JP7026822B2 - レーザ装置 - Google Patents

レーザ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7026822B2
JP7026822B2 JP2020558078A JP2020558078A JP7026822B2 JP 7026822 B2 JP7026822 B2 JP 7026822B2 JP 2020558078 A JP2020558078 A JP 2020558078A JP 2020558078 A JP2020558078 A JP 2020558078A JP 7026822 B2 JP7026822 B2 JP 7026822B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
optical element
output
incident
irradiation unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020558078A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020105216A1 (ja
Inventor
敦司 落合
一範 益川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Publication of JPWO2020105216A1 publication Critical patent/JPWO2020105216A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7026822B2 publication Critical patent/JP7026822B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • B23K26/032Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • H01S5/4037Edge-emitting structures with active layers in more than one orientation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/035Aligning the laser beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/0869Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0071Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/35Optical coupling means having switching means
    • G02B6/354Switching arrangements, i.e. number of input/output ports and interconnection types
    • G02B6/35442D constellations, i.e. with switching elements and switched beams located in a plane
    • G02B6/35481xN switch, i.e. one input and a selectable single output of N possible outputs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/35Optical coupling means having switching means
    • G02B6/3598Switching means directly located between an optoelectronic element and waveguides, including direct displacement of either the element or the waveguide, e.g. optical pulse generation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/29Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
    • G02F1/31Digital deflection, i.e. optical switching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
    • H01S5/18386Details of the emission surface for influencing the near- or far-field, e.g. a grating on the surface
    • H01S5/18394Apertures, e.g. defined by the shape of the upper electrode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

本発明は、レーザ装置に関するものである。
任意の方向にレーザを照射するために、レーザの照射方向を変更することが求められている。特許文献1には、レーザの照射方向を波長により変更する技術が開示されている。特許文献1に記載の装置は、2つの分布ブラッグ反射鏡を備える導波路と、導波路内に光を入射させるための光入射口と、導波路内を導波する光を出射するための光出射口とを備える。
特許文献2には、高出力のレーザの照射方向を非機械式に変更する技術が開示されている。特許文献2に記載の装置は、第1方向に長い第1垂直共振器面発光レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting LASER)と、第1垂直共振器面発光レーザに電流を注入する駆動回路とを備える。第1垂直共振器面発光レーザの第1方向の一端側に設けられた入射口に入射された入射光は、第1垂直共振器面発光レーザ内を垂直方向に反射されながら第1方向に進むとともに、第1垂直共振器面発光レーザの上面の出射口から出射光として放射される。この出射光が放射される方向が入射光の波長などに基づき出射口の法線方向から第1方向に傾くことが記載されている。
特開2013-16591号公報 特開2017-157609号公報
本発明は、以上の状況に鑑みなされたものであり、レーザを照射する方向を非機械式に変更するレーザ装置を提供することを目的の1つとする。他の目的については、以下の記載及び実施の形態の説明から理解することができる。
上記目的を達成するため、一実施の形態におけるレーザ装置は、光学素子とレーザ照射器とを備える。光学素子は、対向して設けられた2の反射鏡を有し、2の反射鏡の間に導波路が形成されている。レーザ照射器は、光学素子にレーザを照射する。光学素子は、レーザの少なくとも一部が、2の反射鏡に順番に反射されて導波路を進むように構成されている。光学素子は、レーザの一部を放射する出力面を有する。レーザ照射器は、第1レーザを照射する第1照射部と、第2レーザを照射する第2照射部とを含む複数の照射部を有する。出力面の法線方向から見たときに、導波路において、第1レーザの進行方向は、第2レーザの進行方向と平行でない。
本発明によれば、レーザの照射方向を非機械式に変更することができる。
図1は、一実施の形態におけるレーザ装置の一例を示す概略図である。 図2は、図1のレーザ装置のA-A断面図である。 図3は、一実施の形態におけるレーザ照射器の一例を示す概略図である。 図4は、一実施の形態におけるレーザ照射器の一例を示す概略図である。 図5は、一実施の形態におけるレーザ装置の一例を示す概略図である。 図6は、一実施の形態におけるレーザ装置の一例を示す概略図である。 図7は、一実施の形態におけるレーザ装置の一例を示す概略図である。 図8は、一実施の形態におけるレーザ装置の一例を示す概略図である。 図9は、図8のレーザ装置のB-B断面図である。 図10は、一実施の形態における光学素子の一例を示す概略図である。
本実施の形態に係るレーザ装置1は、図1に示すように、光学素子100と、レーザ照射器200と、制御装置300とを備える。レーザ照射器200は、光学素子100の周囲に設けられ、光学素子100の入力面101に複数の方向からレーザを照射するように構成されている。光学素子100は、入力面101に照射された入射レーザ500を出力面102から出力レーザ501として放射するように構成されている。出力レーザ501が放射される方向は、レーザ照射器200が光学素子100に照射する入射レーザ500の波長と照射方向とにより決定される。入射レーザ500の波長と照射方向とは、制御装置300により制御されるように構成されている。
入射レーザ500は、照射方向が異なる第1入射レーザ500-1(図示せず)、第2入射レーザ500-2(図示せず)、・・・、第i入射レーザ500-i、・・・、第k入射レーザ500-k、・・・、第N入射レーザ500-N(図示せず)の総称である。出力レーザ501は、入射レーザ500の各々が光学素子100に照射されたときに放射される第1出力レーザ501-1(図示せず)、第2出力レーザ501-2(図示せず)、・・・、第i出力レーザ501-i、・・・、第k出力レーザ501-k、・・・、第N出力レーザ501-Nの総称である。第1入射レーザ500-1が光学素子100に照射されると、光学素子100は第1出力レーザ501-1を放射する。第2入射レーザ500-2が光学素子100に照射されると、光学素子100は第2出力レーザ501-2を放射する。第i入射レーザ500-iが光学素子100に照射されると、光学素子100は第i出力レーザ501-iを放射する。第k入射レーザ500-kが光学素子100に照射されると、光学素子100は第k出力レーザ501-kを放射する。第N入射レーザ500-Nが光学素子100に照射されると、光学素子100は第N出力レーザ501-Nを放射する。
光学素子100は、図1、2に示すように、例えば、円柱形に形成され、一方の底面に、入力面101と、出力面102とを有している。入力面101は、例えばこの底面の端部に設けられた平面であり、レーザ照射器200から入射レーザ500が照射されるように構成されている。出力面102は、この底面に設けられた平面であり、出力レーザ501を放射するように構成されている。出力面102は、例えば、この底面の中央に円形に形成されてもよい。入力面101は、出力面102と異なる他方の底面に形成されてもよい。
光学素子100は、基板110の一方の表面の上に第2反射鏡120と、活性層130と、第1反射鏡140と、第1電極150とが順番に積層されて形成されている。各層の境界は、例えば、光学素子100の底面、例えば出力面102に平行して設けられている。また、基板110の他方の表面に隣接して第2電極160が設けられている。
第1反射鏡140は、例えば、表面の端部に入力面101を有する。レーザ照射器200から照射される入射レーザ500は、入力面101から第1反射鏡140に入射する。このため、入力面101は、第1反射鏡140の表面の他の部分に比べて反射率が低くなるように構成されている。例えば、第1反射鏡140は、入力面101が設けられた位置における第1反射鏡140の厚さが、他の位置における第1反射鏡140の厚さよりも薄く形成されている。入力面101は、例えば、出力面102に平行な平面である。
入力面101から入射したレーザは、伝搬レーザ502として、光学素子100の内部を進む。伝搬レーザ502は、入射レーザ500の各々が照射されたときに光学素子100内を進む第1伝搬レーザ502-1、第2伝搬レーザ502-2、・・・、第N伝搬レーザ502-Nの総称である。具体的には、第1入射レーザ500-1が光学素子100に照射されると、第1伝搬レーザ502-1として光学素子100内を進む。第2入射レーザ500-2が光学素子100に照射されると、第2伝搬レーザ502-2として光学素子100内を進む。第N入射レーザ500-Nが光学素子100に照射されると、第N伝搬レーザ502-Nとして光学素子100内を進む。
第1反射鏡140と、第2反射鏡120とは、互いに対向して設けられ、第1反射鏡140と第2反射鏡120との間に導波路170(waveguide)を形成する。具体的には、第2反射鏡120は、入力面101から入射した伝搬レーザ502を反射する。第2反射鏡120に反射された伝搬レーザ502の一部が第1反射鏡140によって反射される。第1反射鏡140によって反射された伝搬レーザ502が第2反射鏡120によって反射される。このように、伝搬レーザ502は、第1反射鏡140と第2反射鏡120とによって順番に反射されて導波路170を進む。第1反射鏡140と第2反射鏡120とは、ブラッグ反射を行うように形成され、例えば分布ブラッグ反射器(DBR:Distributed Bragg Reflector)を含む。導波路170は、例えば平面導波路(planer waveguide)を含む。
第1反射鏡140は、伝搬レーザ502の一部を通し、他の一部を反射する。第1反射鏡140で反射された伝搬レーザ502は、光学素子100の内部を進む。第1反射鏡140を透過した伝搬レーザ502は、第1反射鏡140の表面に形成された出力面102から出力レーザ501として放射される。
一方、第2反射鏡120は、伝搬レーザ502のすべてを反射してもよい。このため、第1反射鏡140の反射率は、第2反射鏡120の反射率よりも低くなるように構成されてもよい。例えば、第1反射鏡140の厚さは、第2反射鏡120の厚さより薄くてもよい。
活性層130は、第1反射鏡140と第2反射鏡120との間に設けられ、活性層130を通過する伝搬レーザ502を増幅する。伝搬レーザ502が導波路170を進むと、伝搬レーザ502の一部が出力レーザ501として放射され、伝搬レーザ502の他の一部が活性層130により増幅される。
活性層130は、第1電極150と第2電極160との間に流される電流により、励起される。例えば、活性層130は、発光状態になるまで励起されてもよい。第1電極150と第2電極160とは、活性層130を挟んで設けられている。例えば、第1電極150は、第1反射鏡140の出力面102に隣接して設けられてもよい。第2電極160は、光学素子100における出力面102の反対側の底面を形成してもよい。
第1電極150と第2電極160とは、制御装置300に接続されている。制御装置300は、第1電極150と第2電極160との間に電流を流し、活性層130を励起する。制御装置300は、活性層130に流れる電流を制御することで、活性層130による伝搬レーザ502の増幅を調整する。
第1電極150は、図1に示すように、入射レーザ500が照射される入力面101と、出力レーザ501が放射される出力面102とに重ならないように形成されている。入力面101は、光学素子100において入射レーザ500が照射される方向の端部に設けられている。出力面102は、例えば、光学素子100の底面の中央に、円形状に形成されている。
このように、光学素子100は、第1反射鏡140と第2反射鏡120との間に設けられた導波路170に沿って伝搬レーザ502を伝搬するとともに、出力面102から出力レーザ501を放射する。光学素子100は、例えば垂直共振器面発光レーザ(VCSEL)を含む。例えば、光学素子100の出力面102の直径が1cmでもよい。
レーザ照射器200は、例えば、図3に示すように、レーザ発振器210と、光スイッチ220と、導波路230と、複数の照射部240(第1照射部240-1、第2照射部240-2、・・・、第i照射部240-i、・・・、第k照射部240-k、・・・、第N照射部240-N)とを備える。レーザ照射器200は、レーザ発振器210が生成するレーザを照射部240から放射するように構成されている。
レーザ発振器210は、波長を調整した種光を生成し、光スイッチ220の入力ポートに入力するように構成されている。レーザ発振器210は、制御装置300に接続され、制御装置300が生成するレーザ制御信号に基づき、種光を生成する。
光スイッチ220は、レーザ発振器210から入力された種光を、この種光を入射レーザ500として光学素子100に照射する照射部240に選択的に出力する。光スイッチ220は、複数の出力ポートを有し、入力ポートに入力された種光を、複数の出力ポートのうち設定された出力ポートから出力するように構成されている。光スイッチ220から出力された種光は、出力ポートに接続された照射部240に伝搬される。光スイッチ220は、制御装置300に接続され、制御装置300が生成する選択制御信号に基づき、種光を出力する出力ポートを設定する。設定された出力ポートに接続された照射部240は、入射レーザ500を光学素子100に照射する。
光スイッチ220は、複数の入力ポートを有してもよい。この場合、レーザ発振器210は、入力ポートに対応した複数の種光を入力する。入力ポートに対応して複数のレーザ発振器210が設けられてもよい。制御装置300は、入射レーザ500を照射する方向に応じて、種光を生成するレーザ発振器210を選択するとともに、光スイッチ220の出力ポートを設定する。
導波路230は、光スイッチ220の出力ポートと照射部240とを接続し、光スイッチ220から出力された種光を照射部240に伝搬する。導波路230は、例えば光ファイバを含む。
照射部240は、入力された種光を入射レーザ500として、光学素子100に照射する。例えば、照射部240の各々は、入射レーザ500を照射する方向が異なり、第1入射レーザ500-1、第2入射レーザ500-2、・・・、第N入射レーザ500-Nを照射する。具体的には、第1照射部240-1は第1入射レーザ500-1を光学素子100に照射する。第2照射部240-2は第2入射レーザ500-2を光学素子100に照射する。第i照射部240-iは第i入射レーザ500-iを光学素子100に照射する。第k照射部240-kは第k入射レーザ500-kを光学素子100に照射する。第N照射部240-Nは第N入射レーザ500-Nを光学素子100に照射する。照射部240は、例えば、コリメータなどを含む。複数の照射部240は、例えば、光ファイバを束ねたファイバアレイで形成されてもよい。複数の照射部240の一部、例えば第1照射部240-1と第2照射部240-2とが同じ方向に入射レーザ500を照射してもよい。
照射部240は、光学素子100を囲むように配置されている。照射部240は、例えば、出力面102の法線方向から見ると、光学素子100の半分を囲むように配置され、照射部240の各々は、等間隔に配置されている。
理解を容易にするため、出力面102の中心を原点とする球面座標系を用いて説明する。原点からの距離を半径r(radius)とし、出力面102の法線610からの角度を極角θ(polar angle)とし、出力面102の面内方向において、原点から見たときの方向を方位φ(azimuthal)とする。
出力レーザ501の放射方向の方位φを制御する方法を説明する。レーザ照射器200は、例えば、第i照射部240-iと、第k照射部240-kとから入射レーザ500を光学素子100に照射する。第i照射部240-iと第k照射部240-kとが照射する入射レーザ500の照射方向の方位φは互いに平行でない。入力面101が平面であるため、第i入射レーザ500-iに対応した第i伝搬レーザ502-iの進行方向の方位φと、第k入射レーザ500-kに対応した第k伝搬レーザ502-kの進行方向の方位φとは互いに平行でない。出力面102が平面であるため、第i伝搬レーザ502-iに対応した第i出力レーザ501-iの放射方向の方位φと、第k伝搬レーザ502-kに対応した第k出力レーザ501-kの放射方向の方位φとは互いに平行でない。このように、第i照射部240-iから入射レーザ500を照射したときの出力レーザ501の放射方向の方位φと、第k照射部240-kから入射レーザ500を照射したときの出力レーザ501の放射方向の方位φとは異なる。照射部240が入射レーザ500を照射する照射部240を変更することで、出力レーザ501の放射方向の方位φを変更することができる。
このように、レーザ装置1は、入射レーザ500を照射する照射部240を変更することで、出力レーザ501の放射方向の方位φを制御することができる。導波路170において、進行方向の方位φが互いに平行にならない複数の入射レーザ500をレーザ照射器200が照射することで、出力レーザ501の放射方向の方位φを制御できるともいえる。複数の照射部240から照射されて光学素子100の内部を進む伝搬レーザ502の複数の光路は、出力面102の法線方向から見たときに、光学素子100内に形成された導波路170の内部で互いに交差してもよい。例えば、第i伝搬レーザ502-iの光路と、第k伝搬レーザ502-kの光路とは、出力面102の法線方向から見たときに、導波路170の内部で交差してもよい。なお、複数の照射部240の中の2つの照射部240が、平行な方向から光学素子100に入射レーザ500を照射してもよい。
照射部240から照射する入射レーザ500の波長を変更することで、出力レーザ501の放射方向の極角θを変更することができる。図2に示すように、入射レーザ500は、入力面101の法線方向に対して傾斜した方向から入力面101に照射され、伝搬レーザ502として光学素子100の内部に導かれる。伝搬レーザ502は、第1反射鏡140と第2反射鏡120とにより反射される。第1反射鏡140における伝搬レーザ502の入射角506をθとすると、ブラッグの法則に基づき、以下の式(1)が成り立つ。
Figure 0007026822000001
ここで、入射角506は、第1反射鏡140に対する伝搬レーザ502の入射方向と、出力面102の法線610との成す角を示す。また、λは伝搬レーザ502の波長を、λは導波路170のカットオフ波長を示す。
第1反射鏡140は、入射角506で入射する伝搬レーザ502の一部を出力レーザ501として通過させる。出力レーザ501は、第1反射鏡140に設けられた出力面102において屈折して放射される。出力レーザ501の波長は伝搬レーザ502の波長と等しいため、出力レーザ501が放射される方向と、出力面102の法線610との成す角を示す出力角505をθとすると、以下の式(2)が成り立つ。
Figure 0007026822000002
ここで、nairは大気中の屈折率を、nwgは導波路170の屈折率を示す。
伝搬レーザ502の波長と、出力レーザ501の波長とは、入射レーザ500と等しいため、出力角505は入射レーザ500の波長に基づき変化する。出力角505は出力レーザ501が放射される方向の極角θを示すため、入射レーザ500の波長に基づき、出力レーザ501が放射される方向の極角θが変更される。この結果、レーザ装置1は、入射レーザ500の波長を変更することで、出力レーザ501の照射方向の極角θを制御することができる。
このように、レーザ装置1は、入射レーザ500を照射する照射部240と、照射部240が照射するレーザの波長とを制御することで、放射する出力レーザ501を所望の方向に放射し得る。レーザ装置1は、非機械式に出力レーザ501の照射方向を制御できるため、出力レーザ501の照射方向を従来よりも速く変更することができる。また、レーザ装置1は、従来よりも小型に形成することができる。例えば、レーザ装置1は、光学素子100の出力面102の直径を1cmとして形成されてもよく、高密度に配置され、レーザアレイに適用されてもよい。
レーザ装置1が出力レーザ501を放射するときに、制御装置300は、出力レーザ501を放射する方向に応じて、光スイッチ220とレーザ発振器210とを制御する。例えば、制御装置300は、出力レーザ501の放射すべき方向の極角θに応じて、レーザ発振器210が生成する種光の波長を制御する。生成する種光の波長を大きくすると、出力レーザ501が放射される出力角505は小さくなる。生成する種光の波長を小さくすると、出力レーザ501が放射される出力角505は大きくなる。このように、制御装置300は、レーザ発振器210が生成する種光の波長を変更することで、極角θにおいて出力レーザ501を所望の方向に放射することができる。
制御装置300は、例えば、出力レーザ501の放射方向の方位φに応じて、光スイッチ220を制御する。例えば、図1において、制御装置300が第1照射部240-1から入射レーザ500を照射するように光スイッチ220を制御すると、出力レーザ501は、図1における右の方向に照射される。制御装置300が第N照射部240-Nから入射レーザ500を照射するように光スイッチ220を制御すると、出力レーザ501は、図1における左の方向に照射される。このように、制御装置300は、光スイッチ220を制御することで、方位φにおいて出力レーザ501を所望の方向に放射することができる。
制御装置300は、出力レーザ501のエネルギーを調整するために、光学素子100の活性層130に流れる電流を制御する。制御装置300は、レーザ発振器210が生成する種光のエネルギーを制御してもよい。レーザ発振器210が生成する種光のエネルギーと、活性層130に流れる電流とを制御することで、出力レーザ501のエネルギーを調整することができる。
光学素子100の、出力面102に対向する裏面、例えば第2電極160に接するように冷却装置を設けてもよい。光学素子100は、光学素子100内部の導波路170を伝搬レーザ502が進むことで、熱を発生させる。冷却装置は、第2電極160に接して設けられることで、効率よく光学素子100を冷却することができる。
レーザ照射器200は、図4に示すように、複数の照射部240にそれぞれ対応した複数のレーザ発振器210を備えてもよい。この場合、制御装置300は、出力レーザ501を照射したい方向の方位φに応じて、種光を生成するレーザ発振器210を選択する。レーザ発振器210が生成した種光は、対応する照射部240から入射レーザ500として放射される。これにより、制御装置300は、出力レーザ501が放射される方位φを制御することができる。
光学素子100は、図5に示すように、多角柱、例えば八角柱に形成されてもよい。入力面101と出力面102とが平面に形成されているため、入射レーザ500が入力面101に照射される方位φに応じて、光学素子100内における伝搬レーザ502の進行方向の方位φが変化する。光学素子100が多角柱に形成されていても、制御装置300は、入射レーザ500を照射する照射部240を制御することで、出力レーザ501の放射方向の方位φを制御することができる。また、光学素子100は、図6に示すように、四角柱に形成されてもよい。
照射部240の配置は、複数の方向から光学素子100に入射レーザ500を照射できれば、任意に選択してよい。例えば、図6に示すように、照射部240は、同一直線上に配置されてもよい。また、図7に示すように、照射部240は、入射レーザ500を放射状に照射するように配置されてもよい。
レーザ照射器200が、光学素子100の導波路170において、伝搬レーザ502の進行方向の方位φがそれぞれ異なる複数の入射レーザ500を照射できれば、入力面101とレーザ照射器200とは任意に選択してもよい。例えば、図8、9に示すように、入力面101が光学素子100の側面に設けられてもよい。この場合、複数の照射部240は、方位φが互いに平行な複数の入射レーザ500をそれぞれ照射してもよい。例えば、出力面102の法線方向から見たときに、第1照射部240-1から照射された第1入射レーザ500-1の、入力面101における入射角は、第N照射部240-Nから照射された第N入射レーザ500-Nの、入力面101における入射角と異なる。入射レーザ500の入射角が異なるため、入力面101における屈折角も異なる。屈折角が異なるため、第1伝搬レーザ502-1の進行方向の方位φは、第N伝搬レーザ502-Nの進行方向の方位φと異なる。伝搬レーザ502の進行方向の方位φが異なるため、出力レーザ501の放射方向の方位φも異なる。このように、照射部240が照射するレーザは、出力面102の法線方向から見たときに、入力面101において屈折する角度が異なるように構成されてもよい。このような構成により、入射レーザ500を照射する照射部240を制御することで、出力レーザ501の放射方向の方位φを変更することができる。なお、方位φが平行でない入射レーザ500を入力面101に照射しても、同様に、出力レーザ501の放射方向の方位φを変更することができる。
光学素子100の出力面102は、出力レーザ501を出力できればよく、任意の形状を選択してもよい。例えば、図10に示すように、出力面102は、第1電極150により、複数の領域に分割されてもよい。第1電極150を光学素子100の底面の中央部分に配置することで、活性層130内の位置の違いにより活性層130を流れる電流の値に差が生じるのを抑制することができる。これにより、出力レーザ501の品質を向上し得る。
以上、実施の形態や実施例を参照して本発明を説明したが、本発明は上記の実施の形態および実施例に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、請求の範囲に記載された本発明の技術思想の範囲内において、当業者が適宜、様々な変形または変更を加えることが可能である。また、技術的に矛盾しない範囲で、上記の実施の形態や実施例を組み合わせても良い。例えば、以上において説明した処理は一例であり、各ステップの順番、処理内容は、機能を阻害しない範囲で変更してもよい。また、説明した構成は、機能を阻害しない範囲で、任意に変更してもよい。例えば、制御装置300は、レーザ装置1の外部に設けられてもよい。伝搬レーザ502を増幅する必要がない場合、活性層130、第1電極150、第2電極160などを省略してもよい。光学素子100は、各層の間に機能を阻害しない層を設けてもよい。光スイッチ220は、直接入射レーザ500を照射してもよい。
なお、この出願は、2018年11月19日に出願された日本特許出願2018-216796号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てを引用によりここに組み込む。

Claims (8)

  1. 対向して設けられた2の反射鏡を有し、前記2の反射鏡の間に1つの導波路が形成された光学素子と、
    前記光学素子にレーザを照射するレーザ照射器と、
    を備え、
    前記光学素子は、前記レーザの少なくとも一部が前記2の反射鏡に順番に反射されて前記1つの導波路を進むように構成され、
    前記光学素子は、前記レーザの一部を放射する出力面を有し、
    前記レーザ照射器は、第1レーザを照射する第1照射部と、第2レーザを照射する第2照射部とを含む複数の照射部を有し、
    前記第1照射部が前記光学素子の前記1つの導波路に前記第1レーザを照射する方向は、前記出力面の法線方向から見たときに、前記第2照射部が前記光学素子の前記1つの導波路に前記第2レーザを照射する方向と平行でなく、
    前記出力面の前記法線方向から見たときに、前記1つの導波路において、前記第1レーザの進行方向は、前記第2レーザの進行方向と平行でなく、
    前記出力面の前記法線方向から見たときに、前記第1レーザが前記出力面から放射される方向は、前記第2レーザが前記出力面から放射される方向と平行でない
    レーザ装置。
  2. 前記出力面の法線方向から見たときに、前記第1レーザの光路は、前記第2レーザの光路と、前記1つの導波路において交差する
    請求項1に記載のレーザ装置。
  3. 前記レーザ照射器は、
    種光を生成するレーザ発振器と、
    前記種光が入力され、前記複数の照射部のうち、前記種光を前記レーザとして前記光学素子に照射する照射部に前記種光を選択的に出力する光スイッチと
    を備える
    請求項1または2に記載のレーザ装置。
  4. 前記レーザ照射器は、
    種光を生成する複数のレーザ発振器を備え、
    前記複数のレーザ発振器の中から前記種光を生成するレーザ発振器を選択することで、前記光学素子に照射する前記レーザを選択する制御装置をさらに備える
    請求項1または2に記載のレーザ装置。
  5. 前記光学素子は、前記2の反射鏡の間に、前記レーザを増幅する活性層を備える
    請求項1から4のいずれか1項に記載のレーザ装置。
  6. 前記光学素子は、前記活性層を励起するための電極を備え、
    前記出力面は、前記電極により複数に分割されている
    請求項5に記載のレーザ装置。
  7. 前記光学素子は、前記レーザが照射される入力面を有し、
    前記入力面は、前記出力面に平行な平面である
    請求項1から6のいずれか1項に記載のレーザ装置。
  8. 前記出力面の法線方向から見たときに、入力面において、前記第1レーザの屈折する角度が、前記第2レーザの屈折する角度と異なる
    請求項1から6のいずれか1項に記載のレーザ装置。
JP2020558078A 2018-11-19 2019-07-05 レーザ装置 Active JP7026822B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018216796 2018-11-19
JP2018216796 2018-11-19
PCT/JP2019/026860 WO2020105216A1 (ja) 2018-11-19 2019-07-05 レーザ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2020105216A1 JPWO2020105216A1 (ja) 2021-09-27
JP7026822B2 true JP7026822B2 (ja) 2022-02-28

Family

ID=70774185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020558078A Active JP7026822B2 (ja) 2018-11-19 2019-07-05 レーザ装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US12005518B2 (ja)
EP (1) EP3820005B1 (ja)
JP (1) JP7026822B2 (ja)
WO (1) WO2020105216A1 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005227324A (ja) 2004-02-10 2005-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 表示素子および表示装置
JP2008004644A (ja) 2006-06-20 2008-01-10 Harison Toshiba Lighting Corp 高輝度発光デバイス
CN102545056A (zh) 2012-02-02 2012-07-04 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种表面发射太赫兹量子级联激光器及其制作方法
JP2013016591A (ja) 2011-07-01 2013-01-24 Denso Corp 光偏向素子および光偏向モジュール
JP2014145935A (ja) 2013-01-29 2014-08-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長選択スイッチ
US8995038B1 (en) 2010-07-06 2015-03-31 Vescent Photonics, Inc. Optical time delay control device
JP2017157609A (ja) 2016-02-29 2017-09-07 国立大学法人東京工業大学 ビーム偏向デバイス

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4348075A (en) * 1979-10-09 1982-09-07 Westinghouse Electric Corp. Bulk acoustic wave integrated optical deflector and monolithic A/D converter using such deflector

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005227324A (ja) 2004-02-10 2005-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 表示素子および表示装置
JP2008004644A (ja) 2006-06-20 2008-01-10 Harison Toshiba Lighting Corp 高輝度発光デバイス
US8995038B1 (en) 2010-07-06 2015-03-31 Vescent Photonics, Inc. Optical time delay control device
JP2013016591A (ja) 2011-07-01 2013-01-24 Denso Corp 光偏向素子および光偏向モジュール
CN102545056A (zh) 2012-02-02 2012-07-04 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种表面发射太赫兹量子级联激光器及其制作方法
JP2014145935A (ja) 2013-01-29 2014-08-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長選択スイッチ
JP2017157609A (ja) 2016-02-29 2017-09-07 国立大学法人東京工業大学 ビーム偏向デバイス

Also Published As

Publication number Publication date
WO2020105216A1 (ja) 2020-05-28
US12005518B2 (en) 2024-06-11
JPWO2020105216A1 (ja) 2021-09-27
EP3820005B1 (en) 2022-11-09
EP3820005A4 (en) 2021-12-01
EP3820005A1 (en) 2021-05-12
US20210308786A1 (en) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11604397B2 (en) Phase front shaping in one and two-dimensional optical phased arrays
JP5900934B2 (ja) 高輝度ダイオード出力の方法及びデバイス
JP3589299B2 (ja) ビーム整形装置
US4688884A (en) Fiberoptic coupling system for phased-array semiconductor lasers
US7680170B2 (en) Coupling devices and methods for stacked laser emitter arrays
US9391713B2 (en) High brightness dense wavelength multiplexing laser
US3289101A (en) Laser system with optical coherence coupling means
US3774121A (en) Wavelength selective laser apparatus
JP2011520292A5 (ja)
WO2020078197A1 (zh) 一种半导体激光器
US20070291373A1 (en) Coupling devices and methods for laser emitters
US10116117B2 (en) LD module
JPH0974245A (ja) 半導体光増幅器
JP7031856B2 (ja) ビーム偏向デバイス
JP7026822B2 (ja) レーザ装置
US5373527A (en) Laser generating apparatus having an arrangement for converging and diverging excitation light
JP2023130472A (ja) 光偏向モジュール
US3825856A (en) Laser generator for single transverse mode operation
TW200504387A (en) Semiconductor laser device
JPH05145148A (ja) 固体レーザ共振器
CN107851953B (zh) 平面波导型激光装置
EP3278408B1 (en) Multi-beam laser system
JP2008541442A (ja) 光ポンピング装置
CN113552723A (zh) 用于形成线束的设备
US3504295A (en) Optically clad laser

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210203

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210203

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211006

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220202

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7026822

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150