JP7058251B2 - 酸化珪素系負極材の製造方法 - Google Patents
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Description
前記ガス発生工程で発生したガスを冷却して析出させる析出工程と、
前記析出工程で生成された析出物を回収して粉末化する粉末化工程とを含んでおり、
前記ガス発生工程における反応温度が、前記珪酸リチウムの融点以上、1400℃未満である酸化珪素系負極材の製造方法である。
前記ガス発生工程で発生したガスを冷却して析出させる析出工程と、
前記析出工程で生成された析出物を回収して粉末化する粉末化工程とを含んでおり、
前記Si・珪酸リチウム含有原料におけるSi粉末の珪酸リチウムに対する量的バランスが、Si粉末と珪酸リチウムが過不足なく反応する場合のSi量を1として1倍超、1.2倍以下である酸化珪素系負極材の製造方法である。
前記ガス発生工程で発生したガスを冷却して析出させる析出工程と、
前記析出工程で生成された析出物を回収して粉末化する粉末化工程とを含んでおり、
前記Si・珪酸リチウム含有原料におけるSi粉末の粒子径が、体積基準で測定した平均粒径D50で0.05~30μmである酸化珪素系負極材の製造方法である。
・・・(1)
3Si+Li2Si2O5→5SiO↑+2Li↑ ・・・(2)
3Si+Li4SiO4→4SiO↑+4Li↑ ・・・(3)
4Si+2Li2CO3→3Si+Li4SiO4+2CO↑
3Si+Li4SiO4→4SiO↑+4Li↑ ・・・(4)
Si粉末とLi2Si2O5粉末とを3.09:1のモル比で混合した。混合粉末の元素比はSi:Li:O=1:0.4:1である。Si粉末とLi2Si2O5粉末とが過不足なく反応する場合のモル比は3:1であるから、これに比してSi量は1.03倍となる。
ガス発生反応の加熱温度を1385℃とした以外は実施例1と同様の条件にて、負極材粉末を得た。
ガス発生反応の加熱温度を1400℃とした以外は実施例1と同様の条件にて、負極材粉末を得た。
ガス発生反応の加熱温度を1000℃とした以外は実施例1と同様の条件にて、負極材粉末を得た。
Si粉末とLi2Si2O5粉末とを3.6:1のモル比で混合した。混合粉末の元素比はSi:Li:O=1:0.4:1である。Si粉末とLi2Si2O5粉末とが過不足なく反応する場合のモル比は3:1であるから、これに比してSi量は1.2倍となる。その他の条件は実験例1と同様として負極材粉末を得た。
Si粉末とLi2Si2O5粉末とを3:1のモル比で混合した。Si粉末とLi2Si2O5粉末とが過不足なく反応する場合のモル比は3:1であるから、これに比してSi量は1.00倍となる。その他の条件は実験例1と同様として負極材粉末を得た。
使用するSi粉末の平均粒子径を、レーザー回折式粒度分布測定により18μmであるものとし、その他の条件は実験例1と同様として負極材粉末とした。
使用するSi粉末の平均粒子径を、レーザー回折式粒度分布測定により35μmであるものとし、その他の条件は実験例1と同様として負極材粉末とした。
ガス発生反応の加熱温度を1400℃とし、Si粉末とLi2Si2O5粉末とを3:1のモル比で混合し(Si量がLi2Si2O5粉末と過不足なく反応する場合の1.00倍)、使用するSi粉末の平均粒子径を、レーザー回折式粒度分布測定により35μmであるものとし、その他の条件は実験例1と同様として負極材粉末とした。
Si粉末とLi2SiO3粉末とを2.06:1のモル比で混合した。Si粉末とLi2SiO3粉末とが過不足なく反応する場合のモル比は2:1であるから、これに比してSi量は1.03倍となる。また、Si粉末の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定により2.5μmであり、Li2SiO3粉末の粒子径は、同じくレーザー回折式粒度分布測定により22μmであった。
Si粉末とLi4SiO4粉末とを3.09:1のモル比で混合した。Si粉末とLi4SiO4粉末とが過不足なく反応する場合のモル比は3:1であるから、これに比してSi量は1.03倍となる。また、Si粉末の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定により2.5μmであり、Li4SiO4粉末の粒子径は、同じくレーザー回折式粒度分布測定により24μmであった。
Claims (4)
- Si、Li及びOを含み、前記Siの一部がSi粉末として存在し、前記Liが珪酸リチウムとして存在するSi・珪酸リチウム含有原料を減圧加熱して、当該原料からガスを発生させるガス発生工程と、
前記ガス発生工程で発生したガスを冷却して析出させる析出工程と、
前記析出工程で生成された析出物を回収して粉末化する粉末化工程とを含んでおり、
前記ガス発生工程における反応温度が、前記珪酸リチウムの融点以上、1400℃未満であり、
且つ、前記Si・珪酸リチウム含有原料におけるSi粉末の粒子径が、体積基準で測定した平均粒径D50で0.05~30μmである酸化珪素系負極材の製造方法。 - 請求項1に記載の酸化珪素系負極材の製造方法において、
前記ガス発生工程における反応温度が、前記珪酸リチウムの融点+50℃以上、Siの融点-25℃未満である酸化珪素系負極材の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の酸化珪素系負極材の製造方法において、
前記Si・珪酸リチウム含有原料におけるSi粉末の珪酸リチウムに対する量的バランスが、Si粉末と珪酸リチウムが過不足なく反応する場合のSi量を1として1倍超、1.2倍以下である酸化珪素系負極材の製造方法。 - 請求項1~3の何れかに記載の酸化珪素系負極材の製造方法において、
前記粉末化工程で生成された粉末の粒子表面に炭素皮膜の形成処理を行う炭素被覆工程を含んでおり、
前記炭素被覆工程における処理温度が900℃以下である酸化珪素粉末の製造方法。
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