JPH11198299A - Lid material - Google Patents

Lid material

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JPH11198299A
JPH11198299A JP1834598A JP1834598A JPH11198299A JP H11198299 A JPH11198299 A JP H11198299A JP 1834598 A JP1834598 A JP 1834598A JP 1834598 A JP1834598 A JP 1834598A JP H11198299 A JPH11198299 A JP H11198299A
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JP
Japan
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weight
layer
intermediate layer
styrene
copolymer
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Application number
JP1834598A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuya Yamazaki
拓也 山崎
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide stable adhesion, good peeling characteristics, and excellent antistatic effect by composing a heat sealant layer from a thermoplastic resin having an acrylic resin having a glass transition point of a specified temperature range as main component, and conductive fine powder having tin oxide as main component. SOLUTION: A lid material 10 is composed of at least an HS layer 3, an interlayer 2, and a base sheet 1, where the HS layer 3 is composed of a thermoplastic resin having an acrylic resin having a glass transition point Tg of -10 to 100 deg.C as main component, and conductive fine powder having tin oxide as main component. A weight ratio of the thermoplastic resin and the conductive fine powder composing the HS layer 3 is 10-400/100 (the conductive fine powder). In the case that the interlayer 2 is a single-layer structure, the lid material 10 is composed of a resin composition comprising 30-70 wt.% E/O copolymer having a density of 0.915-0.940, and 70-30 wt.% S-B copolymer composed of 50-90 wt.% styrene and 50-10 wt.% butadiene.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、易剥離性のヒート
シーラント層とこれを用いた積層体に係わり、特に半導
体、IC部品及びこれらの製品、並びに液晶表示用部品
及び液晶製品、注射器や医薬品などの医療関連物品、自
動車用部品などを収納する合成樹脂容器の密封に用いる
蓋材のヒートシーラント層(以下、HS層と記載す
る。)及びそれを用いた積層体に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an easily peelable heat sealant layer and a laminate using the same, and particularly to semiconductors, IC parts and products thereof, liquid crystal display parts and liquid crystal products, syringes and pharmaceuticals. It belongs to a heat sealant layer (hereinafter, referred to as an HS layer) of a lid material used for sealing a synthetic resin container for storing medical-related articles such as automotive parts and the like, and a laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、固形あるいは液状の各種部
品、食品や工業部品を、合成樹脂の成形容器に収納して
開口部を蓋材で密封したり、袋体で密封し、流通、保管
することが行われている。例えば、キャリアテープなど
にみられる成形容器に設けた多数の凹部に電子部品を収
納し、蓋材(蓋材)で凹部を覆うようにしてヒートシー
ルするキャリアテープが使用されている。このようなキ
ャリアテープは、通常ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、
ポリエステル、ポリカーボネート、ABS樹脂などのシ
ート成形が容易な材料を用いて形成されている。また、
蓋材は、基材シートと、この一方の面に少なくともHS
層が設けられた積層体よりなる構成されている。そし
て、電子部品のキャリアテープの凹部に収納し蓋材で密
封し、実装工程において、収納されている電子部品を取
出すときには、蓋材が容易に剥離できることが要求され
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various kinds of solid or liquid parts, food and industrial parts are housed in a synthetic resin container and the opening is sealed with a lid or sealed with a bag for distribution and storage. That is being done. For example, a carrier tape is used in which electronic components are housed in a large number of concave portions provided in a molded container such as a carrier tape, and the concave portions are covered with a lid material (lid material) and heat-sealed. Such carrier tapes are usually made of polyvinyl chloride, polystyrene,
It is formed using a material such as polyester, polycarbonate, and ABS resin, which can be easily formed into a sheet. Also,
The lid material is made of a base sheet and at least one side of the base sheet is made of HS.
It is composed of a laminate provided with layers. Then, it is required that the electronic component is easily detachable when housed in a concave portion of the carrier tape of the electronic component and sealed with a lid material, and when the electronic component stored in the mounting process is taken out, the lid material can be easily peeled off.

【0003】更に、収納されている電子部品がキャリア
テープの凹部あるいは蓋材と接触したり、また蓋材を剥
離したりするときに発生する静電気ににより、電子部品
の劣化、破壊が生ずる危険性があった。この静電気の発
生を防止する手段がキャリアテープや蓋材に要求され
た。キャリアテープの静電気の発生を防止する手段に
は、導電性カーボン微粒子、金属酸化物の導電粉、金属
微粒子をテープに練り混んだり、塗工したりすることが
行われている。また、蓋材における静電気の発生を防止
する手段には、電子部品と直接接触するHS層に界面活
性剤などの帯電防止剤、金属酸化物の導電粉、導電性カ
ーボン微粒子、金属微粒子をテープに練り混んだり、塗
工したりされている。特に、HS層に金属酸化物(酸化
錫、酸化亜鉛など)を導電化した微粉末を混入したもの
は、比較的透明性がよく、また安定した静電気拡散性を
もち有効に使用されている。
Further, there is a danger that the electronic components may be deteriorated or destroyed due to static electricity generated when the stored electronic components come into contact with the concave portions or the cover of the carrier tape or when the cover is peeled off. was there. Means for preventing the generation of the static electricity have been required for the carrier tape and the lid material. As means for preventing the generation of static electricity in the carrier tape, kneading, mixing or coating conductive tape with conductive carbon fine particles, conductive powder of metal oxide, and metal fine particles are performed. Means for preventing the generation of static electricity in the cover material include an antistatic agent such as a surfactant, a conductive powder of metal oxide, conductive carbon fine particles, and metal fine particles in a tape on the HS layer which is in direct contact with the electronic component. They are kneaded and coated. In particular, a material obtained by mixing a conductive powder of a metal oxide (such as tin oxide and zinc oxide) in an HS layer has relatively good transparency, has a stable electrostatic diffusion property, and is effectively used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、内容物
を収納したキャリアテープをヒートシールした蓋材は、
該キャリアテープの輸送、保管中に蓋材が剥離して電子
部品が脱落したりすることがないように、所定の剥離強
度が要求される。この剥離強度の最大値と最小値との差
(以下、ジップアップと記載する)が、大きすぎると電
子部品の実装工程で蓋材を剥離するときに、キャリアテ
ープが振動して、電子部品がキャリアテープの凹部から
飛び出す事故を発生するという問題があった。したがっ
て、電子部品の実装時にジップアップが小さいことが要
求されるが、従来のHS層に導電性微粉末などを混入し
た蓋材は、低いジップアップが得られないという問題が
あった。
However, a lid material obtained by heat-sealing a carrier tape containing contents therein is:
A predetermined peel strength is required so that the lid material does not peel off and the electronic component does not fall off during transportation and storage of the carrier tape. If the difference between the maximum value and the minimum value of the peel strength (hereinafter referred to as zip-up) is too large, the carrier tape vibrates when the cover material is peeled off in the mounting process of the electronic component, and the electronic component becomes There is a problem that an accident of jumping out of the concave portion of the carrier tape occurs. Therefore, it is required that the zip-up is small when mounting the electronic component. However, there is a problem that a low zip-up cannot be obtained with a lid material in which a conductive fine powder or the like is mixed in a conventional HS layer.

【0005】また、HS層に金属酸化物の導電性粉を混
入した蓋材は、比較的良好な透明性をもってはいたが、
HS層を成形するときの分散が困難であり、収納された
電子部品の目視検査ができる透明性を得るためには、熟
練した分散技術が必要で、製造コストの上昇を来すとい
う問題があった。
[0005] Further, although the lid material in which the conductive powder of the metal oxide is mixed in the HS layer has relatively good transparency,
Dispersion when forming the HS layer is difficult, and in order to obtain transparency that allows visual inspection of the stored electronic components, a skilled dispersing technique is required, which raises the problem of increasing the manufacturing cost. Was.

【0006】更に、液状の界面活性剤を含むヒートシー
ル性樹脂を塗工したHS層は、経日的にHS層の表面状
態を変化させ、ヒートシールが不安定となり、シール不
良の原因となったり、また、保管中の温度、湿度により
静電気の拡散効果が依存されやすく、安定した帯電防止
効果を得られないという問題があった。本発明は、この
ような事情に鑑みてなされたものであり、安定した帯電
防止特性をもつ積層体と、合成樹脂容器への安定した接
着性(ヒートシール性)と良好な剥離性及び優れた帯電
防止効果を兼ね備えた蓋材の提供を課題とするものであ
る。
Further, the HS layer coated with a heat-sealing resin containing a liquid surfactant changes the surface state of the HS layer with the passage of time, making heat sealing unstable and causing poor sealing. In addition, there is a problem that the effect of diffusing static electricity is easily dependent on the temperature and humidity during storage, and a stable antistatic effect cannot be obtained. The present invention has been made in view of such circumstances, and has a laminate having a stable antistatic property, a stable adhesive property (heat sealing property) to a synthetic resin container, a good peeling property, and excellent properties. It is an object of the present invention to provide a lid material having an antistatic effect.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、少なくともHS層と、中間層及び基材シートとか
らなる蓋材において、前記HS層が、ガラス転移点Tg
が−10〜100℃のアクリル系樹脂を主成分とする熱
可塑性樹脂と、酸化錫を主とする導電性微粉末とから構
成される蓋材である。そして、第2の発明は、前記HS
層を構成する熱可塑性樹脂と導電性微粉末との重量比
が、10〜400/100からなる蓋材である。また、
第3の発明は、前記中間層は単層構造であり、密度0.
915〜0.940g/cm3 (以下、密度の単位であ
るg/cm3 は省略する。)のエチレン・αオレフィン
共重合体(以下、E・O共重合体と記載する。)が30
〜70重量%と、スチレン50〜90重量%とブタジエ
ン50〜10重量%とのスチレン・ブタジエンブロック
共重合体(以下、S・B共重合体と記載する。)が70
〜30重量%とからなる樹脂組成物より形成された蓋材
である。また、第4の発明は、前記中間層は単層構造で
あり、密度0.915〜0.940のE・O共重合体
と、スチレン50〜90重量%とブタジエン50〜10
重量%とのS・B共重合体と、スチレン10〜50重量
%とブタジエン90〜50重量%とのスチレン・ブタジ
エン共重合体の水素添加物(以下、S・B共重合体水添
物と記載する。)、及びハイインパクトポリスチレン
(以下、HIPSと記載する。)とからなる樹脂組成物
より形成された蓋材である。そして、第5の発明の中間
層は、基材シート側に設ける補強中間層と、必要に応じ
て設ける緩衝中間層、及びHS層側に位置する剥離中間
層との多層構造よりなり、補強中間層は密度0.915
〜0.940のE・O共重合体より形成され、緩衝中間
層は密度0.915〜0.940のE・O共重合を30
〜50重量%と、スチレン50〜90重量%とブタジエ
ン50〜10重量%とのS・B共重合体が70〜30重
量%とからなる樹脂組成物より形成され、剥離中間層は
密度0.915〜0.940のE・O共重合体を30〜
70重量%と、スチレン50〜90重量%とブタジエン
50〜10重量%とのS・B共重合体が70〜30重量
%とからなる樹脂組成物100重量部に対してスチレン
10〜50重量%とブタジエン90〜50重量%とのS
・B共重合体水添物5〜30重量部と、HIPS5〜5
0重量部とが添加されている樹脂組成物より形成された
蓋材である。また、第6の発明のHS層がもつ表面抵抗
率は、105 〜1012Ω/□の範囲内であり、かつ 電
荷減衰時間が2秒以下の蓋材である。また、第7の発明
のHS層は、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエ
ステル、ポリ塩化ビニル、アクリルニトリル・スチレン
・ブタジエン共重合体(ABS樹脂)製のキャリアテー
プとヒートシールが可能であり、前記中間層とHS層と
の間で層間剥離、あるいはHS層内で凝集剥離する蓋材
である。
Means for Solving the Problems To solve the above-mentioned problems, in a cover material comprising at least an HS layer, an intermediate layer and a base sheet, the HS layer has a glass transition point Tg.
Is a lid material composed of a thermoplastic resin whose main component is an acrylic resin at −10 to 100 ° C. and conductive fine powder mainly containing tin oxide. And the second invention is the above-mentioned HS
The lid material has a weight ratio of the thermoplastic resin and the conductive fine powder constituting the layer of 10 to 400/100. Also,
In a third aspect, the intermediate layer has a single-layer structure, and has a density of 0.1.
915 to 0.940 g / cm 3 (hereinafter, g / cm 3 as a unit of density is omitted) of 30 ethylene / α-olefin copolymers (hereinafter referred to as EO copolymers).
70 to 70% by weight, 50 to 90% by weight of styrene, and 50 to 10% by weight of butadiene in a styrene / butadiene block copolymer (hereinafter referred to as SB copolymer).
A lid material formed from a resin composition consisting of up to 30% by weight. In a fourth aspect of the present invention, the intermediate layer has a single-layer structure, an E / O copolymer having a density of 0.915 to 0.940, 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 10% of butadiene.
% By weight of a SB copolymer and a hydrogenated product of a styrene / butadiene copolymer of 10 to 50% by weight of styrene and 90 to 50% by weight of butadiene (hereinafter referred to as hydrogenated SB / B copolymer). And a high impact polystyrene (hereinafter, referred to as HIPS). The intermediate layer according to the fifth invention has a multilayer structure including a reinforcing intermediate layer provided on the base sheet side, a buffer intermediate layer provided as needed, and a peeling intermediate layer located on the HS layer side. The layer has a density of 0.915
The buffer intermediate layer is formed of an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940 and an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940.
And 50 to 90% by weight of styrene, 50 to 90% by weight of butadiene, and 70 to 30% by weight of an SB copolymer. The release intermediate layer has a density of 0.1 to 30% by weight. 915 to 0.940 EO copolymer is 30 to
10 to 50% by weight of styrene based on 100% by weight of a resin composition containing 70% by weight, 70 to 30% by weight of an SB copolymer of 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 10% by weight of butadiene. Of butadiene with 90 to 50% by weight of S
5 to 30 parts by weight of hydrogenated B copolymer and 5 to 5 HIPS
0 parts by weight of the resin composition. The surface resistivity of the HS layer according to the sixth invention is in the range of 10 5 to 10 12 Ω / □, and the charge decay time is 2 seconds or less. Further, the HS layer of the seventh invention can be heat-sealed with a carrier tape made of polycarbonate, polystyrene, polyester, polyvinyl chloride, acrylonitrile / styrene / butadiene copolymer (ABS resin). This is a cover material that is delaminated with the HS layer or cohesively separated within the HS layer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】上記の課題を解決するために本発
明は、図1に示すように、少なくともHS層3と、中間
層2及び基材シート1とからなる蓋材10において、前
記HS層3が、ガラス転移点Tgが−10〜100℃の
アクリル系樹脂を主成分とする熱可塑性樹脂と、酸化錫
を主とする導電性微粉末とから構成される蓋材10であ
る。そして、前記HS層3を構成する熱可塑性樹脂と導
電性微粉末との重量比が、10〜400/100(導電
性微粉末)からなる蓋材10である。また、前記中間層
2が単層構造の場合、密度0.915〜0.940のE
・O共重合体が30〜70重量%と、スチレン50〜9
0重量%とブタジエン50〜10重量%とのS・B共重
合体が70〜30重量%とからなる樹脂組成物より形成
された蓋材10である。また、中間層2が単層構造の他
の構成は、密度0.915〜0.940のE・O共重合
体と、スチレン50〜90重量%とブタジエン50〜1
0重量%とのS・B共重合体と、更にスチレン10〜5
0重量%とブタジエン90〜50重量%とのS・B共重
合体水添物及びHIPSとからなる樹脂組成物より形成
された蓋材10である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a cover material 10 comprising at least an HS layer 3, an intermediate layer 2 and a base sheet 1, as shown in FIG. The layer 3 is a lid member 10 composed of a thermoplastic resin whose main component is an acrylic resin having a glass transition point Tg of −10 to 100 ° C. and conductive fine powder mainly containing tin oxide. Then, the lid material 10 has a weight ratio of the thermoplastic resin constituting the HS layer 3 to the conductive fine powder of 10 to 400/100 (conductive fine powder). In the case where the intermediate layer 2 has a single-layer structure, E having a density of 0.915 to 0.940 is used.
30% to 70% by weight of an O copolymer and 50% to 9% of styrene
The lid 10 is formed of a resin composition comprising 70 to 30% by weight of an SB copolymer of 0% by weight and 50 to 10% by weight of butadiene. Another structure in which the intermediate layer 2 has a single-layer structure includes an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940, 50 to 90% by weight of styrene, and 50 to 1 butadiene.
0% by weight of the SB copolymer and further styrene 10-5%
The lid material 10 is formed from a resin composition comprising a hydrogenated SB copolymer of 0% by weight and 90 to 50% by weight of butadiene and HIPS.

【0009】図2又は図3に示すキャリアテープ10の
ように、多層からなる中間層2は、基材シート側1に位
置する補強中間層21、図3に示すように必要に応じて
設ける緩衝中間層22及びHS層3側に位置する剥離中
間層20との3層構造より構成される。そして、補強中
間層21が密度0.915〜0.940のE・O共重合
体より形成され、緩衝中間層22は密度0.915〜
0.940のE・O共重合を30〜70重量%と、スチ
レン50〜90重量%とブタジエン50〜10重量%と
のS・B共重合体が70〜30重量%とからなる樹脂組
成物より形成される。また、剥離中間層20は密度0.
915〜0.940のE・O共重合体を30〜70重量
%と、スチレン50〜90重量%とブタジエン50〜1
0重量%とのS・B共重合体が70〜30重量%とから
なる樹脂組成物100重量部に対して、更にスチレン1
0〜50重量%とブタジエン90〜50重量%とのS・
B共重合体水添物5〜30重量部と、HIPSを5〜5
0重量部とが添加されている樹脂組成物より形成された
蓋材10である。
As shown in FIG. 2 or FIG. 3, the intermediate layer 2 composed of multiple layers includes a reinforcing intermediate layer 21 located on the side of the base sheet 1 and a buffer provided as necessary as shown in FIG. It has a three-layer structure including the intermediate layer 22 and the release intermediate layer 20 located on the HS layer 3 side. The reinforcing intermediate layer 21 is formed of an E · O copolymer having a density of 0.915 to 0.940, and the buffer intermediate layer 22 has a density of 0.915 to 0.915.
A resin composition comprising 30 to 70% by weight of an E / O copolymer of 0.940, and 70 to 30% by weight of an SB copolymer of 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 10% by weight of butadiene. Formed. The peeling intermediate layer 20 has a density of 0.1.
30 to 70% by weight of an EO copolymer of 915 to 0.940, 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 1% of butadiene.
100 parts by weight of a resin composition comprising 0 to 30% by weight of an SB copolymer in 0% by weight,
S. of 0 to 50% by weight and 90 to 50% by weight of butadiene
5 to 30 parts by weight of hydrogenated B copolymer and 5 to 5 parts of HIPS
0 part by weight of the lid material 10 formed from the resin composition.

【0010】本発明のHS層3がもつ表面抵抗率は、1
5 〜1012Ω/□の範囲内であり、かつ 電荷減衰時
間が2秒以下の蓋材である。そして、HS層3は、ポリ
カーボネート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ塩化
ビニル、ABS樹脂製のキャリアテープ5とヒートシー
ルが可能であり、前記中間層2とHS層3との間で図5
(A)に示すとおりのヒートシール部35が、図5
(B)に示すように剥離開封されるとき、中間層2とH
S層3との間で剥離部31を形成して層間剥離するもの
である。図示はしないがHS層3内で凝集剥離するよう
に構成するものである。したがって、HS層どうしのヒ
ートシール強度には関係なく蓋材10とキャリアテープ
5との剥離強度が安定、かつ確実に行うことができるも
のである。
The HS layer 3 of the present invention has a surface resistivity of 1
0 a 5 ~10 12 Ω / □ in the range of, and the charge decay time is lid of less than 2 seconds. The HS layer 3 can be heat-sealed with a carrier tape 5 made of polycarbonate, polystyrene, polyester, polyvinyl chloride, or ABS resin.
The heat seal portion 35 as shown in FIG.
When peeled and opened as shown in (B), the intermediate layer 2 and H
A peeling portion 31 is formed between the S layer 3 and the interlayer is peeled off. Although not shown, it is configured to coagulate and peel in the HS layer 3. Therefore, the peel strength between the lid member 10 and the carrier tape 5 can be stably and reliably performed regardless of the heat sealing strength between the HS layers.

【0011】本発明を構成する基材シートは、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの
ポリエステル、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、
ナイロン6、又はナイロン66などのポリアミド、ポリ
カーボネート、ポリイミドなどの一軸あるいは二軸延伸
フィルムで形成することができる。このような基材シー
トを設けることにより積層体に耐熱性をもたせることが
できる。基材シートの厚みは、蓋材の大きさ、使用目的
と材質によって適宜設定することができ、通常は6〜1
00μmである。そして、必要に応じて帯電防止処理を
施すことができる。また、基材シートのHS層を設ける
側に、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、サ
ンドブラスト処理などの表面処理を施して、中間層との
接着を強固にして、かつ安定することができる。
The base sheet constituting the present invention includes polyester such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefin such as polypropylene,
It can be formed of a uniaxially or biaxially stretched film such as polyamide such as nylon 6 or nylon 66, polycarbonate, and polyimide. By providing such a base sheet, the laminate can have heat resistance. The thickness of the base material sheet can be appropriately set depending on the size of the lid material, the purpose of use, and the material.
00 μm. Then, an antistatic treatment can be performed as necessary. In addition, a surface treatment such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, and a sand blast treatment may be performed on the side of the base sheet on which the HS layer is provided, if necessary, to strengthen the adhesion to the intermediate layer and stabilize it. .

【0012】基材シート1と、中間層2との積層は、図
1に示すように接着剤層4を設けてドライラミネーショ
ンしたり、図4に示すように基材シート及び/又は中間
層にプライマー層41、42を設けて熱可塑性樹脂を接
着性樹脂層40としてサンドイッチラミネーションした
りして行う。ドライラミネーションの接着剤層は通常の
ポリエステル・ポリイソシアネート、ポリエーテル・ポ
リイソシアネートやポリエステル、エポキシ系接着剤な
どを溶剤に溶解したラッカー型の接着剤や、溶剤を含ま
ないいわゆるノンソル型接着剤を2〜10μm(乾燥し
た厚み)のものを用いて行われる。また、サンドイッチ
ラミネーションに使用する例えば基材シートのプライマ
ー層は、ポリエチレンイミン、ポリブタジエン、有機チ
タン化合物、イソシアネート、ポリウレタンなどの溶液
を0.1〜2μmの厚みで設けてプライマー処理を行
う。また、積層に使用するシートをコロナ放電処理、オ
ゾン処理をして接着性樹脂40を押出しコートする基材
シート及び中間層との接着を強固なものにできる。
The lamination of the base sheet 1 and the intermediate layer 2 may be performed by providing an adhesive layer 4 as shown in FIG. 1 for dry lamination, or by laminating the base sheet and / or the intermediate layer as shown in FIG. This is performed by providing the primer layers 41 and 42 and sandwiching the thermoplastic resin as the adhesive resin layer 40 by sandwich lamination. The adhesive layer for dry lamination may be a lacquer-type adhesive obtained by dissolving ordinary polyester / polyisocyanate, polyether / polyisocyanate, polyester, or epoxy-based adhesive in a solvent, or a so-called non-sol type adhesive containing no solvent. This is performed using a material having a thickness of 10 to 10 μm (dry thickness). In addition, for example, the primer layer of the base sheet used for sandwich lamination is provided with a solution of polyethyleneimine, polybutadiene, an organic titanium compound, isocyanate, polyurethane, or the like with a thickness of 0.1 to 2 μm, and is subjected to a primer treatment. In addition, the sheet used for lamination is subjected to corona discharge treatment and ozone treatment, so that the adhesion to the base sheet and the intermediate layer on which the adhesive resin 40 is extruded and coated can be strengthened.

【0013】サンドイッチラミネーションの接着性樹脂
に使用する熱可塑性樹脂は、基材シートと中間層との接
着を行うものであり、溶融押出し加工ができる低密度ポ
リエチレン、密度が0.915〜0.940のE・O共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ア
クリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重
合体、アイオノマー、ポリプロピレンなどの溶融押出し
コートができる熱可塑性樹脂から選択できる。接着性樹
脂層の厚みは10〜60μmであり、またこの樹脂層で
蓋材のクッション機能をもたせることができる。10μ
m未満であると溶融押出しコートを行うとき樹脂の流れ
に乱れを生じやすく厚みムラ原因となったり、クッショ
ン効果を期待するときは、その機能を発揮できなかった
りする。また、60μmを超えるとヒートシール性が低
下する。
The thermoplastic resin used for the adhesive resin for sandwich lamination is for bonding the base sheet and the intermediate layer, and is a low-density polyethylene that can be melt-extruded, and has a density of 0.915 to 0.940. And a thermoplastic resin capable of being melt-extruded and coated, such as an E / O copolymer, an ethylene / vinyl acetate copolymer, an ethylene / acrylic acid copolymer, an ethylene / acrylic ester copolymer, an ionomer, and a polypropylene. The thickness of the adhesive resin layer is 10 to 60 μm, and the resin layer can have a cushion function of the lid. 10μ
If it is less than m, the flow of the resin tends to be turbulent when performing the melt extrusion coating, which causes unevenness in the thickness. When a cushioning effect is expected, its function cannot be exhibited. On the other hand, when the thickness exceeds 60 μm, the heat sealability decreases.

【0014】図示はしないが、基材シートに接着剤層を
設けずに直接、又はプライマー層を介して中間層を溶融
押出しコート、共押出し多層コート、熱可塑性樹脂を含
む溶液を塗工するホットラッカーコートで単層や多層の
中間層を構成することもできる。
Although not shown, the intermediate layer is melt-extruded directly, without providing an adhesive layer on the base material sheet, or through a primer layer, co-extruded multi-layered coating, or a hot solution for applying a solution containing a thermoplastic resin. A lacquer coat may be used to form a single-layer or multilayer intermediate layer.

【0015】単層の中間層は、密度が0.915〜0.
940のE・O共重合体30〜70重量%と、スチレン
50〜90重量%とブタジエン50〜10重量%とのS
・B共重合体70〜30重量%とからなる樹脂組成物に
より形成される。中間層の形成に使用するE・O共重合
体は、エチレンと、例えば、ブテン、ペンテン、ヘキセ
ン、ヘプテン、オクテン、4−メチルペンテン1などと
の共重合体である。このようなE・O共重合体の密度
が、0.915未満、あるいは0.940を超える場
合、S・B共重合体との組合せによる中間層の製膜性が
低下することとなり好ましくない。S・B共重合体を形
成するスチレンの量が50重量%未満であると、フィル
ムの粘着性が増して取扱い難くなり、90重量%を超え
るとHS層との剥離強度が弱く、蓋材としての剥離強度
も弱くなり好ましくない。
The single intermediate layer has a density of 0.915 to 0.1.
940 of EO copolymer, 30 to 70% by weight of styrene, 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 10% by weight of butadiene.
-It is formed of a resin composition comprising 70 to 30% by weight of a B copolymer. The EO copolymer used for forming the intermediate layer is a copolymer of ethylene and, for example, butene, pentene, hexene, heptene, octene, 4-methylpentene 1, and the like. When the density of such an EO copolymer is less than 0.915 or more than 0.940, the film forming property of the intermediate layer due to the combination with the SB copolymer is undesirably reduced. If the amount of styrene forming the SB copolymer is less than 50% by weight, the adhesiveness of the film increases, making it difficult to handle. If it exceeds 90% by weight, the peel strength with the HS layer is weak, and as a lid material, Is also not preferred because the peel strength is also weakened.

【0016】そして、前記中間層のE・O共重合体とS
・B共重合体との混合比は、合成樹脂容器(キャリアテ
ープ)と本発明の蓋材とをヒートシール後の剥離強度
と、蓋材の透明性とに大きく影響する。E・O共重合体
とS・B共重合体との混合比が、E・O共重合体が30
重量%未満、S・B共重合体70重量%を超える場合、
中間層の成膜性が悪化し、透明性も低下する。また、中
間層とHS層との剥離強度も大きくなり、蓋材の剥離強
度も実用強度よりを超えることになり好ましくない。一
方、E・O共重合体が70重量%を超え、S・B共重合
体が30重量%未満であると、中間層25とHS層1と
の接着が弱く、蓋材の剥離強度が適正値を下回ることと
なり好ましくない。中間層の厚みは10〜60μmが好
ましく、中間層の厚みが10μm未満のときは成膜性が
悪く、厚みのムラを生じやすく、また60μmを超える
と、蓋材の熱伝達性が低下するばかりでなくコシが強く
なり、ヒートシールや生産性が低下する原因となる。
The EO copolymer of the intermediate layer and S
The mixing ratio with the B copolymer greatly affects the peel strength of the synthetic resin container (carrier tape) and the lid of the present invention after heat sealing, and the transparency of the lid. When the mixing ratio of the EO copolymer and the SB copolymer is 30 and the EO copolymer is 30
% By weight and more than 70% by weight of the SB copolymer,
The film formability of the intermediate layer deteriorates, and the transparency also decreases. In addition, the peel strength between the intermediate layer and the HS layer also increases, and the peel strength of the lid member exceeds the practical strength, which is not preferable. On the other hand, if the EO copolymer exceeds 70% by weight and the SB copolymer is less than 30% by weight, the adhesion between the intermediate layer 25 and the HS layer 1 is weak, and the peel strength of the lid material is appropriate. The value is below the value, which is not preferable. The thickness of the intermediate layer is preferably from 10 to 60 μm. When the thickness of the intermediate layer is less than 10 μm, the film-forming property is poor, and the thickness tends to be uneven. However, the stiffness becomes stronger, which causes a decrease in heat sealing and productivity.

【0017】中間層は、図2あるいは図3に示す構成の
ように多層共押出しで好ましく成膜することができる。
多層で成膜することにより、成膜適性が劣る剥離中間層
を緩衝中間層や、成膜性が優れる補強中間層と共押出し
成膜によるラミナーフローで、安定した膜厚みをもつ中
間層を形成できる。この場合、HS層と接する剥離中間
層20は、密度が0.915〜0.940のE・O共重
合体30〜70重量%と、スチレン50〜90重量%と
ブタジエン50〜10重量%とのS・B共重合体50〜
90重量%からなるS・B共重合体とが70〜30重量
%からなる樹脂組成物から形成する。
The intermediate layer can be preferably formed by multilayer co-extrusion as shown in FIG. 2 or FIG.
By forming a multilayer film, a laminar flow is formed by co-extruding a peeling intermediate layer with poor film forming aptitude and a buffering intermediate layer, and a reinforcing intermediate layer with excellent film forming properties to form an intermediate layer with a stable film thickness. it can. In this case, the release intermediate layer 20 in contact with the HS layer is composed of 30 to 70% by weight of an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940, 50 to 90% by weight of styrene, and 50 to 10% by weight of butadiene. SB copolymer 50 ~
90% by weight of the SB copolymer is formed from a resin composition of 70 to 30% by weight.

【0018】図2は、2層構成の中間層を設けた蓋材1
0の断面概略図であり、中間層2は補強中間層21と剥
離中間層20とから構成されている。この場合、補強中
間層21は、密度が0.915〜0.940のE・O共
重合体で形成される。そしてHS層3と接触する剥離中
間層20は、密度が0.915〜0.940のE・O共
重合体30〜70重量%と、スチレン50〜90重量%
とブタジエン50〜10重量%とのS・B共重合体70
〜30重量%からなる樹脂組成物により形成される。そ
して、この2層の中間層の総厚みは、30μm以上に、
それぞれの厚みは最低5μm程度に構成できる。好まし
い構成は、成膜し難く、価格的に高い剥離中間層20を
5〜10μmとうすくし、安価で成膜が容易な補強中間
層21を厚くした構成が、生産性、価格の点からも有利
な方法である。
FIG. 2 shows a lid member 1 provided with a two-layered intermediate layer.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of FIG. 0, wherein the intermediate layer 2 is composed of a reinforcing intermediate layer 21 and a release intermediate layer 20. In this case, the reinforcing intermediate layer 21 is formed of an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940. The peeling intermediate layer 20 which comes into contact with the HS layer 3 has a density of 30 to 70% by weight of an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940 and 50 to 90% by weight of styrene.
SB copolymer 70 of butadiene and 50 to 10% by weight
It is formed by a resin composition consisting of about 30% by weight. And the total thickness of these two intermediate layers is 30 μm or more,
Each thickness can be configured to be at least about 5 μm. The preferred configuration is such that the peeling intermediate layer 20, which is difficult to form a film, is expensive, is thinned to 5 to 10 μm, and the reinforcing intermediate layer 21, which is inexpensive and easy to form a film, is thicker, from the viewpoint of productivity and cost. This is an advantageous method.

【0019】図3は、3層構成の中間層を設けた蓋材1
0の断面概略図であり、中間層2は補強中間層21、緩
衝樹脂層22と剥離中間層20とから構成されている。
この場合、補強樹脂層21は、密度が0.915〜0.
940のE・O共重合体で形成される。そしてHS層3
と接触する剥離中間層20は、密度が0.915〜0.
940のE・O共重合体30〜70重量%と、スチレン
50〜90重量%とブタジエン50〜10重量%とのS
・B共重合体70〜30重量%からなる樹脂組成物によ
り形成される。そして、緩衝中間層22は、剥離中間層
20よりもE・O共重合体の混合比率が大きい層であ
る。また、中間層を成膜したときに副生するフィルム端
部のスクラップを適宜に混入することもできる。この3
層の中間層の総厚みは、30μm以上に、そしてそれぞ
れの厚みは最低3μm程度に構成できる。好ましい構成
は、成膜し難く、価格的に高い剥離中間層20を3〜1
0μmの範囲でうすくし、安価で成膜が容易なE・O共
重合体を多く含む層を厚くした構成が、生産性、価格の
点からも有利な方法である。
FIG. 3 shows a lid member 1 provided with a three-layer intermediate layer.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along a line 0 in FIG.
In this case, the reinforcing resin layer 21 has a density of 0.915 to 0.1.
940 EO copolymer. And HS layer 3
The peeling intermediate layer 20 that comes into contact with the metal has a density of 0.915 to 0.1.
940 of EO copolymer, 30 to 70% by weight of styrene, 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 10% by weight of butadiene.
-It is formed by a resin composition comprising 70 to 30% by weight of the B copolymer. The buffer intermediate layer 22 is a layer having a higher mixing ratio of the EO copolymer than the release intermediate layer 20. In addition, scraps at the edges of the film, which are by-produced when the intermediate layer is formed, can be appropriately mixed. This 3
The total thickness of the intermediate layers of the layers can be greater than or equal to 30 μm, and their respective thicknesses can be as low as about 3 μm. A preferable configuration is that the peeling intermediate layer 20 which is difficult to form a film and is expensive in price is 3 to 1
A configuration in which a layer containing a large amount of an EO copolymer which is thin and inexpensive and easy to form a film in the range of 0 μm is thick is also an advantageous method from the viewpoint of productivity and cost.

【0020】中間層2は、インフレーション法、Tダイ
ス法などの単層又は多層の共押出し成膜法で得たフィル
ムを、ドライラミネーションやサンドイッチラミネーシ
ョンなどの通常の方法で積層したり、これらの材料を共
押出しコートで基材シートに直接設けることもできる。
別工程でフィルム化する中間層は、共押出しコートで得
られる中間層と比較して、作業工程上厚くなるが、小ロ
ットの生産方法に適したものである。
The intermediate layer 2 is formed by laminating a film obtained by a single-layer or multilayer co-extrusion film forming method such as an inflation method or a T-die method by an ordinary method such as dry lamination or sandwich lamination, Can be directly provided on the substrate sheet by a co-extrusion coat.
The intermediate layer formed into a film in another step is thicker in the working process than the intermediate layer obtained by co-extrusion coating, but is suitable for a small lot production method.

【0021】単層の中間層が、S・B共重合体水添物、
及びHIPSを用いた樹脂により形成する場合、上記の
E・O共重合体を30〜70重量部とスチレン50〜9
0重量%とブタジエン50〜10重量%よりなるS・B
共重合体70〜30重量部との樹脂組成物100重量部
に対して、スチレン10〜50重量部とブタジエン90
〜50重量部とのS・B共重合体水添物を5〜30重量
部を添加し、更にHIPSを5〜50重量部を添加する
ことが好ましい。S・B共重合体水添物の量が5重量部
未満の場合、ブタジエン成分が高く、酸化され易く、中
間層のフィルムを形成するときにゲル状物を発生し易く
なる。また、S・B共重合体水添物が30重量部を超え
ると、得られるフィルムの耐ブロッキング性が不十分で
あり好ましくはない。S・B共重合体水添物の水素添加
率が不十分の場合は、ブタジエン成分が高く成膜時の温
度で酸化されやすく、ゲルを発生しやすくなる。S・B
共重合体の非水素添加物を使用した場合製膜性が悪く、
フィルムを形成できないこともある。
A single intermediate layer is composed of a hydrogenated SB copolymer,
And a resin using HIPS, 30 to 70 parts by weight of the above EO copolymer and 50 to 9 parts of styrene.
SB consisting of 0% by weight and 50 to 10% by weight of butadiene
10 to 50 parts by weight of styrene and 90 parts of butadiene are added to 100 parts by weight of the resin composition containing 70 to 30 parts by weight of the copolymer.
It is preferable to add 5 to 30 parts by weight of the hydrogenated SB copolymer with 50 to 50 parts by weight, and further add 5 to 50 parts by weight of HIPS. When the amount of the hydrogenated SB copolymer is less than 5 parts by weight, the butadiene component is high, easily oxidized, and easily forms a gel when forming the film of the intermediate layer. On the other hand, if the hydrogenated amount of the SB copolymer exceeds 30 parts by weight, the resulting film has insufficient blocking resistance, which is not preferred. If the hydrogenation rate of the hydrogenated SB copolymer is insufficient, the butadiene component is high and easily oxidized at the temperature at the time of film formation, so that a gel is easily generated. SB
When a non-hydrogenated copolymer is used, film forming properties are poor,
Sometimes a film cannot be formed.

【0022】上記のE・O共重合体とS・B共重合体と
の樹脂組成物100重量部に対して、HIPSの添加量
が50重量部を超えると積層体やこれを用いた蓋材の透
明性が低下し好ましくない。また、HIPSが5重量部
に満たない場合は、HS層との接着強度が不足し、また
50重量部を超えるとHS層との剥離強度が大きすぎ
て、蓋材の剥離強度が適性値を上回り好ましいものでは
ない。
When the addition amount of HIPS exceeds 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition of the above-mentioned EO copolymer and SB copolymer, the laminate and the lid material using the same may be used. Is undesirably low in transparency. Further, when the HIPS is less than 5 parts by weight, the adhesive strength with the HS layer is insufficient, and when it exceeds 50 parts by weight, the peel strength with the HS layer is too large, and the peel strength of the lid material has an appropriate value. It is not more preferable.

【0023】中間層が3層構成で形成される剥離中間層
20は、密度が0.915〜0.940のE・O共重合
体30〜70重量%と、スチレン50〜90重量%とブ
タジエン50〜10重量%とのS・B共重合体70〜3
0重量%部からなる樹脂組成物100重量部に対して、
スチレン10〜50重量%とブタジエン50〜90重量
%とのS・B共重合体水添物を0〜30重量部と、HI
PS5〜50重量部とが添加されている樹脂組成物によ
り形成することもできる。この3層の中間層の総厚み
は、30μm以上とし、それぞれの厚みは最低5μm程
度に構成できる。好ましい構成は、成膜し難く、価格的
に高い剥離中間層20を3〜10μmとうすくし、安価
で成膜が容易なE・O共重合体を多く含む層を厚くした
構成が、生産性、価格の点からも有利な方法である。
The peeling intermediate layer 20 in which the intermediate layer is formed in a three-layer structure is composed of 30 to 70% by weight of an EO copolymer having a density of 0.915 to 0.940, 50 to 90% by weight of styrene, and butadiene. SB copolymer 70 to 3 with 50 to 10% by weight
With respect to 100 parts by weight of the resin composition comprising 0% by weight,
0 to 30 parts by weight of an SB copolymer hydrogenated product of 10 to 50% by weight of styrene and 50 to 90% by weight of butadiene;
It can also be formed from a resin composition to which 5 to 50 parts by weight of PS is added. The total thickness of the three intermediate layers is 30 μm or more, and the thickness of each of the three intermediate layers can be at least about 5 μm. A preferable configuration is that the thickness of the layer containing a large amount of the EO copolymer, which is difficult to form a film and makes the peeling intermediate layer 20 which is expensive and thin is 3 to 10 μm, and which is inexpensive and easy to form, is high in productivity. This is an advantageous method in terms of price.

【0024】本発明のHS層は、ガラス転移温度Tgが
−10℃〜100℃のアクリル系樹脂を主成分とする熱
可塑性樹脂と酸化錫を主剤とする導電性微粉末とから構
成できる。ガラス転移温度Tgが−10℃未満であると
耐ブロッキング性が劣り、100℃を超えると耐ブロッ
キング性は向上するがヒートシール温度が高くなる。ア
クリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどから
選ばれた1種又は2種以上のエステルのポリマー又はコ
ポリマーから選択する(本明細書において、(メタ)ア
ク・・・・は、メタアクリル・・・及びアクリル・・を
意味するものである。)。その他、ウレタン(メタ)ア
クリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポ
キシアクリレートなどのポリマーや、その他の熱可塑性
樹脂である線状飽和ポリエステルや、ウレタン系樹脂、
塩化ビニル・酢酸ビニル系共重合体などを適宜に混合し
て使用することもできる。HS層には、必要に応じて、
分散安定剤、ブロッキング防止剤などを添加して構成す
る。
The HS layer of the present invention can be composed of a thermoplastic resin whose main component is an acrylic resin having a glass transition temperature Tg of -10 ° C. to 100 ° C. and a conductive fine powder whose main component is tin oxide. When the glass transition temperature Tg is less than -10 ° C, the blocking resistance is poor. When the glass transition temperature Tg exceeds 100 ° C, the blocking resistance is improved but the heat sealing temperature is increased. Acrylic resin is methyl (meth) acrylate, (meth)
Selected from polymers or copolymers of one or more esters selected from ethyl acrylate, butyl (meth) acrylate, and the like (in the present specification, (meth) act... And acrylic.). In addition, polymers such as urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy acrylate, and other thermoplastic resins such as linear saturated polyester and urethane resin,
A vinyl chloride / vinyl acetate copolymer or the like may be appropriately mixed and used. In the HS layer, if necessary,
It is constituted by adding a dispersion stabilizer, an anti-blocking agent and the like.

【0025】導電性微粉末は、酸化錫を主成分とし、他
に酸化亜鉛、酸化チタンなどの金属酸化物に導電性をも
たせた導電性微粒子、硫化亜鉛、硫化銅、硫化カドミウ
ム、硫化ニッケル、硫化パラジウムなどの硫化物に導電
性をもたせた導電性微粒子を上記、前記アクリル系樹脂
に添加したHS層の組成物を構成できる。このとき、ア
クリル系樹脂と導電性微粉末との比率は、10〜400
/100の範囲に構成することが好ましい。HS層の塗
工厚みは1〜10μm好ましくは1〜5μmである。ア
クリル系樹脂が、10/100未満であると、所望のヒ
ートシール性、剥離強度が得られず、また400/10
0を超えると必要な導電性が得られず、表面抵抗率が1
12Ω/□を超え、電荷減衰時間も2秒を超えるばかり
でなく、キャリアテープとヒートシールしたのちの剥離
強度も強く実用には供し得ないものである。
The conductive fine powder is mainly composed of tin oxide, conductive fine particles made of metal oxides such as zinc oxide and titanium oxide, and zinc sulfide, copper sulfide, cadmium sulfide, nickel sulfide, and the like. The composition of the HS layer can be formed by adding conductive fine particles obtained by imparting conductivity to a sulfide such as palladium sulfide to the acrylic resin. At this time, the ratio between the acrylic resin and the conductive fine powder is 10 to 400.
It is preferable to configure the ratio in the range of / 100. The coating thickness of the HS layer is 1 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. If the acrylic resin is less than 10/100, desired heat sealability and peel strength cannot be obtained, and 400/10
If it exceeds 0, the required conductivity cannot be obtained and the surface resistivity becomes 1
0 12 Ω / □ to exceed not only more than 2 seconds charge decay time, is also strongly practical peel strength After the carrier tape and the heat seal in which not subjected.

【0026】本発明の成形容器の蓋材10は、次のよう
な剥離形態を示すことガ好ましい。すなわち、図5
(A)に示すように、例えばキャリアテープ5にヒート
シールされた蓋材10をキャリアテープから剥離すると
き、図5(B)に示すとおりに中間層2とHS層3との
層間における剥離(層間剥離、界面剥離)、又は図示は
しないが比較的薄膜で形成されたときは、HS層3の層
内における凝集破壊による剥離を生じる剥離形態が好ま
しいものである。この場合、HS層3と中間層2との剥
離強度は、HS層3とキャリアテープ5とのヒートシー
ル強度(剥離強度)、中間層の各層間の剥離強度、基材
シートと中間層との接着強度(剥離強度)のいずれより
弱く構成されるものである。そして、キャリアテープと
蓋材との剥離強度は、10〜100g/1mm巾が好ま
しい。剥離強度が10g/1mm巾未満になると、蓋材
をヒートシールしたのちの容器を移送するときに、中間
層2とHS層3との層間において剥離が生じ、内容物が
脱落する危険性がある。また、剥離強度が100g/1
mm巾を超えると、蓋材を剥離するとき、キャリアテー
プが振動して内容物が飛び出す恐れがあり好ましくな
い。また、ジップアップは、40g/1mm巾以下が好
ましく、40g/1mm巾を超えると合成樹脂容器が振
動して内容物が飛び出す恐れがあり好ましくない。
The cover 10 of the molded container of the present invention preferably exhibits the following peeling form. That is, FIG.
As shown in FIG. 5A, for example, when the cover material 10 heat-sealed to the carrier tape 5 is peeled off from the carrier tape, the peeling between the intermediate layer 2 and the HS layer 3 as shown in FIG. (Interlayer delamination, interfacial delamination) or, although not shown, when formed of a relatively thin film, a delamination form in which delamination due to cohesive failure in the layer of the HS layer 3 is preferable. In this case, the peel strength between the HS layer 3 and the intermediate layer 2 includes the heat sealing strength (peel strength) between the HS layer 3 and the carrier tape 5, the peel strength between the intermediate layers, and the strength between the base sheet and the intermediate layer. It is configured to be weaker than any of the adhesive strength (peel strength). The peel strength between the carrier tape and the lid material is preferably from 10 to 100 g / 1 mm. If the peel strength is less than 10 g / 1 mm width, peeling may occur between the intermediate layer 2 and the HS layer 3 when transferring the container after the lid material is heat-sealed, and there is a risk that the contents may fall off. . Further, the peel strength is 100 g / 1.
If the width exceeds mm, the carrier tape may vibrate when the cover material is peeled off, and the contents may fly out. Further, the zip-up is preferably not more than 40 g / 1 mm width, and if it is more than 40 g / 1 mm width, the synthetic resin container may vibrate and the contents may jump out, which is not preferable.

【0027】本発明のHS層の塗工は、塗工液粘度、流
動性、乾燥性などの塗工液の特性と、(中間層を積層し
た)基材シートの耐熱性などの性質によって決められ
る。そして、塗工量を安定するためにはグラビア凹版を
使用して、グラビア版のスクリーン線が塗工面に具現さ
れることを嫌うときはロールコート法が採用される。そ
して、塗工面のスムージングを必要とするときはリバー
スコートやエアナイフコートが採用される。HS層の塗
工量は、0.5〜10μmの乾燥厚みが好ましく、0.
5μm未満のときは、剥離強度にむらがあり、また10
μmを超えるときは、ヒートシールするときの必要熱量
が大きくなり、ヒートシール温度が高くなって生産性が
落ちるばかりでなく、材料の浪費となる。
The application of the HS layer of the present invention is determined by the properties of the coating liquid such as the viscosity, fluidity and drying property of the coating liquid, and the properties such as heat resistance of the base sheet (on which the intermediate layer is laminated). Can be In order to stabilize the amount of coating, a gravure intaglio is used. If it is not desired that the screen lines of the gravure are embodied on the coating surface, a roll coating method is employed. When the coating surface needs to be smoothed, a reverse coat or an air knife coat is used. The coating amount of the HS layer is preferably 0.5 to 10 μm in dry thickness.
When it is less than 5 μm, the peel strength is uneven, and
When the thickness exceeds μm, the amount of heat required for heat sealing becomes large, and the heat sealing temperature becomes high, thereby lowering productivity and wasting material.

【0028】本発明のHS層は、22℃、相対湿度40
%の条件下で測定した表面抵抗率が105 〜1012Ω/
□の範囲であり、また23±5℃、相対湿度12±3%
以下の条件において、5000Vから99%減衰するま
での電荷減衰時間が2秒以下の優れた静電気特性をも
つ。上記の表面抵抗率が1012Ω/□を超えると、静電
気拡散の効果が極端に悪くなり、電子部品を静電気破壊
から保護することが困難となる。また、105 Ω/□未
満になると、外部から蓋材を介して電子部品に通電する
可能性があり、電子部品が電気的に破壊される危険性を
含む。一方、静電気により発生する電荷の拡散速度の目
安である電荷減衰時間が2秒を超える場合、電気拡散効
果が極端に悪くなり、電子部品を静電気破壊から保護す
ることが困難になる。なお、上記の電荷減衰時間は、米
国の軍規格であるMIL−B−81705Cに準拠して
測定することができる。
The HS layer of the present invention has a temperature of 22 ° C. and a relative humidity of 40.
Surface resistivity measured by the% conditions of 10 5 ~10 12 Ω /
□ range, 23 ± 5 ° C, relative humidity 12 ± 3%
Under the following conditions, it has excellent static electricity characteristics in which the charge decay time from 5000 V to 99% decay is 2 seconds or less. When the above surface resistivity exceeds 10 12 Ω / □, the effect of electrostatic diffusion is extremely deteriorated, and it becomes difficult to protect electronic components from electrostatic damage. If the resistance is less than 10 5 Ω / □, there is a possibility that the electronic components may be energized from the outside via the lid member, which involves a risk of the electronic components being electrically destroyed. On the other hand, if the charge decay time, which is a measure of the rate of diffusion of charges generated by static electricity, exceeds 2 seconds, the electric diffusion effect becomes extremely poor, and it becomes difficult to protect the electronic components from electrostatic breakdown. The above-mentioned charge decay time can be measured in accordance with MIL-B-81705C which is a US military standard.

【0029】本発明の蓋材は、ポリカーボネート、ポリ
スチレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ABS製の
シートから形成されたキャリアテープ、又はこれらに静
電気対策として、導電性カーボン、金属微粒子、金属酸
化物に導電性をもたせた導電性微粒子、Si系有機化合
物、導電性高分子、界面活性剤を練り混んだり、塗工し
たものに対し、ヒートシールできるものであり、そして
剥離をする時は、HS層と中間層との間で層間剥離、あ
るいはHS層で凝集破壊をするヒートシール条件に関係
なく安定した剥離性能をもつものである。
The cover material of the present invention may be a carrier tape formed from a sheet made of polycarbonate, polystyrene, polyester, polyvinyl chloride, ABS, or a conductive tape made of conductive carbon, metal fine particles, or metal oxide as a measure against static electricity. It can be heat-sealed to kneaded and mixed conductive fine particles, Si-based organic compounds, conductive polymers, and surfactants that have properties, and when peeled off, the HS layer and It has a stable peeling performance irrespective of heat sealing conditions for delamination with the intermediate layer or cohesive failure in the HS layer.

【0030】以下、実施例及び比較例の実験例に基づい
て本発明を更に詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on experimental examples of Examples and Comparative Examples.

【実験例】(実施例及び比較例)図1〜図3に示すよう
に帯電防止処理を施した厚み9μmの二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートシート(基材シート1)の一方の側
と、表1に示すとおりに総厚み35μmでインフレーシ
ョン成膜した中間層2とを、硬化型のウレタン系接着剤
(接着剤層4)を介してドライラミネーションで積層し
た。次いで、中間層2の側に表1及び表2に示す組成の
HS層3をグラビアリバース法で3μmの厚みで塗工し
て実施例1〜8及び比較例1〜11の蓋材10を作成し
た。 E・O共重合体:ウルトゼックス3550A 三井石油化学工業(株)製 商品名 密度0.925 略号 LL S・B共重合体:アサフレックス810 旭化成工業(株)製 商品名 S・B共重合体水添物:タフテックスH1041 旭化成工業(株)製 商品名 略号 SBC HIPS:スタイロン475D 旭化成工業(株)製 商品名 略号 PS
Experimental Example (Examples and Comparative Examples) As shown in FIGS. 1 to 3, one side of a 9 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate sheet (base sheet 1) subjected to an antistatic treatment and Table 1 As shown, the intermediate layer 2 formed by inflation film formation with a total thickness of 35 μm was laminated by dry lamination via a curable urethane-based adhesive (adhesive layer 4). Then, the HS layer 3 having the composition shown in Tables 1 and 2 was applied on the side of the intermediate layer 2 with a thickness of 3 μm by the gravure reverse method to form the lid members 10 of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 11. did. E / O copolymer: Ultzex 3550A manufactured by Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd. Product name Density 0.925 Abbreviation LL SB copolymer: Asaflex 810 Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. Product name SB copolymer Hydrogenated product: Tuftex H1041 Trade name abbreviation made by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. SBC HIPS: Stylon 475D Trade name made by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. PS

【0031】実施例及び比較例の蓋材について次の項目
について評価した。 ・中間層の成膜性:中間層を成膜するとき成膜の状態を
目視で評価した。 ・ヘーズ値:JIS K7105 6.4に基づいて、
積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率及び
ヘーズ値を算出した。 ・剥離強度:ポリスチレン製キャリアテープに、(ヒー
トシール温度120℃及び160℃、ヒートシール圧を
3kg/cm2 、ヒートシール時間を0.4秒×2度打
ち、ヒートシール巾0.5mm×2列)の条件でヒート
シールし、165〜180度の剥離角度で剥離強度を測
定した。 ・剥離強度の最高値と最小値との差をジップアップとし
た。 ・剥離部の位置を目視で評価し、HS層が他の層との間
で剥離した場合を○とした。 ・表面抵抗値:表面抵抗率(JIS K69911)及
び電荷減衰時間(米軍規格であるMIL−B−8170
5C)に準拠して測定した。 ・耐ブロッキング性(耐BL性):キャリアテープの2
00m巻きを、40℃、相対湿度90%の 条件で2ケ
月間保存した後、巻きほぐし、全く密着しないものを
○、一部剥離抵抗を感ずるものを×と密着の状態を評価
した。
The following items were evaluated for the lid materials of the examples and comparative examples. -Film formation property of intermediate layer: The state of film formation when forming the intermediate layer was visually evaluated. Haze value: Based on JIS K7105 6.4
The total light transmittance and the haze value were calculated using an integrating sphere light transmittance measuring device. Peel strength: Polystyrene carrier tape (heat seal temperature 120 ° C. and 160 ° C., heat seal pressure 3 kg / cm 2 , heat seal time 0.4 seconds × 2 times, heat seal width 0.5 mm × 2 Row), and the peel strength was measured at a peel angle of 165 to 180 degrees. -The difference between the maximum value and the minimum value of the peel strength was defined as zip-up. -The position of the peeled portion was visually evaluated, and the case where the HS layer was peeled off from another layer was evaluated as "O". Surface resistance value: Surface resistivity (JIS K69911) and charge decay time (MIL-B-8170, a U.S. military standard)
5C). -Blocking resistance (BL resistance): 2 of carrier tape
After the 00 m roll was stored at 40 ° C. and a relative humidity of 90% for 2 months, the state of adhesion was evaluated by unwrapping the roll, which did not adhere at all, and the partially felt resistance to peeling was evaluated as x.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】[0033]

【表2】 [Table 2]

【0034】[0034]

【表3】 [Table 3]

【0035】[0035]

【表4】 [Table 4]

【0036】[0036]

【発明の効果】酸化錫を主剤とする導電性微粉末に対し
て、ガラス転移点Tg=−10〜100℃のアクリル系
樹脂樹脂を主成分とするHS層は、優れた静電気発生防
止効果をもつものである。そして、E・O共重合体とS
・B共重合体とS・B共重合体水添物及びHIPSのう
ち少なくともE・O共重合体及びS・B共重合体を含む
2種以上の樹脂により形成された中間層に前記HS層を
設けた蓋材は、キャリアテープから剥離するとき、中間
層とHS層との間で安定して剥離する効果を奏する。
According to the present invention, an HS layer mainly composed of an acrylic resin having a glass transition point Tg of -10 to 100 ° C. has an excellent effect of preventing static electricity generation from conductive fine powder mainly containing tin oxide. It has something. Then, the EO copolymer and S
An intermediate layer formed of at least two resins including at least an EO copolymer and an SB copolymer among a hydrogenated product of a B copolymer, an SB copolymer, and HIPS; The lid member provided with has an effect of stably separating between the intermediate layer and the HS layer when peeled from the carrier tape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の蓋材の断面を表す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing a cross section of a lid material of the present invention.

【図2】本発明の他の構成を示す断面を表す概念図であ
る。
FIG. 2 is a conceptual diagram showing a cross section showing another configuration of the present invention.

【図3】本発明の他の構成を示す断面を表す概念図であ
る。
FIG. 3 is a conceptual diagram showing a cross section showing another configuration of the present invention.

【図4】本発明の他の積層構成を示す断面を表す概念図
である。
FIG. 4 is a conceptual diagram showing a cross section showing another laminated structure of the present invention.

【図5】キャリアテープの剥離状況を説明するための断
面を表す概念図である。 (A)蓋材とキャリアテープとをヒートシールした状態
を示す断面概略図である。 (B)ヒートシールした蓋材をキャリアテープより剥離
した状態の断面を示す概念図である。
FIG. 5 is a conceptual diagram showing a cross section for explaining a peeling state of a carrier tape. FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing a state where a lid member and a carrier tape are heat-sealed. (B) is a conceptual diagram showing a cross section in a state where the heat-sealed lid material is peeled off from the carrier tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材シート 2 中間層 3 HS層 4 接着剤層 5 キャリアテープ(成形容器) 10 蓋材 20 剥離中間層 21 補強中間層 22 緩衝中間層 31 剥離部 35 ヒートシール部 40 接着性樹脂層 41、42 プライマー層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base sheet 2 Intermediate layer 3 HS layer 4 Adhesive layer 5 Carrier tape (molded container) 10 Cover material 20 Exfoliation intermediate layer 21 Reinforcement intermediate layer 22 Buffer intermediate layer 31 Exfoliation part 35 Heat seal part 40 Adhesive resin layer 41, 42 Primer layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B32B 27/32 103 B32B 27/32 103 B65D 73/02 B65D 73/02 M ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B32B 27/32 103 B32B 27/32 103 B65D 73/02 B65D 73/02 M

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともヒートシーラント層と、中間
層及び基材シートとからなる成形容器用の蓋材におい
て、前記ヒートシーラント層が、ガラス転移点Tgが−
10〜100℃のアクリル系樹脂を主成分とする熱可塑
性樹脂と、酸化錫を主とする導電性微粉末とから構成さ
れることを特徴とする蓋材。
1. A lid material for a molded container comprising at least a heat sealant layer, an intermediate layer and a base sheet, wherein the heat sealant layer has a glass transition point Tg of −
A lid material comprising a thermoplastic resin whose main component is an acrylic resin at 10 to 100 ° C. and conductive fine powder mainly containing tin oxide.
【請求項2】 前記ヒートシーラント層を構成する熱可
塑性樹脂と導電性微粉末との重量比が、10〜400/
100であることを特徴とする蓋材。
2. The weight ratio of the thermoplastic resin and the conductive fine powder constituting the heat sealant layer is 10 to 400 /
A cover material characterized by being 100.
【請求項3】 前記中間層は単層構造であり、密度0.
915〜0.940g/cm3 のエチレン・αオレフィ
ン共重合体が30〜70重量%と、スチレン50〜90
重量%とブタジエン50〜10重量%とのスチレン・ブ
タジエンブロック共重合体が70〜30重量%とからな
る樹脂組成物より形成されたことを特徴とする請求項1
乃至2に記載の蓋材。
3. The intermediate layer has a single-layer structure and a density of 0.1.
915 to 0.940 g / cm 3 of an ethylene / α-olefin copolymer is 30 to 70% by weight, and styrene 50 to 90%.
2. A resin composition comprising 70 to 30% by weight of a styrene-butadiene block copolymer of 50% by weight and 50 to 10% by weight of butadiene.
3. The lid material according to any one of claims 1 to 2.
【請求項4】 前記中間層は単層構造であり、密度0.
915〜0.940g/cm3 のエチレン・αオレフィ
ン共重合体と、スチレン50〜90重量%とブタジエン
50〜10重量%とのスチレン・ブタジエンブロック共
重合体と、スチレン10〜50重量%とブタジエン90
〜50重量%とのスチレン・ブタジエン共重合体の水素
添加物、及びハイインパクトポリスチレンとからなる樹
脂組成物より形成されたことを特徴とする請求項1乃至
3のいずれかに記載の蓋材。
4. The intermediate layer has a single-layer structure and a density of 0.1.
915-0.940 g / cm 3 ethylene / α-olefin copolymer, styrene / butadiene block copolymer of 50-90% by weight of styrene and 50-10% by weight of butadiene, 10-50% by weight of styrene and butadiene 90
The lid material according to any one of claims 1 to 3, wherein the lid material is formed from a resin composition comprising a hydrogenated product of a styrene / butadiene copolymer of about 50% by weight and high impact polystyrene.
【請求項5】 前記中間層は、基材シート側に設ける補
強中間層と、必要に応じて設ける緩衝中間層、及びヒー
トシーラント層側に位置する剥離中間層との多層構造よ
りなり、補強中間層は密度0.915〜0.940g/
cm3 のエチレン・αオレフィン共重合体より形成さ
れ、緩衝中間層は密度0.915〜0.940g/cm
3 のエチレン・αオレフィン共重合体を30〜70重量
%と、スチレン50〜90重量%とブタジエン50〜1
0重量%とのスチレン・ブタジエンブロック共重合体が
70〜30重量%とからなる樹脂組成物より形成され、
剥離中間層は密度0.915〜0.940g/cm3
エチレン・αオレフィン共重合体を30〜70重量%
と、スチレン50〜90重量%とブタジエン50〜10
重量%とのスチレン・ブタジエンブロック共重合体が7
0〜30重量%とからなる樹脂組成物100重量部に対
してスチレン10〜50重量%とブタジエン90〜50
重量%とのスチレン・ブタジエン共重合体の水素添加物
5〜30重量部と、ハイインパクトポリスチレン5〜5
0重量部とが添加されている樹脂組成物より形成された
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の蓋
材。
5. The intermediate layer has a multilayer structure of a reinforcing intermediate layer provided on the base sheet side, a buffer intermediate layer provided as necessary, and a peeling intermediate layer located on the heat sealant layer side. The layer has a density of 0.915 to 0.940 g /
cm 3 of an ethylene / α-olefin copolymer, and the buffer intermediate layer has a density of 0.915 to 0.940 g / cm 3.
30 to 70% by weight of ethylene / α-olefin copolymer 3 , 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 1% of butadiene.
A styrene-butadiene block copolymer of 0 to 30% by weight is formed from a resin composition comprising 70 to 30% by weight;
The release intermediate layer is composed of 30 to 70% by weight of an ethylene / α-olefin copolymer having a density of 0.915 to 0.940 g / cm 3.
And 50 to 90% by weight of styrene and 50 to 10 of butadiene.
7% by weight of styrene-butadiene block copolymer
10 to 50% by weight of styrene and 90 to 50% of butadiene with respect to 100 parts by weight of the resin composition comprising 0 to 30% by weight.
5 to 30 parts by weight of a hydrogenated styrene-butadiene copolymer and 5 to 5 parts by weight of high impact polystyrene.
The lid material according to any one of claims 1 to 4, wherein the lid material is formed from a resin composition containing 0 parts by weight.
【請求項6】 前記ヒートシーラント層の表面抵抗率が
105 〜1012Ω/□の範囲内であり、かつ 電荷減衰
時間が2秒以下であることを特徴とする請求項1乃至5
のいずれかに記載の蓋材。
6. The heat sealant layer according to claim 1, wherein a surface resistivity of the heat sealant layer is in a range of 10 5 to 10 12 Ω / □, and a charge decay time is 2 seconds or less.
A lid material according to any one of the above.
【請求項7】 前記蓋材のヒートシーラント層は、ポリ
カーボネート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ塩化
ビニル、アクリルニトリル・スチレン・ブタジエン共重
合体(ABS樹脂)製などの成形容器とヒートシールが
可能であり、成形容器とヒートシール後、成形容器から
蓋材を取り去るとき前記中間層との間で層間剥離あるい
はヒートシーラント層内で凝集剥離することを特徴とす
る請求項1乃至6のいずれかに記載の蓋材。
7. The heat sealant layer of the lid member can be heat-sealed with a molding container made of polycarbonate, polystyrene, polyester, polyvinyl chloride, acrylonitrile / styrene / butadiene copolymer (ABS resin), and the like. The lid according to any one of claims 1 to 6, wherein when the lid material is removed from the molded container after heat sealing with the molded container, delamination with the intermediate layer or cohesive peeling in the heat sealant layer is performed. Wood.
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