JP6950323B2 - Transparent antistatic packaging material and packaging bag using the packaging material - Google Patents

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Description

本発明は、帯電防止特性と透明性とを備えたヒートシール性を有する包装材料及び該包装材料を用いた包装袋に関し、詳細には、該包装材料は、基材層とシーラント層と無機蒸着層とを有する包装材料であって、該シーラント層は少なくとも帯電防止シーラント層を有し、該帯電防止シーラント層は包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層である、透明帯電防止包装材料に関する。該透明帯電防止包装材料は、各種包装袋やキャリアテープのカバーテープ材等の包装材料に用いることができ、包装される物品には、半導体、IC部品及びこれらを用いた成品、並びに液晶表示用部品、液晶製品、注射器や医薬品の医療関連物品、自動車用部品等が挙げられる。 The present invention relates to a packaging material having heat-sealing properties having antistatic properties and transparency, and a packaging bag using the packaging material. Specifically, the packaging material includes a base material layer, a sealant layer, and an inorganic vapor deposition. A packaging material having a layer, wherein the sealant layer has at least an antistatic sealant layer, and the antistatic sealant layer is the outermost surface layer on a surface opposite to the base material layer of the packaging material. Regarding preventive packaging materials. The transparent antistatic packaging material can be used for packaging materials such as various packaging bags and cover tape materials for carrier tapes, and the articles to be packaged include semiconductors, IC parts, products using these, and liquid crystal displays. Examples include parts, liquid crystal products, medical-related articles such as syringes and pharmaceuticals, and automobile parts.

従来より、各種部品、固形あるいは液状の食品等を、合成樹脂製容器に収納して開口部を蓋材により密封したり、袋体に収納して密封し、流通、保管することが行われている。
包装体としては、例えば、1種の包装材料を折ってヒートシール(熱融着)して作製された袋状の包装体(包装袋)や、素材の異なる底材と蓋材とをヒートシールして密封したエンボスキャリアテープ型テーピングのようなものもある。
Conventionally, various parts, solid or liquid foods, etc. have been stored in a synthetic resin container and the opening has been sealed with a lid material, or stored in a bag and sealed, distributed and stored. There is.
Examples of the packaging include a bag-shaped packaging (packaging bag) made by folding and heat-sealing one type of packaging material, and heat-sealing a bottom material and a lid material made of different materials. There is also something like embossed carrier tape type taping that is sealed.

包装材料の素材構成としては、エンボスキャリアテープ型テーピングに使用されるキャリアテープ(底材)は、従来、ポリ塩化ビニル等のシート成形が容易な材料を用いて形成され、近年、塩化ビニル樹脂については廃棄の問題があることから、ポリスチレン樹脂をキャリアテープに用いる指向が高まっている。一方、エンボスキャリアテープ型テーピングに使用されるカバーテープ(蓋材)や上記の袋状の包装体は、例えば、二軸延伸樹脂フィルムを含み、片面にシーラント層を備えた、包装材料からなっている。 As for the material composition of the packaging material, the carrier tape (bottom material) used for the embossed carrier tape type taping has conventionally been formed by using a material such as polyvinyl chloride that can be easily formed into a sheet. Due to the problem of disposal, there is an increasing tendency to use polystyrene resin for carrier tape. On the other hand, the cover tape (cover material) used for the embossed carrier tape type taping and the above-mentioned bag-shaped package are made of, for example, a packaging material containing a biaxially stretched resin film and having a sealant layer on one side. There is.

包装体には、輸送中や保管中に熱融着部が剥離して収納されている内容物がこぼれ出たりしないように、ヒートシール部分には一定以上の接着強度が要求される。そして同時に、一旦収納された内容物が容易に取り出されるために、ヒートシール部分は剥離可能であることも要求される。
さらに、収納されている内容物が電子部品等の場合には、電子部品が包装体内壁と接触して発生する静電気、および包装体が剥離される際に発生する静電気により、電子部品の劣化、破壊が生じる危険性があるため、これを防止する手段が包装材料に要求される。
The heat-sealed portion of the package is required to have a certain level of adhesive strength so that the heat-sealed portion does not peel off during transportation or storage and the stored contents do not spill out. At the same time, the heat-sealed portion is also required to be removable so that the contents once stored can be easily taken out.
Further, when the stored contents are electronic parts or the like, the electronic parts are deteriorated due to the static electricity generated when the electronic parts come into contact with the inner wall of the package and the static electricity generated when the package is peeled off. Since there is a risk of breakage, measures to prevent this are required for packaging materials.

包装材料における静電気対策手段として、界面活性剤等の帯電防止剤、導電性カーボン微粒子、導電性の金属酸化物紛、金属微粒子を包装材料内に練り込んだり、包装材料上に塗布することが行われている。 As an antistatic measure for packaging materials, antistatic agents such as surfactants, conductive carbon fine particles, conductive metal oxide powder, and metal fine particles can be kneaded into the packaging material or applied onto the packaging material. It has been.

また、帯電防止剤としての導電性カーボン微粒子、金属微粒子を含有した包装材料は、透明性が極めて低く、包装体に収納されている内容物を外部から視認し難いという問題があった。
十分な透明性と帯電防止性能とを両立するものとして、平均粒径0.1μm以下の金属酸化物微粒子を帯電防止剤として使用する方法(特許文献1)が知られているが、金属酸化物微粒子の形状が球状である場合、十分な帯電防止性能を得るためには金属酸化物微粒子の添加量を多くしなければならず、透明性の低下、着色などの問題があり、十分な両立は達成されなかった。
Further, the packaging material containing conductive carbon fine particles and metal fine particles as an antistatic agent has a problem that the transparency is extremely low and it is difficult to visually recognize the contents stored in the packaging body from the outside.
A method of using metal oxide fine particles having an average particle size of 0.1 μm or less as an antistatic agent is known as a method of achieving both sufficient transparency and antistatic performance (Patent Document 1). When the shape of the fine particles is spherical, the amount of metal oxide fine particles added must be increased in order to obtain sufficient antistatic performance, and there are problems such as deterioration of transparency and coloring. Not achieved.

一方、包装材料の表面抵抗率を109 Ω/□程度の領域に設定しようとした場合、逆に上記従来の金属酸化物微粒子量では実用的に可能な添加量が少ないため、塗膜中において
金属酸化物微粒子同士の接触が不十分となり、塗膜の表面抵抗率が安定しないという問題があった。
On the other hand, when the surface resistivity of the packaging material attempts to set the 10 9 Ω / □ degree of area, since the amount of practically available added is less than the conventional metal oxide fine particles amount Conversely, in the coating film There is a problem that the contact between the metal oxide fine particles is insufficient and the surface resistivity of the coating film is not stable.

また、帯電防止するための界面活性剤を包装材料に塗布した場合は、シーラント層に直接塗布した場合は勿論のこと、シーラント層と反対側の面に塗布した場合でも、巻いたり重ねたりした際に界面活性剤がシーラント層に転写してしまい、シーラント層の表面状態が変化してシーラント層のシール性が不安定になることでシール不良の原因となったり、また、保管中の温度や湿度条件によって静電気拡散効果が大きく変化するため、安定した帯電防止効果が得られないという問題があった。 In addition, when an antistatic surfactant is applied to the packaging material, not only when it is applied directly to the sealant layer, but also when it is applied to the surface opposite to the sealant layer, when it is rolled or stacked. In addition, the surfactant is transferred to the sealant layer, the surface condition of the sealant layer changes, and the sealant property of the sealant layer becomes unstable, which causes sealing failure, and the temperature and humidity during storage. Since the static electricity diffusion effect changes greatly depending on the conditions, there is a problem that a stable antistatic effect cannot be obtained.

特開平7−251860号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-251860

本発明は、良好なヒートシール性と安定した接着性及び良好な剥離性を有し、優れた帯電防止性と透明性とを兼ね備えた、包装材料、包装フィルム、及び包装袋を提供することを目的とする。 The present invention provides a packaging material, a packaging film, and a packaging bag having good heat-sealing property, stable adhesiveness, good peelability, and excellent antistatic property and transparency. The purpose.

本発明の透明帯電防止包装材料は、基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを含み、該シーラント層は包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層に帯電防止シーラント層を有し、前記帯電防止シーラント層が導電性金属酸化物粒子とヒートシール性熱可塑性エラストマーとを含有することによって帯電防止性とヒートシール性を発現するものである。
そして、本発明は、以下の点を特徴とする。
The transparent antistatic packaging material of the present invention includes a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer, and the sealant layer is an antistatic sealant on the outermost surface layer of the surface opposite to the base material layer of the packaging material. It has a layer, and the antistatic sealant layer exhibits antistatic property and heat-sealing property by containing conductive metal oxide particles and a heat-sealing thermoplastic elastomer.
The present invention is characterized by the following points.

1.基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを有する、透明帯電防止包装材料であって、
前記シーラント層は、少なくとも帯電防止シーラント層を有し、
前記帯電防止シーラント層は、前記透明帯電防包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層であり、
前記帯電防止シーラント層は、導電性金属酸化物粒子と、ヒートシール性熱可塑性エラストマーとを含有し、
前記透明帯電防止包装材料の、全光線透過率が、70%以上、95%以下であり、
前記透明帯電防止包装材料の、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度は、0.01g/m2/day/atm以上、2.0g/m2/day/atm以下であり、
前記帯電防止シーラント層の表面抵抗率は、1×107Ω/□以上、1×1010Ω/□以下である、
透明帯電防止包装材料。
2.前記帯電防止シーラント層中の、前記導電性金属酸化物粒子の含有率が、40質量%以上、80質量%以下である、上記1に記載の透明帯電防止包装材料。
3.前記導電性金属酸化物粒子の平均粒径が、長軸方向粒径が0.2μm以上、2.0μm以下であり、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下であり、長軸/短軸比が20以上、30以下である、上記1または2に記載の透明帯電防止包装材料。
4.前記導電性金属酸化物粒子が、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化錫、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、からなる群から選ばれる、1種または2種以上である、上記1〜3の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
5.前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの、ガラス転移温度は、−60℃以上、−
30℃以下である、上記1〜4の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
6.前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張弾性率が、23℃において、1.5MPa以上、10MPa以下である、上記1〜5の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
7.前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーが、SEBS系ブロックポリマーである、上記1〜6の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
1. 1. A transparent antistatic packaging material having a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer.
The sealant layer has at least an antistatic sealant layer and has.
The antistatic sealant layer is the outermost surface layer on the surface opposite to the base material layer of the transparent antistatic packaging material.
The antistatic sealant layer contains conductive metal oxide particles and a heat-sealing thermoplastic elastomer.
The total light transmittance of the transparent antistatic packaging material is 70% or more and 95% or less.
The water vapor transmission rate of the transparent antistatic packaging material in a 40 ° C. 90% RH environment is 0.01 g / m 2 / day / atm or more and 2.0 g / m 2 / day / atm or less.
The surface resistivity of the antistatic sealant layer is 1 × 10 7 Ω / □ or more and 1 × 10 10 Ω / □ or less.
Transparent antistatic packaging material.
2. The transparent antistatic packaging material according to 1 above, wherein the content of the conductive metal oxide particles in the antistatic sealant layer is 40% by mass or more and 80% by mass or less.
3. 3. The average particle size of the conductive metal oxide particles is 0.2 μm or more and 2.0 μm or less in the major axis direction, 0.01 μm or more and 0.02 μm or less in the minor axis direction, and is long. The transparent antistatic packaging material according to 1 or 2 above, wherein the shaft / minor axis ratio is 20 or more and 30 or less.
4. The conductive metal oxide particles are one or more selected from the group consisting of antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, fluorine-doped tin oxide, gallium-doped zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide. The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 3 above.
5. The glass transition temperature of the heat-sealing thermoplastic elastomer is −60 ° C. or higher, −
The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 4 above, which is 30 ° C. or lower.
6. The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 5 above, wherein the heat-sealing thermoplastic elastomer has a tensile elastic modulus of 1.5 MPa or more and 10 MPa or less at 23 ° C.
7. The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 6 above, wherein the heat-sealing thermoplastic elastomer is a SEBS-based block polymer.

本発明によって、良好なヒートシール性と安定した接着性及び良好な剥離性を有し、優れた帯電防止性と透明性とを兼ね備えた、包装材料、包装フィルム、及び包装袋を得ることが出来る。 According to the present invention, it is possible to obtain a packaging material, a packaging film, and a packaging bag, which have good heat-sealing property, stable adhesiveness, and good peelability, and have excellent antistatic property and transparency. ..

本発明の透明帯電防止包装材料の積層構造の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the laminated structure of the transparent antistatic packaging material of this invention. 本発明の透明帯電防止包装材料の積層構造の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the laminated structure of the transparent antistatic packaging material of this invention.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。また、本発明は、以降の列記された諸々の具体例や図に限定されるものでは無い。
図1及び図2は本発明の包装材料の積層構造の例を示す断面図である。図1における積層構造は、基材層、無機蒸着層、接着剤層、絶縁性シーラント層、帯電防止シーラント層が順に積層された層構成である。図2における積層構成は、図1で示した包装材料に中間層及び中間層を接着する為の接着剤層が加えられた層構成である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Further, the present invention is not limited to the various specific examples and figures listed below.
1 and 2 are cross-sectional views showing an example of a laminated structure of the packaging material of the present invention. The laminated structure in FIG. 1 is a layer structure in which a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, an adhesive layer, an insulating sealant layer, and an antistatic sealant layer are laminated in this order. The laminated structure in FIG. 2 is a layer structure in which an intermediate layer and an adhesive layer for adhering the intermediate layer are added to the packaging material shown in FIG.

本発明の包装材料は、基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを含み、該シーラント層は包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層に帯電防止シーラント層を含むが、これら以外にも、中間層や、接着剤層、通常の絶縁性シーラント層を含むこともできる。
本発明の透明帯電防止包装材料は、透明であり、JIS K7361−1に従った全光線透過率は、70%以上、95%以下であり、好ましくは80%以上、93%以下である。本発明の透明帯電防止包装材料の内容物に印刷されたバーコードを読み取る際に、包装材料が透明であれば目視によって正しい位置に入力端末を当て、且つ正確に読み取ることが可能であり、輸出時の税関においても開封せずに通関処理が可能になる。上記波長のレーザー光の透過率が上記範囲よりも低いと読み取りエラーが発生し易く、上記範囲よりも透過率が高い場合には帯電防止性とのバランスが困難になり易い。
The packaging material of the present invention includes a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer, and the sealant layer contains an antistatic sealant layer on the outermost surface layer of the surface opposite to the base material layer of the packaging material. However, in addition to these, an intermediate layer, an adhesive layer, and a normal insulating sealant layer can also be included.
The transparent antistatic packaging material of the present invention is transparent, and the total light transmittance according to JIS K7361-1 is 70% or more and 95% or less, preferably 80% or more and 93% or less. When reading the barcode printed on the contents of the transparent antistatic packaging material of the present invention, if the packaging material is transparent, the input terminal can be visually applied to the correct position and read accurately, and it can be exported. Customs clearance can be done without opening the package even at the customs office of the time. If the transmittance of the laser light having the above wavelength is lower than the above range, a reading error is likely to occur, and if the transmittance is higher than the above range, it tends to be difficult to balance with the antistatic property.

本発明の包装材料をヒートシールする際の温度は100℃以上、180℃以下が好ましく、120℃以上、160℃以下が更に好ましい。上記範囲未満の温度では、十分な溶融状態が得られず、ヒートシール性が低下し、また、シーラント層の厚みが不均一になり易い。上記範囲よりも高い温度では、溶融粘度が低くなり過ぎて、シーラント層の厚みの調整が困難になり易い。 The temperature at which the packaging material of the present invention is heat-sealed is preferably 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and more preferably 120 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. If the temperature is lower than the above range, a sufficient molten state cannot be obtained, the heat sealability is lowered, and the thickness of the sealant layer tends to be uneven. If the temperature is higher than the above range, the melt viscosity becomes too low, and it tends to be difficult to adjust the thickness of the sealant layer.

本発明の透明帯電防止包装材料の、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度は、0.01g/m2/day/atm以上、2.0g/m2/day/atm以下であることが好ましく、0.1g/m2/day/atm以上、1.0g/m2/day/atm以下であることがより好ましい。
包装される内容物が電子部品や薬品等の場合に、低湿度下で保管されることが好ましいものがあり、包装後の外部環境からの湿気の流入を防止する必要がある。
水蒸気透過度が上記範囲よりも大きいと、内容物が湿気の影響を受け易くなり、上記範囲よりも小さい場合には、透明性やレーザー光透過率とのバランスを採ることが困難になり易い。
次に、本発明の包装材料の各層について説明する。
The water vapor transmission rate of the transparent antistatic packaging material of the present invention in a 40 ° C. and 90% RH environment is 0.01 g / m 2 / day / atm or more and 2.0 g / m 2 / day / atm or less. It is more preferably 0.1 g / m 2 / day / atm or more and 1.0 g / m 2 / day / atm or less.
When the contents to be packaged are electronic parts, chemicals, etc., it is preferable to store them under low humidity, and it is necessary to prevent the inflow of moisture from the external environment after packaging.
If the water vapor transmission rate is larger than the above range, the contents are easily affected by moisture, and if it is smaller than the above range, it tends to be difficult to balance the transparency and the laser light transmittance.
Next, each layer of the packaging material of the present invention will be described.

<基材層>
基材層としては、化学的または物理的強度に優れ、無機蒸着膜を形成する条件等に耐え、それら無機蒸着膜等の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる金属、金属酸化物等の無機材料、樹脂等の有機材料を、例えばフィルムやシートとして使用することができる。尚、本発明においては、フィルムなる語を、フィルムとシートを含む総称として記載する。
基材層として好ましく使用されるフィルムの具体例としては、紙、アルミニウム箔、樹脂フィルムが挙げられる。
基材層としては、単層フィルムまたは多層積層フィルムが用いられるが、特に限定されず、各種包装材料に用いられる任意のフィルムを使用することができる。これらの中から、包装する内容物の種類や充填後の加熱処理の有無等の使用条件に応じて、適するものを自由に選択して使用する。
<Base layer>
As the base material layer, a metal or metal oxide which is excellent in chemical or physical strength, can withstand the conditions for forming an inorganic vapor-deposited film, and can be well retained without impairing the characteristics of the inorganic-deposited film or the like. Inorganic materials such as, and organic materials such as resins can be used, for example, as films and sheets. In the present invention, the term film is described as a general term including a film and a sheet.
Specific examples of the film preferably used as the base material layer include paper, aluminum foil, and a resin film.
As the base material layer, a single-layer film or a multilayer laminated film is used, but is not particularly limited, and any film used for various packaging materials can be used. From these, a suitable one is freely selected and used according to the usage conditions such as the type of contents to be packaged and the presence or absence of heat treatment after filling.

(樹脂フィルム)
樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、セロファン、ポリアミド系樹脂(ナイロン6、ナイロン66、MXD6(ポリメタキシリレンアジパミド)等)、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)等)、ポリオレフィン系樹脂(低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリプロピレン、酸変性ポリオレフィン系樹脂等)、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテン、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリアリレート(PA)、ポリエステルエーテル(PEE)、ポリアミドイミド(PAI)等が挙げられる。
(Resin film)
As the resin used for the resin film, cellophane, polyamide resin (nylon 6, nylon 66, MXD6 (polymethoxylylen adipamide), etc.), polyester resin (polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.) (PEN), etc.), Polyethylene-based resins (low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, polypropylene, polybutene, polypropylene, acid-modified polyolefin-based resins, etc.), polystyrene-based resins, polyurethane-based resins, Acetal resin, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene, Polyacrylonitrile, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polycarbonate, polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), vinylidene fluoride (PVDF), ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), Polytetrafluoroethylene (PTFE), Polygonic (PI), Polyethersulfone (PES), Polyetheretherketone (PEEK), Polyetherimide (PEI), Polyphenylene sulfide (PPS), Polyarylate (PA) , Polyester ether (PEE), Polyamiimide (PAI) and the like.

基材層に用いる樹脂のフィルムは、例えば、前記の樹脂の群から選ばれる1種又は2種以上の樹脂を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレーション法等従来から使用されている製膜化法により、又は、2種以上の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化法により複合フィルムを製造することができる。さらに、フィルムの強度、寸法安定性、耐熱性の観点から、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸することができる。耐熱性を付与したい場合には2軸方向に延伸することが好ましい。 As the resin film used for the base material layer, for example, one kind or two or more kinds of resins selected from the above-mentioned resin group are used, and conventional methods such as extrusion method, cast molding method, T-die method, cutting method, and inflation method are used. A composite film can be produced by the film-forming method used from the above, or by the multilayer co-extrusion film-forming method using two or more kinds of resins. Further, from the viewpoint of film strength, dimensional stability, and heat resistance, the film can be stretched in the uniaxial or biaxial directions by using, for example, a tenter method or a tubular method. When it is desired to impart heat resistance, it is preferable to stretch in the biaxial direction.

また特に、シリカ蒸着PET、アルミナ蒸着二軸延伸PETなどの、透明蒸着PET、アルミニウム蒸着二軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPP)等が好適である。更に、ナイロンフィルム等を併用することがより好適である。 Further, in particular, transparent vapor-deposited PET such as silica-deposited biaxially stretched PET and alumina-deposited biaxially stretched PET, aluminum-deposited biaxially stretched polypropylene film (OPP) and the like are suitable. Further, it is more preferable to use a nylon film or the like together.

基材層の厚さは、任意に選択し得るが、成形性や透明性の観点から、1μmから300μm位の範囲から選択して使用することができ、1μm以上、100μm以下の範囲が好ましい。これより薄いと、強度が不足し、またこれより厚いと、剛性が高くなりすぎて、加工が困難になり得る。 The thickness of the base material layer can be arbitrarily selected, but from the viewpoint of moldability and transparency, it can be selected and used from a range of about 1 μm to 300 μm, and a range of 1 μm or more and 100 μm or less is preferable. If it is thinner than this, the strength is insufficient, and if it is thicker than this, the rigidity becomes too high and processing may become difficult.

また、基材層及び基材層を構成するフィルムは、積層時の密着性を向上させるために、ラミネートあるいは蒸着前に、積層させる表面に、必要に応じて、予め、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的な処理や、化学薬品を用いた酸化処理などの化学的な処理や、接着剤層、プライマーコート剤層、アンダーコート層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層等を形成する処理、及びその他処理を施してもよい。 Further, in order to improve the adhesion at the time of laminating, the base material layer and the film constituting the base material layer are subjected to corona discharge treatment and ozone treatment in advance on the surface to be laminated before laminating or vapor deposition, if necessary. , Low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, physical treatment such as glow discharge treatment, chemical treatment such as oxidation treatment using chemicals, adhesive layer, primer coating agent layer, under A treatment for forming a coating layer, a vapor deposition anchor coating agent layer, or the like, and other treatments may be performed.

基材層に用いる樹脂フィルムには、必要に応じて、加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料等のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量は、他の性能に悪影響を与えない範囲で目的に応じて、任意に添加することができる。 The resin film used for the base material may have workability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness, releasability, flame retardancy, and antifungal properties, if necessary. , Plastic compounding agents such as lubricants, cross-linking agents, antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, etc. for the purpose of improving and modifying electrical properties, strength, etc. Additives and the like can be added, and the amount of the additive can be arbitrarily added according to the purpose as long as it does not adversely affect other performance.

(無機蒸着層)
無機蒸着層は、水蒸気等の透過を防ぐガスバリア性を有するバリア膜であり、無機物または無機酸化物からなる蒸着膜が挙げられる。
無機蒸着層は、アルミニウム蒸着層、アルミナ蒸着層、及び、シリカ蒸着層、なる群から選ばれる1種または2種以上を有する層であることが好ましく、特に、アルミナ蒸着層を有することが好ましい。
(Inorganic vapor deposition layer)
The inorganic vapor deposition layer is a barrier membrane having a gas barrier property that prevents the permeation of water vapor and the like, and examples thereof include a vapor deposition film made of an inorganic substance or an inorganic oxide.
The inorganic vapor deposition layer is preferably a layer having one or more selected from the group consisting of an aluminum vapor deposition layer, an alumina vapor deposition layer, and a silica vapor deposition layer, and particularly preferably has an alumina vapor deposition layer.

無機蒸着層は、基材層を構成するフィルム上、中間層を構成するフィルム上、シーラント層を構成するフィルム上の何れにも、直接設けることができる。例えば、好ましくは、基材層や中間層のPETフィルム上に構成される。
更に、必要に応じて、紫外線等の透過を阻止する遮光性を付与することもできる。また、無機蒸着層は1層または2層以上で構成されていてもよい。2層以上で構成される場合は、それぞれが同一の組成であってもよいし、異なる組成であってもよい。
The inorganic vapor deposition layer can be directly provided on the film forming the base material layer, the film forming the intermediate layer, or the film forming the sealant layer. For example, it is preferably formed on a PET film of a base material layer or an intermediate layer.
Further, if necessary, it is possible to impart a light-shielding property that blocks the transmission of ultraviolet rays and the like. Further, the inorganic vapor deposition layer may be composed of one layer or two or more layers. When composed of two or more layers, each may have the same composition or may have a different composition.

無機蒸着層の厚さは、好ましくは1nm以上、200nm以下であり、更に好ましい厚みは蒸着種によって異なるが、アルミニウム蒸着膜の場合には、更に好ましくは1nm以上、100nm以下であり、また更に好ましくは15nm以上、60nm以下であり、特に好ましくは10nm以上、40nm以下である。シリカ蒸着膜またはアルミナ蒸着膜の場合には、更に好ましくは1nm以上、100nm以下であり、また更に好ましくは5nm以上、50nm以下であり、特に好ましくは10nm以上、30nm以下である。 The thickness of the inorganic thin-film deposition layer is preferably 1 nm or more and 200 nm or less, and the more preferable thickness varies depending on the vapor deposition type, but in the case of an aluminum-deposited film, it is more preferably 1 nm or more and 100 nm or less, and even more preferably. Is 15 nm or more and 60 nm or less, and particularly preferably 10 nm or more and 40 nm or less. In the case of a silica-deposited film or an alumina-deposited film, it is more preferably 1 nm or more and 100 nm or less, further preferably 5 nm or more and 50 nm or less, and particularly preferably 10 nm or more and 30 nm or less.

無機蒸着層が、上記範囲よりも薄いと無機蒸着層による十分なガスバリア性を発現し難くなり、上記範囲よりも厚いと透明性が損なわれる傾向にある。
無機蒸着層は、従来公知の無機物または無機酸化物を用いて、従来公知の方法により形成することができ、その組成および形成方法は特に限定されない。
形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびイオンプレーティング法等の物理気相成長法(PhysicalVaporDeposition法、PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、および光化学気相成長法等の化学気相成長法(ChemicalVaporDeposition法、CVD法)等を挙げることができる。
If the inorganic vapor deposition layer is thinner than the above range, it becomes difficult for the inorganic vapor deposition layer to exhibit sufficient gas barrier properties, and if it is thicker than the above range, transparency tends to be impaired.
The inorganic vapor deposition layer can be formed by a conventionally known method using a conventionally known inorganic substance or an inorganic oxide, and the composition and the forming method thereof are not particularly limited.
Examples of the forming method include a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method, a thermochemical vapor deposition method, and the like. And a chemical vapor deposition method (Chemical Vapor Deposition method, CVD method) such as a photochemical vapor deposition method can be mentioned.

<中間層>
中間層は、必要に応じて、基材層とシーラント層との中間に設けられる層である。例えば、包装材料の様々な強度を向上させるために、目的に応じた樹脂のフィルムを中間層として含むことができ、文字、図形、記号、その他の所望の絵柄を通常の印刷方式にて任意に形成した印刷層を設けることもできる。用いられるフィルムの種類や積層方法は基材層
と同様である。
また、各種の樹脂を基材層とシーラント層等に塗布することによって形成することも可能である。
<Middle layer>
The intermediate layer is a layer provided between the base material layer and the sealant layer, if necessary. For example, in order to improve various strengths of the packaging material, a resin film according to the purpose can be included as an intermediate layer, and characters, figures, symbols, and other desired patterns can be arbitrarily printed by a usual printing method. The formed print layer can also be provided. The type of film used and the laminating method are the same as those for the base material layer.
It can also be formed by applying various resins to the base material layer, the sealant layer and the like.

<シーラント層>
本発明の包装材料はシーラント層を有し、該シーラント層は、少なくとも帯電防止シーラント層を有し、必要に応じて、絶縁性シーラント層を有する。
<Sealant layer>
The packaging material of the present invention has a sealant layer, which has at least an antistatic sealant layer and, if necessary, an insulating sealant layer.

[帯電防止シーラント層]
帯電防止シーラント層は、包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層であり、導電性金属酸化物粒子がバインダー樹脂中に分散している構成を有し、帯電防止性とヒートシール性を有する層である。
例えば、帯電防止シーラント層が対向するように折られてヒートシールされて形成された包装袋は、帯電防止シーラント層を有することによって、包装袋の内壁において帯電防止性を発現し、収容されている電子部品等が静電気によって破壊されることを防止し得る。
本発明において、帯電防止シーラント層形成の積層方法は特に限定されず、公知または慣用の積層方法を適用することができる。
[Antistatic sealant layer]
The antistatic sealant layer is the outermost surface layer on the surface opposite to the base material layer of the packaging material, and has a structure in which conductive metal oxide particles are dispersed in the binder resin, and has antistatic properties and heat. It is a layer having a sealing property.
For example, a packaging bag formed by folding and heat-sealing the antistatic sealant layers so as to face each other exhibits antistatic properties on the inner wall of the packaging bag by having the antistatic sealant layer, and is housed in the packaging bag. It is possible to prevent electronic parts and the like from being destroyed by static electricity.
In the present invention, the laminating method for forming the antistatic sealant layer is not particularly limited, and a known or conventional laminating method can be applied.

例えば、導電性金属酸化物粒子とバインダー樹脂と溶剤を含む塗布液や組成物を用いて、エアドクター法、ブレードコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、ダイレクトロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の塗布による積層方法や、帯電防止シーラント層を形成する樹脂組成物を、場合により接着層を介して、基材層や中間層上や絶縁性シーラント層上にエクストルージョンコーティングすることによる積層方法や、基材層上に、中間層用樹脂又は樹脂組成物や、絶縁性シーラント層用樹脂又は樹脂組成物と共に、インフレーション法やキャスト法により共押出しによる積層方法や、予め作製しておいた帯電防止シーラント層用フィルムやシートを接着層を介して貼りつけることによる積層方法、等が挙げられる。 For example, using a coating liquid or composition containing conductive metal oxide particles, a binder resin and a solvent, an air doctor method, a blade coating method, a knife coating method, a rod coating method, a direct roll coating method, a reverse roll coating method, etc. A laminating method by coating such as a gravure coating method or a slide coating method, or a resin composition forming an antistatic sealant layer is extracted on a base material layer, an intermediate layer, or an insulating sealant layer, sometimes via an adhesive layer. Laminating method by rouge coating, laminating method by co-extrusion by inflation method or casting method together with resin or resin composition for intermediate layer, resin or resin composition for insulating sealant layer on the base material layer, Examples thereof include a laminating method in which a film or sheet for an antistatic sealant layer prepared in advance is attached via an adhesive layer.

帯電防止シーラント層は、上記の中でも、塗布によって形成された塗布膜層であることが好ましい。
また、積層前に、積層対象表面に、必要に応じて、予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施して、接着性を高めても良い。
更に、帯電防止シーラント層には、必要に応じて分散安定剤、ブロッキング防止剤等の添加剤を含有させることができる。
帯電防止シーラント層の厚みは、0.3μm以上、5.0μm以下が好ましく、0.5μm以上、3.0μm以下が更に好ましい。厚みが上記よりも薄いと、ヒートシール時のクッション性が悪くて熱および圧力が均一にかかり辛くなり、更にはヒートシール強度が不足し、上記よりも厚いと、ヒートシールするときの必要熱量が大きくなり、高速ヒートシールが困難となり生産性が低下する。
Among the above, the antistatic sealant layer is preferably a coating film layer formed by coating.
Further, before laminating, the surface to be laminated may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance, if necessary, to improve the adhesiveness.
Further, the antistatic sealant layer can contain additives such as a dispersion stabilizer and an antiblocking agent, if necessary.
The thickness of the antistatic sealant layer is preferably 0.3 μm or more and 5.0 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 3.0 μm or less. If the thickness is thinner than the above, the cushioning property at the time of heat sealing is poor and it becomes difficult to apply heat and pressure uniformly. Furthermore, if the thickness is thicker than the above, the amount of heat required for heat sealing is required. As the size increases, high-speed heat sealing becomes difficult and productivity decreases.

帯電防止シーラント層の表面抵抗率は、22℃、40%RH下において、1×107Ω/□以上、1×1010Ω/□以下が好ましく、1×108Ω/□以上、1×1010Ω/□以下がさらに好ましい。表面抵抗率が上記範囲をより大きいと、帯電防止効果が極端に悪くなる傾向になり、電子部品等の内容物を静電気障害から保護することが困難になり易く、また、上記範囲よりも小さいと、外部から包装材料を介して電子部品に電気が通電する可能性があり、電子部品が電気的に破壊される危険性があるので好ましくない。 The surface resistivity of the antistatic sealant layer is preferably 1 × 10 7 Ω / □ or more and 1 × 10 10 Ω / □ or less at 22 ° C. and 40% RH, and 1 × 10 8 Ω / □ or more and 1 ×. 10 10 Ω / □ or less is more preferable. If the surface resistivity is larger than the above range, the antistatic effect tends to be extremely deteriorated, and it tends to be difficult to protect the contents such as electronic parts from electrostatic damage, and if it is smaller than the above range. , It is not preferable because there is a possibility that electricity is energized to the electronic component from the outside through the packaging material and there is a risk that the electronic component is electrically destroyed.

(バインダー樹脂)
帯電防止シーラント層に用いられるバインダー樹脂には、ヒートシール性熱可塑性エラ
ストマーが好ましく含まれる。ヒートシール性熱可塑性エラストマーの分子構造は、ハードブロックの樹脂とソフトブロックの樹脂とから構成されており、これらのブロックポリマーが非3次元架橋的に結合していることで、熱可塑性と接着性、更には低弾性(ゴム弾性)を発現するものである。
(Binder resin)
The binder resin used for the antistatic sealant layer preferably contains a heat-sealable thermoplastic elastomer. The molecular structure of the heat-sealable thermoplastic elastomer is composed of a hard block resin and a soft block resin, and these block polymers are bonded in a non-three-dimensional cross-linking manner, so that they are thermoplastic and adhesive. Furthermore, it exhibits low elasticity (rubber elasticity).

ハードブロックの樹脂としては、スチレンやポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、塩化ビニル等が挙げられ、ソフトブロックの樹脂としては、イソプレンやブタジエン等の共役ジエン化合物の重合体及びそれらの共重合体、ブチレンやエチレン等のオレフィン化合物の重合体及びそれらの共重合体、ポリエーテル、ポリエステル等が挙げられる。ハードブロックの樹脂とソフトブロックの樹脂との具体的な組み合わせとしては、SBS系(スチレン・ブタジエン・スチレン系)ブロックポリマーや、SEBS系(スチレン・エチレン・ブチレン・スチレン系)ブロックポリマー、及びそれらの水添品等が挙げられる。上記の組み合わせの中でも、SEBS系ブロックポリマーが好ましい。 Examples of the hard block resin include styrene, polyester, polyurethane, polyamide, vinyl chloride and the like, and examples of the soft block resin include polymers of conjugated diene compounds such as isoprene and butadiene and their copolymers, butylene and ethylene. Examples thereof include polymers of olefin compounds such as, and copolymers thereof, polyethers, polyesters and the like. Specific combinations of the hard block resin and the soft block resin include SBS-based (styrene / butadiene / styrene-based) block polymers, SEBS-based (styrene / ethylene / butylene / styrene-based) block polymers, and theirs. Examples include hydrogenated products. Among the above combinations, SEBS-based block polymers are preferable.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーのガラス転移温度は、−60℃以上、−30℃以下が好ましく、−50℃以上、−40℃以下が更に好ましい。ガラス転移温度が上記範囲よりも高いと、十分なヒートシール性を発現することが困難であり、上記範囲よりも低いと、ベタツキやブロッキング等の問題が発生し易い。 The glass transition temperature of the heat-sealing thermoplastic elastomer is preferably −60 ° C. or higher and −30 ° C. or lower, and more preferably −50 ° C. or higher and −40 ° C. or lower. If the glass transition temperature is higher than the above range, it is difficult to exhibit sufficient heat-sealing properties, and if it is lower than the above range, problems such as stickiness and blocking are likely to occur.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張弾性率は、23℃において、1.5MPa以上、10MPa以下が好ましく、2MPa以上、6MPa以下が更に好ましい。引張弾性率が上記範囲よりも高くあっても低くあっても、帯電防止シーラント層の弾性率が高くなりすぎるまたは低くなり過ぎることになって、ヒートシール時のクッション性が悪くて熱および圧力が均一にかかり辛くなって、シーラント層の厚みが安定しない為にヒートシール強度が安定し難くなる。 The tensile elastic modulus of the heat-sealable thermoplastic elastomer is preferably 1.5 MPa or more and 10 MPa or less, more preferably 2 MPa or more and 6 MPa or less at 23 ° C. Regardless of whether the tensile elastic modulus is higher or lower than the above range, the elastic modulus of the antistatic sealant layer becomes too high or too low, resulting in poor cushioning during heat sealing and heat and pressure. It becomes difficult to apply evenly, and the thickness of the sealant layer is not stable, so that the heat seal strength becomes difficult to stabilize.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張強度は、23℃において、15MPa以上、40MPa以下が好ましく、20MPa以上、35MPa以下が更に好ましい。引張強度が上記範囲よりも高いと、開封性が劣り、上記範囲よりも低いと、ヒートシール強度が低くなって、輸送中の剥離不良等が発生し易くなる。 The tensile strength of the heat-sealable thermoplastic elastomer is preferably 15 MPa or more and 40 MPa or less, and more preferably 20 MPa or more and 35 MPa or less at 23 ° C. If the tensile strength is higher than the above range, the opening property is inferior, and if it is lower than the above range, the heat seal strength is lowered, and peeling failure during transportation is likely to occur.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーのMFR(Melt Flow Rate)は、230℃,5kg荷重において、2g/10分以上、40g/10分以下が好ましく、4g/10分以上、30g/10分以下が更に好ましい。MFRが上記範囲よりも高いとヒートシール性が劣り、上記範囲よりも低いと、帯電防止シーラント層の厚みの調整が困難でラミネート作業性が劣る傾向にある。
ヒートシール性熱可塑性エラストマーの具体的な市販品としては、クレイトンポリマージャパン(株)社製G1657(SEBSブロックポリマー)、G1652(SEBSブロックポリマー)等が挙げられる。
また、バインダー樹脂には、必要に応じて、ヒートシール性熱可塑性エラストマーと、通常の絶縁性シーラント層に用いられる樹脂とを混合して用いることもできる。
The heat-sealing thermoplastic elastomer MFR (Melt Flow Rate) is preferably 2 g / 10 minutes or more and 40 g / 10 minutes or less, and more preferably 4 g / 10 minutes or more and 30 g / 10 minutes or less under a load of 230 ° C. and 5 kg. .. If the MFR is higher than the above range, the heat sealability is inferior, and if it is lower than the above range, it is difficult to adjust the thickness of the antistatic sealant layer, and the laminating workability tends to be poor.
Specific commercially available products of the heat-sealable thermoplastic elastomer include G1657 (SEBS block polymer) and G1652 (SEBS block polymer) manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd.
Further, as the binder resin, if necessary, a heat-sealing thermoplastic elastomer and a resin used for a normal insulating sealant layer can be mixed and used.

(導電性金属酸化物粒子)
帯電防止シーラント層に用いられる導電性金属酸化物粒子としては、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、等が挙げられ、中でも微細針状のものが好ましく、特に、微細針状アンチモンドープ酸化錫が好ましい。これらの導電性金属酸化物粒子は、湿度に依存することのない安定した良好な帯電防止性を包装材料に容易に発現させることができる。
(Conductive metal oxide particles)
The conductive metal oxide particles used in the antistatic sealant layer include antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), gallium-doped zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide (ATO). AZO), etc. are mentioned, and among them, fine needle-shaped ones are preferable, and fine needle-shaped antimony-doped zinc oxide is particularly preferable. These conductive metal oxide particles can easily exhibit stable and good antistatic properties independent of humidity in the packaging material.

本発明において、導電性金属酸化物粒子は、溶剤と共にバインダー樹脂と混合され、バインダー樹脂中に分散した形態で、帯電防止シーラント層を形成する。
導電性金属酸化物粒子の含有量は、帯電防止シーラント層中に、40質量%以上、80質量%以下が好ましく、50質量%以上、70質量%以下が更に好ましい。上記範囲の割合で導電性金属酸化物粒子を含有することにより良好な帯電防止性能とヒートシール性と透明性とのバランスを採り易くなる。
In the present invention, the conductive metal oxide particles are mixed with the binder resin together with the solvent to form an antistatic sealant layer in a form dispersed in the binder resin.
The content of the conductive metal oxide particles in the antistatic sealant layer is preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 50% by mass or more and 70% by mass or less. By containing the conductive metal oxide particles in the above range, it becomes easy to balance good antistatic performance, heat sealability and transparency.

含有量が上記の範囲よりも低いと、十分な帯電防止効果を得ることが困難になり易く、上記範囲よりも高いと、帯電防止シーラント層の溶融粘度が上昇し過ぎてヒートシール性が低下する傾向になり易く、透明性も低下する傾向にある。
導電性金属酸化物粒子の一次粒子は、好ましくは、粒子径が0.2μm以上、0.4μm以下であって、長軸方向粒径が0.2μm以上、2μm以下、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下、長軸/短軸比が20以上、30以下の針状である。
導電性金属酸化物粒子の一次粒子が、上記範囲の粒径の針状の場合には、球状の導電性フィラーを用いた場合に比べて、帯電防止シーラント層中で少ない量で相互に接触しやすい為に帯電防止性に優れ、小サイズで少量であることから帯電防止シーラント層は無色透明になり易く、内容物の視認性に優れ、内容物のバーコード読み取りエラー発生率が低い、優れた包装材料を与え易くなる。
If the content is lower than the above range, it tends to be difficult to obtain a sufficient antistatic effect, and if it is higher than the above range, the melt viscosity of the antistatic sealant layer increases too much and the heat sealability deteriorates. It tends to be a tendency, and the transparency tends to decrease.
The primary particles of the conductive metal oxide particles preferably have a particle size of 0.2 μm or more and 0.4 μm or less, a major axis particle size of 0.2 μm or more and 2 μm or less, and a minor axis particle size. It is needle-shaped with a major axis / minor axis ratio of 20 or more and 30 or less, 0.01 μm or more and 0.02 μm or less.
When the primary particles of the conductive metal oxide particles are needle-shaped with a particle size in the above range, they come into contact with each other in a smaller amount in the antistatic sealant layer than when a spherical conductive filler is used. Because it is easy, it has excellent antistatic properties, and because it is small in size and small in quantity, the antistatic sealant layer tends to be colorless and transparent, has excellent visibility of the contents, and has a low incidence of bar code reading errors in the contents. It becomes easier to give packaging materials.

本発明において使用される導電性金属酸化物粒子は、例えば市販品としては、石原テクノ(株)社より、微細針状アンチモンドープ酸化スズが、MPT270(MEK分散体、固形分30%)、FSS−10P(粉末状態)、およびFSS−10D(水分散体、固形分30%)という商品名で提供されている。 The conductive metal oxide particles used in the present invention are, for example, commercially available products from Ishihara Techno Co., Ltd., which are fine needle-shaped antimony-doped tin oxide, MPT270 (MEK dispersion, solid content 30%), FSS. It is offered under the trade names of -10P (powdered state) and FSS-10D (aqueous dispersion, solid content 30%).

[絶縁性シーラント層]
絶縁性シーラント層は、通常の、ヒートシール性を有するシーラント層である。本発明では、帯電防止シーラント層と区別するために、絶縁性シーラント層と記載する。
絶縁性シーラント層は、必要に応じて、帯電防止シーラント層と接して積層される層であり。例えば、帯電防止シーラント層と併用することにより、シーラント層全体として、ヒートシール性と帯電防止性のバランスを採り易くすることができる。
絶縁性シーラント層は、帯電防止シーラント層に対する密着性が良好であり、且つ、帯電防止シーラント層のヒートシール性を阻害しないものであることが必要である。
[Insulating sealant layer]
The insulating sealant layer is a normal, heat-sealing sealant layer. In the present invention, it is referred to as an insulating sealant layer in order to distinguish it from the antistatic sealant layer.
The insulating sealant layer is a layer that is laminated in contact with the antistatic sealant layer, if necessary. For example, when used in combination with the antistatic sealant layer, it is possible to easily balance the heat sealability and the antistatic property of the sealant layer as a whole.
The insulating sealant layer needs to have good adhesion to the antistatic sealant layer and not to hinder the heat sealability of the antistatic sealant layer.

本発明において、絶縁性シーラント層形成の積層方法は特に限定されず、公知または慣用の製膜方法の適用が可能であり、具体的な方法としては、例えば、エアドクター法、ブレードコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、ダイレクトロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の塗布による積層方法や、絶縁性シーラント層を形成する樹脂又は樹脂組成物を、場合により接着層を介して、基材層や中間層上にエクストルージョンコーティングすることによる積層方法や、基材層上に、中間層用樹脂又は樹脂組成物と共に、インフレーション法やキャスト法により共押出しによる積層方法や、予め作製しておいた絶縁性シーラント層用フィルムやシートを接着層を介して貼りつけることによる積層方法、等が挙げられる。
また、積層前に、積層対象表面に、必要に応じて、予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施して、接着性を高めても良い。
In the present invention, the laminating method for forming the insulating sealant layer is not particularly limited, and a known or conventional film forming method can be applied. Specific methods include, for example, an air doctor method, a blade coating method, and a knife. A laminating method by coating such as a coating method, a rod coating method, a direct roll coating method, a reverse roll coating method, a gravure coating method, a slide coating method, or a resin or resin composition forming an insulating sealant layer may be used as an adhesive layer. A laminating method by extrusion coating on the base material layer or the intermediate layer, or a laminating method by coextrusion by the inflation method or the casting method together with the resin or the resin composition for the intermediate layer on the base material layer. Examples thereof include a laminating method in which a film or sheet for an insulating sealant layer prepared in advance is attached via an adhesive layer.
Further, before laminating, the surface to be laminated may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance, if necessary, to improve the adhesiveness.

絶縁性シーラント層に好適な樹脂としては、ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、メタロセンポリエチレン、無延伸ポリプロピレンなどが挙げられ、これらの樹脂の1種または2種以上からなる樹脂のフィルムあるいは塗布膜等を使用することができる。
絶縁性シーラント層の層構成としては、単層でもよく、ポリエチレン/ポリプロピレン
+ポリエチレン/ポリプロピレンのような多層でもよい。
Examples of the resin suitable for the insulating sealant layer include polyethylene, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, metallocene polyethylene, unstretched polypropylene, and the like. A coating film or the like can be used.
The layer structure of the insulating sealant layer may be a single layer or a multi-layer structure such as polyethylene / polypropylene + polyethylene / polypropylene.

また、無機膜をヒートシール可能な無延伸ポリプロピレン(CPP)、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンに蒸着したフィルムを用いることもできる。無機膜の構成は、基材層における無機蒸着層と同様である。
また、絶縁性シーラント層の厚みは、10μm以上、150μm以下が好ましく、20μm以上、100μm以下が更に好ましい。絶縁性シーラント層の厚みが上記よりも薄いと、ヒートシール強度が不足し、上記よりも厚いと、ヒートシールするときの必要熱量が大きくなり、高速ヒートシールが困難となり生産性が低下する。
また、絶縁性シーラント層には、必要に応じて各種の添加剤を包含させることができる。
次に、具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
Further, a film obtained by vapor-depositing an inorganic film on unstretched polypropylene (CPP) capable of heat-sealing, low-density polyethylene, or linear low-density polyethylene can also be used. The structure of the inorganic film is the same as that of the inorganic vapor deposition layer in the base material layer.
The thickness of the insulating sealant layer is preferably 10 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 100 μm or less. If the thickness of the insulating sealant layer is thinner than the above, the heat sealing strength is insufficient, and if it is thicker than the above, the amount of heat required for heat sealing becomes large, which makes high-speed heat sealing difficult and reduces productivity.
In addition, the insulating sealant layer can contain various additives as needed.
Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

包装材料を作製するのに用いた原材料は。下記の通りである。
導電性金属酸化物粒子分散体1:微細針状アンチモンドープ酸化スズのMEK分散体(石原産業(株)社製MPT270。累積個数50%メジアン径0.11〜0.16μm。長軸方向粒径が0.2μm以上、2.0μm以下、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下、長軸/短軸比が20以上、30以下。微細針状アンチモンドープ酸化スズ分30質量%。)
導電性化合物1:AS100(日本乳化剤(株)社製。イオン液体。
バインダー樹脂溶液1:G1657(クレイトンポリマージャパン(株)社製、SEBS系熱可塑性エラストマー。ガラス転移温度−42℃、23℃引張強度23MPa、23℃引張弾性率2.4MPa、MFR22g/10分)のトルエン溶液。固形分20%。
バインダー樹脂溶液2:G1652(クレイトンポリマージャパン(株)社製、SEBS系熱可塑性エラストマー。ガラス転移温度−42℃、23℃引張強度31MPa、23℃引張弾性率4.8MPa、MFR5g/10分)のトルエン溶液。固形分20%。
What are the raw materials used to make the packaging material? It is as follows.
Conductive metal oxide particle dispersion 1: MEK dispersion of fine needle-shaped antimony-doped tin oxide (MPT270 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. Cumulative number 50% Mediane diameter 0.11 to 0.16 μm. 0.2 μm or more, 2.0 μm or less, minor axis particle size 0.01 μm or more, 0.02 μm or less, major axis / minor axis ratio 20 or more, 30 or less. Fine acicular antimony-doped tin oxide content 30 mass %.)
Conductive compound 1: AS100 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd., ionic liquid.
Binder resin solution 1: G1657 (SEBS-based thermoplastic elastomer manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd. Glass transition temperature -42 ° C, 23 ° C tensile strength 23 MPa, 23 ° C tensile elasticity 2.4 MPa, MFR 22 g / 10 minutes) Toluene solution. Solid content 20%.
Binder resin solution 2: G1652 (SEBS-based thermoplastic elastomer manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd. Glass transition temperature -42 ° C, 23 ° C tensile strength 31 MPa, 23 ° C tensile elasticity 4.8 MPa, MFR 5 g / 10 minutes) Toluene solution. Solid content 20%.

(ラミネート積層体Aの作製)
両面コロナ処理された厚さ25μmの二軸延伸ナイロンフィルム(興人(株)社製ボニールW)と、片面コロナ処理された厚さ12μmのアルミナ蒸着PETフィルム(大日本印刷(株)社製IB−PET−PXB、蒸着厚10nm。)とを、接着剤を介してドライラミネートした。
そして、貼り合せたナイロンフィルムの反対面に、絶縁性シーラント層として、片面コロナ処理された厚さ50μmのポリエチレンフィルム(フタムラ化学(株)社製LL−XMTN)を同様にドライラミネートした。
その後、37℃で3日間エージング処理し、ラミネート積層体Aを得た。
(Preparation of Laminated Laminated Body A)
Biaxially stretched nylon film with a thickness of 25 μm treated with double-sided corona (Bonil W manufactured by Kohjin Co., Ltd.) and alumina-deposited PET film with a thickness of 12 μm treated with single-sided corona (IB manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) -PET-PXB, vapor deposition thickness 10 nm.) Was dry-laminated via an adhesive.
Then, a polyethylene film (LL-XMTN manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm treated with a single-sided corona was similarly dry-laminated on the opposite surface of the bonded nylon film as an insulating sealant layer.
Then, it was aged at 37 ° C. for 3 days to obtain a laminated laminate A.

(ラミネート積層体Bの作製)
両面コロナ処理された厚さ25μmの二軸延伸ナイロンフィルム(興人(株)社製ボニールW)と、片面コロナ処理された厚さ12μmのアルミナ蒸着PETフィルム(大日本印刷(株)社製IB−PET−PXB蒸着厚10nm。)とを、接着剤を介してドライラミネートした。
そして、貼り合せたナイロンフィルムの反対面に、絶縁性シーラント層として、片面コロナ処理された厚さ50μmの帯電防止ポリエチレンフィルム((株)アイセロ社製L−110R−1)を同様にドライラミネートした。
その後、25℃で7日間エージング処理し、ラミネート積層体Bを得た。
(Preparation of laminated laminate B)
Biaxially stretched nylon film with a thickness of 25 μm treated with double-sided corona (Bonil W manufactured by Kohjin Co., Ltd.) and alumina-deposited PET film with a thickness of 12 μm treated with single-sided corona (IB manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) -PET-PXB vapor deposition thickness 10 nm.) Was dry-laminated via an adhesive.
Then, an antistatic polyethylene film (L-110R-1 manufactured by Aicello Corporation) having a thickness of 50 μm treated with a single-sided corona was similarly dry-laminated on the opposite surface of the bonded nylon film as an insulating sealant layer. ..
Then, it was aged at 25 ° C. for 7 days to obtain a laminated laminate B.

[実施例1]
下記原料を混合して塗布溶液を調整して、ラミネート積層体Aのポリエチレンフィルム
面にグラビアコート法で塗布し、80℃で30秒間加熱して乾燥して、帯電防止シーラント層を形成した。乾燥後の帯電防止シーラント層は、0.5μmであった。
導電性金属酸化物粒子分散体1 60質量部
バインダー樹脂1 40質量部
[Example 1]
The following raw materials were mixed to prepare a coating solution, which was applied to the polyethylene film surface of the laminated laminate A by a gravure coating method, heated at 80 ° C. for 30 seconds and dried to form an antistatic sealant layer. The antistatic sealant layer after drying was 0.5 μm.
Conductive metal oxide particle dispersion 1 60 parts by mass Binder resin 1 40 parts by mass

得られた帯電防止シーラント層中の導電性金属酸化物粒子の含有量は、下記のように算出される。
導電性金属酸化物粒子分散体1中の導電性金属酸化物粒子の含有率:30質量%
バインダー樹脂1中の樹脂の含有率:20質量%
よって、
(60×30/100)/(60×30/100+40×20/100)=69.2質量%
次いで、各種評価を実施した。結果を表1に記載する。
The content of the conductive metal oxide particles in the obtained antistatic sealant layer is calculated as follows.
Content of conductive metal oxide particles in conductive metal oxide particle dispersion 1: 30% by mass
Resin content in binder resin 1: 20% by mass
Therefore,
(60 × 30/100) / (60 × 30/100 + 40 × 20/100) = 69.2% by mass
Then, various evaluations were carried out. The results are shown in Table 1.

[実施例2〜5、比較例2]
実施例1と同様に、表1の配合に従って塗布溶液を調整し、表1に記載のラミネート積層体を用いて、帯電防止シーラント層を形成した。次いで、各種評価を実施した。結果を表1に記載する。
[Examples 2 to 5, Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 1, the coating solution was prepared according to the formulation shown in Table 1, and the antistatic sealant layer was formed using the laminated laminate shown in Table 1. Then, various evaluations were carried out. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
ラミネート積層体Bをそのまま用いて、各種評価を実施した。結果を表1に記載する。
[Comparative Example 1]
Various evaluations were carried out using the laminated laminate B as it was. The results are shown in Table 1.

<評価方法>
[レーザー光透過率の測定]
JIS K7361−1に従って、全光線透過率を測定した。透過率70%以上を合格とした。
[水蒸気透過度の測定]
各積層体または包装材料をA4サイズに裁断し、米国MOCON社製PERMATRAN3/31を使用し、40℃、90%RHの条件下での水蒸気透過度(g/m2/day/atm)を測定した。
<Evaluation method>
[Measurement of laser light transmittance]
The total light transmittance was measured according to JIS K7361-1. A transmittance of 70% or more was regarded as acceptable.
[Measurement of water vapor transmission rate]
Each laminate or packaging material is cut into A4 size, and the water vapor transmission rate (g / m 2 / day / atm) is measured under the conditions of 40 ° C. and 90% RH using PERMATRAN 3/31 manufactured by MOCON of the United States. bottom.

[表面抵抗率の測定]
各積層体または包装材料の帯電防止シーラント層又は帯電防止ポリエチレンフィルム層表面の表面抵抗率を三菱油化(株)製ハイレスタUPにて測定した。
印加電圧:500V
測定環境:25℃、50%RH以下
[ヒートシール強度測定法]
各積層体または包装材料を2つに折り、帯電防止シーラント層同士、又は帯電防止ポリエチレンフィルム層同士をヒートシールし、シール強度を測定した。
ヒートシール条件:140℃、1kgf、1.0s
引張り条件:シール幅15mm、300mm/min
[Measurement of surface resistivity]
The surface resistivity of the surface of the antistatic sealant layer or the antistatic polyethylene film layer of each laminate or packaging material was measured by Hiresta UP manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.
Applied voltage: 500V
Measurement environment: 25 ° C, 50% RH or less [Heat seal strength measurement method]
Each laminate or packaging material was folded in two, and the antistatic sealant layers or the antistatic polyethylene film layers were heat-sealed, and the sealing strength was measured.
Heat seal conditions: 140 ° C, 1 kgf, 1.0 s
Tensile conditions: Seal width 15 mm, 300 mm / min

Figure 0006950323
Figure 0006950323

[結果まとめ]
導電性金属酸化物粒子とヒートシール性熱可塑性エラストマーとを帯電防止シーラント層に含有する実施例1〜5は、良好なレーザー光透過率と、水蒸気透過度と、表面抵抗率とヒートシール性を示した。
帯電防止シーラント層を有さず、シーラント層が帯電防止ポリエチレンフィルムのみである比較例1は、表面抵抗率が高くて帯電防止性が不十分であった。
導電性金属酸化物粒子の代わりに、導電性化合物1を帯電防止シーラント層に含有した比較例2は、ヒートシール強度が低い結果を示した。
[Result Summary]
Examples 1 to 5 in which the conductive metal oxide particles and the heat-sealing thermoplastic elastomer are contained in the antistatic sealant layer have good laser light transmittance, water vapor transmittance, surface resistance and heat-sealing property. Indicated.
In Comparative Example 1 which did not have an antistatic sealant layer and the sealant layer was only an antistatic polyethylene film, the surface resistivity was high and the antistatic property was insufficient.
Comparative Example 2 in which the conductive compound 1 was contained in the antistatic sealant layer instead of the conductive metal oxide particles showed a result of low heat seal strength.

1 包装材料
2 基材層
3 無機蒸着層
4 接着剤層
5 中間層
6 シーラント層
6a 絶縁性シーラント層
6b 帯電防止シーラント層
1 Packaging material 2 Base material layer 3 Inorganic vapor deposition layer 4 Adhesive layer 5 Intermediate layer 6 Sealant layer 6a Insulation sealant layer 6b Antistatic sealant layer

Claims (6)

基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを有する、透明帯電防止包装材料であって、
前記シーラント層は、少なくとも帯電防止シーラント層を有し、
前記帯電防止シーラント層は、前記透明帯電防包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層であり、
前記帯電防止シーラント層は、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化錫、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、からなる群から選ばれる、1種または2種以上である導電性金属酸化物粒子が、ヒートシール性熱可塑性エラストマーからなるバインダー樹脂中に分散している構成を有し
前記透明帯電防止包装材料の、全光線透過率が、70%以上、95%以下であり、
前記透明帯電防止包装材料の、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度は、0.01g/m2/day/atm以上、2.0g/m2/day/atm以下であり、
前記帯電防止シーラント層の表面抵抗率は、1×108Ω/□以上、1×1010Ω/□以下である、
透明帯電防止包装材料。
A transparent antistatic packaging material having a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer.
The sealant layer has at least an antistatic sealant layer and has.
The antistatic sealant layer is the outermost surface layer on the surface opposite to the base material layer of the transparent antistatic packaging material.
The antistatic sealant layer is one or more conductive metals selected from the group consisting of antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, fluorine-doped tin oxide, gallium-doped zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide. It has a structure in which oxide particles are dispersed in a binder resin made of a heat-sealing thermoplastic elastomer .
The total light transmittance of the transparent antistatic packaging material is 70% or more and 95% or less.
The water vapor transmission rate of the transparent antistatic packaging material in a 40 ° C. 90% RH environment is 0.01 g / m 2 / day / atm or more and 2.0 g / m 2 / day / atm or less.
The surface resistivity of the antistatic sealant layer is 1 × 10 8 Ω / □ or more and 1 × 10 10 Ω / □ or less.
Transparent antistatic packaging material.
前記帯電防止シーラント層中の、前記導電性金属酸化物粒子の含有率が、40質量%以上、70質量%以下である、請求項1に記載の透明帯電防止包装材料。 The transparent antistatic packaging material according to claim 1, wherein the content of the conductive metal oxide particles in the antistatic sealant layer is 40% by mass or more and 70% by mass or less. 前記導電性金属酸化物粒子の平均粒径が、長軸方向粒径が0.2μm以上、2.0μm以下であり、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下であり、長軸/短軸比が20以上、30以下である、請求項1または2に記載の透明帯電防止包装材料。 The average particle size of the conductive metal oxide particles is 0.2 μm or more and 2.0 μm or less in the major axis direction, 0.01 μm or more and 0.02 μm or less in the minor axis direction, and is long. The transparent antistatic packaging material according to claim 1 or 2, wherein the shaft / minor axis ratio is 20 or more and 30 or less. 前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの、ガラス転移温度は、−50℃以上、−40℃以下である、請求項1〜の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。 The transparent antistatic packaging material according to any one of claims 1 to 3 , wherein the glass transition temperature of the heat-sealable thermoplastic elastomer is −50 ° C. or higher and −40 ° C. or lower. 前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張弾性率が、23℃において、2MPa以上、6MPa以下である、請求項1〜の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。 The transparent antistatic packaging material according to any one of claims 1 to 4 , wherein the heat-sealing thermoplastic elastomer has a tensile elastic modulus of 2 MPa or more and 6 MPa or less at 23 ° C. 前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーが、SEBS系ブロックポリマーである、請
求項1〜の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。
The transparent antistatic packaging material according to any one of claims 1 to 5 , wherein the heat-sealing thermoplastic elastomer is a SEBS-based block polymer.
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