JP6929069B2 - Curable resin composition for light reflection, its cured product, and optical semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、光反射用硬化性樹脂組成物及びその硬化物、該硬化物により形成されたリフレクターと光半導体素子とを有する光半導体装置に関する。 The present invention relates to a curable resin composition for light reflection, a cured product thereof, and an optical semiconductor device having a reflector formed by the cured product and an optical semiconductor device.

近年、各種の屋内又は屋外表示板、画像読み取り用光源、交通信号、大型ディスプレイ用ユニット等においては、光半導体素子(LED素子)を光源とする発光装置(光半導体装置)の採用が進んでいる。このような光半導体装置としては、一般に、基板(光半導体素子搭載用基板)上に光半導体素子が搭載され、さらに該光半導体素子が透明な封止材により封止された光半導体装置が普及している。このような光半導体装置における基板には、光半導体素子から発せられる光の取り出し効率を高めるため、光を反射させるための部材(リフレクター)が形成されている。 In recent years, light emitting devices (optical semiconductor devices) using an optical semiconductor element (LED element) as a light source have been increasingly adopted in various indoor or outdoor display boards, image reading light sources, traffic signals, large display units, and the like. .. As such an optical semiconductor device, generally, an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is mounted on a substrate (a substrate for mounting the optical semiconductor element) and the optical semiconductor element is sealed with a transparent encapsulant is widely used. doing. A member (reflector) for reflecting light is formed on the substrate of such an optical semiconductor device in order to increase the efficiency of extracting light emitted from the optical semiconductor element.

上記リフレクターには、高い光反射性を有することが求められている。従来、上記リフレクターの構成材としては、例えば、テレフタル酸単位を必須の構成単位とするポリアミド樹脂(ポリフタルアミド樹脂)中に、無機フィラー等を分散させた樹脂組成物等が知られている(特許文献1〜3参照)。 The reflector is required to have high light reflectivity. Conventionally, as a constituent material of the reflector, for example, a resin composition in which an inorganic filler or the like is dispersed in a polyamide resin (polyphthalamide resin) having a terephthalic acid unit as an essential constituent unit is known ( See Patent Documents 1 to 3).

また、上記リフレクターの構成材としては、その他に、例えば、エポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂と、屈折率1.6〜3.0の無機酸化物とを特定割合で含有する光反射用熱硬化性樹脂組成物が知られている(特許文献4参照)。さらに、例えば、熱硬化性樹脂成分と1以上の充填剤成分とを含有し、熱硬化性樹脂成分全体の屈折率と各充填剤成分の屈折率との差、及び、各充填剤成分の体積割合より算出されるパラメータを特定範囲に制御した光反射用熱硬化性樹脂組成物が知られている(特許文献5参照)。また、脂環式エポキシ化合物にゴム粒子と白色顔料を配合した光反射用硬化性樹脂組成物が知られている(特許文献6参照)。 In addition, as the constituent material of the reflector, for example, a thermosetting resin containing an epoxy resin and a thermosetting for light reflection containing an inorganic oxide having a refractive index of 1.6 to 3.0 in a specific ratio are used. A sex resin composition is known (see Patent Document 4). Further, for example, it contains a thermosetting resin component and one or more filler components, the difference between the refractive index of the entire thermosetting resin component and the refractive index of each filler component, and the volume of each filler component. A thermosetting resin composition for light reflection in which a parameter calculated from a ratio is controlled within a specific range is known (see Patent Document 5). Further, a curable resin composition for light reflection in which rubber particles and a white pigment are mixed with an alicyclic epoxy compound is known (see Patent Document 6).

特開2000−204244号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-204244 特開2004−75994号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-75994 特開2006−257314号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-257314 特開2010−235753号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-235753 特開2010−235756号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-235756 国際公開WO2013/002052号パンフレットInternational Publication WO2013 / 002052 Pamphlet

上述の特許文献1〜6に記載の材料より作製したリフレクターは、高出力の青色光半導体や白色光半導体を光源とする光半導体装置において、半導体素子から発せられる光や熱によって経時で黄変する等して劣化し、光反射性が経時で低下するという問題を有していた。さらに、鉛フリーはんだの採用に伴い、発光装置の製造の際のリフロー工程(はんだリフロー工程)における加熱温度がより高くなる傾向にあり、このような製造工程において加わる熱によっても上記リフレクターが経時で劣化し、光反射性が低下するという問題も発生していた。 Reflectors made from the materials described in Patent Documents 1 to 6 described above turn yellow over time due to light or heat emitted from a semiconductor element in an optical semiconductor device using a high-power blue optical semiconductor or white optical semiconductor as a light source. There was a problem that the light reflectivity was lowered with time due to deterioration due to the above. Further, with the adoption of lead-free solder, the heating temperature in the reflow process (solder reflow process) in the manufacture of the light emitting device tends to be higher, and the heat applied in such a manufacturing process also causes the reflector to change over time. There was also a problem that it deteriorated and the light reflectivity decreased.

このため、より高出力、短波長の光や高温に対しても光反射性が経時で低下しにくい、耐熱性及び耐光性に優れる材料が求められているのが現状である。 Therefore, at present, there is a demand for a material having excellent heat resistance and light resistance, which is less likely to decrease in light reflectivity with time even with higher output, shorter wavelength light and high temperature.

また、上記リフレクターは、一般に、該リフレクターを形成するための材料(樹脂組成物)を、トランスファー成型やコンプレッション成型に付すことによって製造される。しかしながら、従来のリフレクターを形成するための樹脂組成物は、トランスファー成型に適したものが多いため、該樹脂組成物より形成したリフレクターは耐熱性に優れるが、コンプレッション成型により形成したリフレクターは耐熱性が比較的劣るものが多かった。
また、特許文献1〜6に記載の材料を形成したリフレクターの反射率や耐熱性を向上させるために無機充填剤の充填量を増やした場合には、組成物の粘度が上昇して固体状態となり、コンプレッション成型により形成することが困難になるという問題もあった。
Further, the reflector is generally manufactured by subjecting a material (resin composition) for forming the reflector to transfer molding or compression molding. However, since many of the conventional resin compositions for forming a reflector are suitable for transfer molding, the reflector formed from the resin composition has excellent heat resistance, but the reflector formed by compression molding has heat resistance. Many were relatively inferior.
Further, when the filling amount of the inorganic filler is increased in order to improve the reflectance and heat resistance of the reflectors formed with the materials described in Patent Documents 1 to 6, the viscosity of the composition increases and the composition becomes a solid state. There is also a problem that it becomes difficult to form by compression molding.

従って、本発明の目的は、コンプレッション成型により、高い光反射性を有し、且つ、耐熱性及び耐光性に優れ、光反射性が経時で低下しにくい硬化物を形成できる光反射用硬化性樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、コンプレッション成型による生産性に優れ、高い光反射性を有し、且つ、耐熱性及び耐光性に優れ、光反射性が経時で低下しにくい硬化物を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、経時で光の輝度が低下しにくく、信頼性の高い光半導体装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is a curable resin for light reflection capable of forming a cured product having high light reflectivity, excellent heat resistance and light resistance, and the light reflectivity does not easily decrease with time by compression molding. The purpose is to provide the composition.
Another object of the present invention is to provide a cured product which is excellent in productivity by compression molding, has high light reflectivity, is excellent in heat resistance and light resistance, and the light reflectivity does not easily decrease with time. There is.
Further, another object of the present invention is to provide a highly reliable optical semiconductor device in which the brightness of light does not easily decrease with time.

さらに、上記リフレクターには、切削加工や温度変化(例えば、リフロー工程のような非常に高温での加熱や、冷温サイクルなど)等による応力が加わった場合に、クラック(ひび割れ)を生じにくい(このような特性を「耐クラック性」と称する場合がある)等、強靭であることが求められている。リフレクターにクラックが生じてしまうと、光反射性が低下して(即ち、光の取り出し効率が低下して)、発光装置の信頼性を担保することが困難となるためである。 Further, the reflector is less likely to be cracked when stress is applied to the reflector due to cutting or temperature change (for example, heating at a very high temperature such as a reflow process, a cold / hot cycle, etc.). Such characteristics are sometimes referred to as "crack resistance") and are required to be tough. This is because if the reflector is cracked, the light reflectivity is lowered (that is, the light extraction efficiency is lowered), and it becomes difficult to ensure the reliability of the light emitting device.

さらには、上記リフレクターを成形する際に、成形物に反りが生じにくい特性も求められる。リフレクター成型物に反りが生じると、寸法安定性が損なわれて、光半導体装置の品質が低下するからである。 Further, when the reflector is molded, it is required that the molded product is less likely to warp. This is because if the reflector molded product is warped, the dimensional stability is impaired and the quality of the optical semiconductor device is deteriorated.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定のエポキシ化合物と、シリコーンゴム粒子以外のゴム粒子と、無機充填剤と、白色顔料と、応力緩和剤とを含み、さらに硬化剤及び硬化促進剤、又は、硬化触媒を含み、且つ、25℃で液状である硬化性樹脂組成物が、無機充填剤や白色顔料の充填量を増やしてもコンプレッション成型が可能であり、高い光反射性を有し、且つ、耐熱性及び耐光性に優れ、光反射性が経時で低下しにくい硬化物を形成できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor contains a specific epoxy compound, rubber particles other than silicone rubber particles, an inorganic filler, a white pigment, a stress relieving agent, and a curing agent. And the curable resin composition containing a curing accelerator or a curing catalyst and liquid at 25 ° C. can be compression-molded even if the filling amount of the inorganic filler or the white pigment is increased, and has high light reflection. It has been found that a cured product having properties, excellent heat resistance and light resistance, and whose light reflectivity does not easily decrease with time can be formed. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、脂環式エポキシ化合物(A)、シリコーンゴム粒子以外のゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、及び応力緩和剤(E)を含有し、さらに、硬化剤(F)及び硬化促進剤(G)、又は、硬化触媒(H)を含有し、25℃において液状であることを特徴とする光反射用硬化性樹脂組成物を提供する。 That is, the present invention contains an alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B) other than silicone rubber particles, a white pigment (C), an inorganic filler (D), and a stress relieving agent (E). Further, the present invention provides a curable resin composition for light reflection, which contains a curing agent (F) and a curing accelerator (G), or a curing catalyst (H) and is liquid at 25 ° C.

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記応力緩和剤(E)は、シリコーンゴム粒子(E1)及びシリコーンオイル(E2)からなる群より選択される少なくとも1種であってもよい。 In the curable resin composition for light reflection, the stress relaxation agent (E) may be at least one selected from the group consisting of silicone rubber particles (E1) and silicone oil (E2).

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記シリコーンゴム粒子(E1)は、シリコーンレジンを表面に備える架橋されたポリジメチルシロキサンであってもよい。 In the curable resin composition for light reflection, the silicone rubber particles (E1) may be crosslinked polydimethylsiloxane having a silicone resin on the surface.

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記シリコーンオイル(E2)は、エポキシ当量3000〜15000の下記式(1)で表される構造を有するポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物であってもよい。

Figure 0006929069
[式中、xは80〜140の整数、yは1〜5の整数、zは5〜20の整数である。R4は炭素数2又は3のアルキレン基である。Aは、下記式(1a)で表される構造を有するポリアルキレンエーテル基である。
Figure 0006929069
(式中、a及びbはそれぞれ独立して、0〜40の整数である。Bは水素原子またはメチル基である。)] In the light-reflecting curable resin composition, the silicone oil (E2) may be a polyalkylene ether-modified silicone compound having an epoxy equivalent of 3000 to 15000 and having a structure represented by the following formula (1).
Figure 0006929069
[In the formula, x is an integer of 80 to 140, y is an integer of 1 to 5, and z is an integer of 5 to 20. R 4 is an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. A is a polyalkylene ether group having a structure represented by the following formula (1a).
Figure 0006929069
(In the formula, a and b are independently integers from 0 to 40. B is a hydrogen atom or a methyl group.)]

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記ゴム粒子(B)は、(メタ)アクリル酸エステルをモノマー成分とするポリマーで構成され、表面にヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基を有し、ゴム粒子(B)の平均粒子径が10〜500nmであり、最大粒子径が50〜1000nmであってもよい。 In the curable resin composition for light reflection, the rubber particles (B) are composed of a polymer containing (meth) acrylic acid ester as a monomer component, have a hydroxy group and / or a carboxy group on the surface, and are rubber particles. The average particle size of (B) may be 10 to 500 nm, and the maximum particle size may be 50 to 1000 nm.

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記脂環式エポキシ化合物(A)は、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物であってもよい。 In the curable resin composition for light reflection, the alicyclic epoxy compound (A) may be a compound having a cyclohexene oxide group.

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記脂環式エポキシ化合物(A)は、下記式(I−1)

Figure 0006929069
で表される化合物を含んでいてもよい。 In the curable resin composition for light reflection, the alicyclic epoxy compound (A) has the following formula (I-1).
Figure 0006929069
It may contain a compound represented by.

前記光反射用硬化性樹脂組成物において、前記白色顔料(C)は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、及び硫酸バリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよく、さらに
前記無機充填剤(D)は、シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、及び窒化ホウ素からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。
In the curable resin composition for light reflection, the white pigment (C) may contain at least one selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and barium sulfate, and further, the inorganic. The filler (D) may contain at least one selected from the group consisting of silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, and boron nitride.

前記光反射用硬化性樹脂組成物は、トランスファー成型用又はコンプレッション成型用の樹脂組成物であってもよい。 The curable resin composition for light reflection may be a resin composition for transfer molding or compression molding.

前記光反射用硬化性樹脂組成物は、リフレクター形成用樹脂組成物であってもよい。 The curable resin composition for light reflection may be a resin composition for forming a reflector.

また、本発明は、前記光反射用硬化性樹脂組成物の硬化物を提供する。 The present invention also provides a cured product of the curable resin composition for light reflection.

また、本発明は、光半導体素子と、前記光反射用硬化性樹脂組成物の硬化物からなるリフレクターとを少なくとも備えることを特徴とする光半導体装置を提供する。 The present invention also provides an optical semiconductor device including at least an optical semiconductor device and a reflector made of a cured product of the curable resin composition for light reflection.

本発明の光反射用硬化性樹脂組成物は上記構成を有するため、コンプレッション成型により、高い光反射性を有し、且つ、耐熱性及び耐光性に優れ、光反射性が経時で低下しにくい硬化物を形成することができる。このため、経時で光の輝度が低下しにくく、信頼性の高い光半導体装置を提供することができる。 Since the curable resin composition for light reflection of the present invention has the above-mentioned structure, it has high light reflectivity by compression molding, is excellent in heat resistance and light resistance, and is hardened so that the light reflectivity does not easily decrease with time. Can form things. Therefore, it is possible to provide a highly reliable optical semiconductor device in which the brightness of light does not easily decrease with time.

本発明の光半導体素子搭載用基板の一例を示す概略図である。左側の図(a)は斜視図であり、右側の図(b)は断面図である。It is the schematic which shows an example of the substrate for mounting an optical semiconductor element of this invention. The left side view (a) is a perspective view, and the right side view (b) is a cross-sectional view. 本発明の光半導体装置の一例を示す概略図(断面図)である。It is a schematic (cross-sectional view) which shows an example of the optical semiconductor device of this invention. 本発明の光半導体装置の他の一例を示す概略図(断面図;ヒートシンクを有する場合)である。It is the schematic (cross-sectional view; when having a heat sink) which shows another example of the optical semiconductor device of this invention. 本発明の光半導体装置の他の一例を示す概略図(ヒートシンク(放熱フィン)を有する場合)である。左側の図(a)は上面図であり、右側の図(b)は(a)におけるA−A’断面図である。It is a schematic diagram (when having a heat sink (radiating fin)) which shows another example of the optical semiconductor device of this invention. The left side view (a) is a top view, and the right side view (b) is a cross-sectional view taken along the line AA'in (a).

<光反射用硬化性樹脂組成物>
本発明の光反射用硬化性樹脂組成物(単に「本発明の硬化性樹脂組成物」と称する場合がある)は、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、及び応力緩和剤(E)を含有し、さらに、硬化剤(F)及び硬化促進剤(G)、又は、硬化触媒(H)を含有し、25℃において液状である硬化性樹脂組成物である。言い換えると、本発明の光反射用硬化性樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、及び硬化促進剤(G)を必須成分として含む、25℃において液状である硬化性樹脂組成物、又は、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、応力緩和剤(E)、及び硬化触媒(H)を必須成分として含む、25℃において液状である硬化性樹脂組成物である。本発明の硬化性樹脂組成物は、上記必須成分以外にも、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、加熱により硬化させて硬化物へと転化可能な熱硬化性組成物(熱硬化性エポキシ樹脂組成物)として使用できる。
<Curable resin composition for light reflection>
The curable resin composition for light reflection of the present invention (sometimes referred to simply as "the curable resin composition of the present invention") includes an alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), and a white pigment (C). ), Inorganic filler (D), and stress relieving agent (E), and further contains a curing agent (F) and a curing accelerator (G), or a curing catalyst (H), and is liquid at 25 ° C. Is a curable resin composition. In other words, the curable resin composition for light reflection of the present invention contains an alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), a white pigment (C), an inorganic filler (D), and a stress relieving agent (E). , A curable resin composition that is liquid at 25 ° C., or an alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), white, containing a curing agent (F) and a curing accelerator (G) as essential components. A curable resin composition that is liquid at 25 ° C. and contains a pigment (C), an inorganic filler (D), a stress relieving agent (E), and a curing catalyst (H) as essential components. The curable resin composition of the present invention may contain other components, if necessary, in addition to the above-mentioned essential components. The curable resin composition of the present invention can be used as a thermosetting composition (thermosetting epoxy resin composition) that can be cured by heating and converted into a cured product.

なお、本明細書において「光反射用硬化性樹脂組成物」とは、光反射性を有する硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物をいう。具体的には、例えば、波長450nmの光に対する反射率が50%以上(特に、80%以上)である硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が好ましい。 In the present specification, the "curable resin composition for light reflection" refers to a curable resin composition capable of forming a cured product having light reflection. Specifically, for example, a curable resin composition capable of forming a cured product having a reflectance of 50% or more (particularly 80% or more) with respect to light having a wavelength of 450 nm is preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物は、25℃において液体である。本発明の硬化性樹脂組成物は、25℃において液体であることにより、コンプレッション成型に適する傾向があり、コンプレッション成型によって形成された硬化物(リフレクター)は、光反射性に優れ、且つ、耐熱性及び耐光性に優れる傾向がある。なお、本明細書において「25℃において液状」とは、常圧において25℃で測定した粘度が1000000mPa・s以下(好ましくは、800000mPa・s以下)であることをいう。なお、上記粘度は、例えば、デジタル粘度計(型番「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を用いて、ローター:標準1°34’×R24、温度:25℃、回転数:0.5〜10rpmの条件で測定することができる。 The curable resin composition of the present invention is a liquid at 25 ° C. Since the curable resin composition of the present invention is liquid at 25 ° C., it tends to be suitable for compression molding, and the cured product (reflector) formed by compression molding has excellent light reflectivity and heat resistance. And tends to be excellent in light resistance. In the present specification, "liquid at 25 ° C." means that the viscosity measured at 25 ° C. at normal pressure is 1,000,000 mPa · s or less (preferably 800,000 mPa · s or less). The viscosity is determined by using, for example, a digital viscometer (model number "DVU-EII type", manufactured by Tokimec Co., Ltd.), rotor: standard 1 ° 34'x R24, temperature: 25 ° C., rotation speed: 0. It can be measured under the condition of 5 to 10 rpm.

25℃において液体である本発明の硬化性樹脂組成物は、例えば、用いる成分(例えば、脂環式エポキシ化合物(A)、液状の応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、硬化促進剤(G)、硬化触媒(H)等)として、25℃で液体の成分を用いることにより得やすくなる。なお、上記成分として25℃で固体の成分を用いてもよいが、その含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物が25℃において液状となるように調整される。また、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、固体の応力緩和剤(E)等の25℃で固体である成分の含有量を、本発明の効果を損なわない範囲内で調整することによっても得やすくなる。 The curable resin composition of the present invention, which is liquid at 25 ° C., is, for example, a component to be used (for example, an alicyclic epoxy compound (A), a liquid stress relieving agent (E), a curing agent (F), a curing accelerator. (G), curing catalyst (H), etc.) can be easily obtained by using a liquid component at 25 ° C. A solid component at 25 ° C. may be used as the above component, but the content thereof is adjusted so that the curable resin composition of the present invention becomes liquid at 25 ° C. Further, the content of components that are solid at 25 ° C., such as rubber particles (B), white pigment (C), inorganic filler (D), and solid stress relaxant (E), does not impair the effects of the present invention. It is also easier to obtain by adjusting within the range.

[脂環式エポキシ化合物(A)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分である脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)(A)は、分子内(一分子中)に脂環(脂肪族環)構造とエポキシ基(オキシラニル基)とを少なくとも有する化合物である。本発明の硬化性樹脂組成物においては、公知乃至慣用の脂環式エポキシ化合物を使用することができる。脂環式エポキシ化合物(A)としては、より具体的には、例えば、(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環式エポキシ基)を有する化合物、(ii)脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物等が挙げられる。
[Alicyclic epoxy compound (A)]
The alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin) (A), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, has an alicyclic (aliphatic ring) structure and an epoxy group (alicyclic) in the molecule (in one molecule). It is a compound having at least an oxylanyl group). In the curable resin composition of the present invention, known or commonly used alicyclic epoxy compounds can be used. More specifically, as the alicyclic epoxy compound (A), for example, (i) an epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic (alicyclic epoxy group). (Ii) A compound having an epoxy group directly bonded to the alicyclic with a single bond, and the like.

上述の(i)脂環式エポキシ基を有する化合物としては、分子内に脂環式エポキシ基を1つ以上有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されない。上記脂環式エポキシ基としては、硬化性樹脂組成物の硬化性及び硬化物(リフレクター)の耐熱性及び耐光性(特に、耐紫外線性)の観点で、シクロヘキセンオキシド基が好ましい。特に、硬化物(リフレクター)の耐熱性及び耐光性(特に、耐紫外線性)の観点で、分子内に2つ以上のシクロヘキセンオキシド基を有する化合物が好ましく、より好ましくは下記式(I)で表される化合物である。

Figure 0006929069
As the compound having the alicyclic epoxy group (i) described above, a known or commonly used compound having one or more alicyclic epoxy groups in the molecule can be used and is not particularly limited. As the alicyclic epoxy group, a cyclohexene oxide group is preferable from the viewpoint of curability of the curable resin composition, heat resistance of the cured product (reflector), and light resistance (particularly, ultraviolet resistance). In particular, from the viewpoint of heat resistance and light resistance (particularly ultraviolet resistance) of the cured product (reflector), a compound having two or more cyclohexene oxide groups in the molecule is preferable, and a compound represented by the following formula (I) is more preferable. It is a compound to be used.
Figure 0006929069

式(I)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。なお、式(I)におけるシクロヘキサン環(シクロヘキセンオキシド基)を構成する炭素原子の1以上には、アルキル基等の置換基が結合していてもよい。 In formula (I), X represents a single bond or linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as "epoxidized alkenylene group"), a carbonyl group, and the like. Examples thereof include an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and a group in which a plurality of these are linked. A substituent such as an alkyl group may be bonded to one or more carbon atoms constituting the cyclohexane ring (cyclohexene oxide group) in the formula (I).

式(I)中のXが単結合である化合物としては、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of the compound in which X is a single bond in the formula (I) include (3,4,3', 4'-diepoxy) bicyclohexane and the like.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group and the like. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group and 1,3-. Examples thereof include a cycloalkylene group (including a cycloalkylidene group) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group and a cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(エポキシ化アルケニレン基)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group (epoxidized alkenylene group) in which a part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized include a vinylene group, a propenylene group, a 1-butenylene group, a 2-butenylene group, and a butadienylene. Examples thereof include a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms such as a group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group and an octenylene group. In particular, as the epoxidized alkenylene group, an alkenylene group in which the entire carbon-carbon double bond is epoxidized is preferable, and more preferably, the entire carbon-carbon double bond is epoxidized and has 2 to 4 carbon atoms. It is an alkenylene group.

上記Xにおける連結基としては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、−CO−、−O−CO−O−、−COO−、−O−、−CONH−、エポキシ化アルケニレン基;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と二価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基等が挙げられる。二価の炭化水素基としては上記で例示したものが挙げられる。 As the linking group in X, a linking group containing an oxygen atom is particularly preferable, and specifically, -CO-, -O-CO-O-, -COO-, -O-, -CONH-, and epoxy. Examples include a chemical alkenylene group; a group in which a plurality of these groups are linked; a group in which one or two or more of these groups and one or two or more of divalent hydrocarbon groups are linked. Examples of the divalent hydrocarbon group include those exemplified above.

上記式(I)で表される化合物の代表的な例としては、下記式(I−1)〜(I−10)で表される化合物、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。なお、下記式(I−5)、(I−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(I−5)中のRは炭素数1〜8のアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、s−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(I−9)、(I−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。

Figure 0006929069
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Typical examples of the compound represented by the above formula (I) are the compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-10) and 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-). 1-yl) propane, 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, 1,2-epoxy-1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, Examples thereof include bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether. In addition, l and m in the following formulas (I-5) and (I-7) represent integers of 1 to 30, respectively. R in the following formula (I-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and is a methylene group, an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a butylene group, an isobutylene group, an s-butylene group, a pentylene group, or a hexylene. Examples thereof include a linear or branched alkylene group such as a group, a heptylene group and an octylene group. Among these, a linear or branched alkylene group having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and an isopropylene group is preferable. N1 to n6 in the following formulas (I-9) and (I-10) represent integers of 1 to 30, respectively.
Figure 0006929069
Figure 0006929069

上述の(ii)脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物としては、例えば、下記式(II)で表される化合物(エポキシ樹脂)等が挙げられる。

Figure 0006929069
Examples of the compound having an epoxy group directly bonded to the alicyclic (ii) by a single bond include a compound (epoxy resin) represented by the following formula (II).
Figure 0006929069

上記式(II)中、R1はp価の有機基を示す。pは、1〜20の整数を示す。p価の有機基としては、例えば、後述のp個のヒドロキシ基を有する有機化合物の構造式からp個のヒドロキシ基を除いて形成された構造を有するp価の有機基等が挙げられる。 In the above formula (II), R 1 represents a p-valent organic group. p represents an integer of 1 to 20. Examples of the p-valent organic group include a p-valent organic group having a structure formed by removing p-hydroxy groups from the structural formula of an organic compound having p-hydroxy groups, which will be described later.

式(II)中、qは、1〜50の整数を示す。なお、pが2以上の整数の場合、複数のqは同一であってもよいし、異なっていてもよい。式(II)におけるqの和(総和)は、3〜100の整数である。 In formula (II), q represents an integer from 1 to 50. When p is an integer of 2 or more, a plurality of qs may be the same or different. The sum (sum) of q in equation (II) is an integer of 3 to 100.

式(II)中、R2は、式中に示されるシクロヘキサン環上の置換基であり、下記式(IIa)〜(IIc)で表される基のいずれかを示す。上記シクロヘキサン環上のR2の結合位置は特に限定されないが、通常、酸素原子と結合するシクロヘキサン環の2つの炭素原子の位置を1位、2位とした場合、4位又は5位の炭素原子である。また、式(II)で表される化合物が複数のシクロヘキサン環を有する場合、それぞれのシクロヘキサン環におけるR2の結合位置は同一であってもよいし、異なっていてもよい。式(II)におけるR2の少なくとも1つは、式(IIa)で表される基(エポキシ基)である。なお、式(II)で表される化合物が2以上のR2を有する場合、複数のR2は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

Figure 0006929069
Figure 0006929069
Figure 0006929069
In formula (II), R 2 is a substituent on the cyclohexane ring represented in the formula, and represents any of the groups represented by the following formulas (IIa) to (IIc). The bond position of R 2 on the cyclohexane ring is not particularly limited, but usually, when the positions of the two carbon atoms of the cyclohexane ring bonded to the oxygen atom are 1-position and 2-position, the carbon atom at the 4-position or 5-position is used. Is. When the compound represented by the formula (II) has a plurality of cyclohexane rings, the bond position of R 2 in each cyclohexane ring may be the same or different. At least one of R 2 in the formula (II) is a group (epoxy group) represented by the formula (IIa). When the compound represented by the formula (II) has two or more R 2 , the plurality of R 2 may be the same or different.
Figure 0006929069
Figure 0006929069
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式(IIc)中、R3は、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は置換若しくは無置換のアリールカルボニル基を示す。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基等が挙げられる。上記アルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基(アセチル基)、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、s−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐鎖状のアルキル−カルボニル基等が挙げられる。上記アリールカルボニル基としては、例えば、フェニルカルボニル基(ベンゾイル基)、1−ナフチルカルボニル基、2−ナフチルカルボニル基等の炭素数6〜20のアリール−カルボニル基等が挙げられる。 In formula (IIc), R 3 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and 2-ethylhexyl. Examples thereof include a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a group. Examples of the alkylcarbonyl group include a methylcarbonyl group (acetyl group), an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group, an isopropylcarbonyl group, an n-butylcarbonyl group, an isobutylcarbonyl group, an s-butylcarbonyl group, and t-butyl. Examples thereof include a linear or branched alkyl-carbonyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a carbonyl group. Examples of the arylcarbonyl group include aryl-carbonyl groups having 6 to 20 carbon atoms such as a phenylcarbonyl group (benzoyl group), a 1-naphthylcarbonyl group, and a 2-naphthylcarbonyl group.

上述のアルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が有していてもよい置換基としては、例えば、炭素数0〜20(より好ましくは炭素数0〜10)の置換基等が挙げられる。上記置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;ヒドロキシ基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等のアルコキシ基(好ましくはC1-6アルコキシ基、より好ましくはC1-4アルコキシ基);アリルオキシ基等のアルケニルオキシ基(好ましくはC2-6アルケニルオキシ基、より好ましくはC2-4アルケニルオキシ基);アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のアシルオキシ基(好ましくはC1-12アシルオキシ基);メルカプト基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基(好ましくはC1-6アルキルチオ基、より好ましくはC1-4アルキルチオ基);アリルチオ基等のアルケニルチオ基(好ましくはC2-6アルケニルチオ基、より好ましくはC2-4アルケニルチオ基);カルボキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基(好ましくはC1-6アルコキシ−カルボニル基);アミノ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基(好ましくはモノ又はジ−C1-6アルキルアミノ基);アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等のアシルアミノ基(好ましくはC1-11アシルアミノ基);エチルオキセタニルオキシ基等のオキセタニル基含有基;アセチル基、プロピオニル基等のアシル基;オキソ基;これらの2以上が必要に応じてC1-6アルキレン基を介して結合した基等が挙げられる。また、上述のアリールカルボニル基が有していてもよい置換基としては、さらに、上記置換若しくは無置換のアルキル基、上記置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基も挙げられる。 Examples of the substituent that the above-mentioned alkyl group, alkylcarbonyl group, and arylcarbonyl group may have include a substituent having 0 to 20 carbon atoms (more preferably 0 to 10 carbon atoms). Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; hydroxy group; alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropyloxy group, butoxy group and isobutyloxy group. (Preferably C 1-6 alkoxy group, more preferably C 1-4 alkoxy group); Alkenyloxy group such as allyloxy group (preferably C 2-6 alkenyloxy group, more preferably C 2-4 alkenyloxy group) Acyloxy groups such as acetyloxy group, propionyloxy group, (meth) acryloyloxy group (preferably C 1-12 acyloxy group); mercapto group; alkylthio group such as methylthio group, ethylthio group (preferably C 1-6 alkylthio) Group, more preferably C 1-4 alkylthio group); alkenylthio group such as allylthio group (preferably C 2-6 alkenylthio group, more preferably C 2-4 alkenylthio group); carboxy group; methoxycarbonyl group, Alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group (preferably C 1-6 alkoxy-carbonyl group); amino group; mono or mono such as methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, diethylamino group or the like. Dialkylamino group (preferably mono or di-C 1-6 alkylamino group); acylamino group such as acetylamino group, propionylamino group (preferably C 1-11 acylamino group); containing oxetanol group such as ethyloxetanyloxy group Groups; Acyl groups such as acetyl groups and propionyl groups; Oxo groups; groups in which two or more of these are bonded via a C 1-6 alkylene group, etc., as needed. Further, examples of the substituent that the above-mentioned arylcarbonyl group may have include the above-mentioned substituted or unsubstituted alkyl group and the above-mentioned substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group.

式(II)で表される化合物におけるR2の全量(100モル%)に対する、式(IIa)で表される基(エポキシ基)の割合は、特に限定されないが、40モル%以上(例えば、40〜100モル%)が好ましく、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上である。上記割合が40モル%以上であると、硬化物の耐熱性や耐光性、機械特性等がより向上する傾向がある。なお、上記割合は、例えば、1H−NMRスペクトル測定や、オキシラン酸素濃度測定等により算出することができる。 The ratio of the group (epoxide group) represented by the formula (IIa) to the total amount (100 mol%) of R 2 in the compound represented by the formula (II) is not particularly limited, but is 40 mol% or more (for example,). 40 to 100 mol%), more preferably 60 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more. When the above ratio is 40 mol% or more, the heat resistance, light resistance, mechanical properties, etc. of the cured product tend to be further improved. The above ratio can be calculated by, for example, 1 H-NMR spectrum measurement, oxylan oxygen concentration measurement, or the like.

式(II)で表される化合物は、特に限定されないが、例えば、分子内にp個のヒドロキシ基を有する有機化合物[R1(OH)p]を開始剤として(即ち、当該化合物のヒドロキシ基(活性水素)を出発点として)、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン(3−ビニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン)を開環重合(カチオン重合)させ、その後、酸化剤によりエポキシ化することによって製造される。 The compound represented by the formula (II) is not particularly limited, but for example, an organic compound [R 1 (OH) p ] having p hydroxy groups in the molecule is used as an initiator (that is, the hydroxy group of the compound). (Starting from (active hydrogen)), 1,2-epoxide-4-vinylcyclohexane (3-vinyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane) is subjected to ring-open polymerization (cationic polymerization), and then Manufactured by epoxidation with an oxidant.

上記分子内にp個のヒドロキシ基を有する有機化合物[R1(OH)p]としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール等の脂肪族アルコール;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、水添ビスフェノールS等の多価アルコール;ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル部分加水分解物、デンプン、アクリルポリオール樹脂、スチレン−アリルアルコール共重合樹脂、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリプロピレンポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカーボネートポリオール類、ヒドロキシ基を有するポリブタジエン、セルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系ポリマー等のヒドロキシ基を有するオリゴマー又はポリマー等が挙げられる。 Examples of the organic compound [R 1 (OH) p ] having p hydroxy groups in the molecule include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol and octanol; ethylene glycol and diethylene glycol. , Triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, neopentyl glycol ester, cyclohexanedi Polyhydric alcohols such as methanol, glycerin, diglycerin, polyglycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated bisphenol S; polyvinyl alcohol, partial hydrolysis of polyvinyl acetate Products, starch, acrylic polyol resin, styrene-allyl alcohol copolymer resin, polyester polyol, polycaprolactone polyol, polypropylene polyol, polytetramethylene glycol, polycarbonate polyols, polybutadiene having a hydroxy group, cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate , An oligomer or polymer having a hydroxy group such as a cellulose-based polymer such as hydroxyethyl cellulose.

上記1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサンは、公知乃至慣用の方法により製造でき、特に限定されないが、例えば、ブタジエンの二量化反応によって得られる4−ビニルシクロヘキセンを、過酢酸等の酸化剤を使用して部分エポキシ化することによって得られる。また、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサンとしては、市販品を使用することもできる。 The above 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane can be produced by a known or conventional method, and is not particularly limited. For example, 4-vinylcyclohexene obtained by a dimerization reaction of butadiene is used as an oxidizing agent such as peracetic acid. Obtained by using and partially epoxidizing. Further, as the 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, a commercially available product can also be used.

また、上記酸化剤としては、過酸化水素や有機過酸等の公知乃至慣用の酸化剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、有機過酸としては、過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、トリフルオロ過酢酸等が挙げられる。中でも、過酢酸は工業的に安価に入手可能であり、かつ安定度も高いため、好ましい。 Further, as the above-mentioned oxidizing agent, known or commonly used oxidizing agents such as hydrogen peroxide and organic peracid can be used and are not particularly limited. For example, examples of the organic peracid include performic acid, peracetic acid and excess. Examples thereof include benzoic acid and trifluoroperacetic acid. Of these, peracetic acid is preferable because it is industrially available at low cost and has high stability.

なお、上述の開環重合及びエポキシ化は、より具体的には、例えば、特開昭60−161973号公報等に記載の周知慣用の方法に従って実施することができる。 More specifically, the above-mentioned ring-opening polymerization and epoxidation can be carried out according to a well-known and commonly used method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-161973.

式(II)で表される化合物の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、特に限定されないが、300〜100000が好ましく、より好ましくは1000〜10000である。重量平均分子量が300以上であると、硬化物の機械強度や耐熱性、耐光性がより向上する傾向がある。一方、重量平均分子量が100000以下であると、粘度が高くなり過ぎず成型時の流動性を低く維持しやすい傾向がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定される。 The weight average molecular weight of the compound represented by the formula (II) in terms of standard polystyrene is not particularly limited, but is preferably 300 to 100,000, more preferably 1,000 to 10,000. When the weight average molecular weight is 300 or more, the mechanical strength, heat resistance, and light resistance of the cured product tend to be further improved. On the other hand, when the weight average molecular weight is 100,000 or less, the viscosity does not become too high and the fluidity at the time of molding tends to be kept low. The weight average molecular weight is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.

式(II)で表される化合物のエポキシ基の当量(エポキシ当量)は、特に限定されないが、50〜1000が好ましく、より好ましくは100〜500である。エポキシ当量が50以上であると、硬化物が脆くなりにくい傾向がある。一方、エポキシ当量が1000以下であると、硬化物の機械強度が向上する傾向がある。なお、エポキシ当量は、JIS K7236:2001に準じて測定される。 The equivalent of the epoxy group (epoxy equivalent) of the compound represented by the formula (II) is not particularly limited, but is preferably 50 to 1000, and more preferably 100 to 500. When the epoxy equivalent is 50 or more, the cured product tends to be less likely to become brittle. On the other hand, when the epoxy equivalent is 1000 or less, the mechanical strength of the cured product tends to improve. The epoxy equivalent is measured according to JIS K7236: 2001.

本発明の硬化性樹脂組成物において脂環式エポキシ化合物(A)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、脂環式エポキシ化合物(A)は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「セロキサイド2021P」、「セロキサイド2081」、「EHPE3150」(以上、(株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, the alicyclic epoxy compound (A) may be used alone or in combination of two or more. The alicyclic epoxy compound (A) can also be produced by a known or conventional method, and for example, the trade names "Selokiside 2021P", "Selokiside 2081", "EHPE3150" (all manufactured by Daicel Corporation). ) And other commercially available products can also be used.

脂環式エポキシ化合物(A)は、調合時、及び注型時などの作業性の点から、常温(25℃)で液状を呈するものが好ましい。また、常温(25℃)で固体である脂環式エポキシ化合物(A)であっても、配合した後に液状を呈するものであれば、含有していてもよい。 The alicyclic epoxy compound (A) is preferably liquid at room temperature (25 ° C.) from the viewpoint of workability during preparation and casting. Further, even the alicyclic epoxy compound (A) which is solid at room temperature (25 ° C.) may be contained as long as it exhibits a liquid state after being blended.

中でも、本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化物(リフレクター)の光反射性、耐熱性、及び耐光性がより向上する観点から、(i)脂環式エポキシ基を有する化合物を少なくとも含むことが好ましく、さらに(ii)脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物を含むことがより好ましい。 Above all, the curable resin composition of the present invention contains at least (i) a compound having an alicyclic epoxy group from the viewpoint of further improving the light reflectivity, heat resistance, and light resistance of the cured product (reflector). Is preferable, and (ii) it is more preferable to contain a compound having an epoxy group directly bonded to the alicyclic in a single bond.

本発明の硬化性樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1.5〜60重量%が好ましく、より好ましくは2〜50重量%、さらに好ましくは5〜40重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量を1.5重量%以上とすることにより、硬化物(リフレクター)の耐熱性(特に、耐黄変性)及び耐光性(特に、耐紫外線性)がより向上する傾向がある。一方、脂環式エポキシ化合物(A)の含有量を60重量%以下とすることにより、硬化物(リフレクター)の線膨張係数が低減され、光半導体素子搭載用基板におけるリードフレームの反り等の不具合の発生が抑制される傾向がある。 The content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 1.5 to 60 with respect to the curable resin composition (100% by weight). The weight is preferably%, more preferably 2 to 50% by weight, still more preferably 5 to 40% by weight. By setting the content of the alicyclic epoxy compound (A) to 1.5% by weight or more, the heat resistance (particularly yellowing resistance) and light resistance (particularly ultraviolet resistance) of the cured product (reflector) can be improved. Tends to improve. On the other hand, by setting the content of the alicyclic epoxy compound (A) to 60% by weight or less, the coefficient of linear expansion of the cured product (reflector) is reduced, and problems such as warpage of the lead frame in the substrate for mounting the optical semiconductor element are reduced. Tends to be suppressed.

なお、本明細書において、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる各成分(例えば、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、硬化促進剤(G)、硬化触媒(H)等)の含有量は、それぞれ、合計が100重量%以下となるように、記載の範囲内から適宜選択することができる。 In the present specification, each component contained in the curable resin composition of the present invention (for example, alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), white pigment (C), inorganic filler (D)). , Stress relieving agent (E), curing agent (F), curing accelerator (G), curing catalyst (H), etc.) are within the range described so that the total content is 100% by weight or less. Can be appropriately selected from.

本発明の硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物の全量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の割合は、特に限定されないが、50重量%以上(例えば、50〜100重量%)が好ましく、より好ましくは60重量%以上、さらに好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。上記割合を50重量%以上とすることにより、硬化物(リフレクター)の耐熱性及び耐光性がより向上する傾向がある。 The ratio of the alicyclic epoxy compound (A) to the total amount (100% by weight) of the epoxy compound contained in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 50% by weight or more (for example, 50 to 100% by weight). ) Is preferable, more preferably 60% by weight or more, still more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. By setting the above ratio to 50% by weight or more, the heat resistance and light resistance of the cured product (reflector) tend to be further improved.

[シリコーンゴム粒子以外のゴム粒子(B)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分であるシリコーンゴム粒子以外のゴム粒子(B)(以下、単に「ゴム粒子(B)」と称する場合がある)は、ゴム弾性を有するシリコーンゴム粒子以外の粒子である。本発明の硬化性樹脂組成物は、ゴム粒子(B)を脂環式エポキシ化合物(A)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、及び応力緩和剤(E)と組み合わせて用いることにより、コンプレッション成型により形成される硬化物の光反射性、耐熱性、耐光性、及び耐クラック性に優れる傾向がある。ゴム粒子(B)としては、シリコーンゴム粒子以外のものであれば、公知慣用のゴム粒子を特に制限なく使用することができ、例えば、粒子状NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、反応性末端カルボキシ基NBR(CTBN)、メタルフリーNBR、粒子状SBR(スチレン−ブタジエンゴム)等のゴム粒子が挙げられる。ゴム粒子(B)としては、分散性が良好であり靭性向上(耐クラック性向上)の効果を得られやすい観点から、ゴム弾性を有するコア部分と、該コア部分を被覆する少なくとも1層のシェル層とからなる多層構造(コアシェル構造)を有するゴム粒子(以下、「コアシェル型ゴム粒子」と称する場合がある)が好ましい。ゴム粒子(B)は、硬化物の耐熱性及び耐光性がより向上する観点から、特に、(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分とするポリマー(重合体)で構成され、表面に脂環式エポキシ化合物(A)等のエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基(ヒドロキシ基及びカルボキシ基のいずれか一方又は両方)を有するゴム粒子が好ましい。即ち、ゴム粒子(B)は、(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分とするポリマー(アクリル系ポリマー)で構成された、コアシェル型ゴム粒子であることが特に好ましい。なお、本発明の硬化性樹脂組成物においてゴム粒子(B)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。
[Rubber particles other than silicone rubber particles (B)]
The rubber particles (B) other than the silicone rubber particles which are essential components of the curable resin composition of the present invention (hereinafter, may be simply referred to as "rubber particles (B)") are other than the silicone rubber particles having rubber elasticity. It is a particle of. In the curable resin composition of the present invention, rubber particles (B) are used in combination with an alicyclic epoxy compound (A), a white pigment (C), an inorganic filler (D), and a stress relieving agent (E). Therefore, the cured product formed by compression molding tends to be excellent in light reflectivity, heat resistance, light resistance, and crack resistance. As the rubber particles (B), known and commonly used rubber particles can be used without particular limitation as long as they are other than silicone rubber particles. For example, particulate NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), reactive terminal carboxy group. Examples thereof include rubber particles such as NBR (CTBN), metal-free NBR, and particulate SBR (styrene-butadiene rubber). The rubber particles (B) have a core portion having rubber elasticity and a shell having at least one layer covering the core portion from the viewpoint that the dispersibility is good and the effect of improving toughness (improving crack resistance) can be easily obtained. Rubber particles having a multi-layer structure (core-shell structure) composed of layers (hereinafter, may be referred to as "core-shell type rubber particles") are preferable. From the viewpoint of further improving the heat resistance and light resistance of the cured product, the rubber particles (B) are particularly composed of a polymer containing a (meth) acrylic acid ester as an essential monomer component, and have an alicyclic ring on the surface. Rubber particles having a hydroxy group and / or a carboxy group (one or both of a hydroxy group and a carboxy group) are preferable as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as the formula epoxy compound (A). That is, it is particularly preferable that the rubber particles (B) are core-shell type rubber particles composed of a polymer (acrylic polymer) containing (meth) acrylic acid ester as an essential monomer component. In the curable resin composition of the present invention, one type of rubber particles (B) may be used alone, or two or more types may be used in combination.

ゴム粒子(B)がコアシェル型ゴム粒子である場合、上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、シリコーン化合物以外であれば、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル等の(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分として含むポリマーであることが好ましい。上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、その他、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン;エチレン、プロピレン、イソブテン等のα−オレフィン等をモノマー成分として含んでいてもよい。 When the rubber particles (B) are core-shell type rubber particles, the polymer constituting the core portion having rubber elasticity is not particularly limited as long as it is not a silicone compound, but methyl (meth) acrylate and (meth) acrylic. It is preferable that the polymer contains (meth) acrylate as an essential monomer component such as ethyl acrylate and butyl (meth) acrylate. Other polymers constituting the core portion having rubber elasticity include aromatic vinyls such as styrene and α-methylstyrene; nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; conjugated diene such as butadiene and isoprene; ethylene and propylene, Α-Olefin such as isobutene may be contained as a monomer component.

中でも、上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、モノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、芳香族ビニル、ニトリル、及び共役ジエンからなる群より選択された一種又は二種以上を組み合わせて含むことが好ましい。即ち、上記コア部分を構成するポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル、(メタ)アクリル酸エステル/共役ジエン等の二元共重合体、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/共役ジエン等の三元共重合体等が挙げられる。 Among them, the polymer constituting the core portion having rubber elasticity is a combination of one or more selected from the group consisting of aromatic vinyl, nitrile, and conjugated diene together with (meth) acrylic acid ester as a monomer component. It is preferable to include it. That is, examples of the polymer constituting the core portion include a binary copolymer such as (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl, (meth) acrylic acid ester / conjugated diene, and (meth) acrylic acid ester / aromatic. Examples thereof include a ternary copolymer such as a group vinyl / conjugated diene.

上記コア部分を構成するポリマーは、その他のモノマー成分として、ジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレート等の分子内に2個以上の反応性官能基を有する反応性架橋モノマーを含有していてもよい。 The polymer constituting the core portion may contain, as other monomer components, divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, diallyl phthalate, butylene glycol diacrylate and the like. A reactive cross-linking monomer having two or more reactive functional groups may be contained in the molecule.

上記コア部分は、中でも、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニルの二元共重合体(特に、アクリル酸ブチル/スチレン)、又は(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/その他のモノマーの三元共重合体(特に、アクリル酸ブチル/スチレン/ジビニルベンゼン)より構成されたコア部分であることが、コアシェル型ゴム粒子の屈折率を容易に調整できる点で好ましい。 The core portion is, among others, a binary copolymer of (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl (particularly butyl acrylate / styrene) or (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / other monomers. A core portion composed of a former copolymer (particularly butyl acrylate / styrene / divinylbenzene) is preferable because the refractive index of the core-shell type rubber particles can be easily adjusted.

上記コア部分を構成するポリマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、−100〜10℃が好ましく、より好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−60〜−20℃である。上記ポリマーのガラス転移温度を上記範囲内とすることにより硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。なお、上記コア部分を構成するポリマーのガラス転移温度は、下記Foxの式により算出される計算値を意味する(Bull.Am.Phys.Soc.,1(3)123(1956)参照)。下記Foxの式中、Tgはコア部分を構成するポリマーのガラス転移温度(単位:K)を示し、Wiはコア部分を構成するポリマーを構成する単量体全量に対する単量体iの重量分率を示す。また、Tgiは単量体iの単独重合体のガラス転移温度(単位:K)を示す。下記Foxの式は、コアを構成するポリマーが単量体1、単量体2、・・・・、及び単量体nの共重合体である場合の式を示す。
1/Tg=W1/Tg1+W2/Tg2+・・・・+Wn/Tgn
上記単独重合体のガラス転移温度は、各種文献に記載の値を採用することができ、例えば、「POLYMER HANDBOOK 第3版」(John Wiley & Sons,Inc.発行)に記載の値を採用できる。なお、文献に記載のないものについては、単量体を常法により重合して得られる単独重合体の、DSC法により測定されるガラス転移温度の値を採用することができる。
The glass transition temperature of the polymer constituting the core portion is not particularly limited, but is preferably -100 to 10 ° C, more preferably -80 to -10 ° C, and even more preferably -60 to -20 ° C. By setting the glass transition temperature of the polymer within the above range, the crack resistance of the cured product tends to be improved. The glass transition temperature of the polymer constituting the core portion means a calculated value calculated by the following Fox formula (see Bull. Am. Phys. Soc., 1 (3) 123 (1956)). In the Fox formula below, Tg indicates the glass transition temperature (unit: K) of the polymer constituting the core portion, and Wi i is the weight of the monomer i with respect to the total amount of the monomers constituting the polymer constituting the core portion. Shows the rate. Further, Tg i indicates the glass transition temperature (unit: K) of the homopolymer of monomer i. The following Fox formula shows a formula when the polymer constituting the core is a copolymer of monomer 1, monomer 2, ..., And monomer n.
1 / Tg = W 1 / Tg 1 + W 2 / Tg 2 + ... + W n / Tg n
For the glass transition temperature of the homopolymer, the values described in various documents can be adopted, and for example, the values described in "POLYMER HANDBOOK 3rd Edition" (published by John Wiley & Sons, Inc.) can be adopted. For those not described in the literature, the value of the glass transition temperature measured by the DSC method of the homopolymer obtained by polymerizing the monomer by the conventional method can be adopted.

上記コア部分は、通常用いられる方法で製造することができ、例えば、上記モノマーを乳化重合法により重合する方法等により製造することができる。乳化重合法においては、上記モノマーの全量を一括して仕込んで重合してもよいし、上記モノマーの一部を重合した後、残りを連続的に又は断続的に添加して重合してもよいし、さらに、シード粒子を使用する重合方法を使用してもよい。 The core portion can be produced by a commonly used method, for example, by a method of polymerizing the monomer by an emulsion polymerization method or the like. In the emulsification polymerization method, the entire amount of the above-mentioned monomers may be charged in a batch and polymerized, or a part of the above-mentioned monomers may be polymerized and then the rest may be continuously or intermittently added for polymerization. Further, a polymerization method using seed particles may be used.

なお、ゴム粒子(B)として、コアシェル構造を有しないゴム粒子を用いる場合には、例えば、上記コア部分のみからなるゴム粒子等を使用することができる。 When rubber particles having no core-shell structure are used as the rubber particles (B), for example, rubber particles composed of only the core portion can be used.

コアシェル型ゴム粒子のシェル層を構成するポリマーは、上記コア部分を構成するポリマーとは異種のポリマー(異なるモノマー組成を有するポリマー)であることが好ましい。また、上述のように、上記シェル層は、脂環式エポキシ化合物(A)等のエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基を有することが好ましい。これにより、特に、脂環式エポキシ化合物(A)との界面で接着性を向上させることができ、該シェル層を有するコアシェル型ゴム粒子を含む硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物に対して、優れた耐クラック性を発揮させることができる。また、硬化物のガラス転移温度の低下を防止することもできる。 The polymer constituting the shell layer of the core-shell type rubber particles is preferably a polymer different from the polymer constituting the core portion (polymer having a different monomer composition). Further, as described above, the shell layer preferably has a hydroxy group and / or a carboxy group as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A). Thereby, in particular, the adhesiveness can be improved at the interface with the alicyclic epoxy compound (A), and the cured product obtained by curing the curable resin composition containing the core-shell type rubber particles having the shell layer can be obtained. Therefore, excellent crack resistance can be exhibited. In addition, it is possible to prevent a decrease in the glass transition temperature of the cured product.

上記シェル層を構成するポリマーは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル等の(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分として含むポリマーであることが好ましい。例えば、上記コア部分における(メタ)アクリル酸エステルとしてアクリル酸ブチルを用いた場合、シェル層を構成するポリマーのモノマー成分としては、例えば、アクリル酸ブチル以外の(メタ)アクリル酸エステル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等)を使用することが好ましい。(メタ)アクリル酸エステル以外に含んでいてもよいモノマー成分としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル等が挙げられる。コアシェル型ゴム粒子においては、シェル層を構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、上記モノマーを単独で、又は二種以上を組み合わせて含むことが好ましく、特に、少なくとも芳香族ビニルを含むことが、コアシェル型ゴム粒子の屈折率を容易に調整できる点で好ましい。 The polymer constituting the shell layer is preferably a polymer containing (meth) acrylate as an essential monomer component such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate. .. For example, when butyl acrylate is used as the (meth) acrylate in the core portion, the monomer component of the polymer constituting the shell layer is, for example, a (meth) acrylate other than butyl acrylate (for example, (for example, It is preferable to use methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl methacrylate, etc.). Examples of the monomer component that may be contained in addition to the (meth) acrylic acid ester include aromatic vinyls such as styrene and α-methylstyrene; and nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile. In the core-shell type rubber particles, it is preferable that the above-mentioned monomers are contained alone or in combination of two or more kinds together with the (meth) acrylic acid ester as the monomer component constituting the shell layer, and in particular, at least aromatic vinyl is contained. This is preferable because the refractive index of the core-shell type rubber particles can be easily adjusted.

さらに、上記シェル層を構成するポリマーは、モノマー成分として、脂環式エポキシ化合物(A)等のエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてのヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基を形成するために、ヒドロキシ基含有モノマー(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等)や、カルボキシ基含有モノマー(例えば、(メタ)アクリル酸等のα,β−不飽和酸;マレイン酸無水物等のα,β−不飽和酸無水物等)を含有することが好ましい。 Further, the polymer constituting the shell layer is used to form a hydroxy group and / or a carboxy group as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A) as a monomer component. , Hydroxyl group-containing monomers (eg, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate) and carboxy group-containing monomers (eg, α, β-unsaturated acids such as (meth) acrylic acid; It is preferable to contain α, β-unsaturated acid anhydride such as maleic acid anhydride).

上記シェル層を構成するポリマーは、モノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、上記モノマーから選択された一種又は二種以上を組み合わせて含むことが好ましい。即ち、上記シェル層は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/α,β−不飽和酸等の三元共重合体等から構成されたシェル層であることが好ましい。 The polymer constituting the shell layer preferably contains, as a monomer component, one or a combination of two or more selected from the above monomers together with the (meth) acrylic acid ester. That is, the shell layer is a ternary copolymer of, for example, (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / hydroxyalkyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / α, β-unsaturated acid and the like. It is preferably a shell layer composed of a polymer or the like.

また、上記シェル層を構成するポリマーは、その他のモノマー成分として、コア部分と同様に、上記モノマーの他にジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレート等の分子内に2個以上の反応性官能基を有する反応性架橋モノマーを含有していてもよい。 In addition to the above-mentioned monomer, the polymer constituting the shell layer contains divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, and trily as other monomer components, as in the case of the core portion. A reactive cross-linking monomer having two or more reactive functional groups may be contained in the molecule such as allyl cyanurate, diallyl phthalate, and butylene glycol diacrylate.

上記シェル層を構成するポリマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、20〜200℃が好ましく、より好ましくは40〜180℃、さらに好ましくは60〜160℃である。上記ポリマーのガラス転移温度を20℃以上とすることにより、硬化物の耐熱性及び耐光性がより向上する傾向がある。一方、上記ポリマーのガラス転移温度を200℃以下とすることにより、ゴム粒子(B)の分散性及び硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。なお、上記シェル層を構成するポリマーのガラス転移温度は、上記Foxの式により算出される計算値を意味し、例えば、上述のコアを構成するポリマーのガラス転移温度と同様にして測定できる。 The glass transition temperature of the polymer constituting the shell layer is not particularly limited, but is preferably 20 to 200 ° C, more preferably 40 to 180 ° C, and even more preferably 60 to 160 ° C. By setting the glass transition temperature of the polymer to 20 ° C. or higher, the heat resistance and light resistance of the cured product tend to be further improved. On the other hand, by setting the glass transition temperature of the polymer to 200 ° C. or lower, the dispersibility of the rubber particles (B) and the crack resistance of the cured product tend to be improved. The glass transition temperature of the polymer constituting the shell layer means a calculated value calculated by the Fox formula, and can be measured in the same manner as the glass transition temperature of the polymer constituting the core, for example.

コアシェル型ゴム粒子は、上記コア部分をシェル層により被覆することで得られる。上記コア部分をシェル層で被覆する方法としては、例えば、上記方法により得られたゴム弾性を有するコア部分の表面に、シェル層を構成するポリマーを塗布することにより被覆する方法;上記方法により得られたゴム弾性を有するコア部分を幹成分とし、シェル層を構成する各成分を枝成分としてグラフト重合する方法等が挙げられる。 The core-shell type rubber particles are obtained by coating the core portion with a shell layer. As a method of coating the core portion with the shell layer, for example, a method of coating the surface of the core portion having rubber elasticity obtained by the above method by applying a polymer constituting the shell layer; obtained by the above method. Examples thereof include a method in which the core portion having rubber elasticity is used as a trunk component and each component constituting the shell layer is used as a branch component for graft polymerization.

ゴム粒子(B)の平均粒子径は、特に限定されないが、10〜500nmが好ましく、より好ましくは20〜400nmである。また、ゴム粒子(B)の最大粒子径は、特に限定されないが、50〜1000nmが好ましく、より好ましくは100〜800nmである。平均粒子径を500nm以下(又は、最大粒子径を1000nm以下)とすることにより、硬化物におけるゴム粒子(B)の分散性が向上し、耐クラック性が向上する傾向がある。一方、平均粒子径を10nm以上(又は、最大粒子径を50nm以上)とすることにより、硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。 The average particle size of the rubber particles (B) is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 20 to 400 nm. The maximum particle size of the rubber particles (B) is not particularly limited, but is preferably 50 to 1000 nm, more preferably 100 to 800 nm. By setting the average particle size to 500 nm or less (or the maximum particle size to 1000 nm or less), the dispersibility of the rubber particles (B) in the cured product tends to be improved, and the crack resistance tends to be improved. On the other hand, when the average particle size is 10 nm or more (or the maximum particle size is 50 nm or more), the crack resistance of the cured product tends to be improved.

ゴム粒子(B)の屈折率は、特に限定されないが、1.40〜1.60が好ましく、より好ましくは1.42〜1.58である。また、ゴム粒子(B)の屈折率と、該ゴム粒子(B)を含む硬化性樹脂組成物(本発明の硬化性樹脂組成物)を硬化させて得られる硬化物の屈折率との差は±0.03以内であることが好ましい。屈折率の差を±0.03以内とすることにより、硬化物の優れた光反射性が確保され、光半導体装置の光度が高く保持される傾向がある。 The refractive index of the rubber particles (B) is not particularly limited, but is preferably 1.40 to 1.60, and more preferably 1.42 to 1.58. Further, the difference between the refractive index of the rubber particles (B) and the refractive index of the cured product obtained by curing the curable resin composition (curable resin composition of the present invention) containing the rubber particles (B) is It is preferably within ± 0.03. By setting the difference in refractive index within ± 0.03, excellent light reflectivity of the cured product is ensured, and the luminous intensity of the optical semiconductor device tends to be kept high.

ゴム粒子(B)の屈折率は、例えば、ゴム粒子(B)1gを型に注型して210℃、4MPaで圧縮成形し、厚さ1mmの平板を得、得られた平板から、縦20mm×横6mmの試験片を切り出し、中間液としてモノブロモナフタレンを使用してプリズムと該試験片とを密着させた状態で、多波長アッベ屈折計(商品名「DR−M2」、(株)アタゴ製)を使用し、20℃、ナトリウムD線での屈折率を測定することにより求めることができる。 The refractive index of the rubber particles (B) is, for example, 1 g of the rubber particles (B) cast into a mold and compression-molded at 210 ° C. and 4 MPa to obtain a flat plate having a thickness of 1 mm. × A multi-wavelength Abbe refractometer (trade name “DR-M2”, Atago Co., Ltd.) with a 6 mm wide test piece cut out and the prism and the test piece in close contact with each other using monobromonaphthalene as an intermediate solution. It can be obtained by measuring the refractive index of the sodium D line at 20 ° C. using (manufactured by).

本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率は、例えば、下記硬化物の項に記載の加熱硬化方法により得られた硬化物から、縦20mm×横6mm×厚さ1mmの試験片を切り出し、中間液としてモノブロモナフタレンを使用してプリズムと該試験片とを密着させた状態で、多波長アッベ屈折計(商品名「DR−M2」、(株)アタゴ製)を使用し、20℃、ナトリウムD線での屈折率を測定することにより求めることができる。 The refractive index of the cured product of the curable resin composition of the present invention is, for example, a test piece having a length of 20 mm, a width of 6 mm, and a thickness of 1 mm from the cured product obtained by the heat curing method described in the section of the cured product below. 20 It can be obtained by measuring the refractive index at ° C. and sodium D line.

本発明の硬化性樹脂組成物におけるゴム粒子(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.05〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量%、さらに好ましくは0.2〜10重量%である。ゴム粒子(B)の含有量を0.05重量%以上とすることにより、硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性がより優れる傾向がある。また、硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。一方、ゴム粒子(B)の含有量を20重量%以下とすることにより、硬化物の耐熱性及び耐光性がより向上する傾向がある。 The content (blending amount) of the rubber particles (B) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.05 to 20% by weight with respect to the curable resin composition (100% by weight). It is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.2 to 10% by weight. By setting the content of the rubber particles (B) to 0.05% by weight or more, the light reflectivity, heat resistance, and light resistance of the cured product tend to be more excellent. In addition, the crack resistance of the cured product tends to be improved. On the other hand, when the content of the rubber particles (B) is 20% by weight or less, the heat resistance and light resistance of the cured product tend to be further improved.

本発明の硬化性樹脂組成物におけるゴム粒子(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.5〜30重量部が好ましく、より好ましくは1〜20重量部である。ゴム粒子(B)の含有量を0.5重量部以上とすることにより、硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性がより優れる傾向がある。また、硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。一方、ゴム粒子(B)の含有量を30重量部以下とすることにより、硬化物の耐熱性及び耐光性がより向上する傾向がある。 The content (blending amount) of the rubber particles (B) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable resin composition. It is preferably 0.5 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight. When the content of the rubber particles (B) is 0.5 parts by weight or more, the light reflectivity, heat resistance, and light resistance of the cured product tend to be more excellent. In addition, the crack resistance of the cured product tends to be improved. On the other hand, when the content of the rubber particles (B) is 30 parts by weight or less, the heat resistance and light resistance of the cured product tend to be further improved.

[白色顔料(C)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分である白色顔料(C)は、主に、硬化物(リフレクター)に対して高い光反射性を付与し、また、その線膨張率を低減させる働きを有する。白色顔料(C)としては、公知乃至慣用の白色顔料を使用することができ、特に限定されないが、例えば、ガラス、クレー、雲母、タルク、カオリナイト(カオリン)、ハロイサイト、ゼオライト、酸性白土、活性白土、ベーマイト、擬ベーマイト、無機酸化物、金属塩[例えば、アルカリ土類金属塩等]等の無機白色顔料;スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、尿素−ホルマリン系樹脂、メラミン−ホルマリン系樹脂、アミド系樹脂等の樹脂顔料等の有機白色顔料(プラスチックピグメント等);中空構造(バルーン構造)を有する中空粒子等が挙げられる。
[White pigment (C)]
The white pigment (C), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, mainly imparts high light reflectivity to the cured product (reflector) and also has a function of reducing the coefficient of linear expansion thereof. Have. As the white pigment (C), a known or commonly used white pigment can be used and is not particularly limited, but for example, glass, clay, mica, talc, kaolinite (kaolin), halloysite, zeolite, acidic white clay, activity. Inorganic white pigments such as white clay, boehmite, pseudo-boehmite, inorganic oxides, metal salts [for example, alkaline earth metal salts, etc.]; styrene resin, benzoguanamine resin, urea-formalin resin, melamine-formalin resin, amide Organic white pigments such as resin pigments such as based resins (plastic pigments and the like); hollow particles having a hollow structure (balloon structure) and the like can be mentioned.

白色顔料(C)としては、リフレクターの反射率を高くするため屈折率が高い白色顔料を使用することが好ましく、例えば、屈折率が1.5以上の白色顔料が好ましい。但し、中空粒子構造を有する白色顔料は内部(コア)に低屈折率の気体を含み表面反射率が非常に大きいので、シェル部分は屈折率が1.5より低い材料で構成されていてもよい。なお、白色顔料(C)として例示するもののうち、無機充填剤(D)にも該当するものについては、屈折率が1.5以上のものは白色顔料(C)とし、屈折率が1.5より小さいものは無機充填剤(D)とする。 As the white pigment (C), it is preferable to use a white pigment having a high refractive index in order to increase the reflectance of the reflector. For example, a white pigment having a refractive index of 1.5 or more is preferable. However, since the white pigment having a hollow particle structure contains a gas having a low refractive index inside (core) and has a very large surface reflectance, the shell portion may be made of a material having a refractive index lower than 1.5. .. Among those exemplified as the white pigment (C), those corresponding to the inorganic filler (D) have a refractive index of 1.5 or more as the white pigment (C) and a refractive index of 1.5. The smaller one is the inorganic filler (D).

上記無機酸化物としては、例えば、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン[例えば、ルチル型酸化チタン、アナターゼ型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン等]、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等が挙げられる。また、上記アルカリ土類金属塩としては、例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、水酸化マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸水素マグネシウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。また、アルカリ土類金属塩以外の金属塩としては、例えば、ケイ酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫化亜鉛等が挙げられる。 Examples of the inorganic oxide include aluminum oxide (alumina), magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide [for example, rutile type titanium oxide, anatase type titanium oxide, broccite type titanium oxide, etc.], zirconium oxide, zinc oxide and the like. Can be mentioned. Examples of the alkaline earth metal salt include magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, magnesium silicate, calcium silicate, magnesium hydroxide, magnesium phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium sulfate, calcium sulfate, and sulfuric acid. Barium and the like can be mentioned. Examples of metal salts other than alkaline earth metal salts include aluminum silicate, aluminum hydroxide, zinc sulfide and the like.

上記中空粒子としては、特に限定されないが、例えば、無機ガラス[例えば、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス、石英等]、シリカ、アルミナ等の金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸ニッケル、珪酸カルシウム等の金属塩等の無機物により構成された無機中空粒子(シラスバルーン等の天然物も含む);スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、スチレン−共役ジエン系樹脂、アクリル−共役ジエン系樹脂、オレフィン系樹脂等のポリマー(これらポリマーの架橋体も含む)等の有機物により構成された有機中空粒子;無機物と有機物のハイブリッド材料により構成された無機−有機中空粒子等が挙げられる。なお、上記中空粒子は、単一の材料より構成されたものであってもよいし、二種以上の材料より構成されたものであってもよい。また、上記中空粒子の中空部(中空粒子の内部の空間)は、真空状態であってもよいし、媒質で満たされていてもよいが、特に、反射率向上の観点では、屈折率が低い媒質(例えば、窒素、アルゴン等の不活性ガスや空気等)で満たされた中空粒子が好ましい。 The hollow particles are not particularly limited, but for example, inorganic glass [for example, sodium silicate glass, aluminum silicate glass, sodium borosilicate glass, quartz, etc.], metal oxides such as silica and alumina, calcium carbonate, barium carbonate, etc. Inorganic hollow particles composed of inorganic substances such as metal salts such as nickel carbonate and calcium silicate (including natural substances such as silas balloon); styrene resin, acrylic resin, silicone resin, acrylic-styrene resin, vinyl chloride Polymers such as based resins, vinylidene chloride resins, amide resins, urethane resins, phenol resins, styrene-conjugated diene resins, acrylic-conjugated diene resins, olefin resins (including crosslinked products of these polymers), etc. Organic hollow particles composed of the above organic substances; inorganic-organic hollow particles composed of a hybrid material of an inorganic substance and an organic substance, and the like can be mentioned. The hollow particles may be composed of a single material or may be composed of two or more kinds of materials. Further, the hollow portion of the hollow particles (the space inside the hollow particles) may be in a vacuum state or may be filled with a medium, but the refractive index is particularly low from the viewpoint of improving the reflectance. Hollow particles filled with a medium (eg, an inert gas such as nitrogen or argon, air, etc.) are preferred.

なお、白色顔料(C)は、公知乃至慣用の表面処理[例えば、金属酸化物、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、有機酸、ポリオール、シリコーン等の表面処理剤による表面処理等]が施されたものであってもよい。このような表面処理を施すことにより、硬化性樹脂組成物における他の成分との相溶性や分散性を向上させることができる場合がある。 The white pigment (C) is subjected to a known or conventional surface treatment [for example, a surface treatment with a surface treatment agent such as a metal oxide, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an organic acid, a polyol, or silicone]. It may be the one that has been done. By applying such a surface treatment, it may be possible to improve the compatibility and dispersibility with other components in the curable resin composition.

中でも、白色顔料(C)としては、入手性、耐熱性、耐光性の観点、及び硬化物(リフレクター)の高反射率及び添加量に対する光反射性の上昇率の観点で、無機酸化物、無機中空粒子が好ましく、より好ましくは酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、無機中空粒子、さらに好ましくは酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウムである。特に、白色顔料(C)としては、より高い屈折率を有する点で、酸化チタンが好ましい。 Among them, the white pigment (C) is an inorganic oxide or an inorganic oxide from the viewpoint of availability, heat resistance, light resistance, high reflectance of the cured product (reflector), and increase rate of light reflectivity with respect to the amount of addition. Hollow particles are preferable, and aluminum oxide, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, barium sulfate, and inorganic hollow particles are more preferable, and titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and barium sulfate are more preferable. In particular, as the white pigment (C), titanium oxide is preferable because it has a higher refractive index.

白色顔料(C)の形状は、特に限定されず、例えば、球状、破砕状、繊維状、針状、鱗片状等が挙げられる。中でも、分散性の観点で、球状の酸化チタンが好ましく、特に真球状の酸化チタン(例えば、アスペクト比が1.2以下の球状の酸化チタン)が好ましい。 The shape of the white pigment (C) is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a crushed shape, a fibrous shape, a needle shape, and a scale shape. Among them, spherical titanium oxide is preferable from the viewpoint of dispersibility, and true spherical titanium oxide (for example, spherical titanium oxide having an aspect ratio of 1.2 or less) is particularly preferable.

白色顔料(C)の中心粒径は、特に限定されないが、硬化物(リフレクター)の光反射性向上の観点で、0.1〜50μmが好ましい。特に、白色顔料(C)として酸化チタンを使用する場合、該酸化チタンの中心粒径は、特に限定されないが、0.1〜50μmが好ましく、より好ましくは0.1〜30μm、さらに好ましくは0.1〜20μm、特に好ましくは0.1〜10μm、最も好ましくは0.1〜5μmである。一方、白色顔料(C)として中空粒子(特に、無機中空粒子)を用いる場合、該中空粒子の中心粒径は、特に限定されないが、0.1〜50μmが好ましく、より好ましくは0.1〜30μmである。なお、上記中心粒径は、レーザー回折・散乱法で測定した粒度分布における積算値50%での粒径(メディアン径)を意味する。 The central particle size of the white pigment (C) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 μm from the viewpoint of improving the light reflectivity of the cured product (reflector). In particular, when titanium oxide is used as the white pigment (C), the central particle size of the titanium oxide is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.1 to 30 μm, and even more preferably 0. .1 to 20 μm, particularly preferably 0.1 to 10 μm, most preferably 0.1 to 5 μm. On the other hand, when hollow particles (particularly inorganic hollow particles) are used as the white pigment (C), the central particle size of the hollow particles is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.1 to 1. It is 30 μm. The central particle size means the particle size (median diameter) at an integrated value of 50% in the particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.

本発明の硬化性樹脂組成物において白色顔料(C)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、白色顔料(C)は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「SR−1」、「R−42」、「R−45M」、「R−650」、「R−32」、「R−5N」、「GTR−100」、「R−62N」、「R−7E」、「R−44」、「R−3L」、「R−11P」、「R−21」、「R−25」、「TCR−52」、「R−310」、「D−918」、「FTR−700」(以上、堺化学工業(株)製)、商品名「タイペークCR−50」、「CR−50−2」、「CR−60」、「CR−60−2」、「CR−63」、「CR−80」、「CR−90」、「CR−90−2」、「CR−93」、「CR−95」、「CR−97」(以上、石原産業(株)製)、商品名「JR−301」、「JR−403」、「JR−405」、「JR−600A」、「JR−605」、「JR−600E」、「JR−603」、「JR−805」、「JR−806」、「JR−701」、「JRNC」、「JR−800」、「JR」(以上、テイカ(株)製)、商品名「TR−600」、「TR−700」、「TR−750」、「TR−840」、「TR−900」(以上、富士チタン工業(株)製)、商品名「KR−310」、「KR−380」、「KR−380N」、「ST−410WB」、「ST−455」、「ST−455WB」、「ST−457SA」、「ST−457EC」、「ST−485SA15」、「ST−486SA」、「ST−495M」(以上、チタン工業(株)製)等のルチル型酸化チタン;商品名「A−110」、「TCA−123E」、「A−190」、「A−197」、「SA−1」、「SA−1L」、「SSPシリーズ」、「CSBシリーズ」(以上、堺化学工業(株)製)、商品名「JA−1」、「JA−C」、「JA−3」(以上、テイカ(株)製)、商品名「KA−10」、「KA−15」、「KA−20」、「STT−65C−S」、「STT−30EHJ」(以上、チタン工業(株)製)、商品名「DCF−T−17007」、「DCF−T−17008」、「DCF−T−17050」(以上、レジノカラー工業(株)製)等のアナターゼ型酸化チタン等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, the white pigment (C) may be used alone or in combination of two or more. The white pigment (C) can also be produced by a known or conventional method, and for example, the trade names "SR-1", "R-42", "R-45M", "R-650", "R-32", "R-5N", "GTR-100", "R-62N", "R-7E", "R-44", "R-3L", "R-11P", "R" -21 ”,“ R-25 ”,“ TCR-52 ”,“ R-310 ”,“ D-918 ”,“ FTR-700 ”(all manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), product name“ Typake CR -50 "," CR-50-2 "," CR-60 "," CR-60-2 "," CR-63 "," CR-80 "," CR-90 "," CR-90-2 " , "CR-93", "CR-95", "CR-97" (all manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), product names "JR-301", "JR-403", "JR-405", "JR-600A", "JR-605", "JR-600E", "JR-603", "JR-805", "JR-806", "JR-701", "JRNC", "JR-800" , "JR" (above, manufactured by Teika Co., Ltd.), product names "TR-600", "TR-700", "TR-750", "TR-840", "TR-900" (above, Fuji Titanium Industry Co., Ltd.), Product names "KR-310", "KR-380", "KR-380N", "ST-410WB", "ST-455", "ST-455WB", "ST-457SA" , "ST-457EC", "ST-485SA15", "ST-486SA", "ST-495M" (all manufactured by Titanium Industry Co., Ltd.), etc. "TCA-123E", "A-190", "A-197", "SA-1", "SA-1L", "SSP series", "CSB series" (all manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) , Product names "JA-1", "JA-C", "JA-3" (all manufactured by Teika Co., Ltd.), Product names "KA-10", "KA-15", "KA-20", "STT-65C-S", "STT-30EHJ" (all manufactured by Titanium Industry Co., Ltd.), product names "DCF-T-17007", "DCF-T-17008", "DCF-T-17050" ( As described above, commercially available products such as anatase-type titanium oxide manufactured by Regino Color Industry Co., Ltd. can also be used.

中でも、白色顔料(C)としては、特に硬化物(リフレクター)の光反射性及び耐黄変性向上の観点で、商品名「R−62N」、「CR−60」、「DCF−T−17007」、「DCF−T−17008」、「DCF−T−17050」、「FTR−700」が好ましい。 Among them, as the white pigment (C), trade names "R-62N", "CR-60", and "DCF-T-17007" are used, especially from the viewpoint of improving the light reflectivity and yellowing resistance of the cured product (reflector). , "DCF-T-17008", "DCF-T-17050", "FTR-700" are preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物における白色顔料(C)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.1〜50重量%が好ましく、より好ましくは1〜40重量%、さらに好ましくは5〜35重量%である。白色顔料(C)の含有量を0.1重量%以上とすることにより、硬化物(リフレクター)の光反射性がより向上する傾向がある。また、耐熱性(特に、耐黄変性)及び耐光性(特に、耐紫外線性)がより向上する傾向がある。一方、白色顔料(C)の含有量を50重量%以下とすることにより、硬化物(リフレクター)の成型性が向上し、量産により適する傾向がある。 The content (blending amount) of the white pigment (C) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.1 to 50% by weight with respect to the curable resin composition (100% by weight). It is preferable, more preferably 1 to 40% by weight, still more preferably 5 to 35% by weight. By setting the content of the white pigment (C) to 0.1% by weight or more, the light reflectivity of the cured product (reflector) tends to be further improved. In addition, heat resistance (particularly yellowing resistance) and light resistance (particularly ultraviolet resistance) tend to be further improved. On the other hand, when the content of the white pigment (C) is 50% by weight or less, the moldability of the cured product (reflector) is improved, and it tends to be more suitable for mass production.

本発明の硬化性樹脂組成物における白色顔料(C)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、3〜400重量部が好ましく、より好ましくは10〜350重量部、さらに好ましくは30〜300重量部である。白色顔料(C)の含有量が3重量部以上であることにより、硬化物(リフレクター)の光反射性がより向上する傾向がある。また、耐熱性(特に、耐黄変性)及び耐光性(特に、耐紫外線性)がより向上する傾向がある。一方、白色顔料(C)の含有量が400重量部以下であることにより、成型性が向上し、量産により適する傾向がある。 The content (blending amount) of the white pigment (C) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable resin composition. It is preferably 3 to 400 parts by weight, more preferably 10 to 350 parts by weight, and even more preferably 30 to 300 parts by weight. When the content of the white pigment (C) is 3 parts by weight or more, the light reflectivity of the cured product (reflector) tends to be further improved. In addition, heat resistance (particularly yellowing resistance) and light resistance (particularly ultraviolet resistance) tend to be further improved. On the other hand, when the content of the white pigment (C) is 400 parts by weight or less, the moldability is improved and it tends to be more suitable for mass production.

本発明の硬化性樹脂組成物が酸化チタンを含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる白色顔料(C)と無機充填剤(D)の総量(100重量%)に対する酸化チタンの割合は、特に限定されないが、硬化物(リフレクター)の耐黄変性と光反射性のバランスの観点で、5〜70重量%が好ましく、より好ましくは10〜60重量%である。酸化チタンの割合を5重量%以上とすることにより、硬化物(リフレクター)の光反射性がより向上する傾向がある。また、耐熱性(特に、耐黄変性)及び耐光性(特に、耐紫外線性)がより向上する傾向がある。一方、酸化チタンの割合を70重量%以下とすることにより、硬化物(リフレクター)の成型性が向上し、量産により適する傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains titanium oxide, the amount of titanium oxide based on the total amount (100% by weight) of the white pigment (C) and the inorganic filler (D) contained in the curable resin composition of the present invention. The ratio is not particularly limited, but is preferably 5 to 70% by weight, more preferably 10 to 60% by weight, from the viewpoint of the balance between the yellowing resistance of the cured product (reflector) and the light reflectivity. By setting the proportion of titanium oxide to 5% by weight or more, the light reflectivity of the cured product (reflector) tends to be further improved. In addition, heat resistance (particularly yellowing resistance) and light resistance (particularly ultraviolet resistance) tend to be further improved. On the other hand, when the proportion of titanium oxide is 70% by weight or less, the moldability of the cured product (reflector) is improved, and it tends to be more suitable for mass production.

[無機充填剤(D)]
本発明の硬化性樹脂組成物は、白色顔料(C)とは別に、無機充填剤(D)を必須成分として含む。本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分である無機充填剤(D)は、主に、硬化性樹脂組成物をコンプレッション成型により形成する場合において、形成された硬化物に優れた耐熱性及び耐光性(特に、優れた耐熱性)を付与する。また、硬化物(リフレクター)の線膨張率を低減させる働きを有する。また、無機充填剤(D)の種類によっては、硬化物(リフレクター)に対して優れた光反射性を付与できる場合もある。
[Inorganic filler (D)]
The curable resin composition of the present invention contains an inorganic filler (D) as an essential component in addition to the white pigment (C). The inorganic filler (D), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, mainly has excellent heat resistance and light resistance to the formed cured product when the curable resin composition is formed by compression molding. Gives properties (particularly excellent heat resistance). It also has the function of reducing the coefficient of linear expansion of the cured product (reflector). Further, depending on the type of the inorganic filler (D), it may be possible to impart excellent light reflectivity to the cured product (reflector).

無機充填剤(D)としては、公知乃至慣用の無機充填剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、リン酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、フォステライト、ステアタイト、スピネル、クレー、カオリン、ドロマイト、ヒドロキシアパタイト、ネフェリンサイナイト、クリストバライト、ウォラストナイト、珪藻土、タルク等の粉体、又はこれらの成型体(例えば、球形化したビーズ等)等が挙げられる。また、無機充填剤(D)としては、上述の無機充填剤に公知乃至慣用の表面処理が施されたもの等も挙げられる。中でも、無機充填剤(D)としては、硬化物(リフレクター)の耐熱性(特に、耐黄変性)、耐光性、及び流動性の観点で、シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素が好ましく、より好ましくはシリカ(シリカフィラー)である。 As the inorganic filler (D), a known or commonly used inorganic filler can be used, and is not particularly limited, but for example, silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium phosphate, calcium carbonate, magnesium carbonate, silicon carbide, and the like. Silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, aluminum hydroxide, iron oxide, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, aluminum oxide, calcium sulfate, barium sulfate, fosterite, steatite, spinel, clay, kaolin, dolomite , Hydroxyapatite, neferincinite, cristobalite, wollastonite, diatomaceous earth, powders of talc and the like, or molded bodies thereof (for example, spherical beads and the like) and the like. Further, examples of the inorganic filler (D) include those obtained by subjecting the above-mentioned inorganic filler to a known or conventional surface treatment. Among them, as the inorganic filler (D), silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, and boron nitride are used from the viewpoints of heat resistance (particularly yellowing resistance), light resistance, and fluidity of the cured product (reflector). It is preferable, more preferably silica (silica filler).

シリカとしては、特に限定されず、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、高純度合成シリカ等の公知乃至慣用のシリカを使用できる。なお、シリカとしては、公知乃至慣用の表面処理[例えば、金属酸化物、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、有機酸、ポリオール、シリコーン等の表面処理剤による表面処理等]が施されたものを使用することもできる。 The silica is not particularly limited, and for example, known or commonly used silica such as molten silica, crystalline silica, and high-purity synthetic silica can be used. The silica is one that has been subjected to a known or conventional surface treatment [for example, a surface treatment with a surface treatment agent such as a metal oxide, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an organic acid, a polyol, or a silicone]. Can also be used.

シリカの形状は、特に限定されないが、例えば、粉体、球状、破砕状、繊維状、針状、鱗片状等が挙げられる。中でも、分散性の観点で、球状のシリカが好ましく、特に真球状のシリカ(例えば、アスペクト比が1.2以下の球状のシリカ)が好ましい。 The shape of silica is not particularly limited, and examples thereof include powder, spherical, crushed, fibrous, needle-shaped, and scaly-shaped. Among them, spherical silica is preferable from the viewpoint of dispersibility, and true spherical silica (for example, spherical silica having an aspect ratio of 1.2 or less) is particularly preferable.

シリカの中心粒径は、特に限定されないが、硬化物(リフレクター)の光反射性向上の観点で、0.1〜50μmが好ましく、より好ましくは0.1〜30μmである。なお、上記中心粒径は、レーザー回折・散乱法で測定した粒度分布における積算値50%での粒径(メディアン径)を意味する。 The central particle size of silica is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.1 to 30 μm, from the viewpoint of improving the light reflectivity of the cured product (reflector). The central particle size means the particle size (median diameter) at an integrated value of 50% in the particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.

なお、本発明の硬化性樹脂組成物において無機充填剤(D)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、無機充填剤(D)は、公知乃至慣用の製造方法により製造することもできるし、例えば、商品名「FB−910」、「FB−940」、「FB−950」、「FB−105」、「FB−105FD」、「FB−5D」、「FB−8S」、「FB−7SDC」、「FB−5SDC」、「FB−3SDC」、「FB−9FDC」、「FB−7FDC」、「FB−5FDC」、「FB−970FD」、「FB−975FD」、「FB−950FD」、「FB−40RFD」等のFBシリーズ、商品名「DAW−03DC」、「DAW−0525」、「DAW−1025」等のDAWシリーズ、商品名「SGP」(以上、デンカ(株)製)、商品名「HF−05」((株)トクヤマ製)、商品名「10μmSE−CC5」((株)アドマテックス製)、商品名「MSR−2212」、「MSR−25」(以上、(株)龍森製)、商品名「HS−105」、「HS−106」、「HS−107」(以上、マイクロン社製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, the inorganic filler (D) may be used alone or in combination of two or more. The inorganic filler (D) can also be produced by a known or conventional production method, and for example, the trade names "FB-910", "FB-940", "FB-950", "FB-105". , "FB-105FD", "FB-5D", "FB-8S", "FB-7SDC", "FB-5SDC", "FB-3SDC", "FB-9FDC", "FB-7FDC", FB series such as "FB-5FDC", "FB-970FD", "FB-975FD", "FB-950FD", "FB-40RFD", trade names "DAW-03DC", "DAW-0525", "DAW" DAW series such as -1025, product name "SGP" (manufactured by Denka Co., Ltd.), product name "HF-05" (manufactured by Tokuyama Co., Ltd.), product name "10 μm SE-CC5" (manufactured by Tokuyama Co., Ltd.) (Made by Matex), product names "MSR-2212", "MSR-25" (above, manufactured by Ryumori Co., Ltd.), product names "HS-105", "HS-106", "HS-107" (above, Commercially available products such as Micron) can also be used.

本発明の硬化性樹脂組成物における無機充填剤(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、10〜90重量%が好ましく、より好ましくは13〜75重量%、さらに好ましくは15〜70重量%、さらに好ましくは20〜70重量%である。無機充填剤(D)の含有量を10重量%以上とすることにより、硬化性樹脂組成物をコンプレッション成型により形成する場合において、形成された硬化物の耐熱性及び耐光性(特に、優れた耐熱性)がより向上する傾向がある。また、硬化物(リフレクター)の線膨張係数が低くなって、該リフレクターを用いた光半導体素子搭載用基板におけるリードフレームの反り等の不具合が生じにくくなる傾向がある。一方、無機充填剤(D)の含有量を90重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物が良好な流動性を有するため、成型(特に、トランスファー成型)時の未充填等の問題が抑制される傾向がある。 The content (blending amount) of the inorganic filler (D) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 90% by weight with respect to the curable resin composition (100% by weight). , More preferably 13 to 75% by weight, still more preferably 15 to 70% by weight, still more preferably 20 to 70% by weight. When the curable resin composition is formed by compression molding by setting the content of the inorganic filler (D) to 10% by weight or more, the heat resistance and light resistance (particularly excellent heat resistance) of the formed cured product are excellent. Gender) tends to improve. Further, the coefficient of linear expansion of the cured product (reflector) tends to be low, and problems such as warpage of the lead frame in the substrate for mounting the optical semiconductor element using the reflector tend to be less likely to occur. On the other hand, when the content of the inorganic filler (D) is 90% by weight or less, the curable resin composition has good fluidity, so that there is a problem such as unfilling during molding (particularly transfer molding). Tends to be suppressed.

本発明の硬化性樹脂組成物における無機充填剤(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、10〜1500重量部が好ましく、より好ましくは50〜1200重量部、さらに好ましくは70〜1000重量部である。無機充填剤(D)の含有量を10重量部以上とすることにより、硬化性樹脂組成物をコンプレッション成型により形成する場合において、形成された硬化物の耐熱性及び耐光性(特に、優れた耐熱性)がより向上する傾向がある。また、硬化物(リフレクター)の線膨張係数が低くなって、該リフレクターを用いた光半導体素子搭載用基板におけるリードフレームの反り等の不具合が生じにくくなる傾向がある。一方、無機充填剤(D)の含有量を1500重量部以下とすることにより、硬化性樹脂組成物が良好な流動性を有するため、成型(特に、トランスファー成型)時の未充填等の問題が抑制される傾向がある。 The content (blending amount) of the inorganic filler (D) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable resin composition. , 10 to 1500 parts by weight, more preferably 50 to 1200 parts by weight, still more preferably 70 to 1000 parts by weight. When the curable resin composition is formed by compression molding by setting the content of the inorganic filler (D) to 10 parts by weight or more, the heat resistance and light resistance (particularly excellent heat resistance) of the formed cured product are excellent. Gender) tends to improve. Further, the coefficient of linear expansion of the cured product (reflector) tends to be low, and problems such as warpage of the lead frame in the substrate for mounting the optical semiconductor element using the reflector tend to be less likely to occur. On the other hand, when the content of the inorganic filler (D) is 1500 parts by weight or less, the curable resin composition has good fluidity, so that there is a problem such as unfilling during molding (particularly transfer molding). Tends to be suppressed.

本発明の硬化性樹脂組成物における白色顔料(C)及び無機充填剤(D)の最大粒子径は、特に限定されないが、200μm以下が好ましく、より好ましくは185μm以下、さらに好ましくは175μm以下、特に好ましくは150μm以下である。上記最大粒子径が200μm以下であると、最大粒子径が200μmを超える白色顔料又は無機充填剤を用いる場合よりも、硬化性樹脂組成物をコンプレッション成型により形成された形成された硬化物の耐熱性、耐光性、及び耐クラック性(特に、優れた耐熱性)がさらに優れる傾向がある。また、最大粒子径が小さい白色顔料(C)及び無機充填剤(D)を用いることにより、これらの含有量を増やすことが可能となり、硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性がよりいっそう向上する傾向がある。上記最大粒子径の下限は、例えば0.01μm以上である。なお、上記最大粒子径は、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる白色顔料(C)及び無機充填剤(D)のトータルの最大粒子径である。上記最大粒子径は、レーザー回折・散乱法で測定した粒度分布における最大の粒径を意味する。 The maximum particle size of the white pigment (C) and the inorganic filler (D) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 200 μm or less, more preferably 185 μm or less, still more preferably 175 μm or less, particularly. It is preferably 150 μm or less. When the maximum particle size is 200 μm or less, the heat resistance of the cured product formed by compression molding the curable resin composition is higher than that in the case of using a white pigment or an inorganic filler having a maximum particle size of more than 200 μm. , Light resistance, and crack resistance (particularly excellent heat resistance) tend to be further excellent. Further, by using the white pigment (C) and the inorganic filler (D) having a small maximum particle size, it is possible to increase the content thereof, and the light reflectivity, heat resistance and light resistance of the cured product are further improved. It tends to improve further. The lower limit of the maximum particle size is, for example, 0.01 μm or more. The maximum particle size is the total maximum particle size of the white pigment (C) and the inorganic filler (D) contained in the curable resin composition of the present invention. The maximum particle size means the maximum particle size in the particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.

[応力緩和剤(E)]
本発明の硬化性樹脂組成物の必須成分である応力緩和剤(E)は、硬化物中の内部応力を緩和させることができる化合物である。本発明の硬化性樹脂組成物は、応力緩和剤(E)を脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、及び無機充填剤(D)と組み合わせて用いることにより、白色顔料(C)や無機充填剤(D)の充填量を増加させてもコンプレッション成型が可能であり、なおかつ、コンプレッション成型により形成される硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性に優れる傾向がある。また、応力緩和剤(E)により硬化物の内部の応力を緩和させて、コンプレッション成型による形成物のそりを低減することもできる。
[Stress relaxation agent (E)]
The stress relaxation agent (E), which is an essential component of the curable resin composition of the present invention, is a compound capable of relaxing the internal stress in the cured product. In the curable resin composition of the present invention, the stress relieving agent (E) is used in combination with the alicyclic epoxy compound (A), the rubber particles (B), the white pigment (C), and the inorganic filler (D). Therefore, compression molding is possible even if the filling amount of the white pigment (C) or the inorganic filler (D) is increased, and the cured product formed by the compression molding has light reflectivity, heat resistance, and light resistance. Tends to excel. Further, the stress relaxation agent (E) can relax the stress inside the cured product to reduce the warp of the formed product due to compression molding.

上記応力緩和剤(E)としては、特に限定されず、例えば、シリコーンゴム粒子(E1)、シリコーンオイル(E2)、液状ゴム成分(E3)、熱可塑性樹脂(E4)等が挙げられる。 The stress relaxation agent (E) is not particularly limited, and examples thereof include silicone rubber particles (E1), silicone oil (E2), liquid rubber component (E3), and thermoplastic resin (E4).

上記シリコーンゴム粒子(E1)としては、特に限定されず、例えば、ポリメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等のポリシロキサンから構成されるものが挙げられる。
また、シリコーンゴム粒子(E1)を構成するポリシロキサンは、架橋されていることが好ましい。架橋されたポリシロキサンとしては、特に限定されず、例えば、シラノール基などの縮合反応、メルカプトシリル基とビニルシリル基とのラジカル反応、ビニルシリル基とヒドロシリル基(SiH基)との付加反応などにより架橋されたポリシロキサンなどが例示されるが、反応性、反応工程上の点からは、ビニル基含有オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンを白金系触媒の存在下で付加反応させて架橋されたポリシロキサンが好ましい。
The silicone rubber particles (E1) are not particularly limited, and examples thereof include those composed of polysiloxanes such as polymethylsiloxane and polymethylphenylsiloxane.
Further, the polysiloxane constituting the silicone rubber particles (E1) is preferably crosslinked. The crosslinked polysiloxane is not particularly limited, and is, for example, crosslinked by a condensation reaction of a silanol group or the like, a radical reaction of a mercaptosilyl group and a vinylsilyl group, an addition reaction of a vinylsilyl group and a hydrosilyl group (SiH group), or the like. Polysiloxane and the like are exemplified, but from the viewpoint of reactivity and reaction process, a polysiloxane crosslinked by an addition reaction of a vinyl group-containing organopolysiloxane and an organohydrogenpolysiloxane in the presence of a platinum-based catalyst. Is preferable.

また、上記シリコーンゴム粒子(E1)は、樹脂組成物とのなじみ、分散性向上、及び分散後の樹脂組成物の粘度調整の観点から、表面処理されていてもよい。表面処理の態様は、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレートで被覆されたシリコーンゴム粒子、シリコーンレジンで被覆されたシリコーンゴム粒子などが挙げられる。 Further, the silicone rubber particles (E1) may be surface-treated from the viewpoint of compatibility with the resin composition, improvement of dispersibility, and adjustment of the viscosity of the resin composition after dispersion. The mode of surface treatment is not particularly limited, and examples thereof include silicone rubber particles coated with methyl methacrylate and silicone rubber particles coated with silicone resin.

上記シリコーンゴム粒子(E1)の平均粒子径(d50)は、特に限定されないが、0.1〜100μmが好ましく、より好ましくは0.5〜50μmである。また、上記シリコーンゴム粒子(E1)の最大粒子径は、特に限定されないが、0.1〜250μmが好ましく、より好ましくは0.1〜150μmである。平均粒子径を100μm以下(又は、最大粒子径を250μm以下)とすることにより、硬化物の耐クラック性がより向上する傾向がある。一方、平均粒子径を0.1μm以上(又は、最大粒子径を0.1μm以上)とすることにより、上記シリコーンゴム粒子(E1)の分散性がより向上する傾向がある。
また、シリコーンゴム粒子(E1)の形状も特に限定されないが、作業性を向上させる観点から、球状が好ましい。
The average particle size (d 50 ) of the silicone rubber particles (E1) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.5 to 50 μm. The maximum particle size of the silicone rubber particles (E1) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 250 μm, more preferably 0.1 to 150 μm. By setting the average particle size to 100 μm or less (or the maximum particle size to 250 μm or less), the crack resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the average particle size is 0.1 μm or more (or the maximum particle size is 0.1 μm or more), the dispersibility of the silicone rubber particles (E1) tends to be further improved.
Further, the shape of the silicone rubber particles (E1) is not particularly limited, but a spherical shape is preferable from the viewpoint of improving workability.

上記シリコーンゴム粒子(E1)としては、コンプレッション成型により光反射性、耐熱性、及び耐光性に優れる硬化物を形成することができるという観点から、架橋されたポリシロキサンからなるもの、或いは、これの表面をシリコーンレジンで被覆したものが好ましく、なかでも、樹脂成分とシリコーンゴム粒子(E1)の相溶性の点から、架橋されたポリジメチルシロキサンの表面をシリコーンレジンで被覆したものが特に好ましい。 The silicone rubber particles (E1) are made of crosslinked polysiloxane from the viewpoint that a cured product having excellent light reflectivity, heat resistance, and light resistance can be formed by compression molding, or a silicone rubber particle (E1) thereof. The surface is preferably coated with a silicone resin, and the surface of the crosslinked polydimethylsiloxane is particularly preferably coated with a silicone resin from the viewpoint of compatibility between the resin component and the silicone rubber particles (E1).

本発明の硬化性樹脂組成物においてシリコーンゴム粒子(E1)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、上記シリコーンゴム粒子(E1)としては、公知乃至慣用の方法により製造することができ、その製造方法は、例えば、特開平7−196815号公報に記載された方法により製造されたシリコーンゴム粒子を使用することができる。或いは、商品名「KMP−600」、「KMP−601」、「KMP−602」、「KMP−605」、「X−52−7030」、「KMP−597」、「KMP−598」、「KMP−594」、「X−52−875」、「KMP−590」、「KMP−701」(以上、信越化学工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, one type of silicone rubber particles (E1) may be used alone, or two or more types may be used in combination. Further, the silicone rubber particles (E1) can be produced by a known or conventional method, and the production method thereof is, for example, the silicone rubber particles produced by the method described in JP-A-7-196815. Can be used. Alternatively, the trade names "KMP-600", "KMP-601", "KMP-602", "KMP-605", "X-52-7030", "KMP-597", "KMP-598", "KMP" Commercially available products such as "-594", "X-52-875", "KMP-590", and "KMP-701" (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) can also be used.

上記シリコーンオイル(E2)としては、特に限定されず、例えば、非変性シリコーンオイル、変性シリコーンオイル等が挙げられる。 The silicone oil (E2) is not particularly limited, and examples thereof include non-modified silicone oil and modified silicone oil.

非変性シリコーンオイルとしては、特に限定されず、例えば、ポリジメチルシロキサンタイプ、ポリメチルハイドロジェンシロキサンタイプ、ポリメチルフェニルシロキサンタイプ等が挙げられる。 The non-modified silicone oil is not particularly limited, and examples thereof include a polydimethylsiloxane type, a polymethylhydrogensiloxane type, and a polymethylphenylsiloxane type.

変性シリコーンオイルとしては、特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂に対して反応性を有する反応性シリコーンオイル、エポキシ樹脂に対して反応性を有しない非反応性シリコーンオイルのいずれを用いてもよい。反応性シリコーンオイルとしては、例えば、アミノ変性タイプ、エポキシ変性タイプ、カルボキシル変性タイプ、カルビノール変性タイプ、メタクリル変性タイプ、メルカプト変性タイプ、フェノール変性タイプ等が挙げられる。非反応性シリコーンオイルとしては、例えば、ポリアルキレンエーテル変性タイプ、メチルスチリル変性タイプ、アルキル変性タイプ、脂肪酸エステル変性タイプ、アルコキシ変性タイプ、フッ素変性タイプ等が挙げられる。また、反応性シリコーンオイルは、非反応性変性基を有していてもよく、例えば、ポリアルキレンエーテル−アミノ変性シリコーンオイル、ポリアルキレンエーテル−エポキシ変性シリコーンオイル等が挙げられ、脂環式エポキシ化合物(A)との反応性を有し、流動性や粘度の制御が可能なポリアルキレンエーテル−エポキシ変性シリコーンオイルが好ましい。 The modified silicone oil is not particularly limited, and for example, either a reactive silicone oil having reactivity with an epoxy resin or a non-reactive silicone oil having no reactivity with an epoxy resin may be used. Examples of the reactive silicone oil include an amino-modified type, an epoxy-modified type, a carboxyl-modified type, a carbinol-modified type, a methacryl-modified type, a mercapto-modified type, and a phenol-modified type. Examples of the non-reactive silicone oil include a polyalkylene ether-modified type, a methylstyryl-modified type, an alkyl-modified type, a fatty acid ester-modified type, an alkoxy-modified type, and a fluorine-modified type. The reactive silicone oil may have a non-reactive modifying group, and examples thereof include polyalkylene ether-amino-modified silicone oil and polyalkylene ether-epoxy-modified silicone oil. A polyalkylene ether-epoxy-modified silicone oil that has reactivity with (A) and can control fluidity and viscosity is preferable.

上記シリコーンオイル(E2)としては、コンプレッション成型により光反射性、耐熱性、及び耐光性に優れる硬化物を形成することができるという観点から、ポリアルキレンエーテル−エポキシ変性シリコーンオイルが好ましく、特に、エポキシ当量3000〜15000の下記式(1)で表される構造を有するポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物(以下、「ポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物(1)」と称する場合がある)が好ましい。

Figure 0006929069
As the silicone oil (E2), a polyalkylene ether-epoxy-modified silicone oil is preferable, and an epoxy is particularly preferable, from the viewpoint that a cured product having excellent light reflectivity, heat resistance, and light resistance can be formed by compression molding. A polyalkylene ether-modified silicone compound having an equivalent amount of 3000 to 15000 and having a structure represented by the following formula (1) (hereinafter, may be referred to as "polyalkylene ether-modified silicone compound (1)") is preferable.
Figure 0006929069

上記式(1)中、R4は炭素数2又は3のアルキレン基である。炭素数が2又は3のアルキレン基としては、例えば、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられ、トリメチレン基が好ましい。 In the above formula (1), R 4 is an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. Examples of the alkylene group having 2 or 3 carbon atoms include a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group and the like, and a trimethylene group is preferable.

上記式(1)中、xは80〜140の整数を示す。
上記式(1)中、yは1〜5の整数を示す。yが2以上の整数の場合、yが付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
上記式(1)中、zは5〜20の整数を示す。なお、zが付された括弧内の構造はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
In the above equation (1), x represents an integer of 80 to 140.
In the above equation (1), y represents an integer of 1 to 5. When y is an integer of 2 or more, the structures in parentheses with y may be the same or different.
In the above equation (1), z represents an integer of 5 to 20. The structures in parentheses with z may be the same or different.

上記式(1)中、Aは下記式(1a)で表される構造を有するポリアルキレンエーテル基である。

Figure 0006929069
In the above formula (1), A is a polyalkylene ether group having a structure represented by the following formula (1a).
Figure 0006929069

上記式(1a)中、a及びbはそれぞれ独立して、0〜40の整数である。aが40以下であることにより、硬化物の耐水性が向上する傾向がある。
一方、bが40以下であることにより、硬化性樹脂組成物の流動性が向上する傾向がある。
In the above formula (1a), a and b are independently integers from 0 to 40. When a is 40 or less, the water resistance of the cured product tends to be improved.
On the other hand, when b is 40 or less, the fluidity of the curable resin composition tends to be improved.

a及びbの合計は、特に限定されないが、好ましくは1〜80の整数である。a及びbの合計が当該範囲にあることにより、硬化物の耐水性と、硬化性樹脂組成物の流動性を制御しやすくなる。 The sum of a and b is not particularly limited, but is preferably an integer of 1 to 80. When the total of a and b is in the above range, it becomes easy to control the water resistance of the cured product and the fluidity of the curable resin composition.

上記式(1a)中、Bは水素原子、又はメチル基である。硬化物の耐水性の観点からは、Bはメチル基が好ましい。 In the above formula (1a), B is a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of water resistance of the cured product, B is preferably a methyl group.

上記式(1)における各構造単位の付加形態は、式(1)中の2つのトリメチルシリル基が両末端に存在する限り、ランダム型であってもよいし、ブロック型であってもよい。また、上記式(1a)における各構造単位の付加形態も、Bが末端に存在する限り、ランダム型であってもよいし、ブロック型であってもよい。また、上記式(1)、(1a)における各構造単位の配列の順番も特に限定されない。 The additional form of each structural unit in the above formula (1) may be a random type or a block type as long as the two trimethylsilyl groups in the formula (1) are present at both ends. Further, the additional form of each structural unit in the above formula (1a) may be a random type or a block type as long as B is present at the end. Further, the order of arrangement of each structural unit in the above formulas (1) and (1a) is not particularly limited.

上記ポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物(1)のエポキシ当量は、上記の通り、3000〜15000であり、好ましくは4000〜15000、より好ましくは5000〜13000である。エポキシ当量が3000以上であることにより、硬化物の内部の応力緩和がより向上する傾向がある。一方、エポキシ当量を15000以下とすることにより、樹脂との相溶性がより向上する傾向がある。
なお、ポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物(1)のエポキシ当量は、JIS K 7236:2001に準拠して測定することができる。
As described above, the epoxy equivalent of the polyalkylene ether-modified silicone compound (1) is 3000 to 15000, preferably 4000 to 15000, and more preferably 5000 to 13000. When the epoxy equivalent is 3000 or more, the stress relaxation inside the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the epoxy equivalent is 15,000 or less, the compatibility with the resin tends to be further improved.
The epoxy equivalent of the polyalkylene ether-modified silicone compound (1) can be measured according to JIS K 7236: 2001.

本発明の硬化性樹脂組成物においてシリコーンオイル(E2)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、上記シリコーンオイル(E2)としては、公知乃至慣用の方法により製造することができ、例えば、特開2008−201904号公報に記載された方法により製造されたシリコーンオイル(E2)を使用することができ、或いは、商品名「SF8421」(東レ・ダウコーニング(株)製)、商品名「Y−19268」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン(同)製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, the silicone oil (E2) may be used alone or in combination of two or more. Further, as the silicone oil (E2), a silicone oil (E2) which can be produced by a known or conventional method, for example, a silicone oil (E2) produced by the method described in JP-A-2008-201904 is used. Or use commercially available products such as product name "SF8421" (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and product name "Y-19268" (manufactured by Momentive Performance Materials Japan Co., Ltd.). You can also.

上記液状ゴム成分(E3)としては、特に限定されず、例えば、ポリブタジエン、マレイン化ポリブタジエン、アクリル化ポリブタジエン、メタクリル化ポリブタジエン、エポキシ化ポリブタジエン、アクリロニトリルブタジエンゴム、カルボキシ末端アクリロニトリルブタジエンゴム、アミノ末端アクリロニトリルブタジエンゴム、ビニル末端アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム等が挙げられる。
上記液状ゴム成分(E3)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。
The liquid rubber component (E3) is not particularly limited, and is, for example, polybutadiene, maleated polybutadiene, acrylicized polybutadiene, methacrylated polybutadiene, epoxidized polybutadiene, acrylonitrile butadiene rubber, carboxy-terminated acrylonitrile butadiene rubber, and amino-terminated acrylonitrile butadiene rubber. , Vinyl-terminated acrylonitrile butadiene rubber, styrene butadiene rubber and the like.
The liquid rubber component (E3) may be used alone or in combination of two or more.

上記熱可塑性樹脂(E4)としては、特に限定されず、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルイミド樹脂、フェノキシ樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性の観点から、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂が好ましい。これらの熱可塑性樹脂は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。 The thermoplastic resin (E4) is not particularly limited, and for example, a polyimide resin, a polyamide resin, a polyetherimide resin, a polyester resin, a polyesterimide resin, a phenoxy resin, a polysulfone resin, a polyethersulfone resin, a polyphenylene sulfide resin, and the like. Examples thereof include polyether ketone resins. Among these, phenoxy resin and polyimide resin are preferable from the viewpoint of heat resistance. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.

上記熱可塑性樹脂(E4)のガラス転移温度(Tg)は、特に限定されないが、200℃以下であることが好ましい。 The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin (E4) is not particularly limited, but is preferably 200 ° C. or lower.

上記応力緩和剤(E)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。
上記応力緩和剤(E)としては、コンプレッション成型により光反射性、耐熱性、及び耐光性に優れる硬化物を形成することができるという観点から、シリコーンゴム粒子(E1)及びシリコーンオイル(E2)からなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、特に、シリコーンゴム粒子(E1)としては、シリコーンレジンを表面に備える架橋されたポリジメチルシロキサンが好ましく、シリコーンオイル(E2)としては、ポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物(1)が好ましい。
The stress relaxation agent (E) may be used alone or in combination of two or more.
The stress relieving agent (E) is made of silicone rubber particles (E1) and silicone oil (E2) from the viewpoint that a cured product having excellent light reflectivity, heat resistance, and light resistance can be formed by compression molding. At least one selected from the above group is preferable, in particular, the silicone rubber particles (E1) are preferably crosslinked polydimethylsiloxane having a silicone resin on the surface, and the silicone oil (E2) is modified with polyalkylene ether. The silicone compound (1) is preferred.

本発明の応力緩和剤(E)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、1〜200重量部が好ましく、より好ましくは5〜150重量部、さらに好ましくは8〜120重量部である。応力緩和剤(E)の含有量を1重量部以上とすることにより、白色顔料(C)や無機充填剤(D)の充填量を増やしてもコンプレッション成型が可能であり、また、成形された硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性がより向上する傾向がある。また、成形品の反りが緩和されて、寸法安定性が向上する傾向がある。一方、応力緩和剤(E)の含有量を200重量部以下とすることにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上する傾向がある。 The content (blending amount) of the stress relaxation agent (E) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 200 parts by weight, more preferably 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A). It is ~ 150 parts by weight, more preferably 8 to 120 parts by weight. By setting the content of the stress relaxation agent (E) to 1 part by weight or more, compression molding is possible even if the filling amount of the white pigment (C) or the inorganic filler (D) is increased, and the molding is possible. The light reflectivity, heat resistance, and light resistance of the cured product tend to be further improved. In addition, the warp of the molded product is alleviated, and the dimensional stability tends to be improved. On the other hand, when the content of the stress relaxation agent (E) is 200 parts by weight or less, the curability of the curable resin composition tends to be further improved.

本発明の硬化性樹脂組成物(100重量%)に対する応力緩和剤(E)の含有量は、特に限定されないが、0.1〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.3〜18重量%、さらに好ましくは0.5〜15重量%である。応力緩和剤(E)の含有量を0.1重量%以上とすることにより、白色顔料(C)や無機充填剤(D)の充填量を増やしてもコンプレッション成型が可能であり、なおかつ、成形された硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性がより向上する傾向がある。また、成形品の反りが緩和されて、寸法安定性が向上する傾向がある。一方、応力緩和剤(E)の含有量を20重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物の硬化性がより向上する傾向がある。 The content of the stress relaxation agent (E) with respect to the curable resin composition (100% by weight) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.3 to 18% by weight. , More preferably 0.5 to 15% by weight. By setting the content of the stress relaxation agent (E) to 0.1% by weight or more, compression molding is possible even if the filling amount of the white pigment (C) or the inorganic filler (D) is increased, and the molding is possible. The light reflectivity, heat resistance, and light resistance of the cured product tend to be further improved. In addition, the warp of the molded product is alleviated, and the dimensional stability tends to be improved. On the other hand, when the content of the stress relaxation agent (E) is 20% by weight or less, the curability of the curable resin composition tends to be further improved.

[硬化剤(F)]
本発明の硬化性樹脂組成物における硬化剤(F)は、脂環式エポキシ化合物(A)、応力緩和剤(E)としてのエポキシ変性シリコーンオイル等のエポキシ基を有する化合物と反応することにより、硬化性樹脂組成物を硬化させる働きを有する化合物である。硬化剤(F)としては、公知乃至慣用のエポキシ樹脂用硬化剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、酸無水物類(酸無水物系硬化剤)、アミン類(アミン系硬化剤)、ポリアミド樹脂、イミダゾール類(イミダゾール系硬化剤)、ポリメルカプタン類(ポリメルカプタン系硬化剤)、フェノール類(フェノール系硬化剤)、ポリカルボン酸類、ジシアンジアミド類、有機酸ヒドラジド等が挙げられる。
[Curing agent (F)]
The curing agent (F) in the curable resin composition of the present invention reacts with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A) and an epoxy-modified silicone oil as a stress relieving agent (E). It is a compound having a function of curing a curable resin composition. As the curing agent (F), a known or commonly used curing agent for epoxy resin can be used, and is not particularly limited. For example, acid anhydrides (acid anhydride-based curing agent) and amines (amine-based curing agent) can be used. Agents), polyamide resins, imidazoles (imidazole-based curing agents), polypeptides (polymercaptan-based curing agents), phenols (phenol-based curing agents), polycarboxylic acids, dicyandiamides, organic acid hydrazides and the like.

硬化剤(F)としての酸無水物類(酸無水物系硬化剤)としては、公知乃至慣用の酸無水物系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(4−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3−メチルテトラヒドロ無水フタル酸等)、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等)、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、水素化メチルナジック酸無水物、4−(4−メチル−3−ペンテニル)テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水アジピン酸、無水セバシン酸、無水ドデカン二酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、ビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、アルキルスチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。中でも、均一な硬化性樹脂組成物を効率的に調製することができる観点、脂環式エポキシ化合物(A)と混合して25℃で液状の混合物(硬化剤組成物)としやすい観点で、25℃で液状の酸無水物[例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等]が好ましい。一方、25℃で固体状の酸無水物については、例えば、25℃で液状の酸無水物に溶解させて液状の混合物とすることで、本発明の硬化性樹脂組成物における硬化剤(F)としての取り扱い性が向上する傾向がある。酸無水物系硬化剤としては、硬化物の耐熱性、光反射性の観点で、飽和単環炭化水素ジカルボン酸の無水物(環にアルキル基等の置換基が結合したものも含む)が好ましい。 As the acid anhydride (acid anhydride-based curing agent) as the curing agent (F), a known or commonly used acid anhydride-based curing agent can be used, and is not particularly limited, but for example, methyltetrahydrophthalic anhydride (4). -Methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, etc.), Methylhexahydrophthalic anhydride (4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, etc.), dodecenyl succinic anhydride, methyl Endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylcyclohexendicarboxylic acid anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, anhydrous Nasic acid, methylnadic anhydride, hydride methylnadic anhydride, 4- (4-methyl-3-pentenyl) phthalic anhydride, phthalic anhydride, adipic anhydride, sebacic anhydride, dodecanediochloride, methyl Cyclohexene tetracarboxylic anhydride, vinyl ether-phthalic anhydride copolymer, alkylstyrene-phthalic anhydride copolymer and the like can be mentioned. Among them, 25 from the viewpoint that a uniform curable resin composition can be efficiently prepared, and from the viewpoint that it can be easily mixed with the alicyclic epoxy compound (A) to form a liquid mixture (curing agent composition) at 25 ° C. Acid anhydrides that are liquid at ° C. [eg, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenylsuccinic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, etc.] are preferred. On the other hand, with respect to the acid anhydride solid at 25 ° C., for example, the curing agent (F) in the curable resin composition of the present invention can be obtained by dissolving it in a liquid acid anhydride at 25 ° C. to obtain a liquid mixture. There is a tendency for the handleability to be improved. As the acid anhydride-based curing agent, an anhydride of a saturated monocyclic hydrocarbon dicarboxylic acid (including one in which a substituent such as an alkyl group is bonded to a ring) is preferable from the viewpoint of heat resistance and light reflectivity of the cured product. ..

硬化剤(F)としてのアミン類(アミン系硬化剤)としては、公知乃至慣用のアミン系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ポリプロピレントリアミン等の脂肪族ポリアミン;メンセンジアミン、イソホロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−3,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等の脂環式ポリアミン;m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、トリレン−2,4−ジアミン、トリレン−2,6−ジアミン、メシチレン−2,4−ジアミン、3,5−ジエチルトリレン−2,4−ジアミン、3,5−ジエチルトリレン−2,6−ジアミン等の単核ポリアミン、ビフェニレンジアミン、4,4−ジアミノジフェニルメタン、2,5−ナフチレンジアミン、2,6−ナフチレンジアミン等の芳香族ポリアミン等が挙げられる。 As the amines (amine-based curing agent) as the curing agent (F), known or conventional amine-based curing agents can be used and are not particularly limited, but for example, ethylene diamine, diethylene triamine, triethylene tetramine, tetraethylene pentamine, and the like. Aliper polyamines such as dipropylene diamine, diethylaminopropylamine, polypropylenetriamine; mensene diamine, isophorone diamine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, diaminodicyclohexylmethane, bis (aminomethyl) cyclohexane, N-amino Alicyclic polyamines such as ethyl piperazine, 3,9-bis (3-aminopropyl) -3,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane; m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, trilene -2,4-diamine, trilen-2,6-diamine, mesitylen-2,4-diamine, 3,5-diethyltrilen-2,4-diamine, 3,5-diethyltrilen-2,6-diamine Mononuclear polyamines such as, biphenylenediamine, 4,4-diaminodiphenylmethane, 2,5-naphthylenediamine, 2,6-naphthylenediamine and other aromatic polyamines and the like can be mentioned.

硬化剤(F)としてのフェノール類(フェノール系硬化剤)としては、公知乃至慣用のフェノール系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂、パラキシリレン変性フェノール樹脂、パラキシリレン・メタキシリレン変性フェノール樹脂等のアラルキル樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、トリフェノールプロパン等が挙げられる。 As the phenols (phenol-based curing agent) as the curing agent (F), known or conventional phenol-based curing agents can be used, and the present invention is not particularly limited. Examples thereof include resins, aralkyl resins such as paraxylylene / metaxylylene-modified phenolic resins, terpene-modified phenolic resins, dicyclopentadiene-modified phenolic resins, and triphenolpropanes.

硬化剤(F)としてのポリアミド樹脂としては、例えば、分子内に第1級アミノ基及び第2級アミノ基のいずれか一方又は両方を有するポリアミド樹脂等が挙げられる。 Examples of the polyamide resin as the curing agent (F) include a polyamide resin having either or both of a primary amino group and a secondary amino group in the molecule.

硬化剤(F)としてのイミダゾール類(イミダゾール系硬化剤)としては、公知乃至慣用のイミダゾール系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2−メチルイミダゾリウムイソシアヌレート、2−フェニルイミダゾリウムイソシアヌレート、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン等が挙げられる。 As the imidazoles (imidazole-based curing agent) as the curing agent (F), known or commonly used imidazole-based curing agents can be used, and the present invention is not particularly limited, but for example, 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole. , 2-Undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1, -Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimerite, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimerite, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-phenylimidazolium isociate Nurate, 2,4-diamino-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2-ethyl-4-methylimidazolyl- (1)]- Ethyl-s-triazine and the like can be mentioned.

硬化剤(F)としてのポリメルカプタン類(ポリメルカプタン系硬化剤)としては、例えば、液状のポリメルカプタン、ポリスルフィド樹脂等が挙げられる。 Examples of the polyether captans (polymercaptan-based curing agent) as the curing agent (F) include liquid polyethercaptan and polysulfide resin.

硬化剤(F)としてのポリカルボン酸類としては、例えば、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、トリメリット酸、カルボキシ基含有ポリエステル等が挙げられる。 Examples of the polycarboxylic acid as the curing agent (F) include adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, carboxy group-containing polyester and the like.

中でも、硬化剤(F)としては、硬化物の耐熱性、耐光性、光反射性の観点で、酸無水物類(酸無水物系硬化剤)が好ましい。なお、本発明の硬化性樹脂組成物において硬化剤(F)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。なお、硬化剤は公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「リカシッドMH−700」、「リカシッドMH−700F」、「リカシッドMH−700G」、「リカシッドTH」、「リカシッドHH」、「リカシッドHNA−100」(以上、新日本理化(株)製);商品名「HN−5500」(日立化成工業(株)製);商品名「H−TMAn−S」、「H−TMAn」(以上、三菱ガス化学(株)製);商品名「YH1120」(三菱化学(株)製)等の市販品を使用することもできる。 Among them, as the curing agent (F), acid anhydrides (acid anhydride-based curing agent) are preferable from the viewpoint of heat resistance, light resistance, and light reflectivity of the cured product. In the curable resin composition of the present invention, the curing agent (F) may be used alone or in combination of two or more. The curing agent can also be produced by a known or conventional method, and for example, the trade names "Ricacid MH-700", "Ricacid MH-700F", "Recasid MH-700G", "Recasid TH", "Recasid". "HH", "Recasid HNA-100" (above, manufactured by Shin Nihon Rika Co., Ltd.); Product name "HN-5500" (manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.); Product name "H-TMAn-S", "H" -TMAn "(above, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.); commercially available products such as the trade name" YH1120 "(manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) can also be used.

本発明の硬化性樹脂組成物が硬化剤(F)を含有する場合、硬化剤(F)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、1〜40重量%が好ましく、より好ましくは3〜35重量%、さらに好ましくは5〜30重量%である。硬化剤(F)の含有量を1重量%以上とすることにより、硬化がより十分となり、硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。一方、硬化剤(F)の含有量を40重量%以下とすることにより、着色がより抑制され色相に優れた硬化物(リフレクター)が得られやすい傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains a curing agent (F), the content (blending amount) of the curing agent (F) is not particularly limited, but is based on the curable resin composition (100% by weight). It is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 3 to 35% by weight, still more preferably 5 to 30% by weight. By setting the content of the curing agent (F) to 1% by weight or more, the curing tends to be more sufficient and the crack resistance of the cured product tends to be improved. On the other hand, when the content of the curing agent (F) is 40% by weight or less, coloring tends to be further suppressed and a cured product (reflector) having an excellent hue tends to be easily obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物が硬化剤(F)を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における硬化剤(F)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、40〜200重量部が好ましく、より好ましくは50〜150重量部である。より具体的には、硬化剤(F)として酸無水物類を使用する場合、本発明の硬化性樹脂組成物に含まれる全てのエポキシ基を有する化合物におけるエポキシ基1当量当たり、0.5〜1.5当量となる割合で使用することが好ましい。硬化剤(F)の含有量を40重量部以上とすることにより、硬化がより十分となり、硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。一方、硬化剤(F)の含有量を200重量部以下とすることにより、着色がより抑制され色相に優れた硬化物(リフレクター)が得られやすい傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains a curing agent (F), the content (blending amount) of the curing agent (F) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is a curable resin. It is preferably 40 to 200 parts by weight, more preferably 50 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the epoxy group-containing compound contained in the composition. More specifically, when acid anhydrides are used as the curing agent (F), 0.5 to 0.5 to 1 equivalent of the epoxy group in the compound having all the epoxy groups contained in the curable resin composition of the present invention. It is preferable to use it at a ratio of 1.5 equivalents. By setting the content of the curing agent (F) to 40 parts by weight or more, the curing tends to be more sufficient and the crack resistance of the cured product tends to be improved. On the other hand, when the content of the curing agent (F) is 200 parts by weight or less, coloring tends to be further suppressed and a cured product (reflector) having an excellent hue tends to be easily obtained.

[硬化促進剤(G)]
本発明の硬化性樹脂組成物における硬化促進剤(G)は、エポキシ基を有する化合物が硬化剤(F)と反応する際に、その反応速度を促進する機能を有する化合物である。硬化促進剤(G)としては、公知乃至慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン等の第3級アミン;2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p−トリル)ボレート等のホスホニウム化合物;オクチル酸亜鉛やオクチル酸スズ等の有機金属塩;金属キレート等が挙げられる。
[Curing accelerator (G)]
The curing accelerator (G) in the curable resin composition of the present invention is a compound having a function of accelerating the reaction rate of a compound having an epoxy group when it reacts with the curing agent (F). As the curing accelerator (G), a known or commonly used curing accelerator can be used, for example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) or a salt thereof (for example, phenol). Salts, octylates, p-toluenesulfonates, formates, tetraphenylborate salts, etc.); 1,5-diazabicyclo [4.3.0] Nonen-5 (DBN) or salts thereof (eg, phenol salts, Octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt, etc.); benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylcyclohexylamine, etc. Secondary amines; imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; phosphines such as phosphate esters and triphenylphosphines; tetraphenylphosphonium tetra (p-tolyl) borates Phosphonium compounds such as; organic metal salts such as zinc octylate and tin octylate; metal chelate and the like.

本発明の硬化性樹脂組成物において硬化促進剤(G)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、硬化促進剤(G)は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「U−CAT SA 506」、「U−CAT SA 102」、「U−CAT 5003」、「U−CAT 18X」、「12XD」(開発品)(以上、サンアプロ(株)製);商品名「TPP−K」、「TPP−MK」(以上、北興化学工業(株)製);商品名「PX−4ET」(日本化学工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, the curing accelerator (G) may be used alone or in combination of two or more. The curing accelerator (G) can also be produced by a known or conventional method, and for example, trade names "U-CAT SA 506", "U-CAT SA 102", "U-CAT 5003", etc. "U-CAT 18X", "12XD" (developed product) (above, manufactured by Sun Appro Co., Ltd.); Product name "TPP-K", "TPP-MK" (above, manufactured by Hokuko Kagaku Kogyo Co., Ltd.); Commercially available products such as the name "PX-4ET" (manufactured by Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.) can also be used.

本発明の硬化性樹脂組成物が硬化促進剤(G)を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における硬化促進剤(G)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.0001〜5重量%が好ましく、より好ましくは0.001〜1重量%である。硬化促進剤(G)の含有量を0.0001重量%以上とすることにより、より効率的に硬化反応を進行させることができる傾向がある。一方、硬化促進剤(G)の含有量を5重量%以下とすることにより、硬化性樹脂組成物の保存性がより向上したり、着色がより抑制され色相に優れた硬化物(リフレクター)が得られやすい傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains a curing accelerator (G), the content (blending amount) of the curing accelerator (G) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is cured. It is preferably 0.0001 to 5% by weight, more preferably 0.001 to 1% by weight, based on the sex resin composition (100% by weight). By setting the content of the curing accelerator (G) to 0.0001% by weight or more, the curing reaction tends to proceed more efficiently. On the other hand, by setting the content of the curing accelerator (G) to 5% by weight or less, the storage stability of the curable resin composition is further improved, coloring is further suppressed, and a cured product (reflector) having an excellent hue is produced. It tends to be easy to obtain.

本発明の硬化性樹脂組成物が硬化促進剤(G)を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における硬化促進剤(G)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.05〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜12重量部、さらに好ましくは0.2〜10重量部、特に好ましくは0.25〜8重量部である。硬化促進剤(G)の含有量を0.05重量部以上とすることにより、より効率的に硬化反応を進行させることができる傾向がある。一方、硬化促進剤(G)の含有量を15重量部以下とすることにより、硬化性樹脂組成物の保存性がより向上したり、着色がより抑制され色相に優れた硬化物(リフレクター)が得られやすい傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains a curing accelerator (G), the content (blending amount) of the curing accelerator (G) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is cured. 0.05 to 15 parts by weight, more preferably 0.1 to 12 parts by weight, still more preferably 0.2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the sex resin composition. It is by weight, particularly preferably 0.25 to 8 parts by weight. By setting the content of the curing accelerator (G) to 0.05 parts by weight or more, the curing reaction tends to proceed more efficiently. On the other hand, by setting the content of the curing accelerator (G) to 15 parts by weight or less, a cured product (reflector) having a more improved storage stability of the curable resin composition, more suppressed coloring, and an excellent hue can be obtained. It tends to be easy to obtain.

[硬化触媒(H)]
本発明の硬化性樹脂組成物における硬化触媒(H)は、脂環式エポキシ化合物(A)、応力緩和剤(E)としてのエポキシ変性シリコーンオイル等のカチオン重合性化合物の硬化反応(重合反応)を開始及び/又は促進させることにより、硬化性樹脂組成物を硬化させる働きを有する化合物である。硬化触媒(H)としては、特に限定されないが、例えば、光照射や加熱処理等を施すことによりカチオン種を発生して、重合を開始させるカチオン重合開始剤(光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤等)や、ルイス酸・アミン錯体、ブレンステッド酸塩類、イミダゾール類等が挙げられる。
[Curing catalyst (H)]
The curing catalyst (H) in the curable resin composition of the present invention is a curing reaction (polymerization reaction) of a cationically polymerizable compound such as an alicyclic epoxy compound (A) and an epoxy-modified silicone oil as a stress relieving agent (E). Is a compound having a function of curing the curable resin composition by initiating and / or accelerating. The curing catalyst (H) is not particularly limited, but for example, a cationic polymerization initiator (photocationic polymerization initiator, thermal cationic polymerization) that generates a cationic species by subjecting it to light irradiation, heat treatment, or the like to initiate polymerization. Initiators, etc.), Lewis acid / amine complexes, blended acid salts, imidazoles, etc. can be mentioned.

硬化触媒(H)としての光カチオン重合開始剤としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩等が挙げられ、より具体的には、例えば、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート(例えば、p−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等)、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のスルホニウム塩(特に、トリアリールスルホニウム塩);ジアリールヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジアリールヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ヨードニウム[4−(4−メチルフェニル−2−メチルプロピル)フェニル]ヘキサフルオロホスフェート等のヨードニウム塩;テトラフルオロホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等のホスホニウム塩;N−ヘキシルピリジニウムテトラフルオロボレート等のピリジニウム塩等が挙げられる。また、光カチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「UVACURE1590」(ダイセル・サイテック(株)製);商品名「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国サートマー製);商品名「イルガキュア264」(BASF社製);商品名「CIT−1682」(日本曹達(株)製)等の市販品を好ましく使用することもできる。 Examples of the photocationic polymerization initiator as the curing catalyst (H) include hexafluoroantimonate salt, pentafluorohydroxyantimonate salt, hexafluorophosphate salt, hexafluoroarsenate salt and the like, and more specifically, they. , For example, sulfonium salts such as triarylsulfonium hexafluorophosphate (eg, p-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate), triarylsulfonium hexafluoroantimonate (particularly triarylsulfonium salt); diaryliodonium hexafluorophosphate. , Diaryliodonium hexafluoroantimonate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, iodonium [4- (4-methylphenyl-2-methylpropyl) phenyl] hexafluorophosphate and other iodonium salts; tetrafluorophosphonium Phenylsium salts such as hexafluorophosphate; pyridinium salts such as N-hexylpyridinium tetrafluoroborate and the like can be mentioned. Examples of the photocationic polymerization initiator include the trade name "UVACURE1590" (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.); the trade names "CD-1010", "CD-1011", and "CD-1012" (above, USA). (Manufactured by Sartmer); trade name "Irgacure 264" (manufactured by BASF); trade name "CIT-1682" (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) and other commercially available products can also be preferably used.

硬化触媒(H)としての熱カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、アレン−イオン錯体等が挙げられ、商品名「PP−33」、「CP−66」、「CP−77」(以上(株)ADEKA製);商品名「FC−509」(スリーエム製);商品名「UVE1014」(G.E.製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−110L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製);商品名「CG−24−61」(BASF社製)等の市販品を好ましく使用することができる。さらに、熱カチオン重合開始剤としては、アルミニウムやチタン等の金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタン等の金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールS等のフェノール類との化合物等も挙げられる。 Examples of the thermal cationic polymerization initiator as the curing catalyst (H) include aryldiazonium salt, aryliodonium salt, arylsulfonium salt, allen-ion complex and the like, and trade names "PP-33" and "CP-66". , "CP-77" (manufactured by ADEKA Co., Ltd.); product name "FC-509" (manufactured by 3M); product name "UVE1014" (manufactured by GE); product name "Sun Aid SI-60L", "Sun Aid SI-80L", "Sun Aid SI-100L", "Sun Aid SI-110L", "Sun Aid SI-150L" (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.); Product name "CG-24-61" ( Commercially available products such as (manufactured by BASF) can be preferably used. Further, as the thermal cationic polymerization initiator, a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetacetic acid or diketones and a compound of silanol such as triphenylsilanol, or a metal such as aluminum or titanium and acetacetic acid or diketone. Examples thereof include a chelate compound with the like and a compound with a phenol such as bisphenol S.

硬化触媒(H)としてのルイス酸・アミン錯体としては、公知乃至慣用のルイス酸・アミン錯体系硬化触媒を使用することができ、特に限定されないが、例えば、BF3・n−ヘキシルアミン、BF3・モノエチルアミン、BF3・ベンジルアミン、BF3・ジエチルアミン、BF3・ピペリジン、BF3・トリエチルアミン、BF3・アニリン、BF4・n−ヘキシルアミン、BF4・モノエチルアミン、BF4・ベンジルアミン、BF4・ジエチルアミン、BF4・ピペリジン、BF4・トリエチルアミン、BF4・アニリン、PF5・エチルアミン、PF5・イソプロピルアミン、PF5・ブチルアミン、PF5・ラウリルアミン、PF5・ベンジルアミン、AsF5・ラウリルアミン等が挙げられる。 As the Lewis acid / amine complex as the curing catalyst (H), a known or commonly used Lewis acid / amine complex-based curing catalyst can be used, and is not particularly limited, but for example, BF 3 · n-hexylamine, BF. 3. Monoethylamine, BF 3 benzylamine, BF 3 diethylamine, BF 3 piperidine, BF 3 triethylamine, BF 3 aniline, BF 4 n-hexylamine, BF 4 monoethylamine, BF 4 benzylamine , BF 4 / diethylamine, BF 4 / piperidine, BF 4 / triethylamine, BF 4 / aniline, PF 5 / ethylamine, PF 5 / isopropylamine, PF 5 / butylamine, PF 5 / laurylamine, PF 5 / benzylamine, AsF 5. Laurylamine and the like can be mentioned.

硬化触媒(H)としてのブレンステッド酸塩類としては、公知乃至慣用のブレンステッド酸塩類を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂肪族スルホニウム塩、芳香族スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。 As the Bronsted salts as the curing catalyst (H), known or commonly used Bronsted acid salts can be used and are not particularly limited, but for example, aliphatic sulfonium salts, aromatic sulfonium salts, iodonium salts and phosphoniums. Examples include salt.

硬化触媒(H)としてのイミダゾール類としては、公知乃至慣用のイミダゾール類を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2−メチルイミダゾリウムイソシアヌレート、2−フェニルイミダゾリウムイソシアヌレート、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン等が挙げられる。 As the imidazoles as the curing catalyst (H), known or commonly used imidazoles can be used, and the imidazoles are not particularly limited, and are, for example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecyl. Imidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2- Undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimerite, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimerite, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-phenylimidazolium isocyanurate, 2,4 -Diamino-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2-ethyl-4-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-s-triazine And so on.

本発明の硬化性樹脂組成物において硬化触媒(H)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。なお、上述のように、硬化触媒(H)としては市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, the curing catalyst (H) may be used alone or in combination of two or more. As described above, a commercially available product can also be used as the curing catalyst (H).

本発明の硬化性樹脂組成物が硬化触媒(H)を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における硬化触媒(H)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.0001〜5重量%が好ましく、より好ましくは0.001〜1重量%である。硬化触媒(H)を上記範囲内で使用することにより、耐熱性、耐光性に優れた硬化物を得ることができる。 When the curable resin composition of the present invention contains a curing catalyst (H), the content (blending amount) of the curing catalyst (H) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is a curable resin. It is preferably 0.0001 to 5% by weight, more preferably 0.001 to 1% by weight, based on the composition (100% by weight). By using the curing catalyst (H) within the above range, a cured product having excellent heat resistance and light resistance can be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物が硬化触媒(H)を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における硬化触媒(H)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるカチオン重合性化合物の全量100重量部に対して、0.0001〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.01〜12重量部、さらに好ましくは0.05〜10重量部、特に好ましくは0.05〜8重量部である。硬化触媒(H)を上記範囲内で使用することにより、耐熱性、耐光性に優れた硬化物を得ることができる。 When the curable resin composition of the present invention contains a curing catalyst (H), the content (blending amount) of the curing catalyst (H) in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is a curable resin. 0.0001 to 15 parts by weight, more preferably 0.01 to 12 parts by weight, still more preferably 0.05 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the cationically polymerizable compound contained in the composition. Particularly preferably, it is 0.05 to 8 parts by weight. By using the curing catalyst (H) within the above range, a cured product having excellent heat resistance and light resistance can be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物は、さらに、脂環式エポキシ化合物(A)以外のエポキシ化合物(「その他のエポキシ化合物」と称する場合がある)を含んでいてもよい。上記その他のエポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)、複素環式エポキシ化合物(複素環式エポキシ樹脂)、分子内にエポキシ基を1個以上有するシロキサン誘導体等が挙げられる。上記その他のエポキシ化合物は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。 The curable resin composition of the present invention may further contain an epoxy compound other than the alicyclic epoxy compound (A) (sometimes referred to as "other epoxy compounds"). As the other epoxy compound, a known or commonly used compound having one or more epoxy groups (oxylan rings) in the molecule can be used, and the present invention is not particularly limited, but for example, an aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin). ), An aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin), a heterocyclic epoxy compound (heterocyclic epoxy resin), a siloxane derivative having one or more epoxy groups in the molecule, and the like. The above-mentioned other epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記複素環式エポキシ化合物としては、例えば、分子内にエポキシ基を1個以上有するイソシアヌル酸誘導体等が挙げられる。本発明の硬化性樹脂組成物が上記イソシアヌル酸誘導体を含む場合、硬化物の電極に対する密着性、耐熱性、耐吸湿リフロー性が向上する傾向がある。 Examples of the heterocyclic epoxy compound include isocyanuric acid derivatives having one or more epoxy groups in the molecule. When the curable resin composition of the present invention contains the above-mentioned isocyanuric acid derivative, the adhesion, heat resistance, and moisture absorption / reflow resistance of the cured product to the electrodes tend to be improved.

[離型剤]
本発明の硬化性樹脂組成物は、さらに、離型剤を含んでいてもよい。離型剤を含むことにより、トランスファー成型、コンプレッション成形等の金型を使用した成型法による連続成型が容易となり、高い生産性で硬化物(リフレクター)を製造することが可能となる。離型剤としては、公知乃至慣用の離型剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、フッ素系離型剤(フッ素原子含有化合物;例えば、フッ素オイル、ポリテトラフルオロエチレン等)、シリコーン系離型剤(シリコーン化合物;例えば、シリコーンオイル、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、ポリオキシアルキレン単位を有するポリオルガノシロキサン等)、ワックス系離型剤(ワックス類;例えば、カルナウバワックス等の植物ロウ、羊毛ワックス等の動物ロウ、パラフィンワックス等のパラフィン類、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス等)、高級脂肪酸又はその塩(例えば、金属塩等)、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、鉱油等が挙げられる。
[Release agent]
The curable resin composition of the present invention may further contain a mold release agent. By including the release agent, continuous molding by a molding method using a mold such as transfer molding and compression molding becomes easy, and a cured product (reflector) can be manufactured with high productivity. As the release agent, a known or commonly used release agent can be used, and is not particularly limited, but for example, a fluorine-based release agent (fluorine atom-containing compound; for example, fluorine oil, polytetrafluoroethylene, etc.), Silicone-based release agents (silicone compounds; for example, silicone oils, silicone waxes, silicone resins, polyorganosiloxanes having polyoxyalkylene units, etc.), wax-based release agents (waxes; for example, vegetable waxes such as carnauba wax) , Animal wax such as wool wax, paraffins such as paraffin wax, polyethylene wax, polyethylene oxide wax, etc.), higher fatty acids or salts thereof (for example, metal salts, etc.), higher fatty acid esters, higher fatty acid amides, mineral oils, etc. ..

なお、本発明の硬化性樹脂組成物において離型剤は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、離型剤は、公知乃至慣用の方法によって製造することもできるし、市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, one type of mold release agent may be used alone, or two or more types may be used in combination. Further, the release agent can be produced by a known or conventional method, or a commercially available product can be used.

本発明の硬化性樹脂組成物が離型剤を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における離型剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、1〜12重量部が好ましく、より好ましくは2〜10重量部である。離型剤の含有量を1重量部以上とすることにより、硬化物(リフレクター)の離型性がより向上し、リフレクターの生産性がより向上する傾向がある。一方、離型剤の含有量を12重量部以下とすることにより、光半導体素子搭載用基板におけるリフレクターのリードフレームに対する良好な密着性を確保できる傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains a release agent, the content (blending amount) of the release agent in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is included in the curable resin composition. It is preferably 1 to 12 parts by weight, more preferably 2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group. By setting the content of the release agent to 1 part by weight or more, the releasability of the cured product (reflector) tends to be further improved, and the productivity of the reflector tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of the release agent to 12 parts by weight or less, there is a tendency that good adhesion of the reflector to the lead frame of the substrate for mounting the optical semiconductor element can be ensured.

[酸化防止剤]
本発明の硬化性樹脂組成物は、酸化防止剤を含んでいてもよい。酸化防止剤を含むことにより、いっそう耐熱性(特に、耐黄変性)に優れた硬化物(リフレクター)を製造することが可能となる。酸化防止剤としては、公知乃至慣用の酸化防止剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、フェノール系酸化防止剤(フェノール系化合物)、ヒンダードアミン系酸化防止剤(ヒンダードアミン系化合物)、リン系酸化防止剤(リン系化合物)、イオウ系酸化防止剤(イオウ系化合物)等が挙げられる。
[Antioxidant]
The curable resin composition of the present invention may contain an antioxidant. By including an antioxidant, it becomes possible to produce a cured product (reflector) having further excellent heat resistance (particularly, yellowing resistance). As the antioxidant, a known or commonly used antioxidant can be used, and is not particularly limited. For example, a phenol-based antioxidant (phenolic compound), a hindered amine-based antioxidant (hindered amine-based compound), or phosphorus. Examples thereof include based antioxidants (phosphorus compounds) and sulfur-based antioxidants (sulfur-based compounds).

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等のモノフェノール類;2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等のビスフェノール類;1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、1,3,5−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、トコフェノール等の高分子型フェノール類等が挙げられる。 Examples of the phenolic antioxidant include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisol, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, and stearyl-β- (3). , 5-Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionates and other monophenols; 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl- 6-t-butylphenol), 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 3,9-bis [1 , 1-Dimethyl-2- {β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, etc. Bisphenols; 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-) t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3'-bis- (4'-Hydroxy-3'-t-Butylphenyl) Butyric Acid] Glycolester, 1,3,5-Tris (3', 5'-di-t-Butyl-4'-Hydroxybenzyl) -s- Examples thereof include high molecular weight phenols such as triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione and tocophenol.

ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、メチル−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。 Examples of the hindered amine antioxidant include bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl. ] Butylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, methyl-1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate, 4-benzoyloxy- Examples thereof include 2,2,6,6-tetramethylpiperidine.

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス(2、4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、ビス[2−t−ブチル−6−メチル−4−{2−(オクタデシルオキシカルボニル)エチル}フェニル]ヒドロゲンホスファイト等のホスファイト類;9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のオキサホスファフェナントレンオキサイド類等が挙げられる。 Examples of phosphorus-based antioxidants include triphenylphosphite, diphenylisodecylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol phosphite, and tris (2,4-di-t-). Butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (octadecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2) , 4-Di-t-Butyl-4-methylphenyl) Phenyl Phenyl, Bis [2-t-Butyl-6-Methyl-4- {2- (Octadecyloxycarbonyl) Ethyl} Phenyl] Hydrogen Phenyl Phenyl, etc. Fights; 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9- Examples thereof include oxaphosphaphenylanthrene oxides such as oxa-10-phosphaphenylanthrene-10-oxide.

イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ドデカンチオール、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート等が挙げられる。 Examples of the sulfur-based antioxidant include dodecanethiol, dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate and the like. Can be mentioned.

本発明の硬化性樹脂組成物において酸化防止剤は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、酸化防止剤は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「Irganox1010」(BASF製、フェノール系酸化防止剤)、商品名「AO−60」、「AO−80」((株)ADEKA製、フェノール系酸化防止剤)、商品名「Irgafos168」(BASF製、リン系酸化防止剤)、商品名「アデカスタブHP−10」、「アデカスタブPEP−36」((株)ADEKA製、リン系酸化防止剤)、商品名「HCA」(三光(株)製、リン系酸化防止剤)等の市販品を使用することもできる。 In the curable resin composition of the present invention, one type of antioxidant may be used alone, or two or more types may be used in combination. Further, the antioxidant can be produced by a known or conventional method, and for example, the trade name "Irganox 1010" (manufactured by BASF, phenol-based antioxidant), the trade names "AO-60", "AO-80". (Made by ADEKA Co., Ltd., phenolic antioxidant), trade name "Irgafos168" (manufactured by BASF, phosphorus-based antioxidant), trade name "Adecastab HP-10", "Adecastab PEP-36" (Co., Ltd.) Commercial products such as ADEKA (made by ADEKA, phosphorus-based antioxidant) and trade name "HCA" (manufactured by Sanko Co., Ltd., phosphorus-based antioxidant) can also be used.

本発明の硬化性樹脂組成物が酸化防止剤を含有する場合、本発明の硬化性樹脂組成物における酸化防止剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.1〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.5〜3重量部である。酸化防止剤の含有量を0.1重量部以上とすることにより、硬化物(リフレクター)の酸化が効率的に防止され、耐熱性、耐黄変性がより向上する傾向がある。一方、酸化防止剤の含有量を5重量部以下とすることにより、着色が抑制され、色相がより良好なリフレクターが得られやすい傾向がある。 When the curable resin composition of the present invention contains an antioxidant, the content (blending amount) of the antioxidant in the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is included in the curable resin composition. The amount is preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group. By setting the content of the antioxidant to 0.1 parts by weight or more, oxidation of the cured product (reflector) is efficiently prevented, and heat resistance and yellowing resistance tend to be further improved. On the other hand, when the content of the antioxidant is 5 parts by weight or less, coloring is suppressed and a reflector having a better hue tends to be easily obtained.

[添加剤]
本発明の硬化性樹脂組成物は、上述の成分以外にも、本発明の効果を損なわない範囲で各種添加剤を含有していてもよい。上記添加剤として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等のヒドロキシ基を有する化合物(特に、脂肪族多価アルコール)を含有させると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や光反射性を損なわない範囲内で、消泡剤、レベリング剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランや3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤、界面活性剤、難燃剤、着色剤、イオン吸着体、紫外線吸収剤、光安定剤、蛍光増白剤、白色顔料(C)以外の顔料等の慣用の添加剤を使用することができる。これら添加剤の含有量は特に限定されず、適宜選択可能である。
[Additive]
The curable resin composition of the present invention may contain various additives in addition to the above-mentioned components as long as the effects of the present invention are not impaired. When a compound having a hydroxy group (particularly, an aliphatic polyhydric alcohol) such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and glycerin is contained as the additive, the reaction can be allowed to proceed slowly. In addition, defoaming agents, leveling agents, silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and surfactants, as long as the viscosity and light reflectivity are not impaired. , A flame retardant, a colorant, an ion adsorbent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a fluorescent whitening agent, a pigment other than the white pigment (C), and other conventional additives can be used. The content of these additives is not particularly limited and can be appropriately selected.

上記蛍光増白剤としては、公知乃至慣用の蛍光増白剤を使用することができる。本発明の硬化性樹脂組成物が蛍光増白剤を含む場合、コンプレッション成型により形成される硬化物の光反射性、耐熱性、耐光性、及び耐クラック性により優れる傾向がある。上記蛍光増白剤としては、例えば、ピラゾリン誘導体、スチルベン誘導体、トリアジン誘導体、チアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、キサントン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、チオフェン誘導体、クマリン誘導体、ナフタルイミド誘導体等が挙げられる。 As the fluorescent whitening agent, a known or commonly used fluorescent whitening agent can be used. When the curable resin composition of the present invention contains a fluorescent whitening agent, it tends to be more excellent in light reflectivity, heat resistance, light resistance, and crack resistance of the cured product formed by compression molding. Examples of the fluorescent whitening agent include pyrazoline derivatives, stillben derivatives, triazine derivatives, thiazole derivatives, benzoxazole derivatives, xanthone derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, thiophene derivatives, coumarin derivatives, naphthalimide derivatives and the like.

本発明の硬化性樹脂組成物が、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、及び硬化促進剤(G)を含有する場合、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、及び硬化促進剤(G)の混合物の25℃における粘度は、特に限定されないが、5000mPa・s以下であることが好ましい。なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、エチレングリコール等の上記脂肪族多価アルコールを含んでいてもよく、この場合、上記混合物は、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、硬化促進剤(G)、及び脂肪族多価アルコールの混合物である。一方、本発明の硬化性樹脂組成物が、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、応力緩和剤(E)、及び硬化触媒(H)を含有する場合、脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、応力緩和剤(E)、及び硬化触媒(H)の混合物の25℃における粘度は、特に限定されないが、5000mPa・s以下であることが好ましい。なお、本明細書において、上記の二種の混合物の25℃における粘度を、総称して、「樹脂粘度」と称する場合がある。 The curable resin composition of the present invention comprises an alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), white pigment (C), inorganic filler (D), stress relieving agent (E), and curing agent (F). , And, when the curing accelerator (G) is contained, a mixture of the alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), stress relieving agent (E), curing agent (F), and curing accelerator (G). The viscosity of the above at 25 ° C. is not particularly limited, but is preferably 5000 mPa · s or less. The curable resin composition of the present invention may contain the above-mentioned aliphatic polyhydric alcohol such as ethylene glycol, and in this case, the above-mentioned mixture is an alicyclic epoxy compound (A) and rubber particles (B). , A mixture of a stress relieving agent (E), a curing agent (F), a curing accelerator (G), and an aliphatic polyhydric alcohol. On the other hand, the curable resin composition of the present invention comprises an alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), a white pigment (C), an inorganic filler (D), a stress relieving agent (E), and a curing catalyst. When (H) is contained, the viscosity of the mixture of the alicyclic epoxy compound (A), the rubber particles (B), the stress relieving agent (E), and the curing catalyst (H) at 25 ° C. is not particularly limited. It is preferably 5000 mPa · s or less. In the present specification, the viscosities of the above two types of mixtures at 25 ° C. may be collectively referred to as "resin viscosity".

上記樹脂粘度は、常圧において25℃で測定した粘度である。上記樹脂粘度は、5000mPa・s以下であることが好ましく、より好ましくは4000mPa・s以下、さらに好ましくは3500mPa・s以下、特に好ましくは3000mPa・s以下である。上記樹脂粘度が5000mPa・s以下であると、樹脂粘度が5000mPa・sを超える場合よりも、硬化性樹脂組成物をコンプレッション成型により形成された形成された硬化物の耐熱性、耐光性、及び耐クラック性(特に、優れた耐熱性)がさらに優れる傾向がある。また、上記樹脂粘度が比較的低いことにより、白色顔料(C)や無機充填剤(D)等の他の成分の含有量を増やすことが可能となり、硬化物の光反射性、耐熱性、及び耐光性がよりいっそう向上する傾向がある。上記樹脂粘度の下限は、例えば100mPa・s以上である。なお、上記樹脂粘度は、例えば、デジタル粘度計(型番「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を用いて、ローター:標準1°34’×R24、温度:25℃、回転数:0.5〜10rpmの条件で測定することができる。 The resin viscosity is a viscosity measured at 25 ° C. under normal pressure. The resin viscosity is preferably 5000 mPa · s or less, more preferably 4000 mPa · s or less, still more preferably 3500 mPa · s or less, and particularly preferably 3000 mPa · s or less. When the resin viscosity is 5000 mPa · s or less, the heat resistance, light resistance, and resistance of the cured product formed by compression molding the curable resin composition are higher than those when the resin viscosity exceeds 5000 mPa · s. Crackability (particularly excellent heat resistance) tends to be even better. Further, since the resin viscosity is relatively low, the content of other components such as the white pigment (C) and the inorganic filler (D) can be increased, and the cured product has light reflectivity, heat resistance, and heat resistance. Light resistance tends to be further improved. The lower limit of the resin viscosity is, for example, 100 mPa · s or more. The resin viscosity is determined by using, for example, a digital viscometer (model number "DVU-EII type", manufactured by Tokimec Co., Ltd.), rotor: standard 1 ° 34'x R24, temperature: 25 ° C., rotation speed: 0. It can be measured under the condition of 5 to 10 rpm.

上記樹脂粘度は、例えば、用いる成分(例えば、脂環式エポキシ化合物(A)、液状の応力緩和剤(E)、硬化剤(F)、硬化促進剤(G)、硬化触媒(H)等)として、25℃で液体の成分を用いることにより得やすくなる。なお、上記成分として25℃で固体の成分を用いてもよいが、その含有量は、上記樹脂粘度が5000mPa・s以下となるように調整されることが好ましい。また、ゴム粒子(B)、固体の応力緩和剤(E)の含有量を、本発明の効果を損なわない範囲内で調整することによっても得やすくなる。 The resin viscosity is determined by, for example, the components used (for example, alicyclic epoxy compound (A), liquid stress relieving agent (E), curing agent (F), curing accelerator (G), curing catalyst (H), etc.). As a result, it becomes easier to obtain by using a liquid component at 25 ° C. A solid component at 25 ° C. may be used as the component, but the content thereof is preferably adjusted so that the resin viscosity is 5000 mPa · s or less. Further, it can be easily obtained by adjusting the contents of the rubber particles (B) and the solid stress relaxant (E) within a range that does not impair the effect of the present invention.

なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、加熱して該硬化性樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)及び硬化剤(F)の一部を反応させることによって得られる、Bステージ化させた硬化性樹脂組成物(Bステージ状態の硬化性樹脂組成物)であってもよい。 The curable resin composition of the present invention is B-staged, which is obtained by heating and reacting a part of the alicyclic epoxy compound (A) and the curing agent (F) in the curable resin composition. It may be a cured curable resin composition (a curable resin composition in a B stage state).

上述のように、本発明の硬化性樹脂組成物は硬化後の光反射性、耐熱性、及び耐光性に優れるため、特に、トランスファー成型用樹脂組成物やコンプレッション成型用樹脂組成物として好ましく使用できる。中でも、本発明の硬化性樹脂組成物は、コンプレッション成型によって形成された硬化物(リフレクター)の光反射性、耐熱性、及び耐光性に特に優れるため、コンプレッション成型用の樹脂組成物であることが特に好ましい。 As described above, since the curable resin composition of the present invention is excellent in light reflectivity, heat resistance, and light resistance after curing, it can be particularly preferably used as a resin composition for transfer molding or a resin composition for compression molding. .. Above all, the curable resin composition of the present invention is particularly excellent in light reflectivity, heat resistance, and light resistance of the cured product (reflector) formed by compression molding, and therefore, it may be a resin composition for compression molding. Especially preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を、必要に応じて加熱した状態で撹拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。上記撹拌・混合の方法は、特に限定されず、例えば、ディゾルバー、ホモジナイザー等の各種ミキサー、ニーダー、ロール、ビーズミル、自公転式撹拌装置等の公知乃至慣用の撹拌・混合手段を使用できる。また、撹拌・混合後、真空下にて脱泡してもよい。 The curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but can be prepared by stirring and mixing each of the above components in a heated state, if necessary. The curable resin composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance and is used as it is. For example, two or more separately stored compositions can be used. It can also be used as a multi-component (for example, two-component) composition in which the components are mixed at a predetermined ratio before use. The method of stirring / mixing is not particularly limited, and for example, known or conventional stirring / mixing means such as various mixers such as a dissolver and a homogenizer, a kneader, a roll, a bead mill, and a self-revolving stirring device can be used. Further, after stirring and mixing, defoaming may be performed under vacuum.

特に限定されないが、ゴム粒子(B)は、あらかじめ脂環式エポキシ化合物(A)中に分散させた組成物(当該組成物を「ゴム粒子分散エポキシ化合物」と称する場合がある)の状態で配合することが好ましい。即ち、本発明の硬化性樹脂組成物は、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物と、白色顔料(C)と、無機充填剤(D)と、応力緩和剤(E)と、硬化剤(F)及び硬化促進剤(G)、又は、硬化触媒(H)と、必要に応じてその他の成分とを混合することにより調製することが好ましい。このような調製方法により、特に、硬化性樹脂組成物におけるゴム粒子(B)の分散性を向上させることができる。ただし、ゴム粒子(B)の配合方法は、上記方法に限定されず、それ単独で配合する方法であってもよい。 Although not particularly limited, the rubber particles (B) are blended in the state of a composition previously dispersed in the alicyclic epoxy compound (A) (the composition may be referred to as a "rubber particle-dispersed epoxy compound"). It is preferable to do so. That is, the curable resin composition of the present invention comprises the rubber particle-dispersed epoxy compound, a white pigment (C), an inorganic filler (D), a stress relieving agent (E), a curing agent (F), and curing. It is preferable to prepare by mixing the accelerator (G) or the curing catalyst (H) with other components as needed. By such a preparation method, the dispersibility of the rubber particles (B) in the curable resin composition can be improved. However, the method of blending the rubber particles (B) is not limited to the above method, and may be a method of blending the rubber particles (B) alone.

(ゴム粒子分散エポキシ化合物)
上記ゴム粒子分散エポキシ化合物は、ゴム粒子(B)を脂環式エポキシ化合物(A)に分散させることによって得られる。なお、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物における脂環式エポキシ化合物(A)は、硬化性樹脂組成物を構成する脂環式エポキシ化合物(A)の全量であってもよいし、一部の量であってもよい。同様に、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物におけるゴム粒子(B)は、硬化性樹脂組成物を構成するゴム粒子(B)の全量であってもよいし、一部の量であってもよい。
(Rubber particle dispersed epoxy compound)
The rubber particle-dispersed epoxy compound is obtained by dispersing the rubber particles (B) in the alicyclic epoxy compound (A). The alicyclic epoxy compound (A) in the rubber particle-dispersed epoxy compound may be the total amount or a part of the alicyclic epoxy compound (A) constituting the curable resin composition. You may. Similarly, the rubber particles (B) in the rubber particle-dispersed epoxy compound may be the total amount or a part of the rubber particles (B) constituting the curable resin composition.

上記ゴム粒子分散エポキシ化合物の粘度は、例えば、反応性希釈剤を併用することにより調整することができる(即ち、ゴム粒子分散エポキシ化合物は、さらに反応性希釈剤を含んでいてもよい)。上記反応性希釈剤としては、例えば、常温(25℃)における粘度が200mPa・s以下の脂肪族ポリグリシジルエーテルを好ましく使用できる。粘度(25℃)が200mPa・s以下の脂肪族ポリグリシジルエーテルとしては、例えば、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。 The viscosity of the rubber particle-dispersed epoxy compound can be adjusted, for example, by using a reactive diluent in combination (that is, the rubber particle-dispersed epoxy compound may further contain a reactive diluent). As the reactive diluent, for example, an aliphatic polyglycidyl ether having a viscosity at room temperature (25 ° C.) of 200 mPa · s or less can be preferably used. Examples of the aliphatic polyglycidyl ether having a viscosity (25 ° C.) of 200 mPa · s or less include cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, cyclohexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diglycidyl ether. , Trimethylol propan triglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether and the like.

上記反応性希釈剤の使用量は、適宜調整することができ、特に限定されないが、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物全量100重量部に対して、30重量部以下が好ましく、より好ましくは25重量部以下(例えば、5〜25重量部)である。使用量が30重量部以下であると、強靭性(耐クラック性向上)等の所望の性能を得やすくなる傾向がある。 The amount of the reactive diluent used can be appropriately adjusted and is not particularly limited, but is preferably 30 parts by weight or less, more preferably 25 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total amount of the rubber particle-dispersed epoxy compound. (For example, 5 to 25 parts by weight). When the amount used is 30 parts by weight or less, it tends to be easy to obtain desired performance such as toughness (improved crack resistance).

上記ゴム粒子分散エポキシ化合物の製造方法は、特に限定されず、周知慣用の方法を使用することができる。例えば、ゴム粒子(B)を脱水乾燥して粉体とした後に、脂環式エポキシ化合物(A)に混合し、分散させる方法や、ゴム粒子(B)のエマルジョンと脂環式エポキシ化合物(A)とを直接混合し、続いて脱水する方法等が挙げられる。 The method for producing the rubber particle-dispersed epoxy compound is not particularly limited, and a well-known and commonly used method can be used. For example, a method in which rubber particles (B) are dehydrated and dried into powder and then mixed with an alicyclic epoxy compound (A) to be dispersed, or an emulsion of rubber particles (B) and an alicyclic epoxy compound (A). ) And the like, followed by dehydration.

本発明の硬化性樹脂組成物の25℃における粘度は、特に限定されないが、100〜1000000mPa・sが好ましく、より好ましくは200〜800000mPa・s、さらに好ましくは300〜800000mPa・sである。25℃における粘度を100mPa・s以上とすることにより、注型時の作業性が向上したり、硬化物の耐熱性及び耐光性がより向上する傾向がある。 The viscosity of the curable resin composition of the present invention at 25 ° C. is not particularly limited, but is preferably 100 to 1000000 mPa · s, more preferably 200 to 800,000 mPa · s, and even more preferably 300 to 800,000 mPa · s. By setting the viscosity at 25 ° C. to 100 mPa · s or more, the workability at the time of casting tends to be improved, and the heat resistance and light resistance of the cured product tend to be further improved.

<硬化物>
本発明の硬化性樹脂組成物を加熱によって硬化させることにより、光反射性に優れ、耐熱性、耐光性、及び耐クラック性に優れた硬化物を得ることができる。なお、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物、即ち本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物を「本発明の硬化物」と称する場合がある。硬化の際の加熱温度(硬化温度)は、特に限定されないが、50〜200℃が好ましく、より好ましくは80〜180℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、60〜1800秒が好ましく、より好ましくは90〜900秒である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は熱分解による黄変が発生するので好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。また、硬化処理は一段階(例えば、コンプレッション成型のみ)で行ってもよいし、例えば、多段階(例えば、コンプレッション成型後にポストキュアー(二次硬化)としてオーブン等でさらに加熱する等)で行ってもよい。ポストキュアーを行う場合、この際の加熱温度は、50〜200℃が好ましく、より好ましくは60〜180℃、より好ましくは硬化温度と同程度の温度である。また、ポストキュアーを行う時間は、0.5〜10時間が好ましく、より好ましくは1〜8時間である。
<Cured product>
By curing the curable resin composition of the present invention by heating, a cured product having excellent light reflectivity, heat resistance, light resistance, and crack resistance can be obtained. A cured product obtained by curing the curable resin composition of the present invention, that is, a cured product of the curable resin composition of the present invention may be referred to as a "cured product of the present invention". The heating temperature (curing temperature) at the time of curing is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 80 to 180 ° C. The heating time (curing time) at the time of curing is not particularly limited, but is preferably 60 to 1800 seconds, more preferably 90 to 900 seconds. If the curing temperature and curing time are lower than the lower limit of the above range, the curing is insufficient, and conversely, if it is higher than the upper limit of the above range, yellowing due to thermal decomposition occurs, which is not preferable. The curing conditions depend on various conditions, and can be appropriately adjusted, for example, by shortening the curing time when the curing temperature is high and lengthening the curing time when the curing temperature is low. Further, the curing treatment may be performed in one step (for example, compression molding only), or in multiple steps (for example, after compression molding, further heating in an oven or the like as post-cure (secondary curing)). May be good. When post-cure is performed, the heating temperature at this time is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 180 ° C, and more preferably a temperature similar to the curing temperature. The time for post-cure is preferably 0.5 to 10 hours, more preferably 1 to 8 hours.

本発明の硬化物は、高い光反射性を有し、耐熱性及び耐光性に優れる。このため、上記硬化物は劣化しにくく、経時で反射率が低下しにくい。従って、本発明の硬化性樹脂組成物は、LEDパッケージ用途(LEDパッケージの構成材、例えば、光半導体装置におけるリフレクター材、ハウジング材等)、電子部品の接着用途、液晶ディスプレイ用途(例えば、反射板など)、白色基板用インク、シーラー等として好ましく使用することができる。中でも、LEDパッケージ用の硬化性樹脂組成物(特に、光半導体装置におけるリフレクター用の硬化性樹脂組成物(即ち、リフレクター形成用の硬化性樹脂組成物))として特に好ましく使用することができる。 The cured product of the present invention has high light reflectivity and is excellent in heat resistance and light resistance. Therefore, the cured product is less likely to deteriorate, and the reflectance is less likely to decrease over time. Therefore, the curable resin composition of the present invention is used for LED packages (components of LED packages, for example, reflector materials in optical semiconductor devices, housing materials, etc.), for bonding electronic components, and for liquid crystal displays (for example, reflectors). Etc.), can be preferably used as an ink for a white substrate, a sealer, or the like. Above all, it can be particularly preferably used as a curable resin composition for an LED package (particularly, a curable resin composition for a reflector in an optical semiconductor device (that is, a curable resin composition for forming a reflector)).

本発明の硬化物の反射率(初期反射率)は、特に限定されないが、例えば、波長450nmの光の反射率が、90%以上であることが好ましく、より好ましくは91%以上、さらに好ましくは92%以上、特に好ましくは95%以上である。特に、450〜800nmの光の反射率が90%以上であることが好ましく、より好ましくは91%以上、さらに好ましくは92%以上、特に好ましくは95%以上である。 The reflectance (initial reflectance) of the cured product of the present invention is not particularly limited, but for example, the reflectance of light having a wavelength of 450 nm is preferably 90% or more, more preferably 91% or more, still more preferably. It is 92% or more, particularly preferably 95% or more. In particular, the reflectance of light at 450 to 800 nm is preferably 90% or more, more preferably 91% or more, still more preferably 92% or more, and particularly preferably 95% or more.

本発明の硬化物の、120℃で250時間加熱した後の波長450nmの光の反射率(「加熱エージング後の反射率」と称する場合がある)の、初期反射率に対する保持率([加熱エージング後の反射率]/[初期反射率]×100)は、特に限定されないが、70%以上であることが好ましく、より好ましくは75%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。特に、450〜800nmの光の場合の保持率が70%以上であることが好ましく、より好ましくは75%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。本発明の硬化性樹脂組成物によれば、コンプレッション成型により形成された硬化物は、上記のように上記保持率を90%以上とすることが可能である。 Retention rate of the reflectance of light having a wavelength of 450 nm after heating at 120 ° C. for 250 hours (sometimes referred to as “reflectance after heating aging”) of the cured product of the present invention with respect to the initial reflectance ([heating aging]. The subsequent reflectance] / [initial reflectance] × 100) is not particularly limited, but is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. Is. In particular, the retention rate in the case of light of 450 to 800 nm is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. According to the curable resin composition of the present invention, the cured product formed by compression molding can have the above-mentioned retention rate of 90% or more as described above.

本発明の硬化物の、強度10mW/cm2の紫外線を250時間照射した後の波長450nmの光に対する反射率(「紫外線エージング後の反射率」と称する場合がある)の、初期反射率に対する保持率([紫外線エージング後の反射率]/[初期反射率]×100)は、特に限定されないが、80%以上であることが好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。特に、450〜800nmの光の場合の保持率が80%以上であることが好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。 Retention of the reflectance (sometimes referred to as "reflectance after UV aging") of the cured product of the present invention to light having a wavelength of 450 nm after being irradiated with ultraviolet rays having an intensity of 10 mW / cm 2 for 250 hours with respect to the initial reflectance. The rate ([reflectance after ultraviolet aging] / [initial reflectance] × 100) is not particularly limited, but is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more. .. In particular, the retention rate in the case of light of 450 to 800 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more.

なお、上記反射率は、例えば、本発明の硬化物(厚み:3mm)を試験片とし、分光光度計(商品名「分光光度計 UV−2450」、(株)島津製作所製)を用いて測定することができる。 The reflectance is measured, for example, by using a cured product (thickness: 3 mm) of the present invention as a test piece and using a spectrophotometer (trade name "spectrophotometer UV-2450", manufactured by Shimadzu Corporation). can do.

本発明の硬化性樹脂組成物が光半導体装置におけるリフレクター用の硬化性樹脂組成物である場合、本発明の硬化性樹脂組成物は、光半導体装置における光半導体素子の基板(光半導体素子搭載用基板)が有するリフレクター(光反射部材)を形成する用途に用いられる成型材料(金型等で成型するのに使用する材料)である。従って、本発明の硬化性樹脂組成物を成型する(かつ硬化させる)ことによって、高い光反射性を有し、耐熱性及び耐光性に優れ、さらに耐クラック性に優れたリフレクターを有する高品質な(例えば、高耐久性の)光半導体素子搭載用基板を製造することができる。なお、リフレクターとは、光半導体装置において光半導体素子から発せられた光を反射させて、光の指向性及び輝度を高め、光の取り出し効率を向上させるための部材である。本発明の硬化物により形成されたリフレクターを少なくとも有する、光半導体素子搭載用に用いられる基板を、「本発明の光半導体素子搭載用基板」と称する場合がある。 When the curable resin composition of the present invention is a curable resin composition for a reflector in an optical semiconductor device, the curable resin composition of the present invention is a substrate of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device (for mounting an optical semiconductor device). It is a molding material (material used for molding with a mold or the like) used for forming a reflector (light reflecting member) of a substrate). Therefore, by molding (and curing) the curable resin composition of the present invention, it has high light reflectivity, excellent heat resistance and light resistance, and high quality having a reflector having excellent crack resistance. A substrate for mounting an optical semiconductor device (for example, with high durability) can be manufactured. The reflector is a member for reflecting light emitted from an optical semiconductor element in an optical semiconductor device to increase the directivity and brightness of the light and improve the light extraction efficiency. A substrate used for mounting an optical semiconductor device, which has at least a reflector formed of the cured product of the present invention, may be referred to as a "board for mounting an optical semiconductor device of the present invention".

<光半導体素子搭載用基板>
本発明の光半導体素子搭載用基板は、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物(本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化物)により形成されたリフレクター(白色リフレクター)を少なくとも有する基板である。図1は、本発明の光半導体素子搭載用基板の一例を示す概略図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図を示す。図1における100は白色リフレクター、101は金属配線(リードフレーム)、102は光半導体素子の搭載領域、103はパッケージ基板を示す。なお、パッケージ基板103には、金属配線101、さらに白色リフレクター100が取り付けられており、その中央(光半導体素子の搭載領域102)に光半導体素子107が置かれてダイボンディングされ、光半導体素子107とパッケージ基板103上の金属配線101の間はワイヤボンディングで接続される。パッケージ基板103の材質としては、樹脂、セラミックなどが使用されるが、白色リフレクターと同じものであってもよい。本発明の光半導体素子搭載用基板における上側の白色リフレクター100は、光半導体素子の搭載領域102の周囲を環状に取り囲み、上方に向かってその環の径が拡大するように傾斜した凹状の形状を有している。本発明の光半導体素子搭載用基板は、上記凹状の形状の内側の表面が少なくとも本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物により形成されていればよい。また、図1に示すように、金属配線101に囲まれた部分(102の下部)は、パッケージ基板103の場合もあるし、白色リフレクター100の場合もある(即ち、図1における「100/103」は、白色リフレクター100であってもよいし、パッケージ基板103であってもよいことを意味する)。但し、本発明の光半導体素子搭載用基板は、図1に示す態様には限定されない。
<Substrate for mounting optical semiconductor devices>
The substrate for mounting an optical semiconductor device of the present invention is a reflector (white reflector) formed of a cured product of the curable resin composition of the present invention (cured product obtained by curing the curable resin composition of the present invention). It is a substrate having at least. 1A and 1B are schematic views showing an example of a substrate for mounting an optical semiconductor element of the present invention, in which FIG. 1A is a perspective view and FIG. 1B is a cross-sectional view. In FIG. 1, 100 is a white reflector, 101 is a metal wiring (lead frame), 102 is a mounting area for an optical semiconductor element, and 103 is a package substrate. A metal wiring 101 and a white reflector 100 are attached to the package substrate 103, and the optical semiconductor element 107 is placed in the center (mounting area 102 of the optical semiconductor element) and die-bonded to form the optical semiconductor element 107. And the metal wiring 101 on the package substrate 103 are connected by wire bonding. As the material of the package substrate 103, resin, ceramic, or the like is used, but it may be the same as that of the white reflector. The upper white reflector 100 in the substrate for mounting an optical semiconductor device of the present invention has a concave shape that surrounds the mounting area 102 of the optical semiconductor device in an annular shape and is inclined so that the diameter of the ring expands upward. Have. In the substrate for mounting an optical semiconductor device of the present invention, the inner surface of the concave shape may be formed at least by a cured product of the curable resin composition of the present invention. Further, as shown in FIG. 1, the portion surrounded by the metal wiring 101 (lower part of 102) may be the package substrate 103 or the white reflector 100 (that is, “100/103” in FIG. "Can be the white reflector 100 or the package substrate 103). However, the substrate for mounting an optical semiconductor device of the present invention is not limited to the mode shown in FIG.

本発明の光半導体素子搭載用基板における白色リフレクターを形成する方法としては、公知乃至慣用の成型方法(例えば、コンプレッション成型等)を使用することができ、特に限定されないが、例えば、本発明の硬化性樹脂組成物を、トランスファー成型、コンプレッション成型、インジェクション成型、LIM成型(インジェクション成型)、ディスペンスによるダム成型等の各種成型方法に付す方法等が挙げられる。リフレクターを形成する際の硬化の条件としては、例えば、上述の硬化物を形成する際の条件等から適宜選択することができる。本発明においては、中でも、急激な硬化反応による発泡を防ぎ、硬化による応力ひずみを緩和して靭性(耐クラック性)を向上させることができる点で、多段階に分けて加熱処理を施し、段階的に硬化させることが好ましい。 As a method for forming the white reflector on the substrate for mounting the optical semiconductor element of the present invention, a known or conventional molding method (for example, compression molding or the like) can be used, and the curing is not particularly limited, but for example, the curing of the present invention. Examples thereof include a method of attaching the sex resin composition to various molding methods such as transfer molding, compression molding, injection molding, LIM molding (injection molding), and dam molding by dispense. The curing conditions for forming the reflector can be appropriately selected from, for example, the conditions for forming the cured product described above. In the present invention, in particular, heat treatment is performed in multiple stages in that foaming due to a rapid curing reaction can be prevented, stress strain due to curing can be relaxed, and toughness (crack resistance) can be improved. It is preferable to cure the material.

本発明の光半導体素子搭載用基板を光半導体装置における基板として使用し、該基板に対して光半導体素子を搭載することによって、本発明の光半導体装置が得られる。 The optical semiconductor device of the present invention can be obtained by using the optical semiconductor device mounting substrate of the present invention as a substrate in an optical semiconductor device and mounting the optical semiconductor element on the substrate.

<光半導体装置>
本発明の光半導体装置は、光源としての光半導体素子と、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物からなるリフレクター(反射材)とを少なくとも備える光半導体装置である。より具体的には、本発明の光半導体装置は、本発明の光半導体素子搭載用基板と、該基板に搭載された光半導体素子とを少なくとも有する光半導体装置である。本発明の光半導体装置は、リフレクターとして本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物により形成されたリフレクターを有するため、経時で光の輝度が低下しにくく、信頼性が高い。図2は、本発明の光半導体装置の一例を示す概略図(断面図)である。図2における100は白色リフレクター、101は金属配線(リードフレーム)、103はパッケージ基板、104はボンディングワイヤ、105は封止材、106はダイボンディング、107は光半導体素子(LED素子)を示す。図2に示す光半導体装置においては、光半導体素子107から発せられた光が白色リフレクター100の表面(反射面)で反射するため、高い効率で光半導体素子107からの光が取り出される。なお、図2に示すように、本発明の光半導体装置における光半導体素子は、通常、透明な封止材(図2における105)によって封止されている。
<Optical semiconductor device>
The optical semiconductor device of the present invention is an optical semiconductor device including at least an optical semiconductor device as a light source and a reflector (reflecting material) made of a cured product of the curable resin composition of the present invention. More specifically, the optical semiconductor device of the present invention is an optical semiconductor device having at least the substrate for mounting the optical semiconductor element of the present invention and the optical semiconductor element mounted on the substrate. Since the optical semiconductor device of the present invention has a reflector formed of a cured product of the curable resin composition of the present invention as a reflector, the brightness of light does not easily decrease over time and is highly reliable. FIG. 2 is a schematic view (cross-sectional view) showing an example of the optical semiconductor device of the present invention. In FIG. 2, 100 is a white reflector, 101 is a metal wiring (lead frame), 103 is a package substrate, 104 is a bonding wire, 105 is a sealing material, 106 is die bonding, and 107 is an optical semiconductor element (LED element). In the optical semiconductor device shown in FIG. 2, since the light emitted from the optical semiconductor element 107 is reflected by the surface (reflecting surface) of the white reflector 100, the light from the optical semiconductor element 107 is extracted with high efficiency. As shown in FIG. 2, the optical semiconductor element in the optical semiconductor device of the present invention is usually sealed with a transparent sealing material (105 in FIG. 2).

図3、4は、本発明の光半導体装置の他の一例を示す図である。図3、4における108は、ヒートシンク(ケースヒートシンク)を示し、このようなヒートシンク108を有することにより、光半導体装置における放熱効率が向上する。図3は、ヒートシンクの放熱経路が光半導体素子の直下に位置する例であり、図4は、ヒートシンクの放熱経路が光半導体装置の横方向に位置する例である[(a)は上面図、(b)は(a)におけるA−A’断面図を示す]。図4における光半導体装置の側面に突出したヒートシンク108は、放熱フィンと称される場合がある。また、図4における109は、カソードマークを示す。但し、本発明の光半導体装置は、図2〜4に示される態様に限定されない。 3 and 4 are diagrams showing another example of the optical semiconductor device of the present invention. Reference numerals 108 in FIGS. 3 and 4 indicate a heat sink (case heat sink), and by having such a heat sink 108, the heat dissipation efficiency in the optical semiconductor device is improved. FIG. 3 shows an example in which the heat dissipation path of the heat sink is located directly under the optical semiconductor element, and FIG. 4 shows an example in which the heat dissipation path of the heat sink is located in the lateral direction of the optical semiconductor device [(a) is a top view, (B) shows a cross-sectional view of AA'in (a)]. The heat sink 108 projecting from the side surface of the optical semiconductor device in FIG. 4 may be referred to as a heat radiation fin. Further, 109 in FIG. 4 indicates a cathode mark. However, the optical semiconductor device of the present invention is not limited to the aspects shown in FIGS. 2 to 4.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、表1〜3における硬化性樹脂組成物の各成分の配合量の単位は、重量部である。また、表1〜3における「−」は、当該成分の配合を行わなかったことを意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The unit of the blending amount of each component of the curable resin composition in Tables 1 to 3 is a part by weight. Further, "-" in Tables 1 to 3 means that the component was not blended.

製造例1
(ゴム粒子の製造)
還流冷却器付きの1L重合容器に、イオン交換水500g、及びジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.68gを仕込み、窒素気流下に撹拌しながら、80℃に昇温した。ここに、ゴム粒子のコア部分を形成するために必要とする量の約5重量%分に該当するアクリル酸ブチル9.5g、スチレン2.57g、及びジビニルベンゼン0.39gからなる単量体混合物を一括添加し、20分間撹拌して乳化させた後、ペルオキソ二硫酸カリウム9.5mgを添加し、1時間撹拌して最初のシード重合を行った。続いて、ペルオキソ二硫酸カリウム180.5mgを添加し、5分間撹拌した。ここに、コア部分を形成するために必要とする量の残り(約95重量%分)のアクリル酸ブチル180.5g、スチレン48.89g、及びジビニルベンゼン7.33gにジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.95gを溶解させてなる単量体混合物を2時間かけて連続的に添加し、2度目のシード重合を行い、その後、1時間熟成してコア部分を得た。
次いで、ペルオキソ二硫酸カリウム60mgを添加して5分間撹拌し、ここに、メタクリル酸メチル60g、アクリル酸1.5g、及びアリルメタクリレート0.3gにジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.3gを溶解させてなる単量体混合物を30分かけて連続的に添加し、シード重合を行った。その後、1時間熟成し、コア部分を被覆するシェル層を形成した。
次いで、室温(25℃)まで冷却し、目開き120μmのプラスチック製網で濾過することにより、コアシェル構造を有するゴム粒子を含むラテックスを得た。得られたラテックスをマイナス30℃で凍結し、吸引濾過器で脱水洗浄した後、60℃で一昼夜送風乾燥してゴム粒子を得た。得られたゴム粒子の平均粒子径は108nm、最大粒子径は289nmであった。
Manufacturing example 1
(Manufacturing of rubber particles)
500 g of ion-exchanged water and 0.68 g of sodium dioctyl sulfosuccinate were charged in a 1 L polymerization vessel equipped with a reflux condenser, and the temperature was raised to 80 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Here, a monomer mixture consisting of 9.5 g of butyl acrylate, 2.57 g of styrene, and 0.39 g of divinylbenzene, which corresponds to about 5% by weight of the amount required to form the core portion of the rubber particles. Was added all at once and stirred for 20 minutes for emulsification, then 9.5 mg of potassium persulfate was added and stirred for 1 hour for the first seed polymerization. Subsequently, 180.5 mg of potassium persulfate was added, and the mixture was stirred for 5 minutes. Here, the remaining amount (about 95% by weight) required to form the core portion is 180.5 g of butyl acrylate, 48.89 g of styrene, and 7.33 g of divinylbenzene, and 0.95 g of sodium dioctyl sulfosuccinate. The monomer mixture obtained by dissolving the above was continuously added over 2 hours, seed polymerization was carried out for the second time, and then aged for 1 hour to obtain a core portion.
Next, 60 mg of potassium persulfate was added and stirred for 5 minutes, in which 0.3 g of sodium dioctyl sulfosuccinate was dissolved in 60 g of methyl methacrylate, 1.5 g of acrylic acid, and 0.3 g of allyl methacrylate. The monomer mixture was continuously added over 30 minutes for seed polymerization. Then, it was aged for 1 hour to form a shell layer covering the core portion.
Then, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.) and filtered through a plastic net having a mesh size of 120 μm to obtain a latex containing rubber particles having a core-shell structure. The obtained latex was frozen at −30 ° C., dehydrated and washed with a suction filter, and then air-dried at 60 ° C. for 24 hours to obtain rubber particles. The average particle size of the obtained rubber particles was 108 nm, and the maximum particle size was 289 nm.

なお、ゴム粒子の平均粒子径、最大粒子径は、動的光散乱法を測定原理とした「NanotracTM」形式のナノトラック粒度分布測定装置(商品名「UPA−EX150」、日機装(株)製)を使用して試料を測定し、得られた粒度分布曲線において、累積カーブが50%となる時点の粒子径である累積平均径を平均粒子径、粒度分布測定結果の頻度(%)が0.00%を超えた時点の最大の粒子径を最大粒子径とした。なお、上記試料としては、下記製造例2で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物1重量部をテトラヒドロフラン20重量部に分散させたものを用いた。 The average particle size and maximum particle size of rubber particles are determined by the "Nanotrac TM " type nanotrack particle size distribution measuring device (trade name "UPA-EX150", manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) based on the dynamic light scattering method. ) Is measured, and in the obtained particle size distribution curve, the cumulative average particle size, which is the particle size at the time when the cumulative curve becomes 50%, is the average particle size, and the frequency (%) of the particle size distribution measurement result is 0. The maximum particle size at the time when it exceeded 0.00% was defined as the maximum particle size. As the sample, 1 part by weight of the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2 below was dispersed in 20 parts by weight of tetrahydrofuran.

製造例2
(ゴム粒子分散エポキシ化合物の製造)
製造例1で得られたゴム粒子5重量部を、窒素気流下、60℃に加温した状態でディゾルバーを使用して、商品名「セロキサイド2021P」(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、(株)ダイセル製)100重量部に分散させ(1000rpm、60分間)、真空脱泡して、ゴム粒子分散エポキシ化合物(25℃での粘度:1036mPa・s)を得た。
なお、製造例2で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物(5重量部のゴム粒子を100重量部のセロキサイド2021Pに分散させたもの)の25℃での粘度は、デジタル粘度計(商品名「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を使用して測定した。
Manufacturing example 2
(Manufacture of rubber particle dispersed epoxy compound)
Using a dissolver in a state where 5 parts by weight of the rubber particles obtained in Production Example 1 were heated to 60 ° C. under a nitrogen stream, the trade name was "Selokiside 2021P" (3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4). -Epoxy) Cyclohexanecarboxylate, manufactured by Daicel Co., Ltd.) Dispersed in 100 parts by weight (1000 rpm, 60 minutes) and vacuum defoamed to obtain a rubber particle-dispersed epoxy compound (viscosity at 25 ° C.: 1036 mPa · s). rice field.
The viscosity of the rubber particle-dispersed epoxy compound (5 parts by weight of rubber particles dispersed in 100 parts by weight of seroxide 2021P) obtained in Production Example 2 at 25 ° C. is determined by a digital viscometer (trade name "DVU"). -EII type ", manufactured by Tokimec Co., Ltd.) was used for measurement.

製造例3
表1に示す配合処方(単位:重量部)で、商品名「リカシッドMH−700」(新日本理化(株)製)、商品名「U−CAT 18X」(サンアプロ(株)製)、及びエチレングリコール(和光純薬工業(株)製)を、自公転式撹拌装置(商品名「あわとり練太郎 AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して硬化剤組成物(「K剤」と称する場合がある)を得た。
Manufacturing example 3
With the formulation (unit: parts by weight) shown in Table 1, the product name "Ricacid MH-700" (manufactured by Shin Nihon Rika Co., Ltd.), the product name "U-CAT 18X" (manufactured by Sun Appro Co., Ltd.), and ethylene Glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is uniformly mixed using a self-revolving stirrer (trade name "Awatori Rentaro AR-250", manufactured by Shinky Co., Ltd.) and defoamed. A curing agent composition (sometimes referred to as "K agent") was obtained.

実施例1
まず、表1に示す配合処方(単位:重量部)に従って、製造例2で得たゴム粒子分散エポキシ化合物、シリコーンゴム粒子(商品名「KMP−600」(信越化学工業(株)製)、酸化チタン(商品名「DCF−T−17050」、レジノカラー工業(株)製)、及びシリカ(商品名「FB−970FD」、デンカ(株)製)を、ディゾルバーを使用して均一に混合し、ロールミルによって所定条件下(ロールピッチ:0.2mm、回転数:25ヘルツ、3パス)で溶融混練して混練物を得た。
次に、表1に示す配合処方(単位:重量部)となるように、上記で得た混練物と、製造例3で得た硬化剤組成物とを自公転式撹拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し(2000rpm、5分間)、脱泡して、硬化性樹脂組成物(硬化性エポキシ樹脂組成物)を得た。
上記硬化性樹脂組成物をポリエステルからなる離型フィルムで挟み込み、150℃のコンプレッション成型用の金型内に置き、3.0MPaの圧力で600秒間加熱及び加圧して硬化させ、その後、ポストキュアー(150℃で5時間)を行うことによって、硬化物を得た。
Example 1
First, according to the formulation (unit: parts by weight) shown in Table 1, the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2, silicone rubber particles (trade name "KMP-600" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), oxidation) Titanium (trade name "DCF-T-17050", manufactured by Regino Color Industry Co., Ltd.) and silica (trade name "FB-970FD", manufactured by Denka Co., Ltd.) are uniformly mixed using a dissolver and rolled mill. A kneaded product was obtained by melt-kneading under predetermined conditions (roll pitch: 0.2 mm, rotation speed: 25 hertz, 3 passes).
Next, the kneaded product obtained above and the curing agent composition obtained in Production Example 3 were combined with a self-revolving stirrer (trade name “Awa”) so as to have the compounding formulation (unit: parts by weight) shown in Table 1. Tori Rentaro AR-250 ”, manufactured by Shinky Co., Ltd.) was uniformly mixed (2000 rpm, 5 minutes) and defoamed to obtain a curable resin composition (curable epoxy resin composition). ..
The curable resin composition is sandwiched between a release film made of polyester, placed in a mold for compression molding at 150 ° C., heated and pressurized at a pressure of 3.0 MPa for 600 seconds to cure, and then post-cured (post-cure). A cured product was obtained by carrying out (at 150 ° C. for 5 hours).

実施例2〜9、比較例1〜8
硬化性樹脂組成物の組成を表1、2に示す組成に変更したこと以外は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物及び硬化物を調製した。なお、一部の実施例及び比較例においては、硬化性樹脂組成物の構成成分として、製造例2で得たゴム粒子分散エポキシ化合物に代えて又は合わせて、表1、2に示すエポキシ化合物を使用した。
Examples 2-9, Comparative Examples 1-8
A curable resin composition and a cured product were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the curable resin composition was changed to the composition shown in Tables 1 and 2. In some Examples and Comparative Examples, the epoxy compounds shown in Tables 1 and 2 were used as constituents of the curable resin composition in place of or in combination with the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2. used.

実施例10
表3に示す配合処方(単位:重量部)に従って、製造例2で得たゴム粒子分散エポキシ化合物、シリコーンゴム粒子(商品名「KMP−600」(信越化学工業(株)製)、酸化チタン(商品名「DCF−T−17050」、レジノカラー工業(株)製)、及びシリカ(商品名「FB−970FD」、デンカ(株)製)を、ディゾルバーを使用して均一に混合し、ロールミルによって所定条件下(ロールピッチ:0.2mm、回転数:25ヘルツ、3パス)で溶融混練して混練物を得た。
次に、表3に示す配合処方(単位:重量部)となるように、上記で得た混練物と、硬化触媒(商品名「サンエイド SI−100L」、三新化学工業(株)製)とを自公転式撹拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し(2000rpm、5分間)、脱泡して、硬化性樹脂組成物(硬化性エポキシ樹脂組成物)を得た。
上記硬化性樹脂組成物をポリエステルからなる離型フィルムで挟み込み、150℃のコンプレッション成型用の金型内に置き、3.0MPaの圧力で600秒間加熱及び加圧して硬化させ、その後、ポストキュアー(150℃で5時間)を行うことによって、硬化物を得た。
Example 10
The rubber particle-dispersed epoxy compound, silicone rubber particles (trade name "KMP-600" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and titanium oxide (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) obtained in Production Example 2 according to the formulation (unit: parts by weight) shown in Table 3 Product name "DCF-T-17050", manufactured by Regino Color Industry Co., Ltd., and silica (trade name "FB-970FD", manufactured by Denka Co., Ltd.) are uniformly mixed using a dissolver and determined by a roll mill. Under the conditions (roll pitch: 0.2 mm, rotation speed: 25 hertz, 3 passes), melt-kneading was performed to obtain a kneaded product.
Next, the kneaded product obtained above and the curing catalyst (trade name "Sun Aid SI-100L", manufactured by Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd.) were combined with the compounding formulation (unit: parts by weight) shown in Table 3. Is uniformly mixed (2000 rpm, 5 minutes) using a self-revolving stirrer (trade name "Awatori Rentaro AR-250", manufactured by Shinky Co., Ltd.), defoamed, and a curable resin composition. (Curable epoxy resin composition) was obtained.
The curable resin composition is sandwiched between a release film made of polyester, placed in a mold for compression molding at 150 ° C., heated and pressurized at a pressure of 3.0 MPa for 600 seconds to cure, and then post-cured (post-cure). A cured product was obtained by carrying out (at 150 ° C. for 5 hours).

実施例11、12、比較例9〜13
硬化性樹脂組成物の組成を表3に示す組成に変更したこと以外は実施例10と同様にして、硬化性樹脂組成物及び硬化物を調製した。なお、一部の実施例及び比較例においては、硬化性樹脂組成物の構成成分として、製造例2で得たゴム粒子分散エポキシ化合物に代えて又は合わせて、表3に示すエポキシ化合物を使用した。
Examples 11 and 12, Comparative Examples 9 to 13
A curable resin composition and a cured product were prepared in the same manner as in Example 10 except that the composition of the curable resin composition was changed to the composition shown in Table 3. In some examples and comparative examples, the epoxy compound shown in Table 3 was used as a constituent component of the curable resin composition in place of or in combination with the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2. ..

なお、実施例1〜12、比較例1〜9で得られた硬化性樹脂組成物は、25℃において液状であった。一方、比較例10〜13で得られた硬化性樹脂組成物は、25℃において固体であった。 The curable resin compositions obtained in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 9 were liquid at 25 ° C. On the other hand, the curable resin compositions obtained in Comparative Examples 10 to 13 were solid at 25 ° C.

<評価>
実施例及び比較例で得られた硬化物について、下記の評価を実施した。
<Evaluation>
The following evaluations were carried out on the cured products obtained in Examples and Comparative Examples.

[初期反射率]
実施例及び比較例で得られた硬化物を切削加工して、長さ30mm×幅30mm×厚み3mmの試験片を作製した。次いで、分光光度計(商品名「分光光度計 UV−2450」、(株)島津製作所製)を用いて、波長450nmの光に対する各試験片の反射率(「初期反射率」とする)を測定した。結果を表1〜3に示す。
なお、初期反射率が95%以上であれば、光反射用材料として特に優れていると言える。
[Initial reflectance]
The cured products obtained in Examples and Comparative Examples were cut to prepare test pieces having a length of 30 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 3 mm. Next, using a spectrophotometer (trade name "Spectrophotometer UV-2450", manufactured by Shimadzu Corporation), the reflectance (referred to as "initial reflectance") of each test piece to light having a wavelength of 450 nm is measured. bottom. The results are shown in Tables 1-3.
If the initial reflectance is 95% or more, it can be said that it is particularly excellent as a material for light reflection.

[加熱エージング前後の反射率保持率]
初期反射率の評価を行った試験片(硬化物;長さ30mm×幅30mm×3mm厚)を用いて、当該試験片を120℃の乾燥機に入れて250時間放置する試験(耐熱試験)を行った後、波長450nmの光の反射率を初期反射率と同様に測定した。そして、下記式により、反射率保持率(加熱エージング前後)を算出した。結果を表1〜3に示す。
[反射率保持率(加熱エージング前後)]=([加熱エージング後の反射率]/[初期反射率])×100
この反射率保持率が高いほど、硬化物が耐熱性に優れることが示唆される。なお、120℃、250時間加熱後の反射率保持率が90%以上であれば、光反射用材料として耐熱性に特に優れていると言える。
[Reflectance retention before and after heating aging]
Using a test piece (cured product; length 30 mm x width 30 mm x 3 mm thickness) for which the initial reflectance was evaluated, the test piece was placed in a dryer at 120 ° C. and left for 250 hours (heat resistance test). After that, the reflectance of light having a wavelength of 450 nm was measured in the same manner as the initial reflectance. Then, the reflectance retention rate (before and after heating aging) was calculated by the following formula. The results are shown in Tables 1-3.
[Reflectance retention rate (before and after heating aging)] = ([Reflectance after heating aging] / [Initial reflectance]) x 100
It is suggested that the higher the reflectance retention rate, the better the heat resistance of the cured product. If the reflectance retention after heating at 120 ° C. for 250 hours is 90% or more, it can be said that the material is particularly excellent in heat resistance as a material for light reflection.

[紫外線エージング前後の反射率保持率]
初期反射率の評価を行った試験片(硬化物;長さ30mm×幅30mm×3mm厚)を用いて、当該試験片に対し、強度10mW/cm2の紫外線を250時間照射する試験(耐光試験)を行った後、波長450nmの光の反射率を初期反射率と同様に測定した。そして、下記式により、反射率保持率(紫外線エージング前後)を算出した。結果を表1〜3に示す。
[反射率保持率(紫外線エージング前後)]=([紫外線エージング後の反射率]/[初期反射率])×100
この反射率保持率が高いほど、硬化物が耐光性に優れることが示唆される。なお、強度10mW/cm2、250時間照射後の反射率保持率が90%以上であれば、光反射用材料として耐光性に特に優れていると言える。
[Reflectance retention before and after UV aging]
Using a test piece (cured product; length 30 mm x width 30 mm x 3 mm thickness) for which the initial reflectance was evaluated, the test piece is irradiated with ultraviolet rays having an intensity of 10 mW / cm 2 for 250 hours (light resistance test). ), Then the reflectance of light having a wavelength of 450 nm was measured in the same manner as the initial reflectance. Then, the reflectance retention rate (before and after ultraviolet aging) was calculated by the following formula. The results are shown in Tables 1-3.
[Reflectance retention rate (before and after UV aging)] = ([Reflectance after UV aging] / [Initial reflectance]) x 100
It is suggested that the higher the reflectance retention rate, the better the light resistance of the cured product. If the intensity is 10 mW / cm 2 and the reflectance retention after 250 hours of irradiation is 90% or more, it can be said that the light resistance is particularly excellent as a material for light reflection.

[切削加工時のクラック有無評価(強靭性評価)]
実施例及び比較例で得られた硬化物を切削加工して、幅5mm×長さ5mm×厚さ3mmの試験片を作製した。上記硬化物の切削加工には、マイクロ・カッティング・マシン(商品名「BS−300CL」、メイワフォーシス(株)製)を使用し、切削加工の際に硬化物にクラックが生じたか否かを、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX−900」、(株)キーエンス製)を用いて観察し、確認した。表1〜3には、1サンプルにつき10個の試験片を作製し、そのうちクラックの発生が確認された試験片の個数[個/10個]を評価結果として示す。
[Evaluation of cracks during cutting (evaluation of toughness)]
The cured products obtained in Examples and Comparative Examples were cut to prepare test pieces having a width of 5 mm, a length of 5 mm, and a thickness of 3 mm. A micro-cutting machine (trade name "BS-300CL", manufactured by Meiwaforsis Co., Ltd.) was used to cut the cured product, and whether or not the cured product cracked during the cutting process was checked. It was observed and confirmed using a digital microscope (trade name "VHX-900", manufactured by KEYENCE CORPORATION). Tables 1 to 3 prepare 10 test pieces per sample, and show the number of test pieces [pieces / 10 pieces] in which cracks were confirmed to occur as evaluation results.

[リフロー時のクラック有無評価(強靭性評価)]
上記切削加工により得られた試験片(幅5mm×長さ5mm×厚さ3mm)に対し、リフロー炉(商品名「UNI−5016F」、日本アントム(株)製)を用いて、260℃を最高温度として5秒間、全リフロー時間を90秒としてリフロー処理を施した。その後、当該リフロー処理により試験片にクラックが生じたか否かを、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX−900」、(株)キーエンス製)を用いて観察し、確認した。表1〜3には、1サンプルにつき10個の試験片のリフロー処理を行い、そのうちクラックの発生が確認された試験片の個数[個/10個]を評価結果として示す。
なお、切削加工時でクラック発生が認められたものは、リフロー時のクラック発生の有無は評価しなかった。
[Evaluation of cracks during reflow (evaluation of toughness)]
A reflow furnace (trade name "UNI-5016F", manufactured by Nippon Antom Co., Ltd.) was used for the test piece (width 5 mm x length 5 mm x thickness 3 mm) obtained by the above cutting process, and the maximum temperature was 260 ° C. The reflow treatment was performed with the temperature set to 5 seconds and the total reflow time set to 90 seconds. Then, whether or not the test piece was cracked by the reflow treatment was observed and confirmed using a digital microscope (trade name "VHX-900", manufactured by KEYENCE CORPORATION). Tables 1 to 3 show the number of test pieces [pieces / 10 pieces] in which cracks were confirmed to occur after 10 test pieces were reflowed per sample as evaluation results.
For those in which cracks were found during cutting, the presence or absence of cracks during reflow was not evaluated.

[総合判定]
各試験の結果、下記(1)〜(5)をいずれも満たすものを○(良好)と判定した。一方、下記(1)〜(5)のいずれかを満たさない場合には×(不良)と判定した。
(1)初期反射率:光反射率が95%以上
(2)加熱エージング前後の反射率保持率:反射率保持率が90%以上
(3)紫外線エージング前後の反射率保持率:反射率保持率が90%以上
(4)切削加工時のクラック有無評価:クラックが発生した個数が0個
(5)リフロー時のクラック有無評価:クラックが発生した個数が0個
結果を表1〜3の「総合判定」の欄に示す。
[Comprehensive judgment]
As a result of each test, those satisfying all of the following (1) to (5) were judged to be ◯ (good). On the other hand, when any of the following (1) to (5) is not satisfied, it is determined as x (defective).
(1) Initial reflectance: light reflectance of 95% or more (2) reflectance retention before and after heating aging: reflectance retention of 90% or more (3) reflectance retention before and after ultraviolet aging: reflectance retention 90% or more (4) Evaluation of cracks during cutting: 0 cracks (5) Evaluation of cracks during reflow: 0 cracks The results are shown in Tables 1 to 3 "Comprehensive". Shown in the "Judgment" column.

Figure 0006929069
Figure 0006929069

Figure 0006929069
Figure 0006929069

Figure 0006929069
Figure 0006929069

なお、表1〜3に示す成分について、以下に説明する。
(エポキシ化合物)
セロキサイド2021P:商品名「セロキサイド2021P」(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシ基の当量131、(株)ダイセル製
YD−128:商品名「YD−128」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、エポキシ基の当量170、新日鐵化学(株)製
EHPE3150:商品名「EHPE3150」(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物)、(株)ダイセル製
(硬化剤組成物)
MH−700:商品名「リカシッドMH−700」(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸)、新日本理化(株)製
18X:商品名「U−CAT 18X」(硬化促進剤)、サンアプロ(株)製
エチレングリコール:和光純薬工業(株)製
(硬化触媒)
サンエイドSI−100L:商品名「サンエイドSI−100L」(硬化触媒)、三新化学工業(株)製
(応力緩和剤)
KMP−600:商品名「KMP−600」[シリコーンレジンを表面に備える架橋されたポリジメチルシロキサン]、信越化学工業(株)製
KMP−602:商品名「KMP−602」[シリコーンレジンを表面に備える架橋されたポリジメチルシロキサン]、信越化学工業(株)製
SF8421:商品名「SF8421」[式(1)で表されるポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物]、東レ・ダウコーニング(株)製
Y−19268:商品名「Y−19268」[式(1)で表されるポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物]、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン(同)製
(白色顔料)
DCF−T−17050:商品名「DCF−T−17050」(酸化チタン、平均粒子径0.3μm、最大粒子径1μm以下)、レジノカラー工業(株)製
(無機充填剤)
FB−970FD:商品名「FB−970FD」(シリカ、表面処理なし、平均粒子径16.7μm、最大粒子径70μm)、デンカ(株)製
DAW−1025:商品名「DAW−1025」(アルミナ、平均粒子径7.9μm、最大粒子径32μm)、デンカ(株)製
HF−05:商品名「HF−05」(窒化アルミニウム、平均粒子径5μm、最大粒子径5μm)、(株)トクヤマ製
The components shown in Tables 1 to 3 will be described below.
(Epoxy compound)
Celoxide 2021P: Trade name "Ceroxide 2021P" (3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate), Epoxy group equivalent 131, Daicel Co., Ltd. YD-128: Trade name "YD-128" (Bisphenol A type epoxy resin), epoxy group equivalent 170, EHPE3150 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd .: Trade name "EHPE3150" (2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol 1,2-epoxy -4- (2-oxylanyl) cyclohexane adduct), manufactured by Daicel Co., Ltd. (hardener composition)
MH-700: Brand name "Ricacid MH-700" (4-methylhexahydrophthalic anhydride / Hexahydrophthalic anhydride), manufactured by Shin Nihon Rika Co., Ltd. 18X: Product name "U-CAT 18X" (curing accelerator) , San Appro Co., Ltd. Ethylene glycol: Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (curing catalyst)
Sun Aid SI-100L: Brand name "Sun Aid SI-100L" (curing catalyst), manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd. (stress relaxation agent)
KMP-600: Trade name "KMP-600" [crosslinked polydimethylsiloxane with silicone resin on the surface], KMP-602 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: Trade name "KMP-602" [silicone resin on the surface Crosslinked polydimethylsiloxane], SF8421 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: trade name "SF8421" [polyalkylene ether-modified silicone compound represented by the formula (1)], Y- manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. 19268: Trade name "Y-19268" [polyalkylene ether-modified silicone compound represented by formula (1)], manufactured by Momentive Performance Materials Japan (same as above) (white pigment)
DCF-T-17050: Trade name "DCF-T-17050" (titanium oxide, average particle size 0.3 μm, maximum particle size 1 μm or less), manufactured by Regino Color Industry Co., Ltd. (inorganic filler)
FB-970FD: Product name "FB-970FD" (silica, no surface treatment, average particle size 16.7 μm, maximum particle size 70 μm), DAW-1025 manufactured by Denka Co., Ltd .: Product name “DAW-1025” (alumina, Average particle size 7.9 μm, maximum particle size 32 μm), HF-05 manufactured by Denka Co., Ltd .: Trade name “HF-05” (aluminum nitride, average particle size 5 μm, maximum particle size 5 μm), manufactured by Tokuyama Co., Ltd.

100:白色リフレクター
101:金属配線(電極)
102:光半導体素子の搭載領域
103:パッケージ基板
104:ボンディングワイヤ
105:光半導体素子の封止材
106:ダイボンディング
107:光半導体素子
108:ヒートシンク
109:カソードマーク
100: White reflector 101: Metal wiring (electrode)
102: Mounting area of optical semiconductor element 103: Package substrate 104: Bonding wire 105: Encapsulant for optical semiconductor element 106: Die bonding 107: Optical semiconductor element 108: Heat sink 109: Cathode mark

Claims (8)

脂環式エポキシ化合物(A)、ゴム粒子(B)、白色顔料(C)、無機充填剤(D)、及び応力緩和剤(E)を含有し、さらに、硬化剤(F)及び硬化促進剤(G)、又は、硬化触媒(H)を含有し、25℃において液状であることを特徴とする光反射用硬化性樹脂組成物であって、
前記ゴム粒子(B)が、(メタ)アクリル酸エステルをモノマー成分とするポリマーで構成され、表面にヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基を有し、ゴム粒子(B)の平均粒子径が10〜500nmであり、最大粒子径が50〜1000nmであり、
前記応力緩和剤(E)が、シリコーンゴム粒子(E1)及びシリコーンオイル(E2)からなる群より選択される少なくとも1種であり、
前記シリコーンゴム粒子(E1)が、シリコーンレジンを表面に備える架橋されたポリジメチルシロキサンであり、
前記シリコーンオイル(E2)が、エポキシ当量3000〜15000の下記式(1)で表される構造を有するポリアルキレンエーテル変性シリコーン化合物であり、
Figure 0006929069
[式中、xは80〜140の整数、yは1〜5の整数、zは5〜20の整数である。R 4 は炭素数2又は3のアルキレン基である。Aは、下記式(1a)で表される構造を有するポリアルキレンエーテル基である。
Figure 0006929069
(式中、a及びbはそれぞれ独立して、0〜40の整数である。Bは水素原子またはメチル基である。)]
前記ゴム粒子(B)の含有量が、前記光反射用硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.05〜20重量%であり、
前記応力緩和剤(E)の含有量が、前記光反射用硬化性樹脂組成物(100重量%)に対して、0.1〜20重量%である、光反射用硬化性樹脂組成物
Alicyclic epoxy compound (A), rubber particles (B), a white pigment (C), contain an inorganic filler (D), and the stress relaxation agent (E), further, the curing agent (F) and the curing accelerator agent (G), or contain a curing catalyst (H), a light reflecting curable resin composition which is a liquid at 25 ° C.,
The rubber particles (B) are composed of a polymer containing (meth) acrylic acid ester as a monomer component, have a hydroxy group and / or a carboxy group on the surface, and the average particle size of the rubber particles (B) is 10 to 500 nm. The maximum particle size is 50 to 1000 nm.
The stress relaxation agent (E) is at least one selected from the group consisting of silicone rubber particles (E1) and silicone oil (E2).
The silicone rubber particles (E1) are crosslinked polydimethylsiloxane having a silicone resin on the surface.
The silicone oil (E2) is a polyalkylene ether-modified silicone compound having an epoxy equivalent of 3000 to 15000 and having a structure represented by the following formula (1).
Figure 0006929069
[In the formula, x is an integer of 80 to 140, y is an integer of 1 to 5, and z is an integer of 5 to 20. R 4 is an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. A is a polyalkylene ether group having a structure represented by the following formula (1a).
Figure 0006929069
(In the formula, a and b are independently integers from 0 to 40. B is a hydrogen atom or a methyl group.)]
The content of the rubber particles (B) is 0.05 to 20% by weight with respect to the curable resin composition for light reflection (100% by weight).
A curable resin composition for light reflection, wherein the content of the stress relaxation agent (E) is 0.1 to 20% by weight with respect to the curable resin composition for light reflection (100% by weight) .
前記脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である請求項に記載の光反射用硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition for light reflection according to claim 1 , wherein the alicyclic epoxy compound (A) is a compound having a cyclohexene oxide group. 前記脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I−1)
Figure 0006929069
で表される化合物を含む請求項1又は2に記載の光反射用硬化性樹脂組成物。
The alicyclic epoxy compound (A) has the following formula (I-1).
Figure 0006929069
The curable resin composition for light reflection according to claim 1 or 2 , which comprises the compound represented by.
前記白色顔料(C)が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、及び硫酸バリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含み、さらに
前記無機充填剤(D)が、シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、及び窒化ホウ素からなる群より選択される少なくとも一種を含む請求項1〜のいずれか1項に記載の光反射用硬化性樹脂組成物。
The white pigment (C) contains at least one selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and barium sulfate, and the inorganic filler (D) is silica, alumina, silicon nitride, and nitride. The curable resin composition for light reflection according to any one of claims 1 to 3 , which comprises at least one selected from the group consisting of aluminum and boron nitride.
トランスファー成型用又はコンプレッション成型用の樹脂組成物である請求項1〜のいずれか1項に記載の光反射用硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition for light reflection according to any one of claims 1 to 4 , which is a resin composition for transfer molding or compression molding. リフレクター形成用樹脂組成物である請求項1〜のいずれか1項に記載の光反射用硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition for light reflection according to any one of claims 1 to 5 , which is a resin composition for forming a reflector. 請求項1〜のいずれか1項に記載の光反射用硬化性樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the curable resin composition for light reflection according to any one of claims 1 to 6. 光半導体素子と、請求項に記載の光反射用硬化性樹脂組成物の硬化物からなるリフレクターとを少なくとも備えることを特徴とする光半導体装置。 An optical semiconductor device comprising at least an optical semiconductor device and a reflector made of a cured product of the curable resin composition for light reflection according to claim 7.
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