JP7008650B2 - 荷電粒子線システム及び走査電子顕微鏡を用いた試料測定方法 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 28
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 30
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 29
- 238000004088 simulation Methods 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 13
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 13
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001887 electron backscatter diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
Images
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/04—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/226—Optical arrangements for illuminating the object; optical arrangements for collecting light from the object
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/102—Different kinds of radiation or particles beta or electrons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
- G01N2223/309—Accessories, mechanical or electrical features support of sample holder
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2007—Holding mechanisms
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20278—Motorised movement
- H01J2237/20285—Motorised movement computer-controlled
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20292—Means for position and/or orientation registration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/221—Image processing
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- H—ELECTRICITY
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
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- H—ELECTRICITY
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
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- H01J2237/24578—Spatial variables, e.g. position, distance
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Claims (11)
- 試料に対する三次元形状計測の結果に基づいて、前記試料の三次元形状を表す第1形状データを生成する第1形状データ生成手段と、
ポート群が設けられ、荷電粒子線による測定のために前記試料を含む試料ユニットが内部に配置される試料室と、
前記ポート群から選択された1又は複数の使用ポートを管理し、及び、当該1又は複数の使用ポートに設置された1又は複数のオプション要素を管理するためのポート管理テーブルが格納されたポート管理テーブル記憶部と、
前記ポート管理テーブルを参照し、前記試料室内に存在する構造物であって前記1又は複数のオプション要素を含む構造物の三次元形状を表す第2形状データを生成する第2形状データ生成手段と、
前記第1形状データ及び前記第2形状データに基づいて、前記構造物に対して前記試料ユニットが衝突しないように前記試料室内での前記試料ユニットの移動を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項1記載のシステムにおいて、
前記ポート管理テーブルは、前記ポート群を構成する複数のポートに対応した複数のレコードを有し、
前記各レコードは、ポートの代表座標、及び、ポートが使用ポートである場合にそこに設置されたオプション要素を識別する情報、を含む、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項2記載のシステムにおいて、
前記制御手段は、
前記試料室内での前記試料ユニットの移動に先立って、前記試料ユニットの移動情報に基づいて前記試料ユニットの移動を仮想的に試行するシミュレーションを実行するシミュレーション手段と、
前記シミュレーションの実行結果に基づいて、前記構造物に対する前記試料ユニットの衝突を判定する判定手段と、
を含み、
前記衝突が判定された場合に前記試料ユニットの移動が禁止される、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項1記載のシステムにおいて、
前記第1形状データは、前記試料及びそれを保持したホルダからなる前記試料ユニットの三次元形状を表すデータである、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項1記載のシステムにおいて、
前記構造物には、前記試料室内に固定配置された少なくとも1つの標準要素が含まれ、
前記標準要素は、前記試料室内に常設されている要素である、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項5記載のシステムにおいて、
前記標準要素には常設の検出器が含まれる、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項5記載のシステムにおいて、
前記試料室内に固定配置された複数の標準要素の三次元形状を表す複数の形状データが格納された第1記憶部と、
前記ポート群に対して設置可能な複数のオプション要素の三次元形状を表す複数の形状データが格納された第2記憶部と、
を含み、
前記第2形状データ生成手段は、前記第1記憶部、前記第2記憶部及び前記ポート管理テーブル記憶部を参照することにより前記第2形状データを生成する、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項1記載のシステムにおいて、
前記試料ユニットの移動情報、前記第1形状データ及び前記第2形状データに基づいて、前記構造物及び前記試料ユニットの空間的な関係を表す模擬イメージを生成する模擬イメージ生成手段と、
前記模擬イメージを表示する表示手段と、
を含むことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項8記載のシステムにおいて、
前記模擬イメージ生成手段は、前記試料ユニットの移動情報の更新に従って、前記模擬イメージを更新する、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 請求項8記載のシステムにおいて、
前記模擬イメージには、前記試料ユニットに対応する試料ユニットオブジェクトと、前記構造物に対応する構造物オブジェクトと、が含まれ、
前記模擬イメージ生成手段は、前記試料ユニットの移動に先立って前記試料ユニットと前記構造物との衝突が判定された場合に、その判定結果を前記試料ユニットオブジェクト及び前記構造物オブジェクトの少なくとも一方に反映させる、
ことを特徴とする荷電粒子線システム。 - 走査電子顕微鏡における試料室の内部へ試料を含む試料ユニットを配置する前又は後に、前記試料に対して三次元形状計測を行う工程と、
前記三次元形状計測の結果に基づいて、前記試料の三次元形状を表す第1形状データを生成する工程と、
ポート管理テーブル上において、前記試料室に設けられたポート群から選択された1又は複数の使用ポートを管理し、及び、当該1又は複数の使用ポートに設置された1又は複数のオプション要素を管理する工程と、
前記ポート管理テーブルの参照により、前記試料室内に存在する構造物の三次元形状を表す第2形状データを生成する工程と、
前記第1形状データ及び前記第2形状データに基づいて、前記構造物に対して前記試料ユニットが衝突しないように前記試料室内での前記試料ユニットの移動を制御する工程と、
前記試料室内での前記試料ユニットの移動後に、電子線を利用して前記試料を観察する工程と、
を含むことを特徴とする、走査電子顕微鏡を利用した試料測定方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019017034A JP7008650B2 (ja) | 2019-02-01 | 2019-02-01 | 荷電粒子線システム及び走査電子顕微鏡を用いた試料測定方法 |
EP20154134.9A EP3693989A1 (en) | 2019-02-01 | 2020-01-28 | Charged particle beam system and method of measuring sample using scanning electron microscope |
US16/776,039 US11217422B2 (en) | 2019-02-01 | 2020-01-29 | Charged particle beam system and method of measuring sample using scanning electron microscope |
CN202010077520.8A CN111524777B (zh) | 2019-02-01 | 2020-01-30 | 带电粒子束系统和使用扫描电子显微镜的试样测定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019017034A JP7008650B2 (ja) | 2019-02-01 | 2019-02-01 | 荷電粒子線システム及び走査電子顕微鏡を用いた試料測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020126721A JP2020126721A (ja) | 2020-08-20 |
JP7008650B2 true JP7008650B2 (ja) | 2022-01-25 |
Family
ID=69375240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019017034A Active JP7008650B2 (ja) | 2019-02-01 | 2019-02-01 | 荷電粒子線システム及び走査電子顕微鏡を用いた試料測定方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11217422B2 (ja) |
EP (1) | EP3693989A1 (ja) |
JP (1) | JP7008650B2 (ja) |
CN (1) | CN111524777B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2019
- 2019-02-01 JP JP2019017034A patent/JP7008650B2/ja active Active
-
2020
- 2020-01-28 EP EP20154134.9A patent/EP3693989A1/en active Pending
- 2020-01-29 US US16/776,039 patent/US11217422B2/en active Active
- 2020-01-30 CN CN202010077520.8A patent/CN111524777B/zh active Active
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US11217422B2 (en) | 2022-01-04 |
CN111524777B (zh) | 2024-08-13 |
JP2020126721A (ja) | 2020-08-20 |
CN111524777A (zh) | 2020-08-11 |
EP3693989A1 (en) | 2020-08-12 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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