JP6946613B1 - 切削工具 - Google Patents
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Abstract
Description
基材と、上記基材の上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
上記被覆層は、上記基材の上に設けられている炭窒化チタン層と、上記炭窒化チタン層の上に接して設けられている中間層と、上記中間層の上に接して設けられているアルミナ層とからなり、
上記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物から構成されていて、
上記中間層の厚みは、1μmを超えていて、
上記中間層と上記アルミナ層との界面における上記炭素の原子割合をPC1原子%とし、上記界面から上記中間層の側に1μm離れた地点Aの上記炭素の原子割合をPC2原子%とした場合、PC2に対するPC1の比PC1/PC2が1.03以上である。
特許文献1及び特許文献2では、上記のような構成の被膜を有することにより、酸化アルミニウム層と、当該酸化アルミニウム層と接する他の層との間の密着性が向上し、以って切削工具の寿命が長くなることが期待されている。
本開示によれば、耐チッピング性が向上した切削工具を提供することが可能になる。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
基材と、上記基材の上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
上記被覆層は、上記基材の上に設けられている炭窒化チタン層と、上記炭窒化チタン層の上に接して設けられている中間層と、上記中間層の上に接して設けられているアルミナ層とからなり、
上記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物から構成されていて、
上記中間層の厚みは、1μmを超えていて、
上記中間層と上記アルミナ層との界面における上記炭素の原子割合をPC1原子%とし、上記界面から上記中間層の側に1μm離れた地点Aの上記炭素の原子割合をPC2原子%とした場合、PC2に対するPC1の比PC1/PC2が1.03以上である。
以下、本開示の一実施形態(以下「本実施形態」と記す。)について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「X〜Z」という形式の表記は、範囲の上限下限(すなわちX以上Z以下)を意味し、Xにおいて単位の記載がなく、Zにおいてのみ単位が記載されている場合、Xの単位とZの単位とは同じである。さらに、本明細書において、例えば「TiC」等のように、構成元素の組成比が限定されていない化学式によって化合物が表された場合には、その化学式は従来公知のあらゆる組成比(元素比)を含むものとする。このとき上記化学式は、化学量論組成のみならず、非化学量論組成も含むものとする。例えば「TiC」の化学式には、化学量論組成「Ti1C1」のみならず、例えば「Ti1C0.8」のような非化学量論組成も含まれる。このことは、「TiC」以外の化合物の記載についても同様である。
本開示に係る切削工具は、
基材と、上記基材の上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
上記被覆層は、上記基材の上に設けられている炭窒化チタン層と、上記炭窒化チタン層の上に接して設けられている中間層と、上記中間層の上に接して設けられているアルミナ層とからなり、
上記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物から構成されていて、
上記中間層の厚みは、1μmを超えていて、
上記中間層と上記アルミナ層との界面における上記炭素の原子割合をPC1原子%とし、上記界面から上記中間層の側に1μm離れた地点Aの上記炭素の原子割合をPC2原子%とした場合、PC2に対するPC1の比PC1/PC2が1.03以上である。
なお、上記基材10上に設けられている上述の各層をまとめて「被膜」と呼ぶ場合がある。すなわち、上記切削工具50は上記基材10上に設けられている被膜45を備え、上記被膜45は上記被覆層40を含む。また、上記被膜45は、上記下地層23又は上記表面層24を更に含んでいてもよい。
本実施形態の基材は、この種の基材として従来公知のものであればいずれの基材も使用することができる。例えば、上記基材は、超硬合金(例えば、炭化タングステン(WC)基超硬合金、WCの他にCoを含む超硬合金、WCの他にCr、Ti、Ta、Nb等の炭窒化物を添加した超硬合金等)、サーメット(TiC、TiN、TiCN等を主成分とするもの)、高速度鋼、セラミックス(炭化チタン、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等)、立方晶型窒化硼素焼結体(cBN焼結体)及びダイヤモンド焼結体からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましく、超硬合金、サーメット及びcBN焼結体からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことがより好ましい。
本実施形態に係る被膜45は、上記基材10上に設けられている被覆層40を含む(図2参照)。「被膜」は、上記基材の少なくとも一部(例えば、切削加工時に被削材と接するすくい面等)を被覆することで、切削工具における耐チッピング、耐摩耗性、耐剥離性等の諸特性を向上させる作用を有するものである。上記被膜は、上記基材の一部に限らず上記基材の全面を被覆することが好ましい。しかしながら、上記基材の一部が上記被膜で被覆されていなかったり被膜の構成が部分的に異なっていたりしていたとしても本実施形態の範囲を逸脱するものではない。
本実施形態における被覆層は、上記基材の上に設けられている。ここで「基材の上に設けられている」とは、基材の直上に設けられている態様(図2参照)に限られず、他の層を介して基材の上に設けられている態様(図3参照)も含まれる。すなわち、上記被覆層は、本開示の効果が奏する限りにおいて、上記基材の直上に設けられていてもよいし、後述する下地層等の他の層を介して上記基材の上に設けられていてもよい。上記被覆層は、その上に表面層等の他の層が設けられていてもよい。また、上記被覆層は、上記被膜の最表面であってもよい。
本実施形態に係る炭窒化チタン層20は、上記基材10の上に設けられている。上記炭窒化チタン層は、炭窒化チタン(TiCN)のみから構成されていてもよいし、炭窒化チタン及び不可避不純物から構成されていてもよい。上記不可避不純物としては、例えば、酸素、塩素等が挙げられる。炭窒化チタン層の厚みは、3μm以上20μm以下であることが好ましく、3μm以上15μm以下であることがより好ましい。炭窒化チタン層の厚みは、上述したのと同様の方法で、STEMを用いて基材と被膜の垂直断面を観察することにより確認することができる。
本実施形態に係る中間層21は、上記炭窒化チタン層20の上に接して設けられている。上記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物から構成されている。当該化合物としては、例えば、チタンの炭窒酸化物(TiCNO)等が挙げられる。本実施形態の一側面において、中間層は、TiCNOからなることが好ましい。なお、上記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物のみから構成されていてもよいし、当該化合物及び不可避不純物から構成されていてもよい。上記不可避不純物としては、例えば、塩素等が挙げられる。
本実施形態におけるアルミナ層22は、上記中間層21の上に接して設けられている。上記アルミナ層は、酸化アルミニウム(Al2O3)のみから構成されていてもよいし、酸化アルミニウム及び不可避不純物から構成されていてもよい。上記不可避不純物としては、例えば、塩素、硫黄等が挙げられる。上記酸化アルミニウムは、α型の酸化アルミニウム(α−Al2O3)であることが好ましい。アルミナ層の厚みは、3μm以上20μm以下であることが好ましく、3μm以上15μm以下であることがより好ましい。アルミナ層の厚みは、上述したのと同様の方法で、STEMを用いて基材と被膜の垂直断面を観察することにより確認することができる。
本実施形態において、上記中間層と上記アルミナ層との界面における上記炭素の原子割合をPC1原子%とし、上記界面から上記中間層の側に1μm離れた地点Aの上記炭素の原子割合をPC2原子%とした場合、PC2に対するPC1の比PC1/PC2が1.03以上であり、1.03以上1.1以下であることが好ましく、1.04以上1.09以下であることがより好ましく、1.05以上1.08以下であることが更に好ましい。ここで、上記炭素の原子割合PC1及びPC2は、チタン、炭素、酸素及び窒素の合計を基準としたときの原子割合である。
(AES法の測定条件)
測定加速電圧:10kV
測定電流 :10mA
試料傾斜角度:30°
スパッタ電圧:1kV
例えば、上記界面から上記中間層の側に0.5μm離れた地点M(図示せず)の上記炭素の原子割合をPC3原子%とした場合、上記PC3は、PC1以上であってもよいし、PC2以下であってもよいし、PC2以上PC1以下であってもよい。本実施形態の一側面において、上記PC3は、PC2以上であり且つPC1とPC2との平均値以下であることが好ましい。本実施形態の他の一側面において、上記PC3は、25原子%以上65原子%以下であることが好ましく、35原子%以上60原子%以下であることがより好ましく、40原子%以上60原子%以下であることが更に好ましい。
本実施形態において、上記界面における上記窒素の原子割合をPN1原子%とし、上記地点Aの上記窒素の原子割合をPN2原子%とした場合、PN2に対するPN1の比PN1/PN2が0.9以上1未満であることが好ましく、0.92以上0.98以下であることがより好ましい。ここで、上記窒素の原子割合PN1及びPN2は、チタン、炭素、酸素及び窒素の合計を基準としたときの原子割合である。
本実施形態において、上記界面における上記酸素の原子割合をPO1原子%とし、上記地点Aの上記酸素の原子割合をPO2原子%とした場合、PO2に対するPO1の比PO1/PO2が0.9以上1未満であることが好ましく、0.92以上0.98以下であることがより好ましい。ここで、上記酸素の原子割合PO1及びPO2は、チタン、炭素、酸素及び窒素の合計を基準としたときの原子割合である。また、「上記酸素の原子割合」とは、上記中間層に由来する酸素の原子割合を意味する。
上記切削工具は、上記基材10と上記被覆層40との間に下地層が更に設けられていることが好ましい(図3参照)。上記下地層23は、TiNを含むことが好ましい。上記TiNは、立方晶であることが好ましい。
上記切削工具は、上記被覆層の上に表面層が更に設けられていることが好ましい。(図3参照)。上記表面層24は、チタン元素と、C、N及びBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むことが好ましい。
本実施形態に係る切削工具が奏する効果を損なわない範囲において、上記被膜は、他の層を更に含んでいてもよい。上記他の層は、上記炭窒化チタン層、上記中間層、上記アルミナ層、上記下地層又は上記表面層とは組成が異なっていてもよいし、同じであってもよい。他の層に含まれる化合物としては、例えば、TiN、TiCN、TiBN及びAl2O3等を挙げることができる。なお、上記他の層は、その積層の順も特に限定されない。上記他の層の厚みは、本実施形態の効果を損なわない範囲において、特に制限はないが例えば、0.1μm以上20μm以下が挙げられる。
本実施形態に係る切削工具の製造方法は、
上記基材を準備する第1工程(以下、単に「第1工程」という場合がある。)と、
化学気相蒸着法で、上記基材上に上記炭窒化チタン層を形成する第2工程(以下、単に「第2工程」という場合がある。)と、
チタンを構成元素として含むガス、窒素を構成元素として含むガス、一酸化炭素ガス及びメタンガスを含む原料ガスを用いて、化学気相蒸着法で、上記炭窒化チタン層の直上に上記中間層を形成する第3工程(以下、単に「第3工程」という場合がある。)と、
化学気相蒸着法で、上記中間層の直上に上記アルミナ層を形成する第4工程(以下、単に「第4工程」という場合がある。)と、
を含み、
上記第3工程において、上記窒素を構成元素として含むガスに対する上記メタンガスの分圧比PCH4/PN2gを増加させながら、上記中間層を形成させる。
第1工程では基材を準備する。例えば、基材として超硬合金基材が準備される。超硬合金基材は、市販品を用いてもよく、一般的な粉末冶金法で製造してもよい。一般的な粉末冶金法で製造する場合、例えば、ボールミル等によってWC粉末とCo粉末等とを混合して混合粉末を得る。該混合粉末を乾燥した後、所定の形状に成形して成形体を得る。さらに該成形体を焼結することにより、WC−Co系超硬合金(焼結体)を得る。次いで該焼結体に対して、ホーニング処理等の所定の刃先加工を施すことにより、WC−Co系超硬合金からなる基材を製造することができる。第1工程では、上記以外の基材であっても、この種の基材として従来公知の基材であればいずれも準備可能である。
第2工程では、化学気相蒸着法(CVD法)で、上記基材上に炭窒化チタン層を形成する。
第3工程では、チタンを構成元素として含むガス、窒素を構成元素として含むガス、一酸化炭素ガス及びメタンガスを含む原料ガスを用いて、化学気相蒸着法で、上記炭窒化チタン層の直上に上記中間層を形成する。
しかしながら、近年の切削加工においては、高速化及び高能率化が進行し、切削工具にかかる負荷が増大し、切削工具の寿命が短期化する傾向があった。このような事情に鑑みて本発明者らは鋭意検討した結果、上記分圧比PCH4/PN2gを増加させながら、上記中間層を形成させることによって、上述の比PC1/PC2を所定の範囲に設定することができることを見出した。
第4工程では、化学気相蒸着法で、上記中間層の直上にアルミナ層を形成する。
本実施形態に係る製造方法では、上述した工程の他にも、本実施形態の効果を損なわない範囲で追加工程を適宜行ってもよい。上記追加工程としては例えば、上記アルミナ層上に表面層を形成する工程、及び被膜にブラスト処理を行う工程等が挙げられる。表面層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、CVD法等によって形成する方法が挙げられる。
(付記1)
基材と、前記基材の上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
前記被覆層は、前記基材の上に設けられている炭窒化チタン層と、前記炭窒化チタン層の上に接して設けられている中間層と、前記中間層の上に接して設けられているアルミナ層とからなり、
前記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物から構成されていて、
前記中間層の厚みは、1μmを超えていて、
前記中間層と前記アルミナ層との界面における前記炭素の原子割合をPC1原子%とし、前記界面から前記中間層の側に1μm離れた地点Aの前記炭素の原子割合をPC2原子%とした場合、PC2に対するPC1の比PC1/PC2が1.03以上である、切削工具。
(付記2)
前記界面における前記窒素の原子割合をPN1原子%とした場合、前記窒素の原子割合PN1は、5原子%以上35原子%以下である、付記1に記載の切削工具。
(付記3)
前記界面における前記酸素の原子割合をPO1原子%とした場合、前記酸素の原子割合PO1は、5原子%以上25原子%以下である、付記1又は付記2に記載の切削工具。
(付記4)
前記アルミナ層の厚みは、3μm以上20μm以下である、付記1から付記3のいずれかに記載の切削工具。
(付記5)
前記炭窒化チタン層の厚みは、3μm以上20μm以下である、付記1から付記4のいずれかに記載の切削工具。
<第1工程:基材を準備する工程>
基材として、TaC(2.0質量%)、NbC(1.0質量%)、Co(10.0質量%)及びWC(残部)からなる組成(ただし不可避不純物を含む。)の超硬合金製切削チップ(形状:CNMG120408N−UX、住友電工ハードメタル株式会社製、JIS B4120(2013))を準備した。
後述の第2工程の前に、準備した基材に対し、CVD装置を用いて、下地層を形成させた。下地層の形成条件を以下に示す。なお、各ガス組成に続く括弧内の値は、各ガスの流量(L/min)を示す。また、下地層の厚み及び下地層の組成を表1に示す。
原料ガス:TiCl4(15L/min)、N2(20L/min)、H2(80L/min)
圧力 :95hPa
温度 :860℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
下地層が形成された基材に対し、CVD装置を用いて、炭窒化チタン層を形成させて、後工程の第3工程に移った。炭窒化チタン層の形成条件を以下に示す。また、炭窒化チタン層の厚み及び炭窒化チタン層の組成を表1に示す。
原料ガス:TiCl4(2.0L/min)、CH3CN(0.8L/min)、N2(20L/min)、H2(65L/min)
圧力 :75hPa
温度 :975℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
次に、上記炭窒化チタン層が形成された基材に対し、CVD装置を用いて、中間層を形成した。中間層の形成条件を以下に示す。また、中間層の厚み及び中間層の組成を表1に示す。ここで、上記第3工程における上記窒素ガスに対する上記メタンガスの分圧比PCH4/PN2gを表2に示す。
原料ガス:TiCl4(0.8L/min)、CH4(1.3〜3.0L/min)、CO(1.0L/min)、N2(6〜12L/min)、H2(35L/min)
圧力 :175hPa
温度 :960℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
次に、上記中間層が形成された基材に対し、CVD装置を用いて、アルミナ層を形成した。アルミナ層の形成条件を以下に示す。また、アルミナ層の厚み及びアルミナ層の組成を表1に示す。
原料ガス:AlCl3(2.1L/min)、CO2(0.5L/min)、H2S(0.5L/min)、HCl(2.1L/min)H2(50L/min)
圧力 :150hPa
温度 :980℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
最後に、上記アルミナ層が形成された基材(ただし、試料4、12及び103を除く。)に対し、CVD装置を用いて、表面層を形成させた。表面層の形成条件を以下に示す。また、表面層の厚み及び組成を表1に示す。なお、表1において「−」で示されている箇所は、該当する層が設けられていないことを意味する。
(TiNの場合)
原料ガス:TiCl4(4L/min)、N2(20L/min)、H2(70L/min)
圧力 :140hPa
温度 :990℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
原料ガス:TiCl4(2L/min)、CH4(3L/min)、H2(75L/min)
圧力 :300hPa
温度 :980℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
原料ガス:TiCl4(4.5L/min)、CH3CN(2.5L/min)、N2(35L/min)、H2(65L/min)
圧力 :75hPa
温度 :975℃
成膜時間:表1に示される厚みとなるように適宜調製した
上述のようにして作製した試料の切削工具を用いて、以下のように、切削工具の各特性を評価した。ここで、試料1〜15は実施例に相当し、試料101〜104は比較例に相当する。
被膜を構成する各層の厚みは、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(日本電子株式会社製、商品名:JEM−2100F)を用いて、基材の表面の法線方向に平行な断面サンプルにおける任意の10点を測定し、測定された10点の厚みの平均値をとることで求めた。結果を表1に示す。
中間層とアルミナ層との界面付近における各元素(酸素、窒素、炭素、アルミニウム等)の原子割合は、上述の基材の表面の法線方向に平行な断面サンプルに対して、オージェ電子分光法(AES法)によって線分析を行うことで求めた。具体的には、まず、クロスセクションポリッシャ加工によって上記断面サンプルの切断面を研磨した。研磨した切断面に対して、電解放出型走査顕微鏡(FE−SEM)を用いた分析によって被覆層における断面SEM像を得た(例えば、図6)。このときの測定倍率は、50000倍であった。図6では、中間層が暗い領域として観察され、アルミナ層が明るい領域として観察される。次に、上記断面SEM像における視野で、上記中間層の積層方向に平行な方向で炭窒化チタン層側からアルミナ層側に向かって(例えば、図6の白い矢印の方向で且つ黒い線に沿って)、上記研磨した切断面に対してAES法によって線分析を行った。このときの測定ピッチは、0.016μmであった。AES法のその他の測定条件は、以下の条件であった。
(AES法の測定条件)
測定装置 :アルバック・ファイ社製、商品名:PHI700
測定加速電圧:10kV
測定電流 :10mA
試料傾斜角度:30°
スパッタ電圧:1kV
(切削評価(1):断続加工試験、耐チッピング性の評価)
上述のようにして作製した試料(試料1〜15及び試料101〜104)の切削工具を用いて、以下の切削条件により、刃先におけるチッピングが発生するまでの、切削工具と被削材との接触回数を測定した。その結果を表4に示す。接触回数が多い程耐チッピング性に優れる切削工具として評価することができる。切削工具と被削材との接触回数は、以下の手順で測定した。切削加工を開始してから30秒毎に切削加工を止め、切削工具の刃先稜線部を実体顕微鏡(倍率100倍)で観察した。同様の作業を刃先稜線部におけるチッピングが確認されるまで繰り返した。チッピングが発生した時点までの、切削加工に要した累積の時間から上記被削材の断続部への接触回数を算出した。
断続加工の試験条件
被削材 :SCM415断続材
切削速度:220m/min
送り速度:0.3mm/rev
切込み :2mm
切削油 :湿式
上述のようにして作製した試料(試料1〜15及び試料101〜104)の切削工具を用いて、以下の切削条件により、20分間切削を行った後の、逃げ面における平均摩耗量を測定した。その結果を表4に示す。平均摩耗量が小さいほど耐摩耗性に優れる切削工具として評価することができる。
連続加工の試験条件
被削材 :SCM435丸棒
切削速度:240m/min
送り速度:0.2mm/rev
切込み :2mm
切削油 :湿式
上述のようにして作製した試料(試料1〜15及び試料101〜104)の切削工具を用いて、以下の切削条件により、すくい面におけるアルミナ層が剥離するまでの切削時間を測定した。その結果を表4に示す。上記切削時間が長い程アルミナ層の耐剥離性に優れる切削工具として評価することができる。アルミナ層が剥離するまでの切削時間は、以下の手順で測定した。切削加工を開始してから30秒毎に切削加工を止め、切削工具の刃先稜線部付近におけるすくい面を実体顕微鏡(倍率100倍)で観察した。同様の作業をアルミナ層の剥離が発生するまで繰り返し、アルミナ層の剥離が発生した時点までの、切削加工に要した累積の時間を上述の「アルミナ層が剥離するまでの切削時間」とした。
連続加工の試験条件
被削材 :S15C丸棒
切削速度:120m/min
送り速度:0.25mm/rev
切込み :2mm
切削油 :湿式
Claims (7)
- 基材と、前記基材の上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
前記被覆層は、前記基材の上に設けられている炭窒化チタン層と、前記炭窒化チタン層の上に接して設けられている中間層と、前記中間層の上に接して設けられているアルミナ層とからなり、
前記中間層は、チタン、炭素、酸素及び窒素からなる化合物から構成されていて、
前記中間層の厚みは、1μmを超えていて、
前記中間層と前記アルミナ層との界面における前記炭素の原子割合をPC1原子%とし、前記界面から前記中間層の側に1μm離れた地点Aの前記炭素の原子割合をPC2原子%とした場合、PC2に対するPC1の比PC1/PC2が1.03以上であり、
前記PC1及び前記PC2は、前記チタン、前記炭素、前記窒素及び前記中間層に由来する前記酸素及び前記アルミナ層に由来する酸素の合計を基準としたときの原子割合であり、
前記中間層と前記アルミナ層との界面は、前記基材の表面の法線方向に平行な方向で前記中間層及び前記アルミナ層を切断したときの断面に対し、オージェ電子分光法によって、前記中間層の積層方向に平行な方向で、前記炭窒化チタン層側から前記アルミナ層側に向かって、前記中間層に対して線分析を行った場合におけるアルミニウムの原子割合が10原子%となる地点である、切削工具。 - 前記PC1は、25原子%以上65原子%以下である、請求項1に記載の切削工具。
- 前記界面における前記窒素の原子割合をPN1原子%とし、前記地点Aの前記窒素の原子割合をPN2原子%とした場合、PN2に対するPN1の比PN1/PN2が0.9以上1未満であり、
前記PN1及び前記PN2は、前記チタン、前記炭素、前記窒素及び前記中間層に由来する前記酸素及び前記アルミナ層に由来する前記酸素の合計を基準としたときの原子割合である、請求項1又は請求項2に記載の切削工具。 - 前記界面における前記中間層に由来する前記酸素の原子割合をPO1原子%とし、前記地点Aにおける前記中間層に由来する前記酸素の原子割合をPO2原子%とした場合、PO2に対するPO1の比PO1/PO2が0.9以上1未満であり、
前記PO1及び前記PO2は、前記チタン、前記炭素、前記窒素及び前記中間層に由来する前記酸素及び前記アルミナ層に由来する前記酸素の合計を基準としたときの原子割合である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の切削工具。 - 前記中間層の厚みは、1μmを超えて3μm以下である、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の切削工具。
- 前記基材と前記被覆層との間に下地層が更に設けられている、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の切削工具。
- 前記被覆層の上に表面層が更に設けられている、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の切削工具。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11347806A (ja) * | 1999-04-14 | 1999-12-21 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質被覆層に層間剥離の発生がない表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削チップ |
WO2013031458A1 (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | 京セラ株式会社 | 切削工具 |
CN103171178A (zh) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | 株洲钻石切削刀具股份有限公司 | 一种改善涂层结构的切削刀具及其制备方法 |
WO2017037797A1 (ja) * | 2015-08-28 | 2017-03-09 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
JP2019051565A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
JP2019171483A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60238481A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 多重層被覆超硬合金 |
JP3250134B2 (ja) | 1995-12-25 | 2002-01-28 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2000008155A (ja) * | 1998-06-25 | 2000-01-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質炭素膜被覆部材 |
SE0701321L (sv) * | 2007-06-01 | 2008-12-02 | Sandvik Intellectual Property | Belagt skär |
JP5303732B2 (ja) | 2008-01-21 | 2013-10-02 | 日立ツール株式会社 | 被覆工具 |
KR101826091B1 (ko) * | 2011-03-31 | 2018-02-06 | 미츠비시 히타치 쓰루 가부시키가이샤 | 경질 피막 피복 부재 및 그 제조 방법, 및 그것을 구비하는 날끝 교환식 회전 공구 |
CN108698136B (zh) * | 2016-02-24 | 2021-03-23 | 京瓷株式会社 | 覆盖工具 |
JP6973026B2 (ja) * | 2017-02-20 | 2021-11-24 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
-
2020
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11347806A (ja) * | 1999-04-14 | 1999-12-21 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質被覆層に層間剥離の発生がない表面被覆炭化タングステン基超硬合金製切削チップ |
WO2013031458A1 (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | 京セラ株式会社 | 切削工具 |
CN103171178A (zh) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | 株洲钻石切削刀具股份有限公司 | 一种改善涂层结构的切削刀具及其制备方法 |
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