JP6928052B2 - 冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置 - Google Patents
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Description
ガス流入口及び上板冷却流路が設けられた上板を介して流入した排気ガスを収容した後、ガス排出口が設けられた下板を介して排出し、内壁には、前記上板のガス流入口を介して流入してヒータによって温度が調節された排気ガスに渦流を発生させながら反応副産物を捕集するように、内側に向けて突出した内壁プレートが設けられたハウジングと;
下板から一定間隔だけ上方に離隔してハウジングの内部に設置される内部捕集塔であって、互いに一定間隔だけ離隔して配置され、各々に上部側は塞がり下部側には開口が設けられた一つ以上の配管溝が垂直方向に延在する複数の垂直プレートと、排気ガスの流れ誘導及び渦流発生のために垂直プレートの上面を覆う上面プレートと、及び垂直プレートと交差するように取り付けられ、水平方向に延在する渦流プレートと、を含んで組み立てられ、流入した排気ガスを凝集させて反応副産物を捕集する内部捕集塔と;
前記内部捕集塔を貫通しながら冷却水を用いて排気ガスを冷却するように、前記複数の垂直プレートの各々の前記配管溝に嵌合して水平方向に延在するメイン冷却流路と;
前記ハウジングの外部に設置された供給管と排出管を用いて前記上板冷却流路及びメイン冷却流路に順次冷却水を循環供給し排出させる多重連結配管と;を有する、冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置を提供する。
前記垂直プレート、上面プレート、ベースプレート及び渦流プレートの表面には、それぞれ排気ガスの移動のためのガスホールが設けられ、
前記垂直プレートは、メイン冷却流路が貫通するように一つまたは複数の配管溝が垂直に設けられ、U字状の配管形状を有するメイン冷却流路の設置の際に上下位置の調節が容易となるように構成してもよい。
ハウジングの上部を覆い、ガス流入口を介して排気ガスをハウジングの内部へ供給し、Oリング(O−Ring)保護のための上板冷却流路が設けられた上板120と;
ハウジングの下部を覆い、ガス排出口を介して反応副産物の除去された排気ガスを排出する下板130と;
ハウジングに流入した排気ガスを、反応副産物を形成することができる適切な温度分布に調節して均一に周囲に配分するヒータ140と;
下板から一定間隔だけ上方に離隔してハウジングの内部に設置され、メイン冷却流路の設置スペースのための複数の垂直プレート、排気ガスの流れ誘導及び渦流発生のために垂直プレートの上面を覆う上面プレート、及び垂直プレートに取り付けられた渦流プレートで組み立てられ、流入した排気ガスを凝集させて反応副産物を捕集する内部捕集塔150と、
前記内部捕集塔を貫通しながら冷却水を用いて排気ガスを冷却するメイン冷却流路と160;
前記ハウジングの外部に設置された供給管と排出管を用いて前記上板冷却流路及びメイン冷却流路に順次冷却水を循環供給し排出させる多重連結配管170と;から構成される。
111 内壁プレート
120 上板
121 ガス流入口
122 上板冷却流路
123 流路カバー
130 下板
131 ガス排出口
132 支持台
140 ヒータ
141 熱分配板
142 ヒータ電源供給部
150 内部捕集塔
151 垂直プレート
152 上面プレート
153 ベースプレート
154 渦流プレート
160 メイン冷却流路
170 多重連結配管
170a 冷却水流入口
170b 冷却水排出口
171 供給管
172 排出管
173 分岐ソケット
174 冷却水チャンバ
1411、1511、1521、1531、1541 ガスホール
1512、1522 係合部
1513、1542 係合片
1514、1532 配管溝
1601 水平管
1602 曲率管
Claims (12)
- プロセスチャンバと真空ポンプとの間のライン上に設置し、前記プロセスチャンバから排出される排気ガス内の反応副産物を捕集するための半導体プロセスの反応副産物捕集装置であって、
ガス流入口及び上板冷却流路が設けられた上板を介して流入した排気ガスを収容した後、ガス排出口が設けられた下板を介して排出し、内壁には、前記上板の前記ガス流入口を介して流入してヒータによって温度が調節された排気ガスに渦流を発生させながら反応副産物を捕集するように、内側に向けて突出した内壁プレートが設けられたハウジングと;
前記下板から一定間隔だけ上方に離隔して前記ハウジングの内部に設置される内部捕集塔であって、互いに一定間隔だけ離隔して配置され、各々に上部側は塞がり下部側には開口が設けられた一つ以上の配管溝が垂直方向に延在する複数の垂直プレートと、排気ガスの流れ誘導及び渦流発生のために前記垂直プレートの上面を覆う上面プレートと、前記垂直プレートと交差するように取り付けられ、水平方向に延在する渦流プレートと、を含んで組み立てられ、流入した排気ガスを凝集させて反応副産物を捕集する内部捕集塔と;
前記内部捕集塔を貫通しながら冷却水を用いて排気ガスを冷却するように、前記複数の垂直プレートの各々の前記配管溝に嵌合して水平方向に延在するメイン冷却流路と;
前記ハウジングの外部に設置された供給管と排出管を用いて前記上板冷却流路及び前記メイン冷却流路に順次冷却水を循環供給し排出させる多重連結配管と;を有する、冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。 - 前記ハウジングの内壁の各面上には、上下領域にわたって一定間隔で前記内壁プレートが設けられ、
前記ハウジングの内壁の隣り合う面上に設けられた内壁プレートは、互いにずれるように設けられ、
前記ハウジングの内壁の各側面上で、前記内壁プレートは、当該面の水平長さよりも小さい長さをもって上下間でずれるように設けられる、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。 - 前記上板に設けられた前記上板冷却流路は、外部から供給された冷却水が、前記多重連結配管の冷却水流入口に連結された一側の分岐ソケットを介して流入して循環した後、さらに他側の分岐ソケットを介して前記多重連結配管に排出されて前記メイン冷却流路側へ循環するように構成される、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記内部捕集塔は、前記複数の垂直プレートと、各垂直プレートの上面を覆う前記上面プレートと、各垂直プレートの下部を支持するベースプレートと、前記各垂直プレートと交差するように取り付けられた渦流プレートとから構成され、
前記垂直プレート、前記上面プレート、前記ベースプレート及び前記渦流プレートの表面には、それぞれ排気ガスの移動のためのガスホールが設けられ、
前記垂直プレートは、前記メイン冷却流路が貫通するように一つ以上の配管溝が垂直に設けられ、U字状の配管形状を有する前記メイン冷却流路の設置の際に上下位置の調節が容易となるように構成される、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。 - 前記内部捕集塔の両側の前記垂直プレートには、外郭に突出した前記渦流プレートが設けられることにより、渦流を発生させながら排気ガスの流れを遅滞させるように構成される、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記上面プレートには、表面に互いに異なる大きさの複数の前記ガスホールが配設され、長辺の両端に位置した前記ガスホールがその他の位置に設けられた前記ガスホールよりも大きいことにより、上部から流入する排気ガスにおいて中央部の方よりも外側の方で多く排出されるように構成される、請求項4に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記垂直プレートに設けられた前記ガスホールは、前記渦流プレートに設けられた前記ガスホールよりも大きい、請求項4に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記メイン冷却流路は、上下に構成された水平管と、これらの水平管同士を一側で連結する曲率管とからなるU字状の配管形状に構成される、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記メイン冷却流路は2つ以上設けられる、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記多重連結配管は、冷却水が、冷却水流入口に連結された前記上板冷却流路の一側の分岐ソケットを介して流入して循環した後、さらに他側の分岐ソケットを介して前記多重連結配管の供給管へ排出され、下部に位置した分岐ソケットを介して前記メイン冷却流路へ供給され、前記メイン冷却流路の下部水平管に流入した冷却水は、上部水平管に流れながら前記内部捕集塔の周辺の排気ガスを冷却した後、外部の排出管へ排出され、その後、前記排出管の端部に位置した冷却水排出口を介して排出されるように構成される、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記多重連結配管は、前記メイン冷却流路が2つ以上設けられる場合には、前記供給管と前記排出管が位置する下部と上部に、それぞれ内部が空間部からなる冷却水チャンバが備えられ、1つの前記供給管から、下部に位置した前記冷却水チャンバの前記空間部に集まった冷却水を同時に2つ以上の下部に位置した水平管に供給するか、或いは上部に位置した前記冷却水チャンバの前記空間部へ排出された熱交換済みの冷却水を1つの前記排出管を介して排出するように構成される、請求項10に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
- 前記ヒータは、下部に締結手段によって一定間隔だけ下方に離隔して設置され、複数のガスホールが外側に設けられ、一部の排気ガスは下部に位置した前記内部捕集塔の上部側へ供給され、残りの排気ガスは水平方向に前記ハウジングの前記内壁に向けて供給されるように構成した熱分配板をさらに含む、請求項1に記載の冷却流路を備えた半導体プロセスの反応副産物捕集装置。
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