JP6964340B2 - 直線発生方法及び直線発生装置 - Google Patents
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Description
D1(L)=d+2Ltanθ=d+2Lθ=d+2L(λ/d) (式1)
と表される。
距離Lでの照射場所のビーム径D1(L)がレーザ発生装置200だけによるスポット径になる。
D2(L)=2L(λ/R) (式2)
と表される。
(式2)から分かるように、アラゴスポットの大きさは、直径Rを大きくすればゼロに近づく。
100a:直線発生装置
100b:直線発生装置
100c:球体の位置ズレ検出装置
200:レーザ発生装置
300:レーザ光
300a:レーザ光
300b:レーザ光
310:回折光
400:照射場所
400a:検出器
410:アラゴスポット
420:基準点
500:球体
500a:円板
510:中心線
600:ビーム拡大機
610:レンズ
Claims (9)
- コヒーレント光を球体に照射し、前記球体の陰の縁の外周から回折した光が干渉することで前記球体の影内に生じた輝点の位置によって、前記コヒーレント光が照射された方向の直線位置を取得する方法であって、
前記コヒーレント光の射出位置における径よりも前記球体の直径を大きくすることにより、前記コヒーレント光を直接に到達位置まで照射したときの径よりも小さい範囲で前記直線位置を特定する、
ことを特徴とする直線発生方法。 - コヒーレント光を発生するコヒーレント光発生手段と、
前記コヒーレント光発生手段で発生させたコヒーレント光が照射される球体と、
前記球体の陰の縁の外周から回折した光が干渉することで前記球体の影内に生じた輝点の位置によって、前記コヒーレント光が照射された方向の直線位置を取得する検出器と、を有し、
前記検出器は、前記コヒーレント光の射出位置における径よりも前記球体の直径を大きくすることにより、前記コヒーレント光を直接に到達位置まで照射したときの径よりも小さい範囲で前記直線位置を特定する、
ことを特徴とする直線発生装置。 - 前記コヒーレント光は、ビーム拡大機で拡大された上で前記球体に照射される、
ことを特徴とする請求項2に記載の直線発生装置。 - 前記コヒーレント光は、発散光にされて前記球体に照射される、
ことを特徴とする請求項2又は3に記載の直線発生装置。 - 前記球体は不透明である、
ことを特徴とする請求項2乃至4の何れか一に記載の直線発生装置。 - 前記球体を円板に変えて前記コヒーレント光が前記円板に照射される、
ことを特徴とする請求項2乃至5の何れか一に記載の直線発生装置。 - 前記球体を陰の縁が円である障害物に変えて前記コヒーレント光が前記障害物に照射される、
ことを特徴とする請求項2乃至5の何れか一に記載の直線発生装置。 - 前記障害物は、陰の縁の50%以上が円弧である、
ことを特徴とする請求項7に記載の直線発生装置。 - 前記検出器の基準点と、前記検出器で特定された直線位置を比較することにより、前記球体の位置ズレを検出する、
ことを特徴とする請求項2乃至8の何れか一に記載の直線発生装置。
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JP2018096085A JP6964340B2 (ja) | 2018-05-18 | 2018-05-18 | 直線発生方法及び直線発生装置 |
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JP2019200176A JP2019200176A (ja) | 2019-11-21 |
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Family Cites Families (3)
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2018
- 2018-05-18 JP JP2018096085A patent/JP6964340B2/ja active Active
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