JP2019023102A - Transparent antistatic packing material and packing bag using packing material - Google Patents

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Abstract

To provide packing material, a packing film, and a packing bag which have a good heat sealing property, a steady adhesive property and a good peelability, and further have an excellent antistatic property and transparency.SOLUTION: Transparent antistatic packing material 1 of this invention has a base material layer 2, an inorganic vapor deposition layer 3, and an antistatic sealant layer 6b which is the most surface layer that is the face of the side opposed to the base material layer of the packing material. The antistatic sealant layer includes electro conductive metallic oxide particles and thermoplastic elastomer having a heat sealing property so that a good antistatic property and a good heat sealing property are appeared.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、帯電防止特性と透明性とを備えたヒートシール性を有する包装材料及び該包装材料を用いた包装袋に関し、詳細には、該包装材料は、基材層とシーラント層と無機蒸着層とを有する包装材料であって、該シーラント層は少なくとも帯電防止シーラント層を有し、該帯電防止シーラント層は包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層である、透明帯電防止包装材料に関する。該透明帯電防止包装材料は、各種包装袋やキャリアテープのカバーテープ材等の包装材料に用いることができ、包装される物品には、半導体、IC部品及びこれらを用いた成品、並びに液晶表示用部品、液晶製品、注射器や医薬品の医療関連物品、自動車用部品等が挙げられる。   The present invention relates to a heat-sealing packaging material having antistatic properties and transparency, and a packaging bag using the packaging material. Specifically, the packaging material comprises a base material layer, a sealant layer, and inorganic vapor deposition. A transparent charging material, wherein the sealant layer has at least an antistatic sealant layer, and the antistatic sealant layer is an outermost surface layer on a surface opposite to the base material layer of the packaging material. It relates to prevention packaging materials. The transparent antistatic packaging material can be used for packaging materials such as various packaging bags and carrier tape cover tape materials, etc., and the products to be packaged include semiconductors, IC components and products using these, and liquid crystal displays. Examples include parts, liquid crystal products, syringes, medical-related articles for pharmaceuticals, and automobile parts.

従来より、各種部品、固形あるいは液状の食品等を、合成樹脂製容器に収納して開口部を蓋材により密封したり、袋体に収納して密封し、流通、保管することが行われている。
包装体としては、例えば、1種の包装材料を折ってヒートシール(熱融着)して作製された袋状の包装体(包装袋)や、素材の異なる底材と蓋材とをヒートシールして密封したエンボスキャリアテープ型テーピングのようなものもある。
Conventionally, various parts, solid or liquid food, etc. are stored in a synthetic resin container and the opening is sealed with a lid material, or stored in a bag body and sealed, distributed and stored. Yes.
As a package, for example, a bag-shaped package (packaging bag) produced by folding and sealing one kind of packaging material and heat sealing a bottom material and a lid material made of different materials. Some of them are like embossed carrier tape type taping sealed.

包装材料の素材構成としては、エンボスキャリアテープ型テーピングに使用されるキャリアテープ(底材)は、従来、ポリ塩化ビニル等のシート成形が容易な材料を用いて形成され、近年、塩化ビニル樹脂については廃棄の問題があることから、ポリスチレン樹脂をキャリアテープに用いる指向が高まっている。一方、エンボスキャリアテープ型テーピングに使用されるカバーテープ(蓋材)や上記の袋状の包装体は、例えば、二軸延伸樹脂フィルムを含み、片面にシーラント層を備えた、包装材料からなっている。   As the material composition of the packaging material, the carrier tape (bottom material) used for embossed carrier tape type taping has been conventionally formed using a material that is easy to form a sheet such as polyvinyl chloride. Has a problem of disposal, and therefore, there is an increasing tendency to use polystyrene resin for carrier tape. On the other hand, a cover tape (cover material) used for embossed carrier tape-type taping and the above bag-shaped package are made of a packaging material including, for example, a biaxially stretched resin film and a sealant layer on one side. Yes.

包装体には、輸送中や保管中に熱融着部が剥離して収納されている内容物がこぼれ出たりしないように、ヒートシール部分には一定以上の接着強度が要求される。そして同時に、一旦収納された内容物が容易に取り出されるために、ヒートシール部分は剥離可能であることも要求される。
さらに、収納されている内容物が電子部品等の場合には、電子部品が包装体内壁と接触して発生する静電気、および包装体が剥離される際に発生する静電気により、電子部品の劣化、破壊が生じる危険性があるため、これを防止する手段が包装材料に要求される。
The package is required to have a certain level of adhesive strength at the heat-sealed portion so that the heat-sealed portion is not peeled off during transportation or storage, and the stored contents do not spill out. At the same time, in order to easily take out the contents once stored, the heat seal portion is also required to be peelable.
Furthermore, when the stored contents are electronic parts, the electronic parts are deteriorated due to static electricity generated when the electronic parts come into contact with the inner wall of the package and static electricity generated when the package is peeled off. Due to the risk of breakage, packaging materials are required to prevent this.

包装材料における静電気対策手段として、界面活性剤等の帯電防止剤、導電性カーボン微粒子、導電性の金属酸化物紛、金属微粒子を包装材料内に練り込んだり、包装材料上に塗布することが行われている。   As a measure against static electricity in packaging materials, antistatic agents such as surfactants, conductive carbon fine particles, conductive metal oxide powders, and metal fine particles are kneaded into the packaging material or applied onto the packaging material. It has been broken.

また、帯電防止剤としての導電性カーボン微粒子、金属微粒子を含有した包装材料は、透明性が極めて低く、包装体に収納されている内容物を外部から視認し難いという問題があった。
十分な透明性と帯電防止性能とを両立するものとして、平均粒径0.1μm以下の金属酸化物微粒子を帯電防止剤として使用する方法(特許文献1)が知られているが、金属酸化物微粒子の形状が球状である場合、十分な帯電防止性能を得るためには金属酸化物微粒子の添加量を多くしなければならず、透明性の低下、着色などの問題があり、十分な両立は達成されなかった。
Moreover, the packaging material containing conductive carbon fine particles and metal fine particles as an antistatic agent has a problem that transparency is extremely low and it is difficult to visually recognize the contents stored in the package from the outside.
A method of using metal oxide fine particles having an average particle size of 0.1 μm or less as an antistatic agent (Patent Document 1) is known as a method for achieving both sufficient transparency and antistatic performance. When the shape of the fine particles is spherical, in order to obtain sufficient antistatic performance, the addition amount of the metal oxide fine particles must be increased, and there are problems such as a decrease in transparency and coloring. Not achieved.

一方、包装材料の表面抵抗率を109 Ω/□程度の領域に設定しようとした場合、逆に上記従来の金属酸化物微粒子量では実用的に可能な添加量が少ないため、塗膜中において
金属酸化物微粒子同士の接触が不十分となり、塗膜の表面抵抗率が安定しないという問題があった。
On the other hand, when trying to set the surface resistivity of the packaging material in the region of about 10 9 Ω / □, on the contrary, since the amount of practically added metal oxide fine particles is small, There was a problem that the contact between the metal oxide fine particles became insufficient, and the surface resistivity of the coating film was not stable.

また、帯電防止するための界面活性剤を包装材料に塗布した場合は、シーラント層に直接塗布した場合は勿論のこと、シーラント層と反対側の面に塗布した場合でも、巻いたり重ねたりした際に界面活性剤がシーラント層に転写してしまい、シーラント層の表面状態が変化してシーラント層のシール性が不安定になることでシール不良の原因となったり、また、保管中の温度や湿度条件によって静電気拡散効果が大きく変化するため、安定した帯電防止効果が得られないという問題があった。   In addition, when an antistatic surfactant is applied to the packaging material, not only when it is applied directly to the sealant layer, but also when it is wound or stacked even when applied to the surface opposite to the sealant layer The surface active agent is transferred to the sealant layer, and the surface condition of the sealant layer changes and the sealability of the sealant layer becomes unstable, which may cause a seal failure, and the temperature and humidity during storage. Since the electrostatic diffusion effect varies greatly depending on conditions, there is a problem that a stable antistatic effect cannot be obtained.

特開平7−251860号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-251860

本発明は、良好なヒートシール性と安定した接着性及び良好な剥離性を有し、優れた帯電防止性と透明性とを兼ね備えた、包装材料、包装フィルム、及び包装袋を提供することを目的とする。   The present invention provides a packaging material, a packaging film, and a packaging bag that have good heat sealability, stable adhesiveness, and good peelability, and have both excellent antistatic properties and transparency. Objective.

本発明の透明帯電防止包装材料は、基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを含み、該シーラント層は包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層に帯電防止シーラント層を有し、前記帯電防止シーラント層が導電性金属酸化物粒子とヒートシール性熱可塑性エラストマーとを含有することによって帯電防止性とヒートシール性を発現するものである。
そして、本発明は、以下の点を特徴とする。
The transparent antistatic packaging material of the present invention includes a base material layer, an inorganic vapor-deposited layer, and a sealant layer, and the sealant layer is an antistatic sealant on the outermost surface layer of the packaging material opposite to the base material layer. The antistatic sealant layer includes conductive metal oxide particles and a heat-sealable thermoplastic elastomer, and exhibits antistatic properties and heat-seal properties.
The present invention is characterized by the following points.

1.基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを有する、透明帯電防止包装材料であって、
前記シーラント層は、少なくとも帯電防止シーラント層を有し、
前記帯電防止シーラント層は、前記透明帯電防包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層であり、
前記帯電防止シーラント層は、導電性金属酸化物粒子と、ヒートシール性熱可塑性エラストマーとを含有し、
前記透明帯電防止包装材料の、全光線透過率が、70%以上、95%以下であり、
前記透明帯電防止包装材料の、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度は、0.01g/m2/day/atm以上、2.0g/m2/day/atm以下であり、
前記帯電防止シーラント層の表面抵抗率は、1×107Ω/□以上、1×1010Ω/□以下である、
透明帯電防止包装材料。
2.前記帯電防止シーラント層中の、前記導電性金属酸化物粒子の含有率が、40質量%以上、80質量%以下である、上記1に記載の透明帯電防止包装材料。
3.前記導電性金属酸化物粒子の平均粒径が、長軸方向粒径が0.2μm以上、2.0μm以下であり、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下であり、長軸/短軸比が20以上、30以下である、上記1または2に記載の透明帯電防止包装材料。
4.前記導電性金属酸化物粒子が、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化錫、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、からなる群から選ばれる、1種または2種以上である、上記1〜3の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
5.前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの、ガラス転移温度は、−60℃以上、−
30℃以下である、上記1〜4の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
6.前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張弾性率が、23℃において、1.5MPa以上、10MPa以下である、上記1〜5の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
7.前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーが、SEBS系ブロックポリマーである、上記1〜6の何れかに記載の透明帯電防止包装材料。
1. A transparent antistatic packaging material having a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer,
The sealant layer has at least an antistatic sealant layer,
The antistatic sealant layer is the outermost surface layer on the surface opposite to the base material layer of the transparent antistatic packaging material,
The antistatic sealant layer contains conductive metal oxide particles and a heat-sealable thermoplastic elastomer,
The transparent antistatic packaging material has a total light transmittance of 70% or more and 95% or less,
The transparent antistatic packaging material has a water vapor permeability of 0.01 g / m 2 / day / atm or more and 2.0 g / m 2 / day / atm or less in a 40 ° C. and 90% RH environment,
The surface resistivity of the antistatic sealant layer is 1 × 10 7 Ω / □ or more and 1 × 10 10 Ω / □ or less.
Transparent antistatic packaging material.
2. 2. The transparent antistatic packaging material according to 1 above, wherein the content of the conductive metal oxide particles in the antistatic sealant layer is 40% by mass or more and 80% by mass or less.
3. The conductive metal oxide particles have an average particle size of 0.2 to 2.0 μm in the major axis direction, 0.01 to 0.02 μm in the minor axis direction, 3. The transparent antistatic packaging material according to 1 or 2 above, wherein the axis / short axis ratio is 20 or more and 30 or less.
4). The conductive metal oxide particles are one or more selected from the group consisting of antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, fluorine-doped tin oxide, gallium-doped zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide. 4. The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 3 above.
5. The glass transition temperature of the heat-sealable thermoplastic elastomer is −60 ° C. or higher, −
The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 4, which is 30 ° C or lower.
6). The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 5 above, wherein a tensile elastic modulus of the heat-sealable thermoplastic elastomer is 1.5 MPa or more and 10 MPa or less at 23 ° C.
7). The transparent antistatic packaging material according to any one of 1 to 6, wherein the heat-sealable thermoplastic elastomer is a SEBS-based block polymer.

本発明によって、良好なヒートシール性と安定した接着性及び良好な剥離性を有し、優れた帯電防止性と透明性とを兼ね備えた、包装材料、包装フィルム、及び包装袋を得ることが出来る。   According to the present invention, it is possible to obtain a packaging material, a packaging film, and a packaging bag that have good heat sealability, stable adhesiveness, and good peelability, and have both excellent antistatic properties and transparency. .

本発明の透明帯電防止包装材料の積層構造の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the laminated structure of the transparent antistatic packaging material of this invention. 本発明の透明帯電防止包装材料の積層構造の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the laminated structure of the transparent antistatic packaging material of this invention.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。また、本発明は、以降の列記された諸々の具体例や図に限定されるものでは無い。
図1及び図2は本発明の包装材料の積層構造の例を示す断面図である。図1における積層構造は、基材層、無機蒸着層、接着剤層、絶縁性シーラント層、帯電防止シーラント層が順に積層された層構成である。図2における積層構成は、図1で示した包装材料に中間層及び中間層を接着する為の接着剤層が加えられた層構成である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The present invention is not limited to the specific examples and figures listed below.
FIG.1 and FIG.2 is sectional drawing which shows the example of the laminated structure of the packaging material of this invention. The laminated structure in FIG. 1 is a layer structure in which a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, an adhesive layer, an insulating sealant layer, and an antistatic sealant layer are sequentially laminated. The laminated structure in FIG. 2 is a layer structure in which an intermediate layer and an adhesive layer for bonding the intermediate layer are added to the packaging material shown in FIG.

本発明の包装材料は、基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを含み、該シーラント層は包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層に帯電防止シーラント層を含むが、これら以外にも、中間層や、接着剤層、通常の絶縁性シーラント層を含むこともできる。
本発明の透明帯電防止包装材料は、透明であり、JIS K7361−1に従った全光線透過率は、70%以上、95%以下であり、好ましくは80%以上、93%以下である。本発明の透明帯電防止包装材料の内容物に印刷されたバーコードを読み取る際に、包装材料が透明であれば目視によって正しい位置に入力端末を当て、且つ正確に読み取ることが可能であり、輸出時の税関においても開封せずに通関処理が可能になる。上記波長のレーザー光の透過率が上記範囲よりも低いと読み取りエラーが発生し易く、上記範囲よりも透過率が高い場合には帯電防止性とのバランスが困難になり易い。
The packaging material of the present invention includes a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer, and the sealant layer includes an antistatic sealant layer on the outermost surface layer on the side opposite to the base material layer of the packaging material. However, in addition to these, an intermediate layer, an adhesive layer, and a normal insulating sealant layer can also be included.
The transparent antistatic packaging material of the present invention is transparent, and the total light transmittance according to JIS K7361-1 is 70% or more and 95% or less, preferably 80% or more and 93% or less. When reading the barcode printed on the contents of the transparent antistatic packaging material of the present invention, if the packaging material is transparent, the input terminal can be applied to the correct position by visual inspection and can be read accurately. Customs processing is possible without opening at customs at the time. When the transmittance of the laser beam having the above wavelength is lower than the above range, a reading error is likely to occur, and when the transmittance is higher than the above range, it is difficult to balance the antistatic property.

本発明の包装材料をヒートシールする際の温度は100℃以上、180℃以下が好ましく、120℃以上、160℃以下が更に好ましい。上記範囲未満の温度では、十分な溶融状態が得られず、ヒートシール性が低下し、また、シーラント層の厚みが不均一になり易い。上記範囲よりも高い温度では、溶融粘度が低くなり過ぎて、シーラント層の厚みの調整が困難になり易い。   The temperature when heat-sealing the packaging material of the present invention is preferably 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. If the temperature is lower than the above range, a sufficient molten state cannot be obtained, the heat sealability is lowered, and the thickness of the sealant layer tends to be uneven. If the temperature is higher than the above range, the melt viscosity becomes too low and the adjustment of the thickness of the sealant layer tends to be difficult.

本発明の透明帯電防止包装材料の、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度は、0.01g/m2/day/atm以上、2.0g/m2/day/atm以下であることが好ましく、0.1g/m2/day/atm以上、1.0g/m2/day/atm以下であることがより好ましい。
包装される内容物が電子部品や薬品等の場合に、低湿度下で保管されることが好ましいものがあり、包装後の外部環境からの湿気の流入を防止する必要がある。
水蒸気透過度が上記範囲よりも大きいと、内容物が湿気の影響を受け易くなり、上記範囲よりも小さい場合には、透明性やレーザー光透過率とのバランスを採ることが困難になり易い。
次に、本発明の包装材料の各層について説明する。
The water vapor permeability of the transparent antistatic packaging material of the present invention in an environment of 40 ° C. and 90% RH is 0.01 g / m 2 / day / atm or more and 2.0 g / m 2 / day / atm or less. Preferably, it is 0.1 g / m 2 / day / atm or more and 1.0 g / m 2 / day / atm or less.
When the contents to be packaged are electronic parts, chemicals, etc., some are preferably stored under low humidity, and it is necessary to prevent the inflow of moisture from the external environment after packaging.
When the water vapor transmission rate is larger than the above range, the contents are easily affected by moisture. When the water vapor transmission rate is smaller than the above range, it is difficult to balance the transparency and the laser light transmittance.
Next, each layer of the packaging material of the present invention will be described.

<基材層>
基材層としては、化学的または物理的強度に優れ、無機蒸着膜を形成する条件等に耐え、それら無機蒸着膜等の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる金属、金属酸化物等の無機材料、樹脂等の有機材料を、例えばフィルムやシートとして使用することができる。尚、本発明においては、フィルムなる語を、フィルムとシートを含む総称として記載する。
基材層として好ましく使用されるフィルムの具体例としては、紙、アルミニウム箔、樹脂フィルムが挙げられる。
基材層としては、単層フィルムまたは多層積層フィルムが用いられるが、特に限定されず、各種包装材料に用いられる任意のフィルムを使用することができる。これらの中から、包装する内容物の種類や充填後の加熱処理の有無等の使用条件に応じて、適するものを自由に選択して使用する。
<Base material layer>
As a base material layer, a metal or metal oxide that has excellent chemical or physical strength, can withstand the conditions for forming an inorganic vapor-deposited film, etc., and can be retained well without impairing the properties of the inorganic vapor-deposited film For example, an inorganic material such as a resin or an organic material such as a resin can be used as a film or a sheet. In addition, in this invention, the word film is described as a general term including a film and a sheet.
Specific examples of the film preferably used as the base material layer include paper, aluminum foil, and resin film.
As a base material layer, although a single layer film or a multilayer laminated film is used, it is not particularly limited, and any film used for various packaging materials can be used. Among these, a suitable one is freely selected and used according to the use conditions such as the type of contents to be packaged and the presence or absence of heat treatment after filling.

(樹脂フィルム)
樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、セロファン、ポリアミド系樹脂(ナイロン6、ナイロン66、MXD6(ポリメタキシリレンアジパミド)等)、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)等)、ポリオレフィン系樹脂(低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリプロピレン、酸変性ポリオレフィン系樹脂等)、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテン、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリアリレート(PA)、ポリエステルエーテル(PEE)、ポリアミドイミド(PAI)等が挙げられる。
(Resin film)
Examples of the resin used for the resin film include cellophane, polyamide resin (nylon 6, nylon 66, MXD6 (polymetaxylylene adipamide), etc.), polyester resin (polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate). (PEN), etc.), polyolefin resins (low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, polybutene, polypropylene, acid-modified polyolefin resins, etc.), polystyrene resins, polyurethane resins, Acetal resin, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, ethylene- Lopylene copolymer, methylpentene, polyacrylonitrile, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polycarbonate, polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polyvinylidene fluoride (PVDF), Ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyimide (PI), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide (PEI), polyphenylene sulfide ( PPS), polyarylate (PA), polyester ether (PEE), polyamideimide (PAI) and the like.

基材層に用いる樹脂のフィルムは、例えば、前記の樹脂の群から選ばれる1種又は2種以上の樹脂を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレーション法等従来から使用されている製膜化法により、又は、2種以上の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化法により複合フィルムを製造することができる。さらに、フィルムの強度、寸法安定性、耐熱性の観点から、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸することができる。耐熱性を付与したい場合には2軸方向に延伸することが好ましい。   The resin film used for the base material layer uses, for example, one or more kinds of resins selected from the group of the above-mentioned resins, and the conventional methods such as extrusion method, cast molding method, T-die method, cutting method, and inflation method The composite film can be produced by the film-forming method used from the above, or by the multilayer co-extrusion film-forming method using two or more resins. Furthermore, from the viewpoint of the strength, dimensional stability, and heat resistance of the film, the film can be stretched uniaxially or biaxially using, for example, a tenter method or a tubular method. When it is desired to impart heat resistance, it is preferable to stretch in the biaxial direction.

また特に、シリカ蒸着PET、アルミナ蒸着二軸延伸PETなどの、透明蒸着PET、アルミニウム蒸着二軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPP)等が好適である。更に、ナイロンフィルム等を併用することがより好適である。   In particular, transparent vapor-deposited PET such as silica-deposited PET and alumina-deposited biaxially stretched PET, aluminum-deposited biaxially-stretched polypropylene film (OPP), and the like are suitable. Further, it is more preferable to use a nylon film or the like together.

基材層の厚さは、任意に選択し得るが、成形性や透明性の観点から、1μmから300μm位の範囲から選択して使用することができ、1μm以上、100μm以下の範囲が好ましい。これより薄いと、強度が不足し、またこれより厚いと、剛性が高くなりすぎて、加工が困難になり得る。   Although the thickness of a base material layer can be selected arbitrarily, from a moldability and transparency viewpoint, it can select and use from the range of about 1 micrometer to 300 micrometers, and the range of 1 micrometer or more and 100 micrometers or less is preferable. If it is thinner than this, the strength is insufficient, and if it is thicker than this, the rigidity becomes too high, and the processing may be difficult.

また、基材層及び基材層を構成するフィルムは、積層時の密着性を向上させるために、ラミネートあるいは蒸着前に、積層させる表面に、必要に応じて、予め、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的な処理や、化学薬品を用いた酸化処理などの化学的な処理や、接着剤層、プライマーコート剤層、アンダーコート層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層等を形成する処理、及びその他処理を施してもよい。   Moreover, in order to improve the adhesion at the time of lamination, the base material layer and the film constituting the base material layer are preliminarily subjected to corona discharge treatment, ozone treatment on the surface to be laminated before lamination or vapor deposition. , Physical treatment such as low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, chemical treatment such as oxidation treatment using chemicals, adhesive layer, primer coating agent layer, under You may perform the process which forms a coating layer or a vapor deposition anchor coating agent layer, and other processes.

基材層に用いる樹脂フィルムには、必要に応じて、加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料等のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量は、他の性能に悪影響を与えない範囲で目的に応じて、任意に添加することができる。   The resin film used for the base material layer has processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness, release properties, flame retardancy, and antifungal properties as necessary. For the purpose of improving and modifying electrical properties, strength, etc., plastic compounding agents such as lubricants, crosslinking agents, antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, etc. Additives and the like can be added, and the amount added can be arbitrarily added according to the purpose within a range that does not adversely affect other performances.

(無機蒸着層)
無機蒸着層は、水蒸気等の透過を防ぐガスバリア性を有するバリア膜であり、無機物または無機酸化物からなる蒸着膜が挙げられる。
無機蒸着層は、アルミニウム蒸着層、アルミナ蒸着層、及び、シリカ蒸着層、なる群から選ばれる1種または2種以上を有する層であることが好ましく、特に、アルミナ蒸着層を有することが好ましい。
(Inorganic vapor deposition layer)
An inorganic vapor deposition layer is a barrier film which has gas barrier property which prevents permeation | transmission of water vapor | steam etc., and the vapor deposition film which consists of an inorganic substance or an inorganic oxide is mentioned.
The inorganic vapor deposition layer is preferably a layer having one or more selected from the group consisting of an aluminum vapor deposition layer, an alumina vapor deposition layer, and a silica vapor deposition layer, and particularly preferably an alumina vapor deposition layer.

無機蒸着層は、基材層を構成するフィルム上、中間層を構成するフィルム上、シーラント層を構成するフィルム上の何れにも、直接設けることができる。例えば、好ましくは、基材層や中間層のPETフィルム上に構成される。
更に、必要に応じて、紫外線等の透過を阻止する遮光性を付与することもできる。また、無機蒸着層は1層または2層以上で構成されていてもよい。2層以上で構成される場合は、それぞれが同一の組成であってもよいし、異なる組成であってもよい。
The inorganic vapor deposition layer can be directly provided on any of the film constituting the base material layer, the film constituting the intermediate layer, and the film constituting the sealant layer. For example, it is preferably configured on a PET film of a base material layer or an intermediate layer.
Furthermore, if necessary, light shielding properties that prevent the transmission of ultraviolet rays or the like can be imparted. Moreover, the inorganic vapor deposition layer may be comprised by 1 layer or 2 layers or more. When composed of two or more layers, each may have the same composition or a different composition.

無機蒸着層の厚さは、好ましくは1nm以上、200nm以下であり、更に好ましい厚みは蒸着種によって異なるが、アルミニウム蒸着膜の場合には、更に好ましくは1nm以上、100nm以下であり、また更に好ましくは15nm以上、60nm以下であり、特に好ましくは10nm以上、40nm以下である。シリカ蒸着膜またはアルミナ蒸着膜の場合には、更に好ましくは1nm以上、100nm以下であり、また更に好ましくは5nm以上、50nm以下であり、特に好ましくは10nm以上、30nm以下である。   The thickness of the inorganic vapor deposition layer is preferably 1 nm or more and 200 nm or less, and the more preferable thickness varies depending on the vapor deposition species, but in the case of an aluminum vapor deposition film, it is more preferably 1 nm or more and 100 nm or less. Is from 15 nm to 60 nm, particularly preferably from 10 nm to 40 nm. In the case of a silica vapor deposition film or an alumina vapor deposition film, it is more preferably 1 nm or more and 100 nm or less, still more preferably 5 nm or more and 50 nm or less, and particularly preferably 10 nm or more and 30 nm or less.

無機蒸着層が、上記範囲よりも薄いと無機蒸着層による十分なガスバリア性を発現し難くなり、上記範囲よりも厚いと透明性が損なわれる傾向にある。
無機蒸着層は、従来公知の無機物または無機酸化物を用いて、従来公知の方法により形成することができ、その組成および形成方法は特に限定されない。
形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびイオンプレーティング法等の物理気相成長法(PhysicalVaporDeposition法、PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、および光化学気相成長法等の化学気相成長法(ChemicalVaporDeposition法、CVD法)等を挙げることができる。
If the inorganic vapor deposition layer is thinner than the above range, sufficient gas barrier properties due to the inorganic vapor deposition layer are difficult to be exhibited, and if it is thicker than the above range, the transparency tends to be impaired.
An inorganic vapor deposition layer can be formed by a conventionally well-known method using a conventionally well-known inorganic substance or inorganic oxide, The composition and formation method are not specifically limited.
Examples of the forming method include physical vapor deposition methods (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as vacuum deposition method, sputtering method, and ion plating method, plasma chemical vapor deposition method, thermal chemical vapor deposition method, And chemical vapor deposition (chemical vapor deposition, CVD) such as photochemical vapor deposition.

<中間層>
中間層は、必要に応じて、基材層とシーラント層との中間に設けられる層である。例えば、包装材料の様々な強度を向上させるために、目的に応じた樹脂のフィルムを中間層として含むことができ、文字、図形、記号、その他の所望の絵柄を通常の印刷方式にて任意に形成した印刷層を設けることもできる。用いられるフィルムの種類や積層方法は基材層
と同様である。
また、各種の樹脂を基材層とシーラント層等に塗布することによって形成することも可能である。
<Intermediate layer>
An intermediate | middle layer is a layer provided in the middle of a base material layer and a sealant layer as needed. For example, in order to improve various strengths of packaging materials, a resin film according to the purpose can be included as an intermediate layer, and characters, figures, symbols, and other desired patterns can be arbitrarily selected by a normal printing method. A formed printing layer can also be provided. The kind of film used and the lamination method are the same as those of the base material layer.
It is also possible to form various resins by applying them to the base material layer and the sealant layer.

<シーラント層>
本発明の包装材料はシーラント層を有し、該シーラント層は、少なくとも帯電防止シーラント層を有し、必要に応じて、絶縁性シーラント層を有する。
<Sealant layer>
The packaging material of the present invention has a sealant layer, and the sealant layer has at least an antistatic sealant layer and, if necessary, an insulating sealant layer.

[帯電防止シーラント層]
帯電防止シーラント層は、包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層であり、導電性金属酸化物粒子がバインダー樹脂中に分散している構成を有し、帯電防止性とヒートシール性を有する層である。
例えば、帯電防止シーラント層が対向するように折られてヒートシールされて形成された包装袋は、帯電防止シーラント層を有することによって、包装袋の内壁において帯電防止性を発現し、収容されている電子部品等が静電気によって破壊されることを防止し得る。
本発明において、帯電防止シーラント層形成の積層方法は特に限定されず、公知または慣用の積層方法を適用することができる。
[Antistatic sealant layer]
The antistatic sealant layer is the outermost surface layer on the side opposite to the base material layer of the packaging material, and has a configuration in which conductive metal oxide particles are dispersed in a binder resin. It is a layer having a sealing property.
For example, a packaging bag formed by being folded and heat-sealed so that the antistatic sealant layer is opposed to each other exhibits an antistatic property on the inner wall of the packaging bag and is contained by having the antistatic sealant layer. Electronic parts and the like can be prevented from being destroyed by static electricity.
In the present invention, the lamination method for forming the antistatic sealant layer is not particularly limited, and a known or common lamination method can be applied.

例えば、導電性金属酸化物粒子とバインダー樹脂と溶剤を含む塗布液や組成物を用いて、エアドクター法、ブレードコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、ダイレクトロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の塗布による積層方法や、帯電防止シーラント層を形成する樹脂組成物を、場合により接着層を介して、基材層や中間層上や絶縁性シーラント層上にエクストルージョンコーティングすることによる積層方法や、基材層上に、中間層用樹脂又は樹脂組成物や、絶縁性シーラント層用樹脂又は樹脂組成物と共に、インフレーション法やキャスト法により共押出しによる積層方法や、予め作製しておいた帯電防止シーラント層用フィルムやシートを接着層を介して貼りつけることによる積層方法、等が挙げられる。   For example, using a coating solution or composition containing conductive metal oxide particles, a binder resin and a solvent, air doctor method, blade coating method, knife coating method, rod coating method, direct roll coating method, reverse roll coating method, Lamination methods such as gravure coating and slide coating, and resin compositions that form an antistatic sealant layer can be applied onto a substrate layer, intermediate layer, or insulating sealant layer, optionally via an adhesive layer. Lamination method by coating with a coating, a base layer, a resin or resin composition for an intermediate layer, a resin or resin composition for an insulating sealant layer, a lamination method by coextrusion by an inflation method or a cast method, Product obtained by pasting an antistatic sealant film or sheet prepared in advance through an adhesive layer Method, and the like.

帯電防止シーラント層は、上記の中でも、塗布によって形成された塗布膜層であることが好ましい。
また、積層前に、積層対象表面に、必要に応じて、予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施して、接着性を高めても良い。
更に、帯電防止シーラント層には、必要に応じて分散安定剤、ブロッキング防止剤等の添加剤を含有させることができる。
帯電防止シーラント層の厚みは、0.3μm以上、5.0μm以下が好ましく、0.5μm以上、3.0μm以下が更に好ましい。厚みが上記よりも薄いと、ヒートシール時のクッション性が悪くて熱および圧力が均一にかかり辛くなり、更にはヒートシール強度が不足し、上記よりも厚いと、ヒートシールするときの必要熱量が大きくなり、高速ヒートシールが困難となり生産性が低下する。
Among the above, the antistatic sealant layer is preferably a coating film layer formed by coating.
Further, before the lamination, the surface to be laminated may be subjected to a surface treatment such as a corona treatment or a plasma treatment in advance, if necessary, to enhance the adhesion.
Furthermore, the antistatic sealant layer may contain additives such as a dispersion stabilizer and an antiblocking agent as necessary.
The thickness of the antistatic sealant layer is preferably from 0.3 μm to 5.0 μm, and more preferably from 0.5 μm to 3.0 μm. If the thickness is thinner than the above, the cushioning property at the time of heat sealing is poor and it becomes difficult to apply heat and pressure uniformly.Furthermore, the heat seal strength is insufficient. Larger, high-speed heat sealing becomes difficult, and productivity decreases.

帯電防止シーラント層の表面抵抗率は、22℃、40%RH下において、1×107Ω/□以上、1×1010Ω/□以下が好ましく、1×108Ω/□以上、1×1010Ω/□以下がさらに好ましい。表面抵抗率が上記範囲をより大きいと、帯電防止効果が極端に悪くなる傾向になり、電子部品等の内容物を静電気障害から保護することが困難になり易く、また、上記範囲よりも小さいと、外部から包装材料を介して電子部品に電気が通電する可能性があり、電子部品が電気的に破壊される危険性があるので好ましくない。 The surface resistivity of the antistatic sealant layer is preferably 1 × 10 7 Ω / □ or more and 1 × 10 10 Ω / □ or less, preferably 1 × 10 8 Ω / □ or more, at 22 ° C. and 40% RH. 10 10 Ω / □ or less is more preferable. If the surface resistivity is larger than the above range, the antistatic effect tends to be extremely deteriorated, and it is difficult to protect the contents such as electronic components from static electricity damage. This is not preferable because electricity may be applied to the electronic component from the outside through the packaging material, and the electronic component may be electrically destroyed.

(バインダー樹脂)
帯電防止シーラント層に用いられるバインダー樹脂には、ヒートシール性熱可塑性エラ
ストマーが好ましく含まれる。ヒートシール性熱可塑性エラストマーの分子構造は、ハードブロックの樹脂とソフトブロックの樹脂とから構成されており、これらのブロックポリマーが非3次元架橋的に結合していることで、熱可塑性と接着性、更には低弾性(ゴム弾性)を発現するものである。
(Binder resin)
The binder resin used for the antistatic sealant layer preferably includes a heat-sealable thermoplastic elastomer. The molecular structure of heat-sealable thermoplastic elastomers is composed of hard block resin and soft block resin, and these block polymers are non-three-dimensionally cross-linked to provide thermoplasticity and adhesion. Furthermore, it exhibits low elasticity (rubber elasticity).

ハードブロックの樹脂としては、スチレンやポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、塩化ビニル等が挙げられ、ソフトブロックの樹脂としては、イソプレンやブタジエン等の共役ジエン化合物の重合体及びそれらの共重合体、ブチレンやエチレン等のオレフィン化合物の重合体及びそれらの共重合体、ポリエーテル、ポリエステル等が挙げられる。ハードブロックの樹脂とソフトブロックの樹脂との具体的な組み合わせとしては、SBS系(スチレン・ブタジエン・スチレン系)ブロックポリマーや、SEBS系(スチレン・エチレン・ブチレン・スチレン系)ブロックポリマー、及びそれらの水添品等が挙げられる。上記の組み合わせの中でも、SEBS系ブロックポリマーが好ましい。   Examples of the hard block resin include styrene, polyester, polyurethane, polyamide, and vinyl chloride. Examples of the soft block resin include polymers of conjugated diene compounds such as isoprene and butadiene and copolymers thereof, butylene and ethylene. Examples thereof include polymers of olefin compounds such as these, copolymers thereof, polyethers, and polyesters. Specific combinations of hard block resins and soft block resins include SBS (styrene, butadiene, styrene) block polymers, SEBS (styrene, ethylene, butylene, styrene) block polymers, and their Examples include hydrogenated products. Among the above combinations, SEBS block polymers are preferable.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーのガラス転移温度は、−60℃以上、−30℃以下が好ましく、−50℃以上、−40℃以下が更に好ましい。ガラス転移温度が上記範囲よりも高いと、十分なヒートシール性を発現することが困難であり、上記範囲よりも低いと、ベタツキやブロッキング等の問題が発生し易い。   The glass transition temperature of the heat-sealable thermoplastic elastomer is preferably −60 ° C. or higher and −30 ° C. or lower, more preferably −50 ° C. or higher and −40 ° C. or lower. When the glass transition temperature is higher than the above range, it is difficult to exhibit sufficient heat sealing properties, and when it is lower than the above range, problems such as stickiness and blocking are likely to occur.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張弾性率は、23℃において、1.5MPa以上、10MPa以下が好ましく、2MPa以上、6MPa以下が更に好ましい。引張弾性率が上記範囲よりも高くあっても低くあっても、帯電防止シーラント層の弾性率が高くなりすぎるまたは低くなり過ぎることになって、ヒートシール時のクッション性が悪くて熱および圧力が均一にかかり辛くなって、シーラント層の厚みが安定しない為にヒートシール強度が安定し難くなる。   The tensile elastic modulus of the heat-sealable thermoplastic elastomer is preferably 1.5 MPa or more and 10 MPa or less, more preferably 2 MPa or more and 6 MPa or less at 23 ° C. Even if the tensile elastic modulus is higher or lower than the above range, the elastic modulus of the antistatic sealant layer becomes too high or too low, resulting in poor cushioning during heat sealing and heat and pressure. It becomes difficult to apply uniformly, and the thickness of the sealant layer is not stable, so that the heat seal strength is difficult to stabilize.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張強度は、23℃において、15MPa以上、40MPa以下が好ましく、20MPa以上、35MPa以下が更に好ましい。引張強度が上記範囲よりも高いと、開封性が劣り、上記範囲よりも低いと、ヒートシール強度が低くなって、輸送中の剥離不良等が発生し易くなる。   The tensile strength of the heat-sealable thermoplastic elastomer is preferably 15 MPa or more and 40 MPa or less, more preferably 20 MPa or more and 35 MPa or less at 23 ° C. When the tensile strength is higher than the above range, the unsealing property is inferior. When the tensile strength is lower than the above range, the heat seal strength is low, and peeling failure during transportation tends to occur.

ヒートシール性熱可塑性エラストマーのMFR(Melt Flow Rate)は、230℃,5kg荷重において、2g/10分以上、40g/10分以下が好ましく、4g/10分以上、30g/10分以下が更に好ましい。MFRが上記範囲よりも高いとヒートシール性が劣り、上記範囲よりも低いと、帯電防止シーラント層の厚みの調整が困難でラミネート作業性が劣る傾向にある。
ヒートシール性熱可塑性エラストマーの具体的な市販品としては、クレイトンポリマージャパン(株)社製G1657(SEBSブロックポリマー)、G1652(SEBSブロックポリマー)等が挙げられる。
また、バインダー樹脂には、必要に応じて、ヒートシール性熱可塑性エラストマーと、通常の絶縁性シーラント層に用いられる樹脂とを混合して用いることもできる。
The MFR (Melt Flow Rate) of the heat-sealable thermoplastic elastomer is preferably 2 g / 10 min or more and 40 g / 10 min or less, more preferably 4 g / 10 min or more and 30 g / 10 min or less at 230 ° C. and 5 kg load. . When the MFR is higher than the above range, the heat sealability is inferior. When the MFR is lower than the above range, it is difficult to adjust the thickness of the antistatic sealant layer and the laminating workability tends to be inferior.
Specific examples of commercially available heat-sealable thermoplastic elastomers include G1657 (SEBS block polymer) and G1652 (SEBS block polymer) manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd.
In addition, the binder resin may be used by mixing a heat-sealable thermoplastic elastomer and a resin used for a normal insulating sealant layer, if necessary.

(導電性金属酸化物粒子)
帯電防止シーラント層に用いられる導電性金属酸化物粒子としては、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、等が挙げられ、中でも微細針状のものが好ましく、特に、微細針状アンチモンドープ酸化錫が好ましい。これらの導電性金属酸化物粒子は、湿度に依存することのない安定した良好な帯電防止性を包装材料に容易に発現させることができる。
(Conductive metal oxide particles)
Examples of the conductive metal oxide particles used in the antistatic sealant layer include antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), gallium-doped zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide ( AZO), and the like. Among them, fine needle-like ones are preferable, and fine needle-like antimony-doped tin oxide is particularly preferable. These conductive metal oxide particles can easily cause the packaging material to exhibit stable and good antistatic properties that do not depend on humidity.

本発明において、導電性金属酸化物粒子は、溶剤と共にバインダー樹脂と混合され、バインダー樹脂中に分散した形態で、帯電防止シーラント層を形成する。
導電性金属酸化物粒子の含有量は、帯電防止シーラント層中に、40質量%以上、80質量%以下が好ましく、50質量%以上、70質量%以下が更に好ましい。上記範囲の割合で導電性金属酸化物粒子を含有することにより良好な帯電防止性能とヒートシール性と透明性とのバランスを採り易くなる。
In the present invention, the conductive metal oxide particles are mixed with a binder resin together with a solvent to form an antistatic sealant layer in a form dispersed in the binder resin.
The content of the conductive metal oxide particles in the antistatic sealant layer is preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 50% by mass or more and 70% by mass or less. By containing the conductive metal oxide particles in a proportion within the above range, it is easy to balance the good antistatic performance, heat sealability and transparency.

含有量が上記の範囲よりも低いと、十分な帯電防止効果を得ることが困難になり易く、上記範囲よりも高いと、帯電防止シーラント層の溶融粘度が上昇し過ぎてヒートシール性が低下する傾向になり易く、透明性も低下する傾向にある。
導電性金属酸化物粒子の一次粒子は、好ましくは、粒子径が0.2μm以上、0.4μm以下であって、長軸方向粒径が0.2μm以上、2μm以下、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下、長軸/短軸比が20以上、30以下の針状である。
導電性金属酸化物粒子の一次粒子が、上記範囲の粒径の針状の場合には、球状の導電性フィラーを用いた場合に比べて、帯電防止シーラント層中で少ない量で相互に接触しやすい為に帯電防止性に優れ、小サイズで少量であることから帯電防止シーラント層は無色透明になり易く、内容物の視認性に優れ、内容物のバーコード読み取りエラー発生率が低い、優れた包装材料を与え易くなる。
When the content is lower than the above range, it is difficult to obtain a sufficient antistatic effect. When the content is higher than the above range, the melt viscosity of the antistatic sealant layer is excessively increased and the heat sealability is lowered. It tends to become a tendency and transparency tends to be lowered.
The primary particles of the conductive metal oxide particles preferably have a particle size of 0.2 μm or more and 0.4 μm or less, a major axis direction particle size of 0.2 μm or more and 2 μm or less, and a minor axis direction particle size of The needle shape is 0.01 μm or more and 0.02 μm or less, and the major axis / minor axis ratio is 20 or more and 30 or less.
When the primary particles of the conductive metal oxide particles are needle-shaped within the above range, they are in contact with each other in a smaller amount in the antistatic sealant layer than when a spherical conductive filler is used. Excellent antistatic properties because of its small size, and its small size and small quantity make the antistatic sealant layer easily colorless and transparent, excellent in the visibility of the contents, and low in the barcode reading error rate of the contents, excellent It becomes easy to give packaging materials.

本発明において使用される導電性金属酸化物粒子は、例えば市販品としては、石原テクノ(株)社より、微細針状アンチモンドープ酸化スズが、MPT270(MEK分散体、固形分30%)、FSS−10P(粉末状態)、およびFSS−10D(水分散体、固形分30%)という商品名で提供されている。   As the conductive metal oxide particles used in the present invention, for example, commercially available products from Ishihara Techno Co., Ltd., fine acicular antimony-doped tin oxide is MPT270 (MEK dispersion, solid content 30%), FSS. -10P (powder state) and FSS-10D (aqueous dispersion, solid content 30%).

[絶縁性シーラント層]
絶縁性シーラント層は、通常の、ヒートシール性を有するシーラント層である。本発明では、帯電防止シーラント層と区別するために、絶縁性シーラント層と記載する。
絶縁性シーラント層は、必要に応じて、帯電防止シーラント層と接して積層される層であり。例えば、帯電防止シーラント層と併用することにより、シーラント層全体として、ヒートシール性と帯電防止性のバランスを採り易くすることができる。
絶縁性シーラント層は、帯電防止シーラント層に対する密着性が良好であり、且つ、帯電防止シーラント層のヒートシール性を阻害しないものであることが必要である。
[Insulating sealant layer]
The insulating sealant layer is a normal sealant layer having heat sealability. In this invention, in order to distinguish with an antistatic sealant layer, it describes as an insulating sealant layer.
An insulating sealant layer is a layer laminated | stacked in contact with an antistatic sealant layer as needed. For example, when used in combination with an antistatic sealant layer, the entire sealant layer can be easily balanced between heat sealability and antistatic properties.
The insulating sealant layer needs to have good adhesion to the antistatic sealant layer and does not hinder the heat sealability of the antistatic sealant layer.

本発明において、絶縁性シーラント層形成の積層方法は特に限定されず、公知または慣用の製膜方法の適用が可能であり、具体的な方法としては、例えば、エアドクター法、ブレードコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、ダイレクトロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の塗布による積層方法や、絶縁性シーラント層を形成する樹脂又は樹脂組成物を、場合により接着層を介して、基材層や中間層上にエクストルージョンコーティングすることによる積層方法や、基材層上に、中間層用樹脂又は樹脂組成物と共に、インフレーション法やキャスト法により共押出しによる積層方法や、予め作製しておいた絶縁性シーラント層用フィルムやシートを接着層を介して貼りつけることによる積層方法、等が挙げられる。
また、積層前に、積層対象表面に、必要に応じて、予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施して、接着性を高めても良い。
In the present invention, the laminating method for forming the insulating sealant layer is not particularly limited, and a known or conventional film forming method can be applied. Specific methods include, for example, an air doctor method, a blade coat method, and a knife. Lamination method by coating such as coating method, rod coating method, direct roll coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, slide coating method, resin or resin composition forming an insulating sealant layer, and optionally an adhesive layer Through a layering method by extrusion coating on a base material layer or an intermediate layer, and a base material layer or a laminating method by coextrusion by an inflation method or a cast method together with a resin or resin composition for an intermediate layer, The product obtained by pasting a film or sheet for insulating sealant layer prepared in advance through an adhesive layer Method, and the like.
Further, before the lamination, the surface to be laminated may be subjected to a surface treatment such as a corona treatment or a plasma treatment in advance, if necessary, to enhance the adhesion.

絶縁性シーラント層に好適な樹脂としては、ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、メタロセンポリエチレン、無延伸ポリプロピレンなどが挙げられ、これらの樹脂の1種または2種以上からなる樹脂のフィルムあるいは塗布膜等を使用することができる。
絶縁性シーラント層の層構成としては、単層でもよく、ポリエチレン/ポリプロピレン
+ポリエチレン/ポリプロピレンのような多層でもよい。
Examples of the resin suitable for the insulating sealant layer include polyethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene, metallocene polyethylene, unstretched polypropylene, etc., and a resin film comprising one or more of these resins, or A coating film or the like can be used.
The layer structure of the insulating sealant layer may be a single layer or a multilayer such as polyethylene / polypropylene + polyethylene / polypropylene.

また、無機膜をヒートシール可能な無延伸ポリプロピレン(CPP)、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンに蒸着したフィルムを用いることもできる。無機膜の構成は、基材層における無機蒸着層と同様である。
また、絶縁性シーラント層の厚みは、10μm以上、150μm以下が好ましく、20μm以上、100μm以下が更に好ましい。絶縁性シーラント層の厚みが上記よりも薄いと、ヒートシール強度が不足し、上記よりも厚いと、ヒートシールするときの必要熱量が大きくなり、高速ヒートシールが困難となり生産性が低下する。
また、絶縁性シーラント層には、必要に応じて各種の添加剤を包含させることができる。
次に、具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
Moreover, the film which vapor-deposited the unstretched polypropylene (CPP) which can heat seal an inorganic film | membrane, a low density polyethylene, and a linear low density polyethylene can also be used. The structure of the inorganic film is the same as that of the inorganic vapor deposition layer in the base material layer.
Further, the thickness of the insulating sealant layer is preferably 10 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 100 μm or less. If the thickness of the insulating sealant layer is thinner than the above, the heat seal strength is insufficient, and if it is thicker than the above, the required amount of heat for heat sealing increases, making high-speed heat sealing difficult and reducing the productivity.
Moreover, various additives can be included in the insulating sealant layer as necessary.
Next, the present invention will be described in more detail by showing specific examples.

包装材料を作製するのに用いた原材料は。下記の通りである。
導電性金属酸化物粒子分散体1:微細針状アンチモンドープ酸化スズのMEK分散体(石原産業(株)社製MPT270。累積個数50%メジアン径0.11〜0.16μm。長軸方向粒径が0.2μm以上、2.0μm以下、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下、長軸/短軸比が20以上、30以下。微細針状アンチモンドープ酸化スズ分30質量%。)
導電性化合物1:AS100(日本乳化剤(株)社製。イオン液体。
バインダー樹脂溶液1:G1657(クレイトンポリマージャパン(株)社製、SEBS系熱可塑性エラストマー。ガラス転移温度−42℃、23℃引張強度23MPa、23℃引張弾性率2.4MPa、MFR22g/10分)のトルエン溶液。固形分20%。
バインダー樹脂溶液2:G1652(クレイトンポリマージャパン(株)社製、SEBS系熱可塑性エラストマー。ガラス転移温度−42℃、23℃引張強度31MPa、23℃引張弾性率4.8MPa、MFR5g/10分)のトルエン溶液。固形分20%。
What raw materials were used to make the packaging material? It is as follows.
Conductive metal oxide particle dispersion 1: MEK dispersion of fine acicular antimony-doped tin oxide (MPT270 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. Cumulative number 50% median diameter 0.11 to 0.16 μm, major axis direction particle diameter Is 0.2 μm or more and 2.0 μm or less, the minor axis direction particle size is 0.01 μm or more and 0.02 μm or less, and the major axis / minor axis ratio is 20 or more and 30 or less. %.)
Conductive compound 1: AS100 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd .. Ionic liquid.
Binder resin solution 1: G1657 (manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., SEBS-based thermoplastic elastomer. Glass transition temperature -42 ° C, 23 ° C tensile strength 23 MPa, 23 ° C tensile elastic modulus 2.4 MPa, MFR 22 g / 10 min) Toluene solution. 20% solids.
Binder resin solution 2: G1652 (manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., SEBS thermoplastic elastomer. Glass transition temperature -42 ° C., 23 ° C. tensile strength 31 MPa, 23 ° C. tensile elastic modulus 4.8 MPa, MFR 5 g / 10 min) Toluene solution. 20% solids.

(ラミネート積層体Aの作製)
両面コロナ処理された厚さ25μmの二軸延伸ナイロンフィルム(興人(株)社製ボニールW)と、片面コロナ処理された厚さ12μmのアルミナ蒸着PETフィルム(大日本印刷(株)社製IB−PET−PXB、蒸着厚10nm。)とを、接着剤を介してドライラミネートした。
そして、貼り合せたナイロンフィルムの反対面に、絶縁性シーラント層として、片面コロナ処理された厚さ50μmのポリエチレンフィルム(フタムラ化学(株)社製LL−XMTN)を同様にドライラミネートした。
その後、37℃で3日間エージング処理し、ラミネート積層体Aを得た。
(Preparation of laminate laminate A)
25 μm thick biaxially stretched nylon film (Bonil W manufactured by Kojin Co., Ltd.) treated with double-sided corona treatment, and 12 μm thick alumina vapor-deposited PET film (IB manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.). -PET-PXB, vapor deposition thickness 10 nm.) Was dry laminated via an adhesive.
Then, on the opposite surface of the bonded nylon film, a single-sided corona-treated polyethylene film having a thickness of 50 μm (LL-XTN manufactured by Phutamura Chemical Co., Ltd.) was similarly dry laminated as an insulating sealant layer.
Thereafter, an aging treatment was performed at 37 ° C. for 3 days to obtain a laminate laminate A.

(ラミネート積層体Bの作製)
両面コロナ処理された厚さ25μmの二軸延伸ナイロンフィルム(興人(株)社製ボニールW)と、片面コロナ処理された厚さ12μmのアルミナ蒸着PETフィルム(大日本印刷(株)社製IB−PET−PXB蒸着厚10nm。)とを、接着剤を介してドライラミネートした。
そして、貼り合せたナイロンフィルムの反対面に、絶縁性シーラント層として、片面コロナ処理された厚さ50μmの帯電防止ポリエチレンフィルム((株)アイセロ社製L−110R−1)を同様にドライラミネートした。
その後、25℃で7日間エージング処理し、ラミネート積層体Bを得た。
(Preparation of laminate laminate B)
25 μm thick biaxially stretched nylon film (Bonil W manufactured by Kojin Co., Ltd.) treated with double-sided corona treatment, and 12 μm thick alumina vapor-deposited PET film (IB manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.). -PET-PXB deposition thickness 10 nm.) Was dry laminated with an adhesive.
Then, on the opposite surface of the bonded nylon film, a 50 μm thick antistatic polyethylene film (L-110R-1 manufactured by Aicello Co., Ltd.) subjected to corona treatment on one side was similarly dry laminated as an insulating sealant layer. .
Thereafter, an aging treatment was performed at 25 ° C. for 7 days to obtain a laminate laminate B.

[実施例1]
下記原料を混合して塗布溶液を調整して、ラミネート積層体Aのポリエチレンフィルム
面にグラビアコート法で塗布し、80℃で30秒間加熱して乾燥して、帯電防止シーラント層を形成した。乾燥後の帯電防止シーラント層は、0.5μmであった。
導電性金属酸化物粒子分散体1 60質量部
バインダー樹脂1 40質量部
[Example 1]
The following raw materials were mixed to prepare a coating solution, which was applied to the polyethylene film surface of the laminate laminate A by gravure coating, heated at 80 ° C. for 30 seconds and dried to form an antistatic sealant layer. The antistatic sealant layer after drying was 0.5 μm.
Conductive metal oxide particle dispersion 1 60 parts by mass Binder resin 1 40 parts by mass

得られた帯電防止シーラント層中の導電性金属酸化物粒子の含有量は、下記のように算出される。
導電性金属酸化物粒子分散体1中の導電性金属酸化物粒子の含有率:30質量%
バインダー樹脂1中の樹脂の含有率:20質量%
よって、
(60×30/100)/(60×30/100+40×20/100)=69.2質量%
次いで、各種評価を実施した。結果を表1に記載する。
The content of the conductive metal oxide particles in the obtained antistatic sealant layer is calculated as follows.
Content of conductive metal oxide particles in conductive metal oxide particle dispersion 1: 30% by mass
Resin content in binder resin 1: 20% by mass
Therefore,
(60 × 30/100) / (60 × 30/100 + 40 × 20/100) = 69.2% by mass
Next, various evaluations were performed. The results are listed in Table 1.

[実施例2〜5、比較例2]
実施例1と同様に、表1の配合に従って塗布溶液を調整し、表1に記載のラミネート積層体を用いて、帯電防止シーラント層を形成した。次いで、各種評価を実施した。結果を表1に記載する。
[Examples 2 to 5, Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 1, the coating solution was prepared according to the formulation shown in Table 1, and an antistatic sealant layer was formed using the laminate laminate described in Table 1. Next, various evaluations were performed. The results are listed in Table 1.

[比較例1]
ラミネート積層体Bをそのまま用いて、各種評価を実施した。結果を表1に記載する。
[Comparative Example 1]
Various evaluations were performed using the laminate laminate B as it was. The results are listed in Table 1.

<評価方法>
[レーザー光透過率の測定]
JIS K7361−1に従って、全光線透過率を測定した。透過率70%以上を合格とした。
[水蒸気透過度の測定]
各積層体または包装材料をA4サイズに裁断し、米国MOCON社製PERMATRAN3/31を使用し、40℃、90%RHの条件下での水蒸気透過度(g/m2/day/atm)を測定した。
<Evaluation method>
[Measurement of laser light transmittance]
The total light transmittance was measured according to JIS K7361-1. A transmittance of 70% or more was accepted.
[Measurement of water vapor permeability]
Each laminate or packaging material is cut to A4 size, and water vapor permeability (g / m 2 / day / atm) is measured at 40 ° C. and 90% RH using PERMATRAN 3/31 manufactured by MOCON USA. did.

[表面抵抗率の測定]
各積層体または包装材料の帯電防止シーラント層又は帯電防止ポリエチレンフィルム層表面の表面抵抗率を三菱油化(株)製ハイレスタUPにて測定した。
印加電圧:500V
測定環境:25℃、50%RH以下
[ヒートシール強度測定法]
各積層体または包装材料を2つに折り、帯電防止シーラント層同士、又は帯電防止ポリエチレンフィルム層同士をヒートシールし、シール強度を測定した。
ヒートシール条件:140℃、1kgf、1.0s
引張り条件:シール幅15mm、300mm/min
[Measurement of surface resistivity]
The surface resistivity of the antistatic sealant layer or antistatic polyethylene film layer surface of each laminate or packaging material was measured with Hiresta UP manufactured by Mitsubishi Oil Kagaku Co., Ltd.
Applied voltage: 500V
Measurement environment: 25 ° C., 50% RH or less [heat seal strength measurement method]
Each laminate or packaging material was folded in two, the antistatic sealant layers or antistatic polyethylene film layers were heat sealed, and the seal strength was measured.
Heat sealing conditions: 140 ° C., 1 kgf, 1.0 s
Tensile conditions: seal width 15 mm, 300 mm / min

Figure 2019023102
Figure 2019023102

[結果まとめ]
導電性金属酸化物粒子とヒートシール性熱可塑性エラストマーとを帯電防止シーラント層に含有する実施例1〜5は、良好なレーザー光透過率と、水蒸気透過度と、表面抵抗率とヒートシール性を示した。
帯電防止シーラント層を有さず、シーラント層が帯電防止ポリエチレンフィルムのみである比較例1は、表面抵抗率が高くて帯電防止性が不十分であった。
導電性金属酸化物粒子の代わりに、導電性化合物1を帯電防止シーラント層に含有した比較例2は、ヒートシール強度が低い結果を示した。
[Result Summary]
Examples 1 to 5 containing conductive metal oxide particles and heat-sealable thermoplastic elastomer in the antistatic sealant layer have good laser light transmittance, water vapor permeability, surface resistivity, and heat sealability. Indicated.
Comparative Example 1 having no antistatic sealant layer and only the antistatic polyethylene film as the sealant layer had high surface resistivity and insufficient antistatic properties.
Comparative Example 2 containing conductive compound 1 in the antistatic sealant layer instead of conductive metal oxide particles showed a low heat seal strength.

1 包装材料
2 基材層
3 無機蒸着層
4 接着剤層
5 中間層
6 シーラント層
6a 絶縁性シーラント層
6b 帯電防止シーラント層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Packaging material 2 Base material layer 3 Inorganic vapor deposition layer 4 Adhesive layer 5 Intermediate layer 6 Sealant layer 6a Insulating sealant layer 6b Antistatic sealant layer

Claims (7)

基材層と、無機蒸着層と、シーラント層とを有する、透明帯電防止包装材料であって、
前記シーラント層は、少なくとも帯電防止シーラント層を有し、
前記帯電防止シーラント層は、前記透明帯電防包装材料の基材層とは反対側の面の最表面層であり、
前記帯電防止シーラント層は、導電性金属酸化物粒子と、ヒートシール性熱可塑性エラストマーとを含有し、
前記透明帯電防止包装材料の、全光線透過率が、70%以上、95%以下であり、
前記透明帯電防止包装材料の、40℃90%RH環境下における水蒸気透過度は、0.01g/m2/day/atm以上、2.0g/m2/day/atm以下であり、
前記帯電防止シーラント層の表面抵抗率は、1×107Ω/□以上、1×1010Ω/□以下である、
透明帯電防止包装材料。
A transparent antistatic packaging material having a base material layer, an inorganic vapor deposition layer, and a sealant layer,
The sealant layer has at least an antistatic sealant layer,
The antistatic sealant layer is the outermost surface layer on the surface opposite to the base material layer of the transparent antistatic packaging material,
The antistatic sealant layer contains conductive metal oxide particles and a heat-sealable thermoplastic elastomer,
The transparent antistatic packaging material has a total light transmittance of 70% or more and 95% or less,
The transparent antistatic packaging material has a water vapor permeability of 0.01 g / m 2 / day / atm or more and 2.0 g / m 2 / day / atm or less in a 40 ° C. and 90% RH environment,
The surface resistivity of the antistatic sealant layer is 1 × 10 7 Ω / □ or more and 1 × 10 10 Ω / □ or less.
Transparent antistatic packaging material.
前記帯電防止シーラント層中の、前記導電性金属酸化物粒子の含有率が、40質量%以上、80質量%以下である、請求項1に記載の透明帯電防止包装材料。   The transparent antistatic packaging material of Claim 1 whose content rate of the said electroconductive metal oxide particle in the said antistatic sealant layer is 40 to 80 mass%. 前記導電性金属酸化物粒子の平均粒径が、長軸方向粒径が0.2μm以上、2.0μm以下であり、短軸方向粒径が0.01μm以上、0.02μm以下であり、長軸/短軸比が20以上、30以下である、請求項1または2に記載の透明帯電防止包装材料。   The conductive metal oxide particles have an average particle size of 0.2 to 2.0 μm in the major axis direction, 0.01 to 0.02 μm in the minor axis direction, The transparent antistatic packaging material according to claim 1 or 2, wherein the axis / minor axis ratio is 20 or more and 30 or less. 前記導電性金属酸化物粒子が、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化錫、ガリウムドープ酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛、からなる群から選ばれる、1種または2種以上である、請求項1〜3の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。   The conductive metal oxide particles are one or more selected from the group consisting of antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, fluorine-doped tin oxide, gallium-doped zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide. The transparent antistatic packaging material of any one of Claims 1-3. 前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの、ガラス転移温度は、−60℃以上、−30℃以下である、請求項1〜4の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。   The transparent antistatic packaging material of any one of Claims 1-4 whose glass transition temperature of the said heat-sealable thermoplastic elastomer is -60 degreeC or more and -30 degrees C or less. 前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーの引張弾性率が、23℃において、1.5MPa以上、10MPa以下である、請求項1〜5の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。   The transparent antistatic packaging material of any one of Claims 1-5 whose tensile elasticity modulus of the said heat-sealable thermoplastic elastomer is 1.5 MPa or more and 10 MPa or less in 23 degreeC. 前記ヒートシール性熱可塑性エラストマーが、SEBS系ブロックポリマーである、請求項1〜6の何れか1項に記載の透明帯電防止包装材料。   The transparent antistatic packaging material according to any one of claims 1 to 6, wherein the heat-sealable thermoplastic elastomer is a SEBS-based block polymer.
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