JP7065078B2 - 逆波長分散を有する多層光学補償フィルム - Google Patents
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本出願は、2017年4月17日出願の米国仮出願第62/486,207号及び2016年8月12日出願の米国仮出願第62/374,247号の優先権を主張するものであり、内容を参照することにより組み込まれる。
ポジティブCプレート:nx=ny<nz、ネガティブCプレート:nx=ny>nz
ポジティブAプレート:nx>ny=nz、ネガティブAプレート:nx<ny=nz
式中、nx及びnyは面内屈折率を表し、nzは厚さ屈折率を表す。
Cプレート及びAプレート波長板は一軸複屈折板である。波長板は、二軸複屈折であってもよく、nx、ny及びnzはすべて等しくなく、このようなプレートは、通常、2軸フィルムと呼ばれる。
Re(450)/Re(550)=0.818及びRe(650)/Re(550)=1.182
式中、Re(450)、Re(550)及びRe(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長における面内位相差である。アクロマティック(又はブロードバンド)波長板は、波長毎に同じように光を導くことができ、最適な視野品質を得ることができるので、非常に望ましい。しかし、通常の波長板は、ブロードバンド波長板用途に適していない正規分散曲線を示す。
Rth(450)/Rth(550)=0.818及びRth(650)/Rth(550)=1.182
式中、Rth(450)、Rth(550)、Rth(650)は、波長450nm、550nm、650nmの光波長における面外位相差である。面外位相差に関して、逆波長分散性を有するポジティブCプレートが必要とされている。
(a)ポジティブCプレート材料を含む第1の層と、
(b)ポリイミドを含む第2の層とを含み、
該多層光学補償フィルムは、0.7<R(450)/R(550)<1及び1<R(650)/R(550)<1.25の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差であり、該ポジティブCプレート材料は、400nm~800nmの光波長範囲にわたって0.015より大きいポジティブ面外複屈折を与えることができる材料である。
(a)スチレンフルオロポリマーと、
(b)ポリイミドフィルムと
を含む多層光学補償フィルムが提供され、該光学補償フィルムは、0.7<R(450)/R(550)<1及び1<R(650)/R(550)<1.25の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差であり、式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はハロゲンであり、R1、R2及びR3のうち少なくとも1つはフッ素原子である。
式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はハロゲンであり、R1、R2及びR3のうち少なくとも1つはフッ素原子であり、nは前記スチレン環上のニトロ基の数を表す1~5の整数である。
(a)スチレンフルオロポリマーフィルムと、
(b)ポリイミドフィルムとを含み、
該多層光学補償フィルムは、0.98<R(450)/R(550)<1.02及び0.98<R(650)/R(550)<1.02の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差である。
(a)ポジティブCプレート材料を含む第1の層と、
(b)ポリイミドを含む第2の層とを含む、多層光学補償フィルムを提供し、
該多層光学補償フィルムは、0.7<R(450)/R(550)<1及び1<R(650)/R(550)<1.25の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差であり、前記ポジティブCプレート材料は、400nm~800nmの光波長範囲にわたって0.015より大きいポジティブ面外複屈折を与えることができる材料である。
(a)スチレンフルオロポリマーフィルムと、
(b)ポリイミドフィルムとを含み、
該多層光学補償フィルムは、0.7<R(450)/R(550)<1及び1<R(650)/R(550)<1.25の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差である。
i.(i)、(ii)及び(iii)の合計モルを基準にして、約15~約25モルパーセントの量の4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、
ii.(i)、(ii)及び(iii)の合計モルを基準にして、約20~約30モルパーセントの量の4,4'-(エチン-l、2-ジイル)ジフタル酸無水物(EDDPA)、
iii.(i)、(ii)及び(iii)の合計モルを基準にして、約45~約55モルパーセントの量の4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)及び
iv.4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)を含む成分の反応生成物である。
i.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、約25~約35モルパーセントの量の4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、
ii.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、約65~約75モルパーセントの量の4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)及び
iii.4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)を含む成分の
反応生成物である。
i.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、約40~約48モルパーセントの量の4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、
ii.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、約52~約60モルパーセントの量の4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)及び
iii.4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)を含む成分の反応生成
(c)スチレンフルオロポリマーフィルムと、
(d)ポリイミドフィルムとを含み、
該多層光学補償フィルムは、0.98<R(450)/R(550)<1.02及び0.98<R(650)/R(550)<1.02の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差である。本実施形態において、該スチレンフルオロポリマーは、ポリ(α,β,β-トリフルオロスチレン)又はニトロ化ポリ(α,β,β-トリフルオロスチレン)である。
材料:固有(IV)が1.10dL/gであるポリ(α,β,β-トリフルオロスチレン)(PTFS)は、未処理で用いられた内部生成物であった。ジクロロメタン(DCM)は、SiO2に通して精製されたアクロス製であった。HNO3は、アクロス製のものをそのまま用いた(68%~70%)。H2SO4は、シグマアルドリッチ製のもの(95.0%~98.0%)であった。
4,4'-(エチン-l,2-ジイル)ジフタル無水物(EDDPA)を、等モルのDETDA(3,5-ジエチル-トルエン-2,6-ジアミン(2,6-DETDA)及び3,5-ジエチル-トルエン-2,4-ジアミン(2,4-DETDA)の混合物)と反応させることにより、ポリイミド1(EDDPA/DETDA、100/100)を調製した。窒素インレット/アウトレット及びメカニカルスターラーを備えた100ml三口丸底フラスコに、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)(22ml)、EDDPA)(3.2945g、5.00mmol)及びDETDA(2.1790g、4.91mmol)を入れた。反応混合物を室温で18時間反応させ、次いでピリジン(1.0ml)及び無水酢酸(2.5ml)を添加した。反応を120℃で2時間継続させた。冷却後、得られた溶液をメタノール(約100ml)に沈殿させて、繊維状生成物を得た。生成物を濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した。得られた生成物を減圧下で80℃で一晩乾燥させた。N-メチル-2-ピロリドン(NMP)を溶剤として用い、30℃で、キャノン(登録商標)自動毛管粘度計により測定されたポリマーの固有粘度(IV)は0.52dL/gであった。
N-PTFS及びポリイミド1(EDDPA/DETDA、100/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。N-PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解することにより、N-PTFSの10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド1の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
N-PTFS及びポリイミド1(EDDPA/DETDA、100/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解することにより、PTFSの10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド1の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、PTFS溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
自立ポリマーフィルムの複屈折及び厚さを、633nmの波長における単一フィルムモードを使用するメトリコンモデル2010/Mプリズムカプラーによって測定した。位相差及び分散は、J.A.Woollam M-2000又はRC2エリプソメトリーによって求められた。633nmでの複屈折、厚さ及び分散係数Rth(450)/Rth(550)及びRth(650)/Rth(550)を表1に示す。
窒素インレット/アウトレット及びメカニカルスターラーを備えた100ml三口丸底フラスコに、DMAc(24ml)、DAM(1.5037g、10.01mmol)、4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)(1.9717g、5.00mmol)及び6FDA(2.2285g、5.02mmol)を入れた。反応混合物を室温で18時間反応させ、次いでピリジン(2.0ml)及び無水酢酸(5.0ml)を添加した。反応を120℃で2時間継続させた。冷却後、得られた溶液をメタノール(約100ml)に沈殿させて、繊維状生成物を得た。生成物を濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した。得られた生成物を減圧下で80℃で一晩乾燥させた。N-メチル-2-ピロリドン(NMP)を溶剤として用い、30℃で、キャノン(登録商標)自動毛管粘度計により測定されたポリマーの固有粘度(IV)は1.35dL/gであった。
N-PTFS及びポリイミド2(6FDA/BNDA/DAM、50/50/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。N-PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解することにより、N-PTFSの10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド2の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、N-PTFS溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
PTFS及びポリイミド2(6FDA/BNDA/DAM、50/50/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解することにより、PTFSの10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド2の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、PTFS溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
自立ポリマーフィルムの複屈折及び厚さを、633nmの波長における単一フィルムモードを使用するメトリコンモデル2010/Mプリズムカプラーによって測定した。位相差及び分散は、J.A.Woollam M-2000又はRC2エリプソメトリーによって求められた。633nmでの複屈折、厚さ及び分散係数Rth(450)/Rth(550)及びRth(650)/Rth(550)を表2に示す。
6FDA/EDDPA/DETDAの組成を有するポリイミド3を、6FDA、EDDPA及びDETDAを1.5/98.5/100のモル比を用いることにより、実施例2の方法に従って調製した。
N-PTFS及びポリイミド3(6FDA/BNDA/DAM、50/50/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。N-PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解することにより、N-PTFSの12重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド3の12重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、N-PTFS溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
実施例11の方法を用いることにより、N-PTFS/ポリイミド3(PI3)の2層フィルムをキャストし、その光学特性を測定した。結果から、各層の厚さを変えた一連の2層フィルムの位相差値を表3に示す。
EDDPA/DETDA/FRDAの組成を有するポリイミド4を、EDDPA、DETDA及び4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)を100/50/50のモル比で用いることにより、実施例2の方法に従って調製した
実施例11の方法を用いることにより、N-PTFS/ポリイミド4(PI4)の2層フィルムをキャストし、その光学特性を測定した。結果から、各層の厚さを変えた一連の2層フィルムの位相差値を表4に示す。
19Lのリアクターで、窒素雰囲気下、ポリ(α,β,β-トリフルオロスチレン)(PTFS、IV、1.10dL/g)(1.2kg)を、1,2-ジクロロエタン(13.8kg)と混合した。混合物を攪拌しながら50℃に加熱した。全ての固体が溶解すると、混合物をさらに55℃に加熱した、硫酸(98%、2.89kg)と硝酸(69%、1.12kg)の予備混合物を2.5時間添加した。次いで、混合物を60℃に加熱し、4時間保持した。プロピオン酸(13.3kg)を加え、混合物を室温まで冷却しながら生成物を沈殿させた。得られた懸濁液を濾過し、粗粉体を、まず、プロピオン酸で2回洗浄した後、メタノールで繰り返し洗浄した。得られた生成物を減圧下で60℃で乾燥させて、1.3kgの粉末生成物を得た。生成物中のニトロ基の置換度(DS)は、元素分析(EA)により0.72と求められた。
m-クレゾール中、180℃で18時間、4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)を過剰の2,4-ジアミノメシチレン(DAM)と(モル比DAM/BNDA>2.5)反応させることによりDAM-BNDA-DAMジアミンを調製した。反応溶液を過剰のメタノールに沈殿させて粉末生成物を得た。次いで、生成物を濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した。得られた生成物を、減圧下で80℃で一晩乾燥させ、次の工程の重合のために準備した。
N-PTFS2(DS=0.72)(又はPTFS)及びポリイミド5(6FDA/EDDPA/BNDA/FRDA、18/25/50/100)を用いることにより、ポリマーフィルムを製造した。ポリマー固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解させることにより、N-PTFS(又はPTFS)の10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド5の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、N-PTFS(又はPTFS)溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
実施例17に記載した通りにして、N-PTFS/ポリイミド5(又はPTFS/ポリイミド5(PI5))の2層フィルムをキャストし、実施例5の方法を用いて、その光学特性を測定した。結果から、各層の厚さを変えた一連の2層フィルムの位相差値を計算することができる。位相差及び分散は、J.A.Woollam RC2エリプソメトリーによって求められた。厚さ及び分散係数Rth(450)/Rth(550)及びRth(650)/Rth(550)を表5に示す。
m-クレゾール中、180℃で18時間、4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)を4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)と(正確なモル比FRDA/BNDA=3/2)反応させることによりFRDA-BNDA-FRDA-BNDA-FRDA(この構造は、平均的な構造を表すためのみに用いる)ジアミンを調製した。反応溶液を過剰のメタノールに沈殿させて粉末生成物を得た。次いで、生成物を濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した。得られた生成物を、減圧下で80℃で一晩乾燥させ、次の工程の重合のために準備した。
N-PTFS2(DS=0.72)及びポリイミド6(6FDA/BNDA/FRDA、26/67/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。N-PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解することにより、N-PTFSの10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド6の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、N-PTFS溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
実施例20に記載された通りにして、N-PTFS/ポリイミド6(又はPTFS/ポリイミド6(PI6)の2層フィルムをキャストし、実施例5の方法を用いて、その光学特性を測定した。位相差及び分散は、J.A.Woollam RC2エリプソメトリーによって求められた。厚さ及び分散係数Rth(450)/Rth(550)及びRth(650)/Rth(550)を表6に示す。
m-クレゾール中、180℃で18時間、4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)を過剰の4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)と(モル比FRDM/BNDA>2.5)反応させることによりFRDA-BNDA-FRDAジアミンを調製した。反応溶液を過剰のメタノールに沈殿させて粉末生成物を得た。次いで、生成物を濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した。得られた生成物を、減圧下で80℃で一晩乾燥させ、次の工程の重合のために準備した。
N-PTFS2(DS=0.72)及びポリイミド7(6FDA/BNDA/FRDA、43/50/100)をそれぞれ用いることにより、ポリマー溶液を調製した。N-PTFS固体をメチルエチルケトン(MEK)に溶解させることにより、N-PTFSの10重量%溶液を調製した。別途、ポリイミド7の10重量%溶液をシクロペンタノン中で調製した。ポリイミド溶液を、ブレードキャスティング法を用いて平坦なガラス基板に塗布した。得られたコーティングフィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて150℃の真空オーブンに2時間入れた。乾燥後、N-PTFS溶液をポリイミドにキャストした。得られた2層フィルムを室温で1時間乾燥させ、続いて、150℃の真空オーブンに2時間入れた。このようにして得られた多層フィルムを、ガラス基板から剥離した。
実施例23に記載した通りにして、N-PTFS/ポリイミド7(又はPTFS/ポリイミド7(PI7))の2層フィルムをキャストし、実施例5の方法を用いて、その光学特性を測定した。位相差及び分散は、J.A.Woollam RC2エリプソメトリーによって求められた。厚さ及び分散係数Rth(450)/Rth(550)及びRth(650)/Rth(550)を表7に示す。
Claims (21)
- ポジティブCプレート材料を含む第1の層と、
ポリイミドを含む第2の層とを含む、多層光学補償フィルムであって、
前記多層光学補償フィルムは、0.7<R(450)/R(550)<1及び1<R(650)/R(550)<1.25の関係を満たすポジティブ面外位相差を有し、R(450)、R(550)及びR(650)は、それぞれ、450nm、550nm及び650nmの光波長での面外位相差であり、前記ポジティブCプレート材料は、400nm~800nmの光波長範囲にわたって0.015より大きいポジティブ面外複屈折を与えることができる材料である、
多層光学補償フィルム。 - 前記ポジティブCプレート材料は、液晶分子、ポリアクリレート、ポリエステル、セルロースエステル、メソゲンジャケットポリマー、スチレンポリマー、スチレンフルオロポリマー、ビニル芳香族フルオロポリマー、及びこれらの組み合わせから選択される、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記ポジティブCプレート材料は、400nm~800nmの光波長範囲にわたって0.02より大きいポジティブ面外複屈折を有する、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記第1の層はスチレンフルオロポリマーフィルムであり、前記第2の層はポリイミドフィルムである、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記ポジティブ面外位相差は、0.8<R(450)/R(550)<0.9及び1.01<R(650)/R(550)<1.2の関係を満たす、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記スチレンフルオロポリマーは、ポリ(α,β,β-トリフルオロスチレン)である、
請求項4に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記ニトロ化スチレンフルオロポリマーは、前記スチレン環の前記ニトロ基について、0.2~1の平均置換度を有するニトロ化ポリ(α,β,β-トリフルオロスチレン)である、
請求項7に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記ポリイミドフィルムは、面外複屈折を有する
請求項4に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記ポリイミドは、芳香族二無水物と芳香族ジアミンを含む成分の反応生成物である、
請求項9に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記芳香族二無水物は、4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)(4)、4,4'-(エチン-l、2-ジイル)ジフタル酸無水物(EDDPA)(5)、及び4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)(6)からなる群から選択され、
前記芳香族ジアミンは、2,4-ジアミノメシチレン(DAM)(8)、3,5-ジエチル-トルエン-2,6-ジアミン(2,6-DETDA)(12)、3,5-ジエチル-トルエン-2,4-ジアミン(2,4-DETDA)(13)、4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン)(FRDA)(14)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項10に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記第1の層は、スチレン環上のニトロ基の平均置換度が0.6~0.8であるニトロ化スチレンフルオロポリマーであり、
前記第2の層は、面外複屈折を有するポリイミドフィルムであり、
前記ポリイミドフィルムは、
i.(i)、(ii)及び(iii)の合計モルを基準にして、15~25モルパーセントの量の4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、
ii.(i)、(ii)及び(iii)の合計モルを基準にして、20~30モルパーセントの量の4,4'-(エチン-l、2-ジイル)ジフタル酸無水物(EDDPA)、
iii.(i)、(ii)及び(iii)の合計モルを基準にして、45~55モルパーセントの量の4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)、及び
iv.4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン(FRDA)
を含む成分の反応生成物であるポリイミドを含む、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記第1の層は、スチレン環上のニトロ基の平均置換度が0.6~0.8であるニトロ化スチレンフルオロポリマーであり、
前記第2の層は、面外複屈折を有するポリイミドフィルムであり、
前記ポリイミドフィルムは、
i.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、25~35モルパーセントの量の4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、
ii.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、65~75モルパーセントの量の4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)及び
iii.4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン(FRDA)
を含む成分の反応生成物であるポリイミドを含む、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記第1の層は、スチレン環のニトロ基の平均置換度が0.6~0.8であるニトロ化スチレンフルオロポリマーであり、
前記第2の層は、面外複屈折を有するポリイミドフィルムであり、
前記ポリイミドフィルムは、
i.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、40~48モルパーセントの量の4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、
ii.(i)及び(ii)の合計モルを基準にして、52~60モルパーセントの量の4,4'-ビナフチル-1,1',8,8'-テトラカルボン酸二無水物(BNDA)、及び
iii.4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン(FRDA)
を含む成分の反応生成物であるポリイミドを含む、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記スチレンフルオロポリマーフィルムは、400nm~800nmの波長範囲にわたって、0.03より大きいポジティブ面外複屈折を有する、
請求項4に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記ポリイミドフィルムは、400nm~800nmの波長範囲にわたって、-0.03未満のネガティブ面外複屈折を有する、
請求項4に記載の多層光学補償フィルム。 - 前記フィルムは、波長(λ)550nmで100nm~150nmのポジティブ面外位相差及び5ミクロン(μm)~20ミクロン(μm)の膜厚を有する、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 屈折率プロファイルnx>ny=nz(nx及びnyは面内屈折率を表し、nzは厚さ屈折率を表す)を有するAプレートをさらに含む、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。 - 屈折率プロファイルnx>ny≠nz(nx及びnyは面内屈折率を表し、nzは厚さ屈折率を表す)を有するBプレートをさらに含む、
請求項1に記載の多層光学補償フィルム。
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