JP7055281B2

JP7055281B2 - イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位及び光反応性を有する部位を有する重合体と架橋剤を含有する液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子

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Publication number: JP7055281B2
Application number: JP2021008367A
Authority: JP
Inventors: 加名子鈴木; 正人森内; 亮一芦澤; 耕平後藤
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2015-12-28
Filing date: 2021-01-22
Publication date: 2022-04-18
Anticipated expiration: 2036-12-27
Also published as: TW202120578A; WO2017115790A1; CN108885373A; KR20180098623A; TWI788773B; JP6877697B2; JPWO2017115790A1; TW201800431A; US11028323B2; TWI798164B; CN108885373B; US20190023987A1; JP2021073522A

Description

本発明は、イソシアネート基を有する、もしくは発現する側鎖と光反応性を示す側鎖を有する重合体を含有する液晶配向剤、これにより得られる液晶配向膜、及び得られた液晶配向膜を具備する液晶表示素子に関する。

液晶表示素子において、液晶配向膜は液晶を一定の方向に配向させるという役割を担っている。
現在、工業的に使用されている主な液晶配向膜は、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸（ポリアミック酸ともいわれる。）、ポリアミック酸エステルや、ポリイミドの溶液からなるポリイミド系の液晶配向剤を、基板に塗布し成膜することで作製される。
また、基板面に対して液晶を平行配向又は傾斜配向させる場合は、成膜した後、更にラビングによる表面延伸処理が行われている。

一方、基板に対して垂直に液晶を配向させる場合（垂直配向（ＶＡ）方式と呼ばれる）は、長鎖アルキルなどの疎水性基をポリイミドの側鎖に導入した液晶配向膜が用いられている。この場合、基板間に電圧を印加して液晶分子が基板に平行な方向に向かって傾く際に、液晶分子が基板法線方向から基板面内の一方向に向かって傾くようにする必要がある。このための手段として、例えば、基板上に突起を設ける方法、表示用電極にスリットを設ける方法、ラビングにより液晶分子を基板法線方向から基板面内の一方向に向けてわずかに傾けておく（プレチルトさせる）方法、さらには、あらかじめ液晶組成物中に光重合性化合物を添加し、ポリイミド等の垂直配向膜と共に用いて、液晶セルに電圧を印加しながら紫外線を照射することで、液晶をプレチルトさせる方法（例えば、特許文献１参照）などが提案されている。

近年、ＶＡ方式の液晶配向制御における突起やスリットの形成、及びＰＳＡ技術に代わるものとして偏光紫外線照射等による異方的光化学反応を利用する方法（光配向法）も提案されている。すなわち、光反応性を有する垂直配向性のポリイミド膜に、偏光紫外線照射し、配向規制能およびプレチルト角発現性を付与することにより、電圧印加時の液晶分子の傾き方向を均一に制御できることが知られている（特許文献２参照）。この場合も、従来の配向膜と同様に、耐久性に優れ、液晶のプレチルト角の制御に好適なポリイミド系の液晶配向膜が用いられている。

一方、ポリイミド系重合体を用いた液晶配向処理剤の溶媒には、これらポリイミド系重合体の溶媒溶解性が低いため、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰともいう）などの高極性な溶媒が使用されている。これら高極性な溶媒は、沸点が高く、例えばＮＭＰの沸点は２００℃以上である。そのため、ＮＭＰを溶媒に用いた液晶配向処理剤を用いて液晶配向膜を作製するためには、液晶配向膜中に残存するＮＭＰを無くすため、ＮＭＰの沸点近傍である２００℃程度の高い温度での焼成が必要となる。
それに対して、液晶表示素子の基板を、薄くて軽量であるが耐熱性が低いプラスチック基板を用いる場合、液晶配向膜を作製する際の焼成を、より低温で行うことが必要になる。同様に、この焼成温度を低温にすることで、液晶表示素子の製造におけるエネルギーコストを削減することも求められている。

特許第４５０４６２６号公報。特許第４９９５２６７号公報。

本発明は、上記特性を兼ね備えた液晶表示素子を提供することを目的とする。
すなわち、本発明の目的は、光配向法によって、配向規制能およびプレチルト角発現性を付与できる液晶配向膜を成膜する際の焼成を低温で行うことができる液晶表示素子を提供することを目的とする。
また、液晶のプレチルト角の安定性が高く、長期の使用によっても表示焼き付きの発生し難い液晶表示素子を提供することを目的とする。
加えて、上記液晶表示素子に用いる垂直液晶配向膜およびこの垂直液晶配向膜を提供することのできる液晶配向剤を提供することを目的とする。

本発明者らは、以下の＜１＞を要旨とする発明を見出した。
＜１＞下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び有機溶媒を含有する液晶配向剤：
（Ａ）成分：イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位と、光配向性を有する部位を有する重合体；及び
（Ｂ）成分：分子内にアミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有する化合物。

本発明により、光配向法によって、配向規制能およびプレチルト角発現性を付与できる液晶配向膜を低温焼成で形成できる液晶配向剤を提供することができる。
また、本発明の方法によって製造された液晶表示素子は、液晶のプレチルト角の安定性が高く、長時間連続駆動しても表示特性が損なわれることがない。

以下に本発明を詳細に説明する。
＜（Ａ）成分：イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位と光配向性を有する部位とを有する重合体＞
本発明の液晶配向剤は、（Ａ）－（１）イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位；及び（Ａ）－（２）光配向性を有する部位；を有する重合体（以下、「（Ａ）成分」又は「特定重合体」という場合がある）を含有する。
（Ａ）成分：特定重合体は、光に感光して架橋反応や異性化反応を起こすことができる。

＜＜（Ａ）－（１）イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位＞＞
本発明の（Ａ）成分中の（Ａ）－（１）イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位は、下記式（１）であることが好ましい。
また、該部位は、下記式（１ｍ）のモノマー由来であるのがよい。

式（１）又は（１ｍ）中、Ｓａはスペーサー単位を表し、Ｓａの左の結合子は特定重合体の主鎖に、任意にスペーサーを介して結合することを示し、Ｉａはイソシアネート基又はブロック化されたイソシアネート基である。
また、式（１ｍ）中、Ｍａは第１の重合性基を表す。該第１の重合性基して、（メタ）アクリレート、フマレート、マレエート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン、（メタ）アクリルアミド及びその誘導体のラジカル重合性基、及びシロキサンを挙げることができる。好ましくは（メタ）アクリレート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、アクリルアミドであるのがよい。

ｃは１から３の整数であり、好ましくは１または２である。
Ｍｂは、単結合、２価の複素環、３価の複素環、４価の複素環、置換又は非置換の直鎖又は分岐鎖である炭素数１～１０のアルキル基、２価の芳香族基、３価の芳香族基、４価の芳香族環、２価の脂環式基、３価の脂環式基、４価の脂環式基、２価の縮合環式基、３価縮合環式基または４価の縮合環式基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていてもよい。
Ｓａは下記式（２）由来であるのがよい。

Ｗ_１の左の結合はＭｂへの結合を表し、Ｗ_３の右の結合はＩａへの結合を表し、Ｗ_１、Ｗ_２及びＷ_３は、それぞれ独立して単結合、二価の複素環、－（ＣＨ_２）ｎ－（式中、ｎは１～２０の整数である。）、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、―ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－又は－Ｃ≡Ｃ－を表すが、これらの置換基において非隣接のＣＨ_２基の一つ以上は独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２―、－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－Ｏ－、－ＯＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５のアルキル基を表す。）で置換することができる。
Ａ_１及びＡ_２は、それぞれ独立して、２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。

Ｉａは、上述したとおり、イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基である。
ブロック化されたイソシアネート基とは、イソシアネート基（－ＮＣＯ）が適当な保護基（ＢＬ）によりブロック化されたイソシアネート基であり、例えば下記式（５）で表すことができる。
本発明の液晶配向剤において、ブロック化されたイソシアネート基は、液晶配向膜の形成時の加熱焼成により、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れて、反応性のイソシアネート基が生じる。生じたイソシアネート基は、液晶配向膜を構成する重合体との間で架橋反応が進行する。また、該イソシアネート基は、分子内にアミノ基およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有する化合物と反応する。

ブロック化されたイソシアネート基は、イソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を作用せしめることにより得ることができる。
ブロック剤として、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、１－メトキシ－２－プロパノール、２－エトキシヘキサノール、２－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエタノール、２－エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ－ニトロフェノール、ｐ－クロロフェノール、ｏ－、ｍ－又はｐ－クレゾール等のフェノール類；ε－カプロラクタム等のラクタム類；アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾールなどのピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類；マロン酸ジエチル等のカルボン酸エステル類；などが挙げられる。好ましくは、エタノール、イソプロパノール、１－メトキシ－２－プロパノール、３，５－ジメチルピラゾール、γ－カプロラクタム、メチルエチルケトンオキシムであるのがよい。

以下にＢＬの好ましい具体的構造として、ＢＬ－１～Ｂｌ－７を示すがこれに限定されるものではない。なお、破線の結合子は、式（５）の炭素との結合箇所を示す。

Ｉａとして、以下のＩａ－１～Ｉａ－８を挙げることができるが、これらに限定されない。式中、破線は上記式（１）のＳａへの結合を表し、Ｒ_６は炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基（ただし、非隣接のＣＨ_２基の一つ以上は独立して、酸素原子に置き換えられてもよい）を表す。

（Ａ）－（１）としてイソシアネート基、即ちブロック化されていないイソシアネート基を含有する場合、該イソシアネート基は、分子内にアミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有する化合物と優れた反応性を示すことから、低温での焼成においても効率良く架橋反応することができる。

イソシアネート基とアミノ基やヒドロキシル基との反応温度は５０℃から２００℃であることが好ましく、より好ましくは８０℃～２００℃であり、より好ましくは８０℃～１８０℃である。

イソシアネート基はアミノ基やヒドロキシル基、特にアミノ基との反応性に優れ、低温でも架橋反応が進行することがあり、液晶配向剤の保存安定性が悪くなることがある。そのため液晶配向剤を長期に保存する場合は、ブロック化されたイソシアネート基を用いる場合がある。

ブロック化されたイソシアネート基は、液晶配向膜の形成時の加熱焼成の温度のような高温の状態では、ブロック部分の熱解離が生じてイソシアネート基を介して架橋反応が進行するものである。ブロック化されたイソシアネート基は、液晶配向剤を保存する低温の状態では、イソシアネート基による架橋が進行しないものであることが好ましい。そのような熱反応性を実現するために、ブロックイソシアネート化合物は、ブロック部分の熱解離の温度が液晶配向剤の保存時よりも相当に高いもの、例えば、５０℃～２３０℃であるものが好ましく、６０℃～１５０℃であるものがより好ましい。

（Ａ－１）イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位は、上述したように、上記式（１ｍ）で表されるモノマー由来であるのがよい。該式（１ｍ）で表されるモノマーとして、以下のものを挙げることができるがこれらに限定されない。

＜＜（Ａ）－（２）光配向性を有する部位＞＞
本発明の（Ａ）成分：特定重合体は、（Ａ）－（２）光配向性を有する部位を有する。
光配向性を有する部位の構造は特に限定されないが、ケイ皮酸構造を有するものが望ましい。この場合、熱などの外部ストレスに曝されたとしても、実現された垂直配向制御能を長期間安定に保持することができる。また、光に対して感度が高いため、低露光量の偏光紫外線照射においても、配向制御能を発現することができる。
本発明の（Ａ）－（２）光配向性を有する部位は、好ましくは下記式（３）で表されるのがよい。
また、該部位は、下記式（３ｍ）のモノマー由来であるのがよい。

式（３）又は（３ｍ）中、Ｉｂは、光配向性の光反応性基を有する１価の有機基である。
Ｓｂは、スペーサー単位を表し、Ｓｂの左の結合子は特定重合体の主鎖に、任意にスペーサーを介して結合することを示す。
Ｓｂは炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、２価の芳香族基又は２価の脂環式基であるのがよい。
また、式（３ｍ）中、Ｍｃは第２の重合性基を表す。該第２の重合性基として、上述の第１の重合性基と同様に、（メタ）アクリレート、フマレート、マレエート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン、（メタ）アクリルアミド及びその誘導体のラジカル重合性基、及びシロキサンを挙げることができる。好ましくは（メタ）アクリレート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、アクリルアミドであるのがよい。

ｄは、１から３の整数であり、好ましくは１または２である。
Ｍｄは、単結合、２価の複素環、３価の複素環、４価の複素環、置換又は非置換の直鎖又は分岐鎖である炭素数１～１０のアルキル基、２価の芳香族基、３価の芳香族基、４価の芳香族環、２価の脂環式基、３価の脂環式基、４価の脂環式基、２価の縮合環式基、３価縮合環式基または４価の縮合環式基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていてもよい。
Ｓｂは、上記Ｓａとは独立に、上記式（２）で表される基であるのがよい。

本発明において、光配向性の光反応性基とは、紫外線の刺激によって光異性化もしくは光二量化反応を起こす基をいい、例えば、下記式（ＩＩＩ）－１～（ＩＩＩ）－４で表される基を有するのがよいがこれらに限定されない。

良好な垂直配向制御能と安定なプレチルト角を発現し得る、光配向性を有する部位の好ましい構造として、上記（ＩＩＩ）－１で表される基を有する下記式（３ｍ）－１の構造を挙げることができるがこれに限定されない。

式（３ｍ）－１中、Ｍｃ、Ｍｄ、Ｓｂ及びｄは、上述と同じ定義である。
Ｚは酸素原子、または硫黄原子である。
Ｘａ及びＸｂは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基又は炭素数１～３のアルキル基である。
Ｒ_１は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－、好ましくは単結合、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－である。
Ｒ_２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基である。
Ｒ_３は単結合、酸素原子、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－である。
Ｒ_４は炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基または脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基である。
Ｒ_５は炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、フッ素原子またはシアノ基、好ましくはメチル基、メトキシ基又はフッ素原子である。
ａは０～３の整数であり、ｂは０～４の整数である。

Ｓｂの炭素数１～１０の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基として、炭素数１～８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であることが好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基が好ましい。
Ｓｂの２価の芳香族基として、例えば１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、２，３，５，６－テトラフルオロ－１，４－フェニレン基等を挙げることができる。
Ｓｂの２価の脂環式基として、例えばトランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
Ｓｂの２価の複素環式基として、例えば１，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、１，４－フラニレン基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基等を挙げることができる。
Ｓｂの２価の縮合環式基として、例えばナフチレン基等を挙げることができる。
Ｓｂは、炭素数１～８のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくは炭素数１～６のアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１～４のアルキレン基であるのがよい。

Ｒ_２の２価の芳香族基として、例えば１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、２，３，５，６－テトラフルオロ－１，４－フェニレン基等を挙げることができる。
Ｒ_２の２価の脂環式基として、例えばトランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
Ｒ_２の２価の複素環式基として、例えば１，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、１，４－フラニレン基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基等を挙げることができる。
Ｒ_２の２価の縮合環式基として、例えばナフチレン基等を挙げることができる。
Ｒ_２は、１，４－フェニレン基、トランス１，４－シクロヘキシレン、トランス－トランス－１，４－ビシクロヘキシレンであるのがよい。

Ｒ_４の炭素数１～４０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基として、例えば炭素数１～２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基（ただし、アルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子により置換されていてもよい）であることが好ましい。かかるアルキル基の例として、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ラウリル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－エイコシル基、４，４，４－トリフロロブチル基、４，４，５，５，５－ペンタフルオロペンチル、４，４，５，５，６，６，６－ヘプタフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロペンチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、２－（パーフルオロブチル）エチル基、２－（パーフルオロオクチル）エチル基、２－（パーフルオロデシル）エチル基等を挙げることができる。
Ｒ_４の脂環式基を含む炭素数３～４０の１価の有機基として、例えばコレステニル基、コレスタニル基、アダマンチル基、下記式（Ａ－１）または（Ａ－２）（式中、Ｒ_７は、それぞれ、水素原子、フッ素原子または炭素数１～２０のフッ素原子で置換されていてもよいアルキル基である。）で表される基等を挙げることができる。

（Ａ－２）光配向性を有する部位は、上述したように、上記式（３ｍ）又は（３ｍ）－１で表されるモノマー由来であるのがよい。該式（３ｍ）又は（３ｍ）－１で表されるモノマーとして、以下のものを挙げることができるがこれらに限定されない。

本発明の（Ａ）成分：特定重合体のうち、（Ａ－１）のイソシアネート基又はブロック化されたイソシアネート基は、分子内にアミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有する化合物と反応することで、膜硬度が高く、安定した液晶配向膜を得ることができる。また、液晶配向膜が架橋反応により硬化することで、その後の偏光紫外線照射により誘起される液晶の配向規制能およびプレチルト角が安定する。

（Ａ－１）イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位の導入量は、（Ａ）成分：特定重合体の５～９０ｍｏｌであることが好ましく、１０～９０ｍｏｌ％であることがより好ましく、さらに好ましくは２０～８０ｍｏｌ％である。
（Ａ－２）光配向性を有する部位の導入量は、（Ａ）成分：特定重合体の１０～９５ｍｏｌであることが好ましく、１０～９０ｍｏｌ％であることがより好ましく、さらに好ましくは２０～７０ｍｏｌ％である。

＜（Ｂ）成分：分子内にアミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有する化合物＞
本発明の液晶配向剤は、（Ｂ）成分として、分子内にアミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有する化合物を含有する。
２つ以上の官能基は、全てが同種（１種）のアミノ基又はヒドロキシル基であっても、２種以上のアミノ基又はヒドロキシル基であってもよい。アミノ基とヒドロキシル基とが混在してもよい。
本発明の（Ｂ）成分は、分子内にアミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有すれば、繰り返し単位を有する重合体であってもよい。
例えば、繰り返し単位を有する重合体は、その末端に、アミノ基及びヒドロキシル基からなる群から選ばれる１種以上の官能基を２つ以上有していてもよい。
また、例えば、該重合体は、１つの官能基を有するモノマー由来の重合体であっても、該重合体が官能基を２つ以上有するものであれば、本発明の（Ｂ）成分に該当する。より具体的には、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）は、ヒドロキシル基を１つのみ有する化合物であり、本発明の（Ｂ）成分には該当しないが、該ＨＥＭＡを重合させて得られる重合体は、ヒドロキシル基を２つ以上有するため、本発明の（Ｂ）成分に該当する。
さらに、例えば、本発明の（Ｂ）成分は、２つ以上の官能基（該官能基はアミノ基及び／又はヒドロキシル基である）を有するモノマー由来の、繰り返し単位を有する重合体であってもよい。

該（Ｂ）成分（以下、特定化合物とも称する）は、前述の（Ａ）成分である重合体、特に（Ａ）成分中のイソシアネート基（ブロック化されたイソシアネート基からブロック基が脱離したイソシアネート基を含む）と架橋反応することができる。この反応により、上述したとおり、膜硬度が高く、安定した液晶配向膜を得ることができる。また、液晶配向膜が架橋反応により硬化することで、その後の偏光紫外線照射により誘起される液晶の配向規制能およびプレチルト角を安定化させることができる。

本発明の液晶配向剤において、（Ｂ）成分が、上述したような、繰り返し単位を有する重合体であってその数平均分子量が２０００以下である場合、又は繰り返し単位を有しない化合物である場合、該（Ｂ）成分は、上述の（Ａ）成分１００質量％に対して、１～８０質量％、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは２～３０質量％含有するのがよい。換言すると、（Ａ）成分：（Ｂ）成分は、質量比で１００：１～１００：８０、好ましくは１００：１～１００：５０、より好ましくは１００：２～１００：３０であるのがよい。
また、（Ｂ）成分が、繰り返し単位を有する重合体であってその数平均分子量が２０００以上の重合体である場合、該（Ｂ）成分は、上述の（Ａ）成分１００質量％に対して、５～１０００質量％、好ましくは５～９００質量％、より好ましくは１０～８００質量％含有するのがよい。換言すると、（Ａ）成分：（Ｂ）成分は、質量比で１００：５～１００：１０００、好ましくは１００：５～１００：９００、より好ましくは１００：１０～１００：８００であるのがよい。
本発明の（Ｂ）成分の化合物は、下記式（４）で表される。
式中、Ｔはアミノ基またはヒドロキシル基を表し、Ｙはｍ価の有機基を表し、ｍは２以上の整数である。
上記式において、ｍは２以上であるが、ｍの数が多い方が特定重合体との架橋反応が進行しやすいため好ましい。

分子内にアミノ基を２つ以上有する化合物は一般的なジアミン化合物やトリアミン化合物、テトラアミン化合物またはポリアミン化合物を用いることができる。
ｍが２の場合のＹの具体的例として、下記式（Ｙ－１）～（Ｙ－１２０）などを挙げることができるがこれらに限定されない。
なかでも、液晶のプレチルト角を高くするための液晶配向膜とする場合、Ｙは、長鎖アルキル基（例えば炭素数１０以上のアルキル基）、芳香族環、脂肪族環、ステロイド骨格、又はこれらを組み合わせた構造を有するジアミン化合物を原料とする構造であることが好ましい。
このようなＹとして、 (Ｙ－８４)、(Ｙ－８５)、(Ｙ－８６)、(Ｙ－８７)、(Ｙ－８８)、(Ｙ－８９)、(Ｙ－９０)、(Ｙ－９１)、(Ｙ－９２)、(Ｙ－９３)、(Ｙ－９４)、(Ｙ－９５)、(Ｙ－９６)、(Ｙ－９７)、(Ｙ－９８)、(Ｙ－９９)、(Ｙ－１００)、(Ｙ－１０１)、(Ｙ－１０２)、(Ｙ－１０３)、(Ｙ－１０４)、(Ｙ－１０５)、(Ｙ－１０６)、(Ｙ－１０７)、又は(Ｙ－１０８)などが挙げられるが、これに限定されるものではない。

また、液晶表示素子の電気特性を向上させたい場合、(Ｙ－３１)、(Ｙ－４０)、(Ｙ－６４)、(Ｙ－６５)、(Ｙ－６６)、(Ｙ－６７)、(Ｙ－１０９)、(Ｙ－１１０)などが挙げられる。
また、特定重合体にも光反応性部位が導入されているが、それと共に光反応性を付与した(Ｙ－１７)、(Ｙ－１８)、(Ｙ－１１１)、(Ｙ－１１２)、(Ｙ－１１３)、(Ｙ－１１４) 、(Ｙ－１１５)、(Ｙ－１１６)、(Ｙ－１１７)、(Ｙ－１１８)、(Ｙ－１１９)なども用いることができる。

また、上記式で表される化合物において、ｍが３以上の場合のＹの具体例としては、下記式で表される３価以上の有機基や、上述の（Ｙ－１）～（Ｙ－１２０）の水素原子が脱離した構造などが挙げられるが、これに限定されるものではない。なお、本明細書において、Ｍｅはメチル基である。

分子内にヒドロキシル基を２つ以上有する化合物は、一般的なジオール化合物やトリオール化合物、テトラオール化合物、ポリオール化合物または分子内にヒドロキシル基を複数有する高分子を用いることができる。
ｍが２の場合の具体的例としては、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール，１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、１，１１－ドデカンジール、下記式（６）～（８）で表される２価以上の有機基や、Ｙが（Ｙ－１）～（Ｙ－１２０）である構造などが挙げられるが、これらに限定されない。

Ｙ_１、Ｙ_２、及びＹ_３はそれぞれ独立に芳香環を表す。該芳香環の任意の水素原子は、水酸基、炭素原子数１～３のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数１～３のアルコキシ基又はビニル基で置換されていてもよい。
Ｚ_１は、単結合、全部又は一部が結合して環状構造を形成してもよい炭素原子数１～１０の２価の飽和炭化水素基であり任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、式（９）で表される基である。
Ｘ_１は炭素数１～２０の脂肪族炭化水素基、又は芳香族炭化水素基を含むｌ価の有機基である。
ｌは２～６の整数であり、ｄ_１は２～４の整数であり、ｄ_２及びｄ_３はそれぞれ独立に１～３の整数であり、ｅ及びｆはそれぞれ独立に１～３の整数である。
Ｋ_１及びＫ_２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１～４のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数２～４のアルケニル基、又は置換基を有してもよい炭素数２～４のアルキニル基である。また、Ｋ_１及びＫ_２のうち少なくとも１つは、ヒドロキシ基で置換された炭化水素基を表す。式（８）中のｌは、溶解性の観点から、２～４が好ましい。

式（９）中、Ｐ_１及びＰ_２はそれぞれ独立に炭素原子数１～５のアルキレン基であり、Ｑ_１は芳香環を表す。
式（６）及び式（７）の－ＣＨ_２－ＯＨ基は芳香環に直接結合しているので、Ｙ_１、Ｙ_２、及びＹ_３は、それぞれ独立に芳香環である。

芳香環の具体例として、ベンゼン環、ナフタレン環、テトラヒドロナフタレン環、アズレン環、インデン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フェナレン環、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ピラゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、プリン環、チアジアゾール環、ピリダジン環、トリアジン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、チノリン環、フェナントロリン環、インドール環、キノキサリン環、ベンゾチアゾール環、フェノチアジン環、アクリジン環、オキサゾール環等が挙げられる。より好ましい芳香環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、ピリダジン環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドール環、キノキサリン環、アクリジン環等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、カルバゾール環であり、最も好ましくはベンゼン環、ピリジン環である。
なお、これら芳香環の水素原子は、水酸基、炭素原子数１～３のアルキル基、ハロゲン原子、炭素原子数１～３のアルコキシ基又はビニル基で置換されていてもよい。

式（７）中、ｄ_２及びｄ_３は、より好ましくは１又は２の整数である。またｅ及びｆは、より好ましくは１又は２である。
式（７）におけるＺ_１は、その全部又は一部が結合して環状構造を形成してもよい炭素原子数１～１０、好ましくは、１～５の２価の飽和炭化水素基の場合、その有する任意の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。
Ｚ_１の例として、炭素原子数１～１０のアルキレン基、炭素原子数３～１０の脂環式炭化水素基、アルキレン基と脂環式炭化水素基とが組み合わされ、且つ炭素原子数１～１０の基が挙げられる。加えて、前記した基の任意の水素原子がフッ素原子で置換された基が挙げられる。

式（８）中のＱ_１は芳香環であり、その具体例として、ベンゼン環、ナフタレン環、テトラヒドロナフタレン環、アズレン環、インデン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フェナレン環、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ピラゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、プリン環、チアジアゾール環、ピリダジン環、トリアジン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、チノリン環、フェナントロリン環、インドール環、キノキサリン環、ベンゾチアゾール環、フェノチアジン環、アクリジン環、オキサゾール環等が挙げられる。より好ましい芳香環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、ピリダジン環、ピラジン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドール環、キノキサリン環、アクリジン環等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、カルバゾール環、フルオレン環等が挙げられる。

式（８）中、Ｋ_１及びＫ_２のうち少なくとも１つは、下記式（１０）で表される構造であることが、反応性の観点から好ましく、下記式（１１）で表される構造であることがさらに好ましい。
式（８）中、Ｋ_３～Ｋ_６は、それぞれ独立して、水素原子、炭化水素基、又はヒドロキシ基で置換された炭化水素基である。

本発明に用いる特定化合物の具体例としては［Ｐ１］～［Ｐ３７］の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記（Ｂ）成分である特定化合物は、［Ｐ９］、［Ｐ１１］、［Ｐ１２］、［Ｐ１５］、［Ｐ１８］、［Ｐ２１］、[Ｐ２２]、[Ｐ２７]、[Ｐ２９]～[Ｐ３７]で表される化合物が好ましく、なかでも、［Ｐ９］、［Ｐ１１］、［Ｐ１２］、［Ｐ１５］、［Ｐ２９］で表される化合物がより好ましい。

＜（Ａ）成分：イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位と光配向性を有する部位とを有する重合体の製造方法＞
上記（Ａ）成分：イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位と光配向性を有する部位とを有する重合体は、上記（１ｍ）で表されるイソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有するモノマー；及び上記（３ｍ）又は（３ｍ）－１で表される光配向性のモノマー；を重合することによって得ることができる。
また、光配向性やヒドロキシル基やアミノ基を２つ以上有する特定化合物との架橋反応性を損なわない範囲でその他のモノマーと共重合することができる。その他のモノマーとして、例えば工業的に入手できるラジカル重合反応可能なモノマーが挙げられる。

その他のモノマーの具体例として、不飽和カルボン酸、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
不飽和カルボン酸の具体例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。
アクリル酸エステル化合物として、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。

メタクリル酸エステル化合物として、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、及び、８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。グリシジル（メタ）アクリレート、（３－メチル－３－オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、および（３－エチル－３－オキセタニル）メチル（メタ）アクリレートなどの環状エーテル基を有する（メタ）アクリレート化合物も用いることができる。

ビニル化合物として、例えば、ビニルエーテル、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、及び、プロピルビニルエーテル等が挙げられる。
スチレン化合物として、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。
マレイミド化合物として、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。

本発明の（Ａ）成分：特定重合体の製造方法については、特に限定されるものではなく、工業的に扱われている汎用な方法が利用できる。
具体的には、光配向性モノマーやイソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有するモノマーのビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、アニオン重合により製造することができる。これらの中では反応制御のしやすさなどの観点からラジカル重合が特に好ましい。

ラジカル重合の重合開始剤として、ラジカル重合開始剤や、可逆的付加－開裂型連鎖移動（ＲＡＦＴ）重合試薬等の公知の化合物を使用することができる。
ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤として、例えば、ケトンパーオキサイド類（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ジアシルパーオキサイド類（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド類（過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド類（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシケタール類（ジブチルパーオキシシクロヘキサン等）、アルキルパーエステル類（パーオキシネオデカン酸－ｔｅｒｔ－ブチルエステル、パーオキシピバリン酸－ｔｅｒｔ－ブチルエステル、パーオキシ２－エチルシクロヘキサン酸－ｔｅｒｔ－アミルエステル等）、過硫酸塩類（過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、および２，２′－ジ（２－ヒドロキシエチル）アゾビスイソブチロニトリル等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。

ラジカル光重合開始剤は、ラジカル重合を光照射によって開始する化合物であれば特に限定されない。このようなラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２－エチルアントラキノン、アセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－４’－イソプロピルプロピオフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’－トリ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２－（４’－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３’，４’－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２’，４’－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２’－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４’－ペンチルオキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、４－［ｐ－Ｎ，Ｎ－ジ（エトキシカルボニルメチル）］－２，６－ジ（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（２’－クロロフェニル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（４’－メトキシフェニル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、３，３’－カルボニルビス（７－ジエチルアミノクマリン）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス（４－エトキシカルボニルフェニル）－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２，４－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’ビス（２，４－ジブロモフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２，４，６－トリクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、３－（２－メチル－２－ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６－ビス（２－メチル－２－モルホリノプロピオニル）－９－ｎ－ドデシルカルバゾール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ジ（メトキシカルボニル）－４，４’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’－ジ（メトキシカルボニル）－４，３’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’－ジ（メトキシカルボニル）－３，３’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２－（３－メチル－３Ｈ－ベンゾチアゾール－２－イリデン）－１－ナフタレン－２－イル－エタノン、又は２－（３－メチル－１，３－ベンゾチアゾール－２（３Ｈ）－イリデン）－１－（２－ベンゾイル）エタノン等を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、２つ以上を混合して使用することもできる。
ラジカル重合法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、沈殿重合法、塊状重合法、溶液重合法等を用いることができる。

（Ａ－１）イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位；及び（Ａ－２）光配向性を有する部位を有する重合体の重合反応に用いる有機溶媒として、生成した高分子が溶解するものであれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。
Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ－メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、ｎ－へキサン、ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸メチルエチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－エトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。
これら有機溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、生成する高分子を溶解させない溶媒であっても、生成した高分子が析出しない範囲で、上述の有機溶媒に混合して使用してもよい。

また、ラジカル重合において有機溶媒中の酸素は重合反応を阻害する原因となるので、有機溶媒は可能な程度に脱気されたものを用いることが好ましい。
ラジカル重合の際の重合温度は３０℃～１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは５０℃～１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となるので、モノマー濃度が、好ましくは１質量％～５０質量％、より好ましくは５質量％～３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。
上述のラジカル重合反応においては、ラジカル重合開始剤の比率がモノマーに対して多いと得られる高分子の分子量が小さくなり、少ないと得られる高分子の分子量が大きくなるので、ラジカル開始剤の比率は重合させるモノマーに対して０．１モル％～１０モル％であることが好ましい。また重合時には各種モノマー成分や溶媒、開始剤などを追加することもできる。

［重合体の回収］
上述の反応により得られた、イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位と、光配向性を有する部位を有する高分子の反応溶液から、生成した高分子を回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して、それら重合体を沈殿させれば良い。沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ヘプタン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、エタノール、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、水等を挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２回～１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる３種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。
本発明の（Ａ）高分子の分子量は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性、および塗膜の均一性を考慮した場合、ＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography）法で測定した重量平均分子量が、２０００～１００００００が好ましく、より好ましくは、５０００～１０００００である。

［液晶配向剤の調製］
本発明の液晶配向剤は、液晶配向膜の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。すなわち、本発明の液晶配向剤は、樹脂被膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。ここで、その樹脂成分とは、既に説明した（Ａ）成分：特定重合体と（Ｂ）成分：特定化合物である。その際、樹脂成分の含有量は、１質量％～２０質量％が好ましく、より好ましくは２質量％～１５質量％、特に好ましくは２質量％～１０質量％である。
本実施形態の重合体組成物において、前述の樹脂成分は、全てが（Ａ）成分：特定重合体及び（Ｂ）成分：特定化合物であってもよいが、光配向能や架橋反応性を損なわない範囲でそれら以外の他の重合体が混合されていてもよい。その際、樹脂成分中における他の重合体の含有量は、０．５質量％～９０質量％、好ましくは１質量％～８０質量％である。
そのような他の重合体は、例えば、ポリ（メタ）アクリレートやポリアミック酸やポリイミド等からなり、イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位と、光配向性を有する部位を有する高分子ではない重合体等が挙げられる。

＜有機溶媒＞
本発明に用いられる液晶配向剤に用いる有機溶媒は、樹脂成分を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。
Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－メチルカプロラクタム、２－ピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ－ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－エトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、１，３－ジメチル－イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。

本発明に用いられる液晶配向剤は、上記（Ａ）及び（Ｂ）成分以外の成分を含有してもよい。その例としては、液晶配向剤を塗布した際の、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる溶媒や化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物等を挙げることができるが、これに限定されない。
膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる溶媒（貧溶媒）の具体例としては、次のものが挙げられる。
例えば、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、１－ヘキサノール、ｎ－へキサン、ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸メチルエチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、１－メトキシ－２－プロパノール、１－エトキシ－２－プロパノール、１－ブトキシ－２－プロパノール、１－フェノキシ－２－プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、プロピレングリコール－１－モノエチルエーテル－２－アセテート、ジプロピレングリコール、２－（２－エトキシプロポキシ）プロパノール、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ－プロピルエステル、乳酸ｎ－ブチルエステル、乳酸イソアミルエステル等の低表面張力を有する溶媒等が挙げられる。
これらの貧溶媒は、１種類でも複数種類を混合して用いてもよい。上述のような溶媒を用いる場合は、液晶配向剤に含まれる溶媒全体の溶解性を著しく低下させることが無いように、溶媒全体の５質量％～８０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０質量％～６０質量％である。

上述の（Ａ）成分、特に（Ａ－１）がブロック化されていないイソシアネート基を有する場合、上記溶媒がヒドロキシル基を有すると、（Ａ）成分：特定重合体中のイソシアネートと反応し、（Ａ）成分：特定重合体の架橋反応性が損なわれる可能性があることから、上記溶媒はヒドロキシル基を有さない溶媒が好ましい。

膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物として、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。
より具体的には、例えば、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－３０（ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（旭硝子社製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣセイミケミカル社製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、重合体組成物に含有される樹脂成分の１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部～２質量部、より好ましくは０．０１質量部～１質量部である。

液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例として、次に示す官能性シラン含有化合物などが挙げられる。
例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、２－アミノプロピルトリメトキシシラン、２－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ－トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０－トリメトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、１０－トリエトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、９－トリメトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、９－トリエトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－ビス（オキシエチレン）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ビス（オキシエチレン）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。

基板と液晶配向膜の密着性の向上に加え、液晶表示素子を構成した時のバックライトによる電気特性の低下等を防ぐ目的で、以下のようなエポキシ基含有化合物の添加剤を、重合体組成物中に含有させても良い。具体的なエポキシ基含有化合物として、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２－ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６－テトラグリシジル－２，４－ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，－テトラグリシジル－ｍ－キシレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，－テトラグリシジル－４、４’－ジアミノジフェニルメタンなどが例示されるが、これに限定されない。

基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その使用量は、液晶配向剤が有する樹脂成分の１００質量部に対して０．１質量部～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１質量部～２０質量部である。使用量が０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると液晶の配向性が悪くなる場合がある。

添加剤として、光増感剤を用いることもできる。無色増感剤および三重項増感剤が好ましい。
光増感剤として、芳香族ニトロ化合物、クマリン（７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン、７－ヒドロキシ４－メチルクマリン）、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、芳香族２－ヒドロキシケトン、およびアミノ置換された、芳香族２－ヒドロキシケトン（２－ヒドロキシベンゾフェノン、モノ－もしくはジ－ｐ－（ジメチルアミノ）－２－ヒドロキシベンゾフェノン）、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンズアントロン、チアゾリン（２－ベンゾイルメチレン－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾチアゾリン、２－（α－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾチアゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチルベンゾチアゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－（ｐ－フルオロベンゾイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトチアゾリン）、オキサゾリン（２－ベンゾイルメチレン－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－（α－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－（ｐ－フルオロベンゾイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン）、ベンゾチアゾール、ニトロアニリン（ｍ－もしくはｐ－ニトロアニリン、２，４，６－トリニトロアニリン）またはニトロアセナフテン（５－ニトロアセナフテン）、（２－［（ｍ－ヒドロキシ－ｐ－メトキシ）スチリル］ベンゾチアゾール、ベンゾインアルキルエーテル、Ｎ－アルキル化フタロン、アセトフェノンケタール（２，２－ジメトキシフェニルエタノン）、ナフタレン、アントラセン（２－ナフタレンメタノール、２－ナフタレンカルボン酸、９－アントラセンメタノール、および９－アントラセンカルボン酸）、ベンゾピラン、アゾインドリジン、メチルクマリン等がある。
好ましくは、芳香族２－ヒドロキシケトン（ベンゾフェノン）、クマリン、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、およびアセトフェノンケタールである。

液晶配向剤は、上述したものの他、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的で、誘電体や導電物質、さらには、液晶配向膜にした際の膜の硬度や緻密度を高める目的で、架橋性化合物を有してもよい。

＜液晶配向膜及び液晶表示素子＞
本発明の液晶配向剤は、基板上に塗布、焼成した後、偏光光照射などで配向処理をすることで、液晶配向膜とすることができる。
本発明の液晶配向剤の塗布方法は特に限定されないが、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェットなどによって行う方法が一般的である。その他、塗布液を用いる方法としては、ディップ、ロールコーター、スリットコーター、スピンナーなどがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。これらの方法により基板上に塗布した後、ホットプレートなどの加熱手段により溶媒を蒸発させて、塗膜を形成させることができる。
液晶配向剤を塗布した後の焼成は、５０～３００℃の任意の温度で行うことができるが、好ましくは８０℃～２５０℃であり、より好ましくは８０℃～２３０℃である。この焼成はホットプレート、熱風循環炉、赤外線炉などで行うことができる。

ラビング処理には、レーヨン布、ナイロン布、コットン布などを使用することができる。垂直配向用の液晶配向膜は、ラビング処理によって均一な配向状態を得ることが難しいので、垂直配向用液晶配向剤として用いる場合には、ラビングせずに用いることが好ましい。

光配向処理は、直線偏光紫外線露光装置により、波長２００ｎｍ～４５０ｎｍの直線偏光紫外線を基板上に形成した塗膜に照射することにより行う。直線偏光紫外線のより好ましい波長は２５０ｎｍ～４００ｎｍである。

本発明の液晶セルは通常の方法により作製することができ、その作製方法は特に限定されるものではない。一般的には、少なくとも一方の基板上に液晶配向膜が形成されたガラス基板にシール剤を塗布し、一定のギャップが保持できるようにスペーサーを分散し、その後、２枚の基板を貼り合わせシール剤を硬化させて空セルを作製し、その後に真空下、液晶注入口から液晶を注入し、注入口を封止して液晶セルを作製する方法；或いは、スペーサーを分散した基板上に液晶を滴下し、その後に２枚の基板を貼り合わせて液晶セルを作製する方法などを用いることができる。液晶としては、用途に応じて正や負の誘電率異方性を有するフッ素系液晶やシアノ系液晶などを用いることができる。
上記のようにして本発明の液晶配向剤から得られる液晶配向膜は、液晶に大きなプレチルト角を与えることができ、垂直配向用途の液晶配向膜として使用できる。
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例において使用した（Ａ）成分のうち、光配向性を有する部位を形成しうるモノマーである（メタ）アクリレート化合物の構造をＭＡ－１～ＭＡ－５及びＭＡ－６～ＭＡ－９に示す。ＭＡ－１～ＭＡ－５は、文献等未公開の新規化合物であり、以下の合成例１～５でその合成法を詳述する。ＭＡ－６及びＭＡ－９は、公知の方法で合成し、入手可能であった。ＭＡ－７及びＭＡ－８は東京化成工業株式会社製であった。なお、式中、「ｔ」は、シクロヘキシル基がトランス型であることを示す。
また、（Ａ）成分のうち、イソシアネート基及び／又はブロック化されたイソシアネート基を有する部位を形成しうるモノマーについても以下に示す。
さらに、実施例において使用した（Ｂ）成分（特定化合物）の構造をＣＲ－１～ＣＲ－３に示す。なお、ＨＥＭＡは、後述の実施例１８及び１９において、重合した後、該重合体を（Ｂ）成分（特定化合物）として用いた。

実施例等で使用した有機溶媒の略号は以下の通りである。
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン。
ＢＣ：ブチルセロソルブ。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン。
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド。
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド。
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル。
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
ＣＨＮ：シクロヘキサノン。
実施例で使用した重合開始剤の略称は以下の通りである。
ＡＩＢＮ：2,2’－アゾビスイソブチロニトリル。

＜^１ＨＮＭＲの測定＞
装置：フーリエ変換型超伝導核磁気共鳴装置（ＦＴ－ＮＭＲ）「ＩＮＯＶＡ－４００」（Ｖａｒｉａｎ製）４００ＭＨｚ。
溶媒：重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ_３）又は重水素化Ｎ，Ｎ－ジメチルスルホキシド（［Ｄ_６］－ＤＭＳＯ）。
標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）。

（合成例１）
［ＭＡ－１］の合成：

２Ｌ四つ口フラスコに、１－ブロモ－４－（ｔｒａｎｓ－４－プロピルシクロヘキシル）－ベンゼン（１５０．０ｇ、５３３ｍｍｏｌ）、アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル（１０２．５ｇ、８００ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２．３９ｇ、１１ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン（６．４９ｇ、２１ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（２２９．３ｇ、１６００ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ（７５０ｇ）を加えて、１００℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を濾過して不溶物を除去し、濾液を純水（３．８Ｌ）に注ぎ、１２Ｎ－ＨＣｌ水溶液で中和した。中和後、酢酸エチル（２．５Ｌ）を注ぎ、抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去し、粗物を冷メタノール（１８０ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－１－１］（白色固体）を１４４．０ｇ得た（収率８２％）。
２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－１－１］（１４４．０ｇ、４４１ｍｍｏｌ）、ギ酸（１０００ｇ）を加えて、５０℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（３．０Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物を酢酸エチル（２００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－１－２］（白色固体）を１１１．１ｇ得た（収率９２％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－１－２］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ12.34 (s,1H), 7.53-7.60 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.44-6.48 (d,1H), 2.45-2.51 (t,1H), 1.76-1.83 (t,4H), 1.28-1.48 (m,5H), 1.15-1.21 (m,2H), 0.97-1.07 (m,2H), 0.87-0.89 (t,3H).

２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－１－２］（３０．０ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（１７．２ｇ、１３２ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（２５．７ｇ、１６５ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．３５ｇ、１１ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１５０ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（１．０Ｌ）に注ぎ、純水（８００ｍｌ）を用いて抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５体積比）にて単離することで、［ＭＡ－１］（白色固体）を２６．８ｇ得た（収率５５％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－１］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ7.62-7.66 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.58-6.62 (d,1H), 6.05 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.37-4.42 (m,4H), 2.44-2.48 (t,1H), 1.88 (s,3H), 1.76-1.82 (t,4H), 1.24-1.47 (m,5H), 1.15-1.21 (m,2H), 0.96-1.06 (m,2H), 0.85-0.89 (t,3H).

（合成例２）
［ＭＡ－２］の合成：

２Ｌ四つ口フラスコに、１－ブロモ－４－（ｔｒａｎｓ－４－ペンチルシクロヘキシル）－ベンゼン（１５０．０ｇ、４８５ｍｍｏｌ）、アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル（９３．２４ｇ、７２８ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２．１８ｇ、９．７ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン（５．９０ｇ、２０ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（２０８．５ｇ、１４５５ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ（７５０ｇ）を加えて、１００℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を濾過して不溶物を除去し、濾液を純水（３．８Ｌ）に注ぎ、１２Ｎ－ＨＣｌ水溶液で中和した。中和後、酢酸エチル（２．５Ｌ）を注ぎ、抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去し、粗物を冷メタノール（１９０ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－２－１］（白色固体）を１３７．０ｇ得た（収率７９％）。
２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－２－１］（１３７．０ｇ、３８４ｍｍｏｌ）、ギ酸（１０００ｇ）を加えて、５０℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（３．０Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物を酢酸エチル（２００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－２－２］（白色固体）を１１１．８ｇ得た（収率９６％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－２－２］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ12.34 (s,1H), 7.53-7.60 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.44-6.48 (d,1H), 2.45-2.51 (t,1H), 1.77-1.83 (t,4H), 1.38-1.48 (m,2H), 1.17-1.34 (m,9H), 0.97-1.07 (m,2H), 0.87-0.89 (t,3H).

２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－２－２］（３０．０ｇ、１００ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（１５．６ｇ、１１９ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（２８．７ｇ、１５０ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．２２ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１５０ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（１．０Ｌ）に注ぎ、純水（８００ｍｌ）を用いて抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５体積比）にて単離することで、［ＭＡ－２］（白色固体）を３６．６ｇ得た（収率８８％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－２］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ7.62-7.66 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.58-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.36-4.42 (m,4H), 2.48-2.52 (t,1H), 1.88 (s,3H), 1.76-1.83 (t,4H), 1.36-1.44 (m,2H), 1.18-1.31 (m,9H), 1.00-1.03 (m,2H), 0.85-0.88 (t,3H).

（合成例３）
［ＭＡ－３］の合成：

２Ｌ四つ口フラスコに、１－ブロモ－４－（ｔｒａｎｓ－４－ヘプチルシクロヘキシル）－ベンゼン（１５０．０ｇ、４４５ｍｍｏｌ）、アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル（８５．５ｇ、６６７ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．９０ｇ、８．９ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン（５．４１ｇ、１８ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（１９１．１ｇ、１３３４ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ（７５０ｇ）を加えて、１００℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を濾過して不溶物を除去し、濾液を純水（３．８Ｌ）に注ぎ、１２Ｎ－ＨＣｌ水溶液で中和した。中和後、酢酸エチル（２．５Ｌ）を注ぎ、抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去し、粗物を冷メタノール（１８０ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－３－１］（白色固体）を１５１．６ｇ得た（収率８９％）。
２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－３－１］（１５１．６ｇ、３９４ｍｍｏｌ）、ギ酸（１０６１ｇ）を加えて、５０℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（３．０Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物を酢酸エチル（５００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－３－２］（白色固体）を１２１．７ｇ得た（収率９４％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－３－２］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ12.34 (s,1H), 7.53-7.59 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.44-6.48 (d,1H), 2.44-2.51 (t,1H), 1.77-1.82 (t,4H), 1.37-1.48 (m,2H), 1.17-1.28 (m,13H), 0.97-1.07 (m,2H), 0.86-0.88 (t,3H).

２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－３－２］（３０．０ｇ、９１ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（１４．３ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（２６．３ｇ、１３７ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．１２ｇ、９．１ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１５０ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（１．０Ｌ）に注ぎ、純水（８００ｍｌ）を用いて抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５体積比）にて単離することで、［ＭＡ－３］（白色固体）を３４．５ｇ得た（収率８６％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－３］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ7.61-7.66 (m,3H), 7.24-7.26 (d,2H), 6.57-6.61 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.69 (s,1H), 4.36-4.42 (m,4H), 2.43-2.52 (t,1H), 1.88 (s,3H), 1.76-1.82 (t,4H), 1.36-1.46 (m,2H), 1.15-1.29 (m,13H), 0.95-1.05 (m,2H), 0.84-0.87 (t,3H).

（合成例４）
［ＭＡ－４］の合成：

１Ｌ四つ口フラスコに、１－ｔｒａｎｓ[１，１’－ビシクロヘキシル]－４－イル－４－ブロモベンゼン（２００．０ｇ、６２３ｍｍｏｌ）、アクリル酸（６７．３ｇ、９３４ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２．８０ｇ、１２．４ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン（７．５８ｇ、２５ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（２６７．５ｇ、１８６７ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ（４００ｇ）を加えて、１００℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を濾過して不溶物を除去し、濾液を純水（２．０Ｌ）に注ぎ、１２Ｎ－ＨＣｌ水溶液で中和後、沈殿物を濾過した。得られた粗物をメタノール（２００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－４－１］（白色固体）を１５４．１ｇ得た（収率７９％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－４－１］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ12.36 (s,1H), 7.52-7.59 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.44-6.48 (d,1H), 2.44-2.50 (t,1H), 1.79-1.82 (m,4H), 1.61-1.70 (m,5H), 1.40-1.42 (d,2H), 1.14-1.20 (m,7H), 0.97-1.02 (m,2H).

２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ－４－１］（１００．０ｇ、３２０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（４５．８ｇ、３５２ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（９２．０ｇ、４８０ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（３．９１ｇ、３２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１０００ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（０．５Ｌ）に注ぎ、純水（４００ｍｌ）を用いて抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５体積比）にて単離することで、［ＭＡ－４］（白色固体）を１０９．８ｇ得た（収率８０％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－４］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ7.62-7.66 (m,3H), 7.25-7.27 (d,2H), 6.58-6.62 (d,1H), 6.04 (s,1H), 5.70 (s,1H), 4.38-4.41 (m,4H), 2.43-2.51 (t,1H), 1.88 (s,3H), 1.79-1.82 (m,4H), 1.60-1.69 (m,5H), 1.39-1.42 (d,2H), 1.13-1.20 (m,7H), 0.96-1.02 (m,2H).

（合成例５）
［ＭＡ－５］の合成：

５００ｍＬ四口フラスコに、４－ヒドロキシ安息香酸ｔｅｒｔ－ブチル（３７．１ｇ、１９１ｍｍｏｌ）、１，１，１－トリフルオロ－４－ヨードブタン（５０．０ｇ、２１０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３９．７ｇ、２８７ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（３００ｇ）を加えて、１００℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（１．５Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物をヘキサン（３００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－５－１］（白色固体）を４２．２ｇ得た（収率７３％）
５００ｍＬ四つ口フラスコに、［ＭＡ－５－１］（４２．２ｇ、１３９ｍｍｏｌ）、ギ酸（３００ｇ）を加えて、５０℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（１．５Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物をアセトニトリル（８０ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－５－２］（白色固体）を３１．９ｇ得た（収率９２％）。

５００ｍＬ四つ口フラスコに、［ＭＡ－５－２］（３１．９ｇ、１２９ｍｍｏｌ）、ｔｒａｎｓ－ｐ－クマル酸ｔｅｒｔ－ブチル（４２．５ｇ、１９３ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（３７．０ｇ、１９３ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（１．５９ｇ、１３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３００ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を純水（１．５Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物をメタノール（１８０ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－５－３］（白色固体）を４３．６ｇ得た（収率７５％）
５００ｍＬ四つ口フラスコに、［ＭＡ－５－３］（４３．６ｇ、９７ｍｍｏｌ）、ギ酸（３００ｇ）を加えて、５０℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（１．５Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物をアセトニトリル（５００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ－５－４］（白色固体）を３６．６ｇ得た（収率９６％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－５－４］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ12.46 (s,1H), 8.08-8.10 (d,2H), 7.78-7.81 (d,2H), 7.61-7.65 (d,1H), 7.31-7.34 (d,2H), 7.13-7.16 (d,2H), 6.53-6.57 (d,1H), 4.16-4.19 (t,2H), 2.40-2.47 (m,2H), 1.95-2.02 (m,2H).

５００ｍＬ四つ口フラスコに、［ＭＡ－５－４］（１５．０ｇ、３８ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（５．４７ｇ、４２ｍｍｏｌ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（１０．９ｇ、５７ｍｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（０．４６ｇ、３．８ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１５０ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（０．６Ｌ）に注ぎ、純水（５００ｍｌ）を用いて抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１体積比）にて単離することで、［ＭＡ－５］（白色固体）を１６．８ｇ得た（収率８７％）。目的物の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ－５］であることを確認した。
1H NMR (400 MHz, [D₆]-DMSO):δ8.07-8.11 (d,2H), 7.84-7.86 (d,2H), 7.70-7.74 (d,1H), 7.32-7.34 (d,2H), 7.13-7.16 (d,2H), 6.68-6.72 (d,1H), 6.05 (s,1H), 5.71 (s,1H), 4.37-4.44 (m,4H), 4.16-4.19 (t,2H), 2.42-2.49 (m,2H), 1.95-2.02 (m,2H), 1.88 (s,3H).

＜ポリマー分子量測定＞
合成例におけるポリマーの分子量はセンシュー科学社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＳＳＣ－７２００、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ－８０３、ＫＤ－８０５）を用い以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃
溶離液：ＤＭＦ（添加剤として、臭化リチウム－水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ_２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、リン酸・無水結晶（ｏ－リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＴＨＦが１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：東ソー社製ＴＳＫ標準ポリエチレンオキサイド（分子量約９０００，０００、１５０，０００、１００，０００、３０，０００）、及び、ポリマーラボラトリー社製ポリエチレングリコール（分子量約１２，０００、４，０００、１，０００）。

＜実施例１＞
ＭＡ２（６．１９ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（８．８０ｇ、３５．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（６１．６ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．４１ｇ、２．５ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（１０００ｍl）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４３６００、重量平均分子量は１３１２００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｂ１）を得た。

［液晶セルの作製］
実施例１で得られた液晶配向剤（Ｂ１）を、ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板のＩＴＯ面にスピンコートし、５０℃のホットプレートで１２０秒間乾燥した後、１２０℃のホットプレートで２０分間焼成を行い、膜厚１００ｎｍの液晶配向膜を形成した。次いで、塗膜面に偏光板を介して、照射強度４．３ｍＷ／ｃｍ^２の３１３ｎｍの直線偏光紫外線を基板法線方向から４０°傾斜した角度から５０ｍＪ／ｃｍ^２照射し、液晶配向膜付き基板を得た。入直線偏光ＵＶは高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルターを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調製した。
上記の基板を２枚用意し、一方の基板の液晶配向膜上に４μｍのビーズスペーサーを散布した後、シール剤（協立化学製、ＸＮ－１５００Ｔ）を塗布した。次いで、もう一方の基板を、液晶配向膜面が向き合い配向方向が１８０°になるようにして張り合わせた後、１２０℃で９０分シール剤を熱硬化させることで空セルを作製した。この空セルにネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－３０２２）を減圧注入法によって注入し、液晶セルを作製した。

［プレチルト角の評価］
液晶セルのプレチルト角の測定はＡｘｏＭｅｔｒｉｘ社製の「ＡｘｏＳｃａｎ」を用いてミューラーマトリックス法により測定した。結果を表１にまとめる。
［液晶セル配向性の評価］
液晶セル作製後、１２０℃で１時間等方相処理を行った後に偏光顕微鏡にてセル観察を行い、光抜けやドメイン発生などの配向不良が無い場合や液晶セルに電圧印可した際に均一な液晶の駆動が得られる場合を配向性良好とした。結果を表１にまとめる。

＜実施例２～４＞
実施例１の偏光紫外線照射量を２０、１００、４００ｍＪ／ｃｍ^２に変更した以外、実施例１の［液晶セルの作製］と同様な方法により、液晶セルを得た。また、実施例１と同様な方法でプレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例５、６＞
実施例１の液晶配向膜の焼成温度を１００℃（実施例５）と１４０℃（実施例６）に変更した以外、実施例１の［液晶セルの作製］と同様な方法により、液晶セルを得た。また、実施例１と同様な方法でプレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例７＞
導入するＣＲ－１の添加量を０．３ｇに変更した以外、実施例１と同様に液晶配向剤を作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例８、９＞
導入する特定化合物をＣＲ－１からＣＲ－２に変更し、添加量を０．１５ｇと０．３ｇとした以外、実施例１と同様に液晶配向剤を作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１０＞
導入する特定化合物をＣＲ－１からＣＲ－３に変更した以外、実施例１と同様に液晶配向剤を作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１１＞
ＭＡ２（４．１３ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（２．５１ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（２７．２ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．１７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（４００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｃ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４１３００、重量平均分子量は１２１１００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｃ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｃ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１２＞
ＭＡ３（４．４１ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（２．５１ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（２８．３ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．１７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（４００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｄ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４２１００、重量平均分子量は１２８５００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｄ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｄ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１３＞
ＭＡ２（２．４８ｇ、６．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ（２．１７ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（１９．３ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．１７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をジエチルエーテルとヘキサン＝４／６の混合溶媒（３００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をジエチルエーテルとヘキサン＝４／６の混合溶媒で洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｅ）を得た。このポリマーの数平均分子量は２５０００、重量平均分子量は１０２０００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｅ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥＡ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｅ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１４、１５＞
実施例１３の液晶配向膜の焼成条件を１００℃で２０分（実施例１４）と１４０℃で５分（実施例１５）に変更した以外、実施例１３と同様な方法でプレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１６＞
ＭＡ２（２．４８ｇ、６．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＤＥＭ（４．４１ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（２８．２ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．１７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１２時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝１．５／８．５の混合溶媒（４００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールと純水＝１．５／８．５の混合溶媒で洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｆ）を得た。このポリマーの数平均分子量は３６４００、重量平均分子量は１１７２００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｆ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｆ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１７＞
ＭＡ２（２．４８ｇ、６．０ｍｍｏｌ）、ＭＯＩ－ＢＰ（２．５１ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）とＣＨＭＩ（０．７２ｇ、４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（３３．３ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．１７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１５時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（５００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｇ）を得た。このポリマーの数平均分子量は２６５００、重量平均分子量は８７１００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｇ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｇ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１８＞
ＨＥＭＡ（１９．５ｇ、１５０．０ｍｍｏｌ）をＰＧＭＥ（８３．２ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（１．２５ｇ、７．５ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後８０℃で１２時間反応させメタクリレートのポリマー溶液（Ｈ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４８００、重量平均分子量は５７００であった。
次に、実施例１で得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌した。この溶液に上記で得られたポリマー溶液（Ｈ）（７．５ｇ）（ポリマー溶液（Ｈ）７．５ｇ中、ＨＥＭＡ由来のポリマーの質量：１．５ｇ）とＰＧＭＥ（３．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｈ１）を得た。なお、ＨＥＭＡ由来のポリマーは、ヒドロキシル基を２つ以上有するため、本実施例において、該ポリマーを本発明の（Ｂ）成分：特定化合物として用いた。
次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例１９＞
実施例１で得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）（１．０ｇ）にＣＨＮ（１４．９ｇ）を加え、室温で５時間攪拌した。この溶液に実施例１８で得られたポリマー溶液（Ｈ）（１１．７ｇ）（ポリマー溶液（Ｈ）７．５ｇ中、ＨＥＭＡ由来のポリマーの質量：２．３ｇ）とＰＧＭＥ（５．５ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｈ２）を得た。なお、ＨＥＭＡ由来のポリマーは、ヒドロキシル基を２つ以上有するため、本実施例において、該ポリマーを本発明の（Ｂ）成分：特定化合物として用いた。
次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例２０＞
ＭＡ２（３．３０ｇ、８．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（７．０４ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）、ＭＡ６（１．７７ｇ、４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（４９．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．３３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（７００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｊ）を得た。このポリマーの数平均分子量は５７０００、重量平均分子量は１１５０００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｊ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｊ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例２１＞
ＭＡ２（４．１３ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（７．０４ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）、ＭＡ７（０．６８ｇ、２．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（４８．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．３３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（７００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｋ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４００００、重量平均分子量は１３８０００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｋ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｋ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例２２＞
ＭＡ２（４．９５ｇ、１２．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（６．０３ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）、ＭＡ８（０．６７ｇ、４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（４７．９ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．３３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（７００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｌ）を得た。このポリマーの数平均分子量は３７０００、重量平均分子量は１２３０００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｌ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｌ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜実施例２３＞
ＭＡ２（４．９５ｇ、１２．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（６．０３ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）、ＭＡ９（０．８７ｇ、４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（４８．７ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．３３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（７００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｍ）を得た。このポリマーの数平均分子量は３８０００、重量平均分子量は１２８０００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｍ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＣＲ－１（０．１５ｇ）及びＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ｍ１）を得た。次いで、実施例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

＜比較例１＞
ＭＡ２（６．１９ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）とＭＯＩ－ＢＰ（８．８０ｇ、３５．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（６１．６ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．４１ｇ、２．５ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（１０００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４３６００、重量平均分子量は１３１２００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）とＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させることにより液晶配向剤（Ｂ２）を得た。

［液晶セルの作製］
実施例１の［液晶セルの作製］において、実施例１で得られた液晶配向剤（Ｂ１）の代わりに比較例１で得られた液晶配向剤（Ｂ２）を用いた以外、実施例１の［液晶セルの作製］と同様に液晶セルを作製した。
［プレチルト角の評価］及び［液晶セル配向性の評価］
実施例１と同様に、プレチルト角を測定した。また、実施例１と同様に、液晶セル配向性を評価した。結果を表１にまとめる。

＜比較例２＞
ＭＡ５（５．０６ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２０．６ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．０８ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後５５℃で１３時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒（３００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールと純水＝５／５の混合溶媒で洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｉ）を得た。このポリマーの数平均分子量は３９４００、重量平均分子量は１１９８００であった。
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｉ）（１．５ｇ）にＣＨＮ（１８．０ｇ）とＰＧＭＥ（１８．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させることにより液晶配向剤（Ｉ１）を得た。次いで、比較例１と同様の方法で液晶セルを作成し、プレチルト角と液晶セル配向性を評価した。

実施例からわかるように本発明の特定重合体と特定化合物を併用することで、１４０℃以下の低温での焼成でも良好なプレチルト角を得ることができた。
一方、比較例にあるように、特定重合体のみでは良好なプレチルト角および液晶配向性を得ることができなかった。これらは、光反応によって側鎖に付与された異方性が、シール剤の硬化や等方相処理時の加熱によって消失してしまったためと考えられる。

Claims

下記式ＭＡ－１～ＭＡ－４からなる群から選ばれるいずれか１種で表される化合物。