JP7053137B2 - 積層成形体 - Google Patents
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Description
本発明は、ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層とを含む、積層成形体に関する。
ポリフェニレンエーテル樹脂は、機械的物性、電気的特性、耐酸・耐アルカリ性、耐熱性に優れると共に、低比重で、吸水性が低く、且つ寸法安定性が良好である等の多様な特性を有しているため、家電製品、ＯＡ機器、事務機、情報機器や自動車などの材料として、幅広く利用されている。近年、自動車用光学系部品用途や、プロジェクター、各種照明器具等に用いられる用途においてもポリフェニレンエーテル系樹脂組成物の検討が行われている。
自動車用光学系部品用途や、プロジェクター、各種照明器具等用途では、樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層とを含む積層成形体が用いられている。当該積層成形体では、金属蒸着などの加工処理が必要とされるため、樹脂組成物からなる成形品の材料として、高耐熱ポリカーボネートや、金属蒸着時のプライマー（アンダーコート）が必要であるもののコスト的に優位なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のガラス強化材などの、耐熱性に優れた樹脂が使用されている。
前記積層成形体においても、前記成形品の材料として、上述する優れた特性を有するポリフェニレンエーテル系樹脂組成物の使用が検討されている。例えば、耐熱性、耐加水分解性に優れるポリフェニレンエーテル系樹脂組成物を用いた技術が開示されている（特許文献１参照）。
また、ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層とを含む積層成形体の表面光沢を高める技術として、鏡面に仕上げた金型を用いて得られた成形品に直接アルミ蒸着を行う技術（特許文献２参照）や、金型温度を、加熱変形温度より、約４０℃低い温度から加熱変形温度までの範囲で設定して成形品を成形する技術が開示されている（特許文献３参照）。
また、積層成形体の金属表面外観を高めるため、成形品の金型離型性に着目したポリフェニレンスルフィド系樹脂組成物が開示されている（特許文献４参照）。
また、積層成形体の金属表面外観を高めるため、金属蒸着させる成形品を構成する樹脂組成物にオレフィン樹脂を用いることが開示されているが（特許文献５参照）、金属蒸着層と樹脂組成物との密着性については何ら開示されていない。
また、積層成形体の金属表面外観を高めるため、成形品の金型離型性に着目したポリフェニレンスルフィド系樹脂組成物が開示されている（特許文献４参照）。
また、積層成形体の金属表面外観を高めるため、金属蒸着させる成形品を構成する樹脂組成物にオレフィン樹脂を用いることが開示されているが（特許文献５参照）、金属蒸着層と樹脂組成物との密着性については何ら開示されていない。
上述するような金属薄膜層を有する積層成形体の製造では、通常、樹脂組成物からなる成形品の表面に、金属薄膜層を形成する加工処理、例えば、アルミ蒸着処理などが行われる。積層成形体の品質上、当該金属薄膜層と該樹脂組成物からなる成形品との密着性が重要であり、更には、長時間高温高湿条件下に晒された場合でも、金属蒸着鏡面の樹脂組成物との密着性が要求される。
しかしながら、特許文献１～５で開示される積層成形体では、樹脂組成物からなる成形品（特に、ポリフェニレンエーテル樹脂を用いるもの）の表面にアルミ等の金属を蒸着して金属薄膜層を形成した場合、当該金属薄膜層と当該成形品との密着性や金属薄膜層の表面反射率は、一層の改良が望まれている。
そこで、本発明は、高い表面反射率を有し、かつポリフェニレンエーテル系樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層との密着性に優れる、積層成形体を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討したところ、特定の化合物を特定量で含有するポリフェニレンエーテル系樹脂組成物からなる成形品と、金属薄膜層とを含むことにより、高い表面反射率を有し、かつ該成形品と金属薄膜層との密着性に優れる積層成形体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の通りである。
［１］
樹脂組成物からなる成形品と、金属薄膜層とを含む、積層成形体であり、
該樹脂組成物が、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含み、
該ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）と、分子内に下記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、該有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｉｉ）とを、該成分（ｉ）、該化合物（ｉｉ）の合計１００質量％に対して、該成分（ｉ）９５～９９．９５質量％、該化合物（ｉｉ）０．０５～５質量％含有する原料を押出機で溶融混練して押出したものであることを特徴とする、積層成形体。
［２］
前記樹脂組成物が、前記ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）１００質量％に対し、前記脂肪酸金属塩（Ｂ）０．１～３質量％を含む、［１］に記載の積層成形体。
［３］
前記樹脂組成物が、該樹脂組成物１００質量％に対し、前記ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）５９～９８質量％と、スチレン系樹脂（Ｃ）０～３０質量％と、エラストマー成分（Ｄ）１～３５質量％とを含む、［１］又は［２］に記載の積層成形体。
［４］
前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）が、下記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含む、［１］～［３］のいずれかに記載の積層成形体。
（化学式（１）及び（２）のＸ１は、
から選ばれる１つの基であり、Ｘ１中のＲ１及びＲ２は、各々独立して炭素数１以上の置換基である。）
（化学式（３）中のＸ２は、
からなる群から選ばれる１つの基であり、Ｘ２中のＲ３、Ｒ４は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基からなる群から選ばれる基であり、Ｒ３及びＲ４は、それらに含まれる炭素原子が互いに結合して環状構造を形成してもよい。但し、式（３）は、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さない。）
［５］
前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個当たり、前記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選択される１つ以上の構造のユニットを０．０１～１０．０個含有する、［４］に記載の積層成形体。
［６］
前記化学式（２）に示す構造のユニットに対する前記化学式（１）に示す構造のユニットの割合が、０～３０モル％である、［４］又は［５］に記載の積層成形体。
［７］
前記化学式（１）及び／又は（２）に示す構造のユニットと、前記化学式（３）に示す構造のユニットとを含む、［４］～［６］のいずれかに記載の積層成形体。
［８］
前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）が、下記化学式（４）、（５）及び（６）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含む、［１］～［７］のいずれかに記載の積層成形体。
（化学式（４）及び（５）のＲ１及びＲ２は、各々独立して炭素数１以上の置換基であり、化学式（６）のＲ３及びＲ４は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基からなる群から選ばれる基であり、Ｒ３及びＲ４は、それらに含まれる炭素原子が互いに結合して環状構造を形成してもよい。但し、式（６）は、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さない。）
［９］
前記脂肪酸金属塩（Ｂ）が、炭素数２２～２８の脂肪酸金属塩である、［１］～［８］のいずれかに記載の積層成形体。
［１０］
前記金属薄膜層の厚みが１２ｎｍ以下である、［１］～［９］のいずれかに記載の積層成形体。
［１１］
前記金属薄膜層が、アルミニウムからなる蒸着膜である、［１］～［１０］のいずれかに記載の積層成形体。
［１］
樹脂組成物からなる成形品と、金属薄膜層とを含む、積層成形体であり、
該樹脂組成物が、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含み、
該ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）と、分子内に下記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、該有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｉｉ）とを、該成分（ｉ）、該化合物（ｉｉ）の合計１００質量％に対して、該成分（ｉ）９５～９９．９５質量％、該化合物（ｉｉ）０．０５～５質量％含有する原料を押出機で溶融混練して押出したものであることを特徴とする、積層成形体。
前記樹脂組成物が、前記ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）１００質量％に対し、前記脂肪酸金属塩（Ｂ）０．１～３質量％を含む、［１］に記載の積層成形体。
［３］
前記樹脂組成物が、該樹脂組成物１００質量％に対し、前記ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）５９～９８質量％と、スチレン系樹脂（Ｃ）０～３０質量％と、エラストマー成分（Ｄ）１～３５質量％とを含む、［１］又は［２］に記載の積層成形体。
［４］
前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）が、下記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含む、［１］～［３］のいずれかに記載の積層成形体。
［５］
前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個当たり、前記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選択される１つ以上の構造のユニットを０．０１～１０．０個含有する、［４］に記載の積層成形体。
［６］
前記化学式（２）に示す構造のユニットに対する前記化学式（１）に示す構造のユニットの割合が、０～３０モル％である、［４］又は［５］に記載の積層成形体。
［７］
前記化学式（１）及び／又は（２）に示す構造のユニットと、前記化学式（３）に示す構造のユニットとを含む、［４］～［６］のいずれかに記載の積層成形体。
［８］
前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）が、下記化学式（４）、（５）及び（６）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含む、［１］～［７］のいずれかに記載の積層成形体。
［９］
前記脂肪酸金属塩（Ｂ）が、炭素数２２～２８の脂肪酸金属塩である、［１］～［８］のいずれかに記載の積層成形体。
［１０］
前記金属薄膜層の厚みが１２ｎｍ以下である、［１］～［９］のいずれかに記載の積層成形体。
［１１］
前記金属薄膜層が、アルミニウムからなる蒸着膜である、［１］～［１０］のいずれかに記載の積層成形体。
本発明によると、高い表面反射率を有し、かつ樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層との密着性に優れる、積層成形体を得ることができる。
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
［積層成形体］
本発明の実施形態の積層成形体は、樹脂組成物からなる成形品と、金属薄膜層とを含む。前記樹脂組成物からなる成形品は、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含む。この構成とすることにより、高い表面反射率を有し、かつ成形品と金属薄膜層との密着性及び表面外観に優れた積層成形体とすることができ、更には、高温高湿条件曝露後でも高い表面反射率、優れた密着性及び優れた表面外観を維持し得る積層成形体とすることができる。
本発明の実施形態の積層成形体は、樹脂組成物からなる成形品と、金属薄膜層とを含む。前記樹脂組成物からなる成形品は、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含む。この構成とすることにより、高い表面反射率を有し、かつ成形品と金属薄膜層との密着性及び表面外観に優れた積層成形体とすることができ、更には、高温高湿条件曝露後でも高い表面反射率、優れた密着性及び優れた表面外観を維持し得る積層成形体とすることができる。
積層成形体の厚みは、用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、前記成形品において、厚肉成形品の場合、成形品内部の固化速度が遅く成形品のヒケ及び成形品内部のボイドが発生する場合があり、その結果、成形品表面の平滑性が劣り、積層成形体の外観が劣る場合がある。よって、積層成形体は、薄肉成形品が好ましく、更に、軽量化が求められている自動車用光学系部品、プロジェクター、各種照明器具等の用途では、積層成形体の厚みを、例えば、３ｍｍ以下とすることもできる。
［［成形品］］
本実施形態の積層成形体に含まれる成形品は、所望の形体に成形された樹脂組成物からなる。
以下、成形品を構成する樹脂組成物について説明する。
本実施形態の積層成形体に含まれる成形品は、所望の形体に成形された樹脂組成物からなる。
以下、成形品を構成する樹脂組成物について説明する。
［［［樹脂組成物］］］
前記成形品を構成する樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含む。前記樹脂組成物は、任意選択的に、スチレン系樹脂（Ｃ）、エラストマー成分（Ｄ）、酸化防止剤（Ｅ）、その他の材料（Ｆ）を含んでもよい。
樹脂組成物は、前記成分（Ａ）～（Ｆ）の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物１００質量％に対して、前記成分（Ａ）が５９～９８質量％、前記成分（Ｃ）が０～３０質量％、前記成分（Ｄ）が１～３５質量％であることが好ましい。より好ましくは、樹脂組成物１００質量％に対して、前記成分（Ａ）が５９～９８質量％、前記成分（Ｃ）が０～３０質量％、前記成分（Ｄ）が１～３２質量％であり、更に好ましくは、樹脂組成物１００質量％に対して、前記成分（Ａ）が６２～９８質量％、前記成分（Ｃ）が０～３０質量％であり、前記成分（Ｄ）が１～３２質量％である。上記の範囲であれば、高温高湿条件への曝露後の高い表面反射率及び優れた密着性の維持の観点から、自動車用途部品としての、金属薄膜層を有した積層成形体として好適に用いられる。
前記成形品を構成する樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含む。前記樹脂組成物は、任意選択的に、スチレン系樹脂（Ｃ）、エラストマー成分（Ｄ）、酸化防止剤（Ｅ）、その他の材料（Ｆ）を含んでもよい。
樹脂組成物は、前記成分（Ａ）～（Ｆ）の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物１００質量％に対して、前記成分（Ａ）が５９～９８質量％、前記成分（Ｃ）が０～３０質量％、前記成分（Ｄ）が１～３５質量％であることが好ましい。より好ましくは、樹脂組成物１００質量％に対して、前記成分（Ａ）が５９～９８質量％、前記成分（Ｃ）が０～３０質量％、前記成分（Ｄ）が１～３２質量％であり、更に好ましくは、樹脂組成物１００質量％に対して、前記成分（Ａ）が６２～９８質量％、前記成分（Ｃ）が０～３０質量％であり、前記成分（Ｄ）が１～３２質量％である。上記の範囲であれば、高温高湿条件への曝露後の高い表面反射率及び優れた密着性の維持の観点から、自動車用途部品としての、金属薄膜層を有した積層成形体として好適に用いられる。
＜ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）＞
ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）と、分子内に下記式（Ｉ）又は式(ＩＩ)（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、前記有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｉｉ）とを、前記（ｉ）成分、前記（ｉｉ）成分の合計１００質量％に対して、前記（ｉ）成分９５～９９．９５質量％、前記（ｉｉ）成分０．０５～５質量％含有する。
ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）と、分子内に下記式（Ｉ）又は式(ＩＩ)（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、前記有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｉｉ）とを、前記（ｉ）成分、前記（ｉｉ）成分の合計１００質量％に対して、前記（ｉ）成分９５～９９．９５質量％、前記（ｉｉ）成分０．０５～５質量％含有する。
ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物１００質量％中において、５９～９８質量％であることが好ましく、６２～９８質量％であることがより好ましい。ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）の含有量は、高温高湿条件曝露後の高い表面反射率及び優れた密着性の維持の観点から５９質量％以上であることが好ましく、成形流動性改良の観点から９８質量％以下であることが好ましい。
＜＜ポリフェニレンエーテル（ｉ）＞＞
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、下記式（ＩＩＩ）及び／又は（ＩＶ）を繰り返し単位とし、構成単位が一般式（ＩＩＩ）及び／又は（ＩＶ）からなる単独重合体（ホモポリマー）、共重合体（コポリマー）、これらの変性物であることが好ましい。
但し、化学式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、各々独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数６～９のアリール基、又はハロゲン原子を表す。但し、Ｒ５、Ｒ６は同時に水素原子ではない。
なお、上記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）における繰り返し単位数については、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の分子量分布により様々であるため、特に制限されることはない。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、下記式（ＩＩＩ）及び／又は（ＩＶ）を繰り返し単位とし、構成単位が一般式（ＩＩＩ）及び／又は（ＩＶ）からなる単独重合体（ホモポリマー）、共重合体（コポリマー）、これらの変性物であることが好ましい。
なお、上記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）における繰り返し単位数については、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の分子量分布により様々であるため、特に制限されることはない。
ポリフェニレンエーテルの単独重合体としては、以下に制限されないが、例えば、ポリ（２，６－ジメチル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２－メチル－６－エチル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２，６－ジエチル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２－エチル－６－ｎ－プロピル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２，６－ジ－ｎ－プロピル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２－メチル－６－ｎ－ブチル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２－エチル－６－イソプロピル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２－メチル－６－クロロエチル－１，４－フェニレン）エーテル、ポリ（２－メチル－６－ヒドロキシエチル－１，４－フェニレン）エーテル及びポリ（２－メチル－６－クロロエチル－１，４－フェニレン）エーテル等が挙げられ、中でも原料入手の容易性や加工性の観点からポリ（２，６－ジメチル－１，４－フェニレン）エーテルが好ましい。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）の共重合体としては、以下に制限されないが、例えば、２，６－ジメチルフェノールと２，３，６－トリメチルフェノールとの共重合体、２，６－ジメチルフェノールとｏ－クレゾールとの共重合体、及び２，３，６－トリメチルフェノールとｏ－クレゾールとの共重合体といった、ポリフェニレンエーテル構造を主体とするものが挙げられる。中でも、原料入手の容易性と加工性の観点から２，６－ジメチルフェノールと２，３，６－トリメチルフェノールとの共重合体が好ましく、物性改良の観点から２，６－ジメチルフェノール９０～７０質量％と２，３，６－トリメチルフェノール１０～３０質量％との共重合体がより好ましい。
上記ポリフェニレンエーテル鎖中には、上記化学式（ＩＩＩ）においてＲ５、Ｒ６がそれぞれメチル基である構造（及び、後述のように、当該構造から導かれる構造）が少なくとも一部含まれていることが好ましい。
上記ポリフェニレンエーテル（ｉ）では、末端ＯＨ基濃度が、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたり、０．４～１０．０個であることが好ましく、０．５～１．８個であることが更に好ましい。
なお、ＰＰＥの末端ＯＨ基濃度は、ＮＭＲ測定により算出することができ、例えば、ＰＰＥを１３Ｃ－ＮＭＲのプロトン逆ゲートデカップリング法（定量測定）で測定し、側鎖中１位の炭素（１４５．４ｐｐｍ、１５１．４ｐｐｍ）に対する、末端ＯＨ基の結合した１位の炭素（１４６．１ｐｐｍ）のスペクトル割合を計算することで、末端ＯＨ基濃度（ＰＰＥを構成するモノマーユニット１００個あたりの末端ＯＨ基数）（個）を算出することができる。
なお、ＰＰＥの末端ＯＨ基濃度は、ＮＭＲ測定により算出することができ、例えば、ＰＰＥを１３Ｃ－ＮＭＲのプロトン逆ゲートデカップリング法（定量測定）で測定し、側鎖中１位の炭素（１４５．４ｐｐｍ、１５１．４ｐｐｍ）に対する、末端ＯＨ基の結合した１位の炭素（１４６．１ｐｐｍ）のスペクトル割合を計算することで、末端ＯＨ基濃度（ＰＰＥを構成するモノマーユニット１００個あたりの末端ＯＨ基数）（個）を算出することができる。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは８０００以上、より好ましくは１４０００以上であり、好ましくは２００００以下、より好ましくは１９０００以下である。この分子量範囲にあることで、耐熱性、流動性、耐薬品性などのバランスに優れる。
本実施の形態に用いるポリフェニレンエーテル（ｉ）の還元粘度は、０．２５～０．５５ｄＬ／ｇの範囲が好ましい。より好ましくは０．３０～０．５０ｄＬ／ｇの範囲である。ポリフェニレンエーテルの還元粘度は、高温高湿条件への暴露後の高い表面反射率及び優れた密着性を維持できる観点から０．２５ｄＬ／ｇ以上０．５５ｄＬ／ｇ以下が好ましい。
なお、本実施の形態において、還元粘度は、クロロホルム溶媒を用いて３０℃で０．５ｇ／ｄＬ溶液としてウベローデ型粘度管を用いて測定して得られた値である。
なお、本実施の形態において、還元粘度は、クロロホルム溶媒を用いて３０℃で０．５ｇ／ｄＬ溶液としてウベローデ型粘度管を用いて測定して得られた値である。
上記ポリフェニレンエーテル（ｉ）は一般に粉体として入手でき、その好ましい粒子サイズは平均粒子径１～１０００μｍであり、より好ましくは１０～７００μｍであり、特に好ましくは１００～５００μｍである。加工時の取り扱い性の観点から１μｍ以上が好ましく、溶融混練時の未溶融物の発生を抑制するためには１０００μｍ以下が好ましい。
本実施の形態に用いるポリフェニレンエーテル（ｉ）の、押出等による加熱加工前（重合粉体性状の）重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ値）は、好ましくは１．２～３．０であり、より好ましくは１．５～２．５、さらにより好ましくは１．８～２．３である。該Ｍｗ／Ｍｎ値は、樹脂組成物の成形加工性の観点から１．２以上が好ましく、樹脂組成物の機械的物性、特に引張強度保持の観点から３．０以下が好ましい。ここで、重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎとは、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）測定による、ポリスチレン換算分子量から得られるものである。
本実施の形態に用いるポリフェニレンエーテル（ｉ）の含有量は、前記（ｉ）、（ｉｉ）成分の合計１００質量％中において、９５～９９．９５質量％の範囲内であり、好ましくは９５～９９．９質量％、より好ましくは９６～９９．９質量％の範囲内である。ポリフェニレンエーテル（ｉ）の含有量は、十分な成形品外観保持の観点から９５質量％以上であり、本願用途で求められる特性の保持および金属薄膜層を設けた積層成形体表面の十分な改良の観点から、９９．９５質量％以下であることが望ましい。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、一種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、下記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むことが好ましい。
（化学式（１）及び（２）のＸ１は、
から選ばれる１つの基であり、Ｘ１中のＲ１、Ｒ２は、各々独立して炭素数１以上の置換基であり、
化学式（３）中のＸ２は、
から選ばれる１つの基であり、Ｘ２中のＲ３、Ｒ４は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、及びアリールアミノ基からなる群から選ばれる基であり、Ｒ３及びＲ４は、それらに含まれる炭素原子が互いに結合して環状構造を形成してもよい）。但し、式（３）は、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さない。より詳細には、芳香環の二重結合以外に炭素－炭素二重結合を実質的に有さない。
上記式（１）及び上記式（２）の上記Ｘ１は、
から選ばれる１つの基であることがより好ましい。
上記式（１）及び上記式（２）の上記Ｘ１は、
上記ポリフェニレンエーテル（ｉ）としては、上記式（１）及び／又は（２）で表される構造のユニットと、上記式（３）で表される構造のユニットとを含むポリフェニレンエーテルがさらに好ましい。
上記式（１）及び（２）のＸ１中のＲ１、Ｒ２の構造としては、反応性官能基を有さない置換基が好ましい。反応性置換基を有する場合、樹脂組成物が長時間高温にさらされたときに、これらの反応性置換基が架橋反応を起こし、成形品のアルミ蒸着鏡面の外観低下の原因となり得るからである。ここで反応性置換基とはヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、ビニル基、カルボニル基等である。また、Ｘ１中のＲ１、Ｒ２の構造としては、Ｒ１とＲ２が連結した構造や、構造中に窒素原子、酸素原子を含んでもよい。
上記式（１）及び（２）のＸ１中のＲ１、Ｒ２としては、例えば、炭素数１～３０の鎖状又は環状アルキル基、アリール基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、i－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。
上記式（３）のＸ２中の、Ｒ３、Ｒ４の構造としては、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を有さないアルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、二つの置換基が連結した構造や、構造中に窒素原子、酸素原子を含んでも良い。
上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアルキル基としては、例えば、炭素数１～３０のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、i－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。
また、上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアリール基としては、例えば、炭素数６～３０のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ナフチル基、トリチル基等が挙げられる。
また、上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアルキルアミノ基におけるアルキル基としては、例えば、炭素数１～３０のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、i－プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。また、上記アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、オクチルアミノ基、ジオクチルアミノ基等が挙げられる。
また、上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアリールアミノ基におけるアリール基としては、例えば、上述と同様の基が挙げられ、具体的には、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、トリルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジメチルフェニルアミノ基、トリメチルフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、トリチルアミノ基等が挙げられる。
上記式（１）及び（２）のＸ１中のＲ１、Ｒ２としては、例えば、炭素数１～３０の鎖状又は環状アルキル基、アリール基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、i－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。
上記式（３）のＸ２中の、Ｒ３、Ｒ４の構造としては、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を有さないアルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、二つの置換基が連結した構造や、構造中に窒素原子、酸素原子を含んでも良い。
上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアルキル基としては、例えば、炭素数１～３０のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、i－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。
また、上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアリール基としては、例えば、炭素数６～３０のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ナフチル基、トリチル基等が挙げられる。
また、上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアルキルアミノ基におけるアルキル基としては、例えば、炭素数１～３０のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、i－プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。また、上記アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、オクチルアミノ基、ジオクチルアミノ基等が挙げられる。
また、上記式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４におけるアリールアミノ基におけるアリール基としては、例えば、上述と同様の基が挙げられ、具体的には、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、トリルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジメチルフェニルアミノ基、トリメチルフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、トリチルアミノ基等が挙げられる。
式（３）で表される構造のユニットを有するポリフェニレンエーテル（ｉ）は、式（３）で表される末端構造ユニットに、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さないこと（すなわち、芳香環の二重結合以外に炭素－炭素二重結合を実質的に有さないこと）が好ましい。中でも、ポリフェニレンエーテル鎖中に、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さないことが好ましい。不飽和二重結合は、熱による反応性の高い構造であり、高温状態に長時間さらすと、該不飽和二重結合が分子間、又は分子内架橋反応を起こし、耐熱エージング特性が低下してしまうことがある。
芳香環以外の不飽和結合の数は、後述の実施例に記載の条件で測定した１Ｈ－ＮＭＲ法で、３．５～５．５ｐｐｍにあらわれる、前駆体ポリフェニレンエーテルとは異なるダブレットピークから測定することができる。なお、ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個あたり、芳香環以外の不飽和二重結合を０．０１個以上有する場合、後述の実施例に記載の条件で測定した１Ｈ－ＮＭＲにより検出できる。
ここで、「式（３）で表される末端構造ユニットに、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さない」とは、後述の実施例に記載の測定条件の１Ｈ－ＮＭＲの３．５～５．５ｐｐｍに、前駆体ポリフェニレンエーテルとは異なるダブレットピークが検出されないことをいう。
芳香環以外の不飽和結合の数は、後述の実施例に記載の条件で測定した１Ｈ－ＮＭＲ法で、３．５～５．５ｐｐｍにあらわれる、前駆体ポリフェニレンエーテルとは異なるダブレットピークから測定することができる。なお、ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個あたり、芳香環以外の不飽和二重結合を０．０１個以上有する場合、後述の実施例に記載の条件で測定した１Ｈ－ＮＭＲにより検出できる。
ここで、「式（３）で表される末端構造ユニットに、芳香環の不飽和二重結合以外に不飽和二重結合を実質的に有さない」とは、後述の実施例に記載の測定条件の１Ｈ－ＮＭＲの３．５～５．５ｐｐｍに、前駆体ポリフェニレンエーテルとは異なるダブレットピークが検出されないことをいう。
ここで、ポリフェニレンエーテル（ｉ）鎖中において、ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個当たり、前記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選択される構造のユニットを０．０１～１０．０個含有することが好ましい。
また、ポリフェニレンエーテル（ｉ）鎖中において、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたり、化学式（１）及び／又は（２）に示す構造のユニットを０．０５～１０個の範囲で含有することが好ましく、より好ましくは０．１～３個の範囲であり、さらに好ましくは０．１～１．０個の範囲である。化学式（１）及び／又は（２）に示す構造のユニットを、１００ユニットあたり０．０５個以上１０個以下にすることにより、高温高湿条件への長期曝露後の積層成形体においても高い表面反射率を維持することができる。
高温高湿条件への長期暴露後の積層成形体において高い表面反射率を維持する観点から、式（２）に示す構造のユニットに対する式（１）に示す構造のユニットの割合｛（式（１）に示す構造のユニットのモル／式（２）に示す構造のユニットのモル）×１００｝が、０～３０モル％であることが好ましく、０～２８モル％であることがより好ましい。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたり、上記化学式（３）で表される構造ユニットを、０．０１～１０個の範囲で含有することが好ましく、０．０１～５個の範囲で含有することがより好ましい。化学式（３）で表される構造ユニットを０．０１個以上１０個以下にすることにより、高温高湿条件下の長期暴露後の積層成形体においても良好な表面反射率を維持することができ、特に５個以下とすることがより好ましい。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個あたりの、式（３）で表される構造のユニット数は、更に好ましくは０．０１～３．０個の範囲であり、特に好ましくは０．０１～１．０個の範囲である。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個あたりの、式（３）で表される構造のユニット数は、更に好ましくは０．０１～３．０個の範囲であり、特に好ましくは０．０１～１．０個の範囲である。
ここで、上記化学式（１）、（２）及び（３）から選択される１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）の作用・効果について説明する。
従来のポリフェニレンエーテルでは、長時間高温にさらされた場合に、末端ユニットにあるメチル基（以下、「末端メチル基」とも称する。）、中間ユニットにあるメチル基（以下、「側鎖メチル基」とも称する。）、末端ユニットにある水酸基（本明細書において、「末端水酸基」とも称する。）が酸化架橋反応を起こすことがあった。本発明者らは、末端メチル基や側鎖メチル基等の酸化架橋反応に着目し、この酸化架橋反応を抑えることで金属薄膜層を形成する成形品表面に凹みを一層抑制したり、凹みが進行して金属薄膜層の鏡面外観が悪くなることを一層抑えたりできる可能性について検討した。末端メチル基、側鎖メチル基、末端水酸基では、比較的ラジカルが発生しやすい傾向があり、発生したラジカルが酸化架橋を起こす要因となり得ることが分かった。上記化学式（１）、（２）及び（３）から選択される１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）では、被酸化部位（末端メチル基、側鎖メチル基、末端水酸基）を、所定の分子で置換された状態にして封止することで、当該被酸化部位（末端メチル基、側鎖メチル基、末端水酸基）の架橋反応を抑制することができ、それ故に、前記樹脂組成物からなる成形品の凹みが抑制されて金属薄膜層との密着性が向上すると推察される。
従来のポリフェニレンエーテルでは、長時間高温にさらされた場合に、末端ユニットにあるメチル基（以下、「末端メチル基」とも称する。）、中間ユニットにあるメチル基（以下、「側鎖メチル基」とも称する。）、末端ユニットにある水酸基（本明細書において、「末端水酸基」とも称する。）が酸化架橋反応を起こすことがあった。本発明者らは、末端メチル基や側鎖メチル基等の酸化架橋反応に着目し、この酸化架橋反応を抑えることで金属薄膜層を形成する成形品表面に凹みを一層抑制したり、凹みが進行して金属薄膜層の鏡面外観が悪くなることを一層抑えたりできる可能性について検討した。末端メチル基、側鎖メチル基、末端水酸基では、比較的ラジカルが発生しやすい傾向があり、発生したラジカルが酸化架橋を起こす要因となり得ることが分かった。上記化学式（１）、（２）及び（３）から選択される１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）では、被酸化部位（末端メチル基、側鎖メチル基、末端水酸基）を、所定の分子で置換された状態にして封止することで、当該被酸化部位（末端メチル基、側鎖メチル基、末端水酸基）の架橋反応を抑制することができ、それ故に、前記樹脂組成物からなる成形品の凹みが抑制されて金属薄膜層との密着性が向上すると推察される。
また、ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、高温高湿環境への長期曝露後の積層成形体においても高い表面反射率及び優れた密着性を維持できる観点から、化学式（１）、（２）及び（３）が、それぞれ化学式（４）、（５）及び（６）であることが好ましい。すなわち、ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、化学式（４）、（５）及び（６）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むことが好ましい。
なお、化学式（４）及び（５）のＲ１、Ｒ２は、上記化学式（１）及び（２）のＸ１中のＲ１、Ｒ２の通りであり、化学式（６）のＲ３、Ｒ４は、上記化学式（３）のＸ２中のＲ３、Ｒ４の通りである。
－ポリフェニレンエーテル（ｉ）の合成方法－
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、既に公知の重合方法によって合成された通常のポリフェニレンエーテルの重合粉体を広く用いることが可能である。
中でも、上記化学式（１）及び（２）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の化学式（１）及び（２）中のメチレン基に化学式（１）、（２）のＸ１とは異なる置換基を持つポリフェニレンエーテルを前駆体として（以下、「前駆体ポリフェニレンエーテル」とも称す）、後述する反応性化合物と反応させて、上記化学式（１）及び（２）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を合成することが好ましい。この方法によれば、上記化学式（１）及び（２）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を、前駆体ポリフェニレンエーテルから合成することにより、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の化学式（１）及び／又は（２）中のＸ１部分が水素であるポリフェニレンエーテル（以下、「非置換ポリフェニレンエーテル」とも称す。）から合成する場合よりも効率よく得られるからである。前駆体ポリフェニレンエーテル（「前駆体ＰＰＥ」とも称する）と反応性化合物との反応は、熱によることが好ましい。
ポリフェニレンエーテル（ｉ）は、既に公知の重合方法によって合成された通常のポリフェニレンエーテルの重合粉体を広く用いることが可能である。
中でも、上記化学式（１）及び（２）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の化学式（１）及び（２）中のメチレン基に化学式（１）、（２）のＸ１とは異なる置換基を持つポリフェニレンエーテルを前駆体として（以下、「前駆体ポリフェニレンエーテル」とも称す）、後述する反応性化合物と反応させて、上記化学式（１）及び（２）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を合成することが好ましい。この方法によれば、上記化学式（１）及び（２）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を、前駆体ポリフェニレンエーテルから合成することにより、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の化学式（１）及び／又は（２）中のＸ１部分が水素であるポリフェニレンエーテル（以下、「非置換ポリフェニレンエーテル」とも称す。）から合成する場合よりも効率よく得られるからである。前駆体ポリフェニレンエーテル（「前駆体ＰＰＥ」とも称する）と反応性化合物との反応は、熱によることが好ましい。
上記化学式（３）の構造ユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）は、上記と同様に、前駆体ポリフェニレンエーテルと、後述する反応性化合物とを、熱により反応させることで得ることが好ましい。また、ポリフェニレンエーテルの末端水酸基に反応性化合物を反応させることで、上記化学式（３）の構造ユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を得ることも好ましい。
ここで、前駆体ポリフェニレンエーテルとしては、非置換ポリフェニレンエーテル鎖中に、下記の化学式（７）、（８）で表される、末端基及び側鎖基を有する構造のユニットを有するものを用いることが好ましい。前駆体ポリフェニレンエーテルが下記の化学式（７）及び／又は（８）の構造のユニットを有することにより、十分に効率よく上記化学式（１）及び（２）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を得ることができる（具体的には、ポリフェニレンエーテル（ｉ）を製造するにあたって、前駆体ポリフェニレンエーテルを経由することにより、化学式（７）、（８）の構造中のＣＨ２－Ｙ部分が選択的に開裂して後述の反応性化合物との置換反応が生じるので、上記化学式（１）及び（２）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を十分に効率よく得ることができる）。また、非置換ポリフェニレンエーテルから前駆体ポリフェニレンエーテルを容易に合成することができるので、前駆体ポリフェニレンエーテルを経由した上記化学式（１）及び（２）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）の合成が効率的であるからである。
さらに、当該前駆体ポリフェニレンエーテルが、ポリフェニレンエーテル鎖中において、当該構造のユニットの合計を、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり０．０５～１０個含有することが好ましく、０．１～１０個含有することがより好ましい。
（化学式（７）及び（８）のＹはＮ原子又はＯ原子を表し、Ｚｉは、炭素数が１～２０個の環状若しくは鎖状（直鎖状、分岐状）の飽和又は不飽和炭化水素基を表す。また、式中のi、ｎは１から２の整数であり、Ｚ１とＺ２は同じでも異なってもよく、それらが結合するＹと共に互いに結合して環状構造を形成してもよい。）
化学式（７）、（８）の構造のユニットを含有する、前駆体ポリフェニレンエーテルの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリフェニレンエーテルの重合反応時に、アミン類、アルコール類及びモルフォリン等の（ａ１）化合物を、添加して反応させる方法や、重合した非置換ポリフェニレンエーテルを例えばトルエンなどのポリフェニレンエーテル可溶性溶媒中、例えば２０～６０℃で、好ましくは４０℃で撹拌し、上記の（ａ１）化合物を添加して反応させる方法が挙げられる。
（ａ１）化合物としては、特に限定されるものではないが、具体的にはｎ－プロピルアミン、ｉｓｏ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、ｉｓｏ－ブチルアミン、ｓｅｃ－ブチルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、ｎ－オクチルアミン、２－エチルヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ラウリルアミン、ベンジルアミン等の１級アミン、およびジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジ－ｎ－ブチルアミン、ジ－ｉｓｏ－ブチルアミン、ジ－ｎ－オクチルアミン、ピペリジン、２－ピペコリン等の２級アミン、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉｓｏ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール等のアルコール及びモルフォリン等が挙げられる。
上記化学式（１）～（３）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を得る方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリフェニレンエーテルの重合の際に後述する反応性化合物を投入し、ポリフェニレンエーテルを重合する方法や、ポリフェニレンエーテルの重合の際に後述する反応性化合物が置換されたモノマーを少量添加してポリフェニレンエーテルを重合する方法や、非置換ポリフェニレンエーテルと反応性化合物を溶融混練して反応させる方法が挙げられる。具体的には、ポリフェニレンエーテルの重合時に上記の（ａ１）化合物を添加して反応させた後に、後述する反応性化合物を反応させる方法や、ポリフェニレンエーテルの重合時に上記の（ａ１）化合物が置換された２，６－ジメチルフェノールを少量添加して反応させた後、反応性化合物と溶融混練して反応させる方法や、前駆体ポリフェニレンエーテルを得た後、当該前駆体ポリフェニレンエーテルと反応性化合物とを溶融混練して反応させる方法（すなわち、例えば、前駆体ポリフェニレンエーテルを用いて樹脂組成物を溶融混練して製造する際に、前駆体ポリフェニレンエーテルと反応性化合物とを溶融混練する）が挙げられる。溶融混練の条件は、樹脂組成物の製造時の溶融混練条件と同様とすればよい。
－－反応性化合物－－
上記化学式（１）～（３）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を得るために用いることができる反応性化合物としては、これに限定されるものではないが、例えば、ホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、カーボネート類等が挙げられる。
上記化学式（１）～（３）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテル（ｉ）を得るために用いることができる反応性化合物としては、これに限定されるものではないが、例えば、ホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、カーボネート類等が挙げられる。
上記反応性化合物におけるホスホン酸類としては、例えば、ホスホン酸（亜リン酸）、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ビニルホスホン酸、デシルホスホン酸、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、アミノメチルホスホン酸、メチレンジホスホン酸、１－ヒドロキシエタン－１，１－ジホスホン酸、４－メトキシフェニルホスホン酸、プロピルホスホン酸無水物などが挙げられる。
上記反応性化合物におけるホスホン酸エステル類としては、例えば、ホスホン酸ジメチル、ホスホン酸ジエチル、ホスホン酸ビス（２－エチルヘキシル）、ホスホン酸ジオクチル、ホスホン酸ジラウリル、ホスホン酸ジオレイル、ホスホン酸ジフェニル、ホスホン酸ジベンジル、メチルホスホン酸ジメチル、メチルホスホン酸ジフェニル、メチルホスホン酸ジオクチル、エチルホスホン酸ジエチル、エチルホスホン酸ジオクチル、ベンジルホスホン酸ジエチル、フェニルホスホン酸ジメチル、フェニルホスホン酸ジエチル、フェニルホスホン酸ジプロピル、フェニルホスホン酸ジオクチル、（メトキシメチル）ホスホン酸ジエチル、（メトキシメチル）ホスホン酸ジオクチル、ビニルホスホン酸ジエチル、ビニルホスホン酸ジエチル、ヒドロキシメチルホスホン酸ジエチル、ヒドロキシメチルホスホン酸ジエチル、（２－ヒドロキシエチル）ホスホン酸ジメチル、（メトキシメチル）ホスホン酸ジオクチル、ｐ－メチルベンジルホスホン酸ジエチル、ｐ－メチルベンジルホスホン酸ジオクチル、ジエチルホスホノ酢酸、ジエチルホスホノ酢酸エチル、ジエチルホスホノ酢酸ｔｅｒｔ－ブチル、ジエチルホスホン酸ジオクチル、（４－クロロベンジル）ホスホン酸ジエチル、（４－クロロベンジル）ホスホン酸ジオクチル、シアノホスホン酸ジエチル、シアノメチルホスホン酸ジエチル、シアノホスホン酸ジオクチル、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオクチル、（メチルチオメチル）ホスホン酸ジエチルなどが挙げられる。
上記反応性化合物におけるホスフィン酸類としては、例えば、ジメチルホスフィン酸、エチルメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、ジオレイルホスフィン酸、９、１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキシド及びその誘導体などが挙げられる。
上記反応性化合物におけるホスフィン酸エステル類としては、例えば、ジメチルホスフィン酸メチル、ジメチルホスフィン酸エチル、ジメチルホスフィン酸ｎ－ブチル、ジメチルホスフィン酸シクロヘキシル、ジメチルホスフィン酸ビニル、ジメチルホスフィン酸フェニル、エチルメチルホスフィン酸メチル、エチルメチルホスフィン酸エチル、エチルメチルホスフィン酸ｎ－ブチル、エチルメチルホスフィン酸シクロヘキシル、エチルメチルホスフィン酸ビニル、エチルメチルホスフィン酸フェニル、ジエチルホスフィン酸メチル、ジエチルホスフィン酸エチル、ジエチルホスフィン酸ｎ－ブチル、ジエチルホスフィン酸シクロヘキシル、ジエチルホスフィン酸ビニル、ジエチルホスフィン酸フェニル、ジフェニルホスフィン酸メチル、ジフェニルホスフィン酸エチル、ジフェニルホスフィン酸ｎ－ブチル、ジフェニルホスフィン酸シクロヘキシル、ジフェニルホスフィン酸ビニル、ジフェニルホスフィン酸フェニル、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸メチル、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸エチル、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸ｎ－ブチル、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸シクロヘキシル、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸ビニル、メチル－ｎ－プロピルホスフィン酸フェニル、ジオレイルホスフィン酸メチル、ジオレイルホスフィン酸エチル、ジオレイルホスフィン酸ｎ－ブチル、ジオレイルホスフィン酸シクロヘキシル、ジオレイルホスフィン酸ビニル、ジオレイルホスフィン酸フェニル等が挙げられる。
上記反応性化合物におけるモノカルボン酸類としては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、オクタデカン酸、ドコサン酸、ヘキサコサン酸、オクタデセン酸、ドコセン酸、イソオクタデカン酸等のモノカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン酸、安息香酸、メチルベンゼンカルボン酸等の芳香族モノカルボン酸、ヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシオクタデカン酸、ヒドロキシオクタデセン酸等のヒドロキシ脂肪族モノカルボン酸、アルキルチオプロピオン酸等の含イオウ脂肪族モノカルボン酸等が挙げられる。
上記反応性化合物におけるスルホン酸類としては、例えば、アルキルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、カンファースルホン酸およびそれらの誘導体等が挙げられる。これらのスルホン酸は、モノスルホン酸でもジスルホン酸でもトリスルホン酸でもよい。アルキルスルホン酸の誘導体としては、メタンスルホン酸クロライド等が挙げられる。ベンゼンスルホン酸の誘導体としては、フェノールスルホン酸、スチレンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。ナフタレンスルホン酸の誘導体としては、１－ナフタレンスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、１，３－ナフタレンジスルホン酸、１，３，６－ナフタレントリスルホン酸、６－エチル－１－ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。アントラキノンスルホン酸の誘導体としては、アントラキノン－１－スルホン酸、アントラキノン－２－スルホン酸、アントラキノン－２，６－ジスルホン酸、２－メチルアントラキノン－６－スルホン酸等が挙げられる。
上記反応性化合物におけるスルフィン酸類としては、例えば、エタンスルフィン酸、プロパンスルフィン酸、ヘキサンスルフィン酸、オクタンスルフィン酸、デカンスルフィン酸、ドデカンスルフィン酸などのアルカンスルフィン酸、シクロヘキサンスルフィン酸、シクロオクタンスルフィン酸などの脂環族スルフィン酸；ベンゼンスルフィン酸、ｏ－トルエンスルフィン酸、ｐ－トルエンスルフィン酸、エチルベンゼンスルフィン酸、デシルベンゼンスルフィン酸、ドデシルベンゼンスルフィン酸、クロルベンゼンスルフィン酸、ナフタリンスルフィン酸などの芳香族スルフィン酸等が挙げられる。
カーボネート類としては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジヘキシルカーボネート、ジオクチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルフェニルカーボネート、エチルフェニルカーボネート、ブチルフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート等が挙げられる。
反応性化合物としては、反応性の観点からリン系化合物が好ましく、具体的にはホスホン酸ジフェニル、ホスホン酸ジオレイル、ホスホン酸ジオクチル、ジフェニルホスフィン酸、ジオレイルホスフィン酸等が挙げられ、その中でも、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドがより好ましい。９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドを用いて得られた上記化学式（１）～（３）から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含むポリフェニレンエーテルは、高温高湿条件への長期曝露後の積層成形体においても良好な表面外観及び優れた密着性を維持することができる。
＜＜化合物（ｉｉ）＞＞
化合物（ｉｉ）は、分子内に式（Ｉ）又は式(ＩＩ)（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、前記有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類としては、上述の反応性化合物における、ホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類と同様のものが挙げられる。
化合物（ｉｉ）は、分子内に式（Ｉ）又は式(ＩＩ)（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、前記有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類としては、上述の反応性化合物における、ホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類と同様のものが挙げられる。
本実施の形態に用いられる化合物（ｉｉ）としては、十分な性能発現による本願目的達成の観点から有機リン化合物が好ましく、分子内に下記式（Ｉ）又は式(ＩＩ)の反応基を有する有機リン化合物がより好ましい。
上記式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。
本実施の形態に用いられる分子内に上記式（Ｉ）又は式(ＩＩ)の化学構造を有する有機リン化合物は、金属薄膜層と樹脂組成物からなる成形品との密着性を向上させる観点、長期高温曝露後の積層成形体の金属薄膜層の表面外観をより良好に改良する観点から、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド又はその誘導体、ホスホン酸ジオクチルであることが好ましい。
９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドの誘導体としては、１０－（２，５－ジヒドロキシフェニル）－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスフェナントレン－１０－オキサイドや、ビス（２－ヒドロキシエチル）２－（１０Ｈ－９－オキサ－１０－ホスファ－１０－フェナントリルメチル）サクシネートＰ－オキシド等が挙げられる。
中でも、十分な金属薄膜層との密着性の観点から、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドを用いることがより好ましい。
９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドの誘導体としては、１０－（２，５－ジヒドロキシフェニル）－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスフェナントレン－１０－オキサイドや、ビス（２－ヒドロキシエチル）２－（１０Ｈ－９－オキサ－１０－ホスファ－１０－フェナントリルメチル）サクシネートＰ－オキシド等が挙げられる。
中でも、十分な金属薄膜層との密着性の観点から、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドを用いることがより好ましい。
本発明の形態に用いる（ｉｉ）成分の含有量は、（ｉ）成分と（ｉｉ）成分との合計１００質量％中において、０．０５～５質量％の範囲内であり、好ましくは０．１～５質量％、より好ましくは０．１～４質量％の範囲内である。（ｉｉ）成分の含有量が５質量％以下であると、高温高湿条件への長期暴露後の積層成形体においても良好な表面反射率を維持することができる。また、（ｉｉ）成分の含有量が０．０５質量％以上であると、積層成形体の金属薄膜層において良好な表面反射率を得ることができる。
本実施形態の樹脂組成物の製造において、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）に含まれる前記（ｉ）成分と前記（ｉｉ）成分との反応率を高めることを目的として、予め前記（ｉ）成分と前記（ｉｉ）成分とをブレンドして、押出機で溶融混練して押出したペレットを原料として用いることが可能である。その際、予めブレンドする、前記（ｉ）成分と前記（ｉｉ）成分とのブレンド比（質量比）は、前記（ｉ）成分と前記（ｉｉ）成分とのブレンド物１００質量％中において、前記（ｉｉ）成分の比率が０．０５～１０質量％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．１～５質量％の範囲内であり、更により好ましくは０．３～３質量％の範囲内である。十分な性能改良の観点から、前記（ｉｉ）成分の比率は、０．０５質量％以上のブレンドが好ましく、押出加工時の安定性保持の観点から１０質量％以下のブレンドが好ましい。
予め前記（ｉ）成分と前記（ｉｉ）成分とをブレンドして押出機で溶融混練する場合の溶融混練の条件は、特に限定されないが、本実施の形態の所望の効果を十分に発揮し得る樹脂組成物を大量且つ安定的に得るという観点から、スクリュー径２５～９０ｍｍの二軸押出機を用いることが好適である。一例として、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）を用いた場合に、シリンダー温度２７０～３３０℃、スクリュー回転数１５０～７００ｒｐｍ、押出レート１５０～６００ｋｇ／ｈ、及びベント真空度１１．０～１．０ｋＰａの条件で溶融混練する方法が挙げられる。
押出樹脂温度は２５０～３８０℃の範囲内で行なうことが好ましい。押出樹脂温度のより好ましい範囲は２７０～３６０℃であり、更により好ましい範囲は３００～３５０℃である。押出樹脂温度は、十分な反応性と押出性の観点から２５０℃以上が好ましく、十分な機械的物性保持と押出性の観点から３８０℃以下が好ましい。
大型（スクリュー径４０～９０ｍｍ）の二軸押出機を用いて溶融混練する場合には、原料貯蔵ホッパー内部から原料投入口におけるシューター内部までの酸素濃度を１５容量％以下に設定しておくことが好ましく、より好ましくは８容量％以下であり、更により好ましくは１容量％以下である。当該酸素濃度を１５容量％以下とすることにより、押出時に、ポリフェニレンエーテル（ｉ）から生じ得るゲルや炭化物がペレット中に混入することを防止することができ、成形品の表面外観や前記積層成形体の表面反射率を向上させることができる。
なお、酸素濃度の調節は、原料貯蔵ホッパー内を十分に窒素置換して、原料貯蔵ホッパーから押出機原料投入口までの、フィードライン中での空気の出入りがないように密閉した上で、窒素フィード量の調節、ガス抜き口の開度を調節することで可能である。
なお、酸素濃度の調節は、原料貯蔵ホッパー内を十分に窒素置換して、原料貯蔵ホッパーから押出機原料投入口までの、フィードライン中での空気の出入りがないように密閉した上で、窒素フィード量の調節、ガス抜き口の開度を調節することで可能である。
＜脂肪酸金属塩（Ｂ）＞
本実施形態の樹脂組成物に含まれる脂肪酸金属塩（Ｂ）は、具体的には、脂肪族モノカルボン酸金属塩を示す。特に、炭素数１６以上の脂肪酸金属塩が好ましく、炭素数１６～２８の脂肪酸金属塩がより好ましく、２２～２８の脂肪酸金属塩がより更に好ましい。前記金属塩は、脂肪酸と一緒になって塩を形成する金属元素であり、金属元素としては、元素周期律表の第１族元素（アルカリ金属）、第２族元素（アルカリ土類金属）、第３族元素、亜鉛、アルミニウム、等が挙げられる。
前記金属元素としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属が好ましく、アルミニウムも好適に用いられる。
本実施形態の樹脂組成物に含まれる脂肪酸金属塩（Ｂ）は、具体的には、脂肪族モノカルボン酸金属塩を示す。特に、炭素数１６以上の脂肪酸金属塩が好ましく、炭素数１６～２８の脂肪酸金属塩がより好ましく、２２～２８の脂肪酸金属塩がより更に好ましい。前記金属塩は、脂肪酸と一緒になって塩を形成する金属元素であり、金属元素としては、元素周期律表の第１族元素（アルカリ金属）、第２族元素（アルカリ土類金属）、第３族元素、亜鉛、アルミニウム、等が挙げられる。
前記金属元素としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属が好ましく、アルミニウムも好適に用いられる。
脂肪酸金属塩（Ｂ）としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、モンタン酸カルシウム、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸アルミニウム、モンタン酸亜鉛、モンタン酸マグネシウム、ベヘン酸カルシウム、ベヘン酸ナトリウム、ベヘン酸亜鉛、ラウリン酸カルシウム、ラウリン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩が挙げられる。ここで、高級脂肪酸金属塩とは、炭素数が１６～４０の脂肪酸金属塩であり、更には炭素数が２２～２８の高級脂肪酸金属塩である。
脂肪酸金属塩（Ｂ）としては、炭素数が１６～４０であるステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、モンタン酸カルシウム、モンタン酸亜鉛、モンタン酸マグネシウム、ベヘン酸カルシウム、ベヘン酸亜鉛が好ましく、炭素数が２２～２８であるモンタン酸カルシウム、モンタン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛がさらに好ましい。
これら脂肪酸金属塩（Ｂ）は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
脂肪酸金属塩（Ｂ）としては、炭素数が１６～４０であるステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、モンタン酸カルシウム、モンタン酸亜鉛、モンタン酸マグネシウム、ベヘン酸カルシウム、ベヘン酸亜鉛が好ましく、炭素数が２２～２８であるモンタン酸カルシウム、モンタン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛がさらに好ましい。
これら脂肪酸金属塩（Ｂ）は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記脂肪酸金属塩（Ｂ）は、本実施形態の金属薄膜層と樹脂組成物からなる成形品との密着性の観点から、ＪＩＳ－Ｋ００７０に従って測定した酸価（試料１ｇ中に含有される遊離脂肪酸、樹脂酸などを中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数）が１０．０ｍｇ／ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは、０．０１～１０．０ｍｇ／ｇであり、更に好ましくは０．０１～５．０ｍｇ／ｇであり、特に好ましくは、０．０１～３．０ｍｇ／ｇである。
前記脂肪酸金属塩（Ｂ）の融点は、本実施形態の樹脂組成物の外観及び成形時の離型性の観点から、１１０℃～２３０℃であることが好ましく、より好ましくは１１５℃～１５０℃、さらに好ましくは１１５℃～１４５℃である。
本実施形態の樹脂組成物は、前記成分（Ａ）１００質量％に対し、前記成分（Ｂ）が０．１～３質量％の比率であることが好ましい。金属薄膜層と樹脂組成物からなる成形品との密着性、更には高温高湿環境下のエージング後の密着性に優れる観点から前記成分（Ｂ）は前記比率であることが好ましい。上記成分（Ａ）１００質量％に対し、成分（Ｂ）は、より好ましくは０．１～２．５質量％、更に好ましくは、０．２～２．３質量％である。
＜スチレン系樹脂（Ｃ）＞
本実施の形態の樹脂組成物には、耐熱性や成形流動性を調整する目的で、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合することが可能である。スチレン系樹脂（Ｃ）は、特に限定されず、公知のものを用いることができ、スチレン系化合物の単独重合体や、スチレン系化合物、およびスチレン系化合物と共重合可能な化合物を、ゴム質重合体存在または非存在下に重合して得られる重合体が挙げられる。
本実施の形態の樹脂組成物には、耐熱性や成形流動性を調整する目的で、スチレン系樹脂（Ｃ）を配合することが可能である。スチレン系樹脂（Ｃ）は、特に限定されず、公知のものを用いることができ、スチレン系化合物の単独重合体や、スチレン系化合物、およびスチレン系化合物と共重合可能な化合物を、ゴム質重合体存在または非存在下に重合して得られる重合体が挙げられる。
スチレン系化合物としては、特に限定されず、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、モノクロロスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、エチルスチレン等が挙げられる。それらの中でも、原材料の実用性の観点から、スチレンが好ましい。
また、スチレン系化合物と共重合可能な化合物としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合物類；無水マレイン酸等の酸無水物等が挙げられる。
本実施形態において好ましいスチレン系樹脂は、ポリフェニレンエーテルとの混和性の観点から、ポリスチレンである。中でも成形品外観改良の観点からゼネラルパーパスポリスチレンが好ましい。
スチレン系樹脂（Ｃ）の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物１００質量％中において、０～３０質量％であることが好ましく、０～２５質量％であることがより好ましい。樹脂組成物がスチレン系樹脂（Ｃ）を含有すると成形流動性を改良することができ、スチレン系樹脂（Ｃ）の含有量は、密着性向上及び表面反射率向上の観点、並びに高温高湿条件曝露後の高い表面反射率及び優れた密着性の維持の観点から３０質量％以下であることが好ましい。
＜エラストマー成分（Ｄ）＞
本実施の形態の金属薄膜層を有する積層成形体における樹脂組成物としては、耐衝撃性を向上させる観点から、エラストマー成分（Ｄ）を配合することが可能である。
本実施の形態の金属薄膜層を有する積層成形体における樹脂組成物としては、耐衝撃性を向上させる観点から、エラストマー成分（Ｄ）を配合することが可能である。
エラストマー成分（Ｄ）としては、公知のものを用いることができるが、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）成分との混和性および耐熱性の観点から、スチレンブロックと水素添加された共役ジエン化合物ブロックとを有するブロック共重合体（以下、「スチレンブロック－水添共役ジエン化合物ブロック共重合体」とも記す）を含むことが好ましい。
前記共役ジエン化合物ブロックは、熱安定性の観点から、水素添加率５０％以上で水素添加されたものが好ましく、より好ましくは８０％以上で水素添加されたもの、更に好ましくは９５％以上で水素添加されたものである。
前記共役ジエン化合物ブロックとしては、以下に制限されないが、例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリ（エチレン・ブチレン）、ポリ（エチレン・プロピレン）及びビニル－ポリイソプレンが挙げられる。前記共役ジエン化合物ブロックは１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
ブロック共重合体を構成する繰り返し単位の配列の様式は、リニアタイプでもラジアルタイプでもよい。また、ポリスチレンブロック及びゴム中間ブロックにより構成されるブロック構造は二型、三型及び四型のいずれであってもよい。中でも、本実施の形態に所望の効果を十分に発揮し得る観点から、好ましくは、ポリスチレン－ポリ（エチレン・ブチレン）－ポリスチレン構造で構成される三型のリニアタイプのブロック共重合体である。なお、共役ジエン化合物ブロック中に３０質量％を超えない範囲でブタジエン単位が含まれてもよい。
本実施の形態に用いることができる前記スチレンブロック－水添共役ジエン化合物ブロック共重合体は、耐衝撃性改良の観点から重量平均分子量Ｍｗが５００００～３０００００の範囲が好ましく、より好ましくは７００００～２８００００であり、更により好ましくは１０００００～２５００００である。十分な耐衝撃性付与の観点から、前記スチレンブロック－水添共役ジエン化合物ブロック共重合体は、５００００以上が好ましく、成形体の流動性、外観保持、混和性の観点から、３０００００以下が好ましい。
本実施の形態に用いることができる前記スチレンブロック－水添共役ジエン化合物ブロック共重合体の結合スチレン量は、２０～８０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは３０～６０質量％であり、更により好ましくは３０～４５質量％の範囲内である。混和性の観点から、前記スチレンブロック－水添共役ジエン化合物ブロック共重合体の結合スチレン量は、２０質量％以上が好ましく、耐衝撃性付与の観点から８０質量％以下が好ましい。
エラストマー成分（Ｄ）の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物１００質量％中において、１～３５質量％であることが好ましく、１～３２質量％であることがより好ましく、４～３０質量％の範囲内であることが更により好ましい。エラストマー成分（Ｄ）の含有量は、本用途に必要な耐衝撃性付与の観点から１質量％以上であることが好ましく、剛性保持及び表面反射率向上の観点、並びに高温高湿条件曝露後の高い表面反射率及び優れた密着性の維持の観点から、３５質量％以下であることが好ましい。
＜酸化防止剤（Ｅ）＞
本実施形態に用いる樹脂組成物は、さらに酸化防止剤（Ｅ）を含んでいてもよい。
上記酸化防止剤（Ｅ）は、ラジカル連鎖禁止剤として働く１次酸化防止剤と、過酸化物を分解する効果のある２次酸化防止剤のどちらも使用可能である。すなわち、酸化防止剤を用いることにより、ポリフェニレンエーテルが長時間高温にさらされた際に、末端メチル基又は側鎖メチル基において生じ得るラジカルを捕捉することができ（１次酸化防止剤）、又は当該ラジカルにより末端メチル基又は側鎖メチル基に生じた過酸化物を分解することができ（２次酸化防止剤）、それ故に、ポリフェニレンエーテルの酸化架橋を防止することができる。
本実施形態に用いる樹脂組成物は、さらに酸化防止剤（Ｅ）を含んでいてもよい。
上記酸化防止剤（Ｅ）は、ラジカル連鎖禁止剤として働く１次酸化防止剤と、過酸化物を分解する効果のある２次酸化防止剤のどちらも使用可能である。すなわち、酸化防止剤を用いることにより、ポリフェニレンエーテルが長時間高温にさらされた際に、末端メチル基又は側鎖メチル基において生じ得るラジカルを捕捉することができ（１次酸化防止剤）、又は当該ラジカルにより末端メチル基又は側鎖メチル基に生じた過酸化物を分解することができ（２次酸化防止剤）、それ故に、ポリフェニレンエーテルの酸化架橋を防止することができる。
１次酸化防止剤としては、主にヒンダードフェノール系酸化防止剤が使用可能であり、具体例は、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ－オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２－ｔ－ブチル－６－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート、２－［１－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ペンチルフェニル）エチル］－４，６－ジ－ｔ－ペンチルフェニルアクリレート、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、アルキレイテッドビスフェノール、テトラキス［メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）－プロピオニロキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキシスピロ［５，５］ウンデカン等である。
２次酸化防止剤としては、主にリン系酸化防止剤を使用できる。リン系酸化防止剤の具体例は、トリスノニルフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトール－ジ－ホスファイト、ビス（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトール－ジ－ホスファイト、３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５，５］ウンデカン等である。
また、他の酸化防止剤として、酸化亜鉛、酸化マグネシウムなどの金属酸化物を上記酸化防止剤と併用して用いることも可能である。
これらのうち、高温度、又は高温高湿度環境下において、金属薄膜層の表面外観を更に改良させるためには、２次酸化防止剤であるリン系酸化防止剤が好ましく、ホスファイト系酸化防止剤がより好ましく、下記化学式（１２）の構造を分子内に有するホスファイト系の酸化防止剤が特に好ましい。
酸化防止剤（Ｅ）の含有量は、樹脂組成物１００質量％に対して、０．０５～５質量％であることが好ましく、０．１～３．０質量％がより好ましく、０．１～１．５質量％がさらに好ましい。高温高湿度環境下でのエージング後も良好な表面反射率を有する積層成形体を得る観点から、０．０５質量％以上５質量％以下の添加が好ましい。
本実施形態の積層成形体は金属薄膜層を含むため、金属薄膜層の腐食を一層抑え、長期高温度、高湿度曝露後の積層成形体の金属薄膜層の表面外観を一層良好とできる観点から、イオウ系酸化防止剤を含まないことが好ましい。
なお、上記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル－３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３’－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリルチオプロピオネート）、ジトリデシル－３，３’－チオジプロピオネート、２－メルカプトベンズイミダゾール、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－〔３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル〕プロピオネート〕、２，２－チオビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、等が挙げられる。
なお、上記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル－３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３’－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリルチオプロピオネート）、ジトリデシル－３，３’－チオジプロピオネート、２－メルカプトベンズイミダゾール、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－〔３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル〕プロピオネート〕、２，２－チオビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、等が挙げられる。
＜その他の材料（Ｆ）＞
本実施形態の金属積層層を有した積層成形体における樹脂組成物には、着色の観点から、更にカーボンブラック、酸化チタン、その他の無機系、有機系の公知の染料、顔料等の着色剤を配合することが可能である。
本実施形態の金属積層層を有した積層成形体における樹脂組成物には、着色の観点から、更にカーボンブラック、酸化チタン、その他の無機系、有機系の公知の染料、顔料等の着色剤を配合することが可能である。
本実施の形態に使用可能な着色剤としては、本願用途で求められる特性の保持の観点から、カーボンブラックが特に好ましい。樹脂組成物中へのカーボンブラックの配合は、ハンドリング性および樹脂組成物中への分散性改良の観点から、予めポリスチレン中に溶融混練して混ぜ込んだ、所謂マスターバッチを用いることが特に好ましい。
本実施形態に用いることができる着色剤の含有量は、前記、樹脂組成物の合計１００質量部中に対して、０．０１～８質量部の範囲内であり、好ましくは０．１～５質量部、より好ましくは０．３～３質量部、特により好ましくは０．４～２質量部の範囲内である。十分な着色性の観点から０．０１質量部以上であり、成形外観保持の観点から８質量部以下であることが望ましい。
本実施形態に用いることができる着色剤の含有量は、前記、樹脂組成物の合計１００質量部中に対して、０．０１～８質量部の範囲内であり、好ましくは０．１～５質量部、より好ましくは０．３～３質量部、特により好ましくは０．４～２質量部の範囲内である。十分な着色性の観点から０．０１質量部以上であり、成形外観保持の観点から８質量部以下であることが望ましい。
本実施形態の金属積層層を有した積層成形体における樹脂組成物は、更に、樹脂組成物の耐熱性、機械的物性並びに成形品の表面外観及び高温高湿条件下の長期暴露後の熱エージング特性等を著しく低下させない範囲において、その他の酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、離型剤等を、該樹脂組成物１００質量部に対して、０．００１～３質量部の範囲内で含有することが可能であり、より好ましくは０．０１～０．５質量部であり、さらにより好ましくは０．２～０．５質量部の範囲内である。上記のその他の添加剤は、高い表面反射率を有する積層成形体を得る観点から、０．００１質量部以上３質量部以下で含有することが好ましい。
また、本実施形態の樹脂組成物は、その他の材料（Ｆ）として、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート樹脂とＡＢＳを含むポリマーアロイ、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂及びポリフェニレンサルファイド樹脂等を含んでいてもよい。
［樹脂組成物の製造方法］
本実施形態の樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）、脂肪酸金属塩（Ｂ）、並びに任意成分としてのスチレン系樹脂（Ｃ）、エラストマー成分（Ｄ）、酸化防止剤（Ｅ）、及びその他の材料（Ｆ）等の原材料を、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の合成方法における溶融混練と同様にして溶融混練することにより製造することができる。前記樹脂組成物を製造するための前記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）、成分（Ｅ）、成分（Ｆ）等の溶融混練の条件については、特に制限されるものではないが、本実施の形態の所望の効果を十分に発揮し得る樹脂組成物を大量且つ安定的に得るという観点から、スクリュー径２５～９０ｍｍの二軸押出機を用いることが好適である。一例として、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）を用いた場合に、シリンダー温度２７０～３３０℃、スクリュー回転数１５０～７００ｒｐｍ、押出レート１５０～６００ｋｇ／ｈ、及びベント真空度１１．０～１．０ｋＰａの条件で溶融混練する方法が挙げられる。
本実施形態の樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）、脂肪酸金属塩（Ｂ）、並びに任意成分としてのスチレン系樹脂（Ｃ）、エラストマー成分（Ｄ）、酸化防止剤（Ｅ）、及びその他の材料（Ｆ）等の原材料を、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の合成方法における溶融混練と同様にして溶融混練することにより製造することができる。前記樹脂組成物を製造するための前記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）、成分（Ｅ）、成分（Ｆ）等の溶融混練の条件については、特に制限されるものではないが、本実施の形態の所望の効果を十分に発揮し得る樹脂組成物を大量且つ安定的に得るという観点から、スクリュー径２５～９０ｍｍの二軸押出機を用いることが好適である。一例として、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）を用いた場合に、シリンダー温度２７０～３３０℃、スクリュー回転数１５０～７００ｒｐｍ、押出レート１５０～６００ｋｇ／ｈ、及びベント真空度１１．０～１．０ｋＰａの条件で溶融混練する方法が挙げられる。
押出樹脂温度は２５０～３８０℃の範囲内で行なうことが好ましい。押出樹脂温度のより好ましい範囲は２７０～３６０℃であり、更により好ましい範囲は３００～３５０℃である。押出樹脂温度は、本願用途で求められる効果の十分な発現と押出性の観点から２５０℃以上が好ましく、押出性及び樹脂組成物の分解防止の観点から３８０℃以下が好ましい。
本実施の形態に用いる樹脂組成物を、大型（スクリュー径４０～９０ｍｍ）の二軸押出機を用いて製造する際に注意すべきは、押出樹脂ペレット中に押出時に生じた、前記（ｉ）成分から生じるゲルや炭化物が混入することで、成形品の表面外観や積層成形体の表面反射率を低下させる原因となる場合もある。そこで、前記（Ａ）成分を最上流（トップフィード）の原料投入口から投入して、最上流投入口におけるシューター内部の酸素濃度を１５容量％以下に設定しておくことが好ましく、より好ましくは８容量％以下であり、更により好ましくは１容量％以下である。
酸素濃度の調節は、原料貯蔵ホッパー内を十分に窒素置換して、原料貯蔵ホッパーから押出機原料投入口までの、フィードライン中での空気の出入りがないように密閉した上で、窒素フィード量の調節、ガス抜き口の開度を調節することで可能である。
［［金属薄膜層］］
金属薄膜層の金属は、アルミニウム、銀、クロム等が挙げられるが、特にアルミニウムが、軽く、柔軟性、光沢性に富む利点を有するので好ましい。
金属薄膜層の金属は、アルミニウム、銀、クロム等が挙げられるが、特にアルミニウムが、軽く、柔軟性、光沢性に富む利点を有するので好ましい。
金属薄膜層の厚みは、積層成形体の用途に応じて適宜設計することができ、特に限定されない。本実施形態の積層成形体では、金属薄膜層の厚みを１２ｎｍ以下とすることが好ましく、１０ｎｍ以下とすることがより好ましい。金属薄膜層の厚みを１２ｎｍ以下とすると、金属薄膜層の剥離を防止し、高温高湿度条件への曝露後も、高い表面反射率及び優れた密着性を維持することができる。また、金属薄膜層の重量を低減することができ、積層成形体を軽量化することができる。
本実施形態の積層成形体の金属薄膜層の表面反射率は、特に限定されないが、７０％以上であることが好ましく、７５％以上であることがより好ましく、更に好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは８５％以上である。表面反射率がこの範囲であれば、自動車用光学系部品、プロジェクター、各種照明器具等の用途で好適に用いることができる。
表面反射率は、ＪＩＳ－Ｚ８７４１に準拠して測定することができる。より具体的には、実施例に記載の方法によって測定することができる。
表面反射率は、ＪＩＳ－Ｚ８７４１に準拠して測定することができる。より具体的には、実施例に記載の方法によって測定することができる。
本実施の形態における金属薄膜層を有した積層成形体は、高い表面反射率を有し、かつ樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層との密着性に優れ、更には、高温度、高湿度条件への曝露後も優れた表面反射率及び優れた密着性を維持し得ることから、特に、自動車用途部品、例えばヘッドアップディスプレイの光反射部材、ミラー部材等に好適に用いることができる。
また、本願実施形態の積層成形体は、樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層との密着性に優れ、高い表面反射率を有するため、金属薄膜層の厚みを低減することができ、積層成形体の肉厚を低減し軽量化することができる。よって、軽量化の要求が近年一層高まっている自動車用光学系部品、プロジェクター、各種照明器具等の用途に好適に用いることができる。
［積層成形体の製造方法］
本実施の形態の、金属薄膜層を有した積層成形体は、上述の樹脂組成物を成形して成形品を作製し、更には金属蒸着工程等の金属薄膜層の形成等を経ることにより得ることができる。
本実施の形態の、金属薄膜層を有した積層成形体は、上述の樹脂組成物を成形して成形品を作製し、更には金属蒸着工程等の金属薄膜層の形成等を経ることにより得ることができる。
［［成形品の成形］］
前記樹脂組成物の成形方法としては、以下に制限されないが、例えば、射出成形、押出成形、真空成形及び圧空成形が好適に挙げられ、特に成形外観及び輝度感の観点から、射出成形がより好適に用いられる。
前記樹脂組成物の成形時の成形温度は、バレル設定最高温度２５０～３４０℃の範囲内で行なうことが好ましく、より好ましい範囲は２７０～３３０℃であり、更により好ましくは２８０～３２０℃である。十分な成形加工性の観点から、成形温度は、２５０℃以上が好ましく、樹脂の熱劣化抑制の観点から３４０℃以下が好ましい。
前記樹脂組成物の成形方法としては、以下に制限されないが、例えば、射出成形、押出成形、真空成形及び圧空成形が好適に挙げられ、特に成形外観及び輝度感の観点から、射出成形がより好適に用いられる。
前記樹脂組成物の成形時の成形温度は、バレル設定最高温度２５０～３４０℃の範囲内で行なうことが好ましく、より好ましい範囲は２７０～３３０℃であり、更により好ましくは２８０～３２０℃である。十分な成形加工性の観点から、成形温度は、２５０℃以上が好ましく、樹脂の熱劣化抑制の観点から３４０℃以下が好ましい。
前記樹脂組成物の成形時の金型温度は、４０～１７０℃の範囲内で行なうことが好ましく、より好ましくは８０～１５０℃であり、更により好ましくは８０～１３０℃の範囲内である。十分な成形品外観保持の観点から、金型温度は、４０℃以上が好ましく、成形安定性の観点から１７０℃以下であることが好ましい。
［［金属薄膜層の形成］］
金属薄膜層を設ける手法としては、一般に、金属含有ペーストで塗布する方法、ドライプレーティング、いわゆる乾式金属メッキ法が挙げられる。金属薄膜層を均一に設ける観点からは、真空蒸着法、イオンプレーティング法（イオンメッキ法）や、これらの中間的技術であるスパッタリング法などが好ましく、真空蒸着法、スパッタリング法がより好ましい。
金属薄膜層を設ける手法としては、一般に、金属含有ペーストで塗布する方法、ドライプレーティング、いわゆる乾式金属メッキ法が挙げられる。金属薄膜層を均一に設ける観点からは、真空蒸着法、イオンプレーティング法（イオンメッキ法）や、これらの中間的技術であるスパッタリング法などが好ましく、真空蒸着法、スパッタリング法がより好ましい。
一例として、真空蒸着法によって金属薄膜層を形成する具体的方法を示す。樹脂組成物からなる成形品を、イソプロピルアルコール等の溶剤に浸す（Ｄｉｐｐｉｎｇ）などの方法によって脱脂する。さらに、必要に応じて６０～１２０℃で乾燥させてもよい。脱脂後の成形品の表面に、必要に応じて、プライマー（アンダーコート）を塗布し、硬化させてもよい。該成形品を支持用治具に取り付け、真空容器に挿入した後、真空排気し、所定の圧力下で蒸発させた金属アルミニウム等の蒸発金属の蒸着を開始する。この際、必要に応じ、成形品を取り付けた支持用治具を、蒸発源の上方で自転、公転させてもよい。金属薄膜層の厚みは、積層成形体の用途に応じて適宜設計することができ、所望する厚みの金属薄膜層が得られるまで金属を蒸着すればよい。蒸着により金属薄膜層を形成した後、必要に応じて、酸化ケイ素等からなるトップコーティング（透明保護層とも称される）を施して、金属薄膜層の表面を保護してもよい。
以下、本実施の形態を実施例及び比較例によってさらに具体的に説明するが、本実施の形態はこれらの実施例のみに制限されるものではない。実施例及び比較例に用いた物性の測定方法及び原材料を以下に示す。
［積層樹脂成形体の作製および物性の測定方法］
１．アルミ成形体の作製
下記実施例１～１３及び１６～１８並びに比較例１～４で得られた樹脂組成物のペレットを、１００℃の熱風乾燥機中で３時間乾燥した後、金型表面を＃５０００で磨き上げた寸法１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２ｍｍ厚みのフィルムゲート鏡面金型を備え付けた射出成形機（ＩＳ－８０ＥＰＮ、東芝機械社製）により、シリンダー温度３２０℃、金型温度１２０℃、射出圧力（ゲージ圧７０ＭＰａ）、射出速度（パネル設定値）８５％で成形して成形平板を得た。
得られた成形平板を真空状態下の蒸着装置内に設置し、不活性ガスと酸素を導入し、チャンバー内をプラズマ状態にして、成形平板表面を活性化させるプラズマ処理を行なった後、真空下の蒸着装置内でアルミニウム蒸着を行い、アルミニウム蒸着層（金属薄膜層）を有した積層成形体を得た。この金属薄膜層の厚みは１０ｎｍであった。
なお、実施例１４は、実施例１と同様に成形品を得た後、金属薄膜層を１４ｎｍとした以外は同様とし、実施例１５は、実施例８と同様に成形品を得た後、金属薄膜層を１４ｎｍとした以外は同様とした。
１．アルミ成形体の作製
下記実施例１～１３及び１６～１８並びに比較例１～４で得られた樹脂組成物のペレットを、１００℃の熱風乾燥機中で３時間乾燥した後、金型表面を＃５０００で磨き上げた寸法１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２ｍｍ厚みのフィルムゲート鏡面金型を備え付けた射出成形機（ＩＳ－８０ＥＰＮ、東芝機械社製）により、シリンダー温度３２０℃、金型温度１２０℃、射出圧力（ゲージ圧７０ＭＰａ）、射出速度（パネル設定値）８５％で成形して成形平板を得た。
得られた成形平板を真空状態下の蒸着装置内に設置し、不活性ガスと酸素を導入し、チャンバー内をプラズマ状態にして、成形平板表面を活性化させるプラズマ処理を行なった後、真空下の蒸着装置内でアルミニウム蒸着を行い、アルミニウム蒸着層（金属薄膜層）を有した積層成形体を得た。この金属薄膜層の厚みは１０ｎｍであった。
なお、実施例１４は、実施例１と同様に成形品を得た後、金属薄膜層を１４ｎｍとした以外は同様とし、実施例１５は、実施例８と同様に成形品を得た後、金属薄膜層を１４ｎｍとした以外は同様とした。
２．表面反射率
下記実施例及び比較例で作製した積層成形体について、金属薄膜層の表面の表面反射率を、東京電色社製の反射率測定器ＴＲ－１１００ＡＤ／Ｓを用いて、ＪＩＳ－Ｚ８７４１に準拠して測定した。金属薄膜層表面における測定箇所は、フラット形状でかつ、突起物がない部分を３箇所選定し、測定を行った。この測定は常温下で行い、前記３箇所の測定結果の平均値を表面反射率とした。
下記実施例及び比較例で作製した積層成形体について、金属薄膜層の表面の表面反射率を、東京電色社製の反射率測定器ＴＲ－１１００ＡＤ／Ｓを用いて、ＪＩＳ－Ｚ８７４１に準拠して測定した。金属薄膜層表面における測定箇所は、フラット形状でかつ、突起物がない部分を３箇所選定し、測定を行った。この測定は常温下で行い、前記３箇所の測定結果の平均値を表面反射率とした。
３．金属薄膜層と樹脂組成物からなる成形品との密着性
下記実施例及び比較例で作製した積層成形体について、ＪＩＳ－Ｋ５６００に準拠したクロスカット法で、金属薄膜層と樹脂組成物からなる成形品との密着性を評価した。
積層成形体を、２３℃、２４時間放置した後、金属薄膜層の表面に１ｍｍ間隔で１００マスになるように、刃で、成形品に達する深さのキズを入れた。キズを入れた金属薄膜層表面にニチバンの粘着テープ（ＣＴ－１８）を密着させ、斜め３０度の角度方向に、瞬時に引き剥がして、金属薄膜層を剥離させた。剥離した金属薄膜層のマスの個数で、以下のように判定した。１００マス中の剥離数が５０マス未満、すなわち、密着性の評価が○又は◎の場合、金属薄膜層と成形品との密着性が良好である。
◎（非常に良好）：１００マス中、剥離数が０マス（完全密着）以上２０マス未満
○（良好） ：１００マス中、剥離数が２０マス以上５０マス未満
△（やや不良） ：１００マス中、剥離数が５０マス以上８０マス未満
×（不良） ：１００マス中、剥離数が８０マス以上１００マス以下
下記実施例及び比較例で作製した積層成形体について、ＪＩＳ－Ｋ５６００に準拠したクロスカット法で、金属薄膜層と樹脂組成物からなる成形品との密着性を評価した。
積層成形体を、２３℃、２４時間放置した後、金属薄膜層の表面に１ｍｍ間隔で１００マスになるように、刃で、成形品に達する深さのキズを入れた。キズを入れた金属薄膜層表面にニチバンの粘着テープ（ＣＴ－１８）を密着させ、斜め３０度の角度方向に、瞬時に引き剥がして、金属薄膜層を剥離させた。剥離した金属薄膜層のマスの個数で、以下のように判定した。１００マス中の剥離数が５０マス未満、すなわち、密着性の評価が○又は◎の場合、金属薄膜層と成形品との密着性が良好である。
◎（非常に良好）：１００マス中、剥離数が０マス（完全密着）以上２０マス未満
○（良好） ：１００マス中、剥離数が２０マス以上５０マス未満
△（やや不良） ：１００マス中、剥離数が５０マス以上８０マス未満
×（不良） ：１００マス中、剥離数が８０マス以上１００マス以下
４．エージング試験の実施方法
下記実施例及び比較例で作製した積層成形体を、６０℃（±５℃）、９０％ＲＨ（±５％ＲＨ）環境下で、金属薄膜層の表面が他の積層成形体と接触しないようにして固定した。１００時間経過後、該積層成形体を取り出して、２３℃で２４時間放置した後に、上述する方法で表面反射率及び密着性を評価した。
下記実施例及び比較例で作製した積層成形体を、６０℃（±５℃）、９０％ＲＨ（±５％ＲＨ）環境下で、金属薄膜層の表面が他の積層成形体と接触しないようにして固定した。１００時間経過後、該積層成形体を取り出して、２３℃で２４時間放置した後に、上述する方法で表面反射率及び密着性を評価した。
[原材料]
＜ポリフェニレンエーテル（ｉ）＞
（ｉ－１）
還元粘度（ηｓｐ／ｃ値）０．４２ｄＬ／ｇ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たりの末端ＯＨ基の数は０．５０個、ポリフェニレンエーテルを構成するこのマーユニット１００個に対するＮ、Ｎ－ジブチルアミノメチル基の数は０．８６個、のポリ（２，６－ジメチル－１，４－フェニレン）エーテルを用いた。
（ｉ－２）
還元粘度（ηｓｐ／ｃ値）０．３１ｄＬ／ｇ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たりの末端ＯＨ基の数は０．７３個、ポリフェニレンエーテルを構成するこのマーユニット１００個に対するＮ、Ｎ－ジブチルアミノメチル基の数は０．４０個、のポリ（２，６－ジメチル－１，４－フェニレン）エーテルを用いた。
なお、本実施例において、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の還元粘度（ηｓｐ／ｃ値）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）を、０．５ｇ／ｄＬのクロロホルム溶液として、ウベローデ型粘度管を用いて、３０℃で測定した。還元粘度の単位はｄＬ／ｇである。
＜ポリフェニレンエーテル（ｉ）＞
（ｉ－１）
還元粘度（ηｓｐ／ｃ値）０．４２ｄＬ／ｇ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たりの末端ＯＨ基の数は０．５０個、ポリフェニレンエーテルを構成するこのマーユニット１００個に対するＮ、Ｎ－ジブチルアミノメチル基の数は０．８６個、のポリ（２，６－ジメチル－１，４－フェニレン）エーテルを用いた。
（ｉ－２）
還元粘度（ηｓｐ／ｃ値）０．３１ｄＬ／ｇ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たりの末端ＯＨ基の数は０．７３個、ポリフェニレンエーテルを構成するこのマーユニット１００個に対するＮ、Ｎ－ジブチルアミノメチル基の数は０．４０個、のポリ（２，６－ジメチル－１，４－フェニレン）エーテルを用いた。
なお、本実施例において、ポリフェニレンエーテル（ｉ）の還元粘度（ηｓｐ／ｃ値）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）を、０．５ｇ／ｄＬのクロロホルム溶液として、ウベローデ型粘度管を用いて、３０℃で測定した。還元粘度の単位はｄＬ／ｇである。
＜化合物（ｉｉ）＞
（ｉｉ）
有機リン酸化合物（化学名：９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド。商品名：ＨＣＡ〔登録商標〕、三光社製）を用いた。
（ｉｉ）
有機リン酸化合物（化学名：９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド。商品名：ＨＣＡ〔登録商標〕、三光社製）を用いた。
＜脂肪酸金属塩（Ｂ）＞
（Ｂ－１）
モンタン酸カルシウム；酸価０．８ｍｇ／ｇ、融点１２０℃、を用いた。
（Ｂ－２）
モンタン酸亜鉛；酸価３．０ｍｇ／ｇ、融点１１０℃、を用いた。
（Ｂ－３）
ベヘン酸カルシウム；酸価１．０ｍｇ／ｇ、融点１４２℃、を用いた。
（Ｂ－１）
モンタン酸カルシウム；酸価０．８ｍｇ／ｇ、融点１２０℃、を用いた。
（Ｂ－２）
モンタン酸亜鉛；酸価３．０ｍｇ／ｇ、融点１１０℃、を用いた。
（Ｂ－３）
ベヘン酸カルシウム；酸価１．０ｍｇ／ｇ、融点１４２℃、を用いた。
＜酸化防止剤（Ｅ）＞
（ＰＥＰ－３６）
リン系酸化防止剤（化学名：３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５，５］ウンデカン。アデカ社製、商品名：アデカスタブＰＥＰ－３６〔登録商標〕）を用いた（以下、「ＰＥＰ－３６」とする）。
（ＰＥＰ－３６）
リン系酸化防止剤（化学名：３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５，５］ウンデカン。アデカ社製、商品名：アデカスタブＰＥＰ－３６〔登録商標〕）を用いた（以下、「ＰＥＰ－３６」とする）。
＜スチレン系樹脂（Ｃ）＞
（ＧＰＰＳ）
ゼネラルパーパスポリスチレン。商品名：ポリスチレン６８０[登録商標]、ＰＳジャパン（株）社製を用いた（以下、「ＧＰＰＳ」とする）。
（ＧＰＰＳ）
ゼネラルパーパスポリスチレン。商品名：ポリスチレン６８０[登録商標]、ＰＳジャパン（株）社製を用いた（以下、「ＧＰＰＳ」とする）。
＜エラストマー成分（Ｄ）＞
（ＳＥＢＳ）
重量平均分子量７１２００、結合スチレン量３２質量％の、ポリスチレンブロックと水素添加率９８％の水添ブタジエンブロックとを有する三型タイプの水添ブロック共重合体を用いた（以下、「ＳＥＢＳ」とする）。
（ＳＥＢＳ）
重量平均分子量７１２００、結合スチレン量３２質量％の、ポリスチレンブロックと水素添加率９８％の水添ブタジエンブロックとを有する三型タイプの水添ブロック共重合体を用いた（以下、「ＳＥＢＳ」とする）。
［実施例１、８、１４、１５］
（ｉ－１）７０質量部、（ｉｉ）０．７質量部をタンブラーミキサーで混合し、この粉体混合物をＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）の最上流部（トップフィード）から供給して、シリンダー温度３００℃、スクリュー回転数４００ｒｐｍ、押出レート４００ｋｇ／ｈｒ、ベント真空度７．９９８ｋＰａ（６０Ｔｏｒｒ）の条件で溶融混練ペレットを得た。このペレットをクロロホルムに溶解した後、メタノールで再沈し、ポリフェニレンエーテル成分を抽出した。その後、６０℃で４時間真空乾燥しポリフェニレンエーテルのパウダーを得た。
得られたポリフェニレンエーテルパウダーは、３１Ｐ－ＮＭＲ（ｓｉｎｇｌｅ ｐｌｕｓ法）及び１Ｈ－ＮＭＲにて同定することができ、反応性化合物の付加量は、１Ｈ－ＮＭＲの２．８～３．６ｐｐｍに現れるピークの積分値を、ポリフェニレンエーテルの芳香環由来である６．０～７．０ｐｐｍのピークの積分値で割ることにより得られ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、下記の化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．３０個含むことを確認した。
３１Ｐ－ＮＭＲ 測定条件
装置 ：ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ ＥＣＳ４００
観測核 ：３１Ｐ
観測周波数 ：１６１．８ＭＨｚ
パルス幅 ：４５°
待ち時間 ：５秒
積算回数 ：１０，０００回
溶媒 ：ＣＤＣｌ３
試料濃度 ：２０ｗ／ｖ％
化学シフト基準：８５％リン酸水溶液（外部基準）０ｐｐｍ
１Ｈ－ＮＭＲ 測定条件
装置 ：ＪＥＯＬ―ＥＣＡ５００
観測核 ：１Ｈ
観測周波数 ：５００．１６ＭＨｚ
測定法 ：Ｓｉｎｇｌｅ－Ｐｌｕｓ
パルス幅 ：７μｓｅｃ
待ち時間 ：５秒
積算回数 ：５１２回
溶媒 ：ＣＤＣｌ３
試料濃度 ：５ｗ％
化学シフト基準：ＴＭＳ ０．００ｐｐｍ
以下、ポリフェニレンエーテルの３１Ｐ－ＮＭＲ及び１Ｈ－ＮＭＲの測定は、上記の条件で行った。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、下記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、下記の化学式（１１）の構造ユニットを０．０２個含むことを確認した。
ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたりの反応性化合物の付加数（個）＝（前駆体ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたりの末端ＯＨの数）×｛［Ａ］／（［Ａ］＋［Ｂ］）｝・・・（１）
また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
１３Ｃ－ＮＭＲ 測定条件
装置 ：Ｂｒｕｋｅｒ Ｂｉｏｓｐｉｎ Ａｖａｎｃｅ ６００
観測核 ：１３Ｃ
観測周波数 ：１５０．９ＭＨｚ
測定法 ：逆ゲートデカップリング法
パルス幅 ：３０°
待ち時間 ：１０秒
積算回数 ：２，０００回
溶媒 ：ＣＤＣｌ３
試料濃度 ：２０ｗ／ｖ％
化学シフト基準：ＴＭＳ ０ｐｐｍ
以下、ポリフェニレンエーテルの１３Ｃ－ＮＭＲの測定は、上記の条件で行った。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２５モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１及び２に示した配合比で、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）の最上流部（トップフィード）から供給して、シリンダー温度３００℃、スクリュー回転数４００ｒｐｍ、押出レート４００ｋｇ／ｈｒ、ベント真空度７．９９８ｋＰａ（６０Ｔｏｒｒ）の条件で溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－１）７０質量部、（ｉｉ）０．７質量部をタンブラーミキサーで混合し、この粉体混合物をＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）の最上流部（トップフィード）から供給して、シリンダー温度３００℃、スクリュー回転数４００ｒｐｍ、押出レート４００ｋｇ／ｈｒ、ベント真空度７．９９８ｋＰａ（６０Ｔｏｒｒ）の条件で溶融混練ペレットを得た。このペレットをクロロホルムに溶解した後、メタノールで再沈し、ポリフェニレンエーテル成分を抽出した。その後、６０℃で４時間真空乾燥しポリフェニレンエーテルのパウダーを得た。
得られたポリフェニレンエーテルパウダーは、３１Ｐ－ＮＭＲ（ｓｉｎｇｌｅ ｐｌｕｓ法）及び１Ｈ－ＮＭＲにて同定することができ、反応性化合物の付加量は、１Ｈ－ＮＭＲの２．８～３．６ｐｐｍに現れるピークの積分値を、ポリフェニレンエーテルの芳香環由来である６．０～７．０ｐｐｍのピークの積分値で割ることにより得られ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、下記の化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．３０個含むことを確認した。
装置 ：ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ ＥＣＳ４００
観測核 ：３１Ｐ
観測周波数 ：１６１．８ＭＨｚ
パルス幅 ：４５°
待ち時間 ：５秒
積算回数 ：１０，０００回
溶媒 ：ＣＤＣｌ３
試料濃度 ：２０ｗ／ｖ％
化学シフト基準：８５％リン酸水溶液（外部基準）０ｐｐｍ
１Ｈ－ＮＭＲ 測定条件
装置 ：ＪＥＯＬ―ＥＣＡ５００
観測核 ：１Ｈ
観測周波数 ：５００．１６ＭＨｚ
測定法 ：Ｓｉｎｇｌｅ－Ｐｌｕｓ
パルス幅 ：７μｓｅｃ
待ち時間 ：５秒
積算回数 ：５１２回
溶媒 ：ＣＤＣｌ３
試料濃度 ：５ｗ％
化学シフト基準：ＴＭＳ ０．００ｐｐｍ
以下、ポリフェニレンエーテルの３１Ｐ－ＮＭＲ及び１Ｈ－ＮＭＲの測定は、上記の条件で行った。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、下記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、下記の化学式（１１）の構造ユニットを０．０２個含むことを確認した。
ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたりの反応性化合物の付加数（個）＝（前駆体ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個あたりの末端ＯＨの数）×｛［Ａ］／（［Ａ］＋［Ｂ］）｝・・・（１）
また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
装置 ：Ｂｒｕｋｅｒ Ｂｉｏｓｐｉｎ Ａｖａｎｃｅ ６００
観測核 ：１３Ｃ
観測周波数 ：１５０．９ＭＨｚ
測定法 ：逆ゲートデカップリング法
パルス幅 ：３０°
待ち時間 ：１０秒
積算回数 ：２，０００回
溶媒 ：ＣＤＣｌ３
試料濃度 ：２０ｗ／ｖ％
化学シフト基準：ＴＭＳ ０ｐｐｍ
以下、ポリフェニレンエーテルの１３Ｃ－ＮＭＲの測定は、上記の条件で行った。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２５モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１及び２に示した配合比で、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）の最上流部（トップフィード）から供給して、シリンダー温度３００℃、スクリュー回転数４００ｒｐｍ、押出レート４００ｋｇ／ｈｒ、ベント真空度７．９９８ｋＰａ（６０Ｔｏｒｒ）の条件で溶融混練して樹脂組成物を得た。
［実施例２、１０］
（ｉ－２）７０質量部、（ｉｉ）０．７質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．２６個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０４個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２７モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－２）７０質量部、（ｉｉ）０．７質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．２６個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０４個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２７モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
［実施例３、４、５、６、７、１２、１８］
（ｉ－１）４０質量部、（ｉ－２）３０質量部、（ｉｉ）０．７質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．２８個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０３個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２６モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）～（Ｂ－３）を用いて、表１及び２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－１）４０質量部、（ｉ－２）３０質量部、（ｉｉ）０．７質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．２８個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０３個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２６モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）～（Ｂ－３）を用いて、表１及び２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
［実施例９］
（ｉ－１）７０質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１４個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０１個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２３モル％であった。
得られたペレット、スチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－１）７０質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１４個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０１個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２３モル％であった。
得られたペレット、スチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
［実施例１１］
（ｉ－２）７０質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１３個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０１個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２４モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－２）７０質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１３個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０１個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２４モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表１に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
［実施例１３］
（ｉ－１）４０質量部、（ｉ－２）３０質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１４個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０２個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２４モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－１）４０質量部、（ｉ－２）３０質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１４個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０２個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２４モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
［比較例１、２、３］
ポリフェニレンエーテル（ｉ－１）及び／又は（ｉ－２）、スチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）を用いて、表２に示した配合比で、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）の最上流部（トップフィード）から供給して、シリンダー温度３００℃、スクリュー回転数４００ｒｐｍ、押出レート４００ｋｇ／ｈｒ、ベント真空度７．９９８ｋＰａ（６０Ｔｏｒｒ）の条件で溶融混練して樹脂組成物を得た。
ポリフェニレンエーテル（ｉ－１）及び／又は（ｉ－２）、スチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）を用いて、表２に示した配合比で、ＴＥＭ５８ＳＳ二軸押出機（東芝機械社製、バレル数１３、スクリュー径５８ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５３）；ニーディングディスクＬ：２個、ニーディングディスクＲ：１４個、及びニーディングディスクＮ：２個を有するスクリューパターン）の最上流部（トップフィード）から供給して、シリンダー温度３００℃、スクリュー回転数４００ｒｐｍ、押出レート４００ｋｇ／ｈｒ、ベント真空度７．９９８ｋＰａ（６０Ｔｏｒｒ）の条件で溶融混練して樹脂組成物を得た。
［比較例４］
（ｉ－２）７０質量部、（ｉｉ）３質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて２．１個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．８２個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２３モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）を用いて、表２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－２）７０質量部、（ｉｉ）３質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて２．１個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．８２個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２３モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）を用いて、表２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
［実施例１６、１７］
（ｉ－１）５８質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１５個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０３個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２３モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
（ｉ－１）５８質量部、（ｉｉ）０．３５質量部を混合したものを実施例１と同様に溶融混練しペレットを得た。得られたペレットをポリフェニレンパウダーとして、反応性化合物の付加量を実施例１と同様に定量したところ、ポリフェニレンエーテル鎖中のモノマー１００ユニットあたり、化学式（９）、（１０）の構造ユニットを合わせて０．１５個含むことを確認した。
更に、末端水酸基への付加量は、１３Ｃ－ＮＭＲにて、１４６．４ｐｐｍ（ＯＨ基に反応性化合物が付加して形成されたエーテル結合の酸素原子に隣接した炭素）のピーク積分値[Ａ]、１４５．４ｐｐｍ（ＯＨ基に隣接した炭素）の積分値[Ｂ]を用いて、上記数式（１）で求めることができ、ポリフェニレンエーテルを構成するモノマーユニット１００個当たり、化学式（１１）の構造ユニットを０．０３個含むことを確認した。また、１Ｈ－ＮＭＲにて、３．５～５．５ｐｐｍに新たなダブレットピークが生じないことを確認した。
化学式（１０）の構造ユニットに対する化学式（９）の構造ユニットの割合は、３１Ｐ－ＮＭＲにて、化学式（１０）の構造ユニット由来の３８～４２ｐｐｍのピーク積分値に対する、化学式（９）の構造ユニット由来の３４～３６ｐｐｍのピークの積分値の割合を計算することで求められ、２３モル％であった。
得られたペレット、及びスチレン系樹脂（ＧＰＰＳ）、エラストマー成分（ＳＥＢＳ）、酸化防止剤（ＰＥＰ－３６）、脂肪酸金属塩（Ｂ－１）を用いて、表２に示した配合比で、溶融混練して樹脂組成物を得た。
実施例１～１８及び比較例１～４で得られた樹脂組成物をそれぞれ用いて、上述の通りに作製した積層成形体（アルミ成形体）についての物性評価結果を下記表１及び２に示す。
表１及び２から分かるように、実施例１～１８の樹脂組成物からなる成形品を用いて作製した積層成形体は、いずれも、当該成形品と金属薄膜層との密着性に優れ、高い表面反射率を有するため、本願の用途の積層成形体として十分良好に使用可能である。
本発明の積層成形体は、高い表面反射率を有し、かつ樹脂組成物からなる成形品と金属薄膜層との密着性に優れ、更には、高温高湿条件への曝露後も高い表面反射率及び優れた密着性を維持し得るため、自動車用途部品、例えばヘッドアップディスプレイのミラー部材等の光反射部品用成形体として好適に用いることができる。
Claims (11)
- 樹脂組成物からなる成形品と、金属薄膜層とを含む、積層成形体であり、
該樹脂組成物が、ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）と、脂肪酸金属塩（Ｂ）とを含み、
該ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）は、ポリフェニレンエーテル（ｉ）と、分子内に下記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）（式（ＩＩ）中、Ｒは炭素数１～８の三価の飽和炭化水素基又は炭素数６～１２の三価の芳香族炭化水素基である。）の化学構造を有する有機リン化合物、該有機リン化合物以外のホスホン酸類、ホスホン酸エステル類、ホスフィン酸類、ホスフィン酸エステル類、モノカルボン酸類、スルホン酸類、スルフィン酸類、及びカーボネート類からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｉｉ）とを、該成分（ｉ）、該化合物（ｉｉ）の合計１００質量％に対して、該成分（ｉ）９５～９９．９５質量％、該化合物（ｉｉ）０．０５～５質量％含有する原料を押出機で溶融混練して押出したものであることを特徴とする、積層成形体。
- 前記樹脂組成物が、前記ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）１００質量％に対し、前記脂肪酸金属塩（Ｂ）０．１～３質量％を含む、請求項１に記載の積層成形体。
- 前記樹脂組成物が、該樹脂組成物１００質量％に対し、前記ポリフェニレンエーテル系樹脂（Ａ）５９～９８質量％と、スチレン系樹脂（Ｃ）０～３０質量％と、エラストマー成分（Ｄ）１～３５質量％とを含む、請求項１又は２に記載の積層成形体。
- 前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）が、下記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の積層成形体。
- 前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）を構成するモノマーユニット１００個当たり、前記化学式（１）、（２）及び（３）からなる群から選択される１つ以上の構造のユニットを０．０１～１０．０個含有する、請求項４に記載の積層成形体。
- 前記化学式（２）に示す構造のユニットに対する前記化学式（１）に示す構造のユニットの割合が、０～３０モル％である、請求項４又は５に記載の積層成形体。
- 前記化学式（１）及び／又は（２）に示す構造のユニットと、前記化学式（３）に示す構造のユニットとを含む、請求項４～６のいずれか一項に記載の積層成形体。
- 前記ポリフェニレンエーテル（ｉ）が、下記化学式（４）、（５）及び（６）からなる群から選ばれる１つ以上の構造のユニットを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の積層成形体。
- 前記脂肪酸金属塩（Ｂ）が、炭素数２２～２８の脂肪酸金属塩である、請求項１～８のいずれか一項に記載の積層成形体。
- 前記金属薄膜層の厚みが１２ｎｍ以下である、請求項１～９のいずれか一項に記載の積層成形体。
- 前記金属薄膜層が、アルミニウムからなる蒸着膜である、請求項１～１０のいずれか一項に記載の積層成形体。
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