JP7070445B2

JP7070445B2 - 光走査装置

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Publication number: JP7070445B2
Application number: JP2019004373A
Authority: JP
Inventors: 秀昌鈴木; 邦彦林
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Filing date: 2019-01-15
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Description

本開示は、光波を走査するように構成された光走査装置に関する。

下記の特許文献１には、プリンタの内部にて光波を走査するように構成された光走査装置において、不要な光が反射鏡で反射されることを抑制するために、反射鏡における光波の走査に使用しない領域の反射率を低く設定する構成が開示されている。

特開２０１０－１４５４８６号公報

ところで、車両に用いられるレーダ装置等の光走査装置においては、光波を射出する発光部、光波の反射波を受光する受光部を備える。この場合の光走査装置は、上記のプリンタのように、装置の内部で光波を走査するのではなく、光波を透過させる透過部材から光波を射出することによって装置の外部に光波を走査するように構成される。

発明者の詳細な検討の結果、このような構成では、走査される光波が透過部材にて反射され、その反射光がさらに反射鏡で反射されて迷光となる場合があるという課題が見出された。迷光が受光部に入射されることは、光走査装置をセンサとして機能させる場合に誤検出の原因となりうる。なお、上記の特許文献１の技術では、透過部材に起因する迷光を抑制することについては考慮されていない。

本開示の１つの局面は、光波を走査するように構成された光走査装置において、透過部材にて反射された光波が迷光となって受光部に入射されることを抑制できるようにすることにある。

本開示の一態様は、光波を走査するように構成された光走査装置（１）である。光走査装置は、発光部（１２）と、受光部（１３）と、透過部材（１１）と、少なくとも１つの反射鏡（２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｄ）と、を備える。発光部は、光波を射出するように構成される。受光部は、光波の反射光を受光するように構成される。透過部材は、光波および光波の反射光を透過させるように構成される。

反射鏡は、透過部材よりも発光部および受光部側に配置され、回転する少なくとも１つの反射面を備え、反射面を用いて光波および反射光のうちの少なくとも一方を偏向するように構成される。また反射鏡は、反射面が発光部側または受光部側に向いている状態で、透過部材側に、反射面における光波の反射率が、反射面における他の部位（２１Ａ）よりも低く設定された低反射領域（２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ）を備える。

ここで、透過部材を備え、回転する反射鏡を用いて光波を走査する光走査装置では、透過部材で反射した光波がさらに反射鏡で反射されて迷光となる際に、反射鏡の反射面における透過部材側で光波が反射されることが分かった。そこで、本開示の構成では、反射面における透過部材側に、低反射領域を設け、迷光の光量を抑制する。

このような構成によれば、低反射領域で迷光の光量を抑制できるので、透過部材にて反射された光波が迷光となって受光部に入射されることを抑制することができる。なお、反射面における透過部材側とは、反射面が発光部または受光部に向いているときに、透過部材側となる部位である。

光走査装置の概略構成を示す背面図である。発光側の反射鏡の正面図である。第１実施形態において発光側の反射鏡の側面図である。受光側の反射鏡の正面図である。反射鏡に対する入射角の説明図である。迷光の発生例（その１）を示す平面図である。迷光の発生例（その１）において、走査される光波の反射位置と迷光の反射位置とを示す正面図である。迷光の発生例（その２）を示す平面図である。迷光の発生しない状況の一例を示す平面図である。迷光の発生しない状況の一例において、走査される光波の反射位置と迷光の反射位置とを示す正面図である。高反射領域に対する入射角とＳ偏光の反射率との関係を示すグラフである。第１実施形態の低反射領域に対する入射角とＳ偏光の反射率との関係を示すグラフである。高反射領域に対する入射角とＰ偏光の反射率との関係を示すグラフである。第１実施形態の低反射領域に対する入射角とＰ偏光の反射率との関係を示すグラフである。第２実施形態において発光側の反射鏡の側面図である。第２実施形態の低反射領域に対する入射角とＳ偏光の反射率との関係を示すグラフである。第２実施形態の低反射領域に対する入射角とＰ偏光の反射率との関係を示すグラフである。

以下、図面を参照しながら、本開示の実施形態を説明する。
［１．第１実施形態］
［１－１．構成］
図１に示す光走査装置１は、例えば乗用車等の車両に搭載され、光波を走査するように構成される。光走査装置１は、走査した光波を光走査装置１外に射出し、何らかの物体に反射された反射波を受光する。光走査装置１は、例えば、光波を射出する方向と、光波を射出してから反射波を受光するまでの時間とに基づいて、物体の位置を検知する物体検知装置の一部を構成する。

光走査装置１は、図１に示すように、発光部１２と、受光部１３と、透過部材１１と、複数の反射鏡２０Ａ，２０Ｂと、を備える。光走査装置１は、当該光走査装置１を上下に仕切る仕切り板１５で内部の空間が上下に仕切られた２層構造とされている。そして、光走査装置１は、仕切り板１５の上部に、光波を走査するための構成を備え、仕切り板１５の下部に、光波の反射光を受光するための構成を備える。

発光部１２は、仕切り板１５の上部に配置されており、Ｘ軸の正方向に光波を射出するように構成される。Ｘ軸の正方向は、図１では紙面左方向である。発光部１２は、例えば、レーザダイオード等、光波を発する装置として構成される。発光部１２から射出された光波は、仕切り板１５の上部に配置された照射用レンズ１４Ａにて光波の拡散が抑制されつつ、反射鏡２０Ａに向かうように構成される。

複数の反射鏡２０Ａ，２０Ｂのうちの発光側の反射鏡２０Ａは、仕切り板１５の上部に配置される。反射鏡２０Ａは、回転する表裏２面の反射面を備え、反射面を用いて照射用レンズ１４Ａを通過した光波をＺ軸の正方向に偏向するように構成される。Ｚ軸の正方向は、図１では紙面奥側である。

透過部材１１は、発光部１２、受光部１３、反射鏡２０Ａ，２０Ｂ等よりも、Ｚ軸の正方向側に配置される。透過部材１１は、例えば、アクリル、或いはガラス等の、発光部１２から射出される光波を透過する材料から構成され、光走査装置１の構成要素を保護するためのカバー部として機能する。透過部材１１は、反射鏡２０Ａで偏向された光波を透過させるとともに、射出された光波が物体に反射されることによる反射光を透過させる。

複数の反射鏡２０Ａ，２０Ｂのうちの受光側の反射鏡２０Ｂは、仕切り板１５の下部に配置される。反射鏡２０Ｂは、反射鏡２０Ａと同様に、回転する表裏２面の反射面を備え、反射鏡２０Ｂが有する反射面の向きと反射鏡２０Ａが有する反射面の向きとが一致するように同期しつつ回転するように構成される。反射鏡２０Ｂは、走査により射出された光波が、何らかの物体に反射し、透過部材１１を透過してＺ軸の正方向から戻る反射光を、受光用レンズ１４Ｂに向けて偏向する。

受光用レンズ１４Ｂは、仕切り板１５の下部に配置され、反射鏡２０Ｂから入射された反射光を、受光部１３で受光できるように収斂する。
受光部１３は、仕切り板１５の下部であって、発光部１２の直下に配置されており、受光用レンズ１４Ｂを通過し、Ｘ軸の正方向から到来する反射光を受光するように構成される。受光部１３は、例えば、フォトダイオードとして構成され、反射光の強度に応じた電圧を、物体検知装置の演算部等に対して出力する。

ここで、発光側の反射鏡２０Ａは、図２に示すように、同一の反射面内に異なる反射率を有する複数の領域を有する。複数の領域としては、高反射領域２１Ａ、および低反射領域２２Ａを備える。なお、反射鏡２０Ａ，２０Ｂは、反射面の表裏共に同様の構成とされる。

高反射領域２１Ａは、発光部１２から射出される波長の光波の大部分を反射するミラー面として構成される。高反射領域２１Ａは、反射鏡２０Ａの基材に対して、金属膜および誘電体膜を積層することで構成される。具体的には、図３に示すように、高反射領域２１Ａは、例えば、アルミニウム膜、二酸化ケイ素膜、二酸化チタン膜、および二酸化ケイ素膜を順に積層することで構成される。なお、高反射領域２１Ａを構成する金属膜、および誘電体膜の厚みは任意に設定できる。また、高反射領域２１Ａには、金属膜を備える必要はなく、高反射領域２１Ａは、誘電体膜のみから構成されてもよい。この場合、二酸化チタン膜、および二酸化ケイ素膜を順に積層することが一般的である。

低反射領域２２Ａは、反射面における光波の反射率が、高反射領域２１Ａよりも低く設定された部位である。低反射領域２２Ａは、例えば、図３に示すように、高反射領域２１Ａに対して、さらに黒色塗料を塗布することで構成される。低反射領域２２Ａでは、黒色塗料によって光が吸収されるため、反射率が低くなる。

低反射領域２２Ａは、反射面が発光部１２側または受光部１３側に向いている状態、すなわち、透過部材１１側に光波を反射できる状態で、透過部材１１側に配置される。換言すれば、低反射領域２２Ａは、Ｚ軸の正方向から反射面を見たときに、反射面のうちのＸ軸の正方向側に配置される。図２に示す例では、反射面のうちのＸ軸の正方向側の端部から２５～３０％程度が低反射領域２２Ａに設定される。

一方、受光側の反射鏡２０Ｂは、反射面の全体が均一な反射率となる高反射領域２１Ｂのみを備える。なお、図４では、高反射領域２１Ｂと、破線による低反射領域２２Ｂとを図示しているが、ここでは、低反射領域２２Ｂは存在せず、反射面の全体を高反射領域２１Ｂとして取り扱う。高反射領域２１Ｂは、発光側の反射鏡２０Ａにおける高反射領域２１Ａと同様に構成される。

ここで、図５に示すように、反射面に対する光波の入射角をθ_１、反射面に対する迷光の入射角をθ_２とする。なお、迷光とは、透過部材１１に反射された光波であって本来射出されるべき方向とは異なる方向に射出される光波を表す。図５以下の図面では、迷光ではない光波をＢで表し、迷光をＳＬで表す。

本実施形態の光走査装置１のように、透過部材１１を備え、回転する反射鏡２０Ａを用いて光波を走査する構成では、図６に示すように、反射鏡２０Ａが反射した光波が透過部材１１でさらに反射され、その光波が再び反射鏡２０Ａで反射され、迷光となることがある。

迷光は、本実施形態のように、発光部１２から射出された光波が透過部材１１と略平行に反射鏡２０Ａに入射され、透過部材１１側に走査される場合、光波の入射角θ_１が５５ｄｅｇ前後で発生しやすいことが分かった。迷光が発生する条件は、反射鏡２０Ａに対する透過部材１１の設置角度、発光部１２が反射鏡２０Ａに対して光波を射出する方向等によって異なるが、迷光は反射鏡２０Ａの反射面においてより透過部材１１側で反射される傾向がある。

なお、図６の例は、光波の入射角θ_１が５２ｄｅｇ、迷光の入射角をθ_２が３７ｄｅｇの場合を示す。発明者による検討の結果、図６に示すように、迷光は、発光側の反射鏡２０Ａにおける透過部材１１側の領域で反射されることが分かった。図６に示す条件の場合、図７に示すように、発光部１２から射出された光波は反射面の中央付近で反射されるが、迷光は、発光部１２から射出された光波よりも透過部材１１側で反射される。

しかし、本実施形態の構成では、反射面における透過部材１１側に、低反射領域２２Ａを設け、この低反射領域２２Ａで迷光を反射するように構成しているので、迷光の光量が抑制される。すなわち、本実施形態の構成では、迷光の光量を抑制することで、迷光による反射光が受光部１３に入射されにくいように構成する。

ここで、図８の例は、光波の入射角θ_１が５８ｄｅｇ、迷光の入射角をθ_２が２２ｄｅｇの場合を示す。光波の入射角θ_１がより大きく変化しても、迷光は、反射面において発光部１２から射出された光波が反射される領域よりも透過部材１１側で反射される。

なお、図９に示すように、さらに光波の入射角θ_１がより大きくなると迷光は消滅する。この際、図１０に示すように、発光部１２から射出された光波は反射面における高反射領域２１Ａだけでなく、低反射領域２２Ａにも広がって反射される。ただし、光波の大部分が高反射領域２１Ａで反射されるように、高反射領域２１Ａおよび低反射領域２２Ａの面積の比率が設定されるため、光波の光量が良好に確保される。

［１－２．第１実施形態の実験例］
次に、発光側の反射鏡２０Ａの高反射領域２１Ａおよび低反射領域２２Ａにおける反射率を測定する実験を行った。実験では、波長が８３０ｎｍ、８７０ｎｍ、９１０ｎｍである３種の光波を、入射角を変更しつつ、高反射領域２１Ａおよび低反射領域２２Ａに対して別々に照射し、反射率を測定した。

また、実験では、Ｓ偏光およびＰ偏光のそれぞれについて反射率を測定した。なお、反射鏡２０Ａの反射面に垂直であり、入射光および反射光を含む面を入射面として、Ｓ偏光とは、入射面に垂直に電界が振動する偏光を示し、Ｐ偏光とは、入射面内で電界が振動する偏光を示す。

高反射領域２１ＡにおけるＳ偏光の反射率は、図１１に示すように、光波の波長、入射角によらず、９２％以上が確保される。低反射領域２２ＡにおけるＳ偏光の反射率は、図１２に示すように、入射角が６０ｄｅｇ未満、すなわち迷光が発生する条件であれば、光波の波長によらず１０％未満に抑制される。つまり、迷光の光量を１０％未満に抑制できる。

なお、反射鏡２０Ａにおいて、低反射領域２２Ａは、入射される光の入射角が大きくなるにつれて反射率が大きくなるよう構成される。入射角が７５ｄｅｇ以上であれば、光波の波長によらず１０％以上の反射率が確保される。

高反射領域２１ＡにおけるＰ偏光の反射率は、図１３に示すように、光波の波長、入射角によらず、９２％以上が確保される。この傾向は、Ｓ偏光の場合と概ね同様である。また、低反射領域２２ＡにおけるＰ偏光の反射率は、図１４に示すように、入射角が６０ｄｅｇ未満であれば、光波の波長によらず３％未満に抑制される。また、低反射領域２２ＡにおけるＰ偏光の反射率は、入射角が７５ｄｅｇ以上であっても、光波の波長によらず概ね１０％未満に抑制される。ただし、Ｐ偏光であっても、低反射領域２２Ａの反射率が、入射される光の入射角が大きくなるにつれて大きくなる傾向を備える。

［１－３．効果］
以上詳述した第１実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１ａ）本開示の一態様は、光波を走査する光走査装置１として構成される。光走査装置１は、発光部１２と、受光部１３と、透過部材１１と、少なくとも１つの反射鏡２０Ａ，２０Ｂと、を備える。発光部１２は、光波を射出するように構成される。受光部１３は、光波の反射光を受光するように構成される。透過部材１１は、光波および光波の反射光を透過させるように構成される。

反射鏡２０Ａは、透過部材１１よりも発光部１２および受光部１３側に配置され、回転する少なくとも１つの反射面を備え、反射面を用いて光波および反射光のうちの少なくとも一方を偏向するように構成される。また反射鏡２０Ａは、反射面が発光部１２側または受光部１３側に向いている状態で、透過部材１１側に、反射面における光波の反射率が、反射面における他の部位よりも低く設定された低反射領域２２Ａを備える。

このような構成によれば、低反射領域２２Ａで迷光の光量を抑制できるので、透過部材１１にて反射された光波が迷光となって受光部１３に入射されることを抑制することができる。なお、反射面における透過部材１１側とは、反射面が発光部１２または受光部１３に向いているときに、透過部材１１側となる部位である。

（１ｂ）反射鏡２０Ａにおいて、低反射領域２２Ａは、入射される光の入射角が大きくなるにつれて反射率が大きくなるよう構成される。ここで、光走査装置１においては、低反射領域２２Ａに入射される光波の入射角が所定の範囲内であるときに迷光が発生しやすく、低反射領域２２Ａに入射される光波の入射角が、所定の範囲よりも大きい場合には迷光が発生しにくいことが分かった。

また、光波の入射角が大きくなると、反射面において光波の反射に必要な領域が広くなり、高反射領域２１Ａだけでなく、低反射領域２２Ａも用いて光波を反射する。このため、低反射領域２２Ａでは、入射角が小さい場合に、迷光を抑制するために反射率を小さくし、入射角が大きい場合に、光波または反射光を良好に反射できるように反射率を大きく設定する。

このような構成によれば、反射鏡２０Ａが、迷光を抑制する機能と、光波または反射光を良好に反射する機能とを備えることができる。
［２．第２実施形態］
［２－１．第１実施形態との相違点］
第２実施形態は、基本的な構成は第１実施形態と同様であるため、相違点について以下に説明する。なお、第１実施形態と同じ符号は、同一の構成を示すものであって、先行する説明を参照する。

上述した第１実施形態では、反射鏡２０Ａにおける低反射領域２２Ａは、高反射領域２１Ａに黒色塗料を塗布することで形成した。これに対し、第２実施形態では、低反射領域２２Ｃは、高反射領域２１Ａに、金属膜および誘電体膜を積層させて形成される点で、第１実施形態と相違する。

［２－２．構成］
第２実施形態の光走査装置では、第１実施形態の反射鏡２０Ａに換えて反射鏡２０Ｄを備える。反射鏡２０Ｄは、図１５に示すように、反射面に、低反射領域２２Ｃと、上述の高反射領域２１Ａと、を備える。

低反射領域２２Ｃは、高反射領域２１Ａに対して、４５ｎｍのチタン膜、７０ｎｍの酸化鉄膜、および４５ｎｍの二酸化ケイ素膜が順に積層された多層膜として構成される。
［２－３．第２実施形態の実験例］
次に、発光側の反射鏡２０Ｄの低反射領域２２Ａにおける反射率を測定する実験を行った。なお、発光側の反射鏡２０Ｄの高反射領域２１Ａについては、第１実施形態の高反射領域２１Ａと同様であるため、記載を省略する。本実験では、第１実施形態の実験例と同様に、波長が８３０ｎｍ、８７０ｎｍ、９１０ｎｍである３種の光波を、Ｓ偏光およびＰ偏光のそれぞれについて、入射角を変更しつつ、低反射領域２２Ｃに照射し、反射率を測定した。

低反射領域２２ＣにおけるＳ偏光の反射率は、図１６に示すように、入射角が６０ｄｅｇ未満であれば、光波の波長によらず１０％未満に抑制される。また、低反射領域２２ＡにおけるＰ偏光の反射率は、図１７に示すように、入射角が６０ｄｅｇ未満であれば、光波の波長によらず５％未満に抑制される。

ここで、第２実施形態の低反射領域２２Ｃでは、第１実施形態の低反射領域２２Ａよりも、入射される光の入射角が大きくなるにつれて反射率が急激に大きくなるよう構成される。例えば、Ｓ偏光では、６０ｄｅｇでは第１実施形態の低反射領域２２Ａおよび第２実施形態の低反射領域２２Ｃの反射率が概ね等しい。これに対して、７０ｄｅｇでは、第１実施形態の低反射領域２２Ａでの反射率が約１０％であるのに対して、第２実施形態の低反射領域２２Ｃでの反射率が約１７％程度とより大きくなっている。なお、Ｐ偏光でも同様の傾向が得られた。

［２－４．効果］
以上詳述した第２実施形態によれば、上述した第１実施形態の効果（１ａ）を奏し、さらに、以下の効果を奏する。

（２ａ）発光部１２は、光波を射出するように構成される。また、反射鏡２０Ａの少なくとも低反射領域２２Ｃには、光波を反射する誘電体膜をさらに備える。誘電体膜は、一般的に、入射角が大きくなるにつれて反射率が大きくなる特性を有する。

このような構成によれば、誘電体膜を用いて入射される光の入射角が大きくなるにつれて反射率が大きくなる構成を実現することができる。
（２ｂ）低反射領域２２Ｃは、チタン膜、酸化鉄膜、および二酸化ケイ素膜が順に積層された多層膜をさらに備える。

このような構成によれば、金属および誘電体の多層膜を用いて、入射される光の入射角が大きくなるにつれて反射率が急激に大きくなり、充分な反射率を確保できる構成を実現することができる。

［３．他の実施形態］
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上述の実施形態に限定されることなく、種々変形して実施することができる。

（３ａ）上記実施形態では、発光側の反射鏡２０Ａ，２０Ｄに高反射領域２１Ａおよび低反射領域２２Ａ，２２Ｃを設け、受光側の反射鏡２０Ｂには低反射領域を設けていないが、これに限定されるものではない。例えば、受光側の反射鏡２０Ｂにも、発光側の反射鏡２０Ａ，２０Ｄと同様に、図４の破線に示すように、低反射領域２２Ｂを設けてもよい。

このような構成によれば、反射鏡２０Ａ，２０Ｄおよび反射鏡２０Ｂにそれぞれ低反射領域２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃが設定されるので、光走査装置１から射出される迷光の光量を抑制するとともに、迷光による反射波の受光感度を受光側の反射鏡２０Ｂによって下げることができる。よって、受光部１３にて迷光をさらに検出されにくくすることができる。

（３ｂ）上記（３ａ）のように構成する場合、受光側の反射鏡２０Ｂにおける低反射領域２２Ｂにおける反射率は、発光側の反射鏡２０Ａ，２０Ｄにおける低反射領域２２Ａ，２２Ｃにおける反射率よりも高く設定されてもよい。例えば、低反射領域２２Ｂにおける反射率は、５０％程度に設定されてもよい。

このような構成によれば、反射鏡２０Ｂの低反射領域２２Ｂにおける反射率は、反射鏡２０Ａ，２０Ｄにおける低反射領域２２Ａ，２２Ｃにおける反射率よりは高く設定される。したがって、入射角が大きく、反射光が反射面において広がる状況で、反射鏡２０Ｂの低反射領域２２Ｂにより反射光の光量が減少しすぎることを抑制することができる。よって、受光部１３で反射光を検知しやすくすることができる。

（３ｃ）上記実施形態では、発光側の反射鏡２０Ａ，２０Ｄおよび受光側の反射鏡２０Ｂを別体かつ回転軸を共通に構成したが、この構成に限られない。例えば、発光側の反射鏡２０Ａ，２０Ｄおよび受光側の反射鏡２０Ｂは一体であってもよい。この場合、発光部１２および受光部１３が共通する反射面を用いて光波または反射光を射出または受光してもよい。また、発光側の反射鏡２０Ａ，２０Ｄおよび受光側の反射鏡２０Ｂが別体である場合には、回転軸が共通に構成されている必要はない。

（３ｄ）上記実施形態では、光走査装置１を物体検知装置等の測距装置に適用する例を説明したが、これに限られない。例えば、光走査装置１は、ヘッドアップディスプレイ、プロジェクタ等にも応用可能することができる。この場合の受光部１３は、周囲の明るさを検知する構成、或いは射出された光波の光量を検知する構成等に用いることができる。

（３ｅ）上記実施形態における１つの構成要素が有する複数の機能を、複数の構成要素によって実現したり、１つの構成要素が有する１つの機能を、複数の構成要素によって実現したりしてもよい。また、複数の構成要素が有する複数の機能を、１つの構成要素によって実現したり、複数の構成要素によって実現される１つの機能を、１つの構成要素によって実現したりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加または置換してもよい。

（３ｆ）上述した光走査装置１の他、当該光走査装置１を構成要素とするシステムなど、種々の形態で本開示を実現することもできる。

１…光走査装置、１１…透過部材、１２…発光部、１３…受光部、１４Ａ…照射用レンズ、１４Ｂ…受光用レンズ、１５…仕切り板、２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｄ…反射鏡、２１Ａ，２１Ｂ…高反射領域、２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ…低反射領域。

Claims

光波を走査するように構成された光走査装置（１）であって、
光波を射出するように構成された発光部（１２）と、
前記光波の反射光を受光するように構成された受光部（１３）と、
前記光波および前記光波の反射光を透過させるように構成された透過部材（１１）と、
前記透過部材よりも前記発光部および受光部側に配置され、回転する少なくとも１つの反射面を備え、前記反射面を用いて前記光波および前記反射光のうちの少なくとも一方を偏向する少なくとも１つの反射鏡（２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｄ）と、
を備え、
前記反射鏡は、前記反射面が前記発光部側に向いている状態で、前記透過部材側に、前記反射面における前記光波の反射率が、同一の前記反射面における他の部位よりも低く設定された低反射領域（２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ）を備える
光走査装置。
請求項１に記載の光走査装置であって、
前記低反射領域は、入射される光の入射角が大きくなるにつれて反射率が大きくなる
よう構成された光走査装置。
請求項２に記載の光走査装置であって、
少なくとも前記低反射領域には、誘電体膜をさらに備える
光走査装置。
請求項３に記載の光走査装置であって、
前記低反射領域は、金属膜をさらに備える
光走査装置。
請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の光走査装置であって、
前記反射鏡は、少なくとも前記発光部から射出される光波を偏向する
ように構成された光走査装置。
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の光走査装置であって、
前記反射鏡として、第１の反射鏡（２０Ａ，２０Ｄ）と第２の反射鏡（２０Ｂ）とを備え、
前記第１の反射鏡は、前記発光部から射出される光波を偏向するように構成され、
前記第２の反射鏡は、前記受光部にて受光される前記反射光を偏向するように構成され、
前記第２の反射鏡における前記低反射領域における反射率は、前記第１の反射鏡における前記低反射領域における反射率よりも高く設定される
光走査装置。