JP7005082B2 - 複合膜、部品及び製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態に係る複合膜は、アモルファスYxAlyOz(ただし、0.24≦x/(x+y)≦0.82,z/(x+y)=1.5)で構成される。複合膜は、上記化学式で示される化合物である。ここで、複合膜は、10nm以上10μm以下の厚みを有することが好ましい。より好ましくは、複合膜は100nm以上1μm以下の厚みを有するとよい。複合膜が比較的平坦な形状を有する場合には、複合膜が少なくとも10nmの厚みを有すると、複合膜が耐腐食性コーティング膜として十分機能するからである。複合膜が比較的平坦な形状ではなく凹凸を有する場合には、少なくとも100nmの平均厚みを有すると、極端に薄い部分が生じても複合膜が耐腐食性コーティング膜として十分機能するからである。膜が厚いと成膜に時間を要するだけでなく、成膜条件により1μmを超えると複合膜にクラックが発生することがあり、生産性が悪くなるからである。複合膜は、不可避的に上記化学式以外の他の元素、例えば、製造の際のキャリアガスの元素、カーボンなどを含むことがある。
本発明の実施形態に係る複合膜の製造方法は次の通りである。
本発明の実施形態に係る製造装置について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る複合膜を製造するための製造装置の構成図である。本発明の実施形態に係る製造装置10において、図1に示すように、基材11を載置するサンプル台12がチャンバー13内に配置されている。サンプル台12には例えばヒーターが内蔵されている。気化器14がチャンバー13内に配置され、キャリアガス供給源15がチャンバー13外に配置されている。キャリアガスは、原料と反応しないガスであればよく、例えばアルゴンガスなどの希ガス、窒素ガスから選択される。キャリアガス供給源15と気化器14との間は、配管17a、流量計16及び配管17bを経由して接続されており、キャリアガスが所定の流量で気化器14に供給される。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。サファイヤ基板は500℃に加熱し、複合膜をサファイヤ基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜においてイットリウム(Y)よりもアルミニウム(Al)が多くなるように調整した。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。サファイヤ基板は500℃に加熱し、複合膜をサファイヤ基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜においてアルミニウム(Al)よりもイットリウム(Y)が多くなるように調整した。
酸化イットリウムの原料を坩堝に入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。基板は500℃に加熱し、酸化イットリウム膜をサファイヤ基板上に作製した。
酸化アルミニウムの原料を坩堝に入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。基板は500℃に加熱し、酸化アルミニウム膜をサファイヤ基板上に作製した。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。サファイヤ基板は500℃に加熱し、複合膜をサファイヤ基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜において、イットリウム(Y)よりもアルミニウム(Al)が多くなるように調整した。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。サファイヤ基板は500℃に加熱し、複合膜をサファイヤ基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜において、イットリウム(Y)よりもアルミニウム(Al)が多くなるように調整した。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともに石英基板に供給した。石英基板は500℃に加熱し、複合膜を石英基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜において、アルミニウム(Al)よりもイットリウム(Y)が多くなるように調整した。
作製した複合膜を700℃に加熱してもアモルファスの状態を維持していた。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。サファイヤ基板は500℃に加熱し、複合膜をサファイヤ基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜においてアルミニウム(Al)よりもイットリウム(Y)が多くなるように調整した。
酸化アルミニウムと酸化イットリウムの各原料を、坩堝に所定量ずつ入れて加熱して気化し、キャリアガスN2とともにサファイヤ基板に供給した。サファイヤ基板は500℃に加熱し、複合膜をサファイヤ基板上に作製した。ここで、坩堝に入れる各原料は、複合膜においてアルミニウム(Al)よりもイットリウム(Y)が多くなるように調整した。
2:第二の原料
10,30:製造装置
11,31:基材
12,32:サンプル台
13,33:チャンバー
14,34a,34b:気化器
15,35:キャリアガス供給源
19,39:ノズル
50:曝露テスト用のシステム
Claims (8)
- アモルファスYxAlyOz(ただし、0.24≦x/(x+y)≦0.82,z/(x+y)=1.5)を有しかつ0.1μm以上1μm以下の厚みを有する、CVD膜のみからなり、900℃以上に加熱して焼成すると結晶性を有する、複合膜。
- ハロゲンを含有するガスに対する耐腐食性を有する、請求項1に記載の複合膜。
- 基材と、
前記基材上に設けられた請求項1又は2に記載の複合膜と、
を有する部品。 - 前記基材が、ボルト、ナット及びワッシャーの何れかを含む締結部品の基材である、請求項3に記載の部品。
- ボルト、ナット及びワッシャーの何れかを含む締結部品の基材である基材と、
前記基材上に設けられ、アモルファスY x Al y O z (ただし、0.24≦x/(x+y)≦0.82,z/(x+y)=1.5)を有しかつ0.1μm以上1μm以下の厚みを有する、CVD膜のみからなる、複合膜と、
を有する部品。 - 請求項1又は2に記載の複合膜を製造するにあたり、
250℃以上600℃以下の範囲の所定の温度に基材を加熱した状態で、酸化イットリウム、酸化アルミニウムの各原料をそれぞれ気化し、キャリアガスにより気化原料を前記基材へ噴射する、複合膜の製造方法。 - さらに、前記気化原料の前記基材への噴射の際の前記基材の加熱温度よりも昇温して熱処理する、請求項6に記載の複合膜の製造方法。
- アモルファスY x Al y O z (ただし、0.24≦x/(x+y)≦0.82,z/(x+y)=1.5)を有しかつ0.1μm以上1μm以下の厚みを有する、CVD膜のみからなる、複合膜を製造するにあたり、
250℃以上600℃以下の範囲の所定の温度に基材を加熱した状態で、酸化イットリウム、酸化アルミニウムの各原料をそれぞれ気化し、キャリアガスにより気化原料を前記基材へ噴射し、
さらに、前記気化原料の前記基材への噴射の際の前記基材の加熱温度よりも昇温して熱処理する、複合膜の製造方法。
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