JP6943136B2 - ガラス溶解炉、及びガラス物品の製造方法 - Google Patents

ガラス溶解炉、及びガラス物品の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、ガラス溶解炉、及びガラス物品の製造方法に関する。
ガラス溶解炉を構成する耐火物は、高温の溶融ガラスと接触して侵食され、溶融ガラスに溶出する。これにより、溶融ガラスとは異なる組成、比重の異質ガラスが生成する。一方、溶融ガラスと接触する部分の耐火物は、溶融ガラスに対して耐食性に優れる電鋳煉瓦を使用することが多い。このうち、ジルコニア系電鋳煉瓦は、他の電鋳煉瓦よりもジルコニア(ZrO)含有率が高く、他の電鋳煉瓦よりも耐食性に優れる。しかし、ジルコニア(ZrO)は、ガラス組成には含まれない成分であり、溶融ガラスよりも比重が高いため、溶融ガラスに溶出すると、異質ガラスの生成が助長される。このような異質ガラスが、最終的に得られるガラス物品に混入すると、所望の品質を満たさないため、生産歩留が低下するという問題が起きる。
このような異質ガラスをガラス物品に混入させないように、特許文献1には、底部に異質ガラスを排出するためのガラス排出部を具備したガラス溶解炉が開示されている。
特開2006−62903号公報
しかし、底部にガラス排出部を設けるだけでは、異質ガラスがガラス物品に混入することを充分に抑制できない。ガラス溶解炉内における溶融ガラスは、ガラス溶解炉内で循環流を形成しながら下流側に流動する。溶融ガラスの循環流が大きい場合や、循環流の移動速度が速い場合は、底部に停滞している異質ガラスが、ガラス排出部へ流れにくくなる。そのため、溶融ガラスを清澄槽又は成形炉に向けて移送させるスロートに異質ガラスが混入し、最終的に得られるガラス物品にも異質ガラスが混入する。
特に、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスは、ガラス溶解炉内における溶融ガラスの温度が高くなるため、ガラス溶解炉を構成する耐火物が侵食され、溶融ガラスに溶出しやすい。そのため、異質ガラスがガラス物品に混入する問題が顕在化する。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、異質ガラスがガラス物品に混入することを抑制できるガラス溶解炉、及びガラス物品の製造方法を提供することを目的とする。
本発明のガラス溶解炉は、ガラス原料を溶解し、得られた溶融ガラスを下流側に流動させる溶解槽と、前記溶解槽に連通して設けられ、前記溶融ガラスを清澄槽又は成形炉に向けて移送させるスロートとを備えるガラス溶解炉であって、前記溶解槽は、仕切壁と、排出部とを備え、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスを溶解し、前記仕切壁は、前記溶解槽の幅方向にわたって設けられ、前記溶融ガラスの流れの一部を遮り、前記排出部は、前記スロートと前記仕切壁との間における前記溶解槽の底部に設けられ、前記溶融ガラスを排出し、前記底部から前記スロートの入口の下端までの高さが20[mm]以上であることを特徴とする。
また、本発明のガラス物品の製造方法は、溶解工程と、成形工程と、徐冷工程とを含むガラス物品の製造方法であって、前記溶解工程は、溶解槽において、ガラス原料を溶解させ、得られた溶融ガラスを下流側に流動させ、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスを溶解し、前記溶融ガラスは、前記溶解槽に連通して設けられるスロートを介して、清澄工程又は前記成形工程に向けて移送され、前記溶解槽は、前記溶解槽の幅方向にわたって設けられる仕切壁を備え、さらに前記スロートと前記仕切壁との間における前記溶解槽の底部に排出部を備え、前記仕切壁は、前記溶融ガラスの流れの一部を遮り、記排出部は、前記溶融ガラスを排出し、前記底部から前記スロートの入口の下端までの高さが20[mm]以上であることを特徴とする。
本発明のガラス溶解炉、及びガラス物品の製造方法によれば、異質ガラスがガラス物品に混入することを抑制できる。
本発明に係る第一実施形態におけるガラス溶解炉のY軸垂直面での断面図である。 本発明に係る第一実施形態におけるガラス溶解炉のX軸垂直面での断面図であり、図1のI−I矢視断面図である。 本発明に係る第二実施形態におけるガラス溶解炉のY軸垂直面での断面図である。 本発明に係る第二実施形態におけるガラス溶解炉のX軸垂直面での断面図であり、図1のII−II矢視断面図である。 本発明に係る第一実施形態におけるガラス物品の製造方法を示すフローチャートである。
以下、本発明に係る各種実施形態について、図面を用いて説明する。本明細書において、数値範囲を表す「〜」はその前後の数値を含む範囲を意味する。
なお、各図面の基準の方向は、記号、数字の方向に対応する。図面においては、適宜3次元直交座標系としてXYZ座標系を示し、Z軸方向を図1〜4における上下方向とし、X軸方向を図1,3に示すガラス溶解炉10,110の長さ方向(左右方向)とし、Y軸方向を図2,4に示すガラス溶解炉10,110の幅方向(左右方向)とする。本明細書においては、X軸方向は平面視における溶融ガラスGの流れ方向であり、Y軸方向は溶融ガラスGの流れ方向と直交する。
また、本明細書において、上流側及び下流側とは、ガラス溶解炉10,110内における溶融ガラスGの流れ方向(X軸方向)に対するものであり、+X側が下流側、−X側が上流側である。
[ガラス溶解炉]
「第一実施形態」
図1は、本発明に係る第一実施形態におけるガラス溶解炉のY軸垂直面での断面図である。図2は、本発明に係る第一実施形態におけるガラス溶解炉のX軸垂直面での断面図であり、図1のI−I矢視断面図である。本発明に係るガラス溶解炉の第一実施形態について、図1及び図2を参照して説明する。
本実施形態のガラス溶解炉10は、原料供給装置(不図示)によって供給されたガラス原料を溶解し、得られた溶融ガラスGを下流側(+X側)に流動させる溶解槽20と、溶解槽20に連通して設けられ、溶融ガラスGを清澄槽(不図示)又は成形炉(不図示)に向けて移送させるスロート30とを備える。
溶解槽20は、仕切壁40と、排出部50とを備え、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスを溶解する。仕切壁40は、溶解槽20の幅方向(Y軸方向)にわたって設けられ、溶融ガラスGの流れの一部を遮る。排出部50は、スロート30と仕切壁40との間における溶解槽20の底部21に設けられ、溶融ガラスGを排出する。
溶解槽20は、溶融ガラスGの上側(+Z側)に位置する壁部にバーナー(不図示)を備えており、燃料及びガスを用いるバーナー燃焼によって、溶解槽20の内部に供給されたガラス原料を溶解して溶融ガラスGを得る。燃料は天然ガス又は重油が用いられ、ガスは酸素又は空気が用いられる。溶解槽20は、底部21と側壁部22とを備え、溶融ガラスGを保持する。底部21及び側壁部22は、内側が溶融ガラスGと接触するため、耐食性に優れる電鋳煉瓦から形成される。電鋳煉瓦の例としては、ジルコニア系煉瓦、アルミナ・ジルコニア・シリカ(AZS)系煉瓦、アルミナ系煉瓦が挙げられる。底部21又は側壁部22は、通電電極(不図示)を備えてもよい。通電電極は、電圧を印加することよってジュール熱を発生させ、ガラス原料を溶解して溶融ガラスGを得る。
溶解槽20は、溶融ガラスGと接触するため、溶解槽20を構成する電鋳煉瓦の一部が溶融ガラスGに溶出する。溶解槽20にジルコニア(ZrO)を含んだ電鋳煉瓦を用いた場合、比重が高いジルコニア(ZrO)成分が溶融ガラスGに溶出する。そのため、溶解槽20の底部21近傍には、ジルコニア(ZrO)濃度が高く、比重が高い異質ガラスG1が滞在している。
底部21からスロート30の入口の下端までの高さをHとする。高さHは、20[mm]以上である。高さHは、好ましくは200[mm]以下、より好ましくは40〜150[mm]、さらに好ましくは60〜100[mm]である。高さHを20[mm]以上とすることにより、異質ガラスG1がスロート30を通って下流側(+X側)へ流出することを抑制できる。また、高さHを200[mm]以下とすることにより、異質ガラスG1を除く溶融ガラスGを効率良くスロート30より下流側(+X側)に移送させることができる。
図2に示すように、スロート30は、溶解槽20の幅方向(Y軸方向)中央部に連通して設けられる。そのため、溶融ガラスGの流れが幅方向(Y軸方向)で対称となり、図1に示す下流側循環流102を制御しやすくなる。
仕切壁40は、底部21より上側(+Z側)に延在して設けられ、溶融ガラスGの下層の流れを遮るダム構造である。仕切壁40は、仕切壁40の上側(+Z側)、上流側(−X側)、下流側(+X側)の溶融ガラスGに対して、それぞれ前進流100、上流側循環流101、下流側循環流102を形成する。前進流100は、溶解槽20内の上流側(−X側)から下流側(+X側)に向かって流れる。上流側循環流101は、溶融ガラスGの上部において、溶解槽20内の上流側(−X側)に向かって流れ、溶融ガラスGの下部において、溶解槽20内の下流側(+X側)に向かって流れる循環流である。下流側循環流102は、溶融ガラスGの上部において、溶解槽20内の下流側(+X側)に向かって流れ、溶融ガラスGの下部において、溶解槽20内の上流側(−X側)に向かって流れる循環流である。仕切壁40は、電鋳煉瓦、白金、白金合金、イリジウム、モリブデンなど、溶融ガラスGに対して耐食性に優れる材料によって構成される。
排出部50は、スロート30と仕切壁40との間の底部21に設けられ、底部21の下側(−Z側)に、異質ガラスG1を排出するための排出管51を備える。これにより、仕切壁40より下流側(+X側)に溜まっている異質ガラスG1がスロート30へ流出することを抑制できる。排出管51は、底部21より下側(−Z側)に筒状に延び、Z軸垂直面の断面が円形であるが、多角形等であってもよい。排出管51は、異質ガラスG1が混入した溶融ガラスGの流下量を制御するための加熱設備(不図示)が設けられてもよい。この場合、排出管51は、白金又は白金合金製で、直接通電加熱設備が設けられることにより、溶融ガラスGの流下量を精密に制御することができる。
図2に示すように、排出部50は、溶解槽20の幅方向(Y軸方向)中央部に設けられる。排出部50は、排出管51がスロート30の幅方向(Y軸方向)内側に設けられる。これにより、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。
スロート30の入口と仕切壁40との間における溶解槽20が保持する溶融ガラスGの重量をW[トン]、1日にスロート30から移送される溶融ガラスGの重量をP[トン/日]とする。このとき、本実施形態のガラス溶解炉10は、0.2≦W/P≦2.0を満たすことが好ましい。W/Pは、より好ましくは0.4≦W/P≦1.2、さらに好ましくは0.5≦W/P≦1.0である。W/Pが2.0以下だと、下流側循環流102が抑制され、異質ガラスG1が巻き上げられにくくなるため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを抑制できる。また、W/Pが0.2以上だと、異質ガラスG1を除く溶融ガラスGを効率良くスロート30より下流側(+X側)に移送させることができる。また、重量Pは、好ましくは20〜200[トン/日]である。
底部21から溶融ガラスGの上面までの高さをH、底部21から仕切壁40の上端までの高さをH、スロート30の入口の底部と天部との間の高さをHとする。本実施形態のガラス溶解炉10は、H/Hが0.3〜0.95を満たしていることが好ましく、0.5〜0.95を満たしていることがより好ましい。H/Hが0.3以上だと、下流側循環流102が大きくなることを防ぐことができ、異質ガラスG1が巻き上げられにくくなるため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを抑制できる。また、H/Hが0.95以下だと、前進流100及び下流側循環流102が安定し、異質ガラスG1が巻き上げられにくくなるため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを抑制できる。
また、本実施形態のガラス溶解炉10は、H/Hが0.1〜0.5を満たしていることが好ましい。H/Hを0.1〜0.5にすることで、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを抑制しながら、異質ガラスG1を除く溶融ガラスGを効率良くスロート30より下流側(+X側)に移送させることができる。
平面視において、溶解槽20内の上流端から下流端までの距離をL、仕切壁40の下流端から溶解槽20内の下流端までの距離をLとする。本実施形態の溶解槽20は、L/Lが0.1〜0.5を満たしていることが好ましい。L/Lを0.1〜0.5にすることで、異質ガラスG1を除く溶融ガラスGを効率良く下流側(+X側)に移送させることができる。
図2に示すように、溶解槽20内の幅方向(Y軸方向)距離をW、スロート30の幅方向(Y軸方向)距離をWとする。本実施形態のガラス溶解炉10は、W/Wが0.03〜0.3を満たしていることが好ましい。W/Wを0.03〜0.3にすることで、異質ガラスG1を除く溶融ガラスGを効率良く下流側(+X側)に移送させることができる。
本実施形態のガラス溶解炉10は、スロート30の入口において、溶融ガラスGの流れ方向(X軸方向)の平均流速Vが、5〜15[m/h]であることが好ましい。平均流速V[m/h]は、スロート30の入口箇所のX軸垂直面における断面積をS[m]、溶融ガラスGの密度をd[トン/m]として、V=P÷(24×S×d)で算出される。平均流速Vが5[m/h]以上だと、異質ガラスG1を除く溶融ガラスGを効率良くスロート30より下流側(+X側)に移送させることができる。また、平均流速Vが15[m/h]以下だと、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。
また、本実施形態で用いられるガラスは、異質ガラスG1の混入を効果的に抑制するため、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが好ましくは1610℃以上、より好ましくは1640℃以上である。また、本実施形態で用いられるガラスは、溶解を容易にするため、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが好ましくは1670℃以下である。
「第二実施形態」
図3は、本発明に係る第二実施形態におけるガラス溶解炉のY軸垂直面での断面図である。図4は、本発明に係る第二実施形態におけるガラス溶解炉のX軸垂直面での断面図であり、図3のII−II矢視断面図である。
本発明に係るガラス溶解炉の第二実施形態について、図3及び図4を参照して説明する。以下、第一実施形態と異なる点のみ説明する。第二実施形態のガラス溶解炉110は、溶解槽に収容部60を備える点で、第一実施形態のガラス溶解炉10と構造が異なっている。
図3に示すように、本実施形態の溶解槽120は、スロート30の入口と仕切壁40との間の底部21に設けられる凹状の収容部60を備える。収容部60は、箱型の形状であり、溶融ガラスGを貯留する。収容部60は、底部に溶融ガラスGを排出する排出部150が設けられる。凹状の収容部60は、X軸垂直面又はY軸垂直面の断面が矩形であるが、正方形、半円形、半楕円形又は角丸矩形であってもよい。また、収容部60は、Z軸垂直面の断面が円形であるが、正方形又は矩形であってもよい。
図4に示すように、収容部60は、溶解槽120の幅方向(Y軸方向)中央部に設けられる。収容部60は、スロート30よりも幅が大きいため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。
排出部150は、収容部60の底部の下側(−Z側)に、異質ガラスG1を排出するための排出管151を備える。排出部150は、排出管の鉛直方向(Z軸方向)長さが収容部60の深さの分だけ短くなっている点で、第一実施形態の排出部50と異なっている。
本実施形態の溶解槽120によれば、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。収容部60の底部と、溶解槽20の底部21との間の距離を高さHS1とする。高さHS1は50〜300[mm]であることが好ましい。高さHS1が50[mm]以上だと、異質ガラスG1が収容部60内に溜まる。また、高さHS1が300[mm]以下だと、収容部60内で溶融ガラスGの循環が起きて異質ガラスG1が上部へ流出することを抑制できる。
本実施形態では、平面視において、収容部60の下流端とスロート30の入口との間の流れ方向(X軸方向)距離をLとする。距離Lは0〜1000[mm]であることが好ましい。距離Lは、より好ましくは0〜500[mm]、さらに好ましくは0〜100[mm]である。距離Lが1000[mm]以下だと、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。
平面視において、収容部60の流れ方向(X軸方向)距離をLとする。本実施形態の溶解槽120は、L/Lが0.05〜0.5を満たしていることが好ましい。L/Lを0.05〜0.5にすることで、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。
図4に示すように、収容部51の幅方向(Y軸方向)距離をWとする。本実施形態の溶解槽120は、W/Wが1.1〜5.0を満たしていることが好ましい。W/Wを1.1〜5.0にすることで、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。
収容部60内の溶融ガラスGの重量をw[トン]とし、1日に排出部150から排出される溶融ガラスGの重量をD[トン/日]とする。本実施形態のガラス溶解炉110は、0.02≦w/D≦0.4を満たすことが好ましい。w/Dが0.02以上だと、収容部60内に異質ガラスG1を溜めることができるため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。w/Dが0.4以下だと、収容部60内で溶融ガラスGの循環が起きることを抑制できるため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを効果的に抑制できる。また、重量Dは、好ましくは0.5〜30[トン/日]である。
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成は前記実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更も含まれる。
本実施形態のガラス溶解炉10,110は、バーナー加熱及び電気加熱により、ガラス原料の溶解を行っているが、バーナー加熱単独又は電気加熱単独でガラス原料の溶解を行ってもよい。
本実施形態の溶解槽20,120は、平面視における一軸方向(X軸方向)に長く伸びた矩形状であるが、ガラス原料を溶解できるなら、これに限定されない。
本実施形態では、排出部50,150は一箇所設置されているが、ガラス溶解炉10,110の長さ方向(X軸方向)又は幅方向(Y軸方向)に二箇所以上設置されてもよい。
本実施形態では、底部21より上側(+Z側)に延在して設けられる仕切壁40の形態を説明したが、仕切壁は、溶融ガラスGを仕切るものであれば、これに限定されない。
[ガラス物品の製造方法]
次に、本実施形態のガラス溶解炉10,110のうち、ガラス溶解炉110を用いたガラス物品の製造方法について説明する。図5は、本発明に係る第一実施形態におけるガラス物品の製造方法を示すフローチャートである。
本実施形態のガラス物品の製造方法は、ガラス原料を溶解して溶融ガラスGを得る溶解工程S1と、溶融ガラスGの気泡を除去する清澄工程S2と、溶融ガラスGを成形する成形工程S3と、成形されたガラスを徐冷する徐冷工程S4とを含む。
溶解工程S1は、ガラス原料を溶解槽内に供給し、ガラス原料を加熱して溶解する。ガラス溶解炉に設けられたバーナーの火炎をガラス原料に向かって放射することによって、ガラス原料を上方から加熱する。バーナーの火炎によって加熱すると共に、複数の通電電極に電圧を印加することによって通電し、ジュール熱を発生させ、ガラス原料を加熱する。
溶解工程S1は、溶解槽において、溶融ガラスを下流側に流動させ、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスを溶解する。溶解槽は、溶解槽の幅方向にわたって設けられる仕切壁を備え、さらに溶解槽の底部に排出部を備える。仕切壁は、溶融ガラスの流れの一部を遮る。溶融ガラスは、溶解槽に連通して設けられるスロートを介して、清澄工程S2に向けて移送される。排出部は、溶融ガラスを排出する。
スロートの入口と仕切壁との間における溶解槽が保持する溶融ガラスの重量をW[トン]、1日に前記スロートから移送される溶融ガラスの重量をP[トン/日]とする。本実施形態の溶解工程S1は、0.2≦W/P≦2.0を満たすことが好ましい。
本実施形態の溶解工程S1において、重量P[トン/日]は、排出部から排出される溶融ガラスGの重量をD[トン/日]として、0.01≦D/P≦0.2を満たすことが好ましい。D/Pが0.01以上だと、異質ガラスG1を排出部50から充分に排出できるため、異質ガラスG1がスロート30へ流出することを抑制できる。また、D/Pが0.2以下だと、排出部50からの溶融ガラスGの排出による生産ロスを抑制できる。
清澄工程S2は、溶解工程S1で得られた溶融ガラスを清澄槽に供給し、溶融ガラス内の気泡を浮上させて除去する工程である。気泡の浮上を促進させる方法としては、例えば清澄槽内を減圧して脱泡する方法などがある。
成形工程S3は、溶解槽より下流側に設けられた成形炉で溶融ガラスを成形する。徐冷工程S4は、成形炉より下流側に設けられた徐冷炉で成形されたガラスを徐冷し、最終的にガラス物品を得る。
ガラス物品としてガラス板を得るには、例えばフロート法が用いられる。フロート法は、フロートバス内に収容される溶融金属(例えば、溶融スズ)上に導入された溶融ガラスを所定方向に流動させ、帯板状のガラスリボンとする方法である(成形工程S3)。ガラスリボンは、水平方向に流動する過程で冷却された後、溶融金属から引き上げられ、徐冷炉内で搬送されながら徐冷され、板ガラスとなる(徐冷工程S4)。板ガラスは、徐冷炉から搬出された後、切断機によって所定の寸法形状に切断され製品であるガラス板となる。
また、ガラス板を得るのに別の成形方法として、フュージョン法を用いてもよい。フュージョン法は、樋状部材の左右両側の上縁から溢れ出した溶融ガラスを、樋状部材の左右両側面に沿って流下させ、左右両側面が交わる下縁で合わせることにより、帯板状のガラスリボンとする方法である(成形工程S3)。溶融ガラスリボンは、鉛直方向(Z軸方向)下方に移動しながら徐冷され、板ガラスとなる(徐冷工程S4)。板ガラスは、切断機によって所定の寸法形状に切断され、製品であるガラス板となる。
なお、本実施形態のガラス物品の製造方法は、清澄工程S2を含んでいるが、本発明のガラス物品の製造方法は、清澄工程を含んでいなくてもよい。この場合、溶融ガラスは、溶解工程を経て、成形工程でガラスリボンに成形される。
本実施形態で用いられるガラス原料の組成には特に制約がなく、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、混合アルカリ系ガラス、ホウケイ酸ガラス、又はその他のガラスのいずれであってもよい。
また、本実施形態で用いられるガラスは、異質ガラスG1の混入を効果的に抑制できるため、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが好ましくは1610℃以上、より好ましくは1640℃以上である。また、本実施形態で用いられるガラスは、溶解が容易になるため、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが好ましくは1670℃以下である。
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく、様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
製造されるガラス物品の用途は、建築用、車両用、フラットパネルディスプレイ用、カバーガラス用、又はその他の各種用途が挙げられる。
10,110:ガラス溶解炉
20,120:溶解槽
21:底部
22:側壁部
30:スロート
40:仕切壁
50,150:排出部
51,151:排出管
60:収容部
100:前進流
101:上流側循環流
102:下流側循環流
G:溶融ガラス
G1:異質ガラス

Claims (13)

  1. ガラス原料を溶解し、得られた溶融ガラスを下流側に流動させる溶解槽と、前記溶解槽に連通して設けられ、前記溶融ガラスを清澄槽又は成形炉に向けて移送させるスロートとを備えるガラス溶解炉であって、
    前記溶解槽は、仕切壁と、排出部とを備え、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスを溶解し、
    前記仕切壁は、前記溶解槽の幅方向にわたって設けられ、前記溶融ガラスの流れの一部を遮り、
    前記排出部は、前記スロートと前記仕切壁との間における前記溶解槽の底部に設けられ、前記溶融ガラスを排出し、
    前記底部から前記スロートの入口の下端までの高さが20[mm]以上であることを特徴とするガラス溶解炉。
  2. 前記ガラス溶解炉は、前記スロートの入口と前記仕切壁との間における前記溶解槽が保持する溶融ガラスの重量をW[トン]、1日に前記スロートから移送される溶融ガラスの重量をP[トン/日]として、0.2≦W/P≦2.0を満たす、請求項1に記載のガラス溶解炉。
  3. 前記ガラス溶解炉は、前記底部から前記スロートの入口の下端までの高さが200[mm]以下である、請求項1または2に記載のガラス溶解炉。
  4. 前記溶解槽は、前記底部に設けられる凹状の収容部を備え、
    前記収容部は、深さが50〜300[mm]であり、底部に前記溶融ガラスを排出する排出部が設けられる、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス溶解炉。
  5. 平面視において、前記収容部の下流端と前記スロートの入口との間の流れ方向距離が、0〜1000[mm]である、請求項4に記載のガラス溶解炉。
  6. 溶解工程と、成形工程と、徐冷工程とを含むガラス物品の製造方法であって、
    前記溶解工程は、溶解槽において、ガラス原料を溶解させ、得られた溶融ガラスを下流側に流動させ、粘度ηが10ポイズとなる温度Tが1580℃以上のガラスを溶解し、
    前記溶融ガラスは、前記溶解槽に連通して設けられるスロートを介して、清澄工程又は前記成形工程に向けて移送され、
    前記溶解槽は、前記溶解槽の幅方向にわたって設けられる仕切壁を備え、さらに前記スロートと前記仕切壁との間における前記溶解槽の底部に排出部を備え、前記仕切壁は、前記溶融ガラスの流れの一部を遮り、
    記排出部は、前記溶融ガラスを排出し、
    前記底部から前記スロートの入口の下端までの高さが20[mm]以上であることを特徴とするガラス物品の製造方法。
  7. 前記スロートの入口と前記仕切壁との間における前記溶解槽が保持する溶融ガラスの重量をW[トン]、1日に前記スロートから移送される溶融ガラスの重量をP[トン/日]として、0.2≦W/P≦2.0を満たす、請求項6に記載のガラス物品の製造方法。
  8. 前記底部から前記スロートの入口の下端までの高さが200[mm]以下である、請求項6または7に記載のガラス物品の製造方法。
  9. 前記溶解工程は、
    前記溶解槽の底部に設けられる凹状の収容部で、前記溶融ガラスを貯留し、
    前記収容部の底部に設けられる排出部により、前記溶融ガラスを排出し、
    前記収容部は、深さが50〜300[mm]である、請求項6〜8のいずれか1項に記載のガラス物品の製造方法。
  10. 前記溶解工程は、平面視において、前記収容部の下流端と前記スロートの入口との間の流れ方向距離が、0〜1000[mm]である、請求項9に記載のガラス物品の製造方法。
  11. 前記溶解工程は、前記収容部内の溶融ガラスの重量をw[トン]、1日に前記排出部から排出される溶融ガラスの重量をD[トン/日]として、0.02≦w/D≦0.4を満たす、請求項9または10に記載のガラス物品の製造方法。
  12. 前記溶解工程は、前記スロートの入口において、前記溶融ガラスの流れ方向の平均流速が、5〜15[m/h]である、請求項6〜11のいずれか1項に記載のガラス物品の製造方法。
  13. 前記溶解工程において、1日に前記スロートから移送される溶融ガラスの重量をP[トン/日]、1日に前記排出部から排出される溶融ガラスの重量をD[トン/日]として、0.01≦D/P≦0.2を満たす、請求項6〜12のいずれか1項に記載のガラス物品の製造方法。
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