JP6980469B2 - 液体散布装置およびその制御方法 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、空気熱交換器に液体たとえば水を散布する液体散布装置およびその制御方法に関する。

空気熱交換器を備えた空冷式熱源機では、外気温度が高い夏季など、空気熱交換器に水を散布することにより、空気熱交換器を冷却して空気熱交換器における冷媒の凝縮作用を促進することができる。これにより、エネルギー消費効率いわゆるＣＯＰが高まり、消費電力を低減することができる。

空気熱交換器に散布する水として、上水や井戸水が使用される。この水を節約するため、散布後の水をタンクに回収し、そのタンク内の水を再び空気熱交換器に散布することが行われる。

実開平5-49012号公報 特開2013-169476号公報 特開2001-321616号公報 特開2006-105542号公報

水の散布と回収を繰り返すうちに、タンク内の水に含まれているゴミが増えると共に不純物のイオン濃度が高くなり、タンク内の水が汚れてしまう。このまま散布と回収が続くと、空気熱交換器の表面に不純物が付着したり堆積し、空気熱交換器の熱交換効率が低下してしまう。 本発明の実施形態の目的は、空気熱交換器の表面における不純物等の汚れを取り除きながら、同時にタンク内の液体の汚れも低減できる液体散布装置およびその制御方法を提供することである。

請求項１の液体散布装置は、空気熱交換器に対する冷却用の液体を収容するタンクと；前記冷却用の液体を前記タンクに補給する補給手段と；前記タンクの液体を前記空気熱交換器に散布する第１散布手段と；前記タンクの液体に対する希釈用の液体を前記空気熱交換器に散布する第２散布手段と；前記空気熱交換器から流下する液体を前記タンクに回収する回収手段と；前記タンク内の液体の汚れ度合を検出する検出手段と；前記検出手段で検出される汚れ度合が第１特定値以上の場合に前記第２散布手段による散布を実行し、この実行にもかかわらず前記検出手段で検出される汚れ度合が前記第１特定値を超えて第２特定値に達した場合に前記補給手段により前記冷却用の液体を前記タンクへ供給する制御手段と；を備える。

請求項８の液体散布装置の制御方法は、空気熱交換器に対する冷却用の液体を収容するタンクと；前記冷却用の液体を前記タンクに補給する補給手段と；前記タンクの液体を前記空気熱交換器に散布する第１散布手段と；前記タンクの液体に対する希釈用の液体を前記空気熱交換器に散布する第２散布手段と；前記空気熱交換器から流下する液体を前記タンクに回収する回収手段と；前記タンク内の液体の汚れ度合を検出する検出手段と；を備えた液体散布装置の制御方法であって、前記検出手段で検出される汚れ度合が第１特定値以上の場合に前記第２散布手段による散布を実行し、この実行にもかかわらず前記検出手段で検出される汚れ度合が前記第１特定値を超えて第２特定値に達した場合に前記補給手段により前記冷却用の液体を前記タンクへ供給する。

一実施形態の構成を示す図。 一実施形態のチラー散水、チラー洗浄、逆洗の制御を示すフローチャート。 一実施形態のタンクの水処理に関わる制御を示すフローチャート。

［１］本発明の一実施形態について説明する。

図１に示すように、本実施形態に関わる複数台の空冷式熱源機１ａ〜１ｎが順に並んで設置されている。これら空冷式熱源機１ａ〜１ｎは，同じ構成を有するもので、チラーユニットとも称し、圧縮機２、四方弁３、一対の空気熱交換器４，４、膨張弁５、外気ファン６、外気温度センサ７、水熱交換器８、ドレンパン９などを備える。

圧縮機２は、冷媒を吸込んで圧縮し吐出する。この圧縮機２の冷媒吐出口に四方弁３を介して空気熱交換器４，４が配管接続され、その空気熱交換器４，４に膨張弁５を介して水熱交換器８が配管接続される。そして、水熱交換器８と圧縮機２の冷媒吸込口が配管接続される。これら配管接続により、ヒートポンプ式冷凍サイクルが構成されている。

空冷式熱源機１ａの空気熱交換器４，４は、互いに離間してＶ字状に配置されている。外気ファン６は、空気熱交換器４，４の相互間に上向き状態で配置されている。この外気ファン６が運転すると、太線矢印で示すように、外気が空気熱交換器４，４を通って空気熱交換器４，４の内側空間に吸い込まれ、吸い込まれた空気が外気ファン６を通って空冷式熱源機１ａの上方に排出される。外気温度センサ７は、空冷式熱源機１ａが設置されている場所の外気温度を検知する。

水熱交換器８は、図示しない負荷側機器（例えばファンコイル等の空調機）に配管接続されている。この配管接続により、水熱交換器８と負荷側機器との間に水の循環路が形成される。空気熱交換器４，４が凝縮器として機能し、水熱交換器８が蒸発器として機能する冷房モードでは、負荷側機器を経て水熱交換器８へと流れた水がヒートポンプ式冷凍サイクルの冷媒に熱を奪われて冷水となり、その冷水が負荷側機器へと送られる。空気熱交換器４が蒸発器として機能し、水熱交換器８が凝縮器として機能する暖房モードでは、負荷側機器を経て水熱交換器８へと流れた水がヒートポンプ式冷凍サイクルの冷媒から熱を奪って温水となり、その温水が負荷側機器へと送られる。

これらヒートポンプ式冷凍サイクルおよび外気ファン６に関わる構成は、他の空冷式熱源機１ｂ〜１ｎについても同じである。よって、その説明は省略する。

このような構成の空冷式熱源機１ａ〜１ｎの近傍に、冷却用の液体たとえば水Ｗを収容するタンク１０が配置されている。このタンク１０の底部に配管１１の一端が接続され、その配管１１上に電磁開閉弁１２および流量センサ１３が順に配置されている。流量センサ１３は、配管１１に流れる水Ｗの流量（ストレーナ１５に流れる水Ｗの流量）Ｆａを検知する。そして、配管１１の他端は、ほぼ垂直状態に配置された上下方向配管１４の下部に接続されている。配管１１から上下方向配管１４へと流れた水Ｗは、循環ポンプ１８の水圧により上下方向配管１４の下部から上部へと上昇して流れる。

この上下方向配管１４に、異物収集器である例えばストレーナ１５が取付けられている。ストレーナ１５は、タンク１０から導かれる水Ｗの流入口が上下方向配管１４の下部に位置する状態で取付けられ、上下方向配管１４の下部から上部へと流れる水Ｗから異物（例えばゴミ）を濾し取って収集する。このストレーナ１５に水Ｗが流入する側の上下方向配管１４に圧力センサ１６ａが取付けられ、ストレーナ１５から水Ｗが流出する側の上下方向配管１４に圧力センサ１６ｂが取付けられている。圧力センサ１６ａは、ストレーナ１５に流入する水Ｗの圧力Ｐａを検知する。圧力センサ１６ｂは、ストレーナ１５から流出する水Ｗの圧力Ｐｂを検知する。

上下方向配管１４の上部に配管１７の一端が接続され、その配管１７上に循環ポンプ１８、逆止弁１９、手動開閉弁２０、減圧弁２１、および電磁開閉弁２２が順に配置されている。配管１７の他端は、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの近傍に配置されている複数のノズル２３に接続される。これらノズル２３は、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの各空気熱交換器４の上部に噴射口を向けた状態で配置されている。

手動開閉弁２０は、係員によって予め開操作される。この状態で電磁開閉弁１２，２２が開きかつ循環ポンプ１８が運転することにより、タンク１０内の水Ｗが配管１１、電磁開閉弁１２、流量センサ１３、上下方向配管１４、ストレーナ１５、配管１７、循環ポンプ１８、逆止弁１９、手動開閉弁２０、減圧弁２１、および電磁開閉弁２２を通って各ノズル２３に流れる。各ノズル２３に流れた水Ｗは、各ノズル２３から各空気熱交換器４の上部に向けて噴射され、各空気熱交換器４のコイルおよびフィンに散布される。散布された水Ｗ（または後述の上水）は、各空気熱交換器４のコイルおよびフィンに沿って流下しながら、各空気熱交換器４を冷却する。

上記配管１１、電磁開閉弁１２、上下方向配管１４、配管１７、循環ポンプ１８、逆止弁１９、手動開閉弁２０、減圧弁２１、電磁開閉弁２２、および各ノズル２３により、タンク１０の水Ｗを循環ポンプ１８の送水圧力によって各空気熱交換器４に散布する第１散布手段（チラー散水手段）が構成されている。

各空気熱交換器４を冷却して流下する水Ｗは、ドレンパン９に収容される。各空気熱交換器４から流れ落ちる結露水、空気熱交換器４に付着した霜が除霜運転により溶けて流れ落ちる融解水、各空気熱交換器４およびその周辺部から流れ落ちる雨水等も、ドレンパン９に収容される。このドレンパン９に配管２４の一端が接続され、その配管２４の他端がタンク１０の上部に接続されている。ドレンパン９内の水Ｗおよび結露水・融解水・雨水等は、この配管２４を通ってタンク１０に回収される。

上記ドレンパン９および配管２４により、空気熱交換器４から流下する水をタンク１０に回収する回収手段が構成されている。

上記配管１７における減圧弁２１と電磁開閉弁２２との間の位置にバイパス配管２５の一端が接続され、そのバイパス配管２５の他端がタンク１０の上部に接続されている。そして、バイパス配管２５に安全弁２６が配置されている。安全弁２６は、配管１７側の水圧に異常上昇がない場合は閉じた状態を維持するが、配管１７側の水圧が異常上昇した場合はその水圧で機械的に開いてバイパス配管２５を導通する。これらバイパス配管２５および安全弁２６により、配管１７側の電磁開閉弁２２が故障により閉じてしまった場合に循環ポンプ１８が締切り運転となる不具合を防ぐための保護手段が構成されている。なお、安全弁２６に代えて常閉型の電磁開閉弁を配置し、その電磁開閉弁を配管１７側の水圧が異常上昇した場合に開動作させる構成としてもよい。

水道や井戸等の給水源に配管３１の一端が接続され、その配管３１の他端がタンク１０の上部に接続されている。そして、配管３１上に、手動開閉弁３２、電磁開閉弁３３、流量センサ３４、および電磁開閉弁３５が順に配置されている。手動開閉弁３２は、係員によって予め開操作される。この状態で電磁開閉弁３３，３５が開くことにより、給水源から導かれている上水が配管３１、手動開閉弁３２、電磁開閉弁３３、流量センサ３４、および電磁開閉弁３５を通ってタンク１０に補給される。

上記配管３１、手動開閉弁３２、および電磁開閉弁３３，３５により、タンク１０へ上水を補給する補給手段が構成されている。流量センサ３４は、配管３１に流れる上水の流量を検知する。

タンク１０の近傍に薬剤容器４０が配置され、その薬剤容器４０に配管４１の一端が接続されている。配管４１の他端はタンク１０内に導入されている。そして、配管４１に注入ポンプ４２が配置されている。注入ポンプ４２が運転すると、薬剤容器４０内の液状の薬剤が配管４１を通ってタンク１０に注入される。

上記薬剤容器４０、配管４１、注入ポンプ４２により、タンク１０に薬剤を注入する薬剤注入手段が構成されている。薬剤として、防スケール剤・防食剤・殺菌剤等の水処理薬剤から目的や水質に応じて一種あるいは二種以上のものが適宜に選択される。

タンク１０の側面上部に配管４３の一端が接続され、その配管４３の他端が外部の例えば排水処理施設等に接続される。タンク１０に存する水Ｗが増え、その水Ｗが配管４３の接続位置に至ると、水Ｗが配管４３を通って外部に排出される。また、タンク１０の底部に配管４５の一端が接続され、その配管４５の他端が上記配管４３の中途部に接続されている。そして、配管４５に手動開閉弁４６が配置されている。手動開閉弁４６を係員が開操作すると、タンク１０内の底に存する水Ｗが配管４５、手動開閉弁４６、および配管４３を通って外部に排出される。

上記配管４３、配管４５、および手動開閉弁４６により、タンク１０内の水Ｗを外部の排水処理施設等に排出する第１排水手段が構成されている。

タンク１０の底部に配管４７の一端が接続され、その配管４７の他端が外部の下水管等に接続される。そして、配管４７に手動開閉弁４８が配置されている。手動開閉弁４８を開くと、タンク１０内の底に存する水Ｗが配管４７および手動開閉弁４８を通って外部の下水管等に排出される。

上記配管４７および手動開閉弁４８により、タンク１０内の水Ｗを外部の下水管等に排出する第２排水手段が構成されている。薬剤を含んだ水と含んでいない水を分けて排出する必要がない場合は、第１排水手段と第２排水手段を兼用することができる。

タンク１０の上部に水Ｗの量を検知する検知手段として水位センサ５１が配置され、タンク１０内の底部付近に水Ｗの汚れ度合を検出する検出手段として電気伝導率センサ５２が配置されている。水位センサ５１は、タンク１０内の水Ｗに進入する複数のアクチュエータを有し、タンク１０内の水Ｗの水位を検知する。電気伝導率センサ５２は、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃを検知する。

上記配管３１における流量センサ３４と電磁開閉弁３５との間の位置に配管６１の一端が接続され、その配管６１の他端が上記配管１７における電磁開閉弁２２の手前位置に接続されている。そして、配管６１に逆止弁６２および電磁開閉弁６３が順に配置されている。手動開閉弁３２は、係員によって予め開操作される。この状態で電磁開閉弁３３，６３，２２が開くことにより、給水源からの上水が配管３１、手動開閉弁３２、電磁開閉弁３３、配管６１、逆止弁６２、電磁開閉弁６３、配管１７、および電磁開閉弁２２を通って各ノズル２３に送られる。

上記配管３１、手動開閉弁３２、電磁開閉弁３３、配管６１、逆止弁６２、電磁開閉弁６３、配管１７、電磁開閉弁２２、および各ノズル２３により、給水源からの上水を各空気熱交換器４に対する洗浄用およびタンク１０内の水Ｗに対する希釈用として各空気熱交換器４に散布する第２散布手段（チラー洗浄手段）が構成されている。この上水の散布には、給水源の給水圧力が利用される。

上記配管６１における逆止弁６２と電磁開閉弁６３との間の位置に配管７１の一端が接続され、その配管７１の他端が上下方向配管１４の上部に接続されている。そして、配管７１に電磁開閉弁７２が配置されている。さらに、上下方向配管１４の下部に配管７３の一端が接続され、その配管７３の他端が上記配管４７における手動開閉弁４８より下流側の位置に接続されている。循環ポンプ１８が止まっている状態で電磁開閉弁３３，７２，７４が開くことにより、給水源からの上水が配管３１、手動開閉弁３２、電磁開閉弁３３、配管６１、逆止弁６２、配管７１、電磁開閉弁７２を通って上下方向配管１４の上部に流入する。流入した上水は、ストレーナ１５に勢いよく流れ込む。この水流により、ストレーナ１５内に溜まっている異物がストレーナ１５から流出する。流出した水および異物は、上下方向配管１４から配管７３へと流れ、そこから電磁開閉弁７４および配管４７を通って外部の下水等へ排出される。

上記配管３１、手動開閉弁３２、電磁開閉弁３３、配管６１、逆止弁６２、配管７１、電磁開閉弁７２、上下方向配管１４、配管７３、電磁開閉弁７４、および配管４７により、洗浄用の上水を上下方向配管１４の上部から下部へと第１散布手段の流路の水Ｗの流れとは逆の方向でストレーナ１５に通して流し、この水流によりストレーナ１５内に溜まった異物をストレーナ１５から流出させて外部の下水管等に排出する排出手段が構成されている。この排出手段によってストレーナ１５内の異物を排出つまり洗浄することをストレーナ逆洗（ぎゃくせん）という。

このストレーナ逆洗に際し、ストレーナ１５に流入する水は、給水源からの給水圧力を受けるとともに、上下方向配管１４がほぼ垂直状態であることによる重力も受けるので、ストレーナ１５に勢いよく流れ込む。したがって、ストレーナ１５内に溜まった異物を効率よく洗い出すことができ、ストレーナ１５に対する高い洗浄能力を確保できる。

一方、制御部（制御手段）８０に、空冷式熱源機１ａ〜１ｎ、電磁開閉弁１２，２２，３３，３５，６３，７２，７４、流量センサ１３，３４、圧力センサ１６ａ，１６ｂ、循環ポンプ１８、注入ポンプ４２、水位センサ５１、電気伝導率センサ５２、および操作部８１が接続されている。

以上の構成により、空冷式熱源機１ａ〜１ｎに対する液体散布装置が構築される。操作部８１は、運転条件を係員操作により設定するためのものである。

制御部８０は、上記第１散布手段による散布（チラー散水という）、上記第２散布手段による散布（チラー洗浄という）、上記排出手段によるストレーナ逆洗、上記補給手段による上水の補給、上記薬剤注入手段による薬剤注入、および上記第１排水手段による排水の制御などを実行する。この制御は、具体的には、次の（１）〜（８）の第１〜第８制御手段を含む。

（１）各空気熱交換器４の冷却に関わるチラー散水開始条件（第１散布開始条件）が成立した場合に、上記第１散布手段によるチラー散水を開始（実行）する第１制御手段。

チラー散水開始条件としては、空冷式熱源機１ａ〜１ｎのいずれか１つの外気温度センサ７の検知温度Ｔｏが所定値Ｔｏｓ以上という条件、空冷式熱源機１ａ〜１ｎのいずれか１つの運転負荷率Ｑが所定値Ｑｓ以上という条件などがある。これらの条件が１つだけ成立した場合にチラー散水開始条件が成立したと判定してもよいし、複数の条件が共に成立した場合にチラー散水開始条件が成立したと判定してもよい。制御部８０は、これらの条件を内部メモリに保持（記憶）している。

（２）上記第１散布手段によるチラー散水の開始に伴い、チラー散水の実行回数Ｎを計数し、チラー散水の実行時間ｔａを計測して積算（積算値ｔａｘ）し、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃを電気伝導率センサ５２により検出し、ストレーナ１５に流入する水Ｗの圧力Ｐａとストレーナ１５から流出する水Ｗの圧力Ｐｂとの圧力差ΔＰ（＝Ｐａ−Ｐｂ）を圧力センサ１６ａ，１６ｂにより検出し、かつストレーナ１５に流れる水Ｗの流量Ｆａを流量センサ１３により検出して積算（積算値Ｆａｘ）する第２制御手段。

（３）各空気熱交換器４の冷却に関わるチラー散水停止条件（第１散水停止条件）が成立した場合に、第１散布手段によるチラー散水を停止する第３制御手段。

チラー散水停止条件としては、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの全ての外気温度センサ７の検知温度Ｔｏが所定値Ｔｏｓ未満という条件、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの全ての運転負荷率Ｑが所定値Ｑｓ未満という条件、チラー散水の実行時間ｔａの積算値ｔａｘが設定値ｔａｘｓ以上という条件、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上という条件、ストレーナ１５の圧力差ΔＰが設定値ΔＰｓ以上という条件、ストレーナ１５に流れる水Ｗの流量Ｆａの積算値Ｆａｘが設定値Ｆａｘｓ以上という条件などがある。これらの条件が１つだけ成立した場合にチラー散水停止条件が成立したと判定してもよいし、これらの条件のうち複数の条件が成立した場合にチラー散水停止条件が成立したと判定してもよい。制御部８０は、これらの条件のうち、判定に用いる１つまたは複数の条件を内部メモリに保持（記憶）している。

（４）第１散布手段によるチラー散水の停止後（終了後）、各空気熱交換器４の洗浄およびタンク１０内の水Ｗの希釈に関わるチラー洗浄開始条件（第２散布開始条件）が成立する場合に、第２散布手段によるチラー洗浄を所定時間（第１所定時間）ｔ１ｓにわたり実行するとともに、このチラー洗浄の実行中、負荷に応じた空冷式熱源機１ａ〜１ｎの運転状況（運転台数の変化）にかかわらず、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの全ての外気ファン６を運転する第４制御手段。

チラー洗浄開始条件としては、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率（汚れ度合）Ｃが特定値Ｃｓ１以上という条件があり、さらに“チラー散水終了直後”という条件（つまりチラー散水の停止後にチラー洗浄を直ちに開始するという条件；無条件ともいう）、ストレーナ１５の圧力差ΔＰが設定値ΔＰｓ以上という条件、ストレーナ１５に流れる流量Ｆａの積算値Ｆａｘが設定値Ｆａｘｓ以上という条件、チラー散水の実行時間ｔａの積算値ｔａｘが設定値ｔｘｓ以上という条件、チラー散水の実行回数Ｎが設定値Ｎｓ以上という条件などがある。これら条件が制御部８０の内部メモリに保持（記憶）されている。これら条件のいずれか１つの条件が成立した場合にチラー洗浄開始条件が成立したと判定してもよいし、いずれか２つ以上の条件が共に成立した場合にチラー洗浄開始条件が成立したと判定してもよい。制御部８０は、チラー洗浄開始条件の成立要素が電気伝導率Ｃ，“チラー散水終了直後”，圧力差ΔＰ，積算値Ｆａｘ，積算値ｔａｘ，実行回数Ｎのいずれであったかを内部メモリに一時的に保持する。

上記所定時間ｔ１ｓは、空冷式熱源機１ａ〜１ｎが設置される場所の環境等に応じた適宜の長さに設定される。

(５)第２散布手段によるチラー洗浄の終了後においてストレーナ１５内の異物の除去に関わる逆洗開始条件（排出開始条件）が成立する場合、および上記第１散布手段によるチラー散水の終了後においてチラー洗浄開始条件が成立しないまま逆洗開始条件が成立する場合に、それぞれ上記排出手段によるストレーナ逆洗を所定時間ｔ２ｓにわたり実行する第５制御手段。

逆洗開始条件としては、チラー洗浄開始条件と同じく、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上という条件がある。この条件が制御部８０の内部メモリに保持（記憶）されている。この条件が成立した場合に逆洗開始条件が成立したと判定する。

逆洗開始条件としては、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上という条件に加えて、“直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始された”という条件（つまり直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始されたものであればストレーナ１５も汚れていると見なしてストレーナ逆洗を直ちに開始するという条件；無条件ともいう）を含めてもよい。いずれか１つの条件が成立した場合に逆洗開始条件が成立したと判定する。直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始されたものであるか否かは、制御部８０の内部メモリに保持されている“チラー洗浄開始条件の成立要素”を参照することにより、認識することができる。すなわち、内部メモリに保持されている“チラー洗浄開始条件の成立要素”が電気伝導率Ｃであれば、第５制御手段は、直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始されたものであってストレーナ１５も汚れているとの判断の下に、チラー洗浄の終了後にストレーナ逆洗を直ちに開始する。内部メモリに保持されている“チラー洗浄開始条件の成立要素”が例えば実行回数Ｎであれば、第５制御手段は、直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始されたものではないとの判断の下に、現時点の電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上の場合にストレーナ逆洗を開始し、現時点の電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１未満の場合はストレーナ逆洗を開始しない。

上記所定時間ｔ２ｓは、空冷式熱源機１ａ〜１ｎが設置される場所の環境やストレーナ１５の容量等に応じた適宜の長さに設定される。

（６）水位センサ５１の検知水位Ｗｈが設定値Ｗｈ１となるように上記補給手段による上水の補給を制御するとともに、その補給手段によるタンク１０への給水量（補給量）Ｆｍを流量センサ３４により検出する第６御手段。

（７）上記薬剤注入手段による薬剤の注入をタンク１０への給水量（流量センサ３４の検知流量）Ｆｍの積算値Ｆｍｘに応じて制御する第７制御手段。

（８）電気伝導率センサ５２で検知される電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ２（＞Ｃｓ１）以上の場合に、電磁開閉弁３３，６３，２２を開にして各空気熱交換器４に上水を散布するチラー洗浄を行い、各空気熱交換器４から流下する水をドレンパン９および配管２４によりタンク１０に供給し、これによりタンク１０内の水Ｗを配管４３の接続位置へとオーバーフローさせ、タンク１０内の汚れた水Ｗを第１排水手段である配管４３により排水処理施設等に排出する第８制御手段。特定値Ｃｓ２は、チラー洗浄開始条件の特定値Ｃｓ１より高い値である。この特定値Ｃｓ２を用いることにより、当該第８制御手段による排水処理よりも上記第４制御手段によるチラー洗浄（および希釈）の方が優先して実行される。第４制御手段によるチラー洗浄（および希釈）が実行されたにもかかわらず、水Ｗの希釈が追い付かないまま電気伝導率Ｃが上昇して特定値Ｃｓ２に達した場合に、当該第８制御手段による排水処理が実行される。

つぎに、制御部８０が実行する散布および逆洗の制御を図２のフローチャートを参照しながら説明する。手動開閉弁２０，３２は予め開操作されているものとする。

制御部８０は、チラー散水開始条件の成立を監視する（ステップＳ１）。チラー散水開始条件が成立した場合（ステップＳ１のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁１２，２２を開いて循環ポンプ１８を運転し（電磁開閉弁６３、７２、７３は閉状態）、これによりタンク１０内の水Ｗを各ノズル２３に導いて各空気熱交換器４に散布する（ステップＳ２；チラー散水開始）。このとき、各ノズル２３に導かれる水Ｗがストレーナ１５を通る際に、水Ｗに含まれている異物（例えばゴミ）がストレーナ１５で収集される。これにより、異物のない水Ｗが各空気熱交換器４に散布される。

この水Ｗの散布により、空気熱交換器４が冷却されて、各空気熱交換器４における冷媒の凝縮作用が促進される。これにより、ヒートポンプ式冷凍サイクルのエネルギー消費効率いわゆるＣＯＰ（Coefficient-Of-Performance）が高まり、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの消費電力を低減することができる。

各空気熱交換器４に散布された水Ｗは、各空気熱交換器４から流下してドレンパン９に収容され、そこから配管２４を通ってタンク１０に回収される。回収された水Ｗは、再び各空気熱交換器４へと散布される。

水Ｗの散布開始に伴い、制御部８０は、散布の実行回数Ｎを計数するとともに（ステップＳ３）、当該散布の実行時間ｔａを計測して積算し（積算値ｔａｘ）、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃを電気伝導率センサ５２により検出し、ストレーナ１５に流入する水Ｗの圧力Ｐａとストレーナ１５から流出する水Ｗの圧力Ｐｂとの圧力差ΔＰ（＝Ｐａ−Ｐｂ）を圧力センサ１６ａ，１６ｂにより検出し、ストレーナ１５に流れる水Ｗの流量Ｆａを流量センサ１３により検出して積算する（積算値Ｆａｘ）（ステップＳ４）。なお、このステップＳ４で検出（および計測）する事象は、チラー散水停止条件，チラー洗浄開始条件，逆洗開始条件に該当する要素のみでよい。そして、制御部８０は、チラー散水停止条件の成立を監視する（ステップＳ５）。

チラー散水停止条件が成立しない場合（ステップＳ５のＮＯ）、制御部８０は、上記ステップＳ４〜Ｓ５の処理を繰り返す。

チラー散水停止条件が成立した場合（ステップＳ５のＹＥＳ）、制御部８０は、循環ポンプ１８を停止するとともに電磁開閉弁１２を閉じ（電磁開閉弁２２は開状態のまま）、これにより水Ｗの散布を停止する（ステップＳ６；チラー散水停止）。

水Ｗの散布停止に続き、制御部８０は、チラー洗浄開始条件の成立を監視する（ステップＳ７）。チラー洗浄開始条件が成立する場合（ステップＳ７のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁３３，６３を開き（電磁開閉弁２２はすでに開いた状態）、給水源から導かれる上水をその給水源の給水圧力で各ノズル２３に導き、各空気熱交換器４に散布する（ステップＳ８；チラー洗浄開始）。この上水の散布により、各空気熱交換器４に表面に付着したり堆積している不純物等の汚れが洗い流される。汚れを洗い流した後の水は、ドレンパン９に収容され、そこから配管２４を通ってタンク１０に回収される。
水Ｗの散布と回収が繰り返されると、タンク１０の水Ｗに含まれている不純物のイオン濃度が高くなり、その結果、空気熱交換器４の表面に不純物が付着したり堆積し、空気熱交換器４の熱交換効率を低下させるとともに、水Ｗの散布による冷却効率をも低下させてしまうが、上記のように上水を散布して、各空気熱交換器４に付着または堆積した不純物（薬剤含む）等の汚れを洗い流すことにより、各空気熱交換器４の熱交換効率を向上させることができ、その後の水Ｗの散布による冷却効率も向上する。 汚れを洗い流した後の水（元は上水）は不純物等をある程度は含むが、その水の汚れ度合はタンク１０内に溜まっている水Ｗの汚れ度合よりも小さい。この水がドレンパン９に流下して配管２４によりタンク１０に流れるので、タンク１０内の水Ｗの汚れが希釈される。タンク１０内の水Ｗの汚れが希釈されるので、汚れた水Ｗを排出する後述の排水処理およびそれに伴う水位処理の実行回数が少なくなる。つまり、タンク１０への上水の補給量が少なくなり、よって上水の使用量を抑制することができる。また、上水の使用量が減るため、薬剤の使用量を抑制できる。

このチラー洗浄（および希釈）の開始に際し、制御部８０は、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの運転状況（運転台数の変化）にかかわらず、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの全ての外気ファン６を運転する。例えば、空冷式熱源機１ａの運転が停止中であっても、その空冷式熱源機１ａにおける外気ファン６を運転する。

空冷式熱源機１ａ〜１ｎの全ての外気ファン６を運転することにより、空冷式熱源機１ａ〜１ｎの全ての空気熱交換器４に外気が流入する。各空気熱交換器４の外面に向け散布されている上水は、この外気の吸込み気流に乗り、各空気熱交換器４の外面から内部へと効率よく流れるとともに、ドレンパン９へとスムーズに落下する。各空気熱交換器４の外面に当たって飛散する上水も、各空気熱交換器４へと集約的に取込まれる。したがって、各空気熱交換器４に対する洗浄作用が促進されつつ、ドレンパン９へ流下する水の量が増える。結果として、タンク１０への水の供給量が増えて、タンク１０内の水Ｗの汚れに対する希釈作用が促進される。ひいては、後述の排水処理およびそれに伴う水位処理の実行回数をさらに少なくすることができ、上水の使用量をさらに抑制できる。

また、チラー洗浄の開始に伴い、制御部８０は、タイムカウントｔ１を実行し（ステップＳ９）、そのタイムカウントｔ１と所定時間ｔ１sとを比較する（ステップＳ１０）。タイムカウントｔ１が所定時間ｔ１sに達しないうちは（ステップＳ１０のＮＯ）、上水の散布による洗浄および全ての外気ファン６の運転を続けることになる。

タイムカウントｔ１が所定時間ｔ１sに達した場合（ステップＳ１０のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁２２，３３，６３を閉じ、これにより上水の散布を停止する（ステップＳ１２；チラー洗浄停止）。このチラー洗浄の停止に際し、制御部８０は、チラー洗浄の開始前に停止状態にあった空冷式熱源機の外気ファン６の運転のみを停止する。そして、制御部８０は、チラー散水停止条件とチラー洗浄開始条件にそれぞれ該当する要素の検出結果（および測定結果）をリセットするとともに、タイムカウントｔ１をリセットする（ステップＳ１２）。

このリセットに続き、制御部８０は、逆洗開始条件の成立を監視する（ステップＳ１３）。なお、制御部８０は、上記ステップＳ７の判定でチラー洗浄開始条件が成立しなかった場合にも（ステップＳ７のＮＯ）、逆洗開始条件の成立を監視する（ステップＳ１５）。

逆洗開始条件が成立しない場合（ステップＳ１３のＮＯ）、制御部８０は、最初のステップＳ１の判定に戻る。

逆洗開始条件が成立した場合（ステップＳ１３のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁３３，７２，７４を開き、給水源からの上水をその給水源の給水圧力で上下方向配管１４の上部に導き、これによりストレーナ１５を逆洗する（ステップＳ１４；逆洗開始）。上下方向配管１４の上部に導かられた上水はストレーナ１５に勢いよく流れ込み、ストレーナ１５内に溜まっている異物をストレーナ１５から流出させる。流出した水および異物は、上下方向配管１４から配管７３へ流れ、そこから配管４７を通って外部の下水等へ排出される。

このストレーナ逆洗の開始に伴い、制御部８０は、タイムカウントｔ２を実行し（ステップＳ１５）、そのタイムカウントｔ２と所定時間ｔ２sとを比較する（ステップＳ１６）。タイムカウントｔ２が所定時間ｔ２sに達しないうちは（ステップＳ１６のＮＯ）、ストレーナ逆洗を続けることになる。

タイムカウントｔ２が所定時間ｔ２sに達した場合（ステップＳ１６のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁３３，７２，７４を閉じ、これによりストレーナ逆洗を停止する（ステップＳ１７；逆洗停止）。この停止に伴い、制御部８０は、逆洗開始条件に該当する要素の検出結果およびタイムカウントｔ２をリセットし（ステップＳ１８）、最初のステップＳ１の判定に戻る。
このように、チラー散水およびチラー洗浄の終了後、逆洗開始条件が成立する場合にストレーナ１５を逆洗することにより、ストレーナ１５内に溜まっている異物を確実かつ効率よく除去することができ、ストレーナ１５の異物収集能力を再生することができる。水Ｗの流れに対するストレーナ１５の流路抵抗も低減することができ、よって水Ｗの散布効率も向上する。ストレーナ１５に対する人為的な清掃作業が不要となるので、係員の負担を軽減できる。各空気熱交換器４に表面に付着したり堆積している不純物等の汚れが多い場合や、ストレーナ１５内に溜まっている異物の量が多い場合のみ、ストレーナ１５を逆洗するので、上水の使用量をできるだけ抑えることができる。

各空気熱交換器４に表面に付着したり堆積している不純物等の汚れやストレーナ１５内に溜まっている異物の量が多いかどうかは、水Ｗの汚れ具合つまり水Ｗに含まれる異物の量で判断できる。水Ｗに含まれる異物の量が増えると、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃが上昇する。チラー散水の実行時間ｔａの積算値ｔａｘが長いほど、外気からの異物の侵入量が多くなり、水Ｗに含まれる異物の量が増える。水Ｗに含まれる異物の量が増えると、ストレーナ１５内に溜まる異物の量が増え、圧力差ΔＰが上昇する。流量Ｆａの積算値Ｆａｘが多いほど、外気からの異物の侵入量が多くなり、水Ｗに含まれる異物の量が増える。実行回数Ｎが増えるほど、外気からの異物の侵入量が多くなり、水Ｗに含まれる異物の量が増える。

水Ｗに含まれる異物の量を判別する要素としては、電気伝導率Ｃ，積算値ｔａｘ，圧力差ΔＰ，積算値Ｆａｘ，実行回数Ｎの全てを判別要素として用いる必要はなく、少なくとも１つを判別要素として用いればよい。 電気伝導率Ｃを検知する電気伝導率センサ５２は後述の排水処理に必要な機器としてタンク１０に付属されるものなので、チラー洗浄用およびストレーナ逆洗用として新たな汚れ検出手段を設ける必要がなく、その分のコストの上昇を抑えることができる。

ところで、制御部８０は、図２に示したチラー散水、チラー洗浄および逆洗の制御とは別に、タンク１０の水処理（水位処理、薬注処理、排水処理）に関わる図３の制御を適宜に実行する。この水処理に関わる制御を図３のフローチャートを参照しながら説明する。

［水位処理（上記第６制御手段）］
制御部８０は、水位センサ５１の検知水位Ｗｈと設定値Ｗｈ１とを比較する（ステップＳ２１）。水位センサ５１の検知水位Ｗｈが設定値Ｗｈ１未満の場合（ステップＳ２１のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁３３，３５を開いて、タンク１０への上水の供給（補給）を開始する（ステップＳ２２）。

この給水開始に伴い、制御部８０は、水位センサ５１の検知水位Ｗｈと設定値Ｗｈ２（＝Ｗｈ１＋ΔＷｈ）とを比較する（ステップＳ２３）。検知水位Ｗｈが設定値Ｗｈ２未満の場合（ステップＳ２３のＮＯ）、制御部８０は、給水を続けることになる。

水位センサ５１の検知水位Ｗｈが設定値Ｗｈ２に達した場合（ステップＳ２３のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁３３，３５を閉じて、タンク１０への給水を停止する（ステップＳ２４）。この停止後、制御部８０は、ステップＳ２１の処理に戻る。

この水位処理により、新鮮できれいな上水がタンク１０に供給されるとともに、タンク１０内の水位Ｗｈが設定値Ｗｈ１以上に維持される。同時に、きれいな上水がタンク１０内の水Ｗに加わるので、タンク１０内の水Ｗの汚れが希釈される。

［薬注処理（上記第７制御手段）］
給水源から配管３１に供給される上水の流量Ｆｍが流量センサ３４により検知される。制御部８０は、上記水位処理によってタンク１０へ供給される上水の流量Ｆｍを積算し、その積算値Ｆｍｘと設定値Ｆｍｘｓとを比較する（ステップＳ３１）。

積算値Ｆｍｘが設定値Ｆｍｘｓに達した場合（ステップ３１のＹＥＳ）、制御部８０は、注入ポンプ４２を所定時間だけ運転オンして、薬剤容器４０内の薬剤を所定量だけタンク１０に注入する（ステップＳ３２）。この薬剤の注入により、タンク１０内の水Ｗの薬剤の効果（例えばレジオネラ属菌が死滅）が継続する。

薬剤の注入に伴い、制御部８０は、それまで検出した積算値Ｆｍｘを零にクリアし（ステップＳ３３）、ステップＳ３１の処理に戻る。これにより、積算値Ｆｍｘが零から再び検出され、その積算値Ｆｍｘが設定値Ｆｍｘｓに達するごとに、薬注の注入が繰り返される。

［排水処理］
上水の散布によって洗い流された不純物等の汚れは、水と共にタンク１０に回収される。このため、タンク１０内の水Ｗの汚れは、水Ｗの散布と回収が繰り返されることによって増すだけでなく、上水の散布による洗浄が実行されることでもさらに増していく。汚れが増すほど、タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃが高くなる。

タンク１０内の水Ｗの電気伝導率Ｃは、電気伝導率センサ５２で検知されている。制御部８０は、電気伝導率センサ５２で検知される電気伝導率Ｃと特定値Ｃｓ２とを比較する（ステップＳ４１）。

チラー洗浄（および希釈）が実行されたにもかかわらず、水Ｗの希釈が追い付かないまま電気伝導率Ｃが上昇して特定値Ｃｓ１を超えることがある。そのまま電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ２（＞Ｃｓ１）に達した場合（ステップＳ４１のＹＥＳ）、制御部８０は、タンク１０内の水Ｗがかなり汚れていてその排出が必要であるとの判断の下に、電磁開閉弁３３，３５を開いて上水をタンク１０に供給し、これによりタンク１０内の水Ｗを配管４３の接続位置へとオーバーフローさせ、タンク１０内の汚れた水Ｗを配管４３により外部に排出する（ステップ４２；排水開始）。

排水開始に伴い、制御部８０は、電気伝導率センサ５２で検知される電気伝導率Ｃと特定値Ｃｓ１とを比較する（ステップＳ４３）。電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上の場合（ステップＳ４３のＮＯ）、制御部８０は、排水を続けることになる。

タンク１０内の水Ｗの汚れは、汚れ分そのものがタンク１０外に出ることで改善されるとともに、排水に伴う水位低下に応じて上記水位処理による上水の補給が行われることで改善される。

電気伝導率センサ５２で検知される電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１未満に低下した場合（ステップＳ４３のＹＥＳ）、制御部８０は、電磁開閉弁３３，３５を閉じてタンク１０への上水の供給を停止し、これによりタンク１０内の水Ｗの排出を停止する（ステップ４４；排水停止）。この排水停止後、制御部８０は、ステップＳ４１の処理に戻る。

この排水処理においては、上水を直接タンク１０に補給したが、チラー散水が行われていなければ、電磁開閉弁６３と２２を開いてチラー４に上水を供給してチラー洗浄を行なってタンク１０に補給しても良い。

また、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ２以上の場合に排水処理を行うようにしたが、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ２以上の場合にチラー洗浄を行い、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ1以下の場合にチラー洗浄を停止するようにしても良い。この場合、排水処理は行われず、タンク１０内の水はオーバーフロー処理される。

［２］変形例
上記実施形態では、異物収集器としてストレーナ１５を用いたが、液体中の異物を濾し取って収集するものであれば、フィルタやエレメントなど他の部材を用いてもよい。

上記実施形態では、ストレーナ１５の両側の圧力差ΔＰを検出する手段として２つの圧力センサ１６ａ，１６ｂを用いたが、それに代えて、安価な差圧スイッチや圧力スイッチを用いてもよい。

上記実施形態では、タンク１０内の水Ｗの汚れ度合を検出する検出手段として電気伝導率センサ５２を用いたが、同様の機能を有するものであれば、他の検出手段を用いてもよい。

上記実施形態では、タンク１０内の水Ｗの量を検知する検知手段として水位センサ５１を用いたが、同様の機能を有するものであれば、他の検知手段を用いてもよい。

上記実施形態では、各外気温度センサ７の検知温度Ｔｏおよび空冷式熱源機１ａ〜１ｎの運転負荷率Ｑをチラー散水開始条件およびチラー散水停止条件の要素としたが、それ以外の要素をチラー散水開始条件およびチラー散水停止条件として用いてもよい。例えば、空冷式熱源機１ａ〜１ｎのいずれか１台が運転している場合の運転継続時間が一定時間以上という条件をチラー散水開始条件の１つの要素として加え、その運転継続時間が予め定めた一定時間に達するごとにチラー散水開始条件が成立したと判定する制御を採用してもよい。また、チラー散水の実行時間が所定時間以上という条件をチラー散水停止条件の１つとして加え、チラー散水の実行時間が所定時間に達した場合にチラー散水停止条件が成立したと判定する制御を採用してもよい。 上記実施形態では、電気伝導率Ｃおよび“直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始された”を逆洗開始条件の要素としたが、電気伝導率Ｃのみを逆洗開始条件の要素とする第１モード、“直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始された”のみを逆洗開始条件の要素とする第２モード、電気伝導率Ｃおよび“直前のチラー洗浄が電気伝導率Ｃに応じて開始された”の両方を逆洗開始条件の要素とする第３モードを用意し、これら第１〜第３モードのいずれかを操作部８１の操作により選定できるようにしてもよい。

上記実施形態では、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上という条件をチラー洗浄開始条件および逆洗開始条件の両方に含めたが、チラー洗浄開始条件については電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１以上という条件を含め、逆洗開始条件については電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１より所定値ΔＣｓだけ少し高い設定値“Ｃｓ１＋ΔＣｓ”以上という条件を含める制御としてもよい。

上記実施形態では、チラー洗浄の開始から一定時間ｔ１が経過したところでチラー洗浄を終了したが、それに限らず、電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１未満に低下した場合にチラー洗浄を終了し、かつ電気伝導率Ｃが特定値Ｃｓ１未満に低下しないまま一定時間ｔ１が経過した場合にチラー洗浄を終了する制御としてもよい。

上記各実施形態では、空冷式熱源機１ａ〜１ｎとしてヒートポンプ式チラーユニットの例を説明したが、空気調和装置の室外ユニットや冷凍・冷蔵ショーケースのコンデンシングユニットでも同様に利用できる。

その他、上記実施形態および変形例は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態および変形例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、書き換え、変更を行うことができる。これら実施形態や変形は、発明の範囲は要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１ａ〜１ｎ…空冷式熱源機、２…圧縮機、３…四方弁、４…空気熱交換器、５…膨張弁、６…外気ファン、７…外気温度センサ、８…水熱交換器、９…ドレンパン、１０…タンク、１１…配管、１２…電磁開閉弁、１３…流量センサ、１４…上下方向配管、１５…ストレーナ（異物収集器）、１６ａ，１６ｂ…圧力センサ、１８…循環ポンプ、２２…電磁開閉弁、２３…ノズル、３１，６１，７１，７３…配管、３３，７２，７４…電磁開閉弁、４０…薬剤容器、５１…水位センサ、５２…電気伝導率センサ、８０…制御部

Claims (8)

1. 空気熱交換器に対する冷却用の液体を収容するタンクと、
   前記冷却用の液体を前記タンクに補給する補給手段と、
   前記タンクの液体を前記空気熱交換器に散布する第１散布手段と、
   前記タンクの液体に対する希釈用の液体を前記空気熱交換器に散布する第２散布手段と、
   前記空気熱交換器から流下する液体を前記タンクに回収する回収手段と、
   前記タンク内の液体の汚れ度合を検出する検出手段と、
   前記検出手段で検出される汚れ度合が第１特定値以上の場合に前記第２散布手段による散布を実行し、この実行にもかかわらず前記検出手段で検出される汚れ度合が前記第１特定値を超えて第２特定値に達した場合に前記補給手段により前記冷却用の液体を前記タンクへ供給する制御手段と、
   を備えることを特徴とする液体散布装置。
2. 前記制御手段は、
   前記空気熱交換器の冷却に関わる第１散布開始条件が成立した場合に、前記第１散布手段による散布を実行し、
   この第１散布手段による散布の終了後、前記検出手段で検出される汚れ度合が前記第１特定値以上という第２散布開始条件が成立する場合に、前記第２散布手段による散布を実行する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の液体散布装置。
3. 前記補給手段は、給水源から導かれる上水を前記冷却用の液体として前記タンクに補給する、
   前記検出手段は、前記タンク内の液体の電気伝導率をその液体の汚れ度合として検出する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の液体散布装置。
4. 前記制御手段は、
   前記第１散布開始条件が成立した場合に前記第１散布手段による散布を開始し、その散布を第１散布停止条件が成立した場合に停止し、
   この第１散布手段による散布の終了後、前記第２散布開始条件が成立する場合に、前記第２散布手段による散布を所定時間にわたり実行する、
   ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の液体散布装置。
5. 前記タンク内の液体の量を検知する検知手段と、
   薬剤を前記タンクに注入する薬剤注入手段と、
   をさらに備え、
   前記制御手段は、前記検知手段の検知結果に応じて前記補給手段による補給を制御するとともに、この補給手段の補給量に応じて前記薬剤注入手段による薬剤の注入を制御する、
   ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液体散布装置。
6. 前記第２散布手段は、給水源から導かれる上水を前記希釈用の液体としてその給水源の給水圧力またはポンプの送水圧力により前記空気熱交換器に散布する、
   ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の液体散布装置。
7. 前記空気熱交換器は、複数の空冷式熱源機がそれぞれ有する複数の空気熱交換器であり、
   前記各空冷式熱源機は、前記各空気熱交換器に外気を通して吸込む外気ファンをそれぞれ有し、
   前記第１散布手段は、前記各空気熱交換器の外面に液体を噴射する複数のノズルを含み、前記タンクの液体をこれらノズルに導いて前記各空気熱交換器に散布する、
   前記第２散布手段は、前記各ノズルを含み、前記希釈用の液体をこれらノズルに導いて前記各空気熱交換器に散布する、
   前記制御手段は、前記第２散布手段による散布の実行中、前記各外気ファンの全てを運転する、
   ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の液体散布装置。
8. 空気熱交換器に対する冷却用の液体を収容するタンクと、
   前記冷却用の液体を前記タンクに補給する補給手段と、
   前記タンクの液体を前記空気熱交換器に散布する第１散布手段と、
   前記タンクの液体に対する希釈用の液体を前記空気熱交換器に散布する第２散布手段と、
   前記空気熱交換器から流下する液体を前記タンクに回収する回収手段と、
   前記タンク内の液体の汚れ度合を検出する検出手段と、
   を備えた液体散布装置の制御方法であって、
   前記検出手段で検出される汚れ度合が第１特定値以上の場合に前記第２散布手段による散布を実行し、この実行にもかかわらず前記検出手段で検出される汚れ度合が前記第１特定値を超えて第２特定値に達した場合に前記補給手段により前記冷却用の液体を前記タンクへ供給する、
   ことを特徴とする液体散布装置の制御方法。

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