JP6931931B2 - 粒子線装置、観察法、および回折格子 - Google Patents
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Description
表1
(i) 透過波と回折波とが試料面上で重ならない、
(ii) 透過波が点像とならない(フラウンホーファー回折の条件に達しない)
の2条件を満たす必要がある。
18 真空容器
19 粒子源の制御ユニット
2 光軸
21 透過波
22 回折波
23 照射領域
25 入射粒子線
26 クロスオーバー
260 スポット
261、262 回折スポット
263 明るい領域
264 回折格子の陰
265 縞
3 試料もしくは試料面
30 基板
301 回折面
302 アンダーフォーカス面
303 オーバーフォーカス面
31 幹部
32 薄膜
33 補強部
34 試料の像もしくは試料の像面
35 開口領域
36 回折格子
37 粒子線の照射領域
38 回折格子の制御ユニット
39 試料保持装置の制御ユニット
4 荷電粒子線装置
40 加速管
41 第1コンデンサレンズ
42 第2コンデンサレンズ
43 単純格子
44 ゾーンプレート
45 刃状転位格子
46 渦状ゾーンプレート
47 第2コンデンサレンズの制御ユニット
48 第1コンデンサレンズの制御ユニット
49 加速管の制御ユニット
5 対物レンズ
51 システム制御コンピュータ
52 システム制御コンピュータのモニタ
53 システム制御コンピュータのインターフェース
59 対物レンズの制御ユニット
61 第1結像レンズ
62 第2結像レンズ
63 第3結像レンズ
64 第4結像レンズ
66 第4結像レンズの制御ユニット
67 第3結像レンズの制御ユニット
68 第2結像レンズの制御ユニット
69 第1結像レンズの制御ユニット
75 像検出面
76 画像データモニタ
77 画像データ記録装置
78 画像データコントローラ
79 画像検出器
8 最終像
82 干渉領域
84 干渉縞
845 リング形状
846 位相分布
847 矢印
9 バイプリズム装置
91 フィラメント電極
98 バイプリズム装置の制御ユニット
99 平行平板接地電極
Claims (14)
- 粒子線装置であって、
荷電粒子線を発生する粒子線源と、
前記荷電粒子線を試料に照射する照射部と、
前記試料を保持する試料保持部と、
前記試料を透過した前記荷電粒子線を検出するための検出部と、
前記照射部における前記荷電粒子線の進行方向下流側で、前記試料の前記荷電粒子線の進行方向上流側に備えられ、前記荷電粒子線に対して透過性を有する材料で構成され、開口領域と前記開口領域の外側周辺部とからなる回折格子と、
前記回折格子の前記粒子線装置の光軸上への着脱と移動を可能とする保持装置と、
前記試料を透過した前記荷電粒子線を結像する少なくとも一つのレンズからなる対物レンズ系と、
前記対物レンズ系の前記荷電粒子線の進行方向下流側に配置された複数のレンズからなる結像光学系と、を備え、
前記検出部は、前記結像光学系による前記試料の像を取得し、
前記回折格子の前記開口領域は、前記荷電粒子線の前記回折格子への照射領域よりも小さい、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項1に記載の粒子線装置であって、
前記照射部が作る前記荷電粒子線の収束点の位置により、前記荷電粒子線の前記試料への照射領域を制御する、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項1に記載の粒子線装置であって、
前記光軸上において、前記荷電粒子線の進行方向に前記回折格子、前記回折格子の回折面に置かれた前記試料の順に構成される、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項2に記載の粒子線装置であって、
前記光軸上において、前記荷電粒子線の進行方向に前記収束点、前記回折格子、前記試料の順に、又は前記回折格子、前記収束点、前記試料の順に構成されている、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項2に記載の粒子線装置であって、
前記光軸上において、前記荷電粒子線の進行方向に前記回折格子、前記試料、前記収束点の順に構成されている、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項1に記載の粒子線装置であって、
前記対物レンズ系もしくは前記結像光学系のいずれかに、あるいは両方にバイプリズム装置を備えている、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項6に記載の粒子線装置であって、
前記回折格子の前記保持装置と、前記試料保持部と、前記バイプリズム装置のいずれか、あるいはいずれか複数が、前記光軸に平行な軸を回転軸とした方位回転が可能である、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 荷電粒子線装置よる観察法であって、
前記荷電粒子線装置は、荷電粒子線を発生する光源と、前記荷電粒子線を試料に照射する照射部と、前記試料を保持するための試料保持部と、前記試料を透過した前記荷電粒子線を結像する少なくも一つのレンズからなる対物レンズ系と、前記対物レンズ系の前記荷電粒子線の進行方向下流側に配置された複数のレンズからなる結像光学系と、前記照射部における前記荷電粒子線の進行方向下流側で、前記試料の前記荷電粒子線の進行方向上流側に備えられ、前記荷電粒子線に対して透過性を有する材料で構成され、開口領域と前記開口領域の外側周辺部とからなる回折格子と、を備え、
前記回折格子の前記開口領域を、前記荷電粒子線の前記回折格子への照射領域よりも小さくし、
前記試料上に作られる前記回折格子により回折された前記荷電粒子線の照射領域が、前記回折格子を透過した前記荷電粒子線の照射領域内にある状態を観察する、
ことを特徴とする観察法。 - 請求項8に記載の観察法であって、
前記荷電粒子線装置は、前記対物レンズ系もしくは前記結像光学系のいずれか、あるいは両方にバイプリズム装置を備え、
前記試料上に作られた前記回折格子により回折された前記荷電粒子線の照射領域と、前記回折格子を透過した前記荷電粒子線の照射領域との干渉状態を観察する、
ことを特徴とする観察法。 - 粒子線装置に用いる回折格子であって、
粒子線を回折する開口領域と、前記粒子線に対して透過性を持つ材料で構成された当該開口領域の外側周辺部とを有し、
前記粒子線を前記開口領域及び前記外側周辺部に照射したとき、前記粒子線が流れる方向の下流側に設置される試料に照射される前記粒子線の粗密を形成する、
ことを特徴とする回折格子。 - 請求項1に記載の粒子線装置であって、
前記回折格子の格子間隔と前記開口領域の最大幅の積が、前記荷電粒子線の波長と、前記試料と前記回折格子との距離との積よりも小さい、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項1に記載の粒子線装置であって、
前記開口領域の最大幅と同じかより広い領域を前記荷電粒子線が照射する時、前記回折格子を透過した前記荷電粒子線により前記試料に形成される前記回折格子の陰の領域と、前記回折格子により回折された前記荷電粒子線とが前記試料上で互いに重ならない、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項1に記載の粒子線装置であって、
当該回折格子は、透過型円形回折格子(以下、ゾーンプレート)であり、
前記ゾーンプレートの一番内側の輪帯半径をrzとし、前記荷電粒子線の波長をλとし、前記試料と前記回折格子との距離をLとした場合、
rz 2<2Lλ
となる関係を有する、
ことを特徴とする粒子線装置。 - 請求項13に記載の粒子線装置であって、
前記ゾーンプレートの開口領域の最大幅よりも同じかより広い領域を前記荷電粒子線が照射するとき、前記ゾーンプレートを透過した前記荷電粒子線の収束サイズが前記開口領域の最大幅の半分よりも小さい、
ことを特徴とする粒子線装置。
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