniform irradiation.

このように、先願発明1を含む公知技術においては、第2ミラーの回動中心軸と直交する方向の設計幅及びレーザビーム又は電子ビームの反射位置如何に拘らず、テーブル表面の中心位置を基準とするコンパクトな配置及び均一な照射との両立を実現するような構成は提唱している訳ではない。 As described above, in the publicly known techniques including the prior invention 1, the center position of the table surface is set regardless of the design width in the direction orthogonal to the rotation center axis of the second mirror and the reflection position of the laser beam or the electron beam. We do not propose a configuration that achieves both a compact layout as a standard and uniform irradiation.

日本国特許第6,793,806号Japanese Patent No. 6,793,806

本発明は、複数個のガルバノスキャナーをテーブル表面の中心位置を基準として可能な限りコンパクトな状態にて配置を実現すると共に、かつ均一な照射を実現し得るような三次元造形装置の構成を提供することを課題とする。 The present invention provides a configuration of a three-dimensional modeling apparatus capable of arranging a plurality of galvano scanners in a state as compact as possible with respect to the center position of the table surface and realizing uniform irradiation. The task is to do.

前記課題を達成するため、本発明の基本構成は、
(1)粉末を走行を介してテーブル上に積層するスキージ、当該粉末層に対しレーザビーム又は電子ビームを走査する複数個のガルバノスキャナーを備えた三次元造形装置であって、各ガルバノスキャナーは、ダイナミックフォーカスレンズを透過したレーザビーム又は電子ビームに対し、当該透過方向と直交する方向の回動中心軸を介して回動する第1ミラー及び第1ミラーの回動と独立した状態にて前記第1ミラーにおける回動中心軸の方向と直交状態にあり、かつ水平方向の回動中心軸を介して回動する第2ミラーからの反射によって、レーザビーム又は電子ビームの直交座標を基準とする二次元方向の走査を実現しており、かつ複数個のガルバノスキャナーを、レーザビーム又は電子ビームの発振源を収容している領域を後端側とし、第1ミラーを収容している領域を先端側とし、かつ前記透過方向と同一方向である長手方向に即して平行であると共に、前記平行な方向の両側にて2個を単位として隣り合うガルバノスキャナーにおける前記長手方向を逆方向のみに設定しており、各ガルバノスキャナーにおいてテーブル表面の中心位置から前記の平行である方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線に関し、第2ミラーを、各第2ミラーの回動中心軸を前記平行方向に設定すると共に、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸と直交する方向の位置にある端部につき、前記平行方向に即して、前記直線を両側から挟む状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れ、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列しているかの何れかである三次元造形装置、
(2)粉末を走行を介してテーブル上に積層するスキージ、当該粉末層に対しレーザビーム又は電子ビームを走査する複数個のガルバノスキャナーを備えた三次元造形装置であって、各ガルバノスキャナーは、ダイナミックフォーカスレンズを透過したレーザビーム又は電子ビームに対し、当該透過方向と直交する方向の回動中心軸を介して回動する第1ミラー及び第1ミラーの回動と独立した状態にて前記第1ミラーにおける回動中心軸の方向と直交状態にあり、かつ水平方向の回動中心軸を介して回動する第2ミラーからの反射によって、レーザビーム又は電子ビームの直交座標を基準とする二次元方向の走査を実現しており、かつ複数個のガルバノスキャナーを、レーザビーム又は電子ビームの発振源を収容している領域を後端側とし、第1ミラーを収容している領域を先端側とし、かつ前記透過方向と同一方向である長手方向に即して平行であると共に、前記平行な方向の両側にて2個を単位として隣り合うガルバノスキャナーにおける前記長手方向を同一方向のみに設定しており、各ガルバノスキャナーにおいてテーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対して、レーザビーム又は電子ビームの発振源の後端から第1ミラーの回動領域に至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線に関し、第2ミラーを、各第2ミラーの回動中心軸を前記平行方向に設定すると共に、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸と直交する方向の位置にある端部につき、前記平行方向に即して、前記直線を両側から挟む状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れ、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列しているかの何れかである三次元造形装置、
(3)前記中心位置から前記平行方向にて延設された直線上に1個のガルバノスキャナーを配置していることを特徴とする基本構成(1)、(2)の三次元造形装置、
(4)同一の高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度を形成する場合に前記の平行である方向に設定された直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列していることを特徴とする基本構成(1)、(2)の三次元造形装置、
(5)異なる高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーにおける前記回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度を形成する場合に前記平行方向に設定された直線に対し、回動中心軸と前記回動する面における前記突設された方向側の端部とが反対側に位置していることを特徴とする基本構成(1)、(2)の三次元造形装置、
からなる。
In order to achieve the above object, the basic configuration of the present invention is
(1) A squeegee that stacks powder on a table via traveling, and a three-dimensional modeling apparatus equipped with a plurality of galvano scanners that scan a laser beam or an electron beam on the powder layer. Each galvano scanner is a three-dimensional modeling apparatus. The first mirror that rotates with respect to the laser beam or electron beam transmitted through the dynamic focus lens via the rotation center axis in the direction orthogonal to the transmission direction, and the first mirror in a state independent of the rotation of the first mirror. 1 It is orthogonal to the direction of the rotation center axis in the mirror, and it is reflected from the second mirror that rotates via the rotation center axis in the horizontal direction, and is based on the orthogonal coordinates of the laser beam or electron beam. Scanning in the dimensional direction is realized, and the region containing the oscillation source of the laser beam or the electron beam is the rear end side of the plurality of galvano scanners, and the region containing the first mirror is the front end side. In addition to being parallel to the longitudinal direction, which is the same direction as the transmission direction, the longitudinal direction of adjacent galvano scanners in units of two on both sides of the parallel direction is set only in the opposite direction. In each galvano scanner, the second mirror is rotated with respect to a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to the parallel direction from the center position of the table surface. In addition to setting the central axis in the parallel direction, the parallel to the rotating surface of each second mirror and the end portion of the rotating surface at a position orthogonal to the rotating central axis. Arrange the straight lines in a state of sandwiching them from both sides in the direction, or accommodate the region on the tip side accommodating the first mirror as described above and the laser beam or electron beam oscillation source as described above. Whether the straight line is separated from the straight line together with the region on the rear end side, and the end portion is close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. Or, as described above, with the entire region on the front end side accommodating the first mirror, and on the opposite side of the straight line to the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source as described above. A three-dimensional modeling device, in which the end portions are arranged in a state of being close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror.
(2) A squeegee that stacks powder on a table via traveling, and a three-dimensional modeling apparatus equipped with a plurality of galvano scanners that scan a laser beam or an electron beam on the powder layer. Each galvano scanner is a three-dimensional modeling apparatus. The first mirror that rotates with respect to the laser beam or electron beam transmitted through the dynamic focus lens via the rotation center axis in the direction orthogonal to the transmission direction, and the first mirror in a state independent of the rotation of the first mirror. 1 It is orthogonal to the direction of the rotation center axis in the mirror, and it is reflected from the second mirror that rotates via the rotation center axis in the horizontal direction, and is based on the orthogonal coordinates of the laser beam or electron beam. Scanning in the dimensional direction is realized, and the region containing the oscillation source of the laser beam or the electron beam is the rear end side of the plurality of galvano scanners, and the region containing the first mirror is the front end side. In addition to being parallel to the longitudinal direction, which is the same direction as the transmission direction, the longitudinal direction of adjacent galvano scanners in units of two on both sides of the parallel direction is set only in the same direction. In each galvano scanner, the center position of the table surface and the distance of 1/2 of the distance from the rear end of the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the rotation region of the first mirror with respect to the center position. A straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the parallel direction. Regarding the second mirror , the rotation center axis of each second mirror is set in the parallel direction, and the rotation center axis is set on the surface that rotates for the reflection in each second mirror and the rotation center axis. For the ends located at positions orthogonal to the above, the straight lines are arranged in a state of sandwiching the straight lines from both sides in the parallel direction, or the region on the tip side accommodating the first mirror as described above. And, as described above, it is separated from the straight line together with the region on the rear end side accommodating the laser beam or the electron beam oscillation source, and the end portion is from the length of the rotation center axis of the second mirror with respect to the straight line. Are arranged in close proximity at small distances, or as described above, with the entire region on the tip side accommodating the first mirror, with respect to the straight line, the laser beam or electron beam oscillation source as described above. Arranged in a state where the end portion is close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. do 3D modeling device, which is either
(3) The three-dimensional modeling apparatus according to the basic configurations (1) and (2), wherein one galvano scanner is arranged on a straight line extending in the parallel direction from the center position.
(4) The above-mentioned case where the surface rotating for the reflection in each second mirror in each galvano scanner adjacent to each other at the same height position forms the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction. The basic configuration (1), characterized in that they are arranged in a state of being close to a straight line set in a parallel direction at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. 2) 3D modeling device,
(5) The rotating surfaces of the second mirrors of the galvano scanners adjacent to each other at different height positions are set in the parallel direction when forming the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction. The tertiary of the basic configurations (1) and (2), characterized in that the rotation center axis and the projecting end on the rotating surface on the direction side are located on the opposite side of the straight line. Former modeling equipment,
Consists of.

基本構成(1)においては、隣り合う各ガルバノスキャナーにつき、相互に平行であると共に、長手方向を逆方向のみに設定した上で、テーブル表面の中心位置から前記の平行である方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を基準として第2ミラーの回動面及び前記端部につき、以下の3種類の配列状態を選択可能としている。 In the basic configuration (1), each adjacent galvano scanner is parallel to each other, and the longitudinal direction is set only in the opposite direction, and then horizontal from the center position of the table surface to the parallel direction. The following three types of arrangement states can be selected for the rotating surface of the second mirror and the end portion with reference to a straight line extending in a direction orthogonal to the direction.

a.前記直線を両側から挟む状態にて配列
b.前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れ、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列
c.前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列
a. Arranged with the straight line sandwiched from both sides b. It is separated from the straight line together with the region on the front end side accommodating the first mirror as described above and the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source as described above, and the end portion is said. Arranged in a state of being close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror c. As described above, the entire region on the front end side accommodating the first mirror and the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source as described above with respect to the straight line are opposite to the straight line. And the end is arranged close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror.

前記aの配列の場合には、第2ミラーの回動面が、前記中心位置から設定された前記直線に対し回動中心軸領域の範囲内にあることから、平行方向に即して略均一な照射を実現する一方、各ガルバノスキャナーの長手方向の領域もまた、前記直線に対し所定の距離の範囲内にあり、前記平行方向に即してコンパクトな配列を実現することができる。 In the case of the arrangement of a, since the rotation surface of the second mirror is within the range of the rotation center axis region with respect to the straight line set from the center position, it is substantially uniform in the parallel direction. While achieving such irradiation, the longitudinal region of each galvano scanner is also within a predetermined distance with respect to the straight line, and a compact arrangement can be realized along the parallel direction.

前記bの配列の場合には、第2ミラーの回動面が前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れていることから、前記aの場合に比し、均一な照射及びコンパクトな構成においてやや劣るが、前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接していることから、前記aの場合に準ずる程度の均一な照射及びコンパクトな配列を実現することができる。 In the case of the arrangement of b, the rotating surface of the second mirror accommodates the region on the distal end side accommodating the first mirror as described above and the laser beam or electron beam oscillation source as described above. Since it is separated from the straight line together with the region on the rear end side, the second mirror rotates with respect to the straight line, although it is slightly inferior in uniform irradiation and a compact configuration as compared with the case of a. Since they are close to each other at a distance smaller than the length of the central axis, uniform irradiation and a compact arrangement equivalent to the case a can be realized.

前記cの配列の場合においても、第2ミラーにおける回動面が前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側の位置にて離れていることから、均一な照射において、前記aの場合に比し劣るが、前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接するように設定していることから、前記aの場合に準ずるような均一な照射を実現することができる一方、各ガルバノスキャナーの長手方向の領域が前記直線と交差していることから、前記aの場合よりも更にコンパクトな配列を実現することができる。 Even in the case of the arrangement of c, the rotating surface of the second mirror has the entire region on the tip side accommodating the first mirror as described above, and the laser beam or the electron beam as described above with respect to the straight line. Since it is separated from the region on the rear end side accommodating the oscillation source at a position opposite to that of the rear end side, the end portion is inferior to the case of the above a in uniform irradiation, but the end portion is the first with respect to the straight line. Since the two mirrors are set so as to be close to each other at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the mirror, uniform irradiation similar to the case of a above can be realized, while uniform irradiation of each galvano scanner can be realized. Since the region in the longitudinal direction intersects the straight line, a more compact arrangement than in the case of a can be realized.

このように、前記a、b、cの何れの配列においても、第2ミラーによる均一な照射及び第2ミラーのコンパクトな配列を実現する一方、隣接し合うガルバノスキャナーを逆方向に平行状態に設定することによって、テーブル表面のスペースを有効に活用することができる。 In this way, in any of the arrangements a, b, and c, uniform irradiation by the second mirror and a compact arrangement of the second mirror are realized, while the adjacent galvano scanners are set in a parallel state in the opposite direction. By doing so, the space on the table surface can be effectively utilized.

基本構成(2)においては、隣り合う各ガルバノスキャナーにつき、相互に平行であると共に、長手方向を同一方向に設定した上で、テーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対しレーザビーム又は電子ビームの発振源の後端から第1ミラーの回動領域に至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を基準として、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸と直交する方向の位置にある端部につき、以下の3種類の配列状態を選択可能としている。 In the basic configuration (2), the adjacent galvano scanners are parallel to each other and the longitudinal directions are set to be the same, and then the laser beam or the electron beam is used with respect to the center position of the table surface and the center position. It was selected in the region between the position deviating along the parallel direction by half the distance from the rear end of the oscillation source to the rotation region of the first mirror. With respect to a straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position along the horizontal direction, each second mirror rotates on a surface that rotates for the reflection and a surface that rotates. The following three types of arrangement states can be selected for the end portion located in the direction orthogonal to the center of motion axis.

a.前記直線を両側から挟む状態にて配列
b.前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れ、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列
c.前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列
a. Arranged with the straight line sandwiched from both sides b. It is separated from the straight line together with the region on the front end side accommodating the first mirror as described above and the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source as described above, and the end portion is said. Arranged in a state of being close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror c. As described above, the entire region on the front end side accommodating the first mirror and the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source as described above with respect to the straight line are opposite to the straight line. And the end is arranged close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror.

基本構成(2)における前記直線を延設する位置は、テーブル表面の中心位置に限定される訳ではなく、当該中心位置からガルバノスキャナーの前記長手方向の距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に偏差している。 The position where the straight line is extended in the basic configuration (2) is not limited to the center position of the table surface, and the parallel distance is ½ of the longitudinal distance of the galvano scanner from the center position. It deviates in the direction of.

このような延設位置をこのような偏差の領域としたのは、基本構成(2)の場合には、各ガルバノスキャナーが同一方向に平行であることから、テーブル表面のスペースを有効に活用する点において、基本構成(1)よりも劣ることから、第2ミラーによる均一な照射と、テーブル表面のスペースの有効な活用とを両立させることにある。 The reason why such an extension position is set as such a deviation region is that in the case of the basic configuration (2), since each galvano scanner is parallel in the same direction, the space on the table surface is effectively utilized. In that respect, since it is inferior to the basic configuration (1), it is intended to achieve both uniform irradiation by the second mirror and effective utilization of the space on the table surface.

このような両立に立脚している基本構成(2)は、テーブル表面のスペースの有効な活用及び第2ミラーによる均一な照射において、基本構成(1)に比し稍劣るが、偏差の距離がガルバノスキャナーにおける前記長手方向の距離の1/2の距離に限定されるために、均一な照射において大幅に相違する訳ではない。 The basic configuration (2) based on such compatibility is inferior to the basic configuration (1) in effective utilization of the space on the table surface and uniform irradiation by the second mirror, but the deviation distance is large. It is not significantly different in uniform irradiation because it is limited to a distance of 1/2 of the longitudinal distance in the galvano scanner.

しかも、平行方向におけるコンパクトな配置の点については、基本構成(2)は、基本構成(1)よりも優れている。 Moreover, the basic configuration (2) is superior to the basic configuration (1) in terms of compact arrangement in the parallel direction.

基本構成(2)における前記a、b、cの各配列による均一な照射の程度及びコンパクトな配列の対比は、基本構成(1)の前記a、b、cの場合と変わりはない。 The degree of uniform irradiation by each of the arrangements a, b, and c in the basic configuration (2) and the contrast of the compact arrangement are the same as in the case of the above a, b, and c in the basic configuration (1).

このように、前記a、b、cの何れかの配列に立脚している基本構成(2)においても、第2ミラー32の均一な照射及び第2ミラー32同士のコンパクトな配列を実現する一方、テーブル4の表面のスペースを有効に活用し、しかも基本構成(1)よりもガルバノスキャナー3全体の配置についてはコンパクトな配置状態を実現することができる。 As described above, even in the basic configuration (2) based on any of the arrangements a, b, and c, uniform irradiation of the second mirror 32 and a compact arrangement of the second mirrors 32 are realized. The space on the surface of the table 4 can be effectively utilized, and a more compact arrangement state can be realized for the arrangement of the entire galvano scanner 3 than the basic configuration (1).

テーブル表面の中心位置及びその近傍は、殆ど大抵の場合、三次元造形が順次継続している領域に該当している。 In most cases, the center position of the table surface and its vicinity correspond to the region where the three-dimensional modeling is continuously continued.

したがって、基本構成(1)及び(2)において、基本構成(3)のように、前記中心位置から前記平行方向にて延設された直線上に1個のガルバノスキャナーを配置した場合には、当該ガルバノスキャナーは殆ど大抵の場合、順次継続する三次元造形に寄与しており、効率的な造形に寄与することができる。 Therefore, in the basic configurations (1) and (2), when one galvano scanner is arranged on a straight line extending in the parallel direction from the center position as in the basic configuration (3), In most cases, the galvano scanner contributes to continuous three-dimensional modeling, and can contribute to efficient modeling.

基本構成(1)及び(2)において、基本構成(4)のように、同一の高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度を形成する場合に前記の平行である方向に設定された直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列している場合には、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面間につき、前記直線の方向に即した距離は僅少であって、前記直線の方向に即してコンパクトな構成を実現することができる。 In the basic configurations (1) and (2), as in the basic configuration (4), the surface that rotates due to the reflection in each second mirror in each galvano scanner adjacent to each other at the same height position is , When forming the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction, the straight line set in the parallel direction is close to the straight line set in the parallel direction at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. When they are arranged in a straight line, the distance between the surfaces rotating due to the reflection in each second mirror in the direction of the straight line is small, and the distance is compact in the direction of the straight line. The configuration can be realized.

特に、上記僅少状態によって、各第2ミラー同士が相互に向き合う実施形態においても、上記近接状態によって、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面は相互に接触せずに、安定した回動を実現することができる。 In particular, even in the embodiment in which the second mirrors face each other due to the slight state, the surfaces rotating due to the reflection in each second mirror do not come into contact with each other and are stable due to the proximity state. Rotation can be realized.

基本構成(1)及び(2)において、基本構成(5)のように、異なる高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける第2ミラーを、平行方向に即して同一位置に配列している場合には、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面の端部は、水平方向を基準として、最小の傾斜角度を形成する場合には、隣り合っているガルバノスキャナーが存在する領域まで回動面の端部に及んでいることから、前記直線方向において基本構成(4)の場合よりも、更にコンパクトな構成を実現することができる。 In the basic configurations (1) and (2), as in the basic configuration (5), the second mirrors of the galvano scanners adjacent to each other at different height positions are arranged at the same position in the parallel direction. If so, there is a galvano scanner adjacent to each other if the end of the surface that rotates due to the reflection in each second mirror forms the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction. Since it extends to the end of the rotating surface up to the region to be formed, a more compact configuration can be realized in the linear direction as compared with the case of the basic configuration (4).

基本構成(1)に立脚している実施例1の平面図であって、(a)は2個の場合を示し、(b)は3個の場合を示し、(c)は4個の場合を示し、(d)は5個の場合を示し、(e)は6個の場合を示す。 尚、(b)、(d)は、基本構成(3)の特徴点を示す。 更には、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置から平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示す。In the plan view of the first embodiment based on the basic configuration (1), (a) shows the case of two pieces, (b) shows the case of three pieces, and (c) shows the case of four pieces. , (D) shows the case of 5 pieces, and (e) shows the case of 6 pieces. Note that (b) and (d) indicate the feature points of the basic configuration (3). Further, the solid line L in the vertical direction indicates a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to the parallel direction from the center position of the table surface, and the straight line D is a parallel direction from the center position of the table surface. Shows a straight line extended to. 基本構成(2)に立脚している実施例2の平面図であって、(a)は2個の場合を示し、(b)は3個の場合を示し、(c)は4個の場合を示し、(d)は5個の場合を示し、(e)は6個の場合を示す。尚、(b)、(d)は、基本構成(3)の特徴点を示す。更には、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対しレーザビーム又は電子ビームの発振源から第1ミラーに至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示し、dは、中心位置と当該直線との平行方向に沿った距離を示す。In the plan view of the second embodiment based on the basic configuration (2), (a) shows the case of two pieces, (b) shows the case of three pieces, and (c) shows the case of four pieces. , (D) shows the case of 5 pieces, and (e) shows the case of 6 pieces. Note that (b) and (d) indicate the feature points of the basic configuration (3). Further, the solid line L in the vertical direction is parallel to the center position of the table surface and the center position by half the distance from the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the first mirror. A straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to a parallel direction from a specific position selected in the region between the position deviating along the direction is shown, and the straight line D is a straight line. A straight line extending in a parallel direction from the center position of the table surface is shown, and d indicates a distance along the parallel direction between the center position and the straight line. 2個毎の単位によって隣り合う各ガルバノスキャナーを設定している基本構成(1)の平面図であって、前記aの配列を採用している場合を示す。 尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置から平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示す。It is a plan view of the basic configuration (1) in which the adjacent galvano scanners are set by the unit of every two, and shows the case where the arrangement of a is adopted. The solid line L in the vertical direction indicates a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to the parallel direction from the center position of the table surface, and the straight line D is a parallel direction from the center position of the table surface. Shows an extended straight line. 2個毎の単位によって隣り合う各ガルバノスキャナーを設定している基本構成(1)の平面図であって、前記bの配置を採用している場合を示す。 尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置から平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示す。It is a plan view of the basic configuration (1) in which each galvano scanner adjacent to each other is set by the unit of every two, and shows the case where the arrangement of b is adopted. The solid line L in the vertical direction indicates a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to the parallel direction from the center position of the table surface, and the straight line D is a parallel direction from the center position of the table surface. Shows an extended straight line. 2個毎の単位によって隣り合う各ガルバノスキャナーを設定している基本構成(1)の平面図であって、前記cの配置を採用している場合を示す。 尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置から平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示す。It is a plan view of the basic configuration (1) in which each galvano scanner adjacent to each other is set by the unit of every two, and shows the case where the arrangement of c is adopted. The solid line L in the vertical direction indicates a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to the parallel direction from the center position of the table surface, and the straight line D is a parallel direction from the center position of the table surface. Shows an extended straight line. 2個毎の単位によって隣り合う各ガルバノスキャナーを設定している基本構成(1)の平面図であって、一方側のガルバノスキャナーにつき、前記bの配置を採用し、他方側のガルバノスキャナーにつき、前記cの配置を採用している場合を示す。 尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置から平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示す。It is a plan view of the basic configuration (1) in which adjacent galvano scanners are set by units of two, and the arrangement of b is adopted for the galvano scanner on one side, and the galvano scanner on the other side. The case where the arrangement of c is adopted is shown. The solid line L in the vertical direction indicates a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction with respect to the parallel direction from the center position of the table surface, and the straight line D is a parallel direction from the center position of the table surface. Shows an extended straight line. 隣り合う各ガルバノスキャナーを2個毎の単位に設定している基本構成(2)の平面図であって、前記aの配置を採用している場合を示す。 尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対してレーザビーム又は電子ビームの発振源から第1ミラーに至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から、前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示し、dは、前記中心位置と前記選択された位置との距離を示す。It is a plan view of the basic configuration (2) in which each adjacent galvano scanner is set in the unit of every two, and shows the case where the arrangement of a is adopted. The solid line L in the vertical direction is parallel to the center position of the table surface and the center position by half the distance from the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the first mirror. A straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the direction is shown as a straight line D. Indicates a straight line extending in a parallel direction from the center position of the table surface, and d indicates the distance between the center position and the selected position. 隣り合う各ガルバノスキャナーを2個毎の単位に設定している基本構成(2)の平面図であって、bの配置を採用している場合を示す。尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対してレーザビーム又は電子ビームの発振源から第1ミラーに至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から、前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示し、dは、前記中心位置と前記選択された位置との距離を示す。It is a plan view of the basic configuration (2) in which each adjacent galvano scanner is set in the unit of every two, and shows the case where the arrangement of b is adopted. The solid line L in the vertical direction is parallel to the center position of the table surface and the center position by half the distance from the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the first mirror. A straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the direction is shown as a straight line D. Indicates a straight line extending in a parallel direction from the center position of the table surface, and d indicates the distance between the center position and the selected position. 隣り合う各ガルバノスキャナーを2個毎の単位に設定している基本構成(2)の平面図であって、cの配置を採用している場合を示す。尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対してレーザビーム又は電子ビームの発振源から第1ミラーに至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から、前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示し、dは、前記中心位置と前記選択された位置との距離を示す。It is a plan view of the basic configuration (2) in which each adjacent galvano scanner is set in the unit of every two, and shows the case where the arrangement of c is adopted. The solid line L in the vertical direction is parallel to the center position of the table surface and the center position by half the distance from the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the first mirror. A straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the direction is shown as a straight line D. Indicates a straight line extending in a parallel direction from the center position of the table surface, and d indicates the distance between the center position and the selected position. 隣り合う各ガルバノスキャナーを2個毎の単位に設定している基本構成(2)の平面図であって、一方側のガルバノスキャナーにつき、前記bの配置を採用し、他方側のガルバノスキャナーにつき、前記cの配置を採用している場合を示す。尚、上下方向の実線Lは、テーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対してレーザビーム又は電子ビームの発振源から第1ミラーに至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から、前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線を示し、直線Dは、テーブル表面の中心位置から平行方向に延設された直線を示し、dは、前記中心位置と前記選択された位置との距離を示す。It is a plan view of the basic configuration (2) in which each adjacent galvano scanner is set in units of two, and the arrangement of b is adopted for the galvano scanner on one side, and the galvano scanner on the other side is used. The case where the arrangement of c is adopted is shown. The solid line L in the vertical direction is parallel to the center position of the table surface and the center position by half the distance from the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the first mirror. A straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the direction is shown as a straight line D. Indicates a straight line extending in a parallel direction from the center position of the table surface, and d indicates the distance between the center position and the selected position. 基本構成(4)の特徴点を示す平面図であり、(a)、(b)、(c)、(d)はそれぞれ、図3(a)、図3(b)、図4(c)、図4(d)に対応している。 尚、点線Eは、図3(a)、図3(b)、図3(c)、図3(d)及び図4(a)、図4(b)、図4(c)、図4(d)の直線Dに対し平行方向に延設された直線を示す。It is a plan view which shows the characteristic point of the basic structure (4), and (a), (b), (c), and (d) are FIG. 3 (a), FIG. 3 (b), and FIG. 4 (c), respectively. , Corresponds to FIG. 4 (d). The dotted line E is shown in FIGS. 3 (a), 3 (b), 3 (c), 3 (d), 4 (a), 4 (b), 4 (c), and 4 (c). A straight line extending in a direction parallel to the straight line D in (d) is shown. 基本構成(5)の特徴点を示す平面図であり、(a)、(b)、(c)は、それぞれ図3(a)、図3(d)、図4(c)に対応している。 尚、点線Eは、図3(a)、図3(b)、図3(c)、図3(d)及び図4(a)、図4(b)、図4(c)、図4(d)の直線Dに対し平行方向に延設された直線を示す。It is a plan view which shows the characteristic point of the basic structure (5), and (a), (b), and (c) correspond to FIG. 3 (a), FIG. 3 (d), and FIG. 4 (c), respectively. There is. The dotted line E is shown in FIGS. 3 (a), 3 (b), 3 (c), 3 (d), 4 (a), 4 (b), 4 (c), and 4 (c). A straight line extending in a direction parallel to the straight line D in (d) is shown. 異なる高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける第2ミラーを、平行方向に即して異なる位置にて配列している実施形態を示す平面図及び側面図であり、(a)は、基本構成(1)の場合を示し、(b)は、基本構成(2)の場合を示す。 尚、(a)、(b)の各平面図の直線L上における両側方向の矢印は、下側の側面図が直線Lにおける側面視であることを示す。2 (a) is a plan view and a side view showing an embodiment in which the second mirrors of the galvano scanners adjacent to each other at different height positions are arranged at different positions along the parallel direction. The case of the basic configuration (1) is shown, and the case of (b) shows the case of the basic configuration (2). The arrows in both directions on the straight line L in each of the plan views (a) and (b) indicate that the lower side view is the side view in the straight line L. 各ガルバノスキャナーの構成の一部が水平方向に対し傾斜している実施形態を示しており、(a)は、長手方向を、第1ミラーにおける回動中心軸の位置に至るまで上向きとする傾斜状態に配置している場合を示す長手方向の側面図であり、(b)は、各ガルバノスキャナーの長手方向を、水平方向に沿って配置し、第2ミラーの突設方向を上向きとするような傾斜角度に配置し、かつ隣り合うガルバノスキャナーにおける各第2ミラーの回動方向を反対方向に設定している場合を示す長手方向と直交する方向の側面図であり、(c)は、ガルバノスキャナーの長手方向を、第1ミラーにおける回動中心軸の位置に至るまで上向きとする傾斜状態に配置し、第1ミラーの回動中心軸を鉛直方向に設定し、かつ第2ミラーの突設方向を上向きとするような傾斜角度に配置した場合の側面図を示す。 尚、図8(a)における両側方向の矢印は、第1ミラーが上向きの傾斜方向に進行するレーザビーム又は電子ビームを水平方向に反射している状態を示す。An embodiment is shown in which a part of the configuration of each galvano scanner is tilted with respect to the horizontal direction, and (a) is tilted so that the longitudinal direction reaches the position of the rotation center axis in the first mirror. It is a side view in the longitudinal direction which shows the case of arranging in a state, and (b) arranges the longitudinal direction of each galvano scanner along the horizontal direction, and makes the projecting direction of the 2nd mirror upward. It is a side view of the direction orthogonal to the longitudinal direction which shows the case where the rotation direction of each 2nd mirror in the adjacent galvano scanners is set in the opposite direction, and is arranged at the same inclination angle, and (c) is a galvano. The longitudinal direction of the scanner is arranged in an inclined state so as to face upward up to the position of the rotation center axis in the first mirror, the rotation center axis of the first mirror is set in the vertical direction, and the second mirror is projected. A side view is shown when the product is arranged at an inclination angle such that the direction is upward. The arrows in both directions in FIG. 8A indicate a state in which the first mirror reflects a laser beam or an electron beam traveling in an upward tilting direction in the horizontal direction. 図6に示す基本構成(5)に立脚した上で、2個の第2ミラー同士の回動中心軸の中央位置の距離を算定するための模式側面図である。It is a schematic side view for calculating the distance of the central position of the rotation center axis between two 2nd mirrors based on the basic structure (5) shown in FIG.

基本構成(1)は、図3(a)、図3(b)、図3(c)、図3(d)に示すように、粉末を走行を介してテーブル4上に積層するスキージ、当該粉末層5に対しレーザビーム又は電子ビーム7を走査する複数個のガルバノスキャナー3を備えた三次元造形装置であって、各ガルバノスキャナー3は、ダイナミックフォーカスレンズ2を透過したレーザビーム又は電子ビーム7に対し、当該透過方向と直交する方向の回動中心軸30を介して回動する第1ミラー31及び第1ミラー31の回動と独立した状態にて前記第1ミラー31における回動中心軸30の方向と直交状態にあり、かつ水平方向の回動中心軸30を介して回動する第2ミラー32からの反射によって、レーザビーム又は電子ビーム7の直交座標を基準とする二次元方向の走査を実現しており、かつ複数個のガルバノスキャナー3を、レーザビーム又は電子ビーム7の発振源1を収容している領域を後端側とし、第1ミラー31を収容している領域を先端側とし、かつ前記透過方向と同一方向である長手方向に即して平行であると共に、前記平行な方向の両側にて2個を単位として隣り合うガルバノスキャナー3における前記長手方向を逆方向のみに設定しており、各ガルバノスキャナー3においてテーブル4の表面の中心位置Pから前記の平行である方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線Lに関し、第2ミラー32を、各第2ミラー32の回動中心軸30を前記平行方向に設定すると共に、各第2ミラー32に各第2ミラー32において前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸30と直交する方向の位置にある端部につき、前記平行方向に即して、前記直線Lを両側から挟む状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラー31を収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源1を収容している後端側の領域と共に前記直線Lから離れ、かつ前記端部が前記直線Lに対し、第2ミラー32の回動中心軸30の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラー31を収容している先端側の全領域と共に、前記直線Lに対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源1を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線Lに対し、第2ミラー32の回動中心軸30の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列しているかの何れかである三次元造形装置である。 As shown in FIGS. 3 (a), 3 (b), 3 (c), and 3 (d), the basic configuration (1) is a squeegee in which powder is laminated on a table 4 via running. A three-dimensional modeling apparatus including a plurality of galvano scanners 3 for scanning a laser beam or an electron beam 7 on a powder layer 5, and each galvano scanner 3 is a laser beam or an electron beam 7 transmitted through a dynamic focus lens 2. On the other hand, the rotation center axis in the first mirror 31 is independent of the rotation of the first mirror 31 and the first mirror 31 that rotate via the rotation center axis 30 in the direction orthogonal to the transmission direction. A two-dimensional direction relative to the orthogonal coordinates of the laser beam or electron beam 7 due to reflection from the second mirror 32 that is orthogonal to the direction of 30 and rotates via the rotation center axis 30 in the horizontal direction. Scanning is realized, and the region containing the oscillation source 1 of the laser beam or the electron beam 7 is the rear end side of the plurality of galvano scanners 3, and the region containing the first mirror 31 is the front end. The longitudinal direction in the galvano scanner 3 adjacent to each other in units of two on both sides of the parallel direction while being parallel to the longitudinal direction which is the same direction as the transmission direction is set to the opposite direction only. The second mirror 32 is set with respect to the straight line L extending in the direction orthogonal to the parallel direction from the center position P of the surface of the table 4 in each galvano scanner 3. The rotation center axis 30 of each second mirror 32 is set in the parallel direction, and each second mirror 32 is rotated on a surface that rotates for the reflection and a surface that rotates on the second mirror 32. The end portions located at positions orthogonal to the moving center axis 30 are arranged in a state of sandwiching the straight line L from both sides in the parallel direction, or the first mirror 31 is accommodated as described above. The second mirror is separated from the straight line L together with the region on the front end side and the region on the rear end side accommodating the laser beam or the electron beam oscillation source 1 as described above, and the end portion thereof is relative to the straight line L. Arrange them in close proximity at a distance smaller than the length of the rotation center axis 30 of 32, or in the straight line L together with the entire region on the tip side accommodating the first mirror 31 as described above. On the other hand, as described above, the side opposite to the region on the rear end side accommodating the laser beam or the electron beam oscillation source 1, and the end portion is the rotation center of the second mirror 32 with respect to the straight line L. Closed at a distance smaller than the length of the shaft 30 It is a three-dimensional modeling device that is either arranged in a state.

図3(a)、図3(b)、図3(c)、図3(d)に示すように、基本構成(1)においては、各ガルバノスキャナー3につき、前記a、b、cによる3個の配置を選択することができるが、何れの配置の場合においても、第2ミラー32による均一な照射を実現すると共に、第2ミラー32同士の間隔をコンパクトの配置する一方、前記平行方向に即してテーブル4の表面のスペースを有効に活用していることについては、既に効果の項において説明した通りである。 As shown in FIGS. 3 (a), 3 (b), 3 (c), and 3 (d), in the basic configuration (1), each galvano scanner 3 is based on the above a, b, and c. Individual arrangements can be selected, but in any arrangement, uniform irradiation by the second mirror 32 is realized, and the distance between the second mirrors 32 is compactly arranged, while in the parallel direction. The fact that the space on the surface of the table 4 is effectively used has already been explained in the section of effect.

図3(a)、図3(b)、図3(c)、図3(d)は、隣り合う各ガルバノスキャナー3を2個の単位とする構成に立脚しており、かつ隣り合うガルバノスキャナー3における前記長手方向を逆方向のみに設定した上で、第2ミラー32の照射領域を適切に配分し得ることを根拠としている。 3 (a), 3 (b), 3 (c), and 3 (d) are based on a configuration in which each adjacent galvano scanner 3 is used as two units, and the adjacent galvano scanners 3 are used as two units. It is based on the fact that the irradiation region of the second mirror 32 can be appropriately allocated after setting the longitudinal direction in No. 3 only in the reverse direction.

但し、このように、隣り合う2個の単位から外れたガルバノスキャナー3を採用することによって、必要かつ十分な照射領域を確保する構成もまた当然採用可能であり、この点については、基本構成(3)に即して後述する通りである。 However, it is naturally possible to adopt a configuration that secures a necessary and sufficient irradiation area by adopting the galvano scanner 3 that is out of the two adjacent units in this way, and this point is the basic configuration ( As will be described later in line with 3).

基本構成(2)は、図4(a)、図4(b)、図4(c)、図4(d)に示すように、粉末を走行を介してテーブル4上に積層するスキージ、当該粉末層5に対しレーザビーム又は電子ビーム7を走査する複数個のガルバノスキャナー3を備えた三次元造形装置であって、各ガルバノスキャナー3は、ダイナミックフォーカスレンズ2を透過したレーザビーム又は電子ビーム7に対し、当該透過方向と直交する方向の回動中心軸30を介して回動する第1ミラー31及び第1ミラー31の回動と独立した状態にて前記第1ミラー31における回動中心軸30の方向と直交状態にあり、かつ水平方向の回動中心軸30を介して回動する第2ミラー32からの反射によって、レーザビーム又は電子ビーム7の直交座標を基準とする二次元方向の走査を実現しており、かつ複数個のガルバノスキャナー3を、レーザビーム又は電子ビーム7の発振源1を収容している領域を後端側とし、第1ミラー31を収容している領域を先端側とし、かつ前記透過方向と同一方向である長手方向に即して平行であると共に、前記平行な方向の両側にて2個を単位として隣り合うガルバノスキャナー3における前記長手方向を同一方向のみに設定しており、各ガルバノスキャナー3においてテーブル4の表面の中心位置P及び当該中心位置Pに対してレーザビーム又は電子ビーム7の発振源1の後端から第1ミラー31の回動領域に至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線Lに関し、第2ミラー32を、各第2ミラー32の回動中心軸30を前記平行方向に設定すると共に、各第2ミラー32において前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸30と直交する方向の位置にある端部につき、前記平行方向に即して、前記直線Lを両側から挟む状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラー31を収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源1を収容している後端側の領域と共に前記直線Lから離れ、かつ前記端部が前記直線Lに対し、第2ミラー32の回動中心軸30の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラー31を収容している先端側の全領域と共に、前記直線Lに対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源1を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線Lに対し、第2ミラー32の回動中心軸30の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列しているかの何れかである三次元造形装置である。 As shown in FIGS. 4 (a), 4 (b), 4 (c), and 4 (d), the basic configuration (2) is a squeegee in which powder is laminated on a table 4 via running. A three-dimensional modeling apparatus including a plurality of galvano scanners 3 for scanning a laser beam or an electron beam 7 on a powder layer 5, and each galvano scanner 3 is a laser beam or an electron beam 7 transmitted through a dynamic focus lens 2. On the other hand, the rotation center axis in the first mirror 31 is independent of the rotation of the first mirror 31 and the first mirror 31 that rotate via the rotation center axis 30 in the direction orthogonal to the transmission direction. Two-dimensional direction with respect to the orthogonal coordinates of the laser beam or electron beam 7 due to reflection from the second mirror 32 that is orthogonal to the direction of 30 and rotates via the rotation center axis 30 in the horizontal direction. Scanning is realized, and the region containing the oscillation source 1 of the laser beam or the electron beam 7 is the rear end side of the plurality of galvano scanners 3, and the region containing the first mirror 31 is the front end. The longitudinal direction of the galvano scanners 3 adjacent to each other in units of two on both sides of the parallel direction is parallel to the longitudinal direction which is the same direction as the transmission direction. In each galvano scanner 3, the center position P on the surface of the table 4 and the rotation region of the first mirror 31 are reached from the rear end of the oscillation source 1 of the laser beam or the electron beam 7 with respect to the center position P. Along the horizontal direction with respect to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the parallel direction by a distance of 1/2 of the distance to. With respect to the straight line L extending in the orthogonal direction, the second mirror 32 is set in the parallel direction with the rotation center axis 30 of each second mirror 32 in the parallel direction, and is rotated in each second mirror 32 for the reflection. The end portions of the moving surface and the rotating surface located in the direction orthogonal to the rotation center axis 30 are arranged in a state of sandwiching the straight line L from both sides in the parallel direction. Along with the region on the front end side accommodating the first mirror 31 as described above and the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source 1 as described above, the region is separated from the straight line L and the end thereof. The portions are arranged in a state of being close to the straight line L at a distance smaller than the length of the rotation center axis 30 of the second mirror 32, or accommodate the first mirror 31 as described above. With respect to the straight line L together with the entire area on the tip side , The rotation center axis of the second mirror 32 with respect to the straight line L, which is on the side opposite to the region on the rear end side accommodating the laser beam or the electron beam oscillation source 1 as described above. It is a three-dimensional modeling apparatus that is either arranged in a close state at a distance smaller than the length of 30 .

図4(a)、図4(b)、図4(c)、図4(d)に示すように、基本構成(4)においても、各ガルバノスキャナー3につき、前記a、b、cによる3個の配置を選択することができるが、何れの配置の場合においても、第2ミラー32による均一な照射及び第2ミラー32同士のコンパクトな配置を実現する一方、テーブル4の表面のスペースを有効に活用し得ること、更にはガルバノスキャナー3全体につき、基本構成(1)の場合よりも更にコンパクトな配置状態を実現できることについては、既に効果の項において説明した通りである。 As shown in FIGS. 4 (a), 4 (b), 4 (c), and 4 (d), even in the basic configuration (4), each galvano scanner 3 has 3 according to the above a, b, and c. Individual arrangements can be selected, but in any arrangement, uniform irradiation by the second mirror 32 and compact arrangement of the second mirrors 32 are realized, while the space on the surface of the table 4 is effective. As already explained in the section on effects, it is possible to realize a more compact arrangement state than in the case of the basic configuration (1) for the entire galvano scanner 3.

図4(a)、図4(b)、図4(c)、図4(d)に示すように、基本構成(2)においても、隣り合う各ガルバノスキャナー3を2個の単位とする構成に立脚しており、かつ隣り合うガルバノスキャナー3における前記長手方向を同一方向のみに設定しているが、このような2個の単位の構成の採用及び前記設定の根拠については、基本構成(1)の場合と同様である。
但し、このように、隣り合う2個の単位から外れたガルバノスキャナー3を採用することによって、必要かつ十分な照射領域を確保する構成もまた当然採用可能であり、この点については、基本構成(3)に即して後述する通りである。
As shown in FIGS. 4 (a), 4 (b), 4 (c), and 4 (d), even in the basic configuration (2), the adjacent galvano scanners 3 are used as two units. The longitudinal direction of the adjacent galvano scanners 3 is set only in the same direction. However, regarding the adoption of the configuration of such two units and the basis of the setting, the basic configuration (1) ) Is the same.
However, it is naturally possible to adopt a configuration that secures a necessary and sufficient irradiation area by adopting the galvano scanner 3 that is out of the two adjacent units in this way, and this point is the basic configuration ( As will be described later in line with 3).

基本構成(3)は、後述する実施例1の図1(b)、(d)、及び実施例2の図2(b)、(d)に示すように、前記中心位置Pから前記平行方向にて延設された直線L上に1個のガルバノスキャナー3を配置していることを特徴としている。 The basic configuration (3) has the parallel direction from the center position P as shown in FIGS. 1 (b) and 1 (d) of the first embodiment and FIGS. 2 (b) and 2 (d) of the second embodiment described later. It is characterized in that one galvano scanner 3 is arranged on the straight line L extended in.

このような特徴点による効率的な三次元造形の実現については、既に効果の項において指摘した通りである。 The realization of efficient 3D modeling with such feature points has already been pointed out in the section on effects.

図1(b)、(d)及び図2(b)、(d)において、テーブル4の表面の中心位置Pを通過する点線による直線D上のガルバノスキャナー3は、隣り合う各ガルバノスキャナー3の2個毎の単位から外れているが、単独のガルバノスキャナー3でありながら、基本構成(3)の特徴点を実現するガルバノスキャナー3は効率的な三次元造形に重要な機能を発揮している。
但し、2個の単位から外れたガルバノスキャナー3は、基本構成(3)のように、直線D上に配置される場合だけではなく、直線Dから離れ、かつ他のガルバノスキャナー3が配置された端部又は当該端部と直線Dとの間の中途部位と配置することができる。
In FIGS. 1 (b) and 1 (d) and FIGS. 2 (b) and 2 (d), the galvano scanner 3 on the straight line D by the dotted line passing through the center position P of the surface of the table 4 is the adjacent galvano scanner 3. Although it is out of the unit of every two pieces, the galvano scanner 3 which realizes the feature points of the basic configuration (3) while being a single galvano scanner 3 exerts an important function for efficient three-dimensional modeling. ..
However, the galvano scanner 3 deviated from the two units is not only when it is arranged on the straight line D as in the basic configuration (3), but also when it is separated from the straight line D and another galvano scanner 3 is arranged. It can be arranged at an end or an intermediate portion between the end and the straight line D.

基本構成(4)は、図5(a)、(b)、(c)、(d)に示すように、基本構成(1)及び(2)において、同一の高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナー3における各第2ミラー32において前記反射のために回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度を形成する場合に前記の平行である方向に設定された直線Eに対し、第2ミラー32の回動中心軸30の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列していることを特徴としている。 As shown in FIGS. 5 (a), (b), (c), and (d), the basic configuration (4) is adjacent to each other at the same height position in the basic configurations (1) and (2). In each of the second mirrors 32 of each galvano scanner 3, the surface rotating due to the reflection is set to a straight line E set in the parallel direction when forming the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction. On the other hand, it is characterized in that they are arranged in a state of being close to each other at a distance smaller than the length of the rotation center axis 30 of the second mirror 32.

前記特徴点によって、基本構成(4)においては、前記直線Lの方向に即して隣り合う各ガルバノスキャナー3につきコンパクトな配置状態を実現することができ、この点については、既に効果の項において説明した通りである。 With the above feature points, in the basic configuration (4), it is possible to realize a compact arrangement state for each galvano scanner 3 adjacent to each other in the direction of the straight line L, and this point has already been described in the section of effect. As explained.

基本構成(5)は、図6(a)、(b)、(c)に示すように、基本構成(1)及び(2)において、異なる高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナー3における各第2ミラー32における前記回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度の場合に前記平行方向に設定された直線Dに対し、回動中心軸30と前記回動する面における前記突設された方向側の端部とが反対側に位置していることを特徴としている。 As shown in FIGS. 6A, 6B, and 6C, the basic configuration (5) is a galvano scanner 3 adjacent to each other at different height positions in the basic configurations (1) and (2). The rotating surface of each of the second mirrors 32 in the above is the rotation center axis 30 and the rotating surface with respect to the straight line D set in the parallel direction in the case of the minimum inclination angle with respect to the horizontal direction. It is characterized in that the end portion on the side of the projecting direction is located on the opposite side.

このような特徴点によって、基本構成(5)においては、各第2ミラー32の回動面が最小の傾斜角度の場合に隣り合うガルバノスキャナー3が存在する領域まで及ぶことによって、前記直線Dの方向において基本構成(4)よりも更にコンパクトな構成を実現することができることについては、既に効果の項において説明した通りである。 Due to such feature points, in the basic configuration (5), the rotation surface of each second mirror 32 extends to the region where the adjacent galvano scanner 3 exists when the inclination angle is the minimum, so that the straight line D is formed. It has already been explained in the section of effect that a configuration more compact than the basic configuration (4) can be realized in the direction.

基本構成(4)、(5)においては、図3(a)、図3(d)、図4(a)、(b)、(c)、図5(a)、(c)、図6(a)、(b)、(c)に示すように、隣り合っている各ガルバノスキャナー3における各第2ミラー32を、平行方向に即して同一位置に配列し、かつ相互に反対方向の回動方向を設定していることを特徴とする実施形態を選択し、かつ採用することが可能であると共に、図3(b)、図3(c)、図4(d)、図5(b)、図5(d)、図7(a)、(b)に示すように、隣り合う各ガルバノスキャナー3における各第2ミラー32を、前記の平行である方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に設定された前記直線Lを基準として、相互に反対方向に配列し、かつ相互に反対方向の回動方向を設定していることを特徴とする実施形態を選択し、かつ採用することができる。 In the basic configurations (4) and (5), FIGS. 3 (a), 3 (d), 4 (a), (b), (c), 5 (a), (c), 6 As shown in (a), (b), and (c), the second mirrors 32 in the adjacent galvano scanners 3 are arranged at the same position in the parallel direction and in opposite directions to each other. It is possible to select and adopt an embodiment characterized in that the rotation direction is set, and FIG. 3 (b), FIG. 3 (c), FIG. 4 (d), and FIG. 5 ( b), as shown in FIGS. 5 (d), 7 (a), and (b), each second mirror 32 in each adjacent galvano scanner 3 is arranged in the horizontal direction with respect to the parallel direction. Select and adopt an embodiment characterized in that they are arranged in opposite directions with respect to the straight line L set in the direction orthogonal to each other and the rotation directions in the opposite directions are set. can do.

前記各実施形態におけるレーザビーム又は電子ビーム7の粉末層5に対する照射によって、焼結面6の形成に際し、各第2ミラー32の機能を同等に分担している点において共通する一方、各ガルバノスキャナー3のコンパクトな配置状態においても同等であり、相互に相違する訳ではない。 The galvano scanners are common in that the functions of the second mirrors 32 are equally shared when the sintered surface 6 is formed by irradiating the powder layer 5 of the laser beam or the electron beam 7 in each of the above embodiments. It is the same even in the compact arrangement state of 3, and it does not mean that they are different from each other.

通常、第2ミラー32における回動中心角度は、水平方向に対する45°であって、回動の振幅は、±11°である。 Normally, the rotation center angle of the second mirror 32 is 45 ° with respect to the horizontal direction, and the rotation amplitude is ± 11 °.

したがって、最小の傾斜角度は、45°-11°=34°である。 Therefore, the minimum tilt angle is 45 ° -11 ° = 34 °.

前記最小の傾斜角度に即するならば、隣り合うガルバノスキャナー3における各第2ミラー32を相互に向かい合う状態に配列している実施形態の場合に、第2ミラー32の回動中心軸30と直交する方向の幅が50mmの場合には、当該傾斜角度の回動方向の幅は、
50mm×cos34°≒50mm×0.829≒41.5mm
であることから、3.5mmの余裕幅を考慮し、回動中心軸30の距離については、45mmに設定することができる。
If it corresponds to the minimum tilt angle, it is orthogonal to the rotation center axis 30 of the second mirror 32 in the case of the embodiment in which the second mirrors 32 in the adjacent galvano scanners 3 are arranged so as to face each other. When the width in the direction of rotation is 50 mm, the width of the tilt angle in the rotation direction is
50 mm x cos 34 ° ≒ 50 mm x 0.829 ≒ 41.5 mm
Therefore, the distance of the rotation center shaft 30 can be set to 45 mm in consideration of the margin width of 3.5 mm.

これに対し、図6に示す基本構成(5)の場合には、上記実施形態よりも更に前記直線Dの方向において、更にコンパクトな構成を実現することができる。 On the other hand, in the case of the basic configuration (5) shown in FIG. 6, a more compact configuration can be realized in the direction of the straight line D as compared with the above embodiment.

具体的に説明するに、回動段階において上端から下端に至るまでの幅を50mmとする第2ミラー32を有する2個のガルバノスキャナー3を採用し、かつ各回動中心軸30の中央位置をQとして水平方向に入射したレーザビーム又は電子ビーム7を反射した場合に、双方の第2ミラー32間における回動中心軸30の中央位置Qの距離の最小値の距離において採用し得る最小値につき、図9に即して、以下の通り明らかにする。 Specifically, two galvano scanners 3 having a second mirror 32 having a width of 50 mm from the upper end to the lower end in the rotation stage are adopted, and the central position of each rotation center axis 30 is Q. The minimum value that can be adopted at the minimum distance of the distance of the center position Q of the rotation center axis 30 between the two second mirrors 32 when the laser beam or the electron beam 7 incident in the horizontal direction is reflected. In line with FIG. 9, it will be clarified as follows.

図9に示すように、上側の第2ミラー32に対し、水平方向のレーザビーム又は電子ビーム7が入射し、かつ当該第2ミラー32の水平方向に対する傾斜角度をαとし、下側の第2ミラー32の水平方向に対する傾斜角度をβとし、かつ上側の第2ミラー32の下端が当該ミラーを反射したレーザビーム又は電子ビーム7に当接する場合の上側の第2ミラー32の回動中心軸30における中央位置Qと下側の第2ミラー32の前記下端の位置との水平方向の距離をxとし、垂直方向の距離をyとし、各第2ミラー32の上側端と下側端との距離を2Lとし、かつ反射したレーザビーム又は電子ビーム7が下側の第2ミラー32の下端と当接するに至るまでの透過距離をaとした場合には、

Figure 0007083199000002
Figure 0007083199000003
が成立する。 As shown in FIG. 9, a laser beam or an electron beam 7 in the horizontal direction is incident on the upper second mirror 32, and the inclination angle of the second mirror 32 with respect to the horizontal direction is α, and the lower second mirror 32 is used. The rotation center axis 30 of the upper second mirror 32 when the inclination angle of the mirror 32 with respect to the horizontal direction is β and the lower end of the upper second mirror 32 abuts on the laser beam or electron beam 7 reflected by the mirror. The horizontal distance between the center position Q and the lower end position of the lower second mirror 32 is x, the vertical distance is y, and the distance between the upper end and the lower end of each second mirror 32. Is 2L, and the transmission distance until the reflected laser beam or electron beam 7 comes into contact with the lower end of the lower second mirror 32 is a.
Figure 0007083199000002
Figure 0007083199000003
Is established.

ここで、上側の第2ミラー32が最大の傾斜角度γに至った場合においても、上側の第2ミラー32の下端と下側の第2ミラー32の回動中心軸30における中央位置Qの高さ位置が同一であり、しかも図9に示すような当接状態の場合には、上側の第2ミラー32の下端が下側の第2ミラー32の回動面に衝突することはあり得ない。 Here, even when the upper second mirror 32 reaches the maximum tilt angle γ 1 , the lower end of the upper second mirror 32 and the center position Q of the lower second mirror 32 in the rotation center axis 30. When the height positions are the same and the contact state is as shown in FIG. 9, the lower end of the upper second mirror 32 may collide with the rotating surface of the lower second mirror 32. do not have.

上側の第2ミラー32が前記要件である最小の傾斜角度γであり、かつ下側の第2ミラー32の傾斜角度がβを維持している場合に、前記高さ位置が同一である場合には、図9によって、

Figure 0007083199000004
であることから、
Figure 0007083199000005
が成立する。 When the upper second mirror 32 has the minimum tilt angle γ 2 which is the requirement, and the tilt angle of the lower second mirror 32 maintains β, the height positions are the same. By FIG.
Figure 0007083199000004
Because it is
Figure 0007083199000005
Is established.

レーザビーム又は電子ビーム7が上側の第2ミラー32から反射して、下側の第2ミラー32の下端に当接するに至る距離aが最大値を呈する場合には、下側の第2ミラー32が上側の第2ミラー32から反射したレーザビーム又は電子ビーム7を最も遮断し難い状態に至る寸前の事態に該当する。 When the distance a until the laser beam or the electron beam 7 is reflected from the upper second mirror 32 and comes into contact with the lower end of the lower second mirror 32 has a maximum value, the lower second mirror 32 has a maximum value. Corresponds to the situation just before reaching the state where it is most difficult to block the laser beam or the electron beam 7 reflected from the upper second mirror 32.

前記aが最大値であるためには、
β=最大の傾斜角度γ
の成立を必要とし、結局、

Figure 0007083199000006
を得ることができる。 In order for the a to be the maximum value,
β = maximum tilt angle γ 1
Needs to be established, and in the end
Figure 0007083199000006
Can be obtained.

基本構成(2)のように、上側の第1ミラー31の傾斜角度が最小値γであり、かつ前記のように、
β=γ
である場合には、

Figure 0007083199000007
が成立する。 As in the basic configuration (2), the tilt angle of the upper first mirror 31 is the minimum value γ 2 , and as described above,
β = γ 1
If so,
Figure 0007083199000007
Is established.

一般に、通常γ=56°、γ=34°であることから、

Figure 0007083199000008
という近似式が成立する。 Generally, since γ 1 = 56 ° and γ 2 = 34 ° are usually present,
Figure 0007083199000008
The approximate expression is established.

回動段階における上端と下端の幅が2L=50mmの場合、
x≒31.7mm
を得ることができる。
When the width of the upper end and the lower end in the rotation stage is 2L = 50 mm
x≈31.7 mm
Can be obtained.

したがって、2.3mmの余裕幅を考慮した場合、上側の第2ミラー32の回動中心軸30における中央位置Qと下側の第2ミラー32の回動中心軸30における中央位置Qとの最小距離として、34mmを設定することができる。 Therefore, when the margin width of 2.3 mm is taken into consideration, the minimum of the central position Q on the rotation center axis 30 of the upper second mirror 32 and the center position Q on the rotation center axis 30 of the lower second mirror 32. The distance can be set to 34 mm.

図9の左側の第2ミラー32に即して説明したように、最小の傾斜角度34°の場合の第2ミラー32の水平方向の片側幅は、
25mm×cos34°=25mm×0.8290≒20.7mm である。
As described in line with the second mirror 32 on the left side of FIG. 9, the horizontal one-sided width of the second mirror 32 at the minimum tilt angle of 34 ° is.
25 mm x cos 34 ° = 25 mm x 0.8290 ≒ 20.7 mm.

したがって、双方の第2ミラー32が最小の傾斜角度を呈した場合の数値が41.4mmであることを考慮するならば、上記34mmの最小距離は、双方の第2ミラー32の一部領域が水平方向角度に至らずに、最小の傾斜角度を呈した場合であっても、水平方向に即して重複し合っていることを明瞭に裏付けている。
尚、上記のx≒1.266Lの近似式が成立する場合には、

Figure 0007083199000009
であることが判明する。 Therefore, considering that the numerical value when both second mirrors 32 exhibit the minimum tilt angle is 41.4 mm, the minimum distance of 34 mm is the partial region of both second mirrors 32. It clearly supports the fact that they overlap in the horizontal direction even when the minimum tilt angle is exhibited without reaching the horizontal angle.
If the above approximate expression of x≈1.266L is established,
Figure 0007083199000009
Turns out to be.

通常、各ガルバノスキャナー3は、高さ方向において水平状態にて配置されている。
但し、基本構成(1)及び(2)は、このような水平状態に限定される訳ではない。
Normally, each galvano scanner 3 is arranged in a horizontal state in the height direction.
However, the basic configurations (1) and (2) are not limited to such a horizontal state.

即ち、図8(a)、(b)、(c)に示すように、各ガルバノスキャナー3を、水平方向に対し、傾斜するような実施形態を採用することも可能である。 That is, as shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C, it is also possible to adopt an embodiment in which each galvano scanner 3 is tilted with respect to the horizontal direction.

具体的に説明するに、図8(a)に示すように、各ガルバノスキャナー3の長手方向を、第1ミラー31における回動中心軸30の位置に至るまで上向きとする傾斜状態に配置し、第1ミラー31の回動中心軸30を当該傾斜角度に即して傾斜し、かつ第1ミラー31がレーザビーム又は電子ビーム7を水平方向に反射していることを特徴とする実施形態、及び図8(b)に示すように、各ガルバノスキャナー3の長手方向を、水平方向に沿って配置し、第2ミラー32の突設方向を上向きとするような傾斜状態に配置すると共に、第1ミラー31の回動中心軸30を当該傾斜角度に即して傾斜する方向に設置することによって、第1ミラー31がレーザビーム又は電子ビーム7を前記傾斜方向に反射しており、かつ隣り合うガルバノスキャナー3における各第2ミラー32の回動方向を反対方向に設定していることを特徴とする実施形態も採用可能である。 Specifically, as shown in FIG. 8A, the longitudinal direction of each galvano scanner 3 is arranged in an inclined state so as to face upward until the position of the rotation center axis 30 in the first mirror 31. An embodiment characterized in that the rotation center axis 30 of the first mirror 31 is tilted according to the tilt angle, and the first mirror 31 reflects a laser beam or an electron beam 7 in the horizontal direction. As shown in FIG. 8B, the longitudinal direction of each galvano scanner 3 is arranged along the horizontal direction, and the second mirror 32 is arranged in an inclined state such that the projecting direction of the second mirror 32 faces upward, and the first By installing the rotation center axis 30 of the mirror 31 in the direction of tilting according to the tilt angle, the first mirror 31 reflects the laser beam or the electron beam 7 in the tilt direction, and the adjacent galvano An embodiment characterized in that the rotation direction of each second mirror 32 in the scanner 3 is set in the opposite direction can also be adopted.

尚、図8(a)に示す実施形態の場合には、上向きに傾斜したレーザビーム又は電子ビーム7と第1ミラー31とが水平方向に反射することを必要とすることから、当該図8(a)に示すように、第1ミラー31の回動中心軸30については、上側に傾斜する方向に進行しているレーザビーム又は電子ビーム7を水平方向に反射するために、鉛直方向ではなく、図8(a)に示すように当該方向に対し、当該傾斜角度に即して傾斜する方向に設定することを必要不可欠とする。 In the case of the embodiment shown in FIG. 8A, since it is necessary that the laser beam or electron beam 7 inclined upward and the first mirror 31 reflect in the horizontal direction, FIG. 8 (a) shows the embodiment. As shown in a), the rotation center axis 30 of the first mirror 31 is not in the vertical direction but in the vertical direction in order to reflect the laser beam or the electron beam 7 traveling in the upwardly inclined direction in the horizontal direction. As shown in FIG. 8A, it is indispensable to set the tilting direction in accordance with the tilting angle with respect to the tilting direction.

図8(b)に示す実施形態においては、水平方向に直進し、かつレーザビーム又は電子ビーム7を第2ミラー32が突設された方向に即して上側に傾斜する方向に反射するためには、第1ミラー31の回動中心軸30については、鉛直方向ではなく、当該方向に対し図8(b)に示すように、当該傾斜角度に即して傾斜する方向に設定することを必要不可欠とする。 In the embodiment shown in FIG. 8B, in order to travel straight in the horizontal direction and reflect the laser beam or the electron beam 7 in a direction in which the laser beam or the electron beam 7 is inclined upward along the direction in which the second mirror 32 is projected. It is necessary to set the rotation center axis 30 of the first mirror 31 in a direction in which the rotation center axis 30 is tilted according to the tilt angle, as shown in FIG. 8B, with respect to the direction, not in the vertical direction. Make it indispensable.

これに対し、図8(c)に示すように、ガルバノスキャナー3の長手方向を、第1ミラー31における回動中心軸30の位置に至るまで上向きとする傾斜状態に配置し、第1ミラー31の回動中心軸30を鉛直方向に設定し、かつ第2ミラー32の突設方向を上向きとするような傾斜角度に配置していることを特徴とする実施形態を採用した場合には、上側に傾斜する方向にて進行するレーザビーム又は電子ビーム7は鉛直方向に設定された回動中心軸30を有する第1ミラー31によって、第2ミラー32が突設されている方向の上向き方向に反射することが可能であることから、図8(a)、(b)に示すように、第1ミラー31の回動中心軸30を傾斜方向に設定する必要はない。 On the other hand, as shown in FIG. 8 (c), the galvano scanner 3 is arranged in an inclined state in which the longitudinal direction of the galvano scanner 3 faces upward up to the position of the rotation center axis 30 in the first mirror 31, and the first mirror 31 is arranged. When the embodiment characterized in that the rotation center axis 30 of the above is set in the vertical direction and is arranged at an inclination angle such that the projecting direction of the second mirror 32 faces upward, the upper side is adopted. The laser beam or electron beam 7 traveling in the direction inclined toward the surface is reflected upward by the first mirror 31 having the rotation center axis 30 set in the vertical direction in the direction in which the second mirror 32 is projected. Therefore, as shown in FIGS. 8A and 8B, it is not necessary to set the rotation center axis 30 of the first mirror 31 in the tilt direction.

図8(c)に示す実施形態は、第1ミラー31の回動中心軸30の設定方法において最もシンプルである。 The embodiment shown in FIG. 8C is the simplest in the method of setting the rotation center shaft 30 of the first mirror 31.

図8(a)、(b)、(c)に示す各実施形態の場合には、前記平行方向に即して、各ガルバノスキャナー3を更にコンパクトな配置を実現することができる。 In the case of each of the embodiments shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C, it is possible to realize a more compact arrangement of each galvano scanner 3 in the parallel direction.

前記各実施形態の場合には、第2ミラー32のテーブル4の表面に対する位置が高くなるが、その結果、粉末層に対する照射角度の変化状態が少ないことに帰する。 In the case of each of the above embodiments, the position of the second mirror 32 with respect to the surface of the table 4 is high, but as a result, the change state of the irradiation angle with respect to the powder layer is small.

一般に、三次元造形においては、第2ミラー32による照射の程度を均一状態とするために、第1ミラー31及び第2ミラー32の回動速度のコントロールが行われており、前記照射角度が小さいほど第1ミラー31及び第2ミラー32の回動速度を小さく設定している。
但し、上記設定によるコントロールによって必ずしも均一な照射が保証される訳ではない。
Generally, in three-dimensional modeling, the rotation speeds of the first mirror 31 and the second mirror 32 are controlled in order to make the degree of irradiation by the second mirror 32 uniform, and the irradiation angle is small. The rotation speeds of the first mirror 31 and the second mirror 32 are set to be smaller.
However, uniform irradiation is not always guaranteed by the control by the above setting.

このような場合、前記各実施形態の場合には、傾斜角度の変化状態が少ないことから、前記コントロールの精度を改良することができる。
尚、図8(a)に示す実施形態は、図8(b)に示す実施形態に比し、コンパクトな構成による効果及び前記コントロールの精度の改善の程度において優れているという評価を行うことができる。
In such a case, in the case of each of the above-described embodiments, the accuracy of the control can be improved because the change state of the tilt angle is small.
It should be noted that the embodiment shown in FIG. 8A can be evaluated to be superior to the embodiment shown in FIG. 8B in terms of the effect of the compact configuration and the degree of improvement in the accuracy of the control. can.

基本構成(1)、(2)、(3)、(4)、(5)においては、焼結された三次元造形物の表面を切削する切削工具を必要不可欠としていないが、精緻な形状による三次元造形物を実現するために、切削工具を採用する場合が多い。 In the basic configurations (1), (2), (3), (4), and (5), a cutting tool for cutting the surface of the sintered three-dimensional model is not indispensable, but it depends on the precise shape. Cutting tools are often used to realize three-dimensional objects.

以下、実施例に即して説明する。 Hereinafter, the description will be given according to an embodiment.

実施例1は、図1(a)、(b)、(c)、(d)、(e)に示すように、基本構成(1)に立脚した上で、2個、又は4個、又は6個のガルバノスキャナー3を前記中心位置Pを基準として点対称に配置するか、若しくは3個又は5個のガルバノスキャナー3のうちの1個を前記中心位置P上に配置し、残2個又は残4個のガルバノスキャナー3を前記中心位置Pから前記平行方向にて延設された直線Lを基準としてそれぞれ線対称に配置していることを特徴としている。 In the first embodiment, as shown in FIGS. 1 (a), (b), (c), (d), and (e), two, four, or two or four are based on the basic configuration (1). Six galvano scanners 3 are arranged point-symmetrically with respect to the center position P, or one of three or five galvano scanners 3 is arranged on the center position P, and the remaining two or The remaining four galvano scanners 3 are arranged symmetrically with respect to a straight line L extending in the parallel direction from the center position P.

このような特徴点によって、実施例1は、基本構成(1)の効果を現実に発揮することができる。 With such feature points, the first embodiment can actually exert the effect of the basic configuration (1).

実施例2は、図2(a)、(b)、(c)、(d)、(e)に示すように、基本構成(2)に立脚した上で、ガルバノスキャナー3を2個、又は3個、又は4個、又は5個、又は6個配置していることを特徴としている。 In the second embodiment, as shown in FIGS. 2 (a), (b), (c), (d), and (e), two galvano scanners 3 or two galvano scanners 3 are used on the basis of the basic configuration (2). It is characterized in that three, four, five, or six are arranged.

このような特徴点によって、実施例2は、基本構成(2)の効果を現実に発揮することができる。 With such feature points, the second embodiment can actually exert the effect of the basic configuration (2).

本願発明は、複数個のガルバノスキャナーをテーブル表面の中心位置を基準として、極めてコンパクトな構成を実現し、効率的な焼結面の形成に寄与することを可能とする点において画期的であり、その利用範囲は広範である。 The present invention is epoch-making in that a plurality of galvano scanners can realize an extremely compact configuration based on the center position of the table surface and contribute to the formation of an efficient sintered surface. , Its range of use is wide.

1 レーザビーム又は電子ビームの発振源
2 ダイナミックフォーカスレンズ
3 ガルバノスキャナー
30 回動中心軸
31 第1ミラー
32 第2ミラー
4 テーブル
7 レーザビーム又は電子ビーム
P テーブル表面の中心位置
D テーブル表面の中心位置からガルバノスキャナーの長手方向に即して平行方向に延設された点線による直線
L 前記平行方向に直交する方向にてテーブル表面の中心位置から延設された直線
Q 回動中心軸30の中央位置
1 Laser beam or electron beam oscillation source 2 Dynamic focus lens 3 Galvano scanner 30 Rotation center axis 31 First mirror 32 Second mirror 4 Table 7 Laser beam or electron beam P Center position of table surface D From center position of table surface A straight line by a dotted line extending in a parallel direction along the longitudinal direction of the galvano scanner L A straight line extending from the center position of the table surface in a direction orthogonal to the parallel direction Q The center position of the rotation center axis 30

Claims (16)

粉末を走行を介してテーブル上に積層するスキージ、当該粉末層に対しレーザビーム又は電子ビームを走査する複数個のガルバノスキャナーを備えた三次元造形装置であって、各ガルバノスキャナーは、ダイナミックフォーカスレンズを透過したレーザビーム又は電子ビームに対し、当該透過方向と直交する方向の回動中心軸を介して回動する第1ミラー及び第1ミラーの回動と独立した状態にて前記第1ミラーにおける回動中心軸の方向と直交状態にあり、かつ水平方向の回動中心軸を介して回動する第2ミラーからの反射によって、レーザビーム又は電子ビームの直交座標を基準とする二次元方向の走査を実現しており、かつ複数個のガルバノスキャナーを、レーザビーム又は電子ビームの発振源を収容している領域を後端側とし、第1ミラーを収容している領域を先端側とし、かつ前記透過方向と同一方向である長手方向に即して平行であると共に、前記平行な方向の両側にて2個を単位として隣り合うガルバノスキャナーにおける前記長手方向を逆方向のみに設定しており、各ガルバノスキャナーにおいてテーブル表面の中心位置から前記の平行である方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線に関し、第2ミラーを、各第2ミラーの回動中心軸を前記平行方向に設定すると共に、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸と直交する方向の位置にある端部につき、前記平行方向に即して、前記直線を両側から挟む状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れ、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列しているかの何れかである三次元造形装置。 It is a three-dimensional modeling device equipped with a squeegee that stacks powder on a table via traveling, and a plurality of galvano scanners that scan a laser beam or an electron beam on the powder layer. Each galvano scanner is a dynamic focus lens. In the first mirror in a state independent of the rotation of the first mirror and the first mirror that rotate via the rotation center axis in the direction orthogonal to the transmission direction with respect to the laser beam or the electron beam transmitted through. Two-dimensional direction relative to the orthogonal coordinates of the laser beam or electron beam due to reflection from the second mirror that is orthogonal to the direction of the center of rotation and rotates through the center of rotation in the horizontal direction. Scanning is realized, and a plurality of galvano scanners have a region containing a laser beam or an electron beam oscillation source on the rear end side and a region containing the first mirror on the front end side. In addition to being parallel to the longitudinal direction, which is the same direction as the transmission direction, the longitudinal direction of the galvano scanners adjacent to each other in units of two on both sides of the parallel direction is set only in the opposite direction. In each galvano scanner, the second mirror and the rotation center axis of each second mirror are set with respect to a straight line extending in a direction orthogonal to the horizontal direction from the center position of the table surface to the parallel direction. In addition to being set in the parallel direction, the end portion of each second mirror that rotates due to the reflection and is located at a position perpendicular to the rotation center axis on the rotating surface immediately in the parallel direction. Then, the straight lines are arranged so as to be sandwiched from both sides, or the region on the tip side accommodating the first mirror as described above and the laser beam or electron beam oscillation source as described above are accommodated. Arranged in a state where the end portion is separated from the straight line together with the region on the rear end side and the end portion is close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror, or the above-mentioned As described above, the entire region on the distal end side accommodating the first mirror and the region on the rear end side accommodating the laser beam or electron beam oscillation source as described above with respect to the straight line are opposite to the straight line. A three-dimensional modeling device in which the ends are arranged in a state of being close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. 2個、又は4個、又は6個のガルバノスキャナーを前記中心位置を基準として点対称に配置するか、若しくは3個又は5個のガルバノスキャナーのうちの1個を前記中心位置上に配置し、残2個又は残4個のガルバノスキャナーを前記中心位置から前記平行方向にて延設された直線を基準としてそれぞれ線対称に配置していることを特徴とする請求項1記載の三次元造形装置。 Two, four, or six galvano scanners are placed point-symmetrically with respect to the center position, or one of the three or five galvano scanners is placed on the center position. The three-dimensional modeling apparatus according to claim 1, wherein the remaining two or four galvano scanners are arranged line-symmetrically with respect to a straight line extending in the parallel direction from the center position. .. 粉末を走行を介してテーブル上に積層するスキージ、当該粉末層に対しレーザビーム又は電子ビームを走査する複数個のガルバノスキャナーを備えた三次元造形装置であって、各ガルバノスキャナーは、ダイナミックフォーカスレンズを透過したレーザビーム又は電子ビームに対し、当該透過方向と直交する方向の回動中心軸を介して回動する第1ミラー及び第1ミラーの回動と独立した状態にて前記第1ミラーにおける回動中心軸の方向と直交状態にあり、かつ水平方向の回動中心軸を介して回動する第2ミラーからの反射によって、レーザビーム又は電子ビームの直交座標を基準とする二次元方向の走査を実現しており、かつ複数個のガルバノスキャナーを、レーザビーム又は電子ビームの発振源を収容している領域を後端側とし、第1ミラーを収容している領域を先端側とし、かつ前記透過方向と同一方向である長手方向に即して平行であると共に、前記平行な方向の両側にて2個を単位として隣り合うガルバノスキャナーにおける前記長手方向を同一方向のみに設定しており、各ガルバノスキャナーにおいてテーブル表面の中心位置及び当該中心位置に対して、レーザビーム又は電子ビームの発振源の後端から第1ミラーの回動領域に至るまでの距離の1/2の距離だけ前記の平行である方向に即して偏差している位置との間の領域にて選択された特定の位置から前記平行方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に延設された直線に関し、第2ミラーを、各第2ミラーの回動中心軸を前記平行方向に設定すると共に、各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面及び当該回動する面において回動中心軸と直交する方向の位置にある端部につき、前記平行方向に即して、前記直線を両側から挟む状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の領域及び前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と共に前記直線から離れ、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列するか、又は前記のように第1ミラーを収容している先端側の全領域と共に、前記直線に対し、前記のようにレーザビーム又は電子ビーム発振源を収容している後端側の領域と反対側であって、かつ前記端部が前記直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列しているかの何れかである三次元造形装置。 It is a three-dimensional modeling device equipped with a squeegee that stacks powder on a table via traveling, and a plurality of galvano scanners that scan a laser beam or an electron beam on the powder layer. Each galvano scanner is a dynamic focus lens. In the first mirror in a state independent of the rotation of the first mirror and the first mirror that rotate via the rotation center axis in the direction orthogonal to the transmission direction with respect to the laser beam or the electron beam transmitted through. Two-dimensional direction relative to the orthogonal coordinates of the laser beam or electron beam due to reflection from the second mirror that is orthogonal to the direction of the center of rotation and rotates through the center of rotation in the horizontal direction. Scanning is realized, and a plurality of galvano scanners have a region containing a laser beam or an electron beam oscillation source on the rear end side and a region containing the first mirror on the front end side. In addition to being parallel to the longitudinal direction, which is the same direction as the transmission direction, the longitudinal direction of the galvano scanners adjacent to each other in units of two on both sides of the parallel direction is set only in the same direction. In each galvano scanner, the center position of the table surface and the center position are halved of the distance from the rear end of the oscillation source of the laser beam or the electron beam to the rotation region of the first mirror. With respect to a straight line extending in a direction orthogonal to the parallel direction from a specific position selected in the region between the position and the position deviating along the parallel direction, the first. The two mirrors are set so that the rotation center axis of each second mirror is in the parallel direction, and the rotation center axis is orthogonal to the rotation center axis in the rotation surface and the rotation surface of each second mirror. With respect to the end portion at the position in the direction, the straight line is arranged in a state of sandwiching the straight line from both sides in the parallel direction, or the region on the tip side accommodating the first mirror as described above and the above-mentioned region. As described above, a distance away from the straight line together with the region on the rear end side accommodating the laser beam or the electron beam oscillation source, and the end portion of the straight line is smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. Arrange in close proximity to each other, or accommodate the laser beam or electron beam oscillation source as described above for the straight line together with the entire region on the tip side that accommodates the first mirror as described above. Is it arranged on the opposite side of the region on the rear end side and in a state where the end portion is close to the straight line at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror? A three-dimensional modeling device that is one of the above. ガルバノスキャナーを2個、又は3個、又は4個、又は5個、又は6個配置していることを特徴とする請求項3記載の三次元造形装置。 The three-dimensional modeling apparatus according to claim 3, wherein two, three, four, five, or six galvano scanners are arranged. 前記中心位置から前記平行方向にて延設された直線上に1個のガルバノスキャナーを配置していることを特徴としている請求項1、2の何れか一項に記載の三次元造形装置。 The three-dimensional modeling apparatus according to any one of claims 1 and 2, wherein one galvano scanner is arranged on a straight line extending in the parallel direction from the center position. 同一の高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーにおいて前記反射のために回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度を形成する場合に前記の平行である方向に設定された直線に対し、第2ミラーの回動中心軸の長さよりも小さい距離にて近接した状態にて配列していることを特徴とする請求項1、2、3、4、5の何れか一項に記載の三次元造形装置。 The planes that rotate for reflection in each second mirror of adjacent galvano scanners at the same height position are parallel to each other when forming the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction. Claims 1, 2, 3, 4, characterized in that they are arranged in a state of being close to a straight line set in a direction at a distance smaller than the length of the rotation center axis of the second mirror. The three-dimensional modeling apparatus according to any one of 5. 隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーを、平行方向に即して同一位置に配列し、かつ相互に反対方向の回動方向を設定していることを特徴とする請求項6記載の三次元造形装置。 The sixth aspect of claim 6, wherein the second mirrors of the adjacent galvano scanners are arranged at the same position along the parallel direction, and the rotation directions in the opposite directions are set. Three-dimensional modeling device. 回動中心軸と直交する方向の幅が50mmである各第2ミラーに対し、回動中心軸を中心位置として水平方向に入射したレーザビーム又は電子ビームを反射する第2ミラーの前記最小の傾斜角度34°であり、かつ双方の第2ミラーの回動中心軸間の距離が45mmであることを特徴とする請求項7記載の三次元造形装置。 The minimum inclination of the second mirror that reflects the laser beam or electron beam incident in the horizontal direction with the rotation center axis as the center position for each second mirror having a width of 50 mm in the direction orthogonal to the rotation center axis. The three-dimensional modeling apparatus according to claim 7, wherein the angle is 34 ° and the distance between the rotation center axes of both second mirrors is 45 mm. 隣り合う各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーを、前記の平行である方向に対し、水平方向に沿って直交する方向に設定された前記直線を基準として、相互に反対方向に配列し、かつ相互に反対方向の回動方向を設定していることを特徴とする請求項6記載の三次元造形装置。 The second mirrors in the adjacent galvano scanners are arranged in opposite directions with respect to the straight line set in the direction orthogonal to the parallel direction in the horizontal direction , and mutually. The three-dimensional modeling apparatus according to claim 6, wherein the rotation direction is set in the opposite direction . 異なる高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーにおける前記回動する面を、水平方向を基準として最小の傾斜角度を形成する場合に前記平行方向に設定された直線に対し、回動中心軸と前記回動する面における前記突設された方向側の端部とが反対側に位置していることを特徴とする請求項1、2、3、4、5の何れか一項に記載の三次元造形装置。 The rotating surface of each second mirror in each galvano scanner adjacent to each other at different height positions is relative to a straight line set in the parallel direction when forming the minimum tilt angle with respect to the horizontal direction. 1 . The three-dimensional modeling apparatus described in item 1. 隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける各第2ミラーを、平行方向に即して同一位置に配列し、相互に反対方向の回動方向を設定していることを特徴とする請求項10記載の三次元造形装置。 The tertiary according to claim 10, wherein the second mirrors in the adjacent galvano scanners are arranged at the same position along the parallel direction, and the rotation directions in the opposite directions are set. Former modeling equipment. 回動中心軸と直交する方向の幅が50mmである各第2ミラーに対し、回動中心軸を中心位置として水平方向に入射したレーザビーム又は電子ビームを反射する第2ミラーの前記最小の傾斜角度34°であり、かつ双方の第2ミラーにおける回動中心軸の距離が水平方向に即して34mmであることを特徴とする請求項11記載の三次元造形装置。 The minimum inclination of the second mirror that reflects the laser beam or electron beam incident in the horizontal direction with the rotation center axis as the center position for each second mirror having a width of 50 mm in the direction orthogonal to the rotation center axis. The three-dimensional modeling apparatus according to claim 11, wherein the angle is 34 ° , and the distance between the rotation center axes of both second mirrors is 34 mm in the horizontal direction. 異なる高さ位置にて隣り合っている各ガルバノスキャナーにおける第2ミラーを、平行方向に即して異なる位置にて配列していることを特徴とする請求項10記載の三次元造形装置。 The three-dimensional modeling apparatus according to claim 10, wherein the second mirrors of the galvano scanners adjacent to each other at different height positions are arranged at different positions along the parallel direction. 各ガルバノスキャナーの長手方向を、第1ミラーにおける回動中心軸の位置に至るまで上向きとする傾斜状態に配置し、第1ミラーの回動中心軸を当該傾斜角度に即して傾斜し、かつ第1ミラーがレーザビーム又は電子ビームを水平方向に反射していることを特徴とする請求項1、2、3、4、5の何れか一項に記載の三次元造形装置。 The longitudinal direction of each galvano scanner is arranged in an inclined state so as to face upward up to the position of the rotation center axis in the first mirror, and the rotation center axis of the first mirror is tilted according to the inclination angle. The three-dimensional modeling apparatus according to any one of claims 1, 2, 3, 4, and 5, wherein the first mirror reflects a laser beam or an electron beam in the horizontal direction. 各ガルバノスキャナーの長手方向を、水平方向に沿って配置し、第2ミラーの突設方向を上向きとするような傾斜状態に配置すると共に、第1ミラーの回動中心軸を当該傾斜角度に即して傾斜する方向に設置することによって、第1ミラーがレーザビーム又は電子ビームを前記傾斜方向に反射しており、かつ隣り合うガルバノスキャナーにおける各第2ミラーの回動方向を反対方向に設定していることを特徴とする請求項1、2、3、4の何れか一項に記載の三次元造形装置。 The longitudinal direction of each galvano scanner is arranged along the horizontal direction and is arranged in an inclined state so that the projecting direction of the second mirror faces upward, and the rotation center axis of the first mirror is immediately set to the inclination angle. By installing the mirror in the tilting direction, the first mirror reflects the laser beam or the electron beam in the tilting direction, and the rotation direction of each second mirror in the adjacent galvano scanner is set in the opposite direction. The three-dimensional modeling apparatus according to any one of claims 1, 2, 3, and 4. ガルバノスキャナーの長手方向を、第1ミラーにおける回動中心軸の位置に至るまで上向きとする傾斜状態に配置し、第1ミラーの回動中心軸を鉛直方向に設定し、かつ第2ミラーの突設方向を上向きとするような傾斜角度に配置していることを特徴とする請求項1、2、3、4、5の何れか一項に記載の三次元造形装置。 The longitudinal direction of the galvano scanner is arranged in an inclined state so as to face upward up to the position of the rotation center axis in the first mirror, the rotation center axis of the first mirror is set in the vertical direction, and the protrusion of the second mirror. The three-dimensional modeling apparatus according to any one of claims 1, 2, 3, 4, and 5, wherein the three-dimensional modeling apparatus is arranged at an inclination angle such that the installation direction is upward .
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