JP7025685B2 - Coil device - Google Patents

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Description

本発明は、コイル装置に関する。 The present invention relates to a coil device.

従来から、コイル装置として、特許文献1に記載のコイル装置が知られている。特許文献1に記載のコイル装置は、トロイダルコアと、トロイダルコアに巻回されたコイルとを有する。 Conventionally, as a coil device, the coil device described in Patent Document 1 is known. The coil device described in Patent Document 1 includes a toroidal core and a coil wound around the toroidal core.

しかしながら、特許文献1に記載のコイル装置では、ワイヤをトロイダルコアに巻回する作業を必要とし、コイルの巻乱れによって、コイル装置の特性にばらつきが生じるおそれがある。 However, the coil device described in Patent Document 1 requires a work of winding a wire around a toroidal core, and there is a possibility that the characteristics of the coil device may vary due to the unwinding of the coil.

また、特許文献1に記載のコイル装置では、巻線を施したコアを埋め込み、巻線の端部が、ケースの上面に突出しているピン端子に接続されるため、コイル装置の高さが不要に高くなり、コイル装置の低背化を図ることが困難である。 Further, in the coil device described in Patent Document 1, the height of the coil device is unnecessary because the core having the winding is embedded and the end of the winding is connected to the pin terminal protruding from the upper surface of the case. It becomes difficult to reduce the height of the coil device.

特開2009-141004号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-141004

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、磁気特性のばらつきが少なく低背型のコイル装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such an actual situation, and an object of the present invention is to provide a low-profile coil device with little variation in magnetic characteristics.

上記目的を達成するために、本発明に係るコイル装置は、
コアと、
前記コアを内部に有する素子本体と、
少なくとも前記素子本体の側面に対向する側面部を持つ端子電極と、
前記コアの周囲をコイル状に囲う巻回部を持つコイル部とを有し、
前記巻回部は、
前記コアの周縁に沿って設けられ、前記素子本体の上面から下面に向かって前記素子本体を貫通する複数の接続用導体と、
前記素子本体の上面と下面に形成してあり、前記複数の接続用導体の各々の端部同士を接続する導体間接続部とを有し、
前記巻回部に接続されるリード部が、前記端子電極の側面部に接続されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the coil device according to the present invention is
With the core
The element body having the core inside and
At least a terminal electrode having a side surface portion facing the side surface of the element body,
It has a coil portion having a winding portion that surrounds the core in a coil shape.
The winding part is
A plurality of connecting conductors provided along the peripheral edge of the core and penetrating the element body from the upper surface to the lower surface of the element body.
It is formed on the upper surface and the lower surface of the element body, and has a conductor-to-conductor connecting portion that connects the ends of each of the plurality of connecting conductors.
The lead portion connected to the winding portion is connected to the side surface portion of the terminal electrode.

本発明に係るコイル装置では、コイル部がコアの周囲をコイル状に囲う巻回部を有する。そして、巻回部は、複数の接続用導体と、複数の接続用導体の各々の端部同士を接続する導体間接続部とを有する。すなわち、本発明における巻回部は、従来のコイルとは異なり、ワイヤの巻回を必要としない。すなわち、素子本体に複数の接続用導体を設け、導体間接続部を形成するだけで、コアの周囲をコイル状に囲う巻回部を容易に形成することが可能である。したがって、本発明では、巻回部に巻乱れが発生することがなく、コイル装置の磁気特性のばらつきを抑制する(磁気特性を安定化させる)ことができる。 In the coil device according to the present invention, the coil portion has a winding portion that surrounds the core in a coil shape. The winding portion has a plurality of connecting conductors and a conductor-to-conductor connecting portion that connects the ends of the plurality of connecting conductors. That is, unlike the conventional coil, the winding portion in the present invention does not require winding of a wire. That is, it is possible to easily form a winding portion that surrounds the core in a coil shape only by providing a plurality of connecting conductors in the element main body and forming a connecting portion between the conductors. Therefore, in the present invention, it is possible to suppress the variation in the magnetic characteristics of the coil device (stabilize the magnetic characteristics) without causing the winding disorder in the winding portion.

また、本発明に係るコイル装置では、ワイヤの巻回を必要としないため、巻回部のターン数のばらつきが少なく、コイル装置のインダクタンス値を容易に制御することができる。また、本発明に係るコイル装置では、巻線を施したコアを埋めこんで形成する従来のコイル装置に比較して低背化を図ることができる。 Further, since the coil device according to the present invention does not require winding of the wire, the variation in the number of turns of the winding portion is small, and the inductance value of the coil device can be easily controlled. Further, in the coil device according to the present invention, it is possible to reduce the height as compared with the conventional coil device formed by embedding a wound core.

また、本発明に係るコイル装置では、コイル部のリード部が、端子電極の側面部に接続される。そのため、この点においても、従来に比べて、コイル装置の低背化を図ることが可能である。 Further, in the coil device according to the present invention, the lead portion of the coil portion is connected to the side surface portion of the terminal electrode. Therefore, in this respect as well, it is possible to reduce the height of the coil device as compared with the conventional case.

好ましくは、前記リード部は、前記素子本体の上面および下面の少なくとも一方に形成してあり、前記複数の接続用導体のいずれかの端部と、前記端子電極の側面部とを接続する。このような構成とすることにより、ワイヤの引き回しによりリード部を端子電極に接続していた従来と比較して、リード部の不要な引き回しを防止することが可能となり、コイル装置の磁気特性のばらつきを効果的に抑制することができる。 Preferably, the lead portion is formed on at least one of the upper surface and the lower surface of the element body, and connects the end portion of any one of the plurality of connecting conductors with the side surface portion of the terminal electrode. With such a configuration, it is possible to prevent unnecessary routing of the lead portion as compared with the conventional case in which the lead portion is connected to the terminal electrode by routing the wire, and the magnetic characteristics of the coil device vary. Can be effectively suppressed.

前記素子本体は、複数の前記コアを内部に有してもよく、複数の前記コアの各々の周囲は、前記巻回部によって囲まれ、前記コイル部は、複数の前記コアの各々の周囲を囲う巻回部同士を接続するコア間接続部を有してもよい。このような構成とすることにより、1つのコイル部に、コア間接続部で接続された複数の巻回部が具備される。そのため、コイル装置が複数のコアを具備する場合であっても、複数のコアを具備するコイル装置の磁気特性のばらつきを抑制することができるとともに、当該コイル装置の小型化・低背化を図ることができる。 The element body may have a plurality of the cores inside, each of the plurality of cores may be surrounded by the winding portion, and the coil portion may surround each of the plurality of cores. It may have a core-to-core connection portion that connects the surrounding winding portions to each other. With such a configuration, one coil portion is provided with a plurality of winding portions connected by a connection portion between cores. Therefore, even when the coil device includes a plurality of cores, it is possible to suppress variations in the magnetic characteristics of the coil device including the plurality of cores, and to reduce the size and height of the coil device. be able to.

好ましくは、前記リード部および前記導体間接続部、また必要に応じてコア間接続部は、前記素子本体の上面および下面に形成してある所定の導体パターンで構成される。このような構成とすることにより、コイル部の大部分を導体パターンで形成することが可能となり、素子本体の上面や下面に、コイル部を容易に形成することができる。また、導体パターンの形状や大きさ等を適宜変更することにより、コイル装置の磁気特性を容易に制御することができる。 Preferably, the lead portion, the conductor-to-conductor connection portion, and, if necessary, the core-to-core connection portion are composed of predetermined conductor patterns formed on the upper surface and the lower surface of the element body. With such a configuration, most of the coil portion can be formed by the conductor pattern, and the coil portion can be easily formed on the upper surface or the lower surface of the element main body. Further, the magnetic characteristics of the coil device can be easily controlled by appropriately changing the shape and size of the conductor pattern.

好ましくは、前記素子本体の上面および下面の少なくとも一方には、前記コイル部を保護するための保護層が形成してある。このような構成とすることにより、コイル部の損傷や酸化等が抑制され、コイル部の劣化を効果的に防止することが可能となり、コイル装置の磁気特性のばらつきを効果的に抑制することができる。また、素子本体の上面または下面に保護層が形成してあれば、コイル装置の製造時に、容易に、素子本体の上面または下面をアームで吸着して保持し、搬送することができる。 Preferably, a protective layer for protecting the coil portion is formed on at least one of the upper surface and the lower surface of the element body. With such a configuration, damage and oxidation of the coil portion can be suppressed, deterioration of the coil portion can be effectively prevented, and variations in the magnetic characteristics of the coil device can be effectively suppressed. can. Further, if the protective layer is formed on the upper surface or the lower surface of the element body, the upper surface or the lower surface of the element body can be easily attracted, held, and conveyed by the arm at the time of manufacturing the coil device.

好ましくは、前記端子電極は、前記素子本体の上面に形成してある前記保護層の上に配置される上面部、および前記素子本体の下面に形成してある前記保護層の上に配置される下面部の少なくとも一方を有する。素子本体の上面および下面の少なくとも一方に保護層を形成した場合、コイル部のリード部の表面(上面)は保護層で覆われることになる。リード部の表面が保護層で覆われたとしても、端子電極の側面部にリード部の端面を(電気的に)接続することは可能であり、リード部と端子電極との導通を確実に図ることができる。 Preferably, the terminal electrode is arranged on the upper surface portion formed on the upper surface of the element body and the protective layer formed on the lower surface of the element body. It has at least one of the lower surfaces. When a protective layer is formed on at least one of the upper surface and the lower surface of the element body, the surface (upper surface) of the lead portion of the coil portion is covered with the protective layer. Even if the surface of the lead portion is covered with a protective layer, it is possible to (electrically) connect the end face of the lead portion to the side surface portion of the terminal electrode, and ensure the continuity between the lead portion and the terminal electrode. be able to.

好ましくは、前記コアの表面には、前記コアと前記素子本体の間の熱収縮率の差を緩衝するための緩衝層が形成してある。このような構成とすることにより、コアと素子本体の境界部分に生じるおそれがある内部応力が緩和され、当該境界部分に生じる可能性があるクラックを防止することができる。 Preferably, a buffer layer for cushioning the difference in heat shrinkage between the core and the element body is formed on the surface of the core. With such a configuration, the internal stress that may occur at the boundary portion between the core and the element main body is relaxed, and cracks that may occur at the boundary portion can be prevented.

好ましくは、前記コアは、閉磁路を構成する。閉磁路に沿って、コアの周囲をコイル部でコイル状に囲うことによって、閉磁路を構成するコアを有するコイル装置の磁気特性のばらつきを抑制することができるとともに、当該コイル装置の低背化を図ることができる。 Preferably, the core constitutes a closed magnetic path. By surrounding the core in a coil shape along the closed magnetic path with a coil portion, it is possible to suppress variations in the magnetic characteristics of the coil device having the core constituting the closed magnetic path, and to reduce the height of the coil device. Can be planned.

前記コアはトロイダルコアであってもよい。 The core may be a toroidal core.

また、上記コイル装置を製造するために、本発明に係るコイル装置の製造方法は、
コアを基板の内部に埋設する工程と、
前記コアの周縁に沿って、前記基板の上面から下面に向かって前記基板を貫通する複数の貫通孔を形成する工程と、
前記複数の貫通孔の各々の内部に接続用導体を埋設するとともに、前記基板の上面と下面に、前記複数の接続用導体の各々の端部同士を接続する導体間接続部を形成し、前記コアの周囲をコイル状に囲う巻回部を有するコイル部を形成する工程と、
前記コアが埋設してある基板を切断し、素子本体を形成する工程と、
少なくとも前記素子本体の側面に対向する側面部を持つ端子電極を前記素子本体に形成し、前記コイル部のリード部を前記側面部に接続する工程とを有することを特徴とする。
Further, in order to manufacture the coil device, the method for manufacturing the coil device according to the present invention is as follows.
The process of burying the core inside the board and
A step of forming a plurality of through holes penetrating the substrate from the upper surface to the lower surface of the substrate along the peripheral edge of the core.
A connecting conductor is embedded in each of the plurality of through holes, and inter-conductor connecting portions for connecting the ends of the plurality of connecting conductors are formed on the upper surface and the lower surface of the substrate. The process of forming a coil portion having a winding portion that surrounds the core in a coil shape, and
The process of cutting the substrate in which the core is embedded to form the element body, and
It is characterized by having at least a step of forming a terminal electrode having a side surface portion facing the side surface of the element body on the element body and connecting the lead portion of the coil portion to the side surface portion.

本発明に係るコイル装置の製造方法では、コアを基板(素子本体)の内部に埋設した後に、素子本体に巻回部を形成する。すなわち、本発明では、従来とは異なり、巻回部をコアに巻回するのではなく、素子本体に形成するため、巻回部の巻乱れが生じることがない。また、コイル装置の低背化を効果的に図ることができる。 In the method for manufacturing a coil device according to the present invention, a winding portion is formed in the element body after the core is embedded in the substrate (element body). That is, in the present invention, unlike the conventional case, since the winding portion is formed on the element body instead of being wound around the core, the winding portion is not disturbed. In addition, the height of the coil device can be effectively reduced.

図1Aは本発明の一実施形態に係るコイル装置の斜視図である。FIG. 1A is a perspective view of a coil device according to an embodiment of the present invention. 図1Bは同コイル装置におけるコイル部等の一部拡大斜視図である。FIG. 1B is a partially enlarged perspective view of a coil portion and the like in the coil device. 図1Cは図1Aに示すIC-IC線に沿う同コイル装置の一部拡大断面図である。FIG. 1C is a partially enlarged cross-sectional view of the coil device along the IC-IC line shown in FIG. 1A. 図1Dは同コイル装置における端子電極の一部拡大斜視図である。FIG. 1D is a partially enlarged perspective view of a terminal electrode in the coil device. 図2Aは同コイル装置を製造する過程を示す斜視図である。FIG. 2A is a perspective view showing a process of manufacturing the coil device. 図2Bは図2Aの続きの工程を示す斜視図である。FIG. 2B is a perspective view showing a continuation of the process of FIG. 2A. 図2Cは図2Bの続きの工程を示す斜視図である。FIG. 2C is a perspective view showing a continuation of the process of FIG. 2B. 図2Dは図2Bの続きの工程を示す他の斜視図である。FIG. 2D is another perspective view showing the steps following FIG. 2B.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings.

図1Aに示すように、本発明の一実施形態に係るコイル装置2は、パルストランスであり、コア5a~5dと、素子本体4と、複数の端子電極8と、第1コイル部6aと、第2コイル部6bとを有する。なお、本発明に係るコイル装置は、パルストランスだけでなく、その他のトランス、インダクタ、EMCフィルタあるいはその他のコイル装置にも適用することができる。 As shown in FIG. 1A, the coil device 2 according to the embodiment of the present invention is a pulse transformer, and includes cores 5a to 5d, an element main body 4, a plurality of terminal electrodes 8, a first coil portion 6a, and the like. It has a second coil portion 6b. The coil device according to the present invention can be applied not only to a pulse transformer but also to other transformers, inductors, EMC filters or other coil devices.

素子本体4は、略直方体形状(略六面体)からなり、上面4aと、上面4aとはZ軸方向に反対側にある下面4bと、4つの側面4c~4fとを有する。素子本体4の寸法は、特に限定されないが、たとえば素子本体4の縦(X軸)寸法は、好ましくは8~22mmであり、横(Y軸)寸法は、好ましくは8~22mmであり、高さ(Z軸)寸法は、好ましくは4~6mmである。素子本体4は、好ましくはフィラー(たとえば、ガラスフィラー)等を含んだエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂で構成される。なお、素子本体4は、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂など、その他の合成樹脂で構成されてもよい。 The element main body 4 has a substantially rectangular parallelepiped shape (substantially a hexahedron), and has an upper surface 4a, a lower surface 4b on the opposite side of the upper surface 4a in the Z-axis direction, and four side surfaces 4c to 4f. The dimensions of the element body 4 are not particularly limited, but for example, the vertical (X-axis) dimension of the element body 4 is preferably 8 to 22 mm, and the horizontal (Y-axis) dimension is preferably 8 to 22 mm, which is high. The (Z-axis) dimension is preferably 4 to 6 mm. The element body 4 is preferably made of a thermosetting resin such as an epoxy resin containing a filler (for example, a glass filler). The element body 4 may be made of other synthetic resin such as phenol resin, polyester resin, polyurethane resin, and polyimide resin.

素子本体4は、複数(図示の例では4つ)のコア5a~5dを内部に有する。コア5a~5dは、円筒状に形成されたトロイダルコアであり、閉磁路を構成している。コア5a~5dは、たとえば、フェライトなどのセラミックコアまたは金属コアで構成される。なお、コア5a~5dは、その外周形状および内周形状が平面方向から見て略円形となるように形成してあるが、コア5a~5dの外周形状および内周形状はこれに限定されるものではない。コア5a~5dの外周形状および内周形状は、たとえば平面方向から見て略正方形や略長方形、あるいはその他の形状であってもよい。 The element main body 4 has a plurality of (four in the illustrated example) cores 5a to 5d inside. The cores 5a to 5d are toroidal cores formed in a cylindrical shape and form a closed magnetic path. The cores 5a to 5d are composed of, for example, a ceramic core such as ferrite or a metal core. The cores 5a to 5d are formed so that the outer peripheral shape and the inner peripheral shape thereof are substantially circular when viewed from the plane direction, but the outer peripheral shape and the inner peripheral shape of the cores 5a to 5d are limited to this. It's not a thing. The outer peripheral shape and inner peripheral shape of the cores 5a to 5d may be, for example, a substantially square shape, a substantially rectangular shape, or any other shape when viewed from a plane direction.

コア5a~5dは、Z軸方向に対向する上面および下面を有する。コア5a~5dの上面は素子本体4の上面4aに対向し、コア5a~5dの下面は素子本体4の下面4bに対向している。コア5aは素子本体4の側面4eと側面4dの角部の周辺に配置してあり、コア5bは素子本体4の側面4eと側面4cの角部の周辺に配置してあり、コア5cは素子本体4の側面4fと側面4dの角部の周辺に配置してあり、コア5dは素子本体4の側面4fと側面4cの角部の周辺に配置してある。 The cores 5a to 5d have an upper surface and a lower surface facing each other in the Z-axis direction. The upper surfaces of the cores 5a to 5d face the upper surface 4a of the element body 4, and the lower surfaces of the cores 5a to 5d face the lower surface 4b of the element body 4. The core 5a is arranged around the corners of the side surface 4e and the side surface 4d of the element body 4, the core 5b is arranged around the corners of the side surface 4e and the side surface 4c of the element body 4, and the core 5c is the element. The core 5d is arranged around the corners of the side surface 4f and the side surface 4d of the main body 4, and the core 5d is arranged around the corners of the side surface 4f and the side surface 4c of the element main body 4.

本実施形態では、コア5a~5dの表面には、コア5a~5dと素子本体4の間の熱収縮率の差を緩衝(緩和)するための緩衝層(図示略)が形成してある。緩衝層は、コア5a~5dの上面、下面、内側面および外側面の少なくともいずれかに形成してあることが好ましい。緩衝層を構成する材料としては、シリコン系樹脂等の応力緩和材料が挙げられる。緩衝層の厚みは、好ましくは50~200μmである。 In the present embodiment, a buffer layer (not shown) for cushioning (relaxing) the difference in heat shrinkage between the cores 5a to 5d and the element main body 4 is formed on the surface of the cores 5a to 5d. The buffer layer is preferably formed on at least one of the upper surface, the lower surface, the inner surface surface and the outer surface surface of the cores 5a to 5d. Examples of the material constituting the buffer layer include stress relaxation materials such as silicon-based resin. The thickness of the buffer layer is preferably 50 to 200 μm.

第1コイル部6aおよび第2コイル部6bは、それぞれ1次コイルおよび2次コイルを構成しており、両者間でパルストランスが形成されている。図1Aには、2つの第1コイル部6aおよび第2コイル部6bの組が図示されており、一方のコイル部6a,6bはコア5a,5bの周囲に設けられ、他方のコイル部6a,6bはコア5c,5dの周囲に設けられている。一方のコイル部6a,6bと、他方のコイル部6a,6bとは、同様の構成を有するため、以下において、他方のコイル部6a,6bについての説明は省略する。 The first coil portion 6a and the second coil portion 6b form a primary coil and a secondary coil, respectively, and a pulse transformer is formed between them. FIG. 1A shows a set of two first coil portions 6a and a second coil portion 6b, one coil portion 6a, 6b is provided around the core 5a, 5b, and the other coil portion 6a, 6b is provided around the cores 5c and 5d. Since one coil portion 6a, 6b and the other coil portion 6a, 6b have the same configuration, the description of the other coil portion 6a, 6b will be omitted below.

コイル部6a,6bは、それぞれ第1リード部6a1,6b1と、第2リード部6a2,6b2と、コア間接続部6a3,6b3と、巻回部6a4,6b4とを有する。第1リード部6a1,6b1はコイル部6a,6bの一端に形成してあり、第2リード部6a2,6b2はコイル部6a,6bの他端に形成してある。 The coil portions 6a and 6b have first lead portions 6a1 and 6b1, second lead portions 6a2 and 6b2, inter-core connection portions 6a3 and 6b3, and winding portions 6a4 and 6b4, respectively. The first lead portions 6a1 and 6b1 are formed at one end of the coil portions 6a and 6b, and the second lead portions 6a2 and 6b2 are formed at the other ends of the coil portions 6a and 6b.

2つの巻回部6a4,6b4は、第1リード部6a1,6b1と、第2リード部6a2,6b2との間にそれぞれ形成してある。一方の巻回部6a4または6b4はコア5aの周囲をコイル状に囲っており、他方の巻回部6a4または6b4はコア5bの周囲をコイル状に囲っている。 The two winding portions 6a4 and 6b4 are formed between the first lead portions 6a1 and 6b1 and the second lead portions 6a2 and 6b2, respectively. One winding portion 6a4 or 6b4 coiled around the core 5a, and the other winding portion 6a4 or 6b4 coiled around the core 5b.

図1Bに示すように、巻回部6a4,6b4は、それぞれ複数の接続用導体6a5,6b5と、導体間接続部6a6,6b6とを有する。図1Bに示すように、接続用導体6a5,6b5は、コア5c,5dの内周縁に沿って複数(図示の例では、12本)設けられ、図1Cに示すように、素子本体4の上面4a(下面4b)から下面4b(上面4a)に向かって素子本体4を貫通している。以下において、特に区別する必要がある場合には、コア5c,5dの内周縁に沿って設けられた接続用導体6a5,6b5を、「内周側接続用導体6a5,6b5」と呼ぶ。 As shown in FIG. 1B, the winding portions 6a4 and 6b4 each have a plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5 and inter-conductor connecting portions 6a6 and 6b6. As shown in FIG. 1B, a plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5 (12 in the illustrated example) are provided along the inner peripheral edges of the cores 5c and 5d, and as shown in FIG. 1C, the upper surface of the element main body 4 is provided. It penetrates the element main body 4 from 4a (lower surface 4b) toward the lower surface 4b (upper surface 4a). In the following, when it is necessary to make a distinction, the connecting conductors 6a5 and 6b5 provided along the inner peripheral edges of the cores 5c and 5d are referred to as "inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5".

また、図1Bに示すように、接続用導体6a5,6b5は、コア5c,5dの外周縁に沿って複数(図示の例では、12本)設けられ、図1Cに示すように、素子本体4の上面4a(下面4b)から下面4b(上面4a)に向かって素子本体4を貫通している。以下において、特に区別する必要がある場合には、コア5c,5dの外周縁に沿って設けられた接続用導体6a5,6b5を、「外周側接続用導体6a5,6b5」と呼ぶ。なお、内周側接続用導体6a5,6b5の本数、あるいは外周側接続用導体6a5,6b5の本数は、図示の本数に限定されるものではなく、適宜変更してもよい。 Further, as shown in FIG. 1B, a plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5 (12 in the illustrated example) are provided along the outer peripheral edge of the cores 5c and 5d, and as shown in FIG. 1C, the element main body 4 is provided. The element body 4 penetrates from the upper surface 4a (lower surface 4b) to the lower surface 4b (upper surface 4a). In the following, when it is necessary to make a distinction, the connecting conductors 6a5 and 6b5 provided along the outer peripheral edge of the cores 5c and 5d are referred to as "outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5". The number of inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 or the number of outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 is not limited to the number shown in the figure, and may be changed as appropriate.

接続用導体6a5,6b5は、針状(あるいは略直線状)の形状を有するピン部材によって構成される。図1Cに示すように、接続用導体6a5,6b5は、そのZ軸方向の長さが、素子本体4のZ軸方向の厚みと略等しくなるように形成してある。そのため、接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bは素子本体4の上面4aから露出し、下端62a,62bは素子本体4の下面4bから露出している。上端61aの露出面610aは素子本体4の上面4aと略面一となっており、下端62aの露出面620aは素子本体4の下面4bと略面一となっている。 The connecting conductors 6a5 and 6b5 are composed of pin members having a needle-like (or substantially linear) shape. As shown in FIG. 1C, the connecting conductors 6a5 and 6b5 are formed so that the length in the Z-axis direction thereof is substantially equal to the thickness in the Z-axis direction of the element main body 4. Therefore, the upper ends 61a and 61b of the connecting conductors 6a5 and 6b5 are exposed from the upper surface 4a of the element body 4, and the lower ends 62a and 62b are exposed from the lower surface 4b of the element body 4. The exposed surface 610a of the upper end 61a is substantially flush with the upper surface 4a of the element body 4, and the exposed surface 620a of the lower end 62a is substantially flush with the lower surface 4b of the element body 4.

図1Aに示す例では、内周側接続用導体6a5,6b5とコア5の内周面の間には所定の隙間が形成され、外周側接続用導体6a5,6b5とコア5の外周面の間には所定の隙間が形成されている。ただし、接続用導体6a5,6b5の表面に絶縁被覆を施した場合には、上記所定の隙間を省略してもよい。絶縁被覆としては、エポキシ変性アクリル樹脂などを用いることができる。 In the example shown in FIG. 1A, a predetermined gap is formed between the inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 and the inner peripheral surface of the core 5, and between the outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 and the outer peripheral surface of the core 5. A predetermined gap is formed in the. However, when the surface of the connecting conductors 6a5 and 6b5 is coated with an insulating coating, the predetermined gap may be omitted. As the insulating coating, an epoxy-modified acrylic resin or the like can be used.

接続用導体6a5,6b5を構成する材料は、特に限定されるものではなく、たとえばCu、Ag、Au、Al、あるいはこれらの合金等からなる導電材が例示される。接続用導体6a5,6b5を構成するピン部材の直径は、好ましくは0.05~0.3mmである。 The material constituting the connecting conductors 6a5 and 6b5 is not particularly limited, and examples thereof include a conductive material made of Cu, Ag, Au, Al, or an alloy thereof. The diameter of the pin member constituting the connecting conductors 6a5 and 6b5 is preferably 0.05 to 0.3 mm.

図1Bに示すように、導体間接続部6a6,6b6は、素子本体4の上面4aと下面4bとに形成してあり、複数の接続用導体6a5,6b5の各々の端部同士を接続する。より詳細には、図1Cおよび図2Cに示すように、素子本体4の上面4aでは、導体間接続部6a6,6b6は、内周側接続用導体6a5,6b5の各々の上端61a,61bの露出面610a,610bと、外周側接続用導体6a5,6b5の各々の上端61a,61bの露出面610a,610bとを接続するように形成してある。 As shown in FIG. 1B, the interconductor connecting portions 6a6 and 6b6 are formed on the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element main body 4, and connect the end portions of the plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5 to each other. More specifically, as shown in FIGS. 1C and 2C, in the upper surface 4a of the element main body 4, the interconductor connecting portions 6a6 and 6b6 are exposed at the upper ends 61a and 61b of the inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5, respectively. The surfaces 610a and 610b are formed so as to connect the exposed surfaces 610a and 610b of the upper ends 61a and 61b of the outer peripheral side connecting conductors 6a and 6b5, respectively.

図2Cに示す例では、内周側接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bの露出面610a,610bと、その時計回り方向に隣り合った外周側接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bの露出面610a,610bとが、導体間接続部6a6,6b6で接続されている。 In the example shown in FIG. 2C, the exposed surfaces 610a and 610b of the upper ends 61a and 61b of the inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 and the upper ends 61a and 61b of the outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 adjacent to each other in the clockwise direction thereof. The exposed surfaces 610a and 610b of the above are connected by the interconductor connecting portions 6a6 and 6b6.

図1Cおよび図2Dに示すように、素子本体4の下面4bでは、導体間接続部6a6,6b6は、複数の内周側接続用導体6a5,6b5の各々の下端62aの露出面620aと、複数の外周側接続用導体6a5,6b5の各々の下端62aの露出面620aとを接続するように形成してある。 As shown in FIGS. 1C and 2D, in the lower surface 4b of the element main body 4, the inter-conductor connecting portions 6a6 and 6b6 are a plurality of exposed surfaces 620a of the lower ends 62a of each of the plurality of inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5. It is formed so as to connect to the exposed surface 620a of each lower end 62a of each of the outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5.

図示の例では、内周側接続用導体6a5,6b5の下端62a,62bの露出面620a,620bと、その時計回り方向に隣り合った外周側接続用導体6a5,6b5の下端62a,62bの露出面620a,620bとが、導体間接続部6a6,6b6で接続されている。 In the illustrated example, the exposed surfaces 620a, 620b of the lower ends 62a, 62b of the inner peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 and the lower ends 62a, 62b of the outer peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 adjacent to each other in the clockwise direction are exposed. The surfaces 620a and 620b are connected by conductor-to-conductor connecting portions 6a6 and 6b6.

このように、内周側接続用導体6a6,6b6の上端61a,61bは、導体間接続部6a6,6b6を介して、外周側接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bに接続される。そして、当該外周側接続用導体6a5,6b5の下端62a,62bは、他の導体間接続部6a6,6b6を介して、他の内周側接続用導体6a6,6b6の下端62a,62bに接続される。このような接続が、複数の内周側接続用導体6a6,6b6と、複数の外周側接続用導体6a6,6b6とについて、繰り返し行われることによって、略10ターンからなるコイル状(螺旋状の)の巻回部6a4,6b4が形成される。 In this way, the upper ends 61a and 61b of the inner peripheral side connecting conductors 6a6 and 6b6 are connected to the upper ends 61a and 61b of the outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 via the inter-conductor connection portions 6a6 and 6b6. Then, the lower ends 62a and 62b of the outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 are connected to the lower ends 62a and 62b of the other inner peripheral side connecting conductors 6a6 and 6b6 via the other inter-conductor connecting portions 6a6 and 6b6. Ru. By repeatedly making such a connection with the plurality of inner peripheral side connecting conductors 6a6, 6b6 and the plurality of outer peripheral side connecting conductors 6a6, 6b6, a coil shape (spiral shape) consisting of approximately 10 turns is formed. Winding portions 6a4 and 6b4 are formed.

図1Aに示すように、コア間接続部6a3,6b3は、複数(図示の例では、2個)のコア5c,5dの各々の周囲を囲う巻回部6a4,6b4同士を接続する。図示の例では、コア間接続部6a3,6b3は、コア5cの周囲を囲う巻回部6a4,6b4と、コア5dの周囲を囲う巻回部6a4,6b4との間を接続している。より詳細には、図2Cに示すように、コア間接続部6a3,6b3は、コア5cの外周縁に沿って設けられたいずれかの外周側接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bの露出面610a,610bと、コア5cとは異なるコア5dの外周縁に沿って設けられたいずれかの外周側接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bの露出面610a,610bとの間を接続している。 As shown in FIG. 1A, the inter-core connecting portions 6a3 and 6b3 connect the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding each of the plurality of (two in the illustrated example) cores 5c and 5d. In the illustrated example, the inter-core connecting portions 6a3 and 6b3 are connected between the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding the core 5c and the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding the core 5d. More specifically, as shown in FIG. 2C, the intercore connecting portions 6a3 and 6b3 are exposed at the upper ends 61a and 61b of any of the outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 provided along the outer peripheral edge of the core 5c. Connect the surfaces 610a and 610b to the exposed surfaces 610a and 610b of the upper ends 61a and 61b of any of the outer peripheral side connecting conductors 6a and 6b5 provided along the outer peripheral edge of the core 5d different from the core 5c. ing.

図示の例では、コア間接続部6a3,6b3は、素子本体4の上面4aにのみ形成してあるが、素子本体4の下面4bに形成してあってもよい。また、コア間接続部6a3,6b3は、コア5cの外周に沿うように延びているが、コア間接続部6a3,6b3の引き回し方はこれに限定されるものではなく、適宜変更してもよい。 In the illustrated example, the inter-core connection portions 6a3 and 6b3 are formed only on the upper surface 4a of the element body 4, but may be formed on the lower surface 4b of the element body 4. Further, the inter-core connection portions 6a3 and 6b3 extend along the outer periphery of the core 5c, but the method of routing the inter-core connection portions 6a3 and 6b3 is not limited to this and may be appropriately changed. ..

第1リード部6a1,6b1は、コア5cの周囲を囲う巻回部6a4,6b4から、素子本体4の側面4dに向かって延びている。より詳細には、第1リード部6a1,6b1は、コア5cの周囲に設けられた複数の内周側接続用導体6a5,6b5のいずれかの上端61a,61bの露出面610a,610bに一端が接続され、コア5cの上方を通過し、一度屈曲して、素子本体4の側面4dに向かって延びている。第1リード部6a1,6b1の端面は、素子本体4の側面4dから露出しており、後述する端子電極8,8に接続されている。 The first lead portions 6a1, 6b1 extend from the winding portions 6a4, 6b4 surrounding the core 5c toward the side surface 4d of the element main body 4. More specifically, the first lead portions 6a1, 6b1 have one end on the exposed surfaces 610a, 610b of the upper ends 61a, 61b of any of the plurality of inner peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 provided around the core 5c. It is connected, passes above the core 5c, bends once, and extends toward the side surface 4d of the element body 4. The end faces of the first lead portions 6a1 and 6b1 are exposed from the side surface 4d of the element main body 4 and are connected to the terminal electrodes 8 and 8 described later.

なお、第1リード部6a1,6b1のうち、コア5cの上方を通過している部分については、巻回部6a4,6b4の一部とみなしてもよい。この場合、コア5cの周囲を囲う巻回部6a4,6b4のターン数は12ターンとなる。 Of the first lead portions 6a1 and 6b1, the portions passing above the core 5c may be regarded as a part of the winding portions 6a4 and 6b4. In this case, the number of turns of the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding the core 5c is 12 turns.

第2リード部6a2,6b2は、コア5dの周囲を囲う巻回部6a4,6b4から、素子本体4の側面4cに向かって延びている。より詳細には、第2リード部6a2,6b2は、コア5dの周囲に設けられた複数の内周側接続用導体6a5,6b5のいずれかの上端61a,61bの露出面610a,610bに一端が接続され、コア5dの上方を通過し、複数回屈曲して、素子本体4の側面4cに向かって延びている。第2リード部6a2,6b2の端面は、素子本体4の側面4cから露出しており、後述する端子電極8,8に接続されている。 The second lead portions 6a2 and 6b2 extend from the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding the core 5d toward the side surface 4c of the element main body 4. More specifically, the second lead portions 6a2 and 6b2 have one end on the exposed surfaces 610a and 610b of the upper ends 61a and 61b of any of the plurality of inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 provided around the core 5d. It is connected, passes above the core 5d, bends a plurality of times, and extends toward the side surface 4c of the element body 4. The end faces of the second lead portions 6a2 and 6b2 are exposed from the side surface 4c of the element main body 4 and are connected to the terminal electrodes 8 and 8 described later.

なお、第2リード部6a2,6b2のうち、コア5dの上方を通過している部分については、巻回部6a4,6b4の一部とみなしてもよい。この場合、コア5dの周囲を囲う巻回部6a4,6b4のターン数は12ターンとなる。 Of the second lead portions 6a2 and 6b2, the portion passing above the core 5d may be regarded as a part of the winding portions 6a4 and 6b4. In this case, the number of turns of the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding the core 5d is 12 turns.

また、図示の例では、第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2は、素子本体4の上面4aに形成してあるが、素子本体4の下面4bに形成してあってもよく、あるいは、素子本体4の上面4aおよび下面4bの両方に形成してあってもよい。また、第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2は、複数の内周側接続用導体6a5,6b5のいずれかの端部と、端子電極8,8とを接続しているが、複数の外周側接続用導体6a5,6b5のいずれかの端部と、端子電極8,8とを接続していてもよい。 Further, in the illustrated example, the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 are formed on the upper surface 4a of the element main body 4, but may be formed on the lower surface 4b of the element main body 4. It may be formed on both the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element main body 4. Further, the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 connect the terminal portions 8 and 8 to any of the ends of the plurality of inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5. , Any one of the plurality of outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 may be connected to the terminal electrodes 8 and 8.

上述した第1リード部6a1,6b1、第2リード部6a2,6b2、コア間接続部6a3,6b3および導体間接続部6a6,6b6は、素子本体4の同一平面上(上面4a上および下面4b上)に形成してある所定の導体パターン(配線)で構成される。導体パターンは、Ag、Ni、Cuなどの金属またはこれらの合金で構成してある。導体パターンは、接続用導体6a5,6b5と同種の材料で構成してもよく、あるいは異種の材料のいずれで構成してもよい。導体パターンの厚みおよび幅は、好ましくは3~30μmである。導体パターンは、印刷やメッキ等の方法によって形成することが可能であるが、精度良く形成するためには、印刷よりもメッキによって形成することが好ましい。 The first lead portions 6a1, 6b1, the second lead portions 6a2, 6b2, the core-to-core connection portions 6a3, 6b3, and the conductor-to-conductor connection portions 6a6, 6b6 are on the same plane of the element body 4 (on the upper surface 4a and the lower surface 4b). ) Is composed of a predetermined conductor pattern (wiring) formed in). The conductor pattern is composed of a metal such as Ag, Ni, Cu or an alloy thereof. The conductor pattern may be made of the same material as the connecting conductors 6a5 and 6b5, or may be made of different materials. The thickness and width of the conductor pattern is preferably 3 to 30 μm. The conductor pattern can be formed by a method such as printing or plating, but in order to form the conductor pattern with high accuracy, it is preferable to form the conductor pattern by plating rather than printing.

図1Aに示すように、素子本体4の上面4aおよび下面4bには、コイル部6a,6b(導体)を保護するための保護層(保護膜)7が形成してある。保護層7は、いわゆるレジストであり、レジスト材料の塗布、印刷、メッキ、スパッタリング等によって形成される。保護層7は、たとえばエポキシ系の樹脂で構成され、シリコーン等の材料を用いることができる。保護層7の膜厚は、好ましくは70~130μmであり、さらに好ましくは90~110μmである。なお、図示の例では、保護層7は、素子本体4の上面4aおよび下面4bの両方に形成してあるが、素子本体4の上面4aおよび下面4bの一方に形成してあってもよい。 As shown in FIG. 1A, a protective layer (protective film) 7 for protecting the coil portions 6a and 6b (conductor) is formed on the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element main body 4. The protective layer 7 is a so-called resist, and is formed by coating, printing, plating, sputtering, or the like of a resist material. The protective layer 7 is made of, for example, an epoxy-based resin, and a material such as silicone can be used. The film thickness of the protective layer 7 is preferably 70 to 130 μm, more preferably 90 to 110 μm. In the illustrated example, the protective layer 7 is formed on both the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element body 4, but may be formed on one of the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element body 4.

素子本体4には、コイル部6a,6bの第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2が接続される複数(図示の例では、8個)の端子電極8が形成してある。より詳細には、素子本体4の側面4c側に4個の端子電極8が形成してあり、素子本体4の側面4d側にも4個の端子電極8が形成してある。 The element main body 4 is formed with a plurality of (8 in the illustrated example) terminal electrodes 8 to which the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 of the coil portions 6a, 6b are connected. .. More specifically, four terminal electrodes 8 are formed on the side surface 4c side of the element body 4, and four terminal electrodes 8 are also formed on the side surface 4d side of the element body 4.

図1Dに示すように、端子電極8は、側面部81と、上面部82と、下面部83とを有する。図1Aに示すように、側面部81は、素子本体4の側面4c,4dに対向し、側面4c,4dに当接する。上面部82は、素子本体4の上面4aに対向し、上面4a(より正確には、上面4aに形成してある保護層7の上)に配置してある。下面部83は、素子本体4の下面4bに対向し、下面4b(より正確には、下面4bに形成してある保護層7の上)に配置してある。本実施形態では、下面部83は実装面としての機能を有する。 As shown in FIG. 1D, the terminal electrode 8 has a side surface portion 81, an upper surface portion 82, and a lower surface portion 83. As shown in FIG. 1A, the side surface portion 81 faces the side surfaces 4c and 4d of the element main body 4 and abuts on the side surfaces 4c and 4d. The upper surface portion 82 faces the upper surface 4a of the element main body 4 and is arranged on the upper surface 4a (more accurately, on the protective layer 7 formed on the upper surface 4a). The lower surface portion 83 faces the lower surface 4b of the element main body 4 and is arranged on the lower surface 4b (more accurately, on the protective layer 7 formed on the lower surface 4b). In the present embodiment, the lower surface portion 83 has a function as a mounting surface.

端子電極8は、側面部81のZ軸方向の高さが、素子本体4のZ軸方向の厚みと、素子本体4の上面4aに形成してある保護層7の厚みと、素子本体4の下面4bに形成してある保護層7の厚みとの和に略等しくなるように形成してある。 The height of the side surface portion 81 of the terminal electrode 8 in the Z-axis direction is the thickness of the element body 4 in the Z-axis direction, the thickness of the protective layer 7 formed on the upper surface 4a of the element body 4, and the thickness of the element body 4. It is formed so as to be substantially equal to the sum of the thickness of the protective layer 7 formed on the lower surface 4b.

本実施形態では、端子電極8は、素子本体4の側面4c(あるいは側面4d)、上面4aおよび下面4bに跨がって形成される。ただし、端子電極8は、少なくとも素子本体4の側面4c(あるいは側面4d)に形成してあればよく、側面部81を具備していれば、上面部82および/または下面部83については省略してもよい。 In the present embodiment, the terminal electrode 8 is formed so as to straddle the side surface 4c (or the side surface 4d), the upper surface 4a, and the lower surface 4b of the element main body 4. However, the terminal electrode 8 may be formed at least on the side surface 4c (or the side surface 4d) of the element main body 4, and if the side surface portion 81 is provided, the upper surface portion 82 and / or the lower surface portion 83 may be omitted. You may.

第1リード部6a1,6b1は、素子本体4の側面4d側に配置してある端子電極8,8の側面部81,81に接続され、これによりコイル部6a,6bの巻回部6a4,6b4が、第1リード部6a1,6b1を介して、端子電極8,8に接続される。同様に、第2リード部6a2,6b2は、素子本体4の側面4c側に配置してある端子電極8,8の側面部81,81に接続され、これによりコイル部6a,6bの巻回部6a4,6b4が、第2リード部6a2,6b2を介して、端子電極8,8に接続される。 The first lead portions 6a1 and 6b1 are connected to the side surface portions 81 and 81 of the terminal electrodes 8 and 8 arranged on the side surface 4d side of the element main body 4, whereby the winding portions 6a4 and 6b4 of the coil portions 6a and 6b are connected. Is connected to the terminal electrodes 8 and 8 via the first lead portions 6a1 and 6b1. Similarly, the second lead portions 6a2 and 6b2 are connected to the side surface portions 81 and 81 of the terminal electrodes 8 and 8 arranged on the side surface 4c side of the element main body 4, whereby the winding portions of the coil portions 6a and 6b are connected. 6a4 and 6b4 are connected to the terminal electrodes 8 and 8 via the second lead portions 6a2 and 6b2.

端子電極8は、たとえば下地電極膜とメッキ膜との積層電極膜で構成され、下地電極膜としては、Sn,Ag,Ni,Cuなどの金属またはこれらの合金を含む導電ペースト膜で構成してあり、その下地電極膜の上に、メッキ膜が形成してあっても良い。この場合、下地電極膜の形成後、乾燥処理あるいは熱処理を行い、その後メッキ膜の形成を行う。メッキ膜としては、たとえばSn,Au,Ni,Pt,Ag,Pdなどの金属またはこれらの合金が例示される。なお、端子電極8をスパッタリングにより形成してもよい。端子電極8の厚みは、好ましくは3~30μmである。 The terminal electrode 8 is composed of, for example, a laminated electrode film of a base electrode film and a plating film, and the base electrode film is composed of a conductive paste film containing a metal such as Sn, Ag, Ni, Cu or an alloy thereof. Yes, a plating film may be formed on the base electrode film. In this case, after the base electrode film is formed, a drying treatment or a heat treatment is performed, and then a plating film is formed. Examples of the plating film include metals such as Sn, Au, Ni, Pt, Ag, and Pd, or alloys thereof. The terminal electrode 8 may be formed by sputtering. The thickness of the terminal electrode 8 is preferably 3 to 30 μm.

次に、本実施形態のコイル装置2の製造方法について説明する。図2Aに示すように、本実施形態の方法では、まず、表面に緩衝層がコーティングされた複数のコア5が内部に埋設してある基板3を準備する。図示の例では、基板3は、X軸方向に延びる複数の切断予定線10Xと、Y軸方向に延びる複数の切断予定線10Yとによって、複数の領域に区分けされており、各領域の内部にはコア5が4個ずつ埋設してある。 Next, a method of manufacturing the coil device 2 of the present embodiment will be described. As shown in FIG. 2A, in the method of the present embodiment, first, a substrate 3 in which a plurality of cores 5 having a cushioning layer coated on the surface are embedded therein is prepared. In the illustrated example, the substrate 3 is divided into a plurality of regions by a plurality of planned cutting lines 10X extending in the X-axis direction and a plurality of planned cutting lines 10Y extending in the Y-axis direction, and inside each region. Has four cores 5 buried in each.

このような複数のコア5が内部に埋設してある基板3を成形するための方法としては、特に限定されないが、たとえば成型金型の内部に複数のコア5を配置して成形するインサート射出成形や、圧粉成形が用いられる(基板成形工程)。なお、成形金型の材料は、特に限定されるものではなく、成形時の圧力に耐え得るものであれば、プラスチックや金属など適宜選択してよい。 The method for molding the substrate 3 in which the plurality of cores 5 are embedded is not particularly limited, but for example, insert injection molding in which the plurality of cores 5 are arranged and molded inside the molding die. Or, powder forming is used (substrate forming process). The material of the molding die is not particularly limited, and plastic, metal, or the like may be appropriately selected as long as it can withstand the pressure during molding.

次に、図2Bに示すように、複数のコア5の各々の内周縁および外周縁に沿って、基板3の上面3aから下面3bに向かって基板3を貫通する複数の貫通孔9を形成する(貫通孔形成工程)。貫通孔9の形成方法としては、特に限定されず、ドリルなどの切断具、またはレーザなどを用いてもよい。図示の例では、1個のコア5につき、内周側および外周側に、それぞれ12個の貫通孔9が形成してある。なお、貫通孔9の数は、形成するコイル部6a,6bの巻回部6a4,6b4のターン数に応じて適宜変更してもよい。 Next, as shown in FIG. 2B, a plurality of through holes 9 penetrating the substrate 3 from the upper surface 3a to the lower surface 3b of the substrate 3 are formed along the inner and outer peripheral edges of each of the plurality of cores 5. (Through hole forming step). The method for forming the through hole 9 is not particularly limited, and a cutting tool such as a drill, a laser, or the like may be used. In the illustrated example, 12 through holes 9 are formed on the inner peripheral side and the outer peripheral side of each core 5. The number of through holes 9 may be appropriately changed according to the number of turns of the winding portions 6a4 and 6b4 of the coil portions 6a and 6b to be formed.

次に、複数(内周側:12個、外周側:12個)の貫通孔9の各々の内部に接続用導体6a5,6b5を埋設する(接続用導体埋設工程)。接続用導体埋設工程では、接続用導体6a5,6b5の上端61a,61bおよび下端62a,62bが、それぞれ基板3の上面3aおよび下面3bから露出して、露出面610a,610bおよび露出面620a,620bが現れるように接続用導体6a5,6b5を埋設する(図1C参照)。 Next, the connecting conductors 6a5 and 6b5 are embedded inside each of the plurality of (inner peripheral side: 12 pieces, outer peripheral side: 12 pieces) through holes 9 (connecting conductor burying step). In the connection conductor burying step, the upper ends 61a, 61b and the lower ends 62a, 62b of the connecting conductors 6a5, 6b5 are exposed from the upper surface 3a and the lower surface 3b of the substrate 3, respectively, and the exposed surfaces 610a, 610b and the exposed surfaces 620a, 620b are exposed. The connecting conductors 6a5 and 6b5 are embedded so that the above appears (see FIG. 1C).

次に、図1Cおよび図2Dに示すように、基板3の下面3bにおいて、複数(図示の例では、12個)の内周側接続用導体6a5,6b5の各々の下端62a,62bの露出面620a,620bと、複数(図示の例では、12個)の外周側接続用導体6a5,6b5の各々の下端62a,62bの露出面620a,620bとを導体パターンで接続する。これにより、基板3の下面3bには、複数(12個)の内周側接続用導体6a5,6b5の各々の下端62a,62bと、複数(12個)の外周側接続用導体6a5,6b5の各々の下端62a,62bとを接続する導体間接続部6a6,6b6が形成される(導体間接続部形成工程)。 Next, as shown in FIGS. 1C and 2D, on the lower surface 3b of the substrate 3, the exposed surfaces of the lower ends 62a and 62b of each of the plurality of (12 in the illustrated example) inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5. The 620a, 620b and the exposed surfaces 620a, 620b of the lower ends 62a, 62b of each of the plurality of (12 in the illustrated example) outer peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 are connected by a conductor pattern. As a result, on the lower surface 3b of the substrate 3, the lower ends 62a, 62b of each of the plurality (12) inner peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 and the plurality (12) outer peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 are formed. Inter-conductor connection portions 6a6 and 6b6 connecting the lower ends 62a and 62b are formed (conductor-to-conductor connection portion forming step).

なお、導体パターンの形成方法としては、メッキ法により行うことが好ましいが、印刷により行ってもよい。後述するコア間導体パターン形成工程についても同様である。 The method for forming the conductor pattern is preferably performed by a plating method, but may be performed by printing. The same applies to the inter-core conductor pattern forming step described later.

また、図1Cおよび図2Cに示すように、基板3の上面3aにおいて、複数(図示の例では、10個)の内周側接続用導体6a5,6b5の各々の上端61a,61bの露出面610a,610bと、複数(図示の例では、10個)の外周側接続用導体6a5,6b5の各々の上端61a,61bの露出面610a,610bとを導体パターンで接続する。これにより、基板3の上面3aには、複数(10個)の内周側接続用導体6a5,6b5の各々の上端61a,61bと、複数(10個)の外周側接続用導体6a5,6b5の各々の上端61a,61bとを接続する導体間接続部6a6,6b6が形成される(導体間接続部形成工程)。 Further, as shown in FIGS. 1C and 2C, on the upper surface 3a of the substrate 3, the exposed surfaces 610a of the upper ends 61a and 61b of each of the plurality of (10 in the illustrated example) inner peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5. , 610b and the exposed surfaces 610a and 610b of the upper ends 61a and 61b of each of the plurality of (10 in the illustrated example) outer peripheral side connecting conductors 6a and 6b5 are connected by a conductor pattern. As a result, on the upper surface 3a of the substrate 3, the upper ends 61a, 61b of each of the plurality (10) inner peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 and the plurality (10) outer peripheral side connecting conductors 6a5, 6b5 are formed. Inter-conductor connection portions 6a6 and 6b6 connecting the upper ends 61a and 61b are formed (conductor-to-conductor connection portion forming step).

上記のように、基板3の上面3aおよび下面3bについて、導体間接続部形成工程を行うことにより、コア5の周囲をコイル状に囲う巻回部6a4,6b4が形成される。 As described above, by performing the interconductor-to-conductor connection portion forming step on the upper surface 3a and the lower surface 3b of the substrate 3, the wound portions 6a4 and 6b4 that surround the core 5 in a coil shape are formed.

また、基板3の上面3aにおいて、Y軸方向に隣り合う2つのコア5について、一方のコア5の周縁に沿って設けられた複数の外周側接続用導体6a5,6b5のいずれかの上端61a,61bの露出面610a,610bと、他方のコア5の周縁に沿って設けられた複数の外周側接続用導体6a5,6b5のいずれかの上端61a,61bの露出面610a,610bとを導体パターンで接続する(コア間導体パターン形成工程)。なお、コア間導体パターン形成工程は、上述した導体間接続部形成工程と同時に行われる。 Further, on the upper surface 3a of the substrate 3, for the two cores 5 adjacent to each other in the Y-axis direction, the upper end 61a of any one of the plurality of outer peripheral side connecting conductors 6a5 and 6b5 provided along the peripheral edge of one core 5. The exposed surfaces 610a and 610b of 61b and the exposed surfaces 610a and 610b of the upper ends 61a and 61b of any of the plurality of outer peripheral side connecting conductors 6a and 6b5 provided along the peripheral edge of the other core 5 are formed by a conductor pattern. Connect (core-to-core conductor pattern forming process). The intercore conductor pattern forming step is performed at the same time as the above-mentioned interconductor connecting portion forming step.

これにより、Y軸方向に隣り合う2つのコア5の各々の周囲を囲う巻回部6a4,6b4同士が導体パターンで接続される。詳細な図示は省略するが、コア間導体パターン形成工程で形成される導体パターンは、切断予定線10Xに跨がって形成される導体パターンと、切断予定線10Xに跨がることなく形成される導体パターンとに大別される。なお、コア間導体パターン形成工程では、必要に応じて、導体パターンを屈曲させてもよい。 As a result, the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding each of the two cores 5 adjacent to each other in the Y-axis direction are connected by a conductor pattern. Although detailed illustration is omitted, the conductor pattern formed in the intercore conductor pattern forming step is formed with a conductor pattern formed across the planned cutting line 10X and without straddling the planned cutting line 10X. It is roughly divided into the conductor pattern. In the inter-core conductor pattern forming step, the conductor pattern may be bent if necessary.

次に、基板3の上面3aおよび下面3bにレジストを印刷し、保護層7を形成する(保護層形成工程)。なお、予め成形金型の底面に保護層7を形成しておき、その上から基板3を構成する樹脂を成形金型の内部に充填等することにより、下面3bに保護層7が形成してある基板3を得てもよい。 Next, a resist is printed on the upper surface 3a and the lower surface 3b of the substrate 3 to form the protective layer 7 (protective layer forming step). A protective layer 7 is formed on the bottom surface of the molding die in advance, and the resin constituting the substrate 3 is filled inside the molding die from above, whereby the protective layer 7 is formed on the lower surface 3b. A certain substrate 3 may be obtained.

次に、基板3を切断予定線10Xおよび10Yに沿って切断し、複数の素子本体4に個片化する(基板切断工程)。これにより、内部に複数(図示の例では、4個)のコア5c~5dが埋設してある素子本体4を得る。基板3の切断方法としては、特に限定されず、ダイシングソーやワイヤソーなどの切断具、またはレーザなどを用いてもよい。なお、切断容易性の観点では、切断面が鋭利であるダイシングソーを用いることが好ましい。 Next, the substrate 3 is cut along the planned cutting lines 10X and 10Y, and is separated into a plurality of element main bodies 4 (board cutting step). As a result, the element main body 4 in which a plurality of (4 in the illustrated example) cores 5c to 5d are embedded is obtained. The method for cutting the substrate 3 is not particularly limited, and a cutting tool such as a dicing saw or a wire saw, a laser, or the like may be used. From the viewpoint of ease of cutting, it is preferable to use a dicing saw having a sharp cut surface.

ここで、基板切断工程では、コア間導体パターン形成工程において、切断予定線10Xに跨がって形成された導体パターンも切断される。当該導体パターンのうち、相対的に見て、Y軸正方向側に配置してある導体パターンは、Y軸正方向側に配置してある素子本体4の第1リード部6a1,6b1となる。一方、当該導体パターンのうち、相対的に見て、Y軸負方向側に配置してある導体パターンは、Y軸負方向側に配置してある素子本体4の第2リード部6a2,6b2となる。 Here, in the substrate cutting step, the conductor pattern formed across the planned cutting line 10X is also cut in the inter-core conductor pattern forming step. Of the conductor patterns, the conductor patterns arranged on the positive direction side of the Y axis are the first lead portions 6a1 and 6b1 of the element main body 4 arranged on the positive direction side of the Y axis. On the other hand, among the conductor patterns, the conductor patterns arranged on the Y-axis negative direction side are the second lead portions 6a2, 6b2 of the element main body 4 arranged on the Y-axis negative direction side. Become.

第1リード部6a1,6b1の切断面(端面)は、素子本体4の切断面である側面4dから露出する。また、第2リード部6a2,6b2の切断面(端面)は、素子本体4の切断面である側面4cから露出する。 The cut surface (end surface) of the first lead portions 6a1 and 6b1 is exposed from the side surface 4d which is the cut surface of the element main body 4. Further, the cut surface (end surface) of the second lead portions 6a2 and 6b2 is exposed from the side surface 4c which is the cut surface of the element main body 4.

一方、コア間導体パターン形成工程において、切断予定線10Xに跨がることなく形成された導体パターンは、基板切断工程において切断されることがなく、Y軸方向に隣り合う2つのコアの各々の周囲を囲う巻回部6a4,6b4同士を接続するコア間接続部6a3,6b3となる。 On the other hand, the conductor pattern formed in the inter-core conductor pattern forming step without straddling the planned cutting line 10X is not cut in the substrate cutting step, and each of the two cores adjacent to each other in the Y-axis direction is formed. The winding portions 6a4 and 6b4 that surround the periphery are connected to the cores 6a3 and 6b3.

以上のようにして、第1リード部6a1,6b1、第2リード部6a2,6b2、コア間接続部6a3,6b3および巻回部6a4,6b4を有するコイル部6a,6bを素子本体4に形成することができる。 As described above, the coil portions 6a and 6b having the first lead portions 6a1, 6b1, the second lead portions 6a2 and 6b2, the core-to-core connection portions 6a3 and 6b3 and the winding portions 6a4 and 6b4 are formed on the element body 4. be able to.

次に、図1Aに示すように、コイル部6a,6bが設けられた素子本体4に、端子電極8をペースト法および/またはメッキ法により形成し、必要に応じて乾燥処理あるいは熱処理を施す(端子電極形成工程)。本実施形態では、素子本体4の上面4aと、下面4bと、側面4cとに跨がるように4個の端子電極8を形成するとともに、素子本体4の上面4aと、下面4bと、側面4dとに跨がるように4個の端子電極8を形成する。また、側面4dから露出した第1リード部6a1,6b1の端面を、側面部81で覆うように、端子電極8の形成を行い、側面4cから露出した第2リード部6a2,6b2の端面を、側面部81で覆うように、端子電極8の形成を行う。 Next, as shown in FIG. 1A, the terminal electrode 8 is formed on the element main body 4 provided with the coil portions 6a and 6b by the paste method and / or the plating method, and is subjected to a drying treatment or a heat treatment as necessary. Terminal electrode forming process). In the present embodiment, the four terminal electrodes 8 are formed so as to straddle the upper surface 4a, the lower surface 4b, and the side surface 4c of the element body 4, and the upper surface 4a, the lower surface 4b, and the side surface of the element body 4 are formed. Four terminal electrodes 8 are formed so as to straddle 4d. Further, the terminal electrode 8 is formed so as to cover the end faces of the first lead portions 6a1 and 6b1 exposed from the side surface 4d with the side surface portions 81, and the end faces of the second lead portions 6a2 and 6b2 exposed from the side surface 4c are formed. The terminal electrode 8 is formed so as to be covered with the side surface portion 81.

これにより、側面4dから露出した第1リード部6a1,6b1の端面に端子電極8,8が接続され、側面4cから露出した第2リード部6a2,6b2の端面に端子電極8,8が接続される。なお、端子電極8の形成方法としては、スパッタリング、あるいは銀ペーストを用いて、スクリーン印刷によりを行うことが好ましい。これらの方法では、端子電極8を薄く形成することができるからである。 As a result, the terminal electrodes 8 and 8 are connected to the end faces of the first lead portions 6a1 and 6b1 exposed from the side surface 4d, and the terminal electrodes 8 and 8 are connected to the end faces of the second lead portions 6a2 and 6b2 exposed from the side surface 4c. To. As a method for forming the terminal electrode 8, it is preferable to perform screen printing using sputtering or silver paste. This is because the terminal electrode 8 can be formed thin by these methods.

なお、上記製造方法では、基板成形工程、貫通孔形成工程、接続用導体埋設工程、導体間接続部形成工程、コア間導体パターン形成工程、保護層形成工程、基板切断工程、端子電極形成工程の順に各工程を行ったが、基板切断工程を基板成形工程の後に行ってもよい。この場合、基板切断工程を経て得られた複数の素子本体4の各々について、貫通孔形成工程以降の各工程を行うことになる。 In the above manufacturing method, the substrate forming step, the through hole forming step, the connecting conductor embedding step, the inter-conductor connecting portion forming step, the inter-core conductor pattern forming step, the protective layer forming step, the substrate cutting step, and the terminal electrode forming step. Although each step was performed in order, the substrate cutting step may be performed after the substrate molding step. In this case, each step after the through hole forming step is performed for each of the plurality of element main bodies 4 obtained through the substrate cutting step.

あるいは、基板成形工程において、素子本体4と同様の大きさの基板を成形してもよく、この場合には基板切断工程を省略することができる。あるいは、導体間接続部形成工程とコア間導体パターン形成工程の順序を入れ替えてもよい。 Alternatively, in the substrate forming step, a substrate having the same size as that of the element main body 4 may be formed, and in this case, the substrate cutting step can be omitted. Alternatively, the order of the conductor-to-conductor connection portion forming step and the core-to-core conductor pattern forming step may be exchanged.

本実施形態では、コイル部6a,6bがコア5a~5dの周囲をコイル状に囲う巻回部6a4,6b4を有する。巻回部6a4,6b4は、複数の接続用導体6a5,6b5と、複数の接続用導体6a5,6b5の各々の端部同士を接続する導体間接続部6a6,6b6とを有する。すなわち、本実施形態における巻回部6a4,6b4は、従来のコイルとは異なり、ワイヤの巻回を必要としない。そのため、素子本体4に複数の接続用導体6a5,6b5を設け、導体間接続部6a6,6b6を形成するだけで、コア5a~5dの周囲をコイル状に囲う巻回部6a4,6b4を容易に形成することが可能である。したがって、本実施形態では、巻回部6a4,6b4に巻乱れが発生することがなく、コイル装置2の磁気特性のばらつきを抑制する(磁気特性を安定化させる)ことができる。 In the present embodiment, the coil portions 6a and 6b have winding portions 6a4 and 6b4 that surround the cores 5a to 5d in a coil shape. The winding portions 6a4 and 6b4 have a plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5, and inter-conductor connecting portions 6a6 and 6b6 for connecting the respective ends of the plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5. That is, unlike the conventional coil, the winding portions 6a4 and 6b4 in the present embodiment do not require winding of a wire. Therefore, simply by providing a plurality of connecting conductors 6a5 and 6b5 on the element main body 4 and forming the interconductor connecting portions 6a6 and 6b6, the winding portions 6a4 and 6b4 that surround the cores 5a to 5d in a coil shape can be easily formed. It is possible to form. Therefore, in the present embodiment, the winding portions 6a4 and 6b4 are not disturbed, and the variation in the magnetic characteristics of the coil device 2 can be suppressed (the magnetic characteristics are stabilized).

また、本実施形態に係るコイル装置2では、ワイヤの巻回を必要としないため、巻回部6a4,6b4のターン数のばらつきが少なく、コイル装置2のインダクタンス値を容易に制御することができる。また、本実施形態に係るコイル装置2では、巻線を施したコアを埋めこんで形成する従来のコイル装置に比較して低背化を図ることができる。 Further, since the coil device 2 according to the present embodiment does not require winding of the wire, the variation in the number of turns of the winding portions 6a4 and 6b4 is small, and the inductance value of the coil device 2 can be easily controlled. .. Further, in the coil device 2 according to the present embodiment, it is possible to reduce the height as compared with the conventional coil device formed by embedding a wound core.

また、本実施形態に係るコイル装置2では、コイル部6a,6bの第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2が、端子電極8,8の側面部81,81に接続される。そのため、この点においても、従来に比べて、コイル装置2の低背化を図ることが可能である。 Further, in the coil device 2 according to the present embodiment, the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 of the coil portions 6a, 6b are connected to the side surface portions 81, 81 of the terminal electrodes 8, 8. .. Therefore, also in this respect, it is possible to reduce the height of the coil device 2 as compared with the conventional case.

また、本実施形態では、第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2は、素子本体4の上面4aに形成してあり、複数の接続用導体6a5,6b5のいずれかの上端61a,61bと、端子電極8,8の側面部81,81とを接続する。そのため、ワイヤの引き回しによりリード部を端子電極に接続していた従来と比較して、第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2の不要な引き回しを防止することが可能となり、コイル装置2の磁気特性のばらつきを効果的に抑制することができる。 Further, in the present embodiment, the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 are formed on the upper surface 4a of the element main body 4, and the upper end 61a of any one of the plurality of connecting conductors 6a5, 6b5 is formed. , 61b and the side surface portions 81, 81 of the terminal electrodes 8 and 8 are connected. Therefore, it is possible to prevent unnecessary routing of the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 as compared with the conventional case in which the lead portion is connected to the terminal electrode by routing the wire. It is possible to effectively suppress variations in the magnetic characteristics of the device 2.

また、本実施形態では、素子本体4は、複数のコア5a~5dを内部に有し、複数のコア5a~5dの各々の周囲は、巻回部6a4,6b4によって囲まれ、コイル部6a,6bは、複数のコア5a~5dの各々の周囲を囲う巻回部6a4,6b4同士を接続するコア間接続部6a3,6b3を有する。そのため、1つのコイル部6a,6bに、コア間接続部6a3,6b3で接続された複数の巻回部6a4,6b4が具備される。そのため、コイル装置2が複数のコア5a~5dを具備する場合であっても、複数のコア5a~5dを具備するコイル装置2の磁気特性のばらつきを抑制することができるとともに、当該コイル装置2の小型化・低背化を図ることができる。 Further, in the present embodiment, the element main body 4 has a plurality of cores 5a to 5d inside, and each of the plurality of cores 5a to 5d is surrounded by winding portions 6a4 and 6b4, and the coil portions 6a, The 6b has intercore connecting portions 6a3 and 6b3 for connecting the winding portions 6a4 and 6b4 surrounding each of the plurality of cores 5a to 5d. Therefore, one coil portion 6a, 6b is provided with a plurality of winding portions 6a4, 6b4 connected by the intercore connecting portions 6a3, 6b3. Therefore, even when the coil device 2 includes a plurality of cores 5a to 5d, it is possible to suppress variations in the magnetic characteristics of the coil device 2 including the plurality of cores 5a to 5d, and the coil device 2 It is possible to reduce the size and height of the coil.

また、本実施形態では、第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2、導体間接続部6a6,6b6およびコア間接続部6a3,6b3は、素子本体4の上面4aおよび下面4bに形成してある所定の導体パターンで構成される。そのため、コイル部6a,6bの大部分を導体パターンで形成することが可能となり、素子本体4の上面4aや下面4bに、コイル部6a,6bを容易に形成することができる。また、導体パターンの形状や大きさ等を適宜変更することにより、コイル装置2の磁気特性を容易に制御することができる。 Further, in the present embodiment, the first lead portions 6a1, 6b1, the second lead portions 6a2, 6b2, the conductor-to-conductor connection portions 6a6, 6b6, and the core-to-core connection portions 6a3, 6b3 are formed on the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element main body 4. It is composed of a predetermined conductor pattern that is formed. Therefore, most of the coil portions 6a and 6b can be formed by the conductor pattern, and the coil portions 6a and 6b can be easily formed on the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element main body 4. Further, the magnetic characteristics of the coil device 2 can be easily controlled by appropriately changing the shape and size of the conductor pattern.

また、本実施形態では、素子本体4の上面4aおよび下面4bの少なくとも一方に、コイル部6a,6bを保護するための保護層7が形成してある。そのため、コイル部6a,6bの損傷や酸化等が抑制され、コイル部6a,6bの劣化を効果的に防止することが可能となり、コイル装置2の磁気特性のばらつきを効果的に抑制することができる。また、素子本体4の上面4aまたは下面4bに保護層7が形成してあるため、コイル装置2の製造時に、容易に、素子本体4の上面4aまたは下面4bをアームで吸着して保持し、搬送することができる。 Further, in the present embodiment, a protective layer 7 for protecting the coil portions 6a and 6b is formed on at least one of the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element main body 4. Therefore, damage and oxidation of the coil portions 6a and 6b are suppressed, deterioration of the coil portions 6a and 6b can be effectively prevented, and variations in the magnetic characteristics of the coil device 2 can be effectively suppressed. can. Further, since the protective layer 7 is formed on the upper surface 4a or the lower surface 4b of the element body 4, the upper surface 4a or the lower surface 4b of the element body 4 is easily attracted and held by the arm at the time of manufacturing the coil device 2. Can be transported.

また、本実施形態では、端子電極8は、素子本体4の上面4aに形成してある保護層7の上に配置される上面部82、および素子本体4の下面4bに形成してある保護層7の上に配置される下面部83の少なくとも一方を有する。素子本体の上面4aおよび下面4bの少なくとも一方に保護層7を形成した場合、コイル部6a,6bの第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2の表面(上面)は保護層7で覆われることになる。第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2の表面が保護層7で覆われたとしても、端子電極8,8の側面部81,81に第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2の端面を(電気的に)接続することは可能であり、第1リード部6a1,6b1および第2リード部6a2,6b2と端子電極8,8との導通を確実に図ることができる。 Further, in the present embodiment, the terminal electrode 8 is a protective layer formed on the upper surface portion 82 arranged on the protective layer 7 formed on the upper surface 4a of the element main body 4 and the lower surface 4b of the element main body 4. It has at least one of the lower surface portions 83 arranged on the 7. When the protective layer 7 is formed on at least one of the upper surface 4a and the lower surface 4b of the element body, the surface (upper surface) of the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 of the coil portions 6a, 6b is the protective layer 7. Will be covered with. Even if the surfaces of the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2, 6b2 are covered with the protective layer 7, the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a1, 6b1 are formed on the side surface portions 81, 81 of the terminal electrodes 8, 8. It is possible to (electrically) connect the end faces of the lead portions 6a2 and 6b2, and ensure that the first lead portions 6a1, 6b1 and the second lead portions 6a2 and 6b2 are electrically connected to the terminal electrodes 8 and 8. Can be done.

また、本実施形態では、コア5a~5dの表面には、コア5a~5dと素子本体4の間の熱収縮率の差を緩衝するための緩衝層が形成してある。そのため、コア5a~5dと素子本体4の境界部分に生じるおそれがある内部応力が緩和され、当該境界部分に生じる可能性があるクラックを防止することができる。 Further, in the present embodiment, a buffer layer for cushioning the difference in heat shrinkage between the cores 5a to 5d and the element main body 4 is formed on the surface of the cores 5a to 5d. Therefore, the internal stress that may occur at the boundary portion between the cores 5a to 5d and the element main body 4 is relaxed, and cracks that may occur at the boundary portion can be prevented.

また、本実施形態では、コア5a~5dは、閉磁路を構成する。閉磁路に沿って、コア5a~5dの周囲をコイル部6a,6bでコイル状に囲うことによって、閉磁路を構成するコア5a~5dを有するコイル装置2の磁気特性のばらつきを抑制することができるとともに、当該コイル装置2の低背化を図ることができる。 Further, in the present embodiment, the cores 5a to 5d form a closed magnetic path. By surrounding the cores 5a to 5d in a coil shape along the closed magnetic path with the coil portions 6a and 6b, it is possible to suppress variations in the magnetic characteristics of the coil device 2 having the cores 5a to 5d constituting the closed magnetic path. At the same time, the height of the coil device 2 can be reduced.

また、本実施形態に係るコイル装置2の製造方法では、コア5a~5dを基板3(素子本体4)の内部に埋設した後に、素子本体4に巻回部6a4,6b4を形成する。すなわち、本実施形態では、従来とは異なり、巻回部6a4,6b4をコア5a~5dに巻回するのではなく、素子本体4に形成するため、巻回部6a4,6b4の巻乱れが生じることがない。また、コイル装置2の低背化を効果的に図ることができる。 Further, in the method for manufacturing the coil device 2 according to the present embodiment, after the cores 5a to 5d are embedded in the substrate 3 (element body 4), the winding portions 6a4 and 6b4 are formed in the element body 4. That is, in the present embodiment, unlike the conventional case, the winding portions 6a4 and 6b4 are formed on the element main body 4 instead of being wound around the cores 5a to 5d, so that the winding portions 6a4 and 6b4 are disturbed. Never. In addition, the height of the coil device 2 can be effectively reduced.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。たとえば上記実施形態では、接続用導体6a5,6b5をピン部材により構成したが、たとえば基板3に形成された貫通孔9の内壁にメッキを施したり、各種金属を印刷したりするなどの方法で、接続用導体6a5,6b5を構成してもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention. For example, in the above embodiment, the connecting conductors 6a5 and 6b5 are made of pin members, but for example, the inner wall of the through hole 9 formed in the substrate 3 may be plated or various metals may be printed. The connecting conductors 6a5 and 6b5 may be configured.

また、上記実施形態では、素子本体4は内部に4個のコア5a~5dを有していたが、3個以下のコアを有していてもよく、あるいは5個以上のコアを有していてもよい。 Further, in the above embodiment, the element main body 4 has four cores 5a to 5d inside, but may have three or less cores, or may have five or more cores. You may.

また、上記実施形態では、基板3に形成してある貫通孔9の内部に接続用導体6a5,6b5を埋設することにより、接続用導体6a5,6b5が埋設してある基板3を得た。しかしながら、当該基板3を得る方法はこれに限定されるものではなく、たとえば、予め成型金型の内部の所定位置に接続用導体6a5,6b5を配置しておき、その上で、基板3を構成する樹脂を成形金型の内部に充填等することにより、接続用導体6a5,6b5が埋設してある基板3を得てもよい。 Further, in the above embodiment, the connecting conductors 6a5 and 6b5 are embedded in the through holes 9 formed in the substrate 3 to obtain the substrate 3 in which the connecting conductors 6a5 and 6b5 are embedded. However, the method for obtaining the substrate 3 is not limited to this, and for example, the connecting conductors 6a5 and 6b5 are arranged in advance at predetermined positions inside the molding die, and the substrate 3 is configured on the connecting conductors 6a5 and 6b5. The substrate 3 in which the connecting conductors 6a5 and 6b5 are embedded may be obtained by filling the inside of the molding die with the resin to be formed.

また、上記実施形態では、素子本体4は、平面方向から見て略長方形状を有しているが、平面方向から見て略正方形状を有していてもよい。 Further, in the above embodiment, the element main body 4 has a substantially rectangular shape when viewed from the plane direction, but may have a substantially square shape when viewed from the plane direction.

また、上記実施形態において、素子本体4を構成する主成分に磁性体粉(フェライトや金属磁性粉)が分散されていてもよい。 Further, in the above embodiment, magnetic powder (ferrite or metallic magnetic powder) may be dispersed in the main component constituting the element main body 4.

また、上記実施形態において、コイル装置2をインダクタとして用いてもよい。たとえば、コア5aの周囲を巻回部6a4で囲み、この巻回部6a4の一端を第1リード部6a1で端子電極8に接続し、他端を第2リード部6a2で他の端子電極8に接続することにより、インダクタを構成することができる。 Further, in the above embodiment, the coil device 2 may be used as an inductor. For example, the core 5a is surrounded by a winding portion 6a4, one end of the winding portion 6a4 is connected to the terminal electrode 8 by the first lead portion 6a1, and the other end is connected to the other terminal electrode 8 by the second lead portion 6a2. By connecting, the inductor can be configured.

また、上記実施形態では、接続用導体6a5,6b5は略直線状の形状を有していたが、屈曲形状を有していてもよい。 Further, in the above embodiment, the connecting conductors 6a5 and 6b5 have a substantially linear shape, but may have a bent shape.

また、上述した一次コイルと二次コイルの関係は逆にしてもよい。すなわち、第1コイル部6aが二次コイルを構成し、第2コイル部6bが一次コイルを構成してもよい。 Further, the relationship between the primary coil and the secondary coil described above may be reversed. That is, the first coil portion 6a may form the secondary coil, and the second coil portion 6b may form the primary coil.

2… コイル装置
3・・・ 基板
3a・・・ 上面
3b・・・ 下面
4… 素子本体
4a・・・ 上面
4b・・・ 下面
4c,4d,4e,4f・・・ 側面
5,5a、5b、5c、5d・・・ コア
6・・・ コイル部
6a・・・ 第1コイル部
6a1・・・ 第1リード部
6a2・・・ 第2リード部
6a3・・・ コア間接続部
6a4・・・ 巻回部
6a5・・・ 接続用導体
61a・・・ 上端
610a・・・ 露出面
62a・・・ 下端
620a・・・ 露出面
6a6・・・ 導体間接続部
6b・・・ 第2コイル部
6b1・・・ 第1リード部
6b2・・・ 第2リード部
6b3・・・ コア間接続部
6b4・・・ 巻回部
6b5・・・ 接続用導体
61b・・・ 上端
610b・・・ 露出面
62b・・・ 下端
620b・・・ 露出面
6b6・・・ 導体間接続部
7・・・ 保護層
8・・・ 第1端子電極
81・・・ 側面部
82・・・ 上面部
83・・・ 下面部
9・・・ 貫通孔
2 ... Coil device 3 ... Substrate 3a ... Top surface 3b ... Bottom surface 4 ... Element body 4a ... Top surface 4b ... Bottom surface 4c, 4d, 4e, 4f ... Side surfaces 5, 5a, 5b, 5c, 5d ... Core 6 ... Coil part 6a ... 1st coil part 6a1 ... 1st lead part 6a2 ... 2nd lead part 6a3 ... Core-to-core connection part 6a4 ... Wind Rotation part 6a5 ・ ・ ・ Connection conductor 61a ・ ・ ・ Upper end
610a ... Exposed surface 62a ... Lower end
620a ... Exposed surface 6a6 ... Conductor-to-conductor connection part 6b ... Second coil part 6b1 ... First lead part 6b2 ... Second lead part 6b3 ... Core-to-core connection part 6b4 ... Winding part 6b5 ・ ・ ・ Connection conductor 61b ・ ・ ・ Upper end
610b ... Exposed surface 62b ... Lower end
620b ・ ・ ・ Exposed surface 6b6 ・ ・ ・ Connection between conductors 7 ・ ・ ・ Protective layer 8 ・ ・ ・ First terminal electrode 81 ・ ・ ・ Side surface 82 ・ ・ ・ Top surface 83 ・ ・ ・ Bottom surface 9 ・ ・ ・Through hole

Claims (8)

コアと、
前記コアを内部に有し、上面と、上面とは高さ方向の反対側にある下面と、4つの側面とを有する素子本体と、
少なくとも前記素子本体の対向する一対の前記側面に配置され、それぞれ前記側面に対向する側面部を持つ一対の端子電極と、
前記コアの周囲をコイル状に囲う巻回部を持つコイル部とを有し、
前記巻回部は、
前記コアの周縁に沿って設けられ、前記素子本体の上面から下面に向かって前記素子本体を貫通する複数の接続用導体と、
前記素子本体の上面と下面に形成してあり、前記複数の接続用導体の各々の端部同士を接続する導体間接続部とを有し、
前記巻回部の一端および他端に接続される一対のリード部が、それぞれ、前記素子本体の前記対向する一対の前記側面の対応する位置から露出し、一対の前記端子電極の側面部に接続され、
前記素子本体は、複数の前記コアを内部に有し、
複数の前記コアの各々の周囲は、前記巻回部によって囲まれ、
前記コイル部は、複数の前記コアの各々の周囲を囲う巻回部同士を接続するコア間接続部を有し、
前記リード部、前記導体間接続部および前記コア間接続部は、前記素子本体の上面および下面に形成してある所定の導体パターンで構成されることを特徴とするコイル装置。
With the core
An element body having the core inside, an upper surface, a lower surface on the opposite side of the upper surface in the height direction, and four side surfaces .
A pair of terminal electrodes arranged on at least a pair of opposite side surfaces of the element body and having side surface portions facing the side surfaces, respectively .
It has a coil portion having a winding portion that surrounds the core in a coil shape.
The winding part is
A plurality of connecting conductors provided along the peripheral edge of the core and penetrating the element body from the upper surface to the lower surface of the element body.
It is formed on the upper surface and the lower surface of the element body, and has a conductor-to-conductor connecting portion that connects the ends of each of the plurality of connecting conductors.
A pair of lead portions connected to one end and the other end of the winding portion are each exposed from the corresponding positions of the pair of facing side surfaces of the element body and connected to the side surface portions of the pair of terminal electrodes. Being done
The element body has a plurality of the cores inside, and the element body has a plurality of the cores inside.
Each of the plurality of cores is surrounded by the winding portion and is surrounded by the winding portion.
The coil portion has a core-to-core connection portion for connecting winding portions surrounding each of the plurality of cores.
A coil device characterized in that the lead portion, the conductor-to-conductor connection portion, and the core-to-core connection portion are formed of predetermined conductor patterns formed on the upper surface and the lower surface of the element main body.
前記リード部は、前記素子本体の上面および下面の少なくとも一方に形成してあり、前記複数の接続用導体のいずれかの端部と、前記端子電極の側面部とを接続することを特徴とする請求項1に記載のコイル装置。 The lead portion is formed on at least one of the upper surface and the lower surface of the element body, and is characterized in that the end portion of any one of the plurality of connecting conductors is connected to the side surface portion of the terminal electrode. The coil device according to claim 1. 前記素子本体の上面および下面の少なくとも一方には、前記コイル部を保護するための保護層が形成してあることを特徴とする請求項1または2に記載のコイル装置。 The coil device according to claim 1 or 2 , wherein a protective layer for protecting the coil portion is formed on at least one of the upper surface and the lower surface of the element body. 前記端子電極は、前記素子本体の上面に形成してある前記保護層の上に配置される上面部、および前記素子本体の下面に形成してある前記保護層の上に配置される下面部の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項3に記載のコイル装置。 The terminal electrodes are an upper surface portion arranged on the protective layer formed on the upper surface of the element body and a lower surface portion arranged on the protective layer formed on the lower surface of the element body. The coil device according to claim 3, wherein the coil device has at least one of them. 前記コアの表面には、前記コアと前記素子本体の間の熱収縮率の差を緩衝するための緩衝層が形成してあることを特徴とする請求項1~4のいずれかの請求項に記載のコイル装置。 The invention according to any one of claims 1 to 4, wherein a buffer layer for cushioning the difference in heat shrinkage between the core and the element main body is formed on the surface of the core. The coil device described. 前記コアは、閉磁路を構成することを特徴とする請求項1~5のいずれかの請求項に記載のコイル装置。 The coil device according to any one of claims 1 to 5, wherein the core constitutes a closed magnetic path. 前記コアはトロイダルコアであることを特徴とする請求項1~6のいずれかの請求項に記載のコイル装置。 The coil device according to any one of claims 1 to 6, wherein the core is a toroidal core. 基板の内部に複数のコアを埋設する工程と、
複数の前記コアの各々の周縁に沿って、前記基板の上面から下面に向かって前記基板を貫通する複数の貫通孔を形成する工程と、
前記複数の貫通孔の各々の内部に接続用導体を埋設するとともに、前記基板の上面と下面に、前記複数の接続用導体の各々の端部同士を接続する導体間接続部を形成し、複数の前記コアの各々の周囲をコイル状に囲う複数の巻回部を有するコイル部を形成する工程と、
複数の前記巻回部を接続するコア間接続部を形成する工程と、
複数の前記コアが埋設してある基板を切断し、素子本体を形成する工程と、
少なくとも前記素子本体の側面に対向する側面部を持つ端子電極を前記素子本体に形成し、前記コイル部のリード部を前記側面部に接続する工程とを有し、
前記リード部、前記導体間接続部および前記コア間接続部は、前記素子本体の上面および下面に所定の導体パターンを形成することにより構成し、
前記コアを埋設する工程においては、切断予定線によって区分けされた前記基板の複数の領域の各々に、複数の前記コアを埋設し、
前記貫通孔を形成する工程においては、前記埋設された前記コアの各々に対して、複数の前記貫通孔を形成し、
前記コイル部を形成する工程においては、前記基板の複数の前記領域の各々に、複数の前記巻回部を有する前記コイル部を形成し、
前記コア間接続部を形成する工程においては、前記基板において所定の方向に隣り合う前記コアの周囲を囲う前記巻回部同士を接続する導体パターンを形成し、
前記素子本体を形成する工程においては、前記切断予定線に沿って前記基板を切断することにより、前記切断予定線に跨がることなく形成された前記導体パターンが前記コア間接続部とされ、前記切断予定線に跨がって前記形成された前記導体パターンが前記切断されて前記リード部とされ、当該コア間接続部および前記リード部を有する複数の前記素子本体が形成されることを特徴とするコイル装置の製造方法。
The process of burying multiple cores inside the board,
A step of forming a plurality of through holes penetrating the substrate from the upper surface to the lower surface of the substrate along the peripheral edge of each of the plurality of cores.
A connecting conductor is embedded in each of the plurality of through holes, and inter-conductor connecting portions for connecting the ends of the plurality of connecting conductors are formed on the upper surface and the lower surface of the substrate. A step of forming a coil portion having a plurality of winding portions that surround each of the cores in a coil shape.
The process of forming the inter-core connection portion connecting the plurality of winding portions, and
The process of cutting the substrate in which the plurality of cores are embedded to form the element body, and
It has a step of forming at least a terminal electrode having a side surface portion facing the side surface of the element body on the element body and connecting the lead portion of the coil portion to the side surface portion.
The lead portion, the conductor-to-conductor connection portion, and the core-to-core connection portion are configured by forming predetermined conductor patterns on the upper surface and the lower surface of the element body.
In the step of burying the core, the plurality of cores are embedded in each of the plurality of regions of the substrate divided by the planned cutting line.
In the step of forming the through hole, a plurality of the through holes are formed for each of the embedded cores.
In the step of forming the coil portion, the coil portion having the plurality of winding portions is formed in each of the plurality of the regions of the substrate.
In the step of forming the inter-core connection portion, a conductor pattern for connecting the winding portions surrounding the cores adjacent to each other in a predetermined direction on the substrate is formed.
In the step of forming the element main body, the conductor pattern formed by cutting the substrate along the planned cutting line without straddling the planned cutting line is used as the inter-core connection portion. The conductor pattern formed across the planned cutting line is cut to form the lead portion, and a plurality of element bodies having the inter-core connection portion and the lead portion are formed. The manufacturing method of the coil device.
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