JP7009417B2 - 磁気テープ装置 - Google Patents

Description

本発明は、磁気テープ装置に関する。

磁気記録媒体へのデータの記録および／または記録されたデータの読み取り（再生）を行う磁気記録再生装置は、磁気ディスク装置と磁気テープ装置に大別される。磁気ディスク装置の代表例はＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）である。磁気ディスク装置では、磁気記録媒体として磁気ディスクが使用される。一方、磁気テープ装置では、磁気記録媒体として磁気テープが使用される。

磁気ディスク装置および磁気テープ装置のいずれにおいても、記録トラック幅を狭小化することは記録容量を高めるため（高容量化）に好ましい。他方、記録トラック幅を狭小化するほど、再生時に読取対象トラックの信号に隣接トラックの信号が混入し易くなるため、ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ－ｔｏ－Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）等の再生品質を維持することは困難になる。この点に関し、近年、複数の読取素子（「再生素子」とも呼ばれる。）によって記録トラックの信号を二次元的に読み取ることにより、再生品質の向上を図ることが提案されている（例えば特許文献１～３参照）。こうして再生品質を向上できれば、記録トラック幅を狭小化しても再生品質を維持することができるため、記録トラック幅の狭小化により記録容量を高めることが可能となる。

特開２０１６－１１０６８０号公報 特開２０１１－１３４３７２号公報 米国特許第７７５５８６３号明細書

特許文献１および２では、磁気ディスク装置に関する検討が行われている。一方、磁気テープは、近年、大容量のデータを長期間保存するためのデータストレージメディアとして注目されている。しかし、磁気テープ装置は、一般に、磁気テープと読取素子とが接触し摺動することによってデータ読取（再生）が行われる摺動型の装置である。そのため、再生時に読取素子と読取対象トラックとの相対位置が変動し易く、再生品質の向上は、磁気ディスク装置と比べてより困難な傾向がある。特許文献３には、磁気テープ装置（テープドライブ）に関する記載はあるものの、磁気テープ装置における再生品質向上のための具体的な手段は示されていない。

本発明の一態様は、再生品質の向上が可能な磁気テープ装置を提供する。

本発明の一態様は、
磁気テープと、
読取素子ユニットと、
抽出部と、
を含み、
上記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率（以下、「磁性層表面の対数減衰率」、または単に「対数減衰率」とも記載する。）は０．０５０以下であり、
上記読取素子ユニットは、上記磁気テープに含まれるトラック領域のうちの読取対象トラックを含む特定トラック領域からデータをリニアスキャン方式で各々読み取る複数の読取素子を有し、
上記抽出部は、上記読取素子毎の読取結果の各々に対して、上記磁気テープと上記読取素子ユニットとの位置のずれ量に応じた波形等化処理を施すことにより、上記読取結果から、上記読取対象トラックに由来するデータを抽出する、磁気テープ装置、
に関する。

一態様では、上記複数の読取素子の互いの一部は、上記磁気テープの走行方向で重なっていることができる。

一態様では、上記特定トラック領域は、上記読取対象トラックと上記読取対象トラックに隣接している隣接トラックとを含む領域であることができ、上記複数の読取素子の各々は、上記磁気テープとの位置関係が変化した場合に、上記読取対象トラックおよび上記隣接トラックの双方に対して、共に跨っていることができる。

一態様では、上記複数の読取素子は、上記磁気テープの幅方向に、近接した状態で並べて配置されていることができる。

一態様では、上記磁気テープの幅方向において、上記複数の読取素子は、上記読取対象トラック内に収まっていることができる。

一態様では、上記波形等化処理は、上記ずれ量に応じて定められるタップ係数を用いて行われ得る。

一態様では、上記複数の読取素子の各々について、上記読取対象トラックとの重複領域と上記読取対象トラックに隣接している隣接トラックとの重複領域との比が上記ずれ量から特定され得て、特定された上記比に応じて上記タップ係数が定められ得る。

一態様では、上記ずれ量は、上記磁気テープに予め付与されたサーボパターンをサーボ素子が読み取ることにより得られた結果に応じて定められ得る。

一態様では、上記サーボ素子により行われる読取動作に同期して、上記読取素子ユニットの読取動作が行われ得る。

一態様では、上記抽出部は、２次元ＦＩＲ（Ｆｉｎｉｔｅ Ｉｍｐｕｌｓｅ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ）フィルタを有することができ、上記２次元ＦＩＲフィルタは、上記読取素子毎の読取結果の各々に対して上記波形等化処理を施すことにより得られた各結果を合成することによって、上記読取結果から上記読取対象トラックに由来するデータを抽出することができる。

一態様では、上記複数の読取素子は一対の読取素子であることができる。

一態様では、上記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下であることができる。

本発明の一態様によれば、磁気テープに記録されたデータを高い再生品質で再生可能な磁気テープ装置を提供することができる。

磁気テープ装置の全体構成の一例を示す概略構成図である。 磁気テープ装置に含まれる読取ヘッドと磁気テープとの平面視の概略構成の一例を示す概略平面図である。 読取素子ユニットと磁気テープとの平面視の概略構成の一例を示す概略平面図である。 トラック領域と読取素子対との平面視の概略構成の一例を示す概略平面図である。 単一読取素子データと第１条件下での第１合成データとの各々に関するＳＮＲとトラックオフセットとの相関の一例を示すグラフである。 単一読取素子データと第２条件下での第２合成データとの各々に関するＳＮＲとトラックオフセットとの相関の一例を示すグラフである。 磁気テープ装置の電気系のハードウェアの要部構成の一例を示すブロック図である。 ずれ量の算出方法の説明に供する概念図である。 磁気テープ読取処理の流れの一例を示すフローチャートである。 抽出部の２次元ＦＩＲフィルタで行われる処理の説明に供する概念図である。 読取素子ユニットが読取対象トラックと第２のノイズ混入源トラックとに跨っている状態の一例を示す概略平面図である。 読取素子ユニットの第１の変形例を示す概略平面図である。 読取素子ユニットの第２の変形例を示す概略平面図である。 対数減衰率の測定方法の説明図である。 対数減衰率の測定方法の説明図である。 対数減衰率の測定方法の説明図である。 磁気テープ製造工程の具体的態様の一例（工程概略図）を示す。 ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ－Ｔａｐｅ－Ｏｐｅｎ） Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットテープのサーボパターン配置例を示す。 第１の従来例の説明に供する概念図である。 第２の従来例の説明に供する概念図である。 単一読取素子から得られる再生信号の２次元像の一例を示す図である。

本発明の一態様にかかる磁気テープ装置は、磁気テープと、読取素子ユニットと、抽出部と、を含む。

磁気テープからのデータの読み取りに関して、図１９に示す従来例では、長尺状の読取ヘッド２００が、長手方向に沿って複数の読取素子２０２を備えている。磁気テープ２０４には、複数のトラック２０６が形成されている。読取ヘッド２００は、長手方向が磁気テープ２０４の幅方向に一致するように配置されている。また、複数の読取素子２０２の各々は、複数のトラック２０６の各々に対して１対１の関係で割り当てられており、対向する位置のトラック２０６からデータを読み取る。

しかし、磁気テープ２０４は、通常、経時、環境、およびテンションの変動等に起因して伸縮する。磁気テープ２０４の幅方向に磁気テープが伸縮すると、読取ヘッド２００において、長手方向の両端に配置された読取素子２０２の中心は、トラック２０６の中心からずれてしまう。磁気テープ２０４が幅方向に伸縮することにより変形すると、特に、複数の読取素子２０２のうち、読取ヘッド２００の両端に近い読取素子２０２ほど、オフトラックの影響を大きく受けてしまう。オフトラックの影響を小さくするためには、例えば、トラック２０６の幅に余裕を持たせるという方法が考えられる。しかし、トラック２０６の幅を広げるほど、磁気テープ２０４の記録容量は小さくなってしまう。

また、一例として図２０に示す従来例のように、読取ヘッド２００には、通常、サーボ素子２０８が設けられている。磁気テープ２０４に対して、磁気テープ２０４の走行方向に沿って予め付与されたサーボパターンは、サーボ素子２０８によって読み取られる。そして、サーボ素子２０８によってサーボパターンが読み取られて得られたサーボ信号から、制御装置（図示省略）によって、例えば、一定の時間間隔で、読取素子２０２が磁気テープ２０４上のどの位置を走行しているかが特定される。これにより、磁気テープ２０４の幅方向のＰＥＳ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｅｒｒｏｒ Ｓｉｇｎａｌ）が制御装置によって検出される。

このように、制御装置により読取素子２０２の走行位置が特定されると、特定された走行位置に基づいて、制御装置により、読取ヘッド用のアクチュエータ（図示省略）に対して帰還制御が行われることにより、磁気テープ２０４の幅方向のトラッキングが実現される。

しかし、トラッキングが行われたとしても、急峻な振動およびジッタの高周波成分等は、ＰＥＳが増大する要因となり、読取対象トラックから読み取られたデータの再生品質の低下に繋がってしまう。
これに対し、本発明の一態様にかかる磁気テープ装置において、読取素子ユニットは、磁気テープに含まれるトラック領域のうちの読取対象トラックを含む特定トラック領域からデータをリニアスキャン方式で各々読み取る複数の読取素子を有し、上記抽出部は、上記読取素子毎の読取結果の各々に対して、上記磁気テープと上記読取素子ユニットとの位置のずれ量に応じた波形等化処理を施すことにより、上記読取結果から、上記読取対象トラックに由来するデータを抽出する。これにより、上記磁気テープ装置によれば、読取対象トラックからリニアスキャン方式で単一の読取素子のみによってデータが読み取られる場合に比べ、読取対象トラックから読み取られるデータの再生品質を高めることができる。その結果、良好な再生品質を確保できるずれ量（トラックオフセット量）の許容量を大きくすることができる。
また、上記のずれ量は、通常、サーボパターンの読み取りにより検出される。しかし実際には、サーボパターンが形成されている周期より小さな周期で位置変動が発生する場合がある。そのような小さな周期の位置変動が発生している箇所で読み取られた読取結果に対しては、上記のずれ量に応じた波形等化処理は、必ずしも最適な波形等化処理とは言えない場合がある。これに対し、上記の小さな周期の位置変動を抑制することができれば、各箇所で読み取られた読取結果に対して、より適した波形等化処理を施すことが可能となる。その結果、上記の波形等化処理によって良好な再生品質を確保できるずれ量の許容量を大きくすることができる。
以上のように、良好な再生品質を確保できるずれ量の許容量を大きくできることは、トラックマージン（記録トラック幅－再生素子幅）を小さくしても高い再生品質（例えば高ＳＮＲ、低エラーレート等）での再生を可能にすることに寄与し得る。そしてトラックマージンを小さくできることは、記録トラック幅を小さくして磁気テープの幅方向に配置可能な記録トラック数を増すこと、即ち高容量化に寄与し得る。
以上の点に関して、上記磁気テープ装置においてデータの読み取りが行われる磁気テープにおいて、磁性層表面の対数減衰率が０．０５０以下であることは、読取素子と磁気テープとの摺動性を向上させることにつながると考えられる。このことが、上記の小さな周期の位置変動を抑制することに寄与すると推察される。この点については更に後述する。

以下、上記磁気テープ装置について、更に詳細に説明する。以下では、上記磁気テープ装置について図面を参照して説明することがある。ただし上記磁気テープ装置は、図面に示す態様に限定されるものではない。

［磁気テープ装置の構成および磁気テープ読取処理］
一例として図１に示すように、磁気テープ装置１０は、磁気テープカートリッジ１２、搬送装置１４、読取ヘッド１６、および制御装置１８を備えている。

磁気テープ装置１０は、磁気テープカートリッジ１２から磁気テープＭＴを引き出し、引き出した磁気テープＭＴから読取ヘッド１６を用いてデータをリニアスキャン方式で読み取る装置である。データの読み取りとは、データの再生とも言うことができる。

制御装置１８は、磁気テープ装置１０の全体を制御する。一態様では、制御装置１８により行われる制御は、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）によって実現され得る。また、一態様では、制御装置１８により行われる制御は、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ－Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ）によって実現され得る。また、制御装置１８により行われる制御は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）を含むコンピュータによって実現されてもよい。また、ＡＩＳＣ、ＦＰＧＡ、およびコンピュータのうちの２つ以上の組み合わせにより、上記制御が実現されてもよい。

搬送装置１４は、磁気テープＭＴを順方向および逆方向に選択的に搬送する装置であり、送出モータ２０、巻取リール２２、巻取モータ２４、複数のガイドローラＧＲ、および制御装置１８を備えている。

磁気テープカートリッジ１２内には、カートリッジリールＣＲが設けられている。カートリッジリールＣＲには磁気テープＭＴが巻き掛けられている。送出モータ２０は、制御装置１８の制御下で、磁気テープカートリッジ１２内のカートリッジリールＣＲを回転駆動させる。制御装置１８は、送出モータ２０を制御することで、カートリッジリールＣＲの回転方向、回転速度、および回転トルク等を制御する。

磁気テープＭＴが巻取リール２２によって巻き取られる場合には、制御装置１８によって、磁気テープＭＴを順方向に走行させるように送出モータ２０を回転させる。送出モータ２０の回転速度および回転トルク等は、巻取リール２２によって巻き取られる磁気テープＭＴの速度に応じて調整される。

巻取モータ２４は、制御装置１８の制御下で、巻取リール２２を回転駆動させる。制御装置１８は、巻取モータ２４を制御することで、巻取リール２２の回転方向、回転速度、および回転トルク等を制御する。

磁気テープＭＴが巻取リール２２によって巻き取られる場合には、制御装置１８によって、磁気テープＭＴを順方向に走行させるように巻取モータ２４を回転させる。巻取モータ２４の回転速度および回転トルク等は、巻取リール２２によって巻き取られる磁気テープＭＴの速度に応じて調整される。

このようにして送出モータ２０および巻取モータ２４の各々の回転速度および回転トルク等が調整されることで、磁気テープＭＴに既定範囲内の張力が付与される。ここで、既定範囲内とは、例えば、磁気テープＭＴから読取ヘッド１６によってデータが読取可能な張力の範囲として、コンピュータシミュレーションおよび／または実機試験等により得られた張力の範囲を指す。

磁気テープＭＴをカートリッジリールＣＲに巻き戻す場合には、制御装置１８によって、磁気テープＭＴを逆方向に走行させるように送出モータ２０および巻取モータ２４を回転させる。

一態様では、送出モータ２０および巻取モータ２４の回転速度および回転トルク等が制御されることにより磁気テープＭＴの張力が制御されている。また、一態様では、磁気テープＭＴの張力は、ダンサローラを用いて制御されてもよいし、バキュームチャンバに磁気テープＭＴを引き込むことによって制御されてもよい。

複数のガイドローラＧＲの各々は、磁気テープＭＴを案内するローラである。磁気テープＭＴの走行経路は、複数のガイドローラＧＲが磁気テープカートリッジ１２と巻取リール２２との間において読取ヘッド１６を跨ぐ位置に分けて配置されることによって定められている。

読取ヘッド１６は、読取部２６およびホルダ２８を備えている。読取部２６は、走行中の磁気テープＭＴに接触するようにホルダ２８によって保持されている。

一例として図２に示すように、磁気テープＭＴは、トラック領域３０およびサーボパターン３２を備えている。サーボパターン３２は、磁気テープＭＴに対する読取ヘッド１６の位置の検出に用いられるパターンである。サーボパターン３２は、テープ幅方向の両端部に、第１既定角度（例えば、９５度）の第１斜線３２Ａと、第２既定角度（例えば、８５度）の第２斜線３２Ｂとが磁気テープＭＴの走行方向に沿って一定のピッチ（周期）で交互に配置されたパターンである。ここで言う「テープ幅方向」とは、磁気テープＭＴの幅方向を指す。

トラック領域３０は、読取対象とされるデータが書き込まれた領域であり、磁気テープＭＴのテープ幅方向の中央部に形成されている。ここで言う「テープ幅方向の中央部」とは、例えば、磁気テープＭＴのテープ幅方向の一端部のサーボパターン３２と他端部のサーボパターン３２との間の領域を指す。以下では、説明の便宜上、「磁気テープＭＴの走行方向」を単に「走行方向」と称する。

読取部２６は、サーボ素子対３６および複数の読取素子ユニット３８を備えている。ホルダ２８は、テープ幅方向に長尺状に形成されており、ホルダ２８の長手方向の全長は、磁気テープＭＴの幅よりも長い。サーボ素子対３６は、ホルダ２８の長手方向の両端部に配置されており、複数の読取素子ユニット３８は、ホルダ２８の長手方向の中央部に配置されている。

サーボ素子対３６は、サーボ素子３６Ａおよび３６Ｂを備えている。サーボ素子３６Ａは、磁気テープＭＴのテープ幅方向の一端部のサーボパターン３２に対向する位置に配置されており、サーボ素子３６Ｂは、磁気テープＭＴのテープ幅方向の他端部のサーボパターン３２に対向する位置に配置されている。

ホルダ２８において、サーボ素子３６Ａとサーボ素子３６Ｂとの間には、複数の読取素子ユニット３８がテープ幅方向に沿って配置されている。トラック領域３０は、複数のトラックをテープ幅方向に等間隔に備えており、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、複数の読取素子ユニット３８の各々がトラック領域３０内の各トラックに対向して配置されている。

よって、読取部２６と磁気テープＭＴとが磁気テープＭＴの長手方向に沿って直線状に相対移動することにより、トラック領域３０内の各トラックのデータは、複数の読取素子ユニット３８のうちの位置が対応する読取素子ユニット３８の各々によってリニアスキャン方式で読み取られる。また、リニアスキャン方式では、読取素子ユニット３８の読取動作と同期して、サーボ素子対３６によってサーボパターン３２が読み取られる。すなわち、リニアスキャン方式の一態様では、複数の読取素子ユニット３８とサーボ素子対３６によって磁気テープＭＴに対する読み取りが並行して行われる。

ここで、上記の「トラック領域３０内の各トラック」とは、「磁気テープに含まれるトラック領域のうちの読取対象トラックを各々含む複数の特定トラック領域の各々」に含まれるトラックを指す。

上記の「磁気テープ装置１０がデフォルトの状態」とは、磁気テープＭＴが変形することなく、かつ、磁気テープＭＴと読取ヘッド１６との位置関係が正しい位置関係にある状態を指す。ここで、「正しい位置関係」とは、例えば、磁気テープＭＴのテープ幅方向の中心と読取ヘッド１６の長手方向の中心とが一致する位置関係を指す。

一態様において、複数の読取素子ユニット３８の各々は同じ構成である。以下では、説明の便宜上、複数の読取素子ユニット３８のうちの１つを例に挙げて説明する。一例として図３に示すように、読取素子ユニット３８は、一対の読取素子を備えている。図３に示す例において、「一対の読取素子」とは、第１読取素子４０および第２読取素子４２を指す。第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々は、トラック領域３０のうち読取対象トラック３０Ａを含む特定トラック領域３１からデータを読み取る。

図３に示す例では、説明の便宜上、１つの特定トラック領域３１を示している。実際には、通常、トラック領域３０には、複数の特定トラック領域３１が存在し、各々の特定トラック領域３１に読取対象トラック３０Ａが含まれている。そして、複数の特定トラック領域３１の各々に対して読取素子ユニット３８が１つずつ割り当てられている。具体的には、複数の特定トラック領域３１の各々の読取対象トラック３０Ａに対して読取素子ユニット３８が１つずつ割り当てられている。

特定トラック領域３１とは、隣接する３つのトラックを指す。隣接する３つのトラックのうちの１つ目のトラックは、トラック領域３０のうちの読取対象トラック３０Ａである。隣接する３つのトラックのうちの２つ目のトラックは、読取対象トラック３０Ａに隣接する隣接トラックの１つである第１のノイズ混入源トラック３０Ｂである。隣接する３つのトラックのうちの３つ目のトラックは、読取対象トラック３０Ａに隣接する隣接トラックの１つである第２のノイズ混入源トラック３０Ｃである。読取対象トラック３０Ａは、トラック領域３０において読取素子ユニット３８に対向する位置のトラックである。すなわち、読取対象トラック３０Ａとは、換言すると、読取素子ユニット３８のデータの読取対象とされたトラックを指す。

第１のノイズ混入源トラック３０Ｂは、読取対象トラック３０Ａに対してテープ幅方向の一側方に隣接しており、読取対象トラック３０Ａから読み取られたデータに混入するノイズの混入源となるトラックである。第２のノイズ混入源トラック３０Ｃは、読取対象トラック３０Ａに対してテープ幅方向の他側方に隣接しており、読取対象トラック３０Ａから読み取られたデータに混入するノイズの混入源となるトラックである。以下では、説明の便宜上、第１のノイズ混入源トラック３０Ｂと第２のノイズ混入源トラック３０Ｃとを区別して説明する必要がない場合、符号を付さずに「隣接トラック」と称する。

一態様では、トラック領域３０内において、テープ幅方向に一定の間隔で複数の特定トラック領域３１が配置されている。例えば、トラック領域３０内において、テープ幅方向に一定の間隔で３２個の特定トラック領域３１が配置されており、各特定トラック領域３１に対して読取素子ユニット３８が１つずつ割り当てられている。

第１読取素子４０と第２読取素子４２とは、走行方向で近接した状態で、かつ、走行方向で一部が重なる位置に配置されている。磁気テープ装置１０のデフォルトの状態で、第１読取素子４０は、読取対象トラック３０Ａと第１のノイズ混入源トラック３０Ｂとを跨ぐ位置に配置されている。磁気テープ装置１０のデフォルトの状態で、第２読取素子４２は、読取対象トラック３０Ａと第１のノイズ混入源トラック３０Ｂとを跨ぐ位置に配置されている。

磁気テープ装置１０のデフォルトの状態で、平面視において、第１読取素子４０のうちの読取対象トラック３０Ａと対向している部分の面積は、第１読取素子４０のうちの第１のノイズ混入源トラック３０Ｂと対向している部分の面積よりも大きい。一方、磁気テープ装置１０のデフォルトの状態で、平面視において、第２読取素子４２のうちの第１のノイズ混入源トラック３０Ｂと対向している部分の面積は、第１読取素子４０のうちの読取対象トラック３０Ａと対向している部分の面積よりも大きい。

第１読取素子４０によって読み取られたデータに対しては後述の第１等化器７０（図７参照）によって波形等化処理が施される。第２読取素子４２によって読み取られたデータに対しては後述の第２等化器７２（図７参照）によって波形等化処理が施される。第１等化器７０および第２等化器７２の各々によって波形等化処理が施されて得られた各データは、加算器４４によって加算されることで合成される。

図３では、読取素子ユニット３８が第１読取素子４０および第２読取素子４２を有する態様を例に説明している。ただし、例えば、一対の読取素子のうちの１つの読取素子のみ（以下、単一読取素子とも称する）を用いても、読取素子ユニット３８から得られる再生信号に相当する信号が得られる。

この場合、例えば、一例として図８に示すように、単一読取素子から得られる再生信号を、再生信号と同期してサーボ素子対３６によって取得されたサーボ信号から算出されるトラック上の平面位置に割り当てる。そして、これをテープ幅方向に単一読取素子を移動させながら繰り返すことで、再生信号の２次元像（以下、単に「２次元像」と称する）を得る。ここで、２次元像、または、２次元像の一部を構成する再生信号（例えば、複数のトラックの位置に相当する再生信号）は、読取素子ユニット３８から得られる再生信号に相当する信号である。

図２１には、ループ状にした磁気テープＭＴ（以下、「ループテープ」とも称する）を、ループテスタを用いて得た再生信号の２次元像の一例が示されている。ここで、ループテスタとは、例えば、ループテープを単一読取素子に対して繰り返し接触させた状態で搬送させる装置を指す。ループテスタと同様に２次元像を得るためには、リールテスタを用いてもよいし、実際のテープドライブを用いてもよい。ここで言う「リールテスタ」とは、例えば、磁気テープＭＴをリール形態で搬送させる装置を指す。

このように、近接した位置に複数の読取素子を搭載した読取素子ユニットを有しない従来型の磁気テープ用ヘッドを用いたとしても、本明細書に記載の技術に係る効果を定量的に評価することができる。本明細書に記載の技術に係る効果を定量的に評価するための指標の一例として、ＳＮＲ、エラーレート等が挙げられる。

図４～図６には、本発明者らが実験して得られた結果が示されている。一例として図４に示すように、トラック領域４９上には読取素子対５０が配置されている。トラック領域４９は、テープ幅方向に隣接する第１トラック４９Ａ、第２トラック４９Ｂ、および第３トラック４９Ｃを含む。読取素子対５０は、第１読取素子５０Ａおよび第２読取素子５０Ｂからなる。第１読取素子５０Ａと第２読取素子５０Ｂとは、テープ幅方向で近接する位置に配置されている。また、第１読取素子５０Ａは、読取対象トラックである第２トラック４９Ｂに対向し、かつ、第２トラック４９Ｂに収まるように配置されている。また、第２読取素子５０Ｂは、第２トラック４９Ｂの一側方に隣接する第１トラック４９Ａに対向し、かつ、第１トラック４９Ａに収まるように配置されている。

図５には、単一読取素子データと第１条件下での第１合成データとの各々に関するＳＮＲとトラックオフセットとの相関の一例が示されている。また、図６には、単一読取素子データと第２条件下での第２合成データとの各々に関するＳＮＲとトラックオフセットとの相関の一例が示されている。

ここで、単一読取素子データとは、図３に示す第１読取素子４０と同様に、第１読取素子５０Ａによって読み取られたデータに対して波形等化処理が施されて得られたデータを指す。第１条件とは、読取素子ピッチが７００ｎｍ（ナノメートル）との条件を指す。第２条件とは、読取素子ピッチが５００ｎｍとの条件を指す。読取素子ピッチとは、一例として図４に示すように、第１読取素子５０Ａと第２読取素子５０Ｂとのテープ幅方向のピッチを指す。トラックオフセットとは、一例として図４に示すように、第２トラック４９Ｂのテープ幅方向の中心と第１読取素子５０Ａのトラック幅方向の中心とのずれ量を指す。

第１合成データとは、第１条件下で各々得られた第１波形等化処理済みデータと第２波形等化処理済みデータとが加算されることで合成されたデータを指す。第１波形等化処理済みデータとは、図３に示す第１読取素子４０と同様に、第１読取素子５０Ａによって読み取られたデータに対して波形等化処理が施されて得られたデータを指す。第２波形等化処理済みデータとは、図３に示す第２読取素子４２と同様に、第２読取素子５０Ｂによって読み取られたデータに対して波形等化処理が施されて得られたデータを指す。第２合成データとは、第２条件下で各々得られた第１波形等化処理済みデータと第２波形等化処理済みデータとが加算されることで合成されたデータを指す。

図５に示す第１合成データのＳＮＲと図６に示す第２合成データのＳＮＲとを比較すると、第１合成データのＳＮＲは、トラックオフセットが－０．４μｍ（マイクロメートル）～０．２μｍ辺りで急激に下落してグラフの途中で溝が生じているのに対し、第２合成データのＳＮＲは、第１合成データのＳＮＲのグラフのように途中で急激に下落することはない。第１合成データのＳＮＲおよび第２合成データのＳＮＲの各々は、単一読取素子データのＳＮＲよりも高く、特に、第２合成データのＳＮＲは、トラックオフセットの全範囲において、単一読取素子データのＳＮＲよりも高い。

本発明者らは、図５および図６に示す実験結果から、第１読取素子５０Ａのみによりデータの読み取りが行われる場合に比べ、第１読取素子５０Ａと第２読取素子５０Ｂとをテープ幅方向に近接させた状態でデータの読み取りを行わせることが好ましいことを知見した。ここで言う「近接させた状態」とは、例えば、第１読取素子５０Ａと第２読取素子５０Ｂとが、接触することなく、トラックオフセットの全範囲において、単一読取素子データのＳＮＲよりもＳＮＲが高くなるようにテープ幅方向に並べて配置された状態を指す。

一態様では、一例として図３に示すように、読取素子ユニット３８において、第１読取素子４０と第２読取素子４２とが走行方向に対して互いの一部をオーバーラップさせることで磁気テープＭＴに含まれるトラックの高密度化を実現している。

一例として図７に示すように、磁気テープ装置１０は、アクチュエータ６０、抽出部６２、Ａ／Ｄ（Ａｎａｌｏｇ／Ｄｉｇｉｔａｌ）変換器６４、６６、６８、復号部６９、およびコンピュータ７３を備えている。

制御装置１８は、サーボ素子対３６に対してＡ／Ｄ（Ａｎａｌｏｇ－ｔｏ－ｄｉｇｉｔａｌ）変換器６８を介して接続されている。Ａ／Ｄ変換器６８は、サーボ素子対３６に含まれるサーボ素子３６Ａおよび３６Ｂによってサーボパターン３２が読み取られて得られたアナログ信号をデジタル信号に変換することで得たサーボ信号を制御装置１８に出力する。

制御装置１８は、アクチュエータ６０に接続されている。アクチュエータ６０は、読取ヘッド１６に取り付けられており、制御装置１８の制御下で、動力を読取ヘッド１６に付与することにより、読取ヘッド１６をテープ幅方向に変動させる。アクチュエータ６０は、例えば、ボイスコイルモータを含んでおり、読取ヘッド１６に付与される動力は、磁石のエネルギーを媒体として、コイルに流れる電流に基づく電気エネルギーが運動エネルギーに変換されることによって得られる動力である。

ここでは、アクチュエータ６０にボイスコイルモータが搭載されている態様を挙げている。ただし、上記磁気テープ装置は、かかる態様に限定されず、例えば、ボイスコイルモータに代えて圧電素子を採用することも可能である。また、ボイスコイルモータおよび圧電素子を併用することも可能である。

磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置のずれ量は、サーボパターン３２をサーボ素子対３６が読み取って得た結果であるサーボ信号に応じて定められる。制御装置１８は、アクチュエータ６０を制御することにより、磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置のずれ量に応じた動力を読取ヘッド１６に付与することによって、読取ヘッド１６をテープ幅方向に変動させ、読取ヘッド１６の位置を正常な位置に調整する。ここで、正常な位置とは、例えば、図３に示すように、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態での読取ヘッド１６の位置を指す。

ここでは、磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置のずれ量を、サーボパターン３２をサーボ素子対３６が読み取って得た結果であるサーボ信号に応じて定める態様を例示している。ただし上記磁気テープ装置は、かかる例示に限定されない。例えば、磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置のずれ量として、サーボ素子３６Ａと磁気テープＭＴの予め定められた基準位置とのずれ量を採用してもよいし、読取ヘッド１６の端面と磁気テープＭＴに含まれる特定のトラックの中心位置とのずれ量を採用してもよい。磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置のずれ量は、このように、読取対象トラック３０Ａのテープ幅方向の中心と読取ヘッド１６のテープ幅方向の中心とのずれ量に相当するずれ量であればよい。以下では、説明の便宜上、磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置のずれ量を単に「ずれ量」と称する。

ずれ量は、例えば、図８に示すように、距離Ｂに対する距離Ａの割合に基づいて算出される。距離Ａとは、隣接する第１斜線３２Ａと第２斜線３２Ｂとがサーボ素子３６Ａによって読み取られることで得た結果から算出された距離を指す。距離Ｂとは、隣接する２つの第１斜線３２Ａがサーボ素子３６Ａによって読み取られることで得た結果から算出された距離を指す。

抽出部６２は、制御装置１８および２次元ＦＩＲフィルタ７１を備えている。２次元ＦＩＲフィルタ７１は、加算器４４、第１等化器７０、および第２等化器７２を備えている。

第１等化器７０は、Ａ／Ｄ変換器６４を介して第１読取素子４０に接続されている。また、第１等化器７０は、制御装置１８および加算器４４の各々に接続されている。第１読取素子４０によって特定トラック領域３１から読み取られたデータはアナログ信号であり、Ａ／Ｄ変換器６４は、第１読取素子４０によって特定トラック領域３１から読み取られたデータをデジタル信号に変換することで得た第１読取信号を第１等化器７０に出力する。

第２等化器７２は、Ａ／Ｄ変換器６６を介して第２読取素子４２に接続されている。また、第２等化器７２は、制御装置１８および加算器４４の各々に接続されている。第２読取素子４２によって特定トラック領域３１から読み取られたデータはアナログ信号であり、Ａ／Ｄ変換器６６は、第２読取素子４２によって特定トラック領域３１から読み取られたデータをデジタル信号に変換することで得た第２読取信号を第２等化器７２に出力する。なお、第１読取信号および第２読取信号は、「読取素子毎の読取結果」の一例である。

第１等化器７０は、入力された第１読取信号に対して、波形等化処理を施す。例えば、第１等化器７０は、入力された第１読取信号に対して、タップ係数を畳み込み演算し、演算処理後の信号である第１の演算処理済み信号を出力する。

第２等化器７２は、入力された第２読取信号に対して、波形等化処理を施す。例えば、第２等化器７２は、入力された第２読取信号に対して、タップ係数を畳み込み演算し、演算処理後の信号である第２の演算処理済み信号を出力する。

第１等化器７０および第２等化器７２の各々は、第１の演算処理済み信号および第２の演算処理済み信号を加算器４４に出力する。加算器４４は、第１等化器７０から入力された第１の演算処理済み信号と、第２等化器７２から入力された第２の演算処理済み信号とを加算することで合成し、合成して得た合成データを復号部６９に出力する。

第１等化器７０および第２等化器７２の各々は、１次元ＦＩＲフィルタである。

一態様では、ＦＩＲフィルタ自体は、正負を含む実数値の系列であり、系列の行数はタップ数と称され、数値自体はタップ係数と称される。また、一態様では、波形等化とは、読取信号に対して、上記の実数値の系列、すなわち、タップ係数を畳み込み演算（積和算）する処理を指す。ここで言う「読取信号」とは、第１読取信号および第２読取信号の総称を指す。また、一態様では、等化器とは、読取信号またはその他の入力信号に対し、タップ係数を畳み込み演算し、演算処理後の信号を出力する処理を実行する回路を指す。また、一態様では、加算器とは、単純に２つの系列を加算する回路を指す。２つの系列の重み付けは、第１等化器７０および第２等化器７２で用いられるＦＩＲフィルタの数値、すなわち、タップ係数に反映される。

制御装置１８は、第１等化器７０および第２等化器７２の各々のＦＩＲフィルタに対して、ずれ量に応じたタップ係数を設定することにより、第１等化器７０および第２等化器７２の各々に対して、ずれ量に応じた波形等化処理を実行させる。

制御装置１８は、対応テーブル１８Ａを備えている。対応テーブル１８Ａでは、第１等化器７０および第２等化器７２の各々について、タップ係数とずれ量とが対応付けられている。タップ係数とずれ量との組み合わせは、例えば、実機の試験およびシミュレーションのうちの少なくとも一方が実施された結果に基づいて、加算器４４によって最良の合成データが得られるタップ係数とずれ量との組み合わせとして予め得られた組み合わせである。ここで言う「最良の合成データ」とは、読取対象トラックデータに相当するデータを指す。

ここで、「読取対象トラックデータ」とは、「読取対象トラック３０Ａに由来するデータ」を指す。「読取対象トラック３０Ａに由来するデータ」とは、換言すると、読取対象トラック３０Ａに書き込まれているデータに相当するデータを指す。読取対象トラック３０Ａに書き込まれているデータに相当するデータの一例としては、読取対象トラック３０Ａから読み出されたデータであって、隣接トラックからのノイズ成分が混入されていないデータが挙げられる。

上記では、対応テーブル１８Ａを例示している。他の態様では、対応テーブル１８Ａに代えて、演算式を採用してもよい。ここで言う「演算式」とは、例えば、独立変数をずれ量とし、従属変数をタップ係数とした演算式を指す。

上記では、タップ係数とずれ量との組み合わせが規定された対応テーブル１８Ａからタップ係数が導出される態様が挙げられている。他の態様では、例えば、タップ係数と比との組み合わせが規定された対応テーブルまたは演算式からタップ係数が導出されてもよい。ここで言う「比」とは、第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々についての、読取対象トラック３０Ａとの重複領域と隣接トラックとの重複領域との比を指す。比は、制御装置１８により、ずれ量から算出されることで特定され、特定された比に応じて、タップ係数が定められる。

復号部６９は、加算器４４から入力された合成データを復号し、復号して得た復号信号をコンピュータ７３に出力する。コンピュータ７３は、復号部６９から入力された復号信号に対して各種処理を施す。

次に、抽出部６２によって実行される磁気テープ読取処理について、図９を参照して説明する。以下では、説明の便宜上、サンプリングの時期が到来すると、サーボ信号が制御装置１８に入力されることを前提として説明する。ここで、サンプリングとは、サーボ信号のサンプリングに限らず、読取信号のサンプリングも意味する。すなわち、一態様では、トラック領域３０が走行方向に沿ってサーボパターン３２と並行して形成されているので、サーボ素子対３６の読取動作に同期して読取素子ユニット３８の読取動作が行われる。

図９に示す処理では、先ず、ステップ１００で、制御装置１８は、サンプリングの時期が到来したか否かを判定する。ステップ１００において、サンプリングの時期が到来した場合は、判定が肯定されて、磁気テープ読取処理はステップ１０２へ移行する。ステップ１００において、サンプリングの時期が到来していない場合は、判定が否定されて、ステップ１００の判定が再び行われる。

ステップ１０２で、第１等化器７０は、第１読取信号を取得し、第２等化器７２は、第２読取信号を取得し、その後、磁気テープ読取処理はステップ１０４へ移行する。

ステップ１０４で、制御装置１８は、サーボ信号を取得し、取得したサーボ信号からずれ量を算出し、その後、磁気テープ読取処理はステップ１０６へ移行する。

ステップ１０６で、制御装置１８は、第１等化器７０および第２等化器７２の各々の第１～第３タップについて、ステップ１０４の処理で算出したずれ量に対応するタップ係数を対応テーブル１８Ａから導出する。すなわち、本ステップ１０６の処理が実行されることで、第１等化器７０の一例である１次元ＦＩＲフィルタと第２等化器７２の一例である１次元フィルタとの組み合わせとして最適な組み合わせが定められる。ここで言う「最適な組み合わせ」とは、例えば、後述のステップ１１２の処理が実行されることで出力される合成データを、読取対象トラックデータに相当するデータにする組み合わせを指す。

次のステップ１０８で、制御装置１８は、ステップ１０６の処理で導出したタップ係数を第１等化器７０および第２等化器７２の各々に対して設定し、その後、磁気テープ読取処理はステップ１１０へ移行する。

ステップ１１０で、第１等化器７０は、ステップ１０２の処理で取得した第１読取信号に対して波形等化処理を施すことで、第１の演算処理済み信号を生成する。第１等化器７０は、生成した第１の演算処理済み信号を加算器４４に出力する。第２等化器７２は、ステップ１０２の処理で取得した第２読取信号に対して波形等化処理を施すことで、第２の演算処理済み信号を生成する。第２等化器７２は、生成した第２の演算処理済み信号を加算器４４に出力する。

次のステップ１１２で、加算器４４は、一例として図１０に示すように、第１等化器７０から入力された第１の演算処理済み信号と、第２等化器７２から入力された第２の演算処理済み信号とを加算することで合成する。そして、加算器４４は、合成して得た合成データを復号部６９に出力する。

図３に示す例のように読取素子ユニット３８が特定トラック領域３１上に配置されている場合、本ステップ１１２の処理が実行されることにより、合成データとして、第１のノイズ混入源トラック３０Ｂからのノイズ成分が除去された読取対象トラックデータに相当するデータが出力される。つまり、ステップ１０２～ステップ１１２の処理が実行されることにより、抽出部６２によって、読取対象トラック３０Ａに由来するデータのみが抽出される。

磁気テープＭＴのテープ幅方向が伸縮したり、磁気テープＭＴおよび読取ヘッド１６の少なくとも一方に対して振動が付与されたりした場合に、読取素子ユニット３８が、一例として図３に示す位置から図１１に示す位置に変位することがある。図１１に示す例では、第１読取素子４０と第２読取素子４２とが、読取対象トラック３０Ａと第２のノイズ混入源トラック３０Ｃとの双方に対して、共に跨る位置に配置される。この場合、ステップ１０２～ステップ１１２の処理が実行されることで、第２のノイズ混入源トラック３０Ｃからのノイズ成分が除去された読取対象トラックデータに相当するデータが合成データとして復号部６９に出力される。

次のステップ１１４で、制御装置１８は、磁気テープ読取処理を終了する条件（以下、「終了条件」と称する）を満たしたか否かを判定する。終了条件とは、例えば、磁気テープＭＴの全てが巻取リール２２によって巻き取られたとの条件、磁気テープ読取処理を強制終了する指示が外部から与えられたとの条件等を指す。

ステップ１１４において、終了条件を満たしていない場合は、判定が否定されて、磁気テープ読取処理はステップ１００へ移行する。ステップ１１４において、終了条件を満たした場合は、判定が肯定されて、磁気テープ読取処理が終了する。

以上説明したように、磁気テープ装置１０の一態様では、近接した状態で配置された第１読取素子４０および第２読取素子４２により、特定トラック領域３１からデータが各々読み取られる。そして、抽出部６２により、第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々に対して、ずれ量に応じた波形等化処理が施されることで、第１読取信号および第２読取信号から、読取対象トラック３０Ａに由来するデータが抽出される。従って、磁気テープ装置１０は、読取対象トラック３０Ａからリニアスキャン方式で単一の読取素子のみによってデータが読み取られる場合に比べ、読取対象トラック３０Ａからリニアスキャン方式で読み取られるデータの再生品質の低下を抑制することができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、第１読取素子４０および第２読取素子４２の互いの一部が走行方向で重なっている。従って、磁気テープ装置１０は、複数の読取素子の互いの全体が走行方向で重なっている場合に比べ、読取対象トラック３０Ａからリニアスキャン方式で読み取られるデータの再生品質を高めることができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、特定トラック領域３１は、読取対象トラック３０Ａ、第１のノイズ混入源トラック３０Ｂ、および第２のノイズ混入源トラック３０Ｃを含み、第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々は、磁気テープＭＴとの位置関係が変化した場合に、読取対象トラック３０Ａおよび隣接トラックの双方に対して、共に跨っている。従って、磁気テープ装置１０は、読取対象トラック３０Ａからリニアスキャン方式で単一の読取素子のみによってデータが読み取られる場合に比べ、テープ幅方向において読取対象トラック３０Ａから隣接トラックに入り込むことにより第１読取素子４０および第２読取素子４２のうちの一方の読取素子で生じるノイズ成分を、テープ幅方向において読取対象トラック３０Ａから隣接トラックに入り込んでいる他方の読取素子の読取結果を利用して低減することができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、波形等化処理で用いられるタップ係数はずれ量に応じて定められる。従って、磁気テープ装置１０は、タップ係数がずれ量とは関連性のないパラメータに応じて定められる場合に比べ、テープ幅方向において隣接トラックから読取対象トラック３０Ａに入り込むことで生じるノイズ成分を、磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置関係の変化に追従して即時的に低減することができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々について、読取対象トラック３０Ａとの重複領域と隣接トラックとの重複領域との比がずれ量から特定され、特定された比に応じてタップ係数が定められる。これにより、磁気テープ装置１０は、複数の読取素子の各々についての読取対象トラック３０Ａとの重複領域と隣接トラックとの重複領域との比とは関連性のないパラメータに応じてタップ係数が定められる場合に比べ、磁気テープＭＴと読取素子ユニット３８との位置関係が変化したとしても、ノイズ成分を正確に低減することができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、ずれ量は、サーボパターン３２をサーボ素子対３６が読み取ることで得た結果に応じて定められる。これにより、磁気テープ装置１０は、磁気テープＭＴにサーボパターン３２が付与されていない場合に比べ、容易にずれ量を定めることができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、サーボ素子対３６の読取動作に同期して読取素子ユニット３８の読取動作が行われる。これにより、磁気テープ装置１０は、サーボパターンとデータとを同期して読み取ることができない磁気ディスクおよびヘリカルスキャン方式の磁気テープに比べ、磁気テープの幅方向において隣接トラックから読取対象トラックに入り込むことで生じるノイズ成分を即時的に低減することができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、抽出部６２が２次元ＦＩＲフィルタ７１を有している。そして、２次元ＦＩＲフィルタ７１により、第１読取信号および第２読取信号の各々に対して波形等化処理が施されることで得られた各結果を合成することで、第１読取信号および第２読取信号から読取対象トラック３０Ａに由来するデータが抽出される。これにより、磁気テープ装置１０は、１次元ＦＩＲフィルタのみを用いる場合に比べ、第１読取信号および第２読取信号から読取対象トラック３０Ａに由来するデータを迅速に抽出することができる。また、磁気テープ装置１０は、行列演算を行う場合に比べ、より少ない演算量での演算を実現することができる。

また、磁気テープ装置１０の一態様では、一対の読取素子として第１読取素子４０および第２読取素子４２が採用されている。これにより、磁気テープ装置１０は、３つ以上の読取素子を用いる場合に比べ、読取素子ユニット３８の小型化に寄与することができる。読取素子ユニット３８が小型化されることにより、読取部２６および読取ヘッド１６も小型化可能となる。また、磁気テープ装置１０は、隣接する読取素子ユニット３８同士で接触するという事態の発生も抑制することができる。

更に、磁気テープ装置１０の一態様では、複数の読取素子ユニット３８の各々により、複数の特定トラック領域３１の各々に含まれる対応する読取対象トラック３０Ａからリニアスキャン方式でデータが読み取られる。これにより、磁気テープ装置１０は、複数の読取対象トラック３０Ａの各々から単一の読取素子ユニット３８のみによってデータが読み取られる場合に比べ、複数の読取対象トラック３０Ａからのデータの読み取りを迅速に完遂することができる。

上記の態様では、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々が、読取対象トラック３０Ａおよび第１のノイズ混入源トラック３０Ｂの双方に対して、共に跨るように設けられている、ただし、上記磁気テープ装置は、かかる態様に限定されない。図１２に示す例では、上記で説明した読取素子ユニット３８に代えて読取素子ユニット１３８が採用されている。読取素子ユニット１３８は、第１読取素子１４０および第２読取素子１４２を備えている。磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第１読取素子１４０のテープ幅方向の中心は、読取対象トラック３０Ａのテープ幅方向の中心ＣＬと一致している。また、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第１読取素子１４０および第２読取素子１４２は、第１のノイズ混入源トラック３０Ｂおよび第２のノイズ混入源トラック３０Ｃに食み出すことなく、読取対象トラック３０Ａに収まっている。更に、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、上記実施形態で説明した第１読取素子４０および第２読取素子４２と同様に、第１読取素子１４０および第２読取素子１４２の各々は、走行方向で互いの一部が重なるように設けられている。

一例として図１２に示すように第１読取素子１４０および第２読取素子１４２が読取対象トラック３０Ａから食み出ることなく読取対象トラック３０Ａに対面している状態であっても、読取素子ユニット１３８と磁気テープＭＴとの位置関係が変化することがある。すなわち、読取素子ユニット１３８が読取対象トラック３０Ａと第１のノイズ混入源トラック３０Ｂとに跨る場合と読取素子ユニット１３８が読取対象トラック３０Ａと第２のノイズ混入源トラック３０Ｃとに跨る場合とがある。これらの場合であっても、上述したステップ１０２～ステップ１１２の処理が実行されることにより、第１のノイズ混入源トラック３０Ｂまたは第２のノイズ混入源トラック３０Ｃからのノイズ成分が除去された読取対象トラックデータに相当するデータを得ることが可能となる。

また、第１読取素子１４０および第２読取素子１４２が走行方向で互いの一部が重なる位置に配置されているので、読取対象トラック３０Ａのうち、第１読取素子１４０では読み取ることができない部分から第２読取素子１４２がデータを読み出すことができる。この結果、第１読取素子１４０が単一で読取対象トラック３０Ａからデータを読み取る場合に比べ、読取対象トラックデータの信頼性を高めることができる。

また、一例として図１１に示すように、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第１読取素子４０および第２読取素子４２の各々が、読取対象トラック３０Ａおよび第２のノイズ混入源トラック３０Ｃの双方に対して、共に跨る位置に配置されるようにしてもよい。

また、上記では、第１読取素子４０および第２読取素子４２を含む読取素子ユニット３８を例示した。ただし上記磁気テープ装置は、かかる態様に限定されない。図１３に示す例では、読取素子ユニット３８に代えて読取素子ユニット２３８が採用されている。読取素子ユニット２３８は、読取素子ユニット３８に比べ、第３読取素子２４４を有する点が異なる。磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第３読取素子２４４は、第１読取素子４０との間で、走行方向で互いの一部が重なる位置に配置されている。また、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第３読取素子２４４は、読取対象トラック３０Ａおよび第２のノイズ混入源トラック３０Ｃに跨る位置に配置されている。

この場合、第１読取素子４０に対して第１等化器７０を割り当て、第２読取素子４２に第２等化器７２を割り当てた場合と同様に、第３読取素子２４４に対しても第３等化器（図示省略）を割り当てる。第３等化器も、上記で説明した第１等化器および第２等化器と同様の機能を有しており、第３読取素子２４４によって読み取られて得られた第３読取信号に対して波形等化処理を施す。そして、第３等化器は、第３読取信号に対して、例えばタップ係数を畳み込み演算し、演算処理後の信号である第３の演算処理済み信号を出力する。加算器４４は、第１読取信号に対応する第１の演算処理済み信号と、第２読取信号に対応する第２の演算処理済み信号と、第３読取信号に対応する第３の演算処理済み信号とを加算することで合成し、合成して得た合成データを復号部６９に出力する。

図１３に示す例では、磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第３読取素子２４４が読取対象トラック３０Ａと第２のノイズ混入源トラック３０Ｃとに跨った位置に配置されているが、本開示の技術はこれに限定されない。磁気テープ装置１０がデフォルトの状態で、第３読取素子２４４が読取対象トラック３０Ａから食み出すことなく読取対象トラック３０Ａに対面する位置に配置されるようにしてもよい。

また、上記では、読取素子ユニット３８を例示した。ただし上記磁気テープ装置は、かかる態様に限定されない。例えば、読取素子ユニット３８に代えて、図４に示す読取素子対５０が採用されてもよい。この場合、第１読取素子５０Ａおよび第２読取素子５０Ｂは、テープ幅方向で近接する位置に配置されるようにする。また、第１読取素子５０Ａと第２読取素子５０Ｂとが、接触することなく、一例として図６に示すように、トラックオフセットの全範囲において、単一読取素子データのＳＮＲよりもＳＮＲが高くなるようにテープ幅方向に並べて配置されるようにする。

図４に示す例では、例えば、第１読取素子５０Ａが平面視で第２トラック４９Ｂ内に納まっており、第２読取素子５０Ｂが平面視で第１トラック４９Ａ内に収まっている。

また、上記では、サーボ素子対３６を例示した。ただし上記磁気テープ装置は、かかる態様に限定されない。例えば、サーボ素子対３６に代えて、サーボ素子３６Ａおよび３６Ｂのうちの１つを採用してもよい。

また、上記では、トラック領域３０内において、複数の特定トラック領域３１がテープ幅方向に一定の間隔で配列されている態様について説明した。ただし上記磁気テープ装置は、かかる態様に限定されない。例えば、複数の特定トラック領域３１のうち、隣接する２つの特定トラック領域３１において、一方の特定トラック領域３１と他方の特定トラック領域３１とがテープ幅方向において１トラック分だけ重複するようにテープ幅方向に配列させるようにしてもよい。この場合、一方の特定トラック領域３１に含まれる一方の隣接トラック（例えば、第１のノイズ混入源トラック３０Ｂ）が他方の特定トラック領域３１では読取対象トラック３０Ａになる。また、一方の特定トラック領域３１に含まれる読取対象トラック３０Ａは、他方の特定トラック領域３１では隣接トラック領域（例えば、第２のノイズ混入源トラック３０Ｃ）になる。

以上説明した磁気テープ装置の構成および磁気テープ読取処理はあくまでも例示である。従って、主旨を逸脱しない範囲内において、不要なステップの削除、新たなステップの追加、処理順序の入れ替え等が可能であることは言うまでもない。
また、上記磁気テープ装置は、磁気テープに記録されたデータの読み取り（再生）を行うことができ、更に、磁気テープへのデータの記録を行うための構成を有することもできる。

［磁気テープ］
次に、上記磁気テープ装置においてデータの読み取りが行われる磁気テープの詳細について説明する。

上記磁気テープの磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下である。

図１４～図１６は、対数減衰率の測定方法の説明図である。以下、これら図面を参照し対数減衰率の測定方法を説明する。ただし、図示された態様は例示であって、本発明を何ら限定するものではない。なお本発明および本明細書において、「磁性層（の）表面」とは、磁気テープの磁性層側表面と同義である。
振り子粘弾性試験機内の試料ステージ３０１において、測定対象の磁気テープの一部（測定用試料）３００を、目視で確認できる明らかなしわが入っていない状態で、基板３０３上に測定面（磁性層表面）を上方に向けて固定用テープ３０５等で固定された状態で載置する。
測定用試料３００の測定面上に、振り子付丸棒型シリンダエッジ３０４を、シリンダエッジの長軸方向が測定用試料３００の長手方向と平行になるように載せる。こうして測定用試料３００の測定面に、振り子付丸棒型シリンダエッジ３０４を載せた状態（上方から見た状態）の一例を、図１４に示す。図１４に示す態様では、ホルダ兼温度センサー３０２が設置され、基板３０３の表面温度をモニタリングできる構成になっている。ただし、この構成は必須ではない。なお測定用試料３００の長手方向とは、図１４に示す態様では図中に矢印によって示した方向であり、測定用試料を切り出した磁気テープにおける長手方向と同方向である。また、振り子３０７（図１５参照）としては、マグネットに吸着される性質を有する材料製（例えば金属製、合金製等）の振り子を用いる。
測定用試料３００を載置した基板３０３の表面温度を５℃／ｍｉｎ以下の昇温速度（５℃／ｍｉｎ以下であれば任意の昇温速度でよい。）で昇温して８０℃として、振り子運動を、振り子３０７とマグネット３０６との吸着を解除することにより開始（初期振動を誘起）させる。振り子運動している振り子３０７の状態（横から見た状態）の一例が、図１５である。図１５に示す態様では、振り子粘弾性試験機内で、試料ステージ下方に配置されたマグネット（電磁石）３０６への通電を停止して（スイッチをオフにして）吸着を解除することにより振り子運動を開始し、電磁石への通電を再開して（スイッチをオンにして）振り子３０７をマグネット３０６に吸着させることにより振り子運動を停止させる。振り子運動中、図１５に示すように、振り子３０７は振幅を繰り返す。振り子が振幅を繰り返している間、振り子の変位を変位センサー３０８によりモニタリングして得られる結果から、変位を縦軸に取り、経過時間を横軸に取った変位－時間曲線を得る。変位－時間曲線の一例を、図１６に示す。図１６では、振り子３０７の状態と変位－時間曲線との対応が模式的に示されている。一定の測定間隔で、静止（吸着）と振り子運動とを繰り返し、１０分以上（１０分以上であれば任意の時間でよい。）経過した後の測定間隔において得られた変位－時間曲線を用いて、対数減衰率Δ（無単位）を、下記式から求め、この値を磁気テープの磁性層表面の対数減衰率とする。１回の吸着の吸着時間は１秒以上（１秒以上であれば任意の時間でよい。）とし、吸着終了から次の吸着開始までの間隔は６秒以上（６秒以上であれば任意の時間でよい。）とする。測定間隔とは、吸着開始から次の吸着開始までの時間の間隔である。また、振り子運動を行う環境の湿度は、相対湿度４０～７０％の範囲であれば任意の相対湿度でよい。また、振り子運動を行う環境の雰囲気温度は、２０～３０℃の範囲であれば任意の温度でよい。

変位－時間曲線において、変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、波の一周期とする。ｎを、測定間隔中の変位－時間曲線に含まれる波の数とし、Ａｎを、ｎ番目の波における極小変位と極大変位との差とする。図１６では、ｎ番目の波の変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、Ｐｎ（例えば１番目の波についてはＰ_１、２番目についてはＰ_２、３番目についてはＰ_３）と表示している。対数減衰率の算出には、ｎ番目の波の次に現れる極小変位と極大変位との差（上記式中、Ａ_ｎ＋１、図１６に示す変位－時間曲線ではＡ_４）も用いるが、極大変位以降に振り子３０７が静止（吸着）している部分は波の数のカウントには用いない。また、極大変位以前に振り子３０７が静止（吸着）している部分も、波の数のカウントには用いない。したがって、図１６に示す変位－時間曲線では、波の数は３つ（ｎ＝３）である。

上記方法により求められる対数減衰率は、磁性層表面と読取素子とが接触し摺動する際に磁性層表面から遊離して磁性層表面と読取素子との間に介在する粘着性成分の量の指標となる値と考えられる。かかる粘着性成分が多く存在するほど磁性層表面と読取素子との密着力が高まり、磁性層表面と読取素子とが摺動する際の接触状態が不安定になると考えられる。これに対し、上記磁気テープにおいて磁性層表面の対数減衰率が０．０５０以下の状態であること、即ち粘着性成分が低減された状態であることは、磁性層表面と読取素子とが摺動する際の接触状態の安定化（摺動性の向上）に寄与し、その結果、先に記載した小さな周期の位置変動を抑制することができると推察される。このことが、各箇所で読み取られた読取結果に対して、より適した波形等化処理を施すことを可能とすることに寄与すると考えられる。
なお上記粘着性成分の詳細は明らかではない。本発明者らは、上記粘着性成分は、結合剤として用いられる樹脂に由来する可能性があると推察している。詳しくは、次の通りである。結合剤としては、詳細を後述するように各種樹脂を用いることができる。樹脂とは、２つ以上の重合性化合物の重合体（ホモポリマーおよびコポリマーを包含する。）であり、分子量が平均分子量を下回る成分（以下、「低分子量結合剤成分」と記載する。）も通常含まれる。このような低分子量結合剤成分が、磁性層表面と読取素子との摺動時に磁性層表面から遊離し磁性層表面と読取素子との間に介在するのではないかと、本発明者らは考えている。そして、上記の低分子量結合剤成分は粘着性を有すると考えられ、振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率が、磁性層表面と読取素子との摺動時に磁性層表面から遊離する低分子量結合剤成分の量の指標になるのではないかと、本発明者らは推察している。なお、一態様では、磁性層は、強磁性粉末および結合剤に加えて、硬化剤を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布し、硬化処理を施し形成される。ここでの硬化処理により、結合剤と硬化剤とを硬化反応（架橋反応）させることができる。ただし、低分子量結合剤成分は、理由は定かではないものの、硬化反応の反応性に乏しいのではないかと本発明者らは考えている。このため、低分子量結合剤成分は磁性層に留まり難く磁性層から遊離しやすいことが、低分子量結合剤成分が磁性層表面と読取素子との摺動時に磁性層表面とヘッドとの間に介在してしまう理由の１つではないかと推察される。
ただし、以上は推察であって、本発明を何ら限定するものではない。

上記磁気テープの磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下であり、磁性層表面と読取素子との摺動性の更なる向上の観点からは、０．０４８以下であることが好ましく、０．０４５以下であることがより好ましく、０．０４０以下であることが更に好ましい。磁性層表面と読取素子との摺動性向上の観点からは、対数減衰率は低いほど好ましいため、下限値は特に限定されるものではない。一例として、対数減衰率は、例えば０．０１０以上、または０．０１５以上であることができる。ただし対数減衰率は、上記の例示した値を下回ってもよい。対数減衰率を調整するための手段の具体的態様は、後述する。

＜磁性層＞
（強磁性粉末）
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において通常用いられる強磁性粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末の平均粒子サイズは５０ｎｍ以下であることが好ましく、４５ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３５ｎｍ以下であることが一層好ましく、３０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、２５ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、２０ｎｍ以下であることがなお一層好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは５ｎｍ以上であることが好ましく、８ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることが更に好ましく、１５ｎｍ以上であることが一層好ましく、２０ｎｍ以上であることがより一層好ましい。

－六方晶フェライト粉末－
強磁性粉末の好ましい具体例としては、六方晶フェライト粉末を挙げることができる。六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１－２２５４１７号公報の段落００１２～００３０、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１３４～０１３６、特開２０１２－２０４７２６号公報の段落００１３～００３０および特開２０１５－１２７９８５号公報の段落００２９～００８４を参照できる。

本発明および本明細書において、「六方晶フェライト粉末」とは、Ｘ線回折分析によって、主相として六方晶フェライト型の結晶構造が検出される強磁性粉末をいうものとする。主相とは、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークが帰属する構造をいう。例えば、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークが六方晶フェライト型の結晶構造に帰属される場合、六方晶フェライト型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。Ｘ線回折分析によって単一の構造のみが検出された場合には、この検出された構造を主相とする。六方晶フェライト型の結晶構造は、構成原子として、少なくとも鉄原子、二価金属原子および酸素原子を含む。二価金属原子とは、イオンとして二価のカチオンになり得る金属原子であり、ストロンチウム原子、バリウム原子、カルシウム原子等のアルカリ土類金属原子、鉛原子等を挙げることができる。本発明および本明細書において、六方晶ストロンチウムフェライト粉末とは、この粉末に含まれる主な二価金属原子がストロンチウム原子であるものをいい、六方晶バリウムフェライト粉末とは、この粉末に含まれる主な二価金属原子がバリウム原子であるものをいう。主な二価金属原子とは、この粉末に含まれる二価金属原子の中で、原子％基準で最も多くを占める二価金属原子をいうものとする。ただし、上記の二価金属原子には、希土類原子は包含されないものとする。本発明および本明細書における「希土類原子」は、スカンジウム原子（Ｓｃ）、イットリウム原子（Ｙ）、およびランタノイド原子からなる群から選択される。ランタノイド原子は、ランタン原子（Ｌａ）、セリウム原子（Ｃｅ）、プラセオジム原子（Ｐｒ）、ネオジム原子（Ｎｄ）、プロメチウム原子（Ｐｍ）、サマリウム原子（Ｓｍ）、ユウロピウム原子（Ｅｕ）、ガドリニウム原子（Ｇｄ）、テルビウム原子（Ｔｂ）、ジスプロシウム原子（Ｄｙ）、ホルミウム原子（Ｈｏ）、エルビウム原子（Ｅｒ）、ツリウム原子（Ｔｍ）、イッテルビウム原子（Ｙｂ）、およびルテチウム原子（Ｌｕ）からなる群から選択される。

以下に、六方晶フェライト粉末の一態様である六方晶ストロンチウムフェライト粉末について、更に詳細に説明する。

六方晶ストロンチウムフェライト粉末の活性化体積は、好ましくは８００～１６００ｎｍ^３の範囲である。上記範囲の活性化体積を示す微粒子化された六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、優れた電磁変換特性を発揮する磁気テープの作製のために好適である。六方晶ストロンチウムフェライト粉末の活性化体積は、好ましくは８００ｎｍ^３以上であり、例えば８５０ｎｍ^３以上であることもできる。また、電磁変換特性の更なる向上の観点から、六方晶ストロンチウムフェライト粉末の活性化体積は、１５００ｎｍ^３以下であることがより好ましく、１４００ｎｍ^３以下であることが更に好ましく、１３００ｎｍ^３以下であることが一層好ましく、１２００ｎｍ^３以下であることがより一層好ましく、１１００ｎｍ^３以下であることが更により一層好ましい。六方晶バリウムフェライト粉末の活性化体積についても、同様である。

「活性化体積」とは、磁化反転の単位であって、粒子の磁気的な大きさを示す指標である。本発明および本明細書に記載の活性化体積および後述の異方性定数Ｋｕは、振動試料型磁束計を用いて保磁力Ｈｃ測定部の磁場スイープ速度３分と３０分とで測定し（測定温度：２３℃±１℃）、以下のＨｃと活性化体積Ｖとの関係式から求められる値である。なお異方性定数Ｋｕの単位に関して、１ｅｒｇ／ｃｃ＝１．０×１０^－１Ｊ／ｍ^３である。
Ｈｃ＝２Ｋｕ／Ｍｓ｛１－［（ｋＴ／ＫｕＶ）ｌｎ（Ａｔ／０．６９３）］^１／２｝
［上記式中、Ｋｕ：異方性定数（単位：Ｊ／ｍ^３）、Ｍｓ：飽和磁化（単位：ｋＡ／ｍ）、ｋ：ボルツマン定数、Ｔ：絶対温度（単位：Ｋ）、Ｖ：活性化体積（単位：ｃｍ^３）、Ａ：スピン歳差周波数（単位：ｓ^－１）、ｔ：磁界反転時間（単位：ｓ）］

熱揺らぎの低減、換言すれば熱的安定性の向上の指標としては、異方性定数Ｋｕを挙げることができる。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、好ましくは１．８×１０^５Ｊ／ｍ^３以上のＫｕを有することができ、より好ましくは２．０×１０^５Ｊ／ｍ^３以上のＫｕを有することができる。また、六方晶ストロンチウムフェライト粉末のＫｕは、例えば２．５×１０^５Ｊ／ｍ^３以下であることができる。ただしＫｕが高いほど熱的安定性が高いことを意味し好ましいため、上記例示した値に限定されるものではない。

六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、希土類原子を含んでいてもよく、含まなくてもよい。六方晶ストロンチウムフェライト粉末が希土類原子を含む場合、鉄原子１００原子％に対して、０．５～５．０原子％の含有率（バルク含有率）で希土類原子を含むことが好ましい。希土類原子を含む六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、一態様では、希土類原子表層部偏在性を有することができる。本発明および本明細書における「希土類原子表層部偏在性」とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を酸により部分溶解して得られた溶解液中の鉄原子１００原子％に対する希土類原子含有率（以下、「希土類原子表層部含有率」または希土類原子に関して単に「表層部含有率」と記載する。）が、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を酸により全溶解して得られた溶解液中の鉄原子１００原子％に対する希土類原子含有率（以下、「希土類原子バルク含有率」または希土類原子に関して単に「バルク含有率」と記載する。）と、
希土類原子表層部含有率／希土類原子バルク含有率＞１．０
の比率を満たすことを意味する。後述の六方晶フェライト粉末の希土類原子含有率とは、希土類原子バルク含有率と同義である。これに対し、酸を用いる部分溶解は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部を溶解するため、部分溶解により得られる溶解液中の希土類原子含有率とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部における希土類原子含有率である。希土類原子表層部含有率が、「希土類原子表層部含有率／希土類原子バルク含有率＞１．０」の比率を満たすことは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子において、希土類原子が表層部に偏在（即ち内部より多く存在）していることを意味する。本発明および本明細書における表層部とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表面から内部に向かう一部領域を意味する。

六方晶フェライト粉末が希土類原子を含む場合、希土類原子含有率（バルク含有率）は、鉄原子１００原子％に対して０．５～５．０原子％の範囲であることが好ましい。上記範囲のバルク含有率で希土類原子を含み、かつ六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に希土類原子が偏在していることは、繰り返し再生における再生出力の低下を抑制することに寄与すると考えられる。これは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末が上記範囲のバルク含有率で希土類原子を含み、かつ六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に希土類原子が偏在していることにより、異方性定数Ｋｕを高めることができるためと推察される。異方性定数Ｋｕは、この値が高いほど、いわゆる熱揺らぎと呼ばれる現象の発生を抑制すること（換言すれば熱的安定性を向上させること）ができる。熱揺らぎの発生が抑制されることにより、繰り返し再生における再生出力の低下を抑制することができる。六方晶ストロンチウムフェライト粉末の粒子表層部に希土類原子が偏在することが、表層部の結晶格子内の鉄（Ｆｅ）のサイトのスピンを安定化することに寄与し、これにより異方性定数Ｋｕが高まるのではないかと推察される。
また、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末を磁性層の強磁性粉末として用いることは、磁気ヘッドとの摺動によって磁性層表面が削れることを抑制することにも寄与すると推察される。即ち、磁気テープの走行耐久性の向上にも、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末が寄与し得ると推察される。これは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表面に希土類原子が偏在することが、粒子表面と磁性層に含まれる有機物質（例えば、結合剤および／または添加剤）との相互作用の向上に寄与し、その結果、磁性層の強度が向上するためではないかと推察される。
繰り返し再生における再生出力の低下をより一層抑制する観点および／または走行耐久性の更なる向上の観点からは、希土類原子含有率（バルク含有率）は、０．５～４．５原子％の範囲であることがより好ましく、１．０～４．５原子％の範囲であることが更に好ましく、１．５～４．５原子％の範囲であることが一層好ましい。

上記バルク含有率は、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を全溶解して求められる含有率である。なお本発明および本明細書において、特記しない限り、原子について含有率とは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を全溶解して求められるバルク含有率をいうものとする。希土類原子を含む六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、希土類原子として一種の希土類原子のみ含んでもよく、二種以上の希土類原子を含んでもよい。二種以上の希土類原子を含む場合の上記バルク含有率とは、二種以上の希土類原子の合計について求められる。この点は、本発明および本明細書における他の成分についても同様である。即ち、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく、二種以上用いてもよい。二種以上用いられる場合の含有量または含有率とは、二種以上の合計についていうものとする。

六方晶ストロンチウムフェライト粉末が希土類原子を含む場合、含まれる希土類原子は、希土類原子のいずれか一種以上であればよい。繰り返し再生における再生出力の低下をより一層抑制する観点から好ましい希土類原子としては、ネオジム原子、サマリウム原子、イットリウム原子およびジスプロシウム原子を挙げることができ、ネオジム原子、サマリウム原子およびイットリウム原子がより好ましく、ネオジム原子が更に好ましい。

希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末において、希土類原子は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に偏在していればよく、偏在の程度は限定されるものではない。例えば、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末について、後述する溶解条件で部分溶解して求められた希土類原子の表層部含有率と後述する溶解条件で全溶解して求められた希土類原子のバルク含有率との比率、「表層部含有率／バルク含有率」は１．０超であり、１．５以上であることができる。「表層部含有率／バルク含有率」が１．０より大きいことは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子において、希土類原子が表層部に偏在（即ち内部より多く存在）していることを意味する。また、後述する溶解条件で部分溶解して求められた希土類原子の表層部含有率と後述する溶解条件で全溶解して求められた希土類原子のバルク含有率との比率、「表層部含有率／バルク含有率」は、例えば、１０．０以下、９．０以下、８．０以下、７．０以下、６．０以下、５．０以下、または４．０以下であることができる。ただし、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末において、希土類原子は六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子の表層部に偏在していればよく、上記の「表層部含有率／バルク含有率」は、例示した上限または下限に限定されるものではない。

六方晶ストロンチウムフェライト粉末の部分溶解および全溶解について、以下に説明する。粉末として存在している六方晶ストロンチウムフェライト粉末については、部分溶解および全溶解する試料粉末は、同一ロットの粉末から採取する。一方、磁気テープの磁性層に含まれている六方晶ストロンチウムフェライト粉末については、磁性層から取り出した六方晶ストロンチウムフェライト粉末の一部を部分溶解に付し、他の一部を全溶解に付す。磁性層からの六方晶ストロンチウムフェライト粉末の取り出しは、例えば、特開２０１５－９１７４７号公報の段落００３２に記載の方法によって行うことができる。
上記部分溶解とは、溶解終了時に液中に六方晶ストロンチウムフェライト粉末の残留が目視で確認できる程度に溶解することをいう。例えば、部分溶解により、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を構成する粒子について、粒子全体を１００質量％として１０～２０質量％の領域を溶解することができる。一方、上記全溶解とは、溶解終了時に液中に六方晶ストロンチウムフェライト粉末の残留が目視で確認されない状態まで溶解することをいう。
上記部分溶解および表層部含有率の測定は、例えば、以下の方法により行われる。ただし、下記の試料粉末量等の溶解条件は例示であって、部分溶解および全溶解が可能な溶解条件を任意に採用できる。
試料粉末１２ｍｇおよび１ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍｌを入れた容器（例えばビーカー）を、設定温度７０℃のホットプレート上で１時間保持する。得られた溶解液を０．１μｍのメンブレンフィルタでろ過する。こうして得られたろ液の元素分析を誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）分析装置によって行う。こうして、鉄原子１００原子％に対する希土類原子の表層部含有率を求めることができる。元素分析により複数種の希土類原子が検出された場合には、全希土類原子の合計含有率を、表層部含有率とする。この点は、バルク含有率の測定においても、同様である。
一方、上記全溶解およびバルク含有率の測定は、例えば、以下の方法により行われる。
試料粉末１２ｍｇおよび４ｍｏｌ／Ｌ塩酸１０ｍｌを入れた容器（例えばビーカー）を、設定温度８０℃のホットプレート上で３時間保持する。その後は上記の部分溶解および表層部含有率の測定と同様に行い、鉄原子１００原子％に対するバルク含有率を求めることができる。

磁気テープに記録された情報を再生する際の再生出力を高める観点から、磁気テープに含まれる強磁性粉末の質量磁化σｓが高いことは望ましい。この点に関して、希土類原子を含むものの希土類原子表層部偏在性を持たない六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、希土類原子を含まない六方晶ストロンチウムフェライト粉末と比べてσｓが大きく低下する傾向が見られた。これに対し、そのようなσｓの大きな低下を抑制するうえでも、希土類原子表層部偏在性を有する六方晶ストロンチウムフェライト粉末は好ましいと考えられる。一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末のσｓは、４５Ａ・ｍ^２／ｋｇ以上であることができ、４７Ａ・ｍ^２／ｋｇ以上であることもできる。一方、σｓは、ノイズ低減の観点からは、８０Ａ・ｍ^２／ｋｇ以下であることが好ましく、６０Ａ・ｍ^２／ｋｇ以下であることがより好ましい。σｓは、振動試料型磁束計等の磁気特性を測定可能な公知の測定装置を用いて測定することができる。本発明および本明細書において、特記しない限り、質量磁化σｓは、磁場強度１１９４ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）で測定される値とする。

六方晶フェライト粉末の構成原子の含有率（バルク含有率）に関して、ストロンチウム原子含有率は、鉄原子１００原子％に対して、例えば２．０～１５．０原子％の範囲であることができる。一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、この粉末に含まれる二価金属原子がストロンチウム原子のみであることができる。また他の一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、ストロンチウム原子に加えて一種以上の他の二価金属原子を含むこともできる。例えば、バリウム原子および／またはカルシウム原子を含むことができる。ストロンチウム原子以外の他の二価金属原子が含まれる場合、六方晶ストロンチウムフェライト粉末におけるバリウム原子含有率およびカルシウム原子含有率は、それぞれ、例えば、鉄原子１００原子％に対して、０．０５～５．０原子％の範囲であることができる。

六方晶フェライトの結晶構造としては、マグネトプランバイト型（「Ｍ型」とも呼ばれる。）、Ｗ型、Ｙ型およびＺ型が知られている。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、いずれの結晶構造を取るものであってもよい。結晶構造は、Ｘ線回折分析によって確認することができる。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、Ｘ線回折分析によって、単一の結晶構造または二種以上の結晶構造が検出されるものであることができる。例えば一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、Ｘ線回折分析によってＭ型の結晶構造のみが検出されるものであることができる。例えば、Ｍ型の六方晶フェライトは、ＡＦｅ_１２Ｏ_１９の組成式で表される。ここでＡは二価金属原子を表し、六方晶ストロンチウムフェライト粉末がＭ型である場合、Ａはストロンチウム原子（Ｓｒ）のみであるか、またはＡとして複数の二価金属原子が含まれる場合には、上記の通り原子％基準で最も多くをストロンチウム原子（Ｓｒ）が占める。六方晶ストロンチウムフェライト粉末の二価金属原子含有率は、通常、六方晶フェライトの結晶構造の種類により定まるものであり、特に限定されるものではない。鉄原子含有率および酸素原子含有率についても、同様である。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、少なくとも、鉄原子、ストロンチウム原子および酸素原子を含み、更に希土類原子を含むこともできる。更に、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、これら原子以外の原子を含んでもよく、含まなくてもよい。一例として、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、アルミニウム原子（Ａｌ）を含むものであってもよい。アルミニウム原子の含有率は、鉄原子１００原子％に対して、例えば０．５～１０．０原子％であることができる。繰り返し再生における再生出力低下をより一層抑制する観点からは、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、鉄原子、ストロンチウム原子、酸素原子および希土類原子を含み、これら原子以外の原子の含有率が、鉄原子１００原子％に対して、１０．０原子％以下であることが好ましく、０～５．０原子％の範囲であることがより好ましく、０原子％であってもよい。即ち、一態様では、六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、鉄原子、ストロンチウム原子、酸素原子および希土類原子以外の原子を含まなくてもよい。上記の原子％で表示される含有率は、六方晶ストロンチウムフェライト粉末を全溶解して求められる各原子の含有率（単位：質量％）を、各原子の原子量を用いて原子％表示の値に換算して求められる。また、本発明および本明細書において、ある原子について「含まない」とは、全溶解してＩＣＰ分析装置により測定される含有率が０質量％であることをいう。ＩＣＰ分析装置の検出限界は、通常、質量基準で０．０１ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下である。上記の「含まない」とは、ＩＣＰ分析装置の検出限界未満の量で含まれることを包含する意味で用いるものとする。六方晶ストロンチウムフェライト粉末は、一態様では、ビスマス原子（Ｂｉ）を含まないものであることができる。

－金属粉末－
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１３７～０１４１および特開２００５－２５１３５１号公報の段落０００９～００２３を参照できる。

－ε－酸化鉄粉末－
強磁性粉末の好ましい具体例としては、ε－酸化鉄粉末を挙げることもできる。本発明および本明細書において、「ε－酸化鉄粉末」とは、Ｘ線回折分析によって、主相としてε－酸化鉄型の結晶構造が検出される強磁性粉末をいうものとする。例えば、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークがε－酸化鉄型の結晶構造に帰属される場合、ε－酸化鉄型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。ε－酸化鉄粉末の製造方法としては、ゲーサイトから作製する方法、逆ミセル法等が知られている。上記製造方法は、いずれも公知である。また、Ｆｅの一部がＧａ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｒｈ等の置換原子によって置換されたε－酸化鉄粉末を製造する方法については、例えば、Ｊ． Ｊｐｎ． Ｓｏｃ． Ｐｏｗｄｅｒ Ｍｅｔａｌｌｕｒｇｙ Ｖｏｌ． ６１ Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ， Ｎｏ． Ｓ１， ｐｐ． Ｓ２８０－Ｓ２８４、Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｃｈｅｍ． Ｃ， ２０１３， １， ｐｐ．５２００－５２０６等を参照できる。ただし、上記磁気テープの磁性層において強磁性粉末として使用可能なε－酸化鉄粉末の製造方法は、ここで挙げた方法に限定されない。

ε－酸化鉄粉末の活性化体積は、好ましくは３００～１５００ｎｍ^３の範囲である。上記範囲の活性化体積を示す微粒子化されたε－酸化鉄粉末は、優れた電磁変換特性を発揮する磁気テープの作製のために好適である。ε－酸化鉄粉末の活性化体積は、好ましくは３００ｎｍ^３以上であり、例えば５００ｎｍ^３以上であることもできる。また、電磁変換特性の更なる向上の観点から、ε－酸化鉄粉末の活性化体積は、１４００ｎｍ^３以下であることがより好ましく、１３００ｎｍ^３以下であることが更に好ましく、１２００ｎｍ^３以下であることが一層好ましく、１１００ｎｍ^３以下であることがより一層好ましい。

熱揺らぎの低減、換言すれば熱的安定性の向上の指標としては、異方性定数Ｋｕを挙げることができる。ε－酸化鉄粉末は、好ましくは３．０×１０^４Ｊ／ｍ^３以上のＫｕを有することができ、より好ましくは８．０×１０^４Ｊ／ｍ^３以上のＫｕを有することができる。また、ε－酸化鉄粉末のＫｕは、例えば３．０×１０^５Ｊ／ｍ^３以下であることができる。ただしＫｕが高いほど熱的安定性が高いことを意味し、好ましいため、上記例示した値に限定されるものではない。

磁気テープに記録された情報を再生する際の再生出力を高める観点から、磁気テープに含まれる強磁性粉末の質量磁化σｓが高いことは望ましい。この点に関して、一態様では、ε－酸化鉄粉末のσｓは、８Ａ・ｍ^２／ｋｇ以上であることができ、１２Ａ・ｍ^２／ｋｇ以上であることもできる。一方、ε－酸化鉄粉末のσｓは、ノイズ低減の観点からは、４０Ａ・ｍ^２／ｋｇ以下であることが好ましく、３５Ａ・ｍ^２／ｋｇ以下であることがより好ましい。

本発明および本明細書において、「強磁性粉末」とは、複数の強磁性粒子の集合を意味するものとする。「集合」とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。以上の点は、本発明および本明細書における非磁性粉末等の各種粉末についても同様とする。本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントするか、ディスプレイに表示する等して粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて測定された値である。

粒子サイズ測定のために磁気テープから試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。

磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は少なくとも結合剤であり、任意に一種以上の更なる添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

（結合剤）
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に結合剤を含む。結合剤とは、一種以上の樹脂である。樹脂はホモポリマーであってもコポリマー（共重合体）であってもよい。磁性層に含まれる結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選択したものを単独で用いることができ、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００２９～００３１を参照できる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。後述の実施例に示す重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ－Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ（内径））×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

また、結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁気テープの製造工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１２４～０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０～８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０～８０．０質量部の量で使用することができる。

（添加剤）
磁性層には、強磁性粉末および結合剤が含まれ、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤が挙げられる。また、磁性層に含まれる添加剤としては、非磁性粉末（例えば無機粉末、カーボンブラック等）、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。また、非磁性粉末としては、研磨剤として機能することができる非磁性粉末、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性粉末（例えば非磁性コロイド粒子等）等が挙げられる。なお後述の実施例に示すコロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）の平均粒子サイズは、特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められた値である。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して、任意の量で使用することができる。研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３－１３１２８５号公報の段落００１２～００２２に記載の分散剤を、研磨剤の分散性を向上させるための分散剤として挙げることができる。例えば、潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０～００３３、００３５および００３６を参照できる。非磁性層に潤滑剤が含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０、００３１、００３４、００３５および００３６を参照できる。分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１および００７１を参照できる。分散剤は、非磁性層に含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１を参照できる。

以上説明した磁性層は、非磁性支持体表面上に直接、または非磁性層を介して間接的に、設けることができる。

＜非磁性層＞
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質の粉末でも有機物質の粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１４６～０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００４０～００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。

非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

上記磁気テープの非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。

＜非磁性支持体＞
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、加熱処理等を行ってもよい。

＜バックコート層＞
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末の一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層に含まれる結合剤、任意に含まれ得る各種添加剤については、バックコート層に関する公知技術を適用することができ、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することもできる。例えば、特開２００６－３３１６２５号公報の段落００１８～００２０および米国特許第７，０２９，７７４号明細書の第４欄６５行目～第５欄３８行目の記載を、バックコート層について参照できる。

＜各種厚み＞
非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．０～６．０μｍである。
磁性層の厚みは、近年求められている高密度記録化の観点からは０．１５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以下であることがより好ましい。磁性層の厚みは、更に好ましくは０．０１～０．１μｍの範囲である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。

非磁性層の厚みは、例えば０．１～１．５μｍであり、０．１～１．０μｍであることが好ましい。

バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１～０．７μｍの範囲であることが更に好ましい。

磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。

＜製造工程＞
（各層形成用組成物の調製）
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ二段階以上に分かれていてもかまわない。各層形成用組成物の調製に用いられる成分は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体の製造に通常用いられる各種溶媒の一種または二種以上を用いることができる。溶媒については、例えば特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１５３を参照できる。また、個々の成分を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤を混練工程、分散工程および分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。上記磁気テープを製造するためには、従来の公知の製造技術を各種工程において用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１－１０６３３８号公報および特開平１－７９２７４号公報を参照できる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を調製する任意の段階において、公知の方法によってろ過を行ってもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１～３μｍのフィルタ（例えばガラス繊維製フィルタ、ポリプロピレン製フィルタ等）を用いることができる。

（塗布工程、冷却工程、加熱乾燥工程、バーニッシュ処理工程、硬化工程）
磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０－２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。

好ましい一態様では、強磁性粉末、結合剤、研磨剤、硬化剤および溶媒を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または非磁性層を介して塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、ならびに、塗布層に硬化処理を施す硬化工程を含む磁性層形成工程を経て、磁性層を形成することができる。磁性層形成工程は、塗布工程と加熱乾燥工程との間に、塗布層を冷却する冷却工程を含むことが好ましく、更に加熱乾燥工程と硬化工程との間に、上記塗布層表面をバーニッシュ（ｂｕｒｎｉｓｈ）処理するバーニッシュ処理工程を含むことが好ましい。

上記の磁性層形成工程の中で冷却工程およびバーニッシュ処理工程を実施することは、対数減衰率を０．０５０以下とするための好ましい手段であると考えられる。詳しくは、次の通りである。
塗布工程と加熱乾燥工程との間に塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、先に記載した粘着性成分を、上記塗布層の表面および／または表面近傍の表層部分に局在させることに寄与するのではないかと推察される。これは、加熱乾燥工程前に磁性層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に粘着性成分が塗布層表面および／または表層部分に移行しやすくなるためではないかと考えられる。ただし、その理由は明らかではない。そして、粘着性成分が表面および／または表層部分に局在した塗布層の表面をバーニッシュ処理することにより、粘着性成分を除去することができると考えられる。こうして粘着性成分を除去した後に硬化工程を行うことが、対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると推察される。ただし、以上は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。

上記の通り、磁性層形成用組成物は、非磁性層形成用組成物と逐次または同時に重層塗布することができる。好ましい一態様では、上記磁気テープは、逐次重層塗布により製造することができる。逐次重層塗布を含む製造工程は、好ましくは次のように行うことができる。非磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、非磁性層を形成する。そして形成された非磁性層上に磁性層形成用組成物を塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、磁性層を形成する。

以下、上記製造方法の具体的態様を、図１７に基づき説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。

図１７は、非磁性支持体の一方の面に非磁性層と磁性層とをこの順に有し、他方の面にバックコート層を有する磁気テープを製造する工程の具体的態様を示す工程概略図である。図１７に示す態様では、非磁性支持体（長尺フィルム）を、送り出し部から送り出し巻き取り部で巻き取る操作を連続的に行い、かつ図１７に示されている各部または各ゾーンにおいて塗布、乾燥、配向等の各種処理を行うことにより、走行する非磁性支持体上の一方の面に非磁性層および磁性層を逐次重層塗布により形成し、他方の面にバックコート層を形成することができる。かかる製造方法は、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含み、かつ硬化処理前にバーニッシュ処理工程を含む点以外は、塗布型磁気記録媒体の製造のために通常行われる製造方法と同様にすることができる。

送り出し部から送り出された非磁性支持体上には、第一の塗布部において、非磁性層形成用組成物の塗布が行われる（非磁性層形成用組成物の塗布工程）。

上記塗布工程後、第一の加熱処理ゾーンでは、塗布工程で形成された非磁性層形成用組成物の塗布層を加熱することにより、塗布層を乾燥させる（加熱乾燥工程）。加熱乾燥工程は、非磁性層形成用組成物の塗布層を有する非磁性支持体を加熱雰囲気中に通過させることにより行うことができる。ここでの加熱雰囲気の雰囲気温度は、例えば６０～１４０℃程度とすることができる。ただし、溶媒を揮発させて塗布層を乾燥させることができる温度とすればよく、上記範囲に限定されるものではない。また任意に、加熱した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。以上の点は、後述する第二の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程および第三の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程についても、同様である。

次に、第二の塗布部において、第一の加熱処理ゾーンにて加熱乾燥工程を行い形成された非磁性層上に、磁性層形成用組成物が塗布される（磁性層形成用組成物の塗布工程）。

上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成された磁性層形成用組成物の塗布層が冷却される（冷却工程）。例えば、非磁性層上に上記塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは－１０℃～０℃の範囲とすることができ、より好ましくは－５℃～０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間（以下において、「滞在時間」ともいう。））は特に限定されるものではない。滞在時間を長くするほど対数減衰率の値は小さくなる傾向があるため、０．０５０以下の対数減衰率を実現できるように必要に応じて予備実験を行う等して調整することが好ましい。冷却工程では、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。

その後、配向処理を行う態様では、磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤状態にあるうちに、配向ゾーンにおいて塗布層中の強磁性粉末の配向処理が行われる。配向処理については、特開２０１０－２３１８４３号公報の段落００６７の記載をはじめとする各種公知技術を適用することができる。例えば、垂直配向処理は、異極対向磁石を用いる方法等の公知の方法によって行うことができる。配向ゾーンでは、乾燥風の温度、風量および／または配向ゾーンにおける磁気テープの搬送速度によって塗布層の乾燥速度を制御することができる。また、配向ゾーンに搬送する前に塗布層を予備乾燥させてもよい。

配向処理後の塗布層は、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程に付される。

次いで、第三の塗布部において、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が形成された面とは反対側の面に、バックコート層形成用組成物が塗布されて塗布層が形成される（バックコート層形成用組成物の塗布工程）。その後、第三の加熱処理ゾーンにおいて、上記塗布層を加熱処理し乾燥させる。

こうして、非磁性支持体の一方の面に、非磁性層上に加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層を有し、他方の面にバックコート層を有する磁気テープを得ることができる。ここで得られた磁気テープは、この後に、後述する各種処理を施した後に、製品磁気テープとなる。

得られた磁気テープは、巻き取り部で巻き取られた後に、製品磁気テープのサイズに裁断（スリット）される。スリットは、公知の裁断機を用いて行うことができる。

スリットされた磁気テープは、磁性層形成用組成物に含まれている硬化剤の種類に応じた硬化処理（加熱、光照射等）を行う前に、加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層の表面をバーニッシュ処理する（加熱乾燥工程と硬化工程との間のバーニッシュ処理工程）。このバーニッシュ処理により、冷却ゾーンにおいて冷却されて塗布層表面および／または表層部分に移行した粘着性成分を除去できることが、上記対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者らは推察している。ただし推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。

バーニッシュ処理は、部材（例えば研磨テープ、または研削用ブレード、研削用ホイール等の研削具）により処理対象の表面を擦る処理であり、塗布型磁気記録媒体製造のための処理として公知のバーニッシュ処理と同様に行うことができる。ただし、冷却工程および加熱乾燥工程を経た後、硬化工程前の段階でバーニッシュ処理を行うことは、従来行われていなかった。これに対し、上記段階でバーニッシュ処理を行うことにより、上記の対数減衰率を０．０５０以下にすることができる。

バーニッシュ処理は、好ましくは、研磨テープによって処理対象の塗布層表面を擦る（研磨する）ことおよび研削具によって処理対象の塗布層表面を擦る（研削すること）の一方または両方を行うことにより、実施することができる。酸化物研磨剤よりモース硬度の高い研磨剤を少なくとも一種含む研磨テープを用いることが好ましい。研磨テープとしては、市販品を用いてもよく、公知の方法で作製した研磨テープを用いてもよい。また、研削具としては、固定式ブレード、ダイヤモンドホイール、回転式ブレード等の公知の研削用ブレード、研削用ホイール等を用いることができる。また、研磨テープおよび／または研削具によって擦られた塗布層表面をワイピング材によって拭き取るワイピング（ｗｉｐｉｎｇ）処理を行ってもよい。好ましい研磨テープ、研削具、バーニッシュ処理およびワイピング処理の詳細については、特開平６－５２５４４号公報の段落００３４～００４８、図１および同公報の実施例を参照できる。バーニッシュ処理を強化するほど、上記の対数減衰率の値は小さくなる傾向がある。バーニッシュ処理は、研磨テープに含まれる研磨剤として高硬度な研磨剤を用いるほど強化することができ、研磨テープ中の研磨剤量を増やすほど強化することができる。また、研削具として高硬度な研削具を用いるほど強化することができる。バーニッシュ処理条件に関しては、処理対象の塗布層表面と部材（例えば研磨テープまたは研削具）との摺動速度を速くするほど、バーニッシュ処理を強化することができる。上記摺動速度は、部材を移動させる速度および処理対象の磁気テープを移動させる速度の一方または両方を速くすることにより、速くすることができる。

上記のバーニッシュ処理（バーニッシュ処理工程）後、磁性層形成用組成物の塗布層に硬化処理を施す。図１７に示す態様では、磁性層形成用組成物の塗布層は、バーニッシュ処理後、硬化処理前に、表面平滑化処理が施される。表面平滑化処理は、カレンダ処理によって行うことが好ましい。カレンダ処理の詳細は、例えば特開２０１０－２３１８４３号公報の段落００２６を参照できる。カレンダ処理を強化するほど、磁気テープ表面を平滑化することができる。カレンダ処理は、カレンダロールの表面温度（カレンダ温度）を高くするほど、および／または、カレンダ圧力を大きくするほど、強化することができる。

その後、磁性層形成用組成物の塗布層に、この塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた硬化処理を施す（硬化工程）。硬化処理は、加熱処理、光照射等の上記塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた処理によって行うことができる。硬化処理条件は特に限定されるものではなく、塗布層形成に用いた磁性層形成用組成物の処方、硬化剤の種類、塗布層の厚み等に応じて適宜設定すればよい。例えば、硬化剤としてポリイソシアネートを含む磁性層形成用組成物を用いて塗布層を形成した場合には、硬化処理は加熱処理であることが好ましい。磁性層以外の層に硬化剤が含まれる場合、その層の硬化反応も、ここでの硬化処理により進行させることもできる。または別途、硬化工程を設けてもよい。硬化工程後に、更にバーニッシュ処理を行ってもよい。

以上により、上記磁気テープを得ることができる。ただし上記の製造方法は例示であって、対数減衰率を調整可能な任意の手段によって、対数減衰率を０．０５０以下に制御することができ、そのような態様も本発明に包含される。

上記磁気テープの磁性層には、サーボパターンを形成することができる。磁性層へのサーボパターンの形成は、サーボパターン記録ヘッド（「サーボライトヘッド（ｓｅｒｖｏ ｗｒｉｔｅ ｈｅａｄ）」とも呼ばれる。）により、磁性層の特定の位置を磁化することにより行われる。トラッキングを可能とするためのサーボパターンの形状および磁性層における配置は公知であり、サーボライトヘッドにより磁化する領域（サーボパターンを形成する位置）は規格により定められている。上記磁気テープの磁性層が有するサーボパターンについては、公知技術を適用することができる。例えば、トラッキングの方式としては、タイミングベースサーボ方式と振幅ベースサーボ方式が知られている。上記磁気テープの磁性層に形成され得るサーボパターンは、いずれの方式のトラッキングを可能とするサーボパターンでもよい。また、タイミングベースサーボ方式でのトラッキングを可能とするサーボパターンと振幅ベースサーボ方式でのトラッキングを可能とするサーボパターンとが磁性層に形成されていてもよい。

磁気テープでは、通常、データは磁気テープのデータバンド上に記録される。これによりデータバンドにトラックが形成される。詳しくは、磁気テープには、通常、サーボパターンを有する領域（「サーボバンド」と呼ばれる。）が長手方向に沿って複数本存在する。データバンドは、２本のサーボバンドに挟まれた領域である。例えば、図２中のトラック領域３０がデータバンドである。データの記録はデータバンド上で行われ、データバンドには複数のトラックが長手方向に沿って形成される。一例として、例えば、業界標準規格であるＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットテープには、磁気テープ製造時に、図１８に示すようにテープ幅方向に対して傾斜した複数のサーボパターンが、サーボバンド上に形成される。詳しくは、図１８中、サーボバンド上のサーボフレームＳＦは、サーボサブフレーム１（ＳＳＦ１）およびサーボサブフレーム２（ＳＳＦ２）から構成される。サーボサブフレーム１は、Ａバースト（図１８中、符号Ａ）およびＢバースト（図１８中、符号Ｂ）から構成される。ＡバーストはサーボパターンＡ１～Ａ５から構成され、ＢバーストはサーボパターンＢ１～Ｂ５から構成される。一方、サーボサブフレーム２は、Ｃバースト（図１８中、符号Ｃ）およびＤバースト（図１８中、符号Ｄ）から構成される。ＣバーストはサーボパターンＣ１～Ｃ４から構成され、ＤバーストはサーボパターンＤ１～Ｄ４から構成される。このような１８本のサーボパターンが５本と４本のセットで、５、５、４、４、の配列で並べられたサブフレームに配置され、サーボフレームを識別するために用いられる。図１８には、説明のために１つのサーボフレームを示した。ただし、実際には、タイミングベースサーボ方式のトラッキングが行われる磁気テープの磁性層では、各サーボバンドに、複数のサーボフレームが走行方向に配置されている。図１８中、矢印は走行方向を示している。例えば、ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットテープは、通常、磁性層の各サーボバンドに、テープ長１ｍあたり５０００以上のサーボフレームを有する。サーボ素子は、磁気テープ装置内で搬送される磁気テープの磁性層表面と接触し摺動しながら、複数のサーボフレームにおいて順次サーボパターンの読み取りを行う。

例えば、タイミングベースサーボ方式のサーボシステム（タイミングベースサーボシステム）では、例えば、磁気テープの長手方向に連続的に複数配置された、互いに非平行な一対のサーボパターン（「サーボストライプ」とも呼ばれる。）がサーボ素子によって読み取られることにより、サーボ信号が得られる。

一態様では、特開２００４－３１８９８３号公報に示されているように、各サーボバンドには、サーボバンドの番号を示す情報（「サーボバンドＩＤ（ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）」または「ＵＤＩＭ（Ｕｎｉｑｕｅ ＤａｔａＢａｎｄ Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ）情報」とも呼ばれる。）が埋め込まれている。このサーボバンドＩＤは、サーボバンド中に複数ある一対のサーボパターンのうちの特定のものを、その位置が磁気テープの長手方向に相対的に変位するように、ずらすことによって記録されている。具体的には、複数ある一対のサーボパターンのうちの特定のもののずらし方を、サーボバンド毎に変えている。これにより、記録されたサーボバンドＩＤはサーボバンド毎にユニークなものとなるため、一つのサーボバンドをサーボ素子で読み取るだけで、そのサーボバンドを一意に（ｕｎｉｑｕｅｌｙ）特定することができる。

なお、サーボバンドを一意に特定する方法には、ＥＣＭＡ（Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）―３１９に示されているようなスタッガード方式を用いたものもある。このスタッガード方式では、磁気テープの長手方向に連続的に複数配置された、互いに非平行な一対のサーボパターン（サーボストライプ）の群を、サーボバンド毎に磁気テープの長手方向にずらすように記録する。隣接するサーボバンド間における、このずらし方の組み合わせは、磁気テープ全体においてユニークなものとされているため、２つのサーボ素子によりサーボパターンを読み取る際に、サーボバンドを一意に特定することも可能となっている。

また、各サーボバンドには、ＥＣＭＡ―３１９に示されている通り、通常、磁気テープの長手方向の位置を示す情報（「ＬＰＯＳ（Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ Ｐｏｓｉｔｉｏｎ）情報」とも呼ばれる。）も埋め込まれている。このＬＰＯＳ情報も、ＵＤＩＭ情報と同様に、一対のサーボパターンの位置を、磁気テープの長手方向にずらすことによって記録されている。ただし、ＵＤＩＭ情報とは異なり、このＬＰＯＳ情報では、各サーボバンドに同じ信号が記録されている。

上記のＵＤＩＭ情報およびＬＰＯＳ情報とは異なる他の情報を、サーボバンドに埋め込むことも可能である。この場合、埋め込まれる情報は、ＵＤＩＭ情報のようにサーボバンド毎に異なるものであってもよいし、ＬＰＯＳ情報のようにすべてのサーボバンドに共通のものであってもよい。
また、サーボバンドに情報を埋め込む方法としては、上記以外の方法を採用することも可能である。例えば、一対のサーボパターンの群の中から、所定の対を間引くことによって、所定のコードを記録するようにしてもよい。

サーボライトヘッドは、上記一対のサーボパターンに対応した一対のギャップを、サーボバンドの数だけ有する。通常、各一対のギャップには、それぞれコアとコイルが接続されており、コイルに電流パルスを供給することによって、コアに発生した磁界が、一対のギャップに漏れ磁界を生じさせることができる。サーボパターンの形成の際には、サーボライトヘッド上に磁気テープを走行させながら電流パルスを入力することによって、一対のギャップに対応した磁気パターンを磁気テープに転写させて、サーボパターンを形成することができる。 各ギャップの幅は、形成されるサーボパターンの密度に応じて適宜設定することができる。各ギャップの幅は、例えば、１μｍ以下、１～１０μｍ、１０μｍ以上等に設定可能である。

磁気テープにサーボパターンを形成する前には、磁気テープに対して、通常、消磁（イレース）処理が施される。このイレース処理は、直流磁石または交流磁石を用いて、磁気テープに一様な磁界を加えることによって行うことができる。イレース処理には、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）イレースとＡＣ（Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ Ｃｕｒｒｅｎｔ）イレースとがある。ＡＣイレースは、磁気テープに印加する磁界の方向を反転させながら、その磁界の強度を徐々に下げることによって行われる。一方、ＤＣイレースは、磁気テープに一方向の磁界を加えることによって行われる。ＤＣイレースには、更に２つの方法がある。第一の方法は、磁気テープの長手方向に沿って一方向の磁界を加える、水平ＤＣイレースである。第二の方法は、磁気テープの厚み方向に沿って一方向の磁界を加える、垂直ＤＣイレースである。イレース処理は、磁気テープ全体に対して行ってもよいし、磁気テープのサーボバンド毎に行ってもよい。

形成されるサーボパターンの磁界の向きは、イレースの向きに応じて決まる。例えば、磁気テープに水平ＤＣイレースが施されている場合、サーボパターンの形成は、磁界の向きがイレースの向きと反対になるように行われる。これにより、サーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号の出力を、大きくすることができる。なお、特開２０１２－５３９４０号公報に示されている通り、垂直ＤＣイレースされた磁気テープに、上記ギャップを用いたパターンの転写を行った場合、形成されたサーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号は、単極パルス形状となる。一方、水平ＤＣイレースされた磁気テープに、上記ギャップを用いたパターンの転写を行った場合、形成されたサーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号は、双極パルス形状となる。

以上説明した磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容され、磁気テープカートリッジが磁気テープ装置に装着される。磁気テープカートリッジの構成は公知である。磁気テープカートリッジの一態様については、図１中の磁気テープカートリッジ１２に関する先の記載を参照できる。

一態様によれば、以下の磁気テープも提供される。
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下である磁気テープ。

一態様によれば、以下の磁気テープも提供される。
データの記録および記録されたデータの読み取りのために使用される磁気テープであって、
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下である磁気テープ。
一態様では、上記データの読み取りは、読取素子ユニットにより行われ得る。
一態様では、上記読取素子ユニットは、上記磁気テープに含まれるトラック領域のうちの読取対象トラックを含む特定トラック領域からデータをリニアスキャン方式で各々読み取る複数の読取素子を有することができる。
一態様では、上記読取素子毎の読取結果は、抽出部によって抽出され得る。
一態様では、上記抽出部は、上記読取素子毎の読取結果から、上記読取対象トラックに由来するデータを抽出することができる。
一態様では、上記抽出部は、上記読取素子毎の読取結果の各々に対して、上記磁気テープと上記読取素子ユニットとの位置のずれ量に応じた波形等化処理を施すことにより、上記読取結果から、上記読取対象トラックに由来するデータを抽出することができる。

上記磁気テープ、読取素子ユニットおよび抽出部が取り得る具体的態様については、先の記載を参照できる。

以下に、本発明を実施例に基づき説明する。ただし、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。以下に記載の「ｅｑ」は、当量（ ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ）であり、ＳＩ単位に換算不可の単位である。また、以下に記載の工程および評価は、特記しない限り、雰囲気温度２３℃±１℃の環境において行った。

［実施例１］
１．アルミナ分散物の調製
アルファ化率約６５％、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ－Ｅｍｍｅｔｔ－Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積２０ｍ^２／ｇのアルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ－８０）１００．０部に対し、３．０部の２，３－ジヒドロキシナフタレン（東京化成社製）、極性基としてＳＯ_３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡社製ＵＲ－４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合溶液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物を得た。

２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性粉末：表１参照 １００．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １４．０部
重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ
シクロヘキサノン １５０．０部
メチルエチルケトン １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物 ６．０部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ
平均粒子サイズ：８０ｎｍ ２．０部
メチルエチルケトン １．４部
（その他の成分）
ステアリン酸 ２．０部
ステアリン酸アミド ０．２部
ブチルステアレート ２．０部
ポリイソシアネート（東ソー社製コロネート（登録商標）Ｌ） ２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン ２００．０部
メチルエチルケトン ２００．０部

３．非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α－酸化鉄 １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体 １３．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 ９．０部
重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ
フェニルホスホン酸 ３．０部
ステアリン酸 ２．０部
ステアリン酸アミド ０．２部
ブチルステアレート ２．０部
シクロヘキサノン ３００．０部
メチルエチルケトン ３００．０部

４．バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α－酸化鉄 ８０．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体 １３．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 ６．０部
フェニルホスホン酸 ３．０部
メチルエチルケトン １５５．０部
ステアリン酸 ３．０部
ブチルステアレート ３．０部
ポリイソシアネート ５．０部
シクロヘキサノン ３５５．０部

５．各層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
磁性液を、上記の磁性液の各種成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．１ｍｍのジルコニアビーズを使用した。上記サンドミルを用いて、調製した磁性液および上記研磨剤液を他の成分（シリカゾル、その他の成分および仕上げ添加溶媒）と混合し５分間ビーズ分散した後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で０．５分間処理（超音波分散）を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い磁性層形成用組成物を調製した。
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびブチルステアレート）、シクロヘキサノンならびにメチルエチルケトンを除いた上記の各種成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して分散液を得た。分散ビーズとしては、ビーズ径０．１ｍｍのジルコニアビーズを使用した。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで撹拌した。こうして得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過し非磁性層形成用組成物を調製した。
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
潤滑剤（ステアリン酸およびブチルステアレート）、ポリイソシアネートならびにシクロヘキサノンを除いた上記の各種成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パスあたりの滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで撹拌した。こうして得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を調製した。

６．磁気テープの作製
図１７に示す具体的態様により磁気テープを作製した。詳しくは、次の通りとした。
厚み５．０μｍのポリエチレンナフタレート製支持体を送り出し部から送り出し、一方の表面に、第一の塗布部において乾燥後の厚みが１．０μｍになるように上記５．で調製した非磁性層形成用組成物を塗布し、第一の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させて塗布層を形成した。
その後、第二の塗布部において乾燥後の厚みが０．１μｍになるように上記５．で調製した磁性層形成用組成物を非磁性層上に塗布し塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表１に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、更に配向ゾーンにおいて磁場強度０．３Ｔの磁場を垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、第二の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
その後、第三の塗布部において、上記ポリエチレンナフタレート製支持体の非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対の表面に、乾燥後の厚みが０．５μｍになるように 上記５．で調製したバックコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を第三の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
こうして得られた磁気テープを１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットした後、磁性層形成用組成物の塗布層表面のバーニッシュ処理およびワイピング処理を行った。バーニッシュ処理およびワイピング処理は、特開平６－５２５４４号公報の図１に記載の構成の処理装置において、研磨テープとして市販の研磨テープ（富士フイルム社製商品名ＭＡ２２０００、研磨剤：ダイヤモンド／Ｃｒ_２Ｏ_３／ベンガラ）を使用し、研削用ブレードとして市販のサファイヤブレード（京セラ社製、幅５ｍｍ、長さ３５ｍｍ、先端角度６０度）を使用し、ワイピング材として市販のワイピング材（クラレ社製商品名ＷＲＰ７３６）を使用して行った。処理条件は、特開平６－５２５４４号公報の実施例１２における処理条件を採用した。
上記バーニッシュ処理およびワイピング処理後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールで、速度８０ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、およびカレンダロールの表面温度９５℃にてカレンダ処理（表面平滑化処理）を行った。
その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間硬化処理（加熱処理）を行い磁気テープを作製した。
作製した磁気テープの磁性層を消磁した状態で、サーボライトヘッドによって、ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを磁性層に形成した。これにより、磁性層に、ＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置でデータバンド、サーボバンド、およびガイドバンドを有し、かつサーボバンド上にＬＴＯ Ｕｌｔｒｉｕｍフォーマットにしたがう配置および形状のサーボパターンを有する磁気テープを得た。

［実施例２～７、比較例１～９］
表１に示す各種項目を表１に示すように変更した点以外、実施例１と同様に磁気テープを得た。
表１中、冷却ゾーン滞在時間の欄に「未実施」と記載されている比較例では、冷却ゾーンを含まない製造工程により磁気テープを作製した。
表１中、硬化処理前バーニッシュ処理の欄に「未実施」と記載されている比較例では、上記硬化処理を実施する前の工程でバーニッシュ処理およびその後のワイピング処理を行わない製造工程により磁気テープを作製した。
表１中、磁性層の強磁性粉末の欄に記載の「ＢａＦｅ」は、六方晶バリウムフェライト粉末（平均粒子サイズ２５ｎｍ）を示す。
表１中、「ＳｒＦｅ」は、特開２０１５－１２７９８５号公報の実施例１４に記載の方法で作製された六方晶ストロンチウムフェライト粉末（平均粒子サイズ１８ｎｍ）を示す。
表１中、「ε－酸化鉄」は、以下の方法によって作製されたε－酸化鉄粉末（平均粒子サイズ１３ｎｍ）を示す。
純水９０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物６．３ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物５．０ｇ、およびポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．５ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、雰囲気温度２５℃の条件下で、濃度２５％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、雰囲気温度２５℃の温度条件のまま２時間撹拌した。得られた溶液に、クエン酸１ｇを純水９ｇに溶解させて得たクエン酸溶液を加え、１時間撹拌した。撹拌後に沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で乾燥させた。
乾燥させた粉末に純水８００ｇを加えて再度粉末を水に分散させて分散液を得た。得られた分散液を液温５０℃に昇温し、撹拌しながら濃度２５％アンモニア水溶液を４０ｇ滴下した。５０℃の温度を保ったまま１時間撹拌した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１４ｍＬを滴下し、２４時間撹拌した。得られた反応溶液に、硫酸アンモニウム５０ｇを加え、沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で２４時間乾燥させ、強磁性粉末の前駆体を得た。
得られた強磁性粉末の前駆体を、大気雰囲気下、炉内温度１０３０℃の加熱炉内に装填し、４時間の加熱処理を施した。
加熱処理した強磁性粉末の前駆体を、４モル／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温を７０℃に維持して２４時間撹拌することにより、加熱処理した強磁性粉末の前駆体から不純物であるケイ酸化合物を除去した。
その後、遠心分離処理により、ケイ酸化合物を除去した強磁性粉末を採集し、純水で洗浄を行い、強磁性粉末を得た。
得られた強磁性粉末の組成を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析(ＩＣＰ－ＯＥＳ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ－Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により確認したところ、Ｇａ、ＣｏおよびＴｉ置換型ε－酸化鉄（ε－Ｇａ_０．２８Ｃｏ_０．０５Ｔｉ_０．０５Ｆｅ_１．６２Ｏ_３）であった。また、粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ；Ｘ‐ｒａｙ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）を行い、ＸＲＤパターンのピークから、得られた強磁性粉末は、α相およびγ相の結晶構造を含まないε相の単相の結晶構造を有することが確認された。

［磁性層表面の対数減衰率の測定］
測定装置として、株式会社エー・アンド・デイ製剛体振り子型物性試験器ＲＰＴ－３０００Ｗ（振り子：株式会社エー・アンド・デイ製剛体振り子ＦＲＢ－１００、おもり：なし、丸棒型シリンダエッジ：株式会社エー・アンド・デイ製ＲＢＰ－０４０、基板：ガラス基板、基板昇温速度５℃／ｍｉｎ）を用いて、先に記載した方法により磁気テープの磁性層表面の対数減衰率を求めた。
ガラス基板としては、市販のスライドグラスを２５ｍｍ（短辺）×５０ｍｍ（長辺）のサイズにカットしたものを使用した。磁気テープの長手方向がガラス基板の短辺方向と平行になるように磁気テープをガラス基板の中央に載せた状態で、ガラス基板上の磁気テープの四隅を固定用テープ（東レ・デュポン製カプトンテープ）でガラス基板と固定した。その後、ガラス基板から食み出た部分の磁気テープをカットした。こうして、測定用試料が、ガラス基板上に図１４に示すように４箇所で固定されて載置された。吸着時間を１秒間かつ測定間隔を７～１０秒とし、８６回目の測定間隔について変位－時間曲線を作成し、この曲線を用いて対数減衰率を求めた。測定は、相対湿度約５０％の環境下にて行った。

［性能評価］
（１）実施例および比較例の各磁気テープの磁性層に対して、ＩＢＭ社製ＴＳ１１５５テープドライブに搭載されている記録再生ヘッドを用いて、速度：６ｍ／ｓ、線記録密度：６００ｋｂｐｉ（２５５ｂｉｔＰＲＢＳ）およびトラックピッチ：２μｍの記録条件にて、データの記録を行った。上記の単位ｋｂｐｉは、線記録密度の単位（ＳＩ単位系に換算不可）である。上記のＰＲＢＳは、Ｐｓｅｕｄｏ Ｒａｎｄｏｍ Ｂｉｔ Ｓｅｑｕｅｎｃｅの略称である。
上記記録により、各磁気テープの磁性層に、２つの隣接トラックの間、即ち第１のノイズ混入源トラックと第２のノイズ混入源トラックとの間に、読取対象トラックが位置する特定トラック領域が形成される。
（２）近接した状態で配置された２つの読取素子を有する読取素子ユニットを用いてデータ読取を行うモデル実験として、以下のデータ読取を行った。以下のモデル実験では、磁性層表面と読取素子とが接触し摺動することによってデータ読取が行われた。
単一の読取素子を有する磁気ヘッドを、読取対象トラックのテープ幅方向の中心と読取素子のトラック幅方向の中心とが一致するように配置した状態で読取を開始し、１回目のデータ読取を行った。この１回目のデータ読取中、サーボ素子によってサーボパターンを読み取り、タイミングベースサーボ方式のトラッキングも行った。また、サーボパターン読取動作に同期して読取素子によりデータ読取動作が行われた。
次いで同一の磁気ヘッドをテープ幅方向（一方の隣接トラック側）に５００ｎｍずらして、２回目のデータ読取を１回目のデータ読取と同様に行った。上記の２回のデータ読取は、それぞれ再生素子幅：０．２μｍ、速度：４ｍ／ｓ、サンプリングレート：ビットレートの１．２５倍の読取条件で行った。
１回目のデータ読取で得られた読取信号を等化器に入力し、１回目のデータ読取における磁気テープと磁気ヘッド（読取素子）との位置のずれ量に応じた波形等化処理を施した。この波形等化処理は、次のように行われる処理である。一定周期で形成されているサーボパターンをサーボ素子によって読み取ることにより得られた位置のずれ量から、読取素子と読取対象トラックとの重複領域と、読取素子と隣接トラックとの重複領域との比を特定する。この特定された比から演算式を用いて導出されたタップ係数を読取信号に対して畳み込み演算することにより、波形等化処理を行う。上記演算式は、ＥＰＲ４（Ｅｘｔｅｎｄｅｄ Ｐａｒｔｉａｌ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ ｃｌａｓｓ４）を基本波形（ターゲット）とする演算式である。２回目のデータ読取で得られた読取信号についても、同様に波形等化処理を施した。
上記の波形等化処理が施された２つの読取信号の位相合わせ処理（以下、「２次元信号処理」と記載する。）を行うことにより、近接した状態で配置された２つの読取素子（読取素子ピッチ＝５００ｎｍ）を有する読取素子ユニットにより得られるであろう読取信号を得た。こうして得られた読取信号について、信号検出点でのＳＮＲを算出した。
（３）上記の（２）を、１回目のデータ読取開始時の読取素子の位置を、読取対象トラックのテープ幅方向の中心から０．１μｍ間隔で第１のノイズ混入源トラック側および第２のノイズ混入源トラック側にそれぞれトラックオフセットさせながら繰り返し、トラック位置に対するＳＮＲのエンベローブを得た。
表１中、「２次元信号処理」の欄に「有」と記載されている実施例および比較例については、上記方法によりＳＮＲのエンベローブを得た。
表１中、「２次元信号処理」の欄に「無」と記載されている比較例については、上記の２回目のデータ読取を行わずに１回目のデータ読取結果（即ち単一素子のみでのデータ読取結果）に関してＳＮＲのエンベローブを得た。
（４）比較例１のＳＮＲのエンベローブを参照エンベローブとし、参照エンベローブにおけるトラックセンターのＳＮＲからＳＮＲが－３ｄＢ低下したところを、ＳＮＲ下限値として設定した。各エンベローブにおいて、この下限値以上で最大のトラックオフセット量を、許容可能トラックオフセット量とした。実施例および比較例のそれぞれについて、比較例１の許容可能トラックオフセット量に対する許容可能トラックオフセット量の増加率を、「許容可能トラックオフセット量増加率」として求めた。

以上の結果を、表１（表１－１および表１－２）に示す。

表１に示すように、実施例によれば、２０％以上の許容可能トラックオフセット量増加率を実現することができた。
上記方法により求められる許容可能トラックオフセット量が大きいことは、トラックマージンを小さくしても高い再生品質での再生を可能にするうえで有利である。この点から、許容トラックオフセット量増加率が２０％以上であることは好ましい。

本発明の一態様は、高密度記録されたデータを高い再生品質で再生することが望まれる磁気記録用途において有用である。

Claims (11)

1. 磁気テープと、
   読取素子ユニットと、
   抽出部と、
   を含み、
   前記磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、
   前記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下であり、
   前記読取素子ユニットは、前記磁気テープに含まれるトラック領域のうちの読取対象トラックを含む特定トラック領域からデータをリニアスキャン方式で各々読み取る複数の読取素子を有し、
   前記抽出部は、前記読取素子毎の読取結果の各々に対して、前記磁気テープと前記読取素子ユニットとの位置のずれ量に応じた波形等化処理を施すことにより、前記読取結果から、前記読取対象トラックに由来するデータを抽出し、
   前記抽出部は、２次元ＦＩＲフィルタを有し、
   前記２次元ＦＩＲフィルタは、前記読取素子毎の読取結果の各々に対して前記波形等化処理を施すことにより得られた各結果を合成することによって、前記読取結果から前記読取対象トラックに由来するデータを抽出する、磁気テープ装置。
2. 前記複数の読取素子の互いの一部は、前記磁気テープの走行方向で重なっている、請求項１に記載の磁気テープ装置。
3. 前記特定トラック領域は、前記読取対象トラックと前記読取対象トラックに隣接している隣接トラックとを含む領域であり、
   前記複数の読取素子の各々は、前記磁気テープとの位置関係が変化した場合に、前記読取対象トラックおよび前記隣接トラックの双方に対して、共に跨っている、請求項２に記載の磁気テープ装置。
4. 前記複数の読取素子は、前記磁気テープの幅方向に、近接した状態で並べて配置されている、請求項１に記載の磁気テープ装置。
5. 前記磁気テープの幅方向において、前記複数の読取素子は、前記読取対象トラック内に収まっている、請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気テープ装置。
6. 前記波形等化処理は、前記ずれ量に応じて定められるタップ係数を用いて行われる、請求項１～５のいずれか１項に記載の磁気テープ装置。
7. 前記複数の読取素子の各々について、前記読取対象トラックとの重複領域と前記読取対象トラックに隣接している隣接トラックとの重複領域との比が前記ずれ量から特定され、特定された前記比に応じて前記タップ係数が定められる、請求項６に記載の磁気テープ装置。
8. 前記ずれ量は、前記磁気テープに予め付与されたサーボパターンをサーボ素子が読み取ることにより得られた結果に応じて定められる、請求項１～７のいずれか１項に記載の磁気テープ装置。
9. 前記サーボ素子により行われる読取動作に同期して、前記読取素子ユニットの読取動作が行われる、請求項８に記載の磁気テープ装置。
10. 前記複数の読取素子は一対の読取素子である、請求項１～９のいずれか１項に記載の磁気テープ装置。
11. 前記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の磁気テープ装置。

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