JP6992214B2 - 被加工物をレーザ加工するための加工装置および被加工物をレーザ加工するための方法 - Google Patents
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Description
US2017/0043431A1は、照明用の光源を含むカメラモニタを有するレーザ処理ヘッド装置を開示する。光学フィルタは、処理点放射光および処理点反射レーザビームの透過を阻止し、撮像用の照明光を透過する。DE10 2012 001 609 B3は、光ファイバのファイバ端から出現する作業レーザビームをコリメートするためのビーム整形光学系、作業レーザビームを被加工物上に集束させるための集束光学系、および調節可能な撮像光学系を伴うカメラを有する、作業レーザビームによって被加工物を処理するためのレーザ処理ヘッドに関する。US2016/0193692A1は、被加工物における切断プロセスを監視するためのデバイスおよび方法に関する。集束素子は、高エネルギービームを被加工物上に集束させる。画像捕捉装置は、監視されるべき被加工物における領域を捕捉する。評価装置は、切断プロセスの少なくとも1つの特性変数を決定する。
Claims (15)
- 被加工物をレーザ加工するための、特にレーザ切断のための、加工装置であって、
加工レーザビーム(14)を生成するように構成された加工レーザ源(10a)と、
あるスペクトル範囲を有する照明レーザビーム(16)を生成するように構成された出力を有する照明レーザ源(10b)と、
前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームのための出口開口部(10c)と、
前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームを前記出口開口部(10c)を通じて同軸で誘導するように構成されたレーザビーム誘導デバイス(17)と、
を有し、
前記照明レーザ源の出力および前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、前記照明レーザビームによる照明が、レーザ加工中、加工領域(11a)内の前記被加工物の自己放射よりも明るい照明レーザビームによる照明を生成するように選択されており、
前記照明レーザ源の出力が、少なくとも50mWであり、前記照明レーザビームのスペクトル範囲の中心波長が、300~1000nmの範囲内であり、前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、20nm未満の幅を有する波長帯であり、
前記レーザビーム誘導デバイスが、前記加工レーザビームおよび/または前記照明レーザビームの焦点を合わせるための少なくとも1つの光学ユニット(18)を備え、
前記レーザビーム誘導デバイス(17;18;13)と、前記光学ユニット(18)と、前記加工レーザ源(10a)と、前記照明レーザ源(10b)とのうち少なくとも1つの要素が、軸方向において互いに離れている照明レーザビームの焦点と加工レーザビームの焦点を生成するように構成され、
前記加工レーザ源および前記照明レーザ源が、これらによりそれぞれ生成されるレーザビームの異なるスペクトル範囲を生成するように構成され、
前記光学ユニット(18)が分散型であり、
前記加工レーザビームのスペクトル範囲が、第1の波長を含み、前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、前記第1の波長よりも短い第2の波長を含み、
前記レーザビーム誘導デバイスが、前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームを同軸で誘導するように構成される少なくとも1つの伝送ファイバ(17)を備え、
前記伝送ファイバ(17)が、内側ファイバコア(17a)を有し、前記加工レーザ源および前記照明レーザ源が、前記内側ファイバコアを通じて前記加工レーザビームを誘導するために前記伝送ファイバに結合され、
前記伝送ファイバ(17)が、前記内側ファイバコアを取り囲む外側ファイバコア(17b)、および/または前記内側もしくは外側ファイバコアを取り囲むファイバ被覆材(17c)を有し、
前記加工レーザ源および前記照明レーザ源が、前記照明レーザビームを少なくとも部分的に、前記外側ファイバコアを通じておよび/または前記ファイバ被覆材を通じて誘導するために前記伝送ファイバに結合されている、
ことを特徴とする加工装置。 - 請求項1に記載の加工装置であって、
前記照明レーザ源の出力が、100mW~3000mW、好ましくは130mW~1000mW、さらに好ましくは150mW~300mWであり、および/または
前記照明レーザビームのスペクトル範囲の中心波長が、300~820nm、好ましくは300~550nm、さらに好ましくは300~490nmの範囲内であり、および/または
前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、10nm未満、好ましくは5nm未満の幅を有する波長帯である、
ことを特徴とする加工装置。 - 請求項1または2に記載の加工装置であって、
前記レーザビーム誘導デバイス(17)と、前記加工レーザ源(10a)と、前記照明レーザ源(10b)とのうち少なくとも1つの要素が、前記被加工物(11)の前記加工領域よりも大きい、特に少なくとも1.5倍の大きさ、好ましくは前記加工領域の2倍の大きさである、前記被加工物(11)の照明領域を生成するように構成されていることを特徴とする加工装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の加工装置であって、
前記レーザビーム誘導デバイスが、
前記照明レーザビームおよび/または前記加工レーザビームを少なくとも部分的に偏向するための少なくとも1つのユニット(13)、特に、ダイクロイックミラー、
を備えることを特徴とする加工装置。 - 請求項3に記載の加工装置であって、前記被加工物の前記加工領域よりも大きい、特に少なくとも1.5倍の大きさ、好ましくは前記加工領域の2倍の大きさである前記被加工物の前記照明領域を生成するために、前記外側ファイバコアが第1の直径を有する、および/または前記ファイバ被覆材が第2の直径を有することを特徴とする加工装置。
- 請求項3に記載の加工装置であって、前記レーザビーム誘導デバイスが、前記被加工物の前記加工領域よりも大きい、特に少なくとも1.5倍の大きさ、好ましくは前記加工領域の2倍の大きさである前記被加工物の前記照明領域を生成するように構成された、前記照明レーザビームの選択的ビーム形成(18)のためのユニット、特に、選択的ビーム形成のための少なくとも1つの回折光学素子を有することを特徴とする加工装置。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載の加工装置であって、前記被加工物から反射される前記照明レーザビームを検出するための検出器デバイス(15)を有し、前記検出器デバイス(15)のスペクトル範囲は、当該スペクトル範囲が、前記照明レーザビーム、特に、反射された前記照明レーザビームのスペクトル範囲と少なくとも部分的に合致するように選択されているか、または調節可能であることを特徴とする加工装置。
- 被加工物のレーザ加工のための、特にレーザ切断のための、請求項1から7のいずれか1項に記載の加工装置の使用。
- 特に、請求項1から7のいずれか1項に記載の加工装置を使用した、被加工物のレーザ加工のための、特にレーザ切断のための方法であって、
被加工物に加工レーザ源からの加工レーザビームおよび照明レーザ源からの照明レーザビームを同軸に照射するステップを含み、
前記照明レーザ源の出力と前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、前記照明レーザビームによる照明が、レーザ加工中、加工領域内の前記被加工物の自己放射よりも明るくなるように選択され、
前記照明レーザ源の出力が、少なくとも50mWであるように選択または調節され、前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、その中心波長が300~1000nmの範囲内にあるように選択または調節され、前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、20nm未満の幅を有する波長帯として選択され、
前記加工レーザビームおよび/または前記照明レーザビームが、前記照明レーザビームの焦点と前記加工レーザビームの焦点が軸方向において互いに離れるように焦点を合わせられ、
前記加工レーザ源および前記照明レーザ源が、これらによりそれぞれ生成されるレーザビームのスペクトル範囲が異なるように選択または調節され、
前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームが、分散型光学ユニットを通じて誘導され、
前記加工レーザビームのスペクトル範囲が、第1の波長を含み、前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、前記第1の波長より短い第2の波長を含み、
前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームが、少なくとも1つの伝送ファイバを通じて同軸で誘導され、
前記伝送ファイバが内側ファイバコア(17a)を備え、
前記加工レーザビームが前記内側ファイバコアを通じて誘導され、
前記伝送ファイバ(17)が、前記内側ファイバコアを取り囲む外側ファイバコア(17b)、および/または前記内側もしくは前記外側ファイバコアを取り囲むファイバ被覆材(17c)を有し、
前記照明レーザビームが少なくとも部分的に、前記外側ファイバコアを通じておよび/または前記ファイバ被覆材を通じて誘導される、
ことを特徴とする方法。 - 請求項9に記載の方法であって、
前記照明レーザ源の出力が、少なくとも100mW~3000mW、好ましくは130mW~1000mW、さらに好ましくは150mW~300mWであるように選択もしくは調節され、および/または
前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、その中心波長が、300~820nm、好ましくは300~550nm、さらに好ましくは300~490nmの範囲内であるように選択もしくは調節され、および/または
前記照明レーザビームのスペクトル範囲が、10nm未満、好ましくは5nm未満の幅を有する波長帯として選択される、
ことを特徴とする方法。 - 請求項9または10に記載の方法であって、
前記被加工物の照明領域が、前記被加工物の前記加工領域よりも大きくなる、特に少なくとも1.5倍の大きさ、好ましくは前記加工領域の2倍の大きさであるように、前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームが誘導され、および/または、
前記加工レーザ源と前記照明レーザ源とのうち少なくとも1つの要素が、選択もしくは調節される、
ことを特徴とする方法。 - 請求項9から11のいずれか1項に記載の方法であって、
前記加工レーザビームおよび前記照明レーザビームから選択される少なくとも1つの要素の焦点を合わせるステップと、
特にダイクロイックミラーを用いて、前記照明レーザビームおよび/または前記加工レーザビームを、少なくとも部分的に偏向するステップと、
のうちの少なくとも1つを含むことを特徴とする方法。 - 請求項11に記載の方法であって、前記被加工物の前記照明領域が、前記被加工物の前記加工領域よりも大きくなる、特に少なくとも1.5倍の大きさ、好ましくは前記加工領域の2倍の大きさであるように、前記外側ファイバコアについては第1の直径、および/または前記ファイバ被覆材については第2の直径が選択されていることを特徴とする方法。
- 請求項11に記載の方法であって、前記照明レーザビームが、前記被加工物の前記照明領域が、前記被加工物の前記加工領域よりも大きくなる、特に少なくとも1.5倍の大きさ、好ましくは前記加工領域の2倍の大きさであるように、選択的に形成されている、特に、少なくとも1つの回折光学素子によって誘導されることを特徴とする方法。
- 請求項9から14のいずれか1項に記載の方法であって、前記照明レーザビーム、特に、反射された前記照明レーザビームのスペクトル範囲と少なくとも部分的に合致するスペクトル範囲が検出されるように、前記被加工物から反射される前記照明レーザビームを検出するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
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