JP6935239B2 - 光電子分光装置用試料ホルダ - Google Patents
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Description
励起光源(図示せず)で発生したX線を分光器で単色化し、励起光1として試料2に照射する。励起光1より結合エネルギーを超えた運動エネルギーを得た電子は、光電子3として試料2の表面から真空中に飛び出し、光電子スペクトル検出器4に捕集される。捕集された光電子3は光電子スペクトル検出器4および制御装置5によりエネルギー分別され、光電子スペクトルを出力装置6に表示する。
試料2は、試料ホルダ部10と試料押え部11に挟まれる形で固定されている。具体的には、試料2は、試料押え部11の上に金属メッシュ12を乗せ、金属メッシュ12を固定するためのメッシュ押え部13を介してネジ14で試料ホルダ10に固定されている。励起光1の照射を受けた試料2の表面は光電子15を放出してチャージアップ16する。試料ホルダ部10としては、例えば、銅製の試料ホルダ10を使用するのが好ましい。
ここで、図1(B)に示すように、金属メッシュ12は、金属部に複数の開口部が形成されて構成される。図1(B)に示すように、金属メッシュ12は、金属部に当たって発生した光電子の一部を用いて試料2の表面に発生したチャージアップ16を除去する。
図5を参照して、実施例2における試料押え11部及びメッシュ押え部13について説明する。試料押え11部は、例えば、0.2mm厚のTaからメッシュ押え部13用のアリ溝500を掘り、金属メッシュ12用の座繰り510と励起光1及び光電子15が通過するための穴520を空けてある。この上に金属メッシュ12(例えば、Cu2000メッシュ)を配置する。
2 試料
3 光電子
4 光電子スペクトル検出器
5 制御装置
6 出力装置
7 試料駆動装置
8 測定室
9 高真空排気装置
10 試料ホルダ部
11 試料押え部
12 金属メッシュ
13 メッシュ押え部
14 ネジ
15 光電子
16 チャージアップ
17 光電子
18 光電子
19 ホルダネジ
20 ネジ穴
21 蝶番の軸管
22 蝶番の軸管
23 スペーサ
24 軸棒
Claims (10)
- 励起光を絶縁性の試料に照射し前記試料から発生した光電子のエネルギーを分析する光電子分光装置に配置された前記試料を保持する試料ホルダであって、
金属部に複数の開口部が形成された金属メッシュを有し、
前記金属メッシュは、前記金属部に当たって発生した光電子の一部を用いて前記試料の表面に発生したチャージアップを除去するように、前記試料から所定距離だけ離して配置されており、
前記金属メッシュが搭載された試料押え部と、
前記試料が搭載された試料ホルダ部と、
前記試料押え部を前記試料ホルダ部に固定するためのメッシュ押え部と、を
更に有することを特徴とする光電子分光装置用試料ホルダ。 - 前記金属メッシュは、
前記開口部を通過して前記試料に照射された前記励起光が前記試料から光電子を発生させると共に、前記試料の表面にプラス電荷が蓄積されて前記チャージアップが発生するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。 - 前記所定距離は、30ミクロンから200ミクロンの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。
- 前記金属メッシュは、金属薄板で構成され、
前記金属メッシュの前記開口部は、円形又は矩形の穴で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。 - 前記金属メッシュは、 前記開口部の前記円形の直径又は前記矩形の短辺が6ミクロンから200ミクロンの範囲にあり、前記励起光の照射領域が、前記開口部より大きくなるように配置されていることを特徴とする請求項4に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。
- 前記試料押え部は、
前記金属メッシュを固定するための座繰が設けられており、
前記試料押え部の板厚及び前記座繰の深さを調整することにより、前記金属メッシュを前記試料から前記所定距離だけ離して配置することを特徴とする請求項1に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。 - 前記試料押え部と前記試料ホルダ部の1辺が絶縁材料を介して繋がっており、前記試料押え部と前記試料ホルダ部の他辺はネジを用いて固定されていることを特徴とする請求項1に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。
- 前記試料押え部と前記試料ホルダ部は、前記絶縁材料で構成した蝶番を介して開閉自在に繋がっており、
前記ネジを調整することにより、前記金属メッシュを前記試料から前記所定距離だけ離して配置することを特徴とする請求項7に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。 - 前記蝶番を介して前記試料押え部に通電し、前記金属メッシュを通電加熱クリーニングするように構成したことを特徴とする請求項8に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。
- 前記絶縁性の試料は、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリイミド樹脂、テフロン樹脂又はセラッミクスから選ばれる少なくとも1つの絶縁材料を含んで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光電子分光装置用試料ホルダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017116366A JP6935239B2 (ja) | 2017-06-14 | 2017-06-14 | 光電子分光装置用試料ホルダ |
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JP2019002750A JP2019002750A (ja) | 2019-01-10 |
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JP2017116366A Active JP6935239B2 (ja) | 2017-06-14 | 2017-06-14 | 光電子分光装置用試料ホルダ |
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JP (1) | JP6935239B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP6667741B1 (ja) * | 2019-06-11 | 2020-03-18 | 三菱電機株式会社 | 試料ホルダー及びx線光電子分光装置 |
CN114047215B (zh) * | 2021-10-20 | 2023-08-15 | 北京科技大学顺德研究生院 | 一种用于消除被测样品表面不均匀荷电的装置及方法 |
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JP2019002750A (ja) | 2019-01-10 |
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|
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