JP6972186B2 - 光造形物の製造方法および光造形装置 - Google Patents
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Description
本発明により、前記出射設定素子による繰り返し構造および既に形成された層の上に別の層を繰り返し形成することによる回折の影響を低減することができる。
本発明の第2の態様によると、第1の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理は、前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、前記硬化層形成処理ごとに前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、および、前記第1方向移動処理における前記所定距離を少なくとも二つの異なる値を設定する第1方向移動距離設定、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第2の態様の第1の変形例によると、第1の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理は、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、および、前記第1方向移動処理における前記所定距離を少なくとも二つの異なる値を設定する第1方向移動距離設定、のうち少なくとも一つ、または、これらの組み合わせにより行うことが好ましい。
本発明の第2の態様の第2の変形例によると、第1の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理は、前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、および、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第2の態様の第3の変形例によると、第1の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理は、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、および、前記第1方向移動処理における前記所定距離を少なくとも二つの異なる値を設定する第1方向移動距離設定、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第2の態様の第4の変形例によると、第1の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理は、前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、および、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、のうち少なくとも一つ、かつ、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、および、前記第1方向移動処理における前記所定距離を少なくとも二つの異なる値を設定する第1方向移動距離設定、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第3の態様によると、第1または第2の態様の光造形物の製造方法において、前記出射設定素子は、反射面の向きを独立に設定可能な複数のマイクロミラーを有するマイクロミラー素子であり、前記所望形状の出射領域は、前記複数のマイクロミラーのそれぞれの反射面の方向を制御することにより生成され、前記出射光束は、前記マイクロミラー素子の前記出射領域で反射された反射光束であり、前記照射領域には、前記出射領域に相当する前記マイクロミラーの表面像が形成されることが好ましい。
本発明の第4の態様によると、第2の態様の光造形物の製造方法において、前記拡散素子を通過した前記出射光束の拡散角は8〜12°であることが好ましい。
本発明の第5の態様によると、第1〜4のいずれか一つの態様の光造形体の製造方法において、前記ステージ第1方向移動処理で設定される前記所望距離は少なくとも異なる2値を有する。
本発明の第5の態様の第1の変形例によると、第5の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理はさらに、前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、および、前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、のうち少なくとも一つ、またはこれらの組み合わせにより行うことが好ましい。
本発明の第5の態様の第2の変形例によると、第5の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理はさらに、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、および、前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、のうち少なくとも一つ、またはこれらの組み合わせにより行うことが好ましい。
本発明の第5の態様の第3の変形例によると、第5の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理はさらに、前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、および、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第5の態様の第4の変形例によると、第5の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理はさらに、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、および、前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第5の態様の第5の変形例によると、第5の態様の光造形物の製造方法において、前記照射変動処理はさらに、前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、および、前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、のうち少なくとも一つ、かつ、前記硬化層形成処理において前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、および、前記第1方向移動処理における前記所定距離を少なくとも二つの異なる値を設定する第1方向移動距離設定、のうち少なくとも一つにより行うことが好ましい。
本発明の第6の態様によると、第1〜4のいずれか一つの態様の光造形物の製造方法において、前記ステージ第1方向移動処理で設定される前記所望距離はランダマイズされていることが好ましい。
本発明の第7の態様によると、第6の態様の光造形物の製造方法において、前記ステージ第1方向移動処理で設定される前記所望距離は、Tを一定値、T+αkをk番目の硬化層の厚さに相当する所望距離、αkを確率密度関数Pαのフーリエ変換の確率分布に従ってランダマイズした場合、前記所望距離は、前記ステージ第1方向移動処理ごとに、式(1)を満足するように前記ランダマイズが行われる、光造形物の製造方法であることが好ましい。
Pα(1/T)/Pα(0)≦0.001(Pα(0)≧1) (1)
本発明の第8の態様によると、光造形装置は、光源と、光硬化性樹脂を収容する容器と、前記光源から出射した光が入射され、前記容器に向けて出射する出射光束を生成する出射設定素子と、前記容器の内部に配置され、前記出射光束の進行方向である第1方向に移動可能であって、前記光硬化性樹脂が硬化して生成された硬化層が付着するステージと、前記ステージを駆動する駆動装置と、前記出射光束を前記容器に集光して導入し、照射領域を形成する投影光学系と、第1制御部と、を有する光造形装置であって、前記出射設定素子は、所望形状の出射領域を所望時間維持して生成することが可能であり、前記第1制御部は、前記出射設定素子に対して、所望形状の出射領域を所望時間だけ維持することで、前記出射設定素子から前記所望形状の前記出射光束を前記所望時間だけ維持して出射するように制御する第1の制御と、前記駆動装置に対して、前記所望時間が経過後、前記ステージを前記第1方向に所望距離だけ移動させるように制御する第2の制御と、を行い、前記光造形装置はさらに、前記照射を変動する照射変動装置を有する。
本発明の第9の態様によると、第8の態様の光造形装置において、前記照射変動装置は、前記容器または前記容器との隙間が5mm以下となる位置に備えられ、前記出射光束を拡散角が5°以上25°以下で拡散させる拡散素子、前記ステージの移動を、前記第1方向に垂直な第2方向に制御する第2制御部、前記投影光学系の集光位置を変化させるように制御する第3制御部、および前記投影光学系の集光倍率を変化させるように制御する第4制御部、のうち少なくとも一つであることが好ましい。
本発明の第10の態様によると、第8または9の態様の光造形装置において、前記出射設定素子は、反射面の向きを独立に設定可能な複数のマイクロミラーを有するマイクロミラー素子であり、前記所望形状の前記出射領域は、前記複数のマイクロミラーのそれぞれの反射面の方向を制御することにより生成され、前記出射光束は、前記出射領域で反射された反射光束であり、前記照射領域には、前記出射領域に相当する前記マイクロミラー素子の表面像が結像されることが好ましい。
本発明の第11の態様によると、第9の態様の光造形装置において、前記拡散素子は、前記ステージの表面との隙間が1mm以下となるように備えられ、前記出射光束を拡散角が8°以上12°以下で拡散させることが好ましい。
本発明の第12の態様によると、第8〜11のいずれか一つの態様の光造形装置において、前記第1制御部は、前記第1の制御と前記第2の制御とを交互に繰り返し行うように制御し、かつ、前記第2の制御において少なくとも異なる2値の前記所望距離を設定するように制御することが好ましい。
本発明の第13の態様によると、第8〜11のいずれか一つの態様の光造形装置において、前記第1制御部は、前記所望距離はランダマイズして設定する。
本発明の第14の態様によると、光造形物は、第1〜7のいずれかの態様の光造形物の製造方法により製造され、前記光造形物に光を透過させた場合、回折により発生する1次光の強度は0次光の強度の6%以下、あるいは、好ましくは5%、さらに3%以下である。
本発明の第15の態様によると、第14の態様の光造体において、前記光造形物はレンズであることが好ましい。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態にかかる光造形装置100の構成を示す模式図である。説明の都合上、XYZ座標系を、図1に示す通り、X軸を図の左右方向に、Z軸を図の上下方向に、Y軸をX軸およびZ軸に垂直にそれぞれ設定する。光造形装置100は、光源1と容器2と出射設定素子3とステージ4とステージ駆動装置5と投影光学系6と制御部7と拡散素子8とを主として備える。
変形例1では、投影光学系6による集光位置を光硬化性樹脂からわずかに変化させることで、光硬化性樹脂に形成されるマイクロミラーの二次元配列に相当する規則的な屈折率分布のコントラストを適度に低下させる。すなわち、投影光学系6によるマイクロミラーの像の結像をデフォーカス状態とする。この場合のデフォーカス量は、投影光学系6によるマイクロミラーの像の集光位置を調整して決定されることが好ましい。投影光学系6によるデフォーカス状態と拡散素子8の使用の両方によりマイクロミラーの像のコントラスト程度を調整してもよい。例えば、投影光学系6による集光位置を、ステージ4と容器2の底部との隙間に充填された光硬化性樹脂の位置よりも上側(Z軸+方向)あるいは下側(Z軸−方向)の位置にシフトさせてデフォーカス状態を実現する。シフト量は、投影光学系6による集光位置を、硬化層の厚さの1〜5倍程度、例えば、1.5〜2.5倍程度の量となるように設定することができる。
変形例2では、マイクロミラー素子3のマイクロミラーを微細に振動させ、それにより出射光束を適度に振動させることで、マイクロミラーの像のコントラストの程度を調整する。これにより、光硬化性樹脂に形成されるマイクロミラーの二次元配列に相当する規則的な屈折率分布のコントラストは適度に低下する。マイクロミラーの振動の大きさは、マイクロミラーの二次元配列の両方向の成分を適宜有するように設定されることが望ましい。
変形例3では、光源1、マイクロミラー素子3、投影光学系6、照明光学系9の少なくともいずれか一つを振動させる。これにより、光硬化性樹脂に形成されるマイクロミラーの二次元配列に相当する規則的な屈折率分布のコントラストは適度に低下する。これらの振動の大きさは、マイクロミラーの二次元配列の両方向の成分を適宜有するように設定されることが望ましい。
図3は、本発明の第2の実施形態の光造形装置200を示す模式図である。説明の都合上、XYZ座標系を、図3に示す通り、X軸を図の左右方向に、Z軸を図の上下方向に、Y軸をX軸およびZ軸に垂直にそれぞれ設定する。光造形装置200は拡散素子8を備えていない。また、光造形装置200は、光造形装置100と比べて、ステージ4の表面(図3においては下面)に平行な面内においてステージ4を任意の方向に移動させることが可能な駆動装置50を備えている点で異なる。すなわち、光造形装置200では、ステージ4をXY平面に平行な面に沿って任意の方向に移動させることができる。この任意の方向を本明細書においては第2方向とする。
図5に本発明の第3の実施形態の光造形装置300を模式的に示す。説明の都合上、XYZ座標系を、図5に示す通り、X軸を図の左右方向に、Z軸を図の上下方向に、Y軸をX軸およびZ軸に垂直にそれぞれ設定する。光造形装置300は、光造形装置100と比べて、焦点距離が可変の投影光学系60を備えている点および拡散素子8は備えていない点で異なる。上記の2点以外については、光造形装置300は光造形装置100と実質的に同様である。投影光学系60は電動ズームレンズであり、制御部7によりその焦点距離を調節することが可能である。これにより、投影光学系60がステージ4と容器2の底部との間の隙間に充填された光硬化性樹脂に投影するマイクロミラー素子3のマイクロミラーの像の投影倍率を変更することが可能である。
本実施形態においては、第1の実施形態において説明した光造形装置100から拡散素子8を除いて構成した光造形装置を用いて光造形物を製造する。本実施形態における光造形体の製造手順について次に説明する。光源1から光を出射させ、出射光をマイクロミラー素子3により反射させて所望形状の出射光束を形成し、出射光束を収束させるために投影光学系6を透過させる工程は、第1の実施形態と実質的に同様なので、ここでは説明は省略する。出射光束は投影光学系6により収束された後、ステージ4と容器2の底部との隙間に充填された光硬化性樹脂を照射する。その結果、この隙間のうち、照射領域に相当する領域内の光硬化性樹脂は硬化して1層目の硬化層を形成する。なお、この時のこの隙間の厚さ、すなわち、この時のステージ4の表面と容器2の底部との隙間の距離を第1距離とする。従って、1層目の硬化層の厚さは第1距離に相当する。
Pα(1/T)/Pα(0)≦0.001(Pα(0)≧1) (1)
この式(1)は上記記載の式(1)と同じものである。ここで、Pα(0)≧1、Tは一定値、T+αkはk番目の硬化層の厚さに相当するステージ4の所望移動距離、αkはαkの確率密度関数Pαのフーリエ変換の確率分布に従うランダマイズされた値である。
上記のようにステージ4の移動距離がランダマイズされて設定されることで製造された光造形物は高い光学性能を有する。すなわち、このような光造形物の硬化層の表面に沿う方向に光を入射させることにより硬化層の積層方向に発生する回折光について、一次回折光の強度をゼロ次光の強度に対してより小さい値となるように抑制することができる。
次に、周期的な屈折率分布を有する光造形物に光を入射させた場合における回折光の発生についてのシミュレーションについて説明する。図10は、シミュレーションに用いるモデルを示す模式図である。図10に示すように、このモデルは、単位格子が25μmの周期Tで繰り返し配列し、単位格子の間には幅t=2.5μmの隙間が設けられた構造である。すなわち、このモデルは、光硬化性樹脂層に対して、25μmごとに幅2.5μmの空間が形成された構造を有する。光硬化性樹脂と空間(空気)とが規則的に繰り返す構造は、規則的な屈折率分布に相当する。
位相差Δφをπと仮定した場合、p次回折光の強度は次の式(3)で表すことができる。
ゼロ次光の強度に対する一次回折光の強度の比を式(3)から計算すると、6%を上回ることがわかる。この結果から、このようなモデルに相当する光造形物をレンズやプリズムのような光学要素とした用いた場合、目的とする高い光学性能が得られないことが推定できる。
ここで、Pα(γ)はαkの確率蜜関数、Uwithout randomizationは基本構造モデル(ランダマイズしない場合)の回折効率を表す。αkが[−α/2,α/2]の範囲に均等に分布する場合には、確率密度関数のフーリエ変換は、回折効率は次の式(5)で表すことができる。ここで、Pα(γ)= sinc(αγ)である。
αkが平均値ゼロの正規分布である場合には、確率密度関数のフーリエ変換は、
であり、回折効率は次の式(6)で表すことができる。
Pα(1/T)/Pα(0)≦0.001(Pα(0)≧1) (1)
4…ステージ、
5、50…駆動装置、
6、60…投影光学系、
7…制御部、
Claims (7)
- 光源から出射した光を、繰り返し構造を有し、かつ所望形状の出射領域を生成して前記所望形状の出射領域を所望時間維持する出射設定素子に入射させて出射光束を生成する出射光束生成処理と、
前記出射光束を、投影光学系を通して、内部に光硬化性樹脂が収容され、かつ、ステージが配置された容器の内部に導入して前記出射光束を集光することで、前記出射領域に対応して形成された照射領域に硬化層を形成する硬化層形成処理と、
前記ステージを前記出射光束の進行方向である第1方向に所望距離だけ移動させるステージ第1方向移動処理と、を有し、
前記出射光束生成処理と、前記硬化層形成処理と、前記ステージ第1方向移動処理とを順次実行することで、前記ステージの表面に光造形物を生成する、光造形物の製造方法であって、
前記光造形物の製造方法はさらに、前記硬化層形成処理において、前記照射を変動する照射変動処理を有し、
前記照射変動処理は、
前記容器または容器の近傍に配置された拡散素子に前記出射光束を通過させることによる、前記出射光束の拡散角5〜25°の拡散、
前記硬化層形成処理において、前記第1方向に垂直な第2方向に前記ステージを移動させるステージ第2方向移動、
前記投影光学系による前記出射光束の集光位置を、前記硬化層が形成されるべき位置からずれるように調整する集光位置調整、
前記硬化層形成処理ごとに、前記投影光学系の集光倍率を各硬化層形成処理ごとに変化させる集光倍率変化、および、
前記ステージ第1方向移動処理における前記所望距離を、少なくとも二つの異なる値を設定する第1方向移動距離設定、
のうち少なくとも一つにより行い、
前記出射設定素子は、反射面の向きを独立に設定可能な複数のマイクロミラーを有するマイクロミラー素子であり、
前記所望形状の出射領域は、前記複数のマイクロミラーのそれぞれの反射面の方向を制御することにより生成され、
前記出射光束は、前記マイクロミラー素子の前記出射領域で反射された反射光束であり、
前記照射領域には、前記出射領域に相当する前記マイクロミラーの表面像が形成され、
前記拡散素子を通過した前記出射光束の拡散角は8〜12°である、光造形物の製造方法。 - 請求項1に記載の光造形物の製造方法であって、
前記ステージ第1方向移動処理で設定される前記所望距離は少なくとも異なる2値を有する、光造形物の製造方法。 - 請求項1に記載の光造形物の製造方法であって、
前記ステージ第1方向移動処理で設定される前記所望距離はランダマイズされている、光造形物の製造方法。 - 請求項3に記載の光造形物の製造方法であって、
前記ランダマイズは、
前記ステージ第1方向移動処理で設定される前記所望距離は、Tを一定値、T+αkをk番目の硬化層の厚さに相当する所望距離、αkを確率密度関数Pαのフーリエ変換の確率分布に従うランダマイズされた値とした場合、前記所望距離は、前記ステージ第1方向移動処理ごとに、式(1)を満足する、光造形物の製造方法。
Pα(1/T)/Pα(0)≦0.001(Pα(0)≧1) (1)
ここで、Pα(1/T)は、一次回折光の確率密度関数のフーリエ変換であり、Pα(0)は、ゼロ次回折光の確率密度関数のフーリエ変換である。 - 光源と、
光硬化性樹脂を収容する容器と、
前記光源から出射した光が入射され、前記容器に向けて出射する出射光束を生成する出射設定素子と、
前記容器の内部に配置され、前記出射光束の進行方向である第1方向に移動可能であって、前記光硬化性樹脂が硬化して生成された硬化層が付着するステージと、
前記ステージを駆動する駆動装置と、
前記出射光束を前記容器に集光して導入し、照射領域を形成する投影光学系と、
第1制御部と、を有する光造形装置であって、
前記出射設定素子は、所望形状の出射領域を所望時間維持して生成することが可能であり、
前記第1制御部は、
前記出射設定素子に対して、所望形状の出射領域を所望時間だけ維持することで、前記出射設定素子から前記所望形状の前記出射光束を前記所望時間だけ維持して出射するように制御する第1の制御と、
前記駆動装置に対して、前記所望時間が経過後、前記ステージを前記第1方向に所望距離だけ移動させるように制御する第2の制御と、を行い、
前記光造形装置はさらに、前記照射を変動する照射変動装置を有し
前記照射変動装置は、
前記容器または前記容器との隙間が5mm以下となる位置に備えられ、前記出射光束を拡散角が5°以上25°以下で拡散させる拡散素子、
前記ステージの移動を、前記第1方向に垂直な第2方向に制御する第2制御部、
前記投影光学系の集光位置を変化させるように制御する第3制御部、
前記投影光学系の集光倍率を変化させるように制御する第4制御部、および
前記第2の制御において、前記所望距離を少なくとも異なる2値に設定するように制御する第5制御部、
のうち少なくとも一つを含み
前記出射設定素子は、反射面の向きを独立に設定可能な複数のマイクロミラーを有するマイクロミラー素子であり、
前記所望形状の前記出射領域は、前記複数のマイクロミラーのそれぞれの反射面の方向を制御することにより生成され、
前記出射光束は、前記出射領域で反射された反射光束であり、
前記照射領域には、前記出射領域に相当する前記マイクロミラー素子の表面像が結像され、
前記拡散素子は、前記ステージの表面との隙間が1mm以下となるように備えられ、前記出射光束を拡散角が8°以上12°以下で拡散させる、光造形装置。 - 請求項5に記載の光造形装置において、
前記第1制御部は、前記第1の制御と前記第2の制御とを交互に繰り返し行うように制御する、光造形装置。 - 請求項5又は6に記載の光造形装置において、
前記第1制御部は、前記所望距離をランダマイズして設定する、光造形装置。
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