JP6954928B2 - ブリュースター角における二重波長シフトによる非接触温度測定 - Google Patents
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Claims (15)
- 内部空間を画定するハウジング及び窓と、
前記窓の下の、前記内部空間に配置された2つ以上の光源であって、前記2つ以上の光源の第1の光源が第1の波長を有し、前記2つ以上の光源の第2の光源が第2の波長を有する、2つ以上の光源と、
前記2つ以上の光源の反対側に配置され、かつ前記2つ以上の光源からの2つ以上の光線の複数のフレームを捕捉するように構成されたカメラと、
前記2つ以上の光線の光路内に配置された偏光子
を含む、温度モニタリングシステム。 - 前記偏光子と前記窓との間に位置付けられ、かつ前記光路内に配置されたコリメータと、
前記コリメータと前記窓との間の前記光路内に配置され、かつ前記光線がブリュースター角に等しい入射角を生成するように、前記コリメータによって方向付けられた光を基板の底面に向けて反射するように構成された第1のミラーと、
前記第1のミラーの反対側に配置され、かつ前記2つ以上の光線を前記カメラに方向付けるように構成された第2のミラーと
を更に含む、請求項1に記載の温度モニタリングシステム。 - 前記コリメータと前記第1のミラーとの間の前記光路内に配置され、かつ前記第1のミラーの領域に前記2つ以上の光線を集束するように構成された集束レンズを更に含む、請求項2に記載の温度モニタリングシステム。
- 前記第2のミラーと前記カメラとの間に配置され、かつ前記2つ以上の光線を前記カメラに方向付けるように構成された、もう1つのコリメータ
を更に含む、請求項2に記載の温度モニタリングシステム。 - 前記2つ以上の光線と前記基板との前記入射角が変更されうるように、前記第1のミラーが移動可能である、請求項2に記載の温度モニタリングシステム。
- 前記基板から反射された前記2つ以上の光線を受け取り、前記2つ以上の光線を前記カメラに方向付けることができるように、前記第2のミラーが移動可能である、請求項2に記載の温度モニタリングシステム。
- 前記2つ以上の光源の各々が、光を物体に方向付け、前記光が、複数の入射角を含む、請求項1に記載の温度モニタリングシステム。
- 前記カメラが、基板の温度を決定するために、前記カメラによって捕捉された前記2つ以上の光線の波長を使用するように構成されるコントローラに結合される、請求項1に記載の温度モニタリングシステム。
- 内部空間を画定するチャンバ本体と、
前記内部空間内に配置され、かつ処理中に基板を支持するように構成された基板支持体と、
前記チャンバ本体に結合され、かつ放射熱を前記基板の上面に方向付けるように構成された放射加熱装置と、
前記放射加熱装置の反対側の、前記内部空間内に配置された温度モニタリングシステムと
を含み、前記温度モニタリングシステムが、
内部空間を画定するハウジング及び窓と、
前記窓の下の、前記内部空間内に配置された2つ以上の光源であって、光線が基板とのブリュースター角に等しい入射角を生成するように、前記基板の底面に光を方向付けるよう各々が構成された、2つ以上の光源と、
前記2つ以上の光源の反対側に配置され、かつ前記2つ以上の光源からの2つ以上の光線の複数のフレームを捕捉するように構成されたカメラと、
前記2つ以上の光線の光路内に配置された偏光子と
を含む、熱処理チャンバ。 - 前記偏光子と前記窓との間に位置付けられ、かつ前記光路内に配置されたコリメータと、
前記コリメータと前記窓との間の前記光路内に配置され、かつ前記光線がブリュースター角に等しい入射角を生成するように、前記コリメータによって方向付けられた光を前記基板の底面に向けて反射するように構成された第1のミラーと、
前記第1のミラーの反対側に配置され、かつ前記2つ以上の光線を前記カメラに方向付けるように構成された第2のミラーと
を更に含む、請求項9に記載の熱処理チャンバ。 - 前記コリメータと前記第1のミラーとの間の前記光路内に配置され、かつ前記第1のミラーの領域に前記2つ以上の光線を集束するように構成された集束レンズを更に含む、請求項10に記載の熱処理チャンバ。
- 前記第2のミラーと前記カメラとの間に配置され、かつ前記2つ以上の光線を前記カメラに方向付けるように構成された、もう1つのコリメータ
を更に含む、請求項10に記載の熱処理チャンバ。 - 前記2つ以上の光線と前記基板との前記入射角が変更されうるように、前記第1のミラーが移動可能である、請求項10に記載の熱処理チャンバ。
- 前記第2のミラーが、前記基板から反射された前記2つ以上の光線を受け取り、前記2つ以上の光線を前記カメラに方向付けることができるように、前記第2のミラーが移動可能である、請求項10に記載の熱処理チャンバ。
- 基板の温度をモニタリングする方法であって、
2つ以上の光源から前記基板の底面に2つ以上の光線を供給することであって、前記2つ以上の光線がブリュースター角で前記基板の底面に接触する、供給することと、
前記基板の前記底面から反射された前記2つ以上の光線を、前記光線の複数のフレームを捕捉するように構成されたカメラに捕捉することと、
コントローラが、前記2つ以上の光線の波長に基づいて、前記基板の温度を決定することができるように、前記光線の前記複数のフレームを前記コントローラと通信することと、
前記決定された温度に基づいて、前記基板のプロセスパラメータを調整することと
を含む方法。
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