JP6906745B1 - Method for producing conductive composition - Google Patents

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Abstract

【課題】表面抵抗の経時的な上昇と低下の両方を抑制できる導電性塗膜を得るための、導電性組成物を得る。【解決手段】下記工程(i)〜(iii):(i)ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、及び水を含む予備分散液を得る工程、(ii)予備分散液中の導電性高分子を分散して分散液を得る工程、及び(iii)分散液にアルカリ化合物、水性希釈剤、及び水性樹脂からなる群から選択される1以上を添加する工程を、この順に有し、工程(i)と工程(ii)との間、及び/又は工程(ii)と工程(iii)との間に、下記工程(iv):(iv)予備分散液又は分散液を1〜40℃で180時間以上熟成させる工程を有する、導電性組成物の製造方法。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a conductive composition for obtaining a conductive coating film capable of suppressing both increase and decrease of surface resistance with time. The following steps (i) to (iii): (i) A preliminary dispersion containing a conductive polymer which is a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a poly anion, and water. The step of obtaining, (ii) the step of dispersing the conductive polymer in the preliminary dispersion to obtain the dispersion, and (iii) the step of dispersing the dispersion, selected from the group consisting of an alkaline compound, an aqueous diluent, and an aqueous resin 1 The steps of adding the above are provided in this order, and the following steps (iv): (iv) are provided between the steps (i) and the steps (ii) and / or between the steps (ii) and the steps (iii). ) A method for producing a conductive composition, which comprises a step of aging the preliminary dispersion liquid or the dispersion liquid at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more. [Selection diagram] None

Description

本発明は、導電性組成物の製造方法に関する。詳しくは、導電性高分子を分散させる前または後に熟成させる工程を含む、導電性組成物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a conductive composition. More specifically, the present invention relates to a method for producing a conductive composition, which comprises a step of aging the conductive polymer before or after it is dispersed.

樹脂製品は電気絶縁性が高いため、接触や剥離、摩擦により静電気を発生しやすい。この静電気は樹脂製品へのほこりの付着の原因となる。また、樹脂部材を含む電子機器では、静電気の放電や電磁波の入射は電子機器の破損やノイズの原因となり得る。 Since resin products have high electrical insulation, static electricity is likely to be generated by contact, peeling, and friction. This static electricity causes dust to adhere to the resin product. Further, in an electronic device including a resin member, the discharge of static electricity and the incident of electromagnetic waves can cause damage to the electronic device and noise.

樹脂製品の表面での静電気の発生や電子機器のノイズを防止するために、導電性高分子を溶媒に分散させた導電性組成物を樹脂製品の表面に塗布する方法が知られている。このような導電性高分子として、ポリアニリンやポリチオフェンといったπ共役系導電性高分子が使用されている。一方、これらの導電性高分子を含む導電性塗膜には、製膜後に時間の経過とともに導電性が変化してしまい、所望の導電性を維持しにくいという課題が存在する。 In order to prevent the generation of static electricity on the surface of a resin product and noise of electronic devices, a method of applying a conductive composition in which a conductive polymer is dispersed in a solvent to the surface of the resin product is known. As such a conductive polymer, a π-conjugated conductive polymer such as polyaniline or polythiophene is used. On the other hand, the conductive coating film containing these conductive polymers has a problem that the conductivity changes with the passage of time after the film is formed, and it is difficult to maintain the desired conductivity.

従来、塗膜の導電性の経時による安定性を向上させる技術が知られている。すなわち、特許文献1は、導電性高分子を分散させた水溶液に水溶性酸化防止剤を添加すると、その水溶液を用いて形成された塗膜は、空気に暴露されたときの経時的な抵抗の上昇を抑えられることを開示している。一方、導電性塗膜は、経時的に抵抗が低下する場合もある。特に、ディスプレイ用フィルムにおける近年の品質水準では、表面抵抗の上限だけでなく下限の管理が必要であり、表面抵抗の経時的な低下を抑制することが求められていた。 Conventionally, a technique for improving the stability of the conductivity of a coating film over time has been known. That is, in Patent Document 1, when a water-soluble antioxidant is added to an aqueous solution in which a conductive polymer is dispersed, a coating film formed using the aqueous solution has resistance over time when exposed to air. It discloses that the rise can be suppressed. On the other hand, the resistance of the conductive coating film may decrease over time. In particular, in recent years, the quality level of display films requires control of not only the upper limit but also the lower limit of surface resistance, and it has been required to suppress a decrease in surface resistance with time.

特開2010−196022号公報JP-A-2010-196022

本発明は、表面抵抗の経時的な上昇と低下の両方を抑制できる導電性塗膜を得るための、導電性組成物を得ることを目的とする。 An object of the present invention is to obtain a conductive composition for obtaining a conductive coating film capable of suppressing both an increase and a decrease in surface resistance with time.

本発明者らは、分散機により導電性高分子を水に高分散させる工程を実施し、さらにその工程の前または後に、1〜40℃で180時間以上熟成させる工程を実施することにより、導電性組成物中での導電性高分子の配置を安定化でき、この導電性組成物で形成した導電性塗膜は導電性を安定に維持できることを見出し、本発明を完成した。 The present inventors carry out a step of highly dispersing the conductive polymer in water by a disperser, and further carry out a step of aging at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more before or after the step to make the conductive polymer conductive. We have found that the arrangement of the conductive polymer in the conductive composition can be stabilized, and that the conductive coating film formed of this conductive composition can maintain the conductivity stably, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記工程(i)〜(iii):
(i)ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、及び水を含む予備分散液を得る工程、
(ii)予備分散液を分散機に供して分散液を得る工程、及び
(iii)分散液にアルカリ化合物、水性希釈剤、及び水性樹脂からなる群から選択される1以上を添加する工程
を、この順に有し、
工程(i)と工程(ii)との間、及び/又は工程(ii)と工程(iii)との間に、
下記工程(iv):
(iv)予備分散液又は分散液を1〜40℃で180時間以上熟成させる工程
を有する、導電性組成物の製造方法に関する。
That is, in the present invention, the following steps (i) to (iii):
(I) A step of obtaining a preliminary dispersion liquid containing a conductive polymer which is a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a poly anion, and water.
(Ii) A step of subjecting the preliminary dispersion to a disperser to obtain a dispersion, and (iii) a step of adding one or more selected from the group consisting of an alkaline compound, an aqueous diluent, and an aqueous resin to the dispersion. Have in this order
Between step (i) and step (ii) and / or between step (ii) and step (iii),
The following process (iv):
(Iv) The present invention relates to a method for producing a conductive composition, which comprises a step of aging the preliminary dispersion liquid or the dispersion liquid at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more.

前記製造方法において、工程(iv)を2回以上行うことが好ましい。 In the above manufacturing method, it is preferable to carry out the step (iv) twice or more.

前記製造方法はさらに、工程(iii)の後に、分散液を1〜40℃で180時間以上熟成させる工程を有することが好ましい。 It is preferable that the production method further includes a step of aging the dispersion liquid at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more after the step (iii).

前記製造方法において、導電性組成物が低分子アニオンを含有することが好ましい。 In the production method, it is preferable that the conductive composition contains a low molecular weight anion.

前記製造方法において、水性希釈剤が水溶性有機溶媒を含有することが好ましい。 In the above production method, it is preferable that the aqueous diluent contains a water-soluble organic solvent.

前記製造方法において、導電性組成物全体に対する水溶性有機溶媒の含有量が1重量%以上であることが好ましい。 In the production method, the content of the water-soluble organic solvent in the entire conductive composition is preferably 1% by weight or more.

また、本発明は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、水、並びに、アルカリ化合物、水性希釈剤、及び水性樹脂からなる群から選択される1以上を含み、
式:(25℃で24時間放置した後の表面抵抗率)/(製膜直後の表面抵抗率)×100
で表される表面抵抗率の変化率が90〜110%である導電性塗膜を形成するための、導電性組成物に関する。
Further, the present invention is selected from the group consisting of a conductive polymer, water, which is a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion, and an alkaline compound, an aqueous diluent, and an aqueous resin. Including 1 or more to be
Formula: (Surface resistivity after leaving at 25 ° C. for 24 hours) / (Surface resistivity immediately after film formation) × 100
The present invention relates to a conductive composition for forming a conductive coating film having a rate of change in surface resistivity represented by 90 to 110%.

前記導電性組成物はpHが2〜11であることが好ましい。 The conductive composition preferably has a pH of 2-11.

前記導電性組成物において、導電性塗膜が、130℃以下の乾燥工程を経て形成されたものであることが好ましい。 In the conductive composition, it is preferable that the conductive coating film is formed through a drying step of 130 ° C. or lower.

前記導電性組成物が、ガラス転移温度が180℃以下の熱可塑性樹脂基材上に導電性塗膜を形成するための物であることが好ましい。 It is preferable that the conductive composition is for forming a conductive coating film on a thermoplastic resin base material having a glass transition temperature of 180 ° C. or lower.

本発明の導電性組成物の製造方法により、導電性高分子の配置を安定化した導電性組成物が得られる。この導電性組成物を用いて形成した導電性塗膜は、製膜後に導電性を安定に維持できる。 By the method for producing a conductive composition of the present invention, a conductive composition in which the arrangement of conductive polymers is stabilized can be obtained. The conductive coating film formed by using this conductive composition can stably maintain the conductivity after the film formation.

<<導電性組成物の製造方法>>
本発明の導電性組成物の製造方法は、下記工程(i)〜(iii):
(i)ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、及び水を含む予備分散液を得る工程、
(ii)予備分散液を分散機に供して分散液を得る工程、及び
(iii)分散液にアルカリ化合物、水性希釈剤、及び水性樹脂からなる群から選択される1以上を添加する工程
を、この順に有し、
工程(i)と工程(ii)との間、及び/又は工程(ii)と工程(iii)との間に、
下記工程(iv):
(iv)予備分散液又は分散液を1〜40℃で180時間以上熟成させる工程
を有する。
<< Manufacturing method of conductive composition >>
The method for producing the conductive composition of the present invention comprises the following steps (i) to (iii):
(I) A step of obtaining a preliminary dispersion liquid containing a conductive polymer which is a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a poly anion, and water.
(Ii) A step of subjecting the preliminary dispersion to a disperser to obtain a dispersion, and (iii) a step of adding one or more selected from the group consisting of an alkaline compound, an aqueous diluent, and an aqueous resin to the dispersion. Have in this order
Between step (i) and step (ii) and / or between step (ii) and step (iii),
The following process (iv):
(Iv) The pre-dispersion liquid or the dispersion liquid has a step of aging at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more.

<予備分散液を得る工程(i)>
工程(i)では、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、及び水を含む予備分散液を得る。ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、及び水を混合すればよく、混合順は特に限定されない。導電性高分子は、更に、後述する低分子アニオンと複合化してもよい。
<Step of obtaining preliminary dispersion (i)>
In step (i), a preliminary dispersion liquid containing a conductive polymer which is a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) and poly anion, and water is obtained. The conductive polymer, which is a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion, and water may be mixed, and the mixing order is not particularly limited. The conductive polymer may be further compounded with a low molecular weight anion described later.

なお、導電性高分子は3,4−二置換チオフェンを酸化剤を用いて酸化重合することにより得られる。ドーパントであるポリ陰イオンは、酸化重合前に仕込んでおいてもよく、酸化重合後に添加してもよい。酸化重合後の導電性高分子は必要に応じて溶媒置換を行ってもよい。ポリ陰イオンと水及び酸化剤等を混合した液の中で3,4−二置換チオフェンをポリ(3,4−二置換チオフェン)に変換し、ポリ陰イオンとの複合体を形成する場合は、新たに水を加えなくても良い。この方法で予備分散液を得る場合は、次工程に進む前に酸化剤を除去又は不活性化することが好ましい。 The conductive polymer can be obtained by oxidatively polymerizing 3,4-disubstituted thiophene with an oxidizing agent. The polyanion which is a dopant may be charged before the oxidative polymerization, or may be added after the oxidative polymerization. The conductive polymer after oxidative polymerization may be subjected to solvent substitution if necessary. When converting 3,4-disubstituted thiophene to poly (3,4-disubstituted thiophene) in a mixture of poly anion, water, an oxidizing agent, etc. to form a complex with poly anion. , You do not have to add new water. When the preliminary dispersion is obtained by this method, it is preferable to remove or inactivate the oxidizing agent before proceeding to the next step.

導電性高分子を構成するポリ(3,4−二置換チオフェン)としては、ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)が好ましい。ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)としては、以下の式(I): As the poly (3,4-disubstituted thiophene) constituting the conductive polymer, poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene) is preferable. The poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene) has the following formula (I):

Figure 0006906745
Figure 0006906745

で示される反復構造単位からなる陽イオン形態のポリチオフェンが好ましい。ここで、R及びRは、互いに独立して、水素原子若しくはC1−4のアルキル基を表すか、又は、互いに結合してC1−4のアルキレン基を表す。C1−4のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。また、R及びRが結合している場合、C1−4のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1−メチル−1,2−エチレン基、1−エチル−1,2−エチレン基、1−メチル−1,3−プロピレン基、2−メチル−1,3−プロピレン基等が挙げられる。これらの中では、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基が好ましく、1,2−エチレン基がより好ましい。C1−4のアルキル基、及び、C1−4のアルキレン基は、その水素の一部が置換されていても良い。C1−4のアルキレン基を有するポリチオフェンとしては、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。 A cationic form of polythiophene consisting of the repeating structural units represented by is preferred. Here, R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group of C 1-4 , or are bonded to each other to represent an alkylene group of C 1-4. The alkyl group of C 1-4 is not particularly limited, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a t-butyl group. .. When R 1 and R 2 are bonded, the alkylene group of C 1-4 is not particularly limited, but for example, a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,3-propylene group, 1, 4-butylene group, 1-methyl-1,2-ethylene group, 1-ethyl-1,2-ethylene group, 1-methyl-1,3-propylene group, 2-methyl-1,3-propylene group, etc. Can be mentioned. Among these, a methylene group, a 1,2-ethylene group and a 1,3-propylene group are preferable, and a 1,2-ethylene group is more preferable. Alkyl C 1-4, and an alkylene group of C 1-4, a portion of the hydrogen may be substituted. As the polythiophene having an alkylene group of C 1-4 , poly (3,4-ethylenedioxythiophene) is particularly preferable.

導電性高分子の重量平均分子量は、500〜100000であることが好ましく、1000〜10000であることがより好ましく、1200〜5000であることがさらに好ましい。重量平均分子量が500未満であると、導電性組成物とした場合に要求される粘度を確保することができないことや、塗膜を形成した場合の導電性が低下することがある。 The weight average molecular weight of the conductive polymer is preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 10,000, and even more preferably 1,200 to 5,000. If the weight average molecular weight is less than 500, it may not be possible to secure the viscosity required for the conductive composition, or the conductivity when the coating film is formed may be lowered.

ポリ陰イオンはポリ(3,4−二置換チオフェン)のドーパントであり、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とイオン対をなすことにより複合体を形成し、ポリ(3,4−二置換チオフェン)を水中に安定に分散させることができる。 The poly anion is a dopant of poly (3,4-disubstituted thiophene) and forms a complex by forming an ion pair with poly (3,4-disubstituted thiophene) to form a poly (3,4-disubstituted thiophene). Thiophene) can be stably dispersed in water.

ポリ陰イオンとしては、特に限定されないが、例えば、カルボン酸ポリマー類(例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等)、スルホン酸ポリマー類(例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等)等が挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類及びスルホン酸ポリマー類はまた、ビニルカルボン酸類及びビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えば、アクリレート類、スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物との共重合体であっても良い。これらの中では、ポリスチレンスルホン酸が好ましく、ポリスチレンスルホン酸塩がより好ましく、ポリスチレンスルホン酸のアミン塩又はアンモニウム塩がさらに好ましい。 The polyanion is not particularly limited, but is, for example, carboxylic acid polymers (for example, polyacrylic acid, polymaleic acid, polymethacrylic acid, etc.), sulfonic acid polymers (for example, polystyrene sulfonic acid, polyvinylsulfonic acid, polyisoprene, etc.). Sulfonic acid, etc.) and the like. These carboxylic acid polymers and sulfonic acid polymers are also copolymers of vinyl carboxylic acids and vinyl sulfonic acids with other polymerizable monomers, such as acrylates, styrene, vinyl naphthalene and other aromatic vinyl compounds. It may be. Among these, polystyrene sulfonic acid is preferable, polystyrene sulfonate is more preferable, and amine salt or ammonium salt of polystyrene sulfonic acid is further preferable.

ポリスチレンスルホン酸のアミン塩について、アミンとしては、特に限定されないが、例えば、トリメチルアミン(TMA)、トリエチルアミン(TEA)、トリ−n−プロピルアミン(TPA)、トリ−n−ブチルアミン(TBA)、エチルジメチルアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、モルホリン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The amine salt of polystyrene sulfonic acid is not particularly limited as an amine, but for example, trimethylamine (TMA), triethylamine (TEA), tri-n-propylamine (TPA), tri-n-butylamine (TBA), ethyldimethyl. Examples include amines, N, N-dimethylethanolamine, morpholine and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

ポリスチレンスルホン酸は、重量平均分子量が10000〜1000000であることが好ましく、30000〜500000であることがより好ましい。分子量がこの範囲外のポリスチレンスルホン酸を使用すると、導電性高分子の水に対する分散安定性が低下する場合がある。なお、重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。 The polystyrene sulfonic acid preferably has a weight average molecular weight of 1,000,000 to 1,000,000, and more preferably 30,000 to 500,000. If polystyrene sulfonic acid having a molecular weight outside this range is used, the dispersion stability of the conductive polymer in water may decrease. The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).

導電性高分子は、導電性に特に優れる観点からは、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体であることが好ましい。 The conductive polymer is preferably a complex of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid from the viewpoint of particularly excellent conductivity.

導電性高分子の導電率は、特に限定されないが、0.01S/cm以上であることが好ましく、1S/cm以上であることがより好ましい。 The conductivity of the conductive polymer is not particularly limited, but is preferably 0.01 S / cm or more, and more preferably 1 S / cm or more.

予備分散液において、ポリ(3,4−二置換チオフェン)100重量部に対するポリ陰イオンの配合量は100〜500重量部が好ましく、150〜400重量部がより好ましい。 In the preliminary dispersion, the amount of the polyanion compounded with respect to 100 parts by weight of poly (3,4-disubstituted thiophene) is preferably 100 to 500 parts by weight, more preferably 150 to 400 parts by weight.

また、最終的に得られる導電性組成物の固形分中、ポリ(3,4−二置換チオフェン)の配合量は0.1〜30重量%が好ましく、0.1〜20重量%がより好ましい。最終的に得られる導電性組成物の固形分中、ポリ陰イオンの配合量は0.1〜50重量%が好ましく、1〜40重量%がより好ましい。 Further, in the solid content of the finally obtained conductive composition, the blending amount of poly (3,4-disubstituted thiophene) is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 0.1 to 20% by weight. .. The amount of the polyanion compounded in the solid content of the finally obtained conductive composition is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight.

<分散液を得る工程(ii)>
工程(ii)では、工程(i)で得られた予備分散液を分散機に供し、分散液を得る。分散機は予備分散液の粘度を低下させることが出来れば特に限定されないが、超音波分散機、ビーズミル、高速ホモジナイザー、高圧ホモジナイザーなどが挙げられる。分散により導電性高分子の分布を均一にさせることができるため、時間経過による導電性の変化を抑制できる。更に、熟成工程中の凝集、ゲル化を抑制することもできる。
<Step of obtaining dispersion (ii)>
In the step (ii), the preliminary dispersion liquid obtained in the step (i) is subjected to a disperser to obtain a dispersion liquid. The disperser is not particularly limited as long as it can reduce the viscosity of the preliminary dispersion liquid, and examples thereof include an ultrasonic disperser, a bead mill, a high-speed homogenizer, and a high-pressure homogenizer. Since the distribution of the conductive polymer can be made uniform by the dispersion, the change in conductivity with the passage of time can be suppressed. Furthermore, aggregation and gelation during the aging process can be suppressed.

分散機として高圧ホモジナイザーを用いる場合、圧力は10〜1000MPaが好ましく、20〜200MPaがより好ましい。処理回数は1〜100回が好ましく、1〜10回がより好ましい。 When a high-pressure homogenizer is used as the disperser, the pressure is preferably 10 to 1000 MPa, more preferably 20 to 200 MPa. The number of treatments is preferably 1 to 100 times, more preferably 1 to 10 times.

<アルカリ化合物、水性希釈剤、又は水性樹脂を添加する工程(iii)>
工程(iii)では、工程(ii)で得られた分散液にアルカリ化合物、水性希釈剤、又は水性樹脂を添加する。
<Step of adding alkaline compound, aqueous diluent, or aqueous resin (iii)>
In the step (iii), an alkaline compound, an aqueous diluent, or an aqueous resin is added to the dispersion obtained in the step (iii).

分散液には、アルカリ化合物を配合して中和することが好ましい。これは、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子はpH1.0〜3.5の強酸性であることが多く、強酸性のまま水性樹脂を添加すると、水性樹脂の種類により凝集することがあり、塗膜形成後の乾燥中の高濃度状態では凝集が特に顕著となるからである。アルカリ化合物の配合により分散液のpHを4〜10とすることが好ましく、5〜9とすることがより好ましく、6〜9とすることがさらに好ましい。アルカリ化合物の種類は特に限定されないが、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を含む塩基や、NH、窒素系脂肪族化合物、窒素系芳香族化合物等が挙げられる。なお、酸性条件で架橋できる水性樹脂を用いる場合や、製膜設備の腐食対策が十分なされている場合には、アルカリ化合物を添加しなくてもよい。 It is preferable to add an alkaline compound to the dispersion to neutralize it. This is because the conductive polymer, which is a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and poly anion, is often strongly acidic with a pH of 1.0 to 3.5, and is an aqueous resin that remains strongly acidic. Is added, it may agglomerate depending on the type of the aqueous resin, and the agglomeration becomes particularly remarkable in a high concentration state during drying after the coating film is formed. The pH of the dispersion is preferably 4 to 10, more preferably 5 to 9, and even more preferably 6 to 9 by blending the alkaline compound. The type of the alkaline compound is not particularly limited, and examples thereof include a base containing an alkali metal or an alkaline earth metal, NH 3 , a nitrogen-based aliphatic compound, a nitrogen-based aromatic compound, and the like. When an aqueous resin that can be crosslinked under acidic conditions is used, or when the film forming equipment is sufficiently protected against corrosion, it is not necessary to add the alkaline compound.

アルカリ金属またはアルカリ土類金属を含む塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムが挙げられる。窒素系脂肪族化合物としては、トリエタノールアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンが挙げられる。窒素系芳香族化合物としては、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−プロピルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−アミノべンズイミダゾール、ピリジン、アニリン、トルイジン等が挙げられる。アルカリ化合物は、2種を単独で使用してもよいし、2種以上を使用してもよい、これらの中でも、NH、窒素系脂肪族化合物、窒素系芳香族化合物が好ましく、NH、窒素系脂肪族化合物がより好ましく、トリエタノールアミン、NHがさらに好ましい。アルカリ化合物の添加量は、最終的に得られる導電性組成物について所定のpHを実現する添加量であれば特に限定されない。 Examples of the base containing an alkali metal or an alkaline earth metal include sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, and potassium hydrogencarbonate. Examples of the nitrogen-based aliphatic compound include triethanolamine, ethanolamine, diethanolamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, trimethylamine, triethylamine, and tripropylamine. Examples of the nitrogen-based aromatic compound include imidazole, 2-methylimidazole, 2-propylimidazole, 1- (2-hydroxyethyl) imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-. Examples thereof include cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-aminobenzimidazole, pyridine, aniline, and toluidine. As the alkaline compound, two kinds may be used alone, or two or more kinds may be used. Among these, NH 3 , a nitrogen-based aliphatic compound, and a nitrogen-based aromatic compound are preferable, and NH 3 , Nitrogen-based aliphatic compounds are more preferable, and triethanolamine and NH 3 are even more preferable. The amount of the alkaline compound added is not particularly limited as long as the amount of the alkaline compound added is such that a predetermined pH is achieved for the finally obtained conductive composition.

水性希釈剤は、固形分調整、導電性組成物の分散安定化、および工程(iv)の効率化のために分散液に添加する。水性希釈剤としては、水、水溶性有機溶媒が挙げられる。 The aqueous diluent is added to the dispersion for solids adjustment, dispersion stabilization of the conductive composition, and efficiency of step (iv). Examples of the aqueous diluent include water and a water-soluble organic solvent.

水溶性有機溶媒としては、アルコール、エチレングリコール類、アミド化合物などが挙げられる。アルコールとしてはエタノール、メタノール、2−プロパノール、1−プロパノール等が挙げられる。エチレングリコール類としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等が挙げられる。アミド化合物としてはアセトニトリル、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン等が挙げられる。水性希釈剤として、水と水溶性有機溶媒の混合液を用いてもよい。混合液を用いる場合、水溶性有機溶媒の濃度は0〜50重量%が好ましく、0〜40重量%がより好ましく、0〜30重量%がさらに好ましい。 Examples of the water-soluble organic solvent include alcohols, ethylene glycols, amide compounds and the like. Examples of the alcohol include ethanol, methanol, 2-propanol, 1-propanol and the like. Examples of ethylene glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, trimethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol and the like. Examples of the amide compound include acetonitrile, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone and the like. As the aqueous diluent, a mixed solution of water and a water-soluble organic solvent may be used. When a mixed solution is used, the concentration of the water-soluble organic solvent is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 40% by weight, still more preferably 0 to 30% by weight.

水性希釈剤が水溶性有機溶媒を含む場合、水溶性有機溶媒の添加量は、導電性組成物全体の1重量%以上が好ましく、2重量%以上がより好ましく、5重量%以上がさらに好ましい。1重量%未満では塗膜の表面抵抗率が高くなりすぎたり、表面抵抗率の変化率が大きくなったり、製膜時の塗布性が悪くなったりする傾向がある。 When the aqueous diluent contains a water-soluble organic solvent, the amount of the water-soluble organic solvent added is preferably 1% by weight or more, more preferably 2% by weight or more, still more preferably 5% by weight or more of the entire conductive composition. If it is less than 1% by weight, the surface resistivity of the coating film tends to be too high, the rate of change in the surface resistivity tends to be large, and the coatability during film formation tends to be poor.

水性樹脂を添加することにより、導電性組成物により形成される塗膜の成膜性や強度等を向上できる。水性樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シロキサン、オキサゾリン樹脂が挙げられる。水性樹脂は、導電性高分子との配合を容易にするため、水に溶解又は分散可能であることが好ましい。樹脂に親水性の官能基が付与された結果可溶化又は分散化されたものであっても良いし、乳化剤により強制的に可溶化又は分散化されたものであっても良い。 By adding the water-based resin, the film-forming property and strength of the coating film formed by the conductive composition can be improved. Examples of the water-based resin include acrylic resin, polyether resin, polyester resin, polyurethane resin, polyolefin resin, siloxane, and oxazoline resin. The aqueous resin is preferably soluble or dispersible in water in order to facilitate blending with the conductive polymer. The resin may be solubilized or dispersed as a result of imparting a hydrophilic functional group, or may be forcibly solubilized or dispersed by an emulsifier.

水性樹脂は、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シロキサン、及びオキサゾリン樹脂からなる群から選択される2以上の混合物であることが好ましく、3以上の混合物であることがより好ましい。さらに、2以上の混合物は、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂から選ばれる群のうち少なくとも1種含むことがより好ましい。このような2以上の混合物とすることにより、導電性組成物により形成される塗膜と、基材との接着強度が安定的に発現される。 The aqueous resin is preferably a mixture of 2 or more selected from the group consisting of acrylic resin, polyether resin, polyester resin, polyurethane resin, polyolefin resin, siloxane, and oxazoline resin, and is preferably a mixture of 3 or more. More preferred. Further, it is more preferable that the mixture of two or more contains at least one of the group selected from the acrylic resin, polyurethane resin, and polyolefin resin. By using such a mixture of two or more, the adhesive strength between the coating film formed by the conductive composition and the substrate is stably exhibited.

アクリル樹脂としては、(メタ)アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂等が挙げられる。これらのアクリル樹脂は、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、リン酸基などの酸基及び、パーフルオロアルキル基やパーフルオロアルケニル基等のフルオロ基を有する重合性単量体を構成モノマーとして含む重合体であってもよい。例えば、酸基を有する重合性単量体の単独又は共重合体、酸基を有する重合性単量体と共重合性単量体との共重合体等が挙げられる。 Examples of the acrylic resin include (meth) acrylic resin and vinyl ester resin. These acrylic resins constitute a polymerizable monomer having an acid group such as a carboxyl group, an acid anhydride group, a sulfonic acid group or a phosphoric acid group, and a fluoro group such as a perfluoroalkyl group or a perfluoroalkenyl group. It may be a polymer containing as. For example, a polymerized monomer having an acid group alone or a copolymer, a copolymer of a polymerizable monomer having an acid group and a copolymerizable monomer, and the like can be mentioned.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル系単量体を主たる構成モノマー(例えば、50モル%以上)として含んでいれば共重合性単量体と重合していてもよい。(メタ)アクリル系単量体及び共重合性単量体のうち、少なくとも一方が酸基を有することが好ましい。 The (meth) acrylic resin may be polymerized with the copolymerizable monomer as long as it contains the (meth) acrylic monomer as the main constituent monomer (for example, 50 mol% or more). It is preferable that at least one of the (meth) acrylic monomer and the copolymerizable monomer has an acid group.

(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、酸基を有する(メタ)アクリル系単量体[(メタ)アクリル酸、スルホアルキル(メタ)アクリレート、スルホン酸基含有(メタ)アクリルアミド等]又はその共重合体、酸基を有していてもよい(メタ)アクリル系単量体と、酸基を有する他の重合性単量体[他の重合性カルボン酸、重合性多価カルボン酸又は無水物、ビニル芳香族スルホン酸等]及び/又は共重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、芳香族ビニル単量体等]との共重合体、酸基を有する他の重合体単量体と(メタ)アクリル系共重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等]との共重合体、酸基を有していない(メタ)アクリル系単量体[アルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート(フルオレン系(メタ)アクリレート等]又はその共重合体、ロジン変性ウレタンアクリレート、特殊変性アクリル樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートエマルジョン等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic resin include (meth) acrylic monomers having an acid group [(meth) acrylic acid, sulfoalkyl (meth) acrylate, sulfonic acid group-containing (meth) acrylamide, etc.] or a copolymer thereof. A polymer, a (meth) acrylic monomer having an acid group, and another polymerizable monomer having an acid group [another polymerizable carboxylic acid, a polymerizable polyvalent carboxylic acid or an anhydride , Vinyl aromatic sulfonic acid, etc.] and / or copolymerizable monomer [for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, aromatic vinyl monomer, etc.] Polymer, other polymer monomer having an acid group and (meth) acrylic copolymer [for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, Copolymer with (meth) acrylonitrile, etc.], (meth) acrylic monomer having no acid group [alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate (fluorene-based (meth) acrylate, etc.] or its Examples thereof include copolymers, rosin-modified urethane acrylates, specially modified acrylic resins, urethane acrylates, epoxy acrylates, and urethane acrylate emulsions.

これらの(メタ)アクリル系樹脂の中では、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル重合体(アクリル酸−メタクリル酸メチル共重合体等)、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル−スチレン共重合体(アクリル酸−メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等)等が好ましい。 Among these (meth) acrylic resins, (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester polymer (acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, etc.), (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid An ester-styrene copolymer (acrylic acid-methyl methacrylate-styrene copolymer, etc.) and the like are preferable.

ポリエーテル樹脂としては、ポリアルキレングリコール、ポリビニルアルコール、ポリエーテルポリオール、ポリグリセリン、プルラン、これらの誘導体等が挙げられる。これらのポリエーテル樹脂は、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、リン酸基などの酸基及び、パーフルオロアルキル基やパーフルオロアルケニル基等のフルオロ基及び、アルキル基、アルケニル基を有していても良い。 Examples of the polyether resin include polyalkylene glycol, polyvinyl alcohol, polyether polyol, polyglycerin, pullulan, and derivatives thereof. These polyether resins have an acid group such as a carboxyl group, an acid anhydride group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group, a fluoro group such as a perfluoroalkyl group and a perfluoroalkenyl group, and an alkyl group and an alkenyl group. You may do it.

ポリエステル樹脂としては、2つ以上のカルボキシル基を分子内に有する化合物と2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物とを重縮合する方法、ヒドロキシカルボン酸を直接脱水重縮合する方法、ヒドロキシカルボン酸の環状エステルを開環重合する方法により得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物(ジオール成分)としては、脂肪族ジオール、脂環族ジオール、芳香族ジオール、(ポリ)カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール等が挙げられ、2つ以上のカルボキシル基を分子内に有する化合物(ジカルボン酸成分)としては、脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸等が挙げられ、ヒドロキシカルボン酸の環状エステルとしては、ラクタイド、グリコライド、ε−カプロラクトン等が挙げられる。得られる高分子化合物の一般名称としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。これらのポリエステル樹脂は、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、リン酸基などの酸基及び、パーフルオロアルキル基やパーフルオロアルケニル基等のフルオロ基及び、アルキル基、アルケニル基を有していても良い。 As the polyester resin, a method of polycondensing a compound having two or more carboxyl groups in the molecule and a compound having two or more hydroxyl groups, a method of directly dehydrating and polycondensing a hydroxycarboxylic acid, and a cyclic hydroxycarboxylic acid. The compound is not particularly limited as long as it is a polymer compound obtained by a method for ring-opening polymerization of an ester. For example, a compound having two or more hydroxyl groups (diol component) includes an aliphatic diol, an alicyclic diol, and an aromatic acid. Examples thereof include group diols, (poly) carbonate diols, polyether diols, polyester diols, and the like, and examples of the compound (dicarboxylic acid component) having two or more carboxyl groups in the molecule include aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids. Examples thereof include alicyclic dicarboxylic acid, and examples of the cyclic ester of hydroxycarboxylic acid include lactide, glycolide, ε-caprolactone and the like. Examples of the general name of the obtained polymer compound include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate and the like. These polyester resins have an acid group such as a carboxyl group, an acid anhydride group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group, a fluoro group such as a perfluoroalkyl group and a perfluoroalkenyl group, and an alkyl group and an alkenyl group. You may be.

ポリウレタン樹脂としては、イソシアネート基を有する化合物とヒドロキシル基を有する化合物を共重合させて得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、エステル・エーテル系ポリウレタン樹脂、エーテル系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、カーボネート系ポリウレタン樹脂、アクリル系ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらのポリウレタン樹脂は、ノニオン系、アニオン系、カチオン系の親水性極性基が導入されていてもよい。親水性極性基導入源としては、ポリ(オキシエチレン)ポリオールのような直鎖状のノニオン系の親水性極性基や、−COOM、−SO M(Mはアルカリ金属、アンモニウム基、有機アミンを示す。)のようなアニオン系の親水性極性基、4級アンモニウム塩のようなカチオン系の親水性極性基が挙げられる。 The polyurethane resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound obtained by copolymerizing a compound having an isocyanate group and a compound having a hydroxyl group, and for example, an ester ether polyurethane resin, an ether polyurethane resin, and a polyester. Examples thereof include polyurethane resins, carbonate polyurethane resins, and acrylic polyurethane resins. These polyurethane resins may have a nonionic, anionic or cationic hydrophilic polar group introduced therein. As the source of introducing the hydrophilic polar group, a linear nonionic hydrophilic polar group such as a poly (oxyethylene) polyol, -COOM, -SO 3 M (M is an alkali metal, an ammonium group, or an organic amine) is used. Anionic hydrophilic polar groups such as (shown)) and cationic hydrophilic polar groups such as quaternary ammonium salts can be mentioned.

ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−4−メチル−1−ペンテン、ポリ−1−ブテン、塩素化ポリプロピレン、無水マレイン酸変性ポリプロピレン、無水マレイン酸変性塩素化ポリプロピレン等が挙げられる。これらのポリオレフィン樹脂は、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、ヘプテン−1、オクテン−1、シクロペンテン、シクロヘキセン、及びノルボルネンなどのα−オレフィンコモノマー、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなどのコモノマーとの共重合体であっても良いし、カルボン酸基(−COOH)、スルホ基(−SOH)、スルフィノ基(−SOH)、ホスホノ基(−POH)、ビニルアルコール鎖、ビニルピロリドン鎖、エーテル鎖などの親水性極性基が導入されていても良い。 Examples of the polyolefin resin include polyethylene, polypropylene, poly-4-methyl-1-pentene, poly-1-butene, chlorinated polypropylene, maleic anhydride-modified polypropylene, maleic anhydride-modified chlorinated polypropylene and the like. These polyolefin resins include α-olefin comonomer such as butene-1, penten-1, hexene-1, hepten-1, octene-1, cyclopentene, cyclohexene, norbornene, vinyl acetate, acrylic acid ester, methacrylic acid ester and the like. It may be a copolymer with the comonomer of, carboxylic acid group (-COOH), sulfo group (-SO 3 H), sulfino group (-SO 2 H), phosphono group (-PO 2 H), vinyl. Hydrophilic polar groups such as an alcohol chain, a vinylpyrrolidone chain, and an ether chain may be introduced.

シロキサンとしては、下記式(II)により表されるアルコキシシランのモノマーや、それらのモノマー同士が縮合することであらかじめ高分子量化されたアルコキシシランであってシロキサン結合(Si−O−Si)を1分子内に1個以上有するもの等が挙げられる。
SiR(II)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である。)アルコキシシランのモノマーを使用する場合は、導電性組成物に添加した後、導電性組成物中で高分子量化させてもよい。
The siloxane is an alkoxysilane monomer represented by the following formula (II), or an alkoxysilane whose molecular weight has been increased in advance by condensing these monomers with each other, and has a siloxane bond (Si—O—Si) of 1. Examples thereof include those having one or more in a molecule.
SiR 4 (II)
(In the formula, R is a hydrogen, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group which may have a substituent, and a phenyl group which may have a substituent. However, of the four Rs At least one of them is an alkoxy group or a hydroxyl group having 1 to 4 carbon atoms.) When a monomer of alkoxysilane is used, it may be added to the conductive composition and then increased in molecular weight in the conductive composition. good.

シロキサンの構造は特に限定されず、直鎖状であってもよく、分岐状でもよい。また、シロキサンは、式(II)により表される化合物を単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。これらのシロキサンは、ポリエーテル基、ポリアルキル基、ポリエステル基、ポリオール基によって変性されていても良い。変性の形状は直鎖状であってもよく、分岐状であっても良い。シロキサンの重量平均分子量は特に限定されないが、4000より大きく500000以下であることが好ましく、5000〜200000であることがより好ましい。ここで、重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。 The structure of the siloxane is not particularly limited, and may be linear or branched. Further, as the siloxane, the compound represented by the formula (II) may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. These siloxanes may be modified with a polyether group, a polyalkyl group, a polyester group, or a polyol group. The shape of the modification may be linear or branched. The weight average molecular weight of the siloxane is not particularly limited, but is preferably greater than 4000 and 500,000 or less, and more preferably 5000 to 20000. Here, the weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).

オキサゾリン樹脂としては、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−2−オキサゾリン及び2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン等の付加重合性オキサゾリン化合物等が挙げられる。市販品としては、エポクロスWS−300、WS−500及びWS−700(日本触媒(株)製)等が挙げられる。オキサゾリン樹脂を配合することにより導電性高分子同士の間に架橋を生じさせ、導電性塗膜の強度を向上できる。 Examples of the oxazoline resin include addition-polymerizable oxazoline compounds such as 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-vinyl-2-oxazoline and 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline. Examples of commercially available products include Epocross WS-300, WS-500 and WS-700 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.). By blending the oxazoline resin, cross-linking is generated between the conductive polymers, and the strength of the conductive coating film can be improved.

導電性組成物中の水性樹脂の含有量は特に限定されないが、導電性高分子100重量部に対し10〜5000重量部が好ましく、30〜3000重量部がより好ましく、50〜2000重量部がさらに好ましい。この範囲内では、導電性組成物により形成される塗膜において導電性を十分に確保できる。 The content of the aqueous resin in the conductive composition is not particularly limited, but is preferably 10 to 5000 parts by weight, more preferably 30 to 3000 parts by weight, and further 50 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductive polymer. preferable. Within this range, sufficient conductivity can be ensured in the coating film formed by the conductive composition.

<任意成分>
本発明においては、いずれかの工程において酸化防止剤、低分子アニオン、架橋剤、界面活性剤、フィラー、消泡剤、中和剤、増粘剤等を添加してもよい。
<Arbitrary ingredient>
In the present invention, antioxidants, low molecular weight anions, cross-linking agents, surfactants, fillers, defoamers, neutralizers, thickeners and the like may be added in any of the steps.

酸化防止剤を添加することにより、導電性組成物のpHの上昇を抑えられる。酸化防止剤としては、例えば、アスコルビン酸、エリソルビン酸、またはこれらの塩等の2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、没食子酸、没食子酸メチル、没食子酸プロピル、タンニン酸等のフェノール性水酸基を2個以上有する化合物が挙げられる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は、導電性高分子100重量部に対して10〜500重量部であることが好ましく、20〜300重量部であることがより好ましい。酸化防止剤は工程(iii)で添加することが好ましい。 By adding an antioxidant, an increase in pH of the conductive composition can be suppressed. Examples of the antioxidant include ascorbic acid, erythorbic acid, compounds having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups such as salts thereof, and phenols such as gallic acid, methyl gallate, propyl gallate, and tannic acid. Examples thereof include compounds having two or more sex hydroxyl groups. When an antioxidant is added, the amount of the antioxidant added is preferably 10 to 500 parts by weight, more preferably 20 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the conductive polymer. The antioxidant is preferably added in step (iii).

低分子アニオンを添加することにより、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの配置の安定化を促進できる。低分子アニオンの重量平均分子量は1000以下が好ましい。低分子アニオンとしては、p-トルエンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等の芳香族スルホン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の脂肪族スルホン酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、トリフルオロ酢酸等の有機カルボン酸、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウフッ化水素酸、フッ化水素酸、過塩素酸等の無機酸、PF5、AsF5、SbF5、BF5等のルイス酸等が挙げられる。特に芳香族スルホン酸や脂肪族スルホン酸が好ましい。低分子アニオンの添加量は、ポリ陰イオン100重量部に対して0.1〜100重量部が好ましく、1〜40重量部がより好ましく、10〜30重量部がさらに好ましい。低分子アニオンは、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの配置の安定化を促進させるために、工程(i)で添加することが好ましい。 By adding a low molecular weight anion, the stabilization of the arrangement of poly (3,4-disubstituted thiophene) and poly anion can be promoted. The weight average molecular weight of the low molecular weight anion is preferably 1000 or less. Low molecular weight anions include aromatic sulfonic acids such as p-toluene sulfonic acid, ethylbenzene sulfonic acid and dodecylbenzene sulfonic acid; aliphatic sulfonic acids such as methane sulfonic acid and trifluoromethane sulfonic acid, formic acid, acetic acid, oxalic acid and benzoic acid. Acids, organic carboxylic acids such as trifluoroacetic acid, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitrate, phosphoric acid, borohydrogenic acid, hydrofluoric acid, perchloric acid, Lewis acids such as PF5, AsF5, SbF5, BF5, etc. Can be mentioned. Aromatic sulfonic acid and aliphatic sulfonic acid are particularly preferable. The amount of the low molecular weight anion added is preferably 0.1 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 40 parts by weight, still more preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyanion. The low molecular weight anion is preferably added in step (i) in order to promote the stabilization of the arrangement of the poly (3,4-disubstituted thiophene) and the poly anion.

架橋剤を添加することにより水性樹脂を架橋させ、導電性組成物を塗工した後の塗膜強度を向上できる。架橋剤は、水性希釈剤に可溶であること好ましく、水に可溶であることがより好ましい。架橋剤としては、例えば、メラミン系、オキサゾリン系、エポキシ系、アルコキシシラン系等の化合物が挙げられる。これらの架橋剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。架橋剤を添加する場合、その含有量は、導電性組成物の固形分中0.1〜30重量%が好ましい。 By adding a cross-linking agent, the aqueous resin can be cross-linked and the strength of the coating film after the conductive composition is applied can be improved. The cross-linking agent is preferably soluble in an aqueous diluent, more preferably soluble in water. Examples of the cross-linking agent include melamine-based, oxazoline-based, epoxy-based, and alkoxysilane-based compounds. These cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more. When a cross-linking agent is added, the content thereof is preferably 0.1 to 30% by weight based on the solid content of the conductive composition.

メラミン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、メチル化メラミン化合物及びブチル化メラミン化合物等が挙げられ、市販品としては、ニカラックMW−30M((株)三和ケミカル製)及びサイメル303LF(オルネクスジャパン(株)製)等がある。これらは、2種以上を併用しても良い。 The melamine compound is not particularly limited, and examples thereof include a methylated melamine compound and a butylated melamine compound, and commercially available products include Nicarac MW-30M (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) and Cymel 303LF (Orne). Kus Japan Co., Ltd.) etc. These may be used in combination of two or more.

オキサゾリン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−2−オキサゾリン及び2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン等の付加重合性オキサゾリン化合物等が挙げられ、市販品としては、エポクロスWS−300、WS−500及びWS−700(日本触媒(株)製)等がある。これらは、2種以上を併用しても良い。 The oxazoline-based compound is not particularly limited, and examples thereof include addition-polymerizable oxazoline compounds such as 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-vinyl-2-oxazoline and 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline. Examples of commercially available products include Epocross WS-300, WS-500 and WS-700 (manufactured by Nippon Catalyst Co., Ltd.). These may be used in combination of two or more.

エポキシ系化合物としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物等が挙げられ、市販品としては、デナコールEX−521、EX−614(ナガセケムテックス(株)製)等を使用可能である。これらは、2種以上を併用しても良い。 The epoxy compound is not particularly limited, but for example, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolethane triglycidyl ether. , Sorbitol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether and other aliphatic polyepoxy compounds, and commercially available products such as Denacol EX-521 and EX-614 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation) can be used. be. These may be used in combination of two or more.

アルコキシシラン系化合物としては、例えば、下記式(III)により表されるアルコキシシランや、アルコキシシラン同士が縮合することで形成されるアルコキシシランオリゴマーであり、シロキサン結合(Si−O−Si)を1分子内に1個以上有するオリゴマー等が挙げられる。
SiR(III)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である。)
Examples of the alkoxysilane-based compound are an alkoxysilane represented by the following formula (III) and an alkoxysilane oligomer formed by condensing alkoxysilanes with each other, and have a siloxane bond (Si—O—Si) of 1. Examples thereof include oligomers having one or more in the molecule.
SiR 4 (III)
(In the formula, R is hydrogen, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group which may have a substituent, and a phenyl group which may have a substituent. However, of the four Rs At least one of them is an alkoxy group or a hydroxyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

アルコキシシランオリゴマーの構造は特に限定されず、直鎖状であってもよく、分岐状でもよい。また、アルコキシシランオリゴマーは、式(III)により表される化合物を単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。アルコキシシランオリゴマーの重量平均分子量は特に限定されないが、152より大きく4000以下であることが好ましく、500〜2500であることがより好ましい。ここで、重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。 The structure of the alkoxysilane oligomer is not particularly limited, and it may be linear or branched. Further, as the alkoxysilane oligomer, the compound represented by the formula (III) may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. The weight average molecular weight of the alkoxysilane oligomer is not particularly limited, but is preferably larger than 152 and 4000 or less, and more preferably 500 to 2500. Here, the weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC).

導電性組成物に界面活性剤を添加することにより、導電性組成物のレベリング性を向上させることができる。このような導電性組成物を用いることで均一な塗膜を形成できる。 By adding a surfactant to the conductive composition, the leveling property of the conductive composition can be improved. By using such a conductive composition, a uniform coating film can be formed.

界面活性剤としては、レベリング性向上効果を有するものであれば特に限定されず、ヤシ油脂肪酸アミン塩、ガムロジン等のカルボン酸;ヒマシ油硫酸エステル類、リン酸エステル、アルキルエーテル硫酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、スルホン酸エステル、コハク酸エステル等のエステル系化合物;アルキルアリールスルホン酸アミン塩、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム等のスルホン酸塩化合物;ラウリルリン酸ナトリウム等のリン酸塩化合物;ヤシ油脂肪酸エタノールアマイド等のアミド化合物等が挙げられる。これらの界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The surfactant is not particularly limited as long as it has an effect of improving leveling property, and is a carboxylic acid such as coconut oil fatty acid amine salt and gum rosin; castor oil sulfate esters, phosphate esters, alkyl ether sulfates, and sorbitan fatty acids. Ester compounds such as esters, sulfonic acid esters, and succinic acid esters; sulfonate compounds such as alkylaryl sulfonic acid amine salts and dioctyl sodium sulfosuccinate; phosphate compounds such as sodium lauryl phosphate; coconut oil fatty acid ethanol amide and the like. Examples of the amide compound and the like. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

導電性組成物が界面活性剤を含有する場合、含有量は導電性組成物の固形分中0〜40重量%が好ましく、0.01〜10重量%がより好ましい。 When the conductive composition contains a surfactant, the content is preferably 0 to 40% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight, based on the solid content of the conductive composition.

フィラーは、特に限定されないが、無機フィラー、架橋構造を有する有機フィラーなどが挙げられる。無機フィラーの材質の具体例として、特に限定されるものではないが、例えば、コロイダルシリカ、中空シリカ、フュームドシリカ等のシリカ及びチタニア、ジルコニア等の金属酸化物の他、熱可塑性又は熱硬化性のアクリル樹脂をシリカで被覆したコアシェル型のアクリル−シリカ複合体、メラミン樹脂をシリカで被覆したコアシェル型のメラミン−シリカ複合体、シリカを熱可塑性又は熱硬化性のアクリル樹脂で被覆したコアシェル型のアクリル−シリカ複合体、シリカをメラミン樹脂で被覆したコアシェル型のメラミン−シリカ複合体、熱可塑性又は熱硬化性のアクリル樹脂により小さなシリカを担持させたアクリル−シリカ複合体のような有機無機複合体等が挙げられる。有機フィラーの材質の具体例としては、特に限定されるものではないが、例えばフッ素樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタンゴム等が挙げられる。これらのフィラーは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。フィラーを添加する場合、その含有量は導電性組成物の固形分中0.1〜30重量%が好ましく、0.2〜10重量%がより好ましい。 The filler is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic filler and an organic filler having a crosslinked structure. Specific examples of the material of the inorganic filler are not particularly limited, but for example, in addition to silica such as colloidal silica, hollow silica and fumed silica and metal oxides such as titania and zirconia, thermoplastic or thermocurable. A core-shell type acrylic-silica composite in which the acrylic resin is coated with silica, a core-shell type melamine-silica composite in which the melamine resin is coated with silica, and a core-shell type in which silica is coated with a thermoplastic or thermosetting acrylic resin. Organic-inorganic composites such as acrylic-silica composites, core-shell melamine-silica composites in which silica is coated with melamine resin, and acrylic-silica composites in which small silica is supported by a thermoplastic or thermocurable acrylic resin. And so on. Specific examples of the material of the organic filler are not particularly limited, and examples thereof include fluororesin, acrylic resin, melamine resin, urethane rubber, and the like. These fillers may be used alone or in combination of two or more. When the filler is added, the content thereof is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 0.2 to 10% by weight, based on the solid content of the conductive composition.

<熟成工程(iv)>
工程(iv)では、工程(i)と工程(ii)との間、及び/又は工程(ii)と工程(iii)との間に、予備分散液又は分散液を1〜40℃で180時間以上熟成させる。ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンの混合物は両者の配置が安定化するまでに長時間を要し、導電性高分子の配置が安定化していない導電性組成物は製膜後に導電性が徐々に変動するため、所望の導電性を有する積層体を安定的に生産することが難しい。本発明では1〜40℃で180時間以上熟成する工程を経ることにより、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンの配置を安定化させ、所望の導電性を有する積層体を安定的に生産することができる。
<Aging process (iv)>
In step (iv), a pre-dispersion solution or dispersion is placed between steps (i) and step (ii) and / or between step (ii) and step (iii) at 1 to 40 ° C. for 180 hours. Aged as above. A mixture of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion takes a long time to stabilize the arrangement of both, and a conductive composition in which the arrangement of the conductive polymer is not stabilized forms a film. Since the conductivity gradually fluctuates later, it is difficult to stably produce a laminate having the desired conductivity. In the present invention, the arrangement of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanions is stabilized by undergoing a step of aging at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more, and a laminate having desired conductivity is stabilized. Can be produced as a target.

熟成温度は1〜40℃であり、2〜40℃が好ましく、3〜35℃がより好ましい。1℃未満では予備分散液又は分散液が凍結してしまい、40℃を超えると導電性高分子が凝集して塗布性や導電性、透明性が損なわれる傾向がある。 The aging temperature is 1 to 40 ° C, preferably 2 to 40 ° C, more preferably 3 to 35 ° C. If the temperature is lower than 1 ° C., the preliminary dispersion liquid or the dispersion liquid freezes, and if the temperature exceeds 40 ° C., the conductive polymer tends to aggregate and the coating property, conductivity, and transparency tend to be impaired.

熟成時間は180時間以上であり、200時間以上が好ましく、200〜20000時間がより好ましく、300〜10000時間がさらに好ましい。180時間未満ではポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンの配置が十分に安定化せず、導電性塗膜を形成した場合に導電性が変動する傾向がある。熟成時間の上限は特に限定されないが、20000時間を超えると導電性高分子が凝集する可能性がある。熟成は、予備分散液又は分散液を任意の容器に収容し、日の当たらない場所に静置又は、弱い摺動を適宜与えながら行うことが好ましい。収容する容器としては、ガラス製容器、ステンレス製容器、ポリエチレンテレフタレート、ポリアリレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、これらを構成するモノマーの共重合体、これらの材質を含む2種以上を組み合わせたプラスチック製容器等が挙げられるが、プラスチック製容器が好ましい。熟成時に撹拌機を用いて攪拌し続けるとポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンの配置安定化を阻害し、熟成効率を下げてしまうため、攪拌は行わないことが好ましい。 The aging time is 180 hours or more, preferably 200 hours or more, more preferably 200 to 20000 hours, still more preferably 300 to 10000 hours. In less than 180 hours, the arrangement of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion is not sufficiently stabilized, and the conductivity tends to fluctuate when a conductive coating film is formed. The upper limit of the aging time is not particularly limited, but if it exceeds 20000 hours, the conductive polymer may aggregate. It is preferable that the aging is carried out by storing the pre-dispersion liquid or the dispersion liquid in an arbitrary container and allowing it to stand in a place not exposed to the sun or giving weak sliding as appropriate. Containers to be accommodated include glass containers, stainless steel containers, polyethylene terephthalate, polyarylate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethylene, polytetrafluoroethylene, polypropylene, polybutylene terephthalate, polyimide, polymethylpentene, and polystyrene. Examples thereof include a copolymer of the monomers to be used, a plastic container in which two or more kinds containing these materials are combined, and the like, and a plastic container is preferable. If the stirring is continued using a stirrer at the time of aging, the stabilization of the arrangement of poly (3,4-disubstituted thiophene) and the poly anion is hindered and the aging efficiency is lowered. Therefore, it is preferable not to perform stirring.

さらに、工程(iv)に加えて、工程(iii)の後に導電性組成物を1〜40℃で180時間以上熟成させてもよく、この場合の熟成は、工程(iv)について述べた条件で行うことができる。 Further, in addition to the step (iv), the conductive composition may be aged at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more after the step (iii), in which case the aging is carried out under the conditions described for the step (iv). It can be carried out.

本発明の製造方法において、熟成は2回以上行うことが好ましく、3回以上行うことがより好ましい。例えば、熟成を工程(i)と工程(ii)との間、及び工程(ii)と工程(iii)との間に行ってもよい。また、工程(i)と工程(ii)との間、工程(ii)と工程(iii)との間、及び工程(iii)の後に行ってもよい。これらの中でも、熟成を工程(i)と工程(ii)との間に行うことが好ましい。予備分散液を熟成することにより、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの配置をより効率的に安定化できる。 In the production method of the present invention, aging is preferably carried out twice or more, and more preferably three times or more. For example, aging may be carried out between steps (i) and step (ii) and between steps (ii) and step (iii). Further, it may be performed between the step (i) and the step (ii), between the step (ii) and the step (iii), and after the step (iii). Among these, it is preferable that the aging is performed between the step (i) and the step (ii). By aging the predisperse, the arrangement of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanions can be stabilized more efficiently.

最終的に得られる導電性組成物の固形分濃度は0.05〜10%が好ましく、0.1〜8%がより好ましい。また、導電性組成物のpHは、pH2〜11が好ましく、pH6〜11がより好ましい。pH2未満の強酸性条件では製造ラインの金属腐食を生じたり、導電性組成物で形成された塗膜の膜厚が薄い場合に表面抵抗率が上昇したりすることがある。 The solid content concentration of the finally obtained conductive composition is preferably 0.05 to 10%, more preferably 0.1 to 8%. The pH of the conductive composition is preferably pH 2-11, more preferably pH 6-11. Under strongly acidic conditions of less than pH 2, metal corrosion of the production line may occur, and when the film thickness of the coating film formed of the conductive composition is thin, the surface resistivity may increase.

<<導電性組成物、および導電性塗膜>>
また、本発明の導電性組成物は、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、水、並びに、アルカリ化合物、水性希釈剤、及び水性樹脂からなる群から選択される1以上を含み、
式:(25℃で24時間放置した後の表面抵抗率)/(製膜直後の表面抵抗率)×100
で表される表面抵抗率の変化率が90〜110%である導電性塗膜を形成するための、導電性組成物である。
<< Conductive composition and conductive coating film >>
Further, the conductive composition of the present invention comprises a conductive polymer, water, which is a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a poly anion, as well as an alkaline compound, an aqueous diluent, and an aqueous resin. Including one or more selected from the group consisting of
Formula: (Surface resistivity after leaving at 25 ° C. for 24 hours) / (Surface resistivity immediately after film formation) × 100
It is a conductive composition for forming a conductive coating film in which the rate of change of surface resistivity represented by is 90 to 110%.

本発明の導電性組成物においては、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの配置を安定化させることができ、それにより導電性の変動を抑えた塗膜を得ることができる。よって、本発明の導電性組成物で形成された導電性塗膜は、
式:(25℃で24時間放置した後の表面抵抗率)/(製膜直後の表面抵抗率)×100
で表される表面抵抗率の変化率が90〜110%であるが、93〜108%であることが好ましい。なお、表面抵抗率は、基材上に導電性塗膜を形成した後、実施例に記載の方法により測定して得られる値をいう。
In the conductive composition of the present invention, the arrangement of poly (3,4-disubstituted thiophene) and poly anion can be stabilized, thereby obtaining a coating film in which fluctuations in conductivity are suppressed. can. Therefore, the conductive coating film formed of the conductive composition of the present invention is
Formula: (Surface resistivity after leaving at 25 ° C. for 24 hours) / (Surface resistivity immediately after film formation) × 100
The rate of change of the surface resistivity represented by is 90 to 110%, but is preferably 93 to 108%. The surface resistivity refers to a value obtained by measuring by the method described in Examples after forming a conductive coating film on a base material.

導電性塗膜は、導電性組成物を基材上に塗布し、乾燥することにより得られる。基材の材質は、熱可塑性樹脂、ガラス、金属等が挙げられ、なかでも熱可塑性樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂としてはポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂が挙げられ、これらの中でもガラス転移温度が180℃以下のものが好ましく、160℃以下のものがより好ましい。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)が挙げられる。アクリル系樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)が挙げられる。シクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー樹脂(COP)が挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂が挙げられる。セルロース系樹脂としては、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂が挙げられる。基材の厚みは、10〜1000μmであることが好ましく、25〜500μmであることがより好ましい。基材の全光線透過率は、60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。 The conductive coating film is obtained by applying a conductive composition on a substrate and drying it. Examples of the material of the base material include thermoplastic resin, glass, metal and the like, and among them, thermoplastic resin is preferable. Examples of the thermoplastic resin include polyester resins, acrylic resins, cycloolefin resins, polyolefin resins, cellulose resins, and polycarbonate resins. Among these, those having a glass transition temperature of 180 ° C. or lower are preferable, and those having a glass transition temperature of 160 ° C. or lower are preferable. The one is more preferable. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate (PET) and polybutylene terephthalate (PBT). Examples of the acrylic resin include polymethyl methacrylate resin (PMMA). Examples of the cycloolefin resin include a cycloolefin polymer resin (COP). Examples of the polyolefin resin include polyethylene resin and polypropylene resin. Examples of the cellulosic resin include triacetyl cellulose (TAC) resin. The thickness of the base material is preferably 10 to 1000 μm, more preferably 25 to 500 μm. The total light transmittance of the base material is preferably 60% or more, more preferably 70% or more.

導電性組成物の塗布方法は特に限定されず、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等を用いることができる。 The method for applying the conductive composition is not particularly limited, and for example, a roll coating method, a bar coating method, a dip coating method, a spin coating method, a spray coating method, a screen printing method, an inkjet printing method, or the like can be used.

導電性組成物の塗布後の乾燥は、導電性組成物に含まれる水やその他の揮発性溶媒を除去できれば特に限定されず、例えば、送風オーブン、赤外線オーブン、真空オーブン等を用いて行えばよい。乾燥温度は130℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましく、40〜80℃がさらに好ましい。乾燥時間は5分以下が好ましく、0.3〜3分間がより好ましい。 Drying after application of the conductive composition is not particularly limited as long as water and other volatile solvents contained in the conductive composition can be removed, and for example, a blower oven, an infrared oven, a vacuum oven, or the like may be used. .. The drying temperature is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower, and even more preferably 40 to 80 ° C. The drying time is preferably 5 minutes or less, more preferably 0.3 to 3 minutes.

導電性組成物に含まれる、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、水、アルカリ化合物、水性希釈剤、水性樹脂については前述した。 The conductive polymer, water, alkaline compound, aqueous diluent, and aqueous resin, which are composites of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanions, contained in the conductive composition have been described above.

導電性塗膜の膜厚は1〜300nmが好ましく、5〜250nmがより好ましく、10〜200nmがさらに好ましい。 The film thickness of the conductive coating film is preferably 1 to 300 nm, more preferably 5 to 250 nm, and even more preferably 10 to 200 nm.

導電性塗膜の製膜直後の表面抵抗率は、導電性塗膜が厚膜(70〜300nm)である場合には、10〜10000Ω/sqが好ましく、30〜2000Ω/sqがより好ましい。導電性塗膜が薄膜(1〜70nm)である場合には、10〜1010Ω/sqが好ましく、10〜10Ω/sqがより好ましい。 When the conductive coating film is a thick film (70 to 300 nm), the surface resistivity immediately after the formation of the conductive coating film is preferably 10 to 10000 Ω / sq, more preferably 30 to 2000 Ω / sq. When the conductive coating film is a thin film (1 to 70 nm), 10 4 to 10 10 Ω / sq is preferable, and 10 5 to 10 9 Ω / sq is more preferable.

<<積層体>>
本発明の導電性組成物を基材上に塗布することにより、基材と導電性塗膜からなる積層体が得られる。この積層体は導電性を安定に維持でき、表面保護フィルム、透明導電性フィルム、帯電防止フィルム等に好適に使用できる。
<< Laminated body >>
By applying the conductive composition of the present invention on a base material, a laminate composed of the base material and the conductive coating film can be obtained. This laminated body can stably maintain conductivity, and can be suitably used for a surface protective film, a transparent conductive film, an antistatic film, and the like.

実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。以下、「部」又は「%」は特記ない限り、それぞれ「重量部」又は「重量%」を意味する。 The present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Hereinafter, "parts" or "%" means "parts by weight" or "% by weight", respectively, unless otherwise specified.

(主要な使用材料)
1.導電性高分子
・3,4−エチレンジオキシチオフェン(東京化成工業株式会社製)
・ポリスチレンスルホン酸(PSS)水溶液(アクゾノーベル株式会社製、TL−72、固形分率17%)
2.低分子アニオン
・p−トルエンスルホン酸(東京化成工業株式会社製)
3.水性樹脂
・アクリル樹脂A(ビックケミー・ジャパン製、BYK-350)
・アクリル樹脂B(日本カーバイド製、ニカゾールRX−3020)
・ポリウレタン樹脂(ADEKA製、アデカボンタイターHUX−895)
・ポリエステル樹脂(東亞合成製、アロンメルトPES−2405A30)
・ポリオレフィン樹脂(TOYOBO製、ハードレンEW−5303)
4.酸化防止剤
・アスコルビン酸(東京化成工業株式会社製)
5.溶剤
・エチレングリコール(東京化成工業株式会社製)
・N−メチルピロリドン(東京化成工業株式会社製:NMP)
・エタノール(東京化成工業株式会社製)
6.樹脂基材
・トリアセチルセルロース樹脂(富士フイルム製、フジタックTJ25UL:TAC)
・ポリエチレンテレフタレート樹脂(東レ製、ルミラーT60:PET)
・シクロオレフィン樹脂(日本ゼオン製、ゼオノアZF−14:COP)
・アクリル樹脂(製造例1にて作成)
(Main materials used)
1. 1. Conductive polymer 3,4-ethylenedioxythiophene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
-Polystyrene sulfonic acid (PSS) aqueous solution (manufactured by AkzoNobel Co., Ltd., TL-72, solid content 17%)
2. Low molecular weight anion, p-toluenesulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
3. 3. Aqueous resin / acrylic resin A (manufactured by Big Chemie Japan, BYK-350)
-Acrylic resin B (manufactured by Nippon Carbide, Nikazol RX-3020)
-Polyurethane resin (made by ADEKA, ADEKA Bontiter HUX-895)
-Polyester resin (manufactured by Toagosei, Aronmelt PES-2405A30)
-Polyolefin resin (manufactured by TOYOBO, Hardlen EW-5303)
4. Antioxidant, ascorbic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
5. Solvent / ethylene glycol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ N-Methylpyrrolidone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .: NMP)
・ Ethanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
6. Resin base material, triacetyl cellulose resin (manufactured by Fujifilm, Fujitac TJ25UL: TAC)
-Polyethylene terephthalate resin (manufactured by Toray, Lumirror T60: PET)
-Cycloolefin resin (Zeon Corporation, Zeonoa ZF-14: COP)
・ Acrylic resin (created in Production Example 1)

(製造例1)アクリル樹脂基材の製造
ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂(共重合モノマー重量比=メタクリル酸メチル/2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル=8/2、ラクトン環化率約100%、ラクトン環構造の含有割合19.4%、重量平均分子量133000、メルトフローレート6.5g/10分(240℃、10kgf)、Tg131℃)90重量部と、アクリロニトリル−スチレン(AS)樹脂(トーヨーAS AS20、東洋スチレン社製)10重量部との混合物(Tg127℃)のペレットを二軸押し出し機に供給し、約280℃でシート状に溶融押し出しして、厚さ110μmのラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、160℃の温度条件下、縦2.0倍、横2.4倍に延伸して(メタ)アクリル系樹脂基材(厚さ:40μm、面内位相差Δnd:0.8nm、厚み方向位相差Rth:1.5nm)を得た。
(Production Example 1) Production of acrylic resin base material (meth) acrylic resin having a lactone ring structure (copolymerization monomer weight ratio = methyl methacrylate / 2- (hydroxymethyl) methyl acrylate = 8/2, lactone cyclization The rate is about 100%, the content of the lactone ring structure is 19.4%, the weight average molecular weight is 133000, the melt flow rate is 6.5 g / 10 minutes (240 ° C., 10 kgf), 90 parts by weight of Tg131 ° C.), and acrylonitrile-styrene (AS). ) Pellets of a mixture (Tg 127 ° C) with 10 parts by weight of resin (Toyo AS AS20, manufactured by Toyo Styron Co., Ltd.) are supplied to a biaxial extruder, melt-extruded into a sheet at about 280 ° C, and lactone having a thickness of 110 μm. A (meth) acrylic resin sheet having a ring structure was obtained. This unstretched sheet was stretched 2.0 times in length and 2.4 times in width under a temperature condition of 160 ° C. (thickness: 40 μm, in-plane retardation Δnd: 0. 8 nm, thickness direction phase difference Rth: 1.5 nm) was obtained.

(実施例1〜14、比較例1〜5)
(1)導電性組成物の製造
(i)予備分散液の製造
下記合成例1〜5により、表1〜2に記載のポリ(3,4−二置換チオフェン)、ポリ陰イオン、および低分子アニオンを水中で混合し、予備分散液を製造した。
(Examples 1 to 14, Comparative Examples 1 to 5)
(1) Production of conductive composition (i) Production of preliminary dispersion liquid Poly (3,4-disubstituted thiophene), poly anion, and small molecule shown in Tables 1 and 2 according to the following Synthesis Examples 1 to 5. The anions were mixed in water to produce a pre-dispersion solution.

(合成例1)
冷却管を備えた3000mlガラスフラスコを用いて、ポリスチレンスルホン酸水溶液104.4部と3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.1部、イオン交換水を1700部のイオン交換水に加え、混合液を得た。この混合液を撹拌しながら、100部のイオン交換水に硫酸第二鉄4.0部とペルオキソ二硫酸アンモニウム14.8部を溶解させた液を加え、10℃にて24時間撹拌して酸化重合を行った。次いで、陽イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIR120B)と陰イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIRA67)とを詰めたカラムに得られた反応混合液を通液させることで酸化剤と触媒の残渣を取り除いた後、固形分率1.3%の予備分散液を得た。
(Synthesis Example 1)
Using a 3000 ml glass flask equipped with a cooling tube, 104.4 parts of a polystyrene sulfonic acid aqueous solution, 7.1 parts of 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), and 1700 parts of ion-exchanged water were added to the ion-exchanged water. A mixture was obtained. While stirring this mixed solution, a solution prepared by dissolving 4.0 parts of ferric sulfate and 14.8 parts of ammonium peroxodisulfate in 100 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 24 hours for oxidative polymerization. Was done. Next, the reaction mixture obtained was passed through a column packed with a cation exchange resin (Amberlite IR120B, manufactured by Organo Corporation) and an anion exchange resin (Amberlite IRA67, manufactured by Organo Corporation) to oxidize. After removing the residue of the agent and the catalyst, a preliminary dispersion having a solid content of 1.3% was obtained.

(合成例2)
冷却管を備えた3000mlガラスフラスコを用いて、ポリスチレンスルホン酸水溶液104.4部とp−トルエンスルホン酸3.6部、3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.1部、イオン交換水を1900部のイオン交換水に加え、混合液を得た。この混合液を撹拌しながら、100部のイオン交換水に硫酸第二鉄0.1部とペルオキソ二硫酸アンモニウム13.1部を溶解させた液を加え、10℃にて24時間撹拌して酸化重合を行った。次いで、陽イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIR120B)と陰イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIRA67)とを詰めたカラムに得られた反応混合液を通液させることで酸化剤と触媒の残渣を取り除いた後、固形分率1.3%の予備分散液を得た。
(Synthesis Example 2)
Using a 3000 ml glass flask equipped with a cooling tube, 104.4 parts of polystyrene sulfonic acid aqueous solution, 3.6 parts of p-toluenesulfonic acid, 7.1 parts of 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), ion-exchanged water. Was added to 1900 parts of ion-exchanged water to obtain a mixed solution. While stirring this mixed solution, a solution prepared by dissolving 0.1 part of ferric sulfate and 13.1 part of ammonium peroxodisulfate in 100 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 24 hours for oxidative polymerization. Was done. Next, the reaction mixture obtained was passed through a column packed with a cation exchange resin (Amberlite IR120B, manufactured by Organo Corporation) and an anion exchange resin (Amberlite IRA67, manufactured by Organo Corporation) to oxidize. After removing the residue of the agent and the catalyst, a preliminary dispersion having a solid content of 1.3% was obtained.

(合成例3)
冷却管を備えた3000mlガラスフラスコを用いて、ポリスチレンスルホン酸水溶液83.5部とp−トルエンスルホン酸3.6部、3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.1部、イオン交換水を1900部のイオン交換水に加え、混合液を得た。この混合液を撹拌しながら、100部のイオン交換水に硫酸第二鉄0.1部とペルオキソ二硫酸アンモニウム13.1部を溶解させた液を加え、10℃にて24時間撹拌して酸化重合を行った。次いで、陽イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIR120B)と陰イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIRA67)とを詰めたカラムに得られた反応混合液を通液させることで酸化剤と触媒の残渣を取り除いた後、固形分率1.3%の予備分散液を得た。
(Synthesis Example 3)
Using a 3000 ml glass flask equipped with a cooling tube, 83.5 parts of an aqueous polystyrene sulfonic acid solution, 3.6 parts of p-toluenesulfonic acid, 7.1 parts of 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), and ion-exchanged water. Was added to 1900 parts of ion-exchanged water to obtain a mixed solution. While stirring this mixed solution, a solution prepared by dissolving 0.1 part of ferric sulfate and 13.1 part of ammonium peroxodisulfate in 100 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 24 hours for oxidative polymerization. Was done. Next, the reaction mixture obtained was passed through a column packed with a cation exchange resin (Amberlite IR120B, manufactured by Organo Corporation) and an anion exchange resin (Amberlite IRA67, manufactured by Organo Corporation) to oxidize. After removing the residue of the agent and the catalyst, a preliminary dispersion having a solid content of 1.3% was obtained.

(合成例4)
冷却管を備えた3000mlガラスフラスコを用いて、ポリスチレンスルホン酸水溶液125.3部とp−トルエンスルホン酸7.1部、3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.1部、イオン交換水を2500部のイオン交換水に加え、混合液を得た。この混合液を撹拌しながら、100部のイオン交換水に硫酸第二鉄0.1部とペルオキソ二硫酸アンモニウム13.1部を溶解させた液を加え、10℃にて24時間撹拌して酸化重合を行った。次いで、陽イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIR120B)と陰イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIRA67)とを詰めたカラムに得られた反応混合液を通液させることで酸化剤と触媒の残渣を取り除いた後、固形分率1.3%の予備分散液を得た。
(Synthesis Example 4)
Using a 3000 ml glass flask equipped with a cooling tube, 125.3 parts of polystyrene sulfonic acid aqueous solution, 7.1 parts of p-toluenesulfonic acid, 7.1 parts of 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), ion-exchanged water. Was added to 2500 parts of ion-exchanged water to obtain a mixed solution. While stirring this mixed solution, a solution prepared by dissolving 0.1 part of ferric sulfate and 13.1 part of ammonium peroxodisulfate in 100 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 24 hours for oxidative polymerization. Was done. Next, the reaction mixture obtained was passed through a column packed with a cation exchange resin (Amberlite IR120B, manufactured by Organo Corporation) and an anion exchange resin (Amberlite IRA67, manufactured by Organo Corporation) to oxidize. After removing the residue of the agent and the catalyst, a preliminary dispersion having a solid content of 1.3% was obtained.

(合成例5)
冷却管を備えた3000mlガラスフラスコを用いて、ポリスチレンスルホン酸水溶液106.3部とp−トルエンスルホン酸0.6部、3,4−エチレンジオキシチオフェン(EDOT)7.1部、イオン交換水を1700部のイオン交換水に加え、混合液を得た。この混合液を撹拌しながら、100部のイオン交換水に硫酸第二鉄0.1部とペルオキソ二硫酸アンモニウム13.1部を溶解させた液を加え、10℃にて24時間撹拌して酸化重合を行った。次いで、陽イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIR120B)と陰イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、アンバーライトIRA67)とを詰めたカラムに得られた反応混合液を通液させることで酸化剤と触媒の残渣を取り除いた後、固形分率1.3%の予備分散液を得た。
(Synthesis Example 5)
Using a 3000 ml glass flask equipped with a cooling tube, 106.3 parts of polystyrene sulfonic acid aqueous solution and 0.6 parts of p-toluenesulfonic acid, 7.1 parts of 3,4-ethylenedioxythiophene (EDOT), ion-exchanged water. Was added to 1700 parts of ion-exchanged water to obtain a mixed solution. While stirring this mixed solution, a solution prepared by dissolving 0.1 part of ferric sulfate and 13.1 part of ammonium peroxodisulfate in 100 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 10 ° C. for 24 hours for oxidative polymerization. Was done. Next, the reaction mixture obtained was passed through a column packed with a cation exchange resin (Amberlite IR120B, manufactured by Organo Corporation) and an anion exchange resin (Amberlite IRA67, manufactured by Organo Corporation) to oxidize. After removing the residue of the agent and the catalyst, a preliminary dispersion having a solid content of 1.3% was obtained.

(ii)導電性高分子の分散
予備分散液に含まれる導電性高分子を、高圧ホモジナイザーにより表1〜2に記載の条件で高分散して、導電性高分子の分散液を製造した。工程(ii)を行う前後の粘度の測定結果を表1〜2に示す。粘度は25℃条件下、B型粘度計によって測定した。
(Ii) Dispersion of Conductive Polymer The conductive polymer contained in the preliminary dispersion liquid was highly dispersed by a high-pressure homogenizer under the conditions shown in Tables 1 and 2 to produce a dispersion liquid of the conductive polymer. The measurement results of the viscosity before and after the step (ii) are shown in Tables 1 and 2. The viscosity was measured with a B-type viscometer under the condition of 25 ° C.

(iii)分散液へのアルカリ化合物、水性希釈剤、水性樹脂の添加
導電性高分子の分散液に、表1〜2に記載の水性樹脂、酸化防止剤、溶剤、アルカリ化合物を添加した。なお、表1〜2において水の含有量は、工程(i)と(iii)において配合された水の合計量を示す。
(Iii) Addition of alkaline compound, aqueous diluent, and aqueous resin to the dispersion liquid The aqueous resin, antioxidant, solvent, and alkaline compound shown in Tables 1 and 2 were added to the dispersion liquid of the conductive polymer. In Tables 1 and 2, the water content indicates the total amount of water blended in steps (i) and (iii).

(iv)熟成
上記工程(i)〜(ii)の間、(ii)〜(iii)の間、及び(iii)の後で、予備分散液又は分散液を、表1〜2に記載の温度および時間条件で熟成させた。熟成を経て最終的に得られた導電性組成物のpHを表1〜2に示す。比較例5では工程(ii)を実施しなかったため、工程(i)と(iii)の間で熟成工程を実施した。
(Iv) Aging During the above steps (i) to (ii), between (ii) to (iii), and after (iii), the pre-dispersion liquid or the dispersion liquid is placed at the temperatures shown in Tables 1 and 2. And aged under time conditions. The pH of the conductive composition finally obtained after aging is shown in Tables 1 and 2. Since the step (ii) was not carried out in Comparative Example 5, the aging step was carried out between the steps (i) and (iii).

(2)導電性塗膜の形成
導電性組成物を、樹脂基材上にワイヤーバーを用いて塗工し、表1〜2に記載の厚膜作製時の条件、または薄膜作製時の条件で乾燥することで樹脂基材上に導電性塗膜を形成した。
(2) Formation of Conductive Coating Film The conductive composition is coated on a resin base material using a wire bar, and under the conditions for producing a thick film or a thin film shown in Tables 1 and 2. By drying, a conductive coating film was formed on the resin substrate.

(3)導電性塗膜(厚膜)の表面抵抗率
形成した直後の表面抵抗率が500Ω/sqになるようワイヤーバーの番手を調整して樹脂基材上に導電性塗膜を形成した。樹脂基材上に導電性塗膜を形成した直後、および25℃で24時間保存した後で、JIS K7194に従い、三菱化学社製ロレスタGP(MCP−T610、商品名)を用いて、プローブESP、印加電圧10Vで表面抵抗率を測定した。表面抵抗率の変化率を下記式により算出し、その結果を表1〜2に示した。但し、比較例3は導電率が低いため500Ω/sqを実現する製膜が出来なかった。
(表面抵抗率の変化率%)=(25℃で24時間保存後の表面抵抗率)/(塗膜形成直後の表面抵抗率)×100
(3) Surface resistivity of Conductive Coating Film (Thick Film) The wire bar count was adjusted so that the surface resistivity immediately after formation was 500Ω / sq, and the conductive coating film was formed on the resin base material. Immediately after forming the conductive coating film on the resin substrate and after storing at 25 ° C. for 24 hours, the probe ESP, using the Loresta GP (MCP-T610, trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, according to JIS K7194. The surface resistivity was measured at an applied voltage of 10 V. The rate of change in surface resistivity was calculated by the following formula, and the results are shown in Tables 1 and 2. However, in Comparative Example 3, since the conductivity was low, it was not possible to form a film achieving 500Ω / sq.
(% change rate of surface resistivity) = (surface resistivity after storage at 25 ° C. for 24 hours) / (surface resistivity immediately after coating film formation) × 100

(4)導電性塗膜(薄膜)の表面抵抗率
固形分率が2%になるように導電性組成物を水で希釈した後、塗布厚みが5μmとなるようワイヤーバーの番手を選択して樹脂基材上に導電性塗膜を形成した。樹脂基材上に導電性塗膜を形成した直後、および25℃で24時間保存した後で、JIS K7194に従い、三菱化学社製ハイレスタUP(MCP−HT−450、商品名)を用いて、プローブUA、印加電圧10V〜500Vで表面抵抗率を測定した。表面抵抗率の変化率を下記式により算出し、その結果を表1〜2に示した。
(表面抵抗率の変化率%)=(25℃で24時間保存後の表面抵抗率)/(塗膜形成直後の表面抵抗率)×100
(4) Surface resistivity of conductive coating film (thin film) After diluting the conductive composition with water so that the solid content is 2%, select the wire bar count so that the coating thickness is 5 μm. A conductive coating film was formed on the resin substrate. Immediately after forming the conductive coating film on the resin substrate and after storing at 25 ° C. for 24 hours, the probe was used by Mitsubishi Chemical Corporation's High Resta UP (MCP-HT-450, trade name) according to JIS K7194. The surface resistivity was measured at UA and an applied voltage of 10 V to 500 V. The rate of change in surface resistivity was calculated by the following formula, and the results are shown in Tables 1 and 2.
(% change rate of surface resistivity) = (surface resistivity after storage at 25 ° C. for 24 hours) / (surface resistivity immediately after coating film formation) × 100

Figure 0006906745
Figure 0006906745

Figure 0006906745
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比較例1〜2では、工程(i)〜(ii)の間、及び(ii)〜(iii)の間での熟成時間がいずれも180時間に満たなかったため、得られた導電性組成物で形成された塗膜は、厚膜と薄膜のいずれも表面抵抗率の変化が大きかった。比較例3の導電性組成物で形成された厚膜は抵抗値が著しく高く測定できず、薄膜は表面抵抗率の変化が大きかった。比較例4では45℃という高温で熟成したため、厚膜と薄膜のいずれも表面抵抗率の変化が大きく、薄膜での表面抵抗率も高い値となった。比較例5では工程(ii)を行わなかったため、厚膜と薄膜のいずれも表面抵抗率の変化が大きく、薄膜での表面抵抗率も高い値となった。 In Comparative Examples 1 and 2, the aging time between the steps (i) to (ii) and between (ii) to (iii) was less than 180 hours, so that the obtained conductive composition was used. In the formed coating film, the change in surface resistivity was large in both the thick film and the thin film. The thick film formed of the conductive composition of Comparative Example 3 had a remarkably high resistance value and could not be measured, and the thin film had a large change in resistivity. In Comparative Example 4, since it was aged at a high temperature of 45 ° C., the surface resistivity of both the thick film and the thin film changed significantly, and the surface resistivity of the thin film also became a high value. Since the step (ii) was not performed in Comparative Example 5, the change in the surface resistivity of both the thick film and the thin film was large, and the surface resistivity of the thin film was also high.

実施例1〜14では工程(i)〜(ii)の間、又は(ii)〜(iii)の間で適温下180時間以上の熟成を行ったため、得られた導電性組成物で形成された塗膜は、厚膜と薄膜のいずれも表面抵抗率の変化率が90〜110%の範囲内に抑えられた。


In Examples 1 to 14, aging was carried out between steps (i) to (ii) or between (ii) to (iii) at an appropriate temperature for 180 hours or more, so that the conductive composition was formed. As for the coating film, the rate of change in surface resistivity of both the thick film and the thin film was suppressed within the range of 90 to 110%.


Claims (8)

下記工程(i)〜(iii):
(i)ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体である導電性高分子、及び水を含む予備分散液を得る工程、
(ii)予備分散液を分散機に供して分散液を得る工程、及び
(iii)分散液にアルカリ化合物、水性希釈剤、及び水性樹脂からなる群から選択される1以上を添加する工程
を、この順に有し、
工程(i)と工程(ii)との間、及び/又は工程(ii)と工程(iii)との間に、
下記工程(iv):
(iv)予備分散液又は分散液を1〜40℃で200時間以上熟成させる工程
を有する、導電性組成物の製造方法。
The following steps (i) to (iii):
(I) A step of obtaining a preliminary dispersion liquid containing a conductive polymer which is a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a poly anion, and water.
(Ii) A step of subjecting the preliminary dispersion to a disperser to obtain a dispersion, and (iii) a step of adding one or more selected from the group consisting of an alkaline compound, an aqueous diluent, and an aqueous resin to the dispersion. Have in this order
Between step (i) and step (ii) and / or between step (ii) and step (iii),
The following process (iv):
(Iv) A method for producing a conductive composition, which comprises a step of aging the preliminary dispersion liquid or the dispersion liquid at 1 to 40 ° C. for 200 hours or more.
工程(iv)を2回以上行う請求項1に記載の導電性組成物の製造方法。 The method for producing a conductive composition according to claim 1, wherein the step (iv) is performed twice or more. さらに、工程(iii)の後に、分散液を1〜40℃で180時間以上熟成させる工程を有する、請求項1又は2に記載の導電性組成物の製造方法。 The method for producing a conductive composition according to claim 1 or 2, further comprising a step of aging the dispersion liquid at 1 to 40 ° C. for 180 hours or more after the step (iii). 導電性組成物が低分子アニオンを含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性組成物の製造方法。 The method for producing a conductive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive composition contains a low molecular weight anion. 水性希釈剤が水溶性有機溶媒を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性組成物の製造方法。 The method for producing a conductive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the aqueous diluent contains a water-soluble organic solvent. 導電性組成物全体に対する水溶性有機溶媒の含有量が1重量%以上である、請求項5に記載の導電性組成物の製造方法。 The method for producing a conductive composition according to claim 5, wherein the content of the water-soluble organic solvent in the entire conductive composition is 1% by weight or more. 導電性高分子100重量部に対し、水性樹脂の添加量が507.1重量部以上である、
請求項1〜6のいずれかに記載の導電性組成物の製造方法。
The amount of the aqueous resin added is 507.1 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the conductive polymer.
The method for producing a conductive composition according to any one of claims 1 to 6.
さらに、架橋剤を固形分中30重量%以下の濃度で添加する工程を含む、
請求項7に記載の導電性組成物の製造方法。

Further, the step of adding the cross-linking agent at a concentration of 30% by weight or less in the solid content is included.
The method for producing a conductive composition according to claim 7.

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