JP7032629B2 - 除染液供給装置 - Google Patents
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Description
本発明は除染液供給装置に関し、より詳しくは、例えばアイソレータシステムが備える複数の除染ガス発生装置に除染液を供給する場合に好適な除染液供給装置に関する。
従来、除染ガス発生装置及びこの除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置を備えたアイソレータシステムは知られている（例えば特許文献１）。この特許文献１の装置においては、除染ガス発生装置としての単一の蒸発器６３で除染ガス（過酸化水素ガス）を発生させ、その除染ガスを配管からなるガス供給通路６４を介して複数の作業室へ供給するように構成されている。
そして、従来、上記単一の蒸発器６３への除染液（過酸化水素水）の供給は、特許文献２に開示された除染液供給装置が用いられている。
そして、従来、上記単一の蒸発器６３への除染液（過酸化水素水）の供給は、特許文献２に開示された除染液供給装置が用いられている。
ところで、特許文献１のように単一の蒸発器を用いて配管を介して複数の作業室に除染ガスを供給する場合には、次のような問題があった。つまり、第１に、蒸発器から各作業室までの配管内で除染ガスの蒸気を凝縮させないために、配管を加熱するヒータが必要であり、配管の長大化に伴って装置コストが上昇する。第２に、蒸発器から各作業室までの配管もエアレーションする必要があるため、作業室を個別に除染・エアレーションすることができない。より詳しくは、複数の作業室のうち、一つの作業室のみに除染ガスを供給してエアレーションをしている間は、除染ガスの供給配管が使えないため、他の作業室に除染ガスを供給できないという問題がある。第３に、単一の蒸発器の場合には、各作業室の体積に応じた除染ガスの流量を、絞り弁等の機械的要素によって制御しているため、各作業室に適切な除染ガスの流量を設定する作業が非常に困難になる。
このような問題を解決する方法としては、各作業室に除染ガス発生装置を設けることが考えられ、例えば特許文献３にはそのような装置が開示されている。しかしながら、特許文献３は、各蒸発器４１～４５に各ポンプ２１ａ～２５ａによって除染液を供給することを開示するだけであり、詳細な構成は示唆されていない。
また、上記特許文献２の除染液供給装置を各除染ガス発生装置に設ける構成も考えられるが、その場合には、各除染ガス発生装置に応じた台数の除染液供給装置が必要になるため、装置コストが上昇するという問題が生じる。
さらに、特許文献２の装置においては次のような問題が指摘されている。第１に、除染液供給通路５（配管）が長大化すると、エア抜き（通路５内を空の状態から先端まで液を満たす）およびエア置換（エアを導入して通路５内を空にする）までに非常に時間が掛かるという問題がある。第２に、仮に通路５にリークがあってもそのことを検出できないという問題があった。
このような問題を解決する方法としては、各作業室に除染ガス発生装置を設けることが考えられ、例えば特許文献３にはそのような装置が開示されている。しかしながら、特許文献３は、各蒸発器４１～４５に各ポンプ２１ａ～２５ａによって除染液を供給することを開示するだけであり、詳細な構成は示唆されていない。
また、上記特許文献２の除染液供給装置を各除染ガス発生装置に設ける構成も考えられるが、その場合には、各除染ガス発生装置に応じた台数の除染液供給装置が必要になるため、装置コストが上昇するという問題が生じる。
さらに、特許文献２の装置においては次のような問題が指摘されている。第１に、除染液供給通路５（配管）が長大化すると、エア抜き（通路５内を空の状態から先端まで液を満たす）およびエア置換（エアを導入して通路５内を空にする）までに非常に時間が掛かるという問題がある。第２に、仮に通路５にリークがあってもそのことを検出できないという問題があった。
上述した事情に鑑み、請求項１に記載した本発明は、除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記各分岐通路には、該各分岐通路における上記送液手段よりも上流側の位置に上記分岐通路に気体を供給する気体供給手段が設けられており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とするものである。
また、請求項２に記載した本発明は、除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記主供給通路の一端および他端が上記貯溜容器と接続されており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とするものである。
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記各分岐通路には、該各分岐通路における上記送液手段よりも上流側の位置に上記分岐通路に気体を供給する気体供給手段が設けられており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とするものである。
また、請求項２に記載した本発明は、除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記主供給通路の一端および他端が上記貯溜容器と接続されており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とするものである。
このような構成によれば、貯溜容器に貯溜した除染液を除染液供給通路を介して複数の除染ガス発生装置に供給することができる。また、従来と比較して除染液供給通路の長さを大幅に短縮することができる。そのため、除染液供給通路内のエア抜き及びエア交換の作業を迅速に行うことができる。
以下、図示第１実施例について本発明を説明すると、図１において、細胞の培養を行うためのアイソレータシステム１は、内部が無菌状態に維持されるアイソレータ２と、このアイソレータ２の入口側の壁面２Ａから順次外方へ連設されて内部が無菌状態に維持される第１操作室３、第２操作室４と、アイソレータ２の出口側の壁面２Ｂに接続室５を介して接続されたインキュベータ６とを備えている。
上記アイソレータ２と第２操作室４とを区画する壁面２Ａおよび両操作室３，４を区画する壁面４Ａ、及び第１操作室３の外方側の壁面３Ａに開閉扉Ｄ１～Ｄ３が開閉自在に設けられている。また、アイソレータ２と接続室５とを区画する上記壁面２Ｂ、および接続室５とインキュベータ６とを区画する壁面６Ａにも開閉扉Ｄ４、Ｄ５が開閉自在に設けられている。
これらの開閉扉Ｄ１～Ｄ５の閉鎖状態では、アイソレータ２、両操作室３，４、接続室５及びインキュベータ６の内部は、それぞれ気密を保持して外部環境から隔離されるようになっている。
無菌作業室としてのアイソレータ２及び両操作室３，４には、図示しない作業グローブが設けられており、所要時に作業者が外部から上記作業グローブに手を差し込んでからアイソレータ２、両操作室３，４への物品Ｏ（細胞を収容した容器や機材等）の搬入出や所要の作業を行うようになっている。
上記アイソレータ２と第２操作室４とを区画する壁面２Ａおよび両操作室３，４を区画する壁面４Ａ、及び第１操作室３の外方側の壁面３Ａに開閉扉Ｄ１～Ｄ３が開閉自在に設けられている。また、アイソレータ２と接続室５とを区画する上記壁面２Ｂ、および接続室５とインキュベータ６とを区画する壁面６Ａにも開閉扉Ｄ４、Ｄ５が開閉自在に設けられている。
これらの開閉扉Ｄ１～Ｄ５の閉鎖状態では、アイソレータ２、両操作室３，４、接続室５及びインキュベータ６の内部は、それぞれ気密を保持して外部環境から隔離されるようになっている。
無菌作業室としてのアイソレータ２及び両操作室３，４には、図示しない作業グローブが設けられており、所要時に作業者が外部から上記作業グローブに手を差し込んでからアイソレータ２、両操作室３，４への物品Ｏ（細胞を収容した容器や機材等）の搬入出や所要の作業を行うようになっている。
また、アイソレータシステム１は、上記アイソレータ２、両操作室３，４及び接続室５の内部に除染ガスＧを供給する第１供給ユニットＵ１～第５供給ユニットＵ５と、これら各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給する除染液供給装置１２と、接続室５、アイソレータ２及び両操作室３，４の内部の気体を排出する第１排気手段１３～第４排気手段１６と、各供給ユニットＵ１～Ｕ５を介して、接続室５、アイソレータ２及び両操作室３，４に無菌化された外気を供給する第１給気手段１７Ａ～第５給気手段１７Ｅと、これら構成要素の作動を制御する制御装置１０を備えている。
第１供給ユニットＵ１、第２供給ユニットＵ２はアイソレータ２の天面に設けられており、第１供給ユニットＵ１に第１給気手段１７Ａが接続されるとともに第２供給ユニットＵ２に第２給気手段１７Ｂが接続されている。第３供給ユニットＵ３は第２操作室４の天面に設けられており、第３供給ユニットＵ３に第３給気手段１７Ｃが接続されている。第４供給ユニットＵ４は第１操作室３の天面に設けられており、第４供給ユニットＵ４に第４給気手段１７Ｄが接続されている。さらに、第５供給ユニットＵ５は接続室５の天面に設けられており、第５供給ユニットＵ５に第５給気手段１７Ｅが接続されている。
第１供給ユニットＵ１は、アイソレータ２の天面を覆ったケーシング２１と、このケーシング２１内で除染ガスＧを発生させる除染ガス発生装置１１と、ケーシング２１内で発生した除染ガスＧをアイソレータ２の内部へ送気する３台のファン２２と、アイソレータ２の天面に取り付けられて除染ガスＧをアイソレータ２内へ通過させるＨＥＰＡフィルタＦ１とを備えている。
図３に示すように、除染ガス発生装置１１は、所定高さに支持されたヒータ２３と、その上面に載置されたヒータプレート２４とから構成されている。ヒータ２３とヒータプレート２４が蒸発器として機能するようになっている。除染ガスＧを発生させる際には、予めヒータ２３及びヒータプレート２４が所定温度に加熱されている。そして、後に詳述する除染液供給装置１２の分岐管４１からヒータプレート２４上に除染液Ｗ（過酸化水素水）が滴下して供給されると、除染液Ｗがヒータプレート２４により加熱されて蒸発することで除染ガスＧ（過酸化水素ガス）が発生するようになっている。
第２供給ユニットＵ２は上述した第１供給ユニットＵ１と同様に構成されており、前述したように、これら両供給ユニットＵ１、Ｕ２はアイソレータ２の天面に配置されている。
そして、第１供給ユニットＵ１、第２供給ユニットＵ２の各除染ガス発生装置１１によって除染ガスＧを発生させている状態において、各供給ユニットＵ１、Ｕ２のファン２２が同期して作動されると、各供給ユニットＵ１、Ｕ２のケーシング２１内で発生した除染ガスＧがＨＥＰＡフィルタＦ１を通過してアイソレータ２内に供給されるようになっている。
第１供給ユニットＵ１は、アイソレータ２の天面を覆ったケーシング２１と、このケーシング２１内で除染ガスＧを発生させる除染ガス発生装置１１と、ケーシング２１内で発生した除染ガスＧをアイソレータ２の内部へ送気する３台のファン２２と、アイソレータ２の天面に取り付けられて除染ガスＧをアイソレータ２内へ通過させるＨＥＰＡフィルタＦ１とを備えている。
図３に示すように、除染ガス発生装置１１は、所定高さに支持されたヒータ２３と、その上面に載置されたヒータプレート２４とから構成されている。ヒータ２３とヒータプレート２４が蒸発器として機能するようになっている。除染ガスＧを発生させる際には、予めヒータ２３及びヒータプレート２４が所定温度に加熱されている。そして、後に詳述する除染液供給装置１２の分岐管４１からヒータプレート２４上に除染液Ｗ（過酸化水素水）が滴下して供給されると、除染液Ｗがヒータプレート２４により加熱されて蒸発することで除染ガスＧ（過酸化水素ガス）が発生するようになっている。
第２供給ユニットＵ２は上述した第１供給ユニットＵ１と同様に構成されており、前述したように、これら両供給ユニットＵ１、Ｕ２はアイソレータ２の天面に配置されている。
そして、第１供給ユニットＵ１、第２供給ユニットＵ２の各除染ガス発生装置１１によって除染ガスＧを発生させている状態において、各供給ユニットＵ１、Ｕ２のファン２２が同期して作動されると、各供給ユニットＵ１、Ｕ２のケーシング２１内で発生した除染ガスＧがＨＥＰＡフィルタＦ１を通過してアイソレータ２内に供給されるようになっている。
次に、第３供給ユニットＵ３、第４供給ユニットＵ４及び第５供給ユニットＵ５は、ファン２２が１台だけ配置されること以外は、上記第１供給ユニットＵ１と同様に構成されている。
そして、第３供給ユニットＵ３の除染ガス発生装置１１によって除染ガスＧを発生させている状態において、第３供給ユニットＵ３のファン２２が作動されると、第３供給ユニットＵ３のケーシング２１内で発生した除染ガスＧがＨＥＰＡフィルタＦ１を通過して第２操作室４に供給されるようになっている。
これと同様に、第４供給ユニットＵ４の除染ガス発生装置１１によって除染ガスＧを発生させている状態において、第４供給ユニットＵ４のファン２２が作動されると、第４供給ユニットＵ４のケーシング２１内で発生した除染ガスＧがＨＥＰＡフィルタＦ１を通過して第１操作室４に供給されるようになっている。さらに、これと同様に、第５供給ユニットＵ５の除染ガス発生装置１１によって発生した除染ガスＧが接続室５に供給されるようになっている。
本実施例においては、第１供給ユニットＵ１～第５供給ユニットＵ５が、除染ガスＧをアイソレータ２、両操作室３，４に供給するための除染ガス供給装置となっている。そして、該除染ガス供給装置によって、アイソレータ２、各操作室３、４、接続室５内に除染ガスＧを供給することで、それらアイソレータ２等の内部が除染されるようになっている。
そして、第３供給ユニットＵ３の除染ガス発生装置１１によって除染ガスＧを発生させている状態において、第３供給ユニットＵ３のファン２２が作動されると、第３供給ユニットＵ３のケーシング２１内で発生した除染ガスＧがＨＥＰＡフィルタＦ１を通過して第２操作室４に供給されるようになっている。
これと同様に、第４供給ユニットＵ４の除染ガス発生装置１１によって除染ガスＧを発生させている状態において、第４供給ユニットＵ４のファン２２が作動されると、第４供給ユニットＵ４のケーシング２１内で発生した除染ガスＧがＨＥＰＡフィルタＦ１を通過して第１操作室４に供給されるようになっている。さらに、これと同様に、第５供給ユニットＵ５の除染ガス発生装置１１によって発生した除染ガスＧが接続室５に供給されるようになっている。
本実施例においては、第１供給ユニットＵ１～第５供給ユニットＵ５が、除染ガスＧをアイソレータ２、両操作室３，４に供給するための除染ガス供給装置となっている。そして、該除染ガス供給装置によって、アイソレータ２、各操作室３、４、接続室５内に除染ガスＧを供給することで、それらアイソレータ２等の内部が除染されるようになっている。
各供給ユニットＵ１～Ｕ５のケーシング２１には、第１給気手段１７Ａ～第５給気手段１７Ｅが接続されており、これらの各給気手段１７Ａ～１７Ｅは、制御装置１０によって開閉される図示しない常閉の開閉弁を備えている。
所要時に制御装置１０が各給気手段１７Ａ～１７Ｅの開閉弁を個別に開放させ、かつ、それらの隣接位置のファン２２を作動させると、各ケーシング２１内に外気が取り込まれるとともに、ＨＥＰＡフィルタＦ１によって外気が無菌化されてからアイソレータ２内と各室３～５内に供給されるようになっている。
本実施例では、培養作業開始時において、アイソレータ２内、各室３～５内及びインキュベータ６内を除染ガスＧで除染し、その後にそれらの内部の気体を各排気手段１３～１６によって排気するようにしている。そして、その際に上記各給気手段１７Ａ～１７Ｅによってアイソレータ２、各室３～５、インキュベータ６内に無菌化された外気が供給されるようになっている。各排気手段１３～１６と各給気手段１７Ａ～１７Ｅとによって、アイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６内をエアレーションするエアレーション手段が構成されている。
所要時に制御装置１０が各給気手段１７Ａ～１７Ｅの開閉弁を個別に開放させ、かつ、それらの隣接位置のファン２２を作動させると、各ケーシング２１内に外気が取り込まれるとともに、ＨＥＰＡフィルタＦ１によって外気が無菌化されてからアイソレータ２内と各室３～５内に供給されるようになっている。
本実施例では、培養作業開始時において、アイソレータ２内、各室３～５内及びインキュベータ６内を除染ガスＧで除染し、その後にそれらの内部の気体を各排気手段１３～１６によって排気するようにしている。そして、その際に上記各給気手段１７Ａ～１７Ｅによってアイソレータ２、各室３～５、インキュベータ６内に無菌化された外気が供給されるようになっている。各排気手段１３～１６と各給気手段１７Ａ～１７Ｅとによって、アイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６内をエアレーションするエアレーション手段が構成されている。
次に、上記アイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６の内部に残留した除染ガスＧを含む気体を排出する第１排気手段１３～第４排気手段１６について説明する。
第１排気手段１３は、上記接続室５に接続されて外気に連通させた排気管２７と、この排気管２７の途中に順次設けた流量調整機能付きの開閉弁２８、触媒２９、およびブロワ３０とを備えている。接続室５に対する排気管２７の接続部にＨＥＰＡフィルタＦ１が取り付けられている。上記触媒２９は、除染ガスＧの過酸化水素成分を捕捉して分解する機能を備えている。
接続室５内が除染ガスＧによって除染された後に、開閉弁２８が開放されるとともにブロワ３０が作動されると、接続室５内の気体はＨＥＰＡフィルタＦ１、排気管２７とそれに設けた開閉弁２８、触媒２９及びブロワ３０を介して外部に排出されるようになっている。この時には、上記第５給気手段１７Ｅが作動されるので、無菌化された外気が第５供給ユニットＵ５のケーシング２１を介して接続室５内に供給される。つまり、接続室５のエアレーションが行われるようになっている。
第１排気手段１３は、上記接続室５に接続されて外気に連通させた排気管２７と、この排気管２７の途中に順次設けた流量調整機能付きの開閉弁２８、触媒２９、およびブロワ３０とを備えている。接続室５に対する排気管２７の接続部にＨＥＰＡフィルタＦ１が取り付けられている。上記触媒２９は、除染ガスＧの過酸化水素成分を捕捉して分解する機能を備えている。
接続室５内が除染ガスＧによって除染された後に、開閉弁２８が開放されるとともにブロワ３０が作動されると、接続室５内の気体はＨＥＰＡフィルタＦ１、排気管２７とそれに設けた開閉弁２８、触媒２９及びブロワ３０を介して外部に排出されるようになっている。この時には、上記第５給気手段１７Ｅが作動されるので、無菌化された外気が第５供給ユニットＵ５のケーシング２１を介して接続室５内に供給される。つまり、接続室５のエアレーションが行われるようになっている。
第２排気手段１４～第４排気手段１６は、上述した第１排気手段１３と同様に構成されており、第１排気手段１３と対応する各部材に同じ部材番号を付している。
培養作業開始時にアイソレータ２、各室３、４内が除染ガスＧによって除染された後に、第２排気手段１４～第４排気手段１６の開閉弁２８が開放されるとともにブロワ３０が作動されるようになっている。その際には、各給気手段１７Ａ～１７Ｄも作動される。そのため、アイソレータ２内の気体は、第２排気手段１４を介して外部に排出されるとともに、アイソレータ２内に第１給気手段１７Ａ、第２給気手段１７Ｂによって無菌化された外気が供給される。また、これと同時に、各室３、４内の気体は各排気手段１５、１６を介して排出されるとともに、各室３、４内に第３給気手段１７Ｃ、第４給気手段１７Ｄを介して無菌化された外気が供給されるようになっている。これにより、アイソレータ２、各室３、４内のエアレーションが行われるようになっている。
培養作業開始時にアイソレータ２、各室３、４内が除染ガスＧによって除染された後に、第２排気手段１４～第４排気手段１６の開閉弁２８が開放されるとともにブロワ３０が作動されるようになっている。その際には、各給気手段１７Ａ～１７Ｄも作動される。そのため、アイソレータ２内の気体は、第２排気手段１４を介して外部に排出されるとともに、アイソレータ２内に第１給気手段１７Ａ、第２給気手段１７Ｂによって無菌化された外気が供給される。また、これと同時に、各室３、４内の気体は各排気手段１５、１６を介して排出されるとともに、各室３、４内に第３給気手段１７Ｃ、第４給気手段１７Ｄを介して無菌化された外気が供給されるようになっている。これにより、アイソレータ２、各室３、４内のエアレーションが行われるようになっている。
アイソレータシステム１による細胞の培養は、次のような工程で行われる。
すなわち、開閉扉Ｄ３が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ１、Ｄ２、Ｄ４、Ｄ５が開放された状態において、各供給ユニットＵ１～Ｕ５から除染ガスＧを供給してアイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６内が除染される。その後、各排気手段１３～１６及び各給気手段１７Ａ～１７Ｅが同期して作動されることにより、アイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉Ｄ２が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ３が開閉されて第１操作室３に細胞を収容した容器等の物品Ｏが搬入される。すると、第４供給ユニットＵ４から除染ガスＧが第１操作室３に供給されるので、第１操作室３及び物品Ｏが除染ガスＧにより除染される。この後、第４排気手段１６と第４給気手段１７Ｄが作動されるので、第１操作室３内の除染ガスＧを含んだ気体が外部へ排出されるとともに無菌化された外気が第１操作室３内に供給される。これにより、第１操作室３内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉Ｄ１が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ２が開閉されて物品Ｏは第１操作室３から第２操作室４内に搬入される。この後、第３排気手段１５が作動されるとともに第３給気手段１７Ｃが作動されるので、第２操作室４内に無菌化された外気が供給される。つまり、ここでは除染は行わずに第２操作室４内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉Ｄ４、Ｄ５が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ１が開閉されて物品Ｏは第２操作室４からアイソレータ２内に搬入される。そして、この後、アイソレータ２内の物品Ｏに対して所要の処理が施される。
この後、接続室５の開閉扉Ｄ４、Ｄ５が開閉されてアイソレータ２からインキュベータ６内へ物品Ｏ（細胞を収容した容器）が搬入される。その後、開閉扉Ｄ４、Ｄ５が閉鎖されるとともに、インキュベータ６を接続室５から離脱させて、次の新たなインキュベータ６が接続室５に接続される。このようにして、順次、接続室５を介してインキュベータ６内に物品Ｏを搬入して、各インキュベータ６内で細胞の培養が行われるようになっている。
すなわち、開閉扉Ｄ３が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ１、Ｄ２、Ｄ４、Ｄ５が開放された状態において、各供給ユニットＵ１～Ｕ５から除染ガスＧを供給してアイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６内が除染される。その後、各排気手段１３～１６及び各給気手段１７Ａ～１７Ｅが同期して作動されることにより、アイソレータ２、各室３～５及びインキュベータ６内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉Ｄ２が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ３が開閉されて第１操作室３に細胞を収容した容器等の物品Ｏが搬入される。すると、第４供給ユニットＵ４から除染ガスＧが第１操作室３に供給されるので、第１操作室３及び物品Ｏが除染ガスＧにより除染される。この後、第４排気手段１６と第４給気手段１７Ｄが作動されるので、第１操作室３内の除染ガスＧを含んだ気体が外部へ排出されるとともに無菌化された外気が第１操作室３内に供給される。これにより、第１操作室３内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉Ｄ１が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ２が開閉されて物品Ｏは第１操作室３から第２操作室４内に搬入される。この後、第３排気手段１５が作動されるとともに第３給気手段１７Ｃが作動されるので、第２操作室４内に無菌化された外気が供給される。つまり、ここでは除染は行わずに第２操作室４内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉Ｄ４、Ｄ５が閉鎖されるとともに開閉扉Ｄ１が開閉されて物品Ｏは第２操作室４からアイソレータ２内に搬入される。そして、この後、アイソレータ２内の物品Ｏに対して所要の処理が施される。
この後、接続室５の開閉扉Ｄ４、Ｄ５が開閉されてアイソレータ２からインキュベータ６内へ物品Ｏ（細胞を収容した容器）が搬入される。その後、開閉扉Ｄ４、Ｄ５が閉鎖されるとともに、インキュベータ６を接続室５から離脱させて、次の新たなインキュベータ６が接続室５に接続される。このようにして、順次、接続室５を介してインキュベータ６内に物品Ｏを搬入して、各インキュベータ６内で細胞の培養が行われるようになっている。
しかして、本実施例は、上述した構成を前提として、各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に対して除染液供給装置１２の単一のタンク３１から除染液Ｗを供給するようにしたことが特徴である。
すなわち、図２に示すように、除染液供給装置１２は、除染液Ｗ（過酸化水素水）を貯溜するタンク３１と、除染液Ｗを貯溜した状態のタンク３１の重量を計測する重量計３２と、除染液Ｗを上記各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１へ供給するための除染液供給通路３３とを備えている。
貯溜手段としてのタンク３１には、所要量の除染液Ｗが貯溜されている。除染液Ｗを含めたタンク３１の重量は重量計３２によって計測され、重量計３２が計測した重量は常時制御装置１０へ伝達されている。制御装置１０は、重量計３２から伝達される重量を基にして、上記タンク３１内に貯溜されている除染液Ｗの量を認識できるようになっている。
すなわち、図２に示すように、除染液供給装置１２は、除染液Ｗ（過酸化水素水）を貯溜するタンク３１と、除染液Ｗを貯溜した状態のタンク３１の重量を計測する重量計３２と、除染液Ｗを上記各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１へ供給するための除染液供給通路３３とを備えている。
貯溜手段としてのタンク３１には、所要量の除染液Ｗが貯溜されている。除染液Ｗを含めたタンク３１の重量は重量計３２によって計測され、重量計３２が計測した重量は常時制御装置１０へ伝達されている。制御装置１０は、重量計３２から伝達される重量を基にして、上記タンク３１内に貯溜されている除染液Ｗの量を認識できるようになっている。
除染液供給通路３３は、各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に向けて除染液Ｗを送液する主供給通路４０と、この主供給通路４０から順次分岐して上記各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に接続される５本の分岐通路４１～４５とから構成されている。
主供給通路４０は、タンク３１から各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１の隣接位置にわたって配置されている。主供給通路４０の一端４０Ａは、タンク３１内の除染液Ｗの中に浸漬されており、他方、主供給通路４０の他端４０Ｂは、タンク３１内に挿入されて除染液Ｗの液面よりも上方となる空間部に位置している。なお、主供給通路４０の他端４０Ｂは除染液Ｗの中に浸漬させても良い。
主供給通路４０における他端４０Ｂに近い位置にローラポンプ（ぜん動ポンプ）からなるポンプＰ１が設けられており、このポンプＰ１の作動は制御装置１０によって制御されるようになっている。主供給通路４０におけるポンプＰ１の装着箇所は軟質樹脂製のチューブで構成されている。ポンプＰ１が駆動されると、主供給通路４０の一端４０Ａから除染液Ｗが吸引されて各分岐通路４１～４４が接続された箇所を流通して他端４０Ｂに向けて送液されるようになっている。つまり、タンク３１内の除染液Ｗは、主供給通路４０の一端４０Ａから吸引されて各分岐通路４１～４５との接続箇所を流通して他端４０Ｂからタンク３１に戻されるようになっている。
主供給通路４０は、タンク３１から各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１の隣接位置にわたって配置されている。主供給通路４０の一端４０Ａは、タンク３１内の除染液Ｗの中に浸漬されており、他方、主供給通路４０の他端４０Ｂは、タンク３１内に挿入されて除染液Ｗの液面よりも上方となる空間部に位置している。なお、主供給通路４０の他端４０Ｂは除染液Ｗの中に浸漬させても良い。
主供給通路４０における他端４０Ｂに近い位置にローラポンプ（ぜん動ポンプ）からなるポンプＰ１が設けられており、このポンプＰ１の作動は制御装置１０によって制御されるようになっている。主供給通路４０におけるポンプＰ１の装着箇所は軟質樹脂製のチューブで構成されている。ポンプＰ１が駆動されると、主供給通路４０の一端４０Ａから除染液Ｗが吸引されて各分岐通路４１～４４が接続された箇所を流通して他端４０Ｂに向けて送液されるようになっている。つまり、タンク３１内の除染液Ｗは、主供給通路４０の一端４０Ａから吸引されて各分岐通路４１～４５との接続箇所を流通して他端４０Ｂからタンク３１に戻されるようになっている。
また、主供給通路４０における一端４０Ａに近い位置には、外気通路３４が接続されており、この外気通路３４には二方切換え弁からなる切換え弁３５が設けられている。外気通路３４の所要位置にはごみを除去するためのフィルタＦ２が設けられている。タンク３１を交換する際に切換え弁３５が開放されると、外気通路３４を介して主供給通路３４に外気を導入することができ、その際には主供給通路４０における一端４０Ａと外気通路３４まで区間に溜まった除染液Ｗがタンク３１に戻されるようになっている。
主供給通路４０における上記ポンプＰ１よりも上流側の位置であって、各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に近接する位置に各分岐通路４１～４５が設けられている。
第１供給ユニットＵ１用の分岐通路４１における主供給通路４０との接続部４１Ａに近い位置に、気体供給手段としての三方切換え弁Ｖが設けられており、それと分岐通路４１の先端４１Ｂとの間にはポンプＰ２が設けられている。分岐通路４１におけるポンプＰ２の装着箇所は軟質樹脂製のチューブで構成されている。三方切換え弁ＶとポンプＰ２の作動は制御装置１０によって制御されるようになっている。この図２に示すように、各分岐通路４１～４５のほとんどの領域は、対応する各供給ユニットＵ１～Ｕ５のケーシング２１内に収容されている。
三方切換え弁Ｖは、分岐通路４１を開放して主供給通路４０と除染ガス発生装置１１との連通を許容する第１位置と、主供給通路４０と除染ガス発生装置１１との連通を遮断して分岐通路４１内に大気を導入する第２位置とに切換え可能となっている。通常では、三方切換え弁Ｖは分岐通路４１内に大気を導入する第２位置にあって、分岐通路４１を閉鎖している。なお、分岐通路４１を開放する第１位置にあっても良く、この場合は、分岐通路４１がローラポンプ（ぜん動ポンプ）からなるポンプＰ２のローラによって押しつぶされることで閉鎖される。三方切換え弁Ｖの外気取り入れ口にはごみを除去するためのフィルタＦ３が設けられている。
三方切換え弁Ｖが第１位置にある状態でポンプＰ２が駆動されると、タンク３１内の除染液Ｗは主供給通路４０と分岐通路４１を流通してから第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給されるようになっている。
図３に示すように、分岐通路４１の先端４１Ｂは、第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１が備えるヒータプレート２４の上方に支持されており、上記ポンプＰ２によって送液されてきた除染液Ｗは、先端４１Ｂからヒータプレート２４に滴下されて蒸発して除染ガスＧが発生するようになっている。
主供給通路４０における上記ポンプＰ１よりも上流側の位置であって、各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に近接する位置に各分岐通路４１～４５が設けられている。
第１供給ユニットＵ１用の分岐通路４１における主供給通路４０との接続部４１Ａに近い位置に、気体供給手段としての三方切換え弁Ｖが設けられており、それと分岐通路４１の先端４１Ｂとの間にはポンプＰ２が設けられている。分岐通路４１におけるポンプＰ２の装着箇所は軟質樹脂製のチューブで構成されている。三方切換え弁ＶとポンプＰ２の作動は制御装置１０によって制御されるようになっている。この図２に示すように、各分岐通路４１～４５のほとんどの領域は、対応する各供給ユニットＵ１～Ｕ５のケーシング２１内に収容されている。
三方切換え弁Ｖは、分岐通路４１を開放して主供給通路４０と除染ガス発生装置１１との連通を許容する第１位置と、主供給通路４０と除染ガス発生装置１１との連通を遮断して分岐通路４１内に大気を導入する第２位置とに切換え可能となっている。通常では、三方切換え弁Ｖは分岐通路４１内に大気を導入する第２位置にあって、分岐通路４１を閉鎖している。なお、分岐通路４１を開放する第１位置にあっても良く、この場合は、分岐通路４１がローラポンプ（ぜん動ポンプ）からなるポンプＰ２のローラによって押しつぶされることで閉鎖される。三方切換え弁Ｖの外気取り入れ口にはごみを除去するためのフィルタＦ３が設けられている。
三方切換え弁Ｖが第１位置にある状態でポンプＰ２が駆動されると、タンク３１内の除染液Ｗは主供給通路４０と分岐通路４１を流通してから第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給されるようになっている。
図３に示すように、分岐通路４１の先端４１Ｂは、第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１が備えるヒータプレート２４の上方に支持されており、上記ポンプＰ２によって送液されてきた除染液Ｗは、先端４１Ｂからヒータプレート２４に滴下されて蒸発して除染ガスＧが発生するようになっている。
残りの第２供給ユニットＵ２～第５ユニットＵ５用の分岐通路４２～４５及びそれらに設けられる三方切換え弁Ｖ及びポンプＰ２の構成は、上記第１供給ユニットＵ１用の分岐通路４１とそれに設けられる三方切換え弁Ｖ、ポンプＰ２と同様に構成されている。
上記主供給通路４０、各分岐通路４１～４５は導管からなり、主供給通路４０に配置されたポンプＰ１は、分岐通路４１～４５に配置されたポンプＰ２よりも送液能力が大きくなっている。また、ポンプＰ１、Ｐ２としては、ローラポンプ（ぜん動ポンプ）が用いられている。また、各分岐通路４１～４５の長さは、それぞれ約１００ｍｍ程度に設定されている。
以上のように、除染液供給装置１２の除染液供給通路３３は、除染液Ｗを各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に向けて送液する主供給通路４０と、それから分岐して各除染ガス発生装置１１に接続された５本の分岐通路４１～４５を備えており、単一のタンク３１から各供給ユニットＵ１～Ｕ５に除染液Ｗを供給できるようになっている。
上記主供給通路４０、各分岐通路４１～４５は導管からなり、主供給通路４０に配置されたポンプＰ１は、分岐通路４１～４５に配置されたポンプＰ２よりも送液能力が大きくなっている。また、ポンプＰ１、Ｐ２としては、ローラポンプ（ぜん動ポンプ）が用いられている。また、各分岐通路４１～４５の長さは、それぞれ約１００ｍｍ程度に設定されている。
以上のように、除染液供給装置１２の除染液供給通路３３は、除染液Ｗを各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に向けて送液する主供給通路４０と、それから分岐して各除染ガス発生装置１１に接続された５本の分岐通路４１～４５を備えており、単一のタンク３１から各供給ユニットＵ１～Ｕ５に除染液Ｗを供給できるようになっている。
以上のように構成された除染液供給装置１２によって以下のようにして各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給する。
先ず、主供給通路４０のエア抜きと重量計の重量のリセット（キャリブレーション）が行われる。具体的には、先ず、ポンプＰ１を駆動させることにより、タンク３１内の除染液Ｗが一端４０Ａから主供給通路４０内に吸引されてから内部を流通した後に他端４０Ｂからタンク３１に戻される。これにより、主供給通路４０内のエア抜きが行われて、その内部が除染液Ｗで満たされると、ポンプＰ１を停止する。その状態において、重量計３２から制御装置１０に重量が伝達されているので、制御装置１０はキャリブレーションして重量計３２の重量０点を設定する。
次に、例えば１００ｇの除染液Ｗを第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給する場合を説明する。
この場合には、分岐通路４２～４５のポンプＰ２が停止し、かつ、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖが第１位置にあり、分岐通路４２～２５の各三方切換え弁Ｖが第２位置にある状態において、分岐通路４１のポンプＰ２を駆動させてから重量計３２の計測重量が１００ｇ減少したらポンプＰ２を停止させる。但し、第１回目においては、分岐通路４１の内部空間が接続部４１Ａから先端４１Ｂまでが空でエアが入っているので、分岐通路４１の接続部４１Ａから三方切換え弁Ｖまでの区間の重量分だけ除染液Ｗが多く減少するようにポンプＰ２を駆動させる。他方、２回目以降においては、接続部４１Ａから先端４１Ｂまでの内部空間はエア抜きされて除染液Ｗで満たされているので、１００ｇの除染液Ｗを供給する場合には、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少するようにポンプＰ２を駆動させる。
このようにポンプＰ２が駆動されることにより、分岐通路４１及び主供給通路４０を介してタンク３１内の除染液Ｗが吸引された後に分岐通路４１の先端４１Ｂから第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に滴下して供給される（図３参照）。
そして、ポンプＰ２が停止された後に、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖが第１位置から第２位置に切り換えられるので、三方切換え弁Ｖから分岐通路４１内に外気が導入される。これにより、三方切換え弁Ｖの位置から先端４１Ｂまでの区間に残存した除染液Ｗが先端４１Ｂから除染ガス発生装置１１へ排出されて供給される。この時点においては、接続部４１Ａと三方切換え弁Ｖまでの間の分岐通路４１内には除染液Ｗが残留しているが、上述の通り、第１回目においては、この区間の重量分だけ除染液Ｗが多く減少するようにポンプＰ２を駆動しているため、全体では合計して１００ｇの除染液Ｗが分岐通路４１を介して第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給されたことになる。
先ず、主供給通路４０のエア抜きと重量計の重量のリセット（キャリブレーション）が行われる。具体的には、先ず、ポンプＰ１を駆動させることにより、タンク３１内の除染液Ｗが一端４０Ａから主供給通路４０内に吸引されてから内部を流通した後に他端４０Ｂからタンク３１に戻される。これにより、主供給通路４０内のエア抜きが行われて、その内部が除染液Ｗで満たされると、ポンプＰ１を停止する。その状態において、重量計３２から制御装置１０に重量が伝達されているので、制御装置１０はキャリブレーションして重量計３２の重量０点を設定する。
次に、例えば１００ｇの除染液Ｗを第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給する場合を説明する。
この場合には、分岐通路４２～４５のポンプＰ２が停止し、かつ、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖが第１位置にあり、分岐通路４２～２５の各三方切換え弁Ｖが第２位置にある状態において、分岐通路４１のポンプＰ２を駆動させてから重量計３２の計測重量が１００ｇ減少したらポンプＰ２を停止させる。但し、第１回目においては、分岐通路４１の内部空間が接続部４１Ａから先端４１Ｂまでが空でエアが入っているので、分岐通路４１の接続部４１Ａから三方切換え弁Ｖまでの区間の重量分だけ除染液Ｗが多く減少するようにポンプＰ２を駆動させる。他方、２回目以降においては、接続部４１Ａから先端４１Ｂまでの内部空間はエア抜きされて除染液Ｗで満たされているので、１００ｇの除染液Ｗを供給する場合には、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少するようにポンプＰ２を駆動させる。
このようにポンプＰ２が駆動されることにより、分岐通路４１及び主供給通路４０を介してタンク３１内の除染液Ｗが吸引された後に分岐通路４１の先端４１Ｂから第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に滴下して供給される（図３参照）。
そして、ポンプＰ２が停止された後に、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖが第１位置から第２位置に切り換えられるので、三方切換え弁Ｖから分岐通路４１内に外気が導入される。これにより、三方切換え弁Ｖの位置から先端４１Ｂまでの区間に残存した除染液Ｗが先端４１Ｂから除染ガス発生装置１１へ排出されて供給される。この時点においては、接続部４１Ａと三方切換え弁Ｖまでの間の分岐通路４１内には除染液Ｗが残留しているが、上述の通り、第１回目においては、この区間の重量分だけ除染液Ｗが多く減少するようにポンプＰ２を駆動しているため、全体では合計して１００ｇの除染液Ｗが分岐通路４１を介して第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給されたことになる。
以上のようにして、第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に分岐通路４１を介して１００ｇの除染液Ｗを供給する。
この後、第２供給ユニットＵ２の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給する際には、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖが第２位置にある状態のままとし、各分岐通路４１、４３～４５の三方切換え弁Ｖが第２位置にある状態で、分岐通路４２の三方切換え弁Ｖを第２位置から第１位置へ切り換え、分岐通路４２のポンプＰ２を駆動させて、その後、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少したらポンプＰ２を停止させる。この時の処理は、前述した分岐通路４１を介して除染液Ｗを第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給する場合と同様である。そして、この後、分岐通路４２の三方切換え弁Ｖが第１位置から第２位置に切り換えられるので、三方切換え弁Ｖから分岐通路４２内に外気が導入される。これにより、三方切換え弁Ｖの位置から先端４２Ｂまでの区間に残存した除染液Ｗが先端４２Ａから第２供給ユニットＵ２の除染ガス発生装置１１へ排出されて供給される。そして、この後、前述した第１供給ユニットＵ１、第２供給ユニットＵ２の除染ガス発生装置１１への除染液Ｗの供給処理と同様にして、残りの各分岐通路４３～４５を介して順次各供給ユニットＵ３～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に１００ｇの除染液Ｗが供給されるようになっている。
この後、第２供給ユニットＵ２の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給する際には、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖが第２位置にある状態のままとし、各分岐通路４１、４３～４５の三方切換え弁Ｖが第２位置にある状態で、分岐通路４２の三方切換え弁Ｖを第２位置から第１位置へ切り換え、分岐通路４２のポンプＰ２を駆動させて、その後、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少したらポンプＰ２を停止させる。この時の処理は、前述した分岐通路４１を介して除染液Ｗを第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に供給する場合と同様である。そして、この後、分岐通路４２の三方切換え弁Ｖが第１位置から第２位置に切り換えられるので、三方切換え弁Ｖから分岐通路４２内に外気が導入される。これにより、三方切換え弁Ｖの位置から先端４２Ｂまでの区間に残存した除染液Ｗが先端４２Ａから第２供給ユニットＵ２の除染ガス発生装置１１へ排出されて供給される。そして、この後、前述した第１供給ユニットＵ１、第２供給ユニットＵ２の除染ガス発生装置１１への除染液Ｗの供給処理と同様にして、残りの各分岐通路４３～４５を介して順次各供給ユニットＵ３～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に１００ｇの除染液Ｗが供給されるようになっている。
以上のように、本実施例の除染液供給装置１２においては、単一のタンク３１内の除染液Ｗを各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に除染液供給通路３３を介して供給することができる。
また、除染液供給通路３３の各分岐通路４１～４５の長さは約１００ｍｍ程度に設定されており、長さが数ｍにも及んだ従来品と比較して、除染液供給通路３３の長さを大幅に短縮することができる。そのため、主供給通路４０と分岐通路４１～４５とからなる除染液供給通路３３内のエア抜き及びエア置換の作業を迅速に行うことができる。
また、本実施例の除染液供給装置１２においては、除染液供給通路３３のリークやポンプＰ２の故障を容易に検出することができる。つまり、各分岐通路４１～４５のポンプＰ２を駆動させて除染液Ｗを順次各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給する際に、ポンプＰ２を駆動させているにも拘らず重量計３２の計測重量が変化しない場合には、除染液供給通路３３（主供給通路４０、分岐通路４１～４５）に漏れがあること、あるいはポンプＰ１、Ｐ２の故障等のトラブルが発生していることを制御装置１０によって的確に検出することができる。
また、除染液供給通路３３の漏れは次のようにして検出することも可能である。すなわち、ポンプＰ１による主供給通路４０のエア抜きの際に、ポンプＰ１によって一端４０Ａから他端４０Ｂへと除染液Ｗを循環させておき、その状態での重量計３２の計測重量を制御装置１０によって監視するようにしても良い。この場合には、重量計３２による計測重量が減少すると、主供給通路４０に漏れがあると判定することができる。
また、除染液供給通路３３の各分岐通路４１～４５の長さは約１００ｍｍ程度に設定されており、長さが数ｍにも及んだ従来品と比較して、除染液供給通路３３の長さを大幅に短縮することができる。そのため、主供給通路４０と分岐通路４１～４５とからなる除染液供給通路３３内のエア抜き及びエア置換の作業を迅速に行うことができる。
また、本実施例の除染液供給装置１２においては、除染液供給通路３３のリークやポンプＰ２の故障を容易に検出することができる。つまり、各分岐通路４１～４５のポンプＰ２を駆動させて除染液Ｗを順次各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給する際に、ポンプＰ２を駆動させているにも拘らず重量計３２の計測重量が変化しない場合には、除染液供給通路３３（主供給通路４０、分岐通路４１～４５）に漏れがあること、あるいはポンプＰ１、Ｐ２の故障等のトラブルが発生していることを制御装置１０によって的確に検出することができる。
また、除染液供給通路３３の漏れは次のようにして検出することも可能である。すなわち、ポンプＰ１による主供給通路４０のエア抜きの際に、ポンプＰ１によって一端４０Ａから他端４０Ｂへと除染液Ｗを循環させておき、その状態での重量計３２の計測重量を制御装置１０によって監視するようにしても良い。この場合には、重量計３２による計測重量が減少すると、主供給通路４０に漏れがあると判定することができる。
次に図４は除染液供給装置１２の第２実施例を示したものであり、この第２実施例は上記第１実施例の除染液供給装置１２と同じ構成であって、各構成要素の作動のみを変更したものである。
この第２実施例の除染液供給装置１２により第１供給ユニットＵ１に対して１００ｇの除染液Ｗを供給する場合には次のような処理が行われる。
すなわち、先ず、ポンプＰ１を運転して主供給通路４０を除染液Ｗで満たし、重量計３２のキャリブレーションを行う。この間、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖは上記第１実施例と同様に第２位置に位置している。
次に、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖを第１位置に切り換えるとともに、分岐通路４１のポンプＰ２を重量計３２の計測重量が１００ｇ減少するまで運転する。なお、その際、上記第１実施例のように第１回目だけ１００ｇよりも多く減少するような運転は行わず、毎回目標重量分（１００ｇ）だけ重量計３２の計測重量が減少するようにポンプＰ２を運転する。
重量計３２の計測重量が１００ｇ減少した時点で、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖを第２位置に切り換えた状態でポンプＰ２を運転し、フィルタＦ３から大気を導入し、三方切換え弁Ｖから分岐通路４１の先端４１Ｂまでの区間に残留する除染液Ｗを第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に滴下する。
また、この大気の導入作動と同時に、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少した時点で、外気通路３４の切換え弁３５を開放しながらポンプＰ１を運転し、フィルタＦ２と外気通路３４を介して主供給通路４０を大気で置換する。この際、ポンプＰ１の運転速度は、第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に滴下するポンプＰ２の運転速度よりも大きくできる。そのため、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖから先端４１Ｂまでの区間に残留する除染液Ｗを除染ガス発生装置１１に全て滴下させるまでの間に、外気通路３４から導入した大気で主供給通路４０内を置換することができる。
次に、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖを第１位置に切り換えた状態でポンプＰ２を運転することにより、接続部４１Ａから三方切換え弁Ｖまでの区間に残留する除染液Ｗを除染ガス発生装置１１に供給し、１００ｇ全ての除染液Ｗが除染ガス発生装置１１に供給される。この間、外気通路３４の切換え弁３５は開放状態を維持してあるので、ポンプＰ２の運転に伴って、外気通路３４及び主供給通路４０を介して接続部４１Ａから分岐通路４１に大気が導入される。
なお、上記外気通路４を介して主供給通路４０に外気を導入している間に、接続部４１Ａから三方切換え弁Ｖまでに残留する除染液Ｗは、その区間に留まり、その間、前述したフィルタ３を介して大気を分岐通路４１に導入している際に、三方切換え弁Ｖから先端４１Ｂまでの区間の除染液Ｗが随時分岐通路４１から排出されるため、除染液Ｗが存在しない区間が生じることになる。しかしながら、上述した通り、この第２実施例は、上記第１実施例のように第１回目の除染液Ｗの供給時において、目標重量値に加え、三方切換え弁Ｖから接続部４１Ａまでの残留除染液Ｗの重量を加えた分だけ、ポンプＰ２を多く運転する操作が必要ない。上述した供給ユニットＵ１へ除染液Ｗの供給作動と同様にして、順次各供給ユニットＵ２～Ｕ５へ除染液Ｗが供給される。
この第２実施例によれば上記第１実施例と同様の作用・効果が得られるだけでなく、重量計３２で検知した重量分だけを確実に供給することができるので、より精度が高い除染作業が可能となる。
この第２実施例の除染液供給装置１２により第１供給ユニットＵ１に対して１００ｇの除染液Ｗを供給する場合には次のような処理が行われる。
すなわち、先ず、ポンプＰ１を運転して主供給通路４０を除染液Ｗで満たし、重量計３２のキャリブレーションを行う。この間、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖは上記第１実施例と同様に第２位置に位置している。
次に、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖを第１位置に切り換えるとともに、分岐通路４１のポンプＰ２を重量計３２の計測重量が１００ｇ減少するまで運転する。なお、その際、上記第１実施例のように第１回目だけ１００ｇよりも多く減少するような運転は行わず、毎回目標重量分（１００ｇ）だけ重量計３２の計測重量が減少するようにポンプＰ２を運転する。
重量計３２の計測重量が１００ｇ減少した時点で、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖを第２位置に切り換えた状態でポンプＰ２を運転し、フィルタＦ３から大気を導入し、三方切換え弁Ｖから分岐通路４１の先端４１Ｂまでの区間に残留する除染液Ｗを第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に滴下する。
また、この大気の導入作動と同時に、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少した時点で、外気通路３４の切換え弁３５を開放しながらポンプＰ１を運転し、フィルタＦ２と外気通路３４を介して主供給通路４０を大気で置換する。この際、ポンプＰ１の運転速度は、第１供給ユニットＵ１の除染ガス発生装置１１に滴下するポンプＰ２の運転速度よりも大きくできる。そのため、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖから先端４１Ｂまでの区間に残留する除染液Ｗを除染ガス発生装置１１に全て滴下させるまでの間に、外気通路３４から導入した大気で主供給通路４０内を置換することができる。
次に、分岐通路４１の三方切換え弁Ｖを第１位置に切り換えた状態でポンプＰ２を運転することにより、接続部４１Ａから三方切換え弁Ｖまでの区間に残留する除染液Ｗを除染ガス発生装置１１に供給し、１００ｇ全ての除染液Ｗが除染ガス発生装置１１に供給される。この間、外気通路３４の切換え弁３５は開放状態を維持してあるので、ポンプＰ２の運転に伴って、外気通路３４及び主供給通路４０を介して接続部４１Ａから分岐通路４１に大気が導入される。
なお、上記外気通路４を介して主供給通路４０に外気を導入している間に、接続部４１Ａから三方切換え弁Ｖまでに残留する除染液Ｗは、その区間に留まり、その間、前述したフィルタ３を介して大気を分岐通路４１に導入している際に、三方切換え弁Ｖから先端４１Ｂまでの区間の除染液Ｗが随時分岐通路４１から排出されるため、除染液Ｗが存在しない区間が生じることになる。しかしながら、上述した通り、この第２実施例は、上記第１実施例のように第１回目の除染液Ｗの供給時において、目標重量値に加え、三方切換え弁Ｖから接続部４１Ａまでの残留除染液Ｗの重量を加えた分だけ、ポンプＰ２を多く運転する操作が必要ない。上述した供給ユニットＵ１へ除染液Ｗの供給作動と同様にして、順次各供給ユニットＵ２～Ｕ５へ除染液Ｗが供給される。
この第２実施例によれば上記第１実施例と同様の作用・効果が得られるだけでなく、重量計３２で検知した重量分だけを確実に供給することができるので、より精度が高い除染作業が可能となる。
次に、図５は除染液供給装置１２の第３実施例を示したものであり、この第３実施例は上記第２実施例の除染液供給装置１２における各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖを削除した構成となっており、作動は上記第２実施例に準じた内容となっている。
この第３実施例の除染液供給装置１２により第１供給ユニットＵ１に対して１００ｇの除染液Ｗを供給する場合には次のような処理が行われる。
すなわち、先ず、ポンプＰ１を運転して主供給通路４０を除染液Ｗで満たし、重量計３２のキャリブレーションを行う。この間、各分岐通路４１～４５のポンプＰ２は停止している。
次に、分岐通路４１のポンプＰ２を、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少するまで運転する。その際、上記第１実施例のように第１回目だけ１００ｇよりも多く減少するような運転は行わず、毎回目標重量分（１００ｇ）だけ重量計３２が減少するようにポンプＰ２を運転する。
重量計３２の計測重量が１００ｇ減少した時点で、外気通路３４の切換え弁３５を開放しながらポンプＰ１を運転し、フィルタＦ２と外気通路３４を介して主供給通路４０に大気を導入して、該主供給通路４０を大気で置換する。この際、ポンプＰ１の運転速度は、除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを滴下するポンプＰ２の運転速度よりも大きくできる。そのため、主供給通路４０を迅速に大気で置換することができる。
ポンプＰ２を運転することにより、接続部４１Ａから先端４１Ｂまでの区間に残留する除染液Ｗを除染ガス発生装置１１に供給し、１００ｇ全ての除染液Ｗの供給が完了する。なお、この間、外気通路３４の切換え弁３５は開放状態に維持されているので、ポンプＰ２の運転に伴って外気通路３４及び主供給通路４０を介して分岐通路４１に大気が導入される。
以下、各供給ユニットＵ２～Ｕ５に関しても同様の処理が行われる。 このような第３実施例の除染液供給装置１２であっても、上記第２実施例と同様の作用・効果を得ることができ、さらに、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖを省略したことにより、装置のコストダウンを図ることができる。
この第３実施例の除染液供給装置１２により第１供給ユニットＵ１に対して１００ｇの除染液Ｗを供給する場合には次のような処理が行われる。
すなわち、先ず、ポンプＰ１を運転して主供給通路４０を除染液Ｗで満たし、重量計３２のキャリブレーションを行う。この間、各分岐通路４１～４５のポンプＰ２は停止している。
次に、分岐通路４１のポンプＰ２を、重量計３２の計測重量が１００ｇ減少するまで運転する。その際、上記第１実施例のように第１回目だけ１００ｇよりも多く減少するような運転は行わず、毎回目標重量分（１００ｇ）だけ重量計３２が減少するようにポンプＰ２を運転する。
重量計３２の計測重量が１００ｇ減少した時点で、外気通路３４の切換え弁３５を開放しながらポンプＰ１を運転し、フィルタＦ２と外気通路３４を介して主供給通路４０に大気を導入して、該主供給通路４０を大気で置換する。この際、ポンプＰ１の運転速度は、除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを滴下するポンプＰ２の運転速度よりも大きくできる。そのため、主供給通路４０を迅速に大気で置換することができる。
ポンプＰ２を運転することにより、接続部４１Ａから先端４１Ｂまでの区間に残留する除染液Ｗを除染ガス発生装置１１に供給し、１００ｇ全ての除染液Ｗの供給が完了する。なお、この間、外気通路３４の切換え弁３５は開放状態に維持されているので、ポンプＰ２の運転に伴って外気通路３４及び主供給通路４０を介して分岐通路４１に大気が導入される。
以下、各供給ユニットＵ２～Ｕ５に関しても同様の処理が行われる。 このような第３実施例の除染液供給装置１２であっても、上記第２実施例と同様の作用・効果を得ることができ、さらに、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖを省略したことにより、装置のコストダウンを図ることができる。
次に、図６は除染液供給装置１２の第４実施例を示したものであり、上記第１実施例においては各供給ユニットＵ１～Ｕ５を順次個別に運転させていたのに対して、この第４実施例は各供給ユニットＵ１～Ｕ５を同時に運転するようにしたものである。この第４実施例における除染液供給装置１２の構成自体は第１実施例と同じである。
第１実施例に関して段落００１５及び図１に示したように、開閉扉Ｄ３が閉鎖されるとともに、開閉扉Ｄ１、Ｄ２、Ｄ４、Ｄ５が開放された状態において、各供給ユニットＵ１～Ｕ５に例えば合計で３１０ｇの除染液Ｗを供給して除染ガスＧをアイソレータ２、各室３～５に供給する場合について以下に説明する。
ここで、容積の大きなアイソレータ２に配置された供給ユニットＵ１、Ｕ２については各１００ｇ、容積が小さな各操作室３、４の供給ユニットＵ３、Ｕ４については各５０ｇ、さらに最も小さな容積の接続室５の供給ユニットＵ５については、１０ｇの除染液Ｗを供給する場合について説明する。
この場合、各分岐通路４１のポンプＰ２の流量を、所定時間で上記合計重量の供給が可能な流量（Ｘ、Ｙ、Ｚｍｌ／SEC）に設定する。この状態で、主供給通路４０に除染液Ｗが満たされたら、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖを一斉に第１位置に切り換えるとともに、各ポンプＰ２を上記設定流量にて運転し、重量計３２の計測重量が３１０ｇ減少した時点で、各ポンプＰ２を停止させる。この後は、上述した第１実施例から第３実施例に開示したいずれかの形態で除染液Ｗの供給を完了する。
なお、例えばアイソレータ２のみに除染ガスＧを供給する場合においては、それ用の供給ユニットＵ１、Ｕ２のポンプＰ２を同じ流量で運転して、合計の目標重量分だけ重量計３２の計測重量が減少したら、ポンプＰ２を停止するように除染液Ｗを供給する。
このような第４実施例であっても上記第１実施例と同様の作用・効果を得ることができる。
第１実施例に関して段落００１５及び図１に示したように、開閉扉Ｄ３が閉鎖されるとともに、開閉扉Ｄ１、Ｄ２、Ｄ４、Ｄ５が開放された状態において、各供給ユニットＵ１～Ｕ５に例えば合計で３１０ｇの除染液Ｗを供給して除染ガスＧをアイソレータ２、各室３～５に供給する場合について以下に説明する。
ここで、容積の大きなアイソレータ２に配置された供給ユニットＵ１、Ｕ２については各１００ｇ、容積が小さな各操作室３、４の供給ユニットＵ３、Ｕ４については各５０ｇ、さらに最も小さな容積の接続室５の供給ユニットＵ５については、１０ｇの除染液Ｗを供給する場合について説明する。
この場合、各分岐通路４１のポンプＰ２の流量を、所定時間で上記合計重量の供給が可能な流量（Ｘ、Ｙ、Ｚｍｌ／SEC）に設定する。この状態で、主供給通路４０に除染液Ｗが満たされたら、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖを一斉に第１位置に切り換えるとともに、各ポンプＰ２を上記設定流量にて運転し、重量計３２の計測重量が３１０ｇ減少した時点で、各ポンプＰ２を停止させる。この後は、上述した第１実施例から第３実施例に開示したいずれかの形態で除染液Ｗの供給を完了する。
なお、例えばアイソレータ２のみに除染ガスＧを供給する場合においては、それ用の供給ユニットＵ１、Ｕ２のポンプＰ２を同じ流量で運転して、合計の目標重量分だけ重量計３２の計測重量が減少したら、ポンプＰ２を停止するように除染液Ｗを供給する。
このような第４実施例であっても上記第１実施例と同様の作用・効果を得ることができる。
なお、上記第１実施例における主供給通路４０のポンプＰ１は、主供給通路４０における分岐通路４１よりも上流側の位置Ｘに設けても良い（図２参照）。この場合には、ポンプＰ１を継続して駆動させて主供給通路４０内に除染液Ｗを循環して流通させた状態において、各分岐通路４１～４５用のポンプＰ２、三方切換え弁Ｖの作動を制御して、各供給ユニットＵ１～Ｕ５の除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給することになる。また、この場合には、少なくともポンプＰ２の運転中は、ポンプＰ１をポンプＰ２に同期して運転する（好ましくは、ポンプＰ２の流量以上でポンプＰ１を運転する）必要がある。
また、図２に示す位置にポンプＰ１を配置した場合であっても、該ポンプＰ１を連続運転させた状態で、各分岐通路４１～４５用のポンプＰ２、三方切換え弁Ｖを作動させることで、各除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給しても良い。この場合には、ポンプＰ１の流量はポンプＰ２の流量よりも大きくても小さくても良い。
また、上記第１実施例においては、主供給通路４０は、その一端４０Ａから吸引した除染液Ｗを他端４０Ｂからタンク３１に戻すように構成されているが、主供給通路４０は、少なくとも一端４０Ａから吸引した除染液Ｗを第４供給ユニットＵ４用の分岐通路４４の位置まで供給できる長さであれば良い。
また、上記第１実施例の各供給ユニットＵ１～Ｕ５の三方切換え弁Ｖの代わりに次のような構成を用いてもよい。つまり、図２に示した外気通路３４とそれに設けた二方切換え弁からなる切換え弁３５と同じ構成を、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖの代わりに用いても良い。
また、上記各実施例ではローラポンプからなるポンプＰ１、Ｐ２を用いているが、ポンプＰ１、Ｐ２としてはローラポンプ以外のポンプを用いても良い。その場合、各分岐通路４１～４５にそれらを閉鎖するための開閉弁を設ける必要がある。
また、上記重量計３２は必須ではなく、それを省略しても良い。この場合には、各分岐通路４１～４４のポンプＰ２の回転量を検出することにより、所定量の除染液Ｗを供給したことを制御装置１０が確認する構成となる。
また、図２に示す位置にポンプＰ１を配置した場合であっても、該ポンプＰ１を連続運転させた状態で、各分岐通路４１～４５用のポンプＰ２、三方切換え弁Ｖを作動させることで、各除染ガス発生装置１１に除染液Ｗを供給しても良い。この場合には、ポンプＰ１の流量はポンプＰ２の流量よりも大きくても小さくても良い。
また、上記第１実施例においては、主供給通路４０は、その一端４０Ａから吸引した除染液Ｗを他端４０Ｂからタンク３１に戻すように構成されているが、主供給通路４０は、少なくとも一端４０Ａから吸引した除染液Ｗを第４供給ユニットＵ４用の分岐通路４４の位置まで供給できる長さであれば良い。
また、上記第１実施例の各供給ユニットＵ１～Ｕ５の三方切換え弁Ｖの代わりに次のような構成を用いてもよい。つまり、図２に示した外気通路３４とそれに設けた二方切換え弁からなる切換え弁３５と同じ構成を、各分岐通路４１～４５の三方切換え弁Ｖの代わりに用いても良い。
また、上記各実施例ではローラポンプからなるポンプＰ１、Ｐ２を用いているが、ポンプＰ１、Ｐ２としてはローラポンプ以外のポンプを用いても良い。その場合、各分岐通路４１～４５にそれらを閉鎖するための開閉弁を設ける必要がある。
また、上記重量計３２は必須ではなく、それを省略しても良い。この場合には、各分岐通路４１～４４のポンプＰ２の回転量を検出することにより、所定量の除染液Ｗを供給したことを制御装置１０が確認する構成となる。
１１‥除染ガス発生装置 １２‥除染液供給装置
３１‥タンク（貯溜容器） ３３‥除染液供給通路
４０‥主供給通路 ４１～４５‥分岐通路
Ｕ１‥第１供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ２‥第２供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ３‥第３供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ４‥第４供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ５‥第５供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｇ‥除染ガス Ｗ‥除染液
Ｐ１‥ポンプ（給液手段） Ｐ２‥ポンプ（送液手段）
Ｖ‥三方切換え弁（気体供給手段）
３１‥タンク（貯溜容器） ３３‥除染液供給通路
４０‥主供給通路 ４１～４５‥分岐通路
Ｕ１‥第１供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ２‥第２供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ３‥第３供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ４‥第４供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｕ５‥第５供給ユニット（除染ガス供給装置）
Ｇ‥除染ガス Ｗ‥除染液
Ｐ１‥ポンプ（給液手段） Ｐ２‥ポンプ（送液手段）
Ｖ‥三方切換え弁（気体供給手段）
Claims (2)
- 除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記各分岐通路には、該各分岐通路における上記送液手段よりも上流側の位置に上記分岐通路に気体を供給する気体供給手段が設けられており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とする除染液供給装置。 - 除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記主供給通路の一端および他端が上記貯溜容器と接続されており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とする除染液供給装置。
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