JP6900819B2 - 反転オフセット印刷方法 - Google Patents
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Description
まず、離型性表面を有する弾性基材1に、インク2を塗布して弾性基材1aを得る。ここで離型性とは前記弾性基材上に形成されたインク膜を印刷基材5に接触させて、転写する際に、弾性基材上のインク膜を残留させることなく、印刷基材に移行させる作用をいい、一般に印刷用の弾性基材に求められる公知の基本的特性である。
その後、インクを構成する液体成分の少なくとも一部を蒸発、あるいは前記弾性基材に吸収させ、弾性基材表面に濃縮されたインク膜2aを形成することで弾性基材1bとする(図1(a)〜(c))。
次に、弾性基材1bを除去凸版3に密着させ、前記インク膜を除去凸版3に接触させることでインク膜の不要な部分を除去し、弾性基材表面に印刷パターンが形成されたインク膜2bを含む弾性基材1cを得る(図1(d))。
次に、弾性基材1cを印刷基材5に密着させて離すことで、前記インク膜2bを印刷基材5に転写することにより、印刷基材上にパターンが形成された印刷物1dを得る(図1(e)〜(f))。
転写後のインク膜が付着していない弾性基材1を乾燥して、弾性基材表面、あるいは弾性基材に吸収された液体成分の一部を除去する。
前記インク膜を濃縮するインク膜濃縮工程と、
前記弾性基材上の前記インク膜を除去凸版と接触させて、前記インク膜から不要部分を除去して、前記弾性基材上にパターニングされたインク膜を得る除去工程と、
前記弾性基材上の前記パターニングされたインク膜を印刷基材に接触転写させて、印刷物を得る転写工程と、
前記弾性基材を乾燥する乾燥工程、
を含む印刷方法において、
前記インク膜形成工程で得られるインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、塗工欠陥箇所を特定し、塗布欠陥印刷物を排除することを特徴とする印刷方法である。
反転オフセット印刷用インクとして、銀ナノ粒子分散導電性インク(銀の固形分として15%、平均粒子径20μm)を用いた。該導電性インクは本発明の方法で印刷した後、180℃で30分間、オーブン中で加熱することにより、導電性を有する印刷物とすることができる。
弾性基材として、120μm厚みのポリエステルフィルムに200μm厚みのシリコーンゴムを積層接着した50mm×50mm角のものを用いた。
印刷用版は厚み3.0mmのウェットエッチング法で印刷パターンを加工した65mm×65mm角のソーダガラス版を用いた。印刷パターンには印刷方向(除去、転写方向)に平行、および垂直な、幅100μmで長さが20mmの直線パターンを含む(図3)。該直線パターンは500μm間隔で配置され、平行、垂直ともにそれぞれ、40本作製した。該直線パターン以外に観察用の格子パターン(45°傾斜、幅100μm)、円柱パターン(直径200μm、千鳥配置)を作製した。
印刷基材として60mm×60角で0.7mm厚みの無アルカリガラス板を使用した。
印刷装置としてMHIソリューションテクノロジーズ株式会社製PE−TESTER P−100を使用した。
前記導電性インクを前記弾性基材にガラス製スリットダイコーターを用いて塗布することにより、前記弾性基材上にインク膜を形成した。
インク膜形成後、30秒経過した後、エバ・ジャパン社製ハイパースペクトルカメラNH−8を用いて波長範囲400nmから1000nmの範囲でインク膜全体を撮像した。さらに同様にして、30秒毎にインク膜を撮像した。この間、インク膜の濃縮が進行し、インク膜はしだいに銀光沢を帯びた。
続いてインク膜が形成された弾性基材を版に密着させ、前記インク膜の不要な部分を除去凸版に接触させることで除去し、弾性基材表面に印刷パターンを形成した。
次に、印刷パターンが形成された弾性基材を印刷基材に密着させて離すことで、印刷パターンを印刷基材に転写することにより、印刷基材上に印刷物を得た。
続いて、前記濃縮工程で撮像したインク膜の多波長反射スペクトルを解析して、多波長反射スペクトルの経時変化を比較した(図4〜図6)。その結果、前記銀インクからなるインク膜では、塗布直後の未濃縮状態では780nm付近の反射スペクトル強度が高く、濃縮の進行に伴って、620nm付近のスペクトル強度が高まることが見出された。前記繰返し印刷における濃縮工程の反射スペクトル比(=620nmの反射スペクトル/780nmの反射スペクトル)を算出すると、該スペクトル比が0.95未満ではインク膜濃縮不良による解像性の低さが確認され、該スペクトル比が1.04以上ではインク膜の濃縮が進み過ぎて固体状に近い膜となり、印刷不良を生じることが判明した。したがって、濃縮時間に係らず、該スペクトル比が0.95以上で1.04未満であれば、良好な印刷物が得られることを見出した。
前記のインク膜形成から転写工程までの一連の反転オフセット印刷工程を20回繰返す連続印刷を実施した。塗布によるインク膜形成後、30秒毎に各印刷のインク膜濃縮工程で前記のハイパースペクトルカメラによる撮像を実施し、インク膜全体の反射スペクトルを測定した。前記のインク膜中央部の反射スペクトル比が0.95以上であり、かつ、1.04未満であることを確認して、除去工程、転写工程を実施した。このとき、弾性基材へのインク由来の液体成分吸収が蓄積されるため、濃縮に要する時間は印刷を重ねるごとに長時間化したものの、問題なく20回連続で繰返し印刷することができた。
連続20回の印刷の後、得られた印刷物をレーザー顕微鏡で観察したところ、印刷欠陥はほぼ見られず、印刷パターンの解像性は高く、良好であった。また印刷物を180℃で30分、オーブン中で加熱熱風焼成した後、日置電機株式会社製X−Y C HiTESTERを用いて前記記載の直線パターン(合計80本)の抵抗値を測定することにより、断線、ショートを検査したところ、無欠陥であった(表1)。
また前記連続印刷において、本発明のインク膜の多波長反射スペクトルを測定することにより、撮像画像から塗布不良を検出することができる。すなわち、インク膜形成工程において、インク膜にカスレやピンホールなどが生じて、均一なインク膜が形成されてないことが、撮像画像あるいは反射スペクトルデータから確認された場合、直ちに印刷を中止し、不良なインク膜を弾性基材から除去することにより、連続印刷を継続することができる。
また前記連続印刷の転写工程において、本発明のインク膜の多波長反射スペクトルを測定することにより、転写欠陥の有無を判断することができる。すなわち、除去工程、もしくは転写工程において、インク膜が前記弾性基材から版、もしくは印刷基材に移行せず、弾性基材に残留すれば、本発明の多波長反射スペクトルを測定することにより、インク膜由来のスペクトルが検出されるので、欠陥の有無を判断することができる。
前記インク膜濃縮工程における濃縮時間を90秒に固定する以外は、実施例1と同様にして、印刷準備を実施した後、反転オフセット印刷を連続で実施した(インク膜の撮像、多波長反射スペクトル測定は実施しない)。印刷10回目、11回目に連続して転写不良が発生した。目視で弾性基材上のインク膜の残留を確認した。さらに印刷12回目、13回目の除去工程において、未濃縮インク膜が版と接触することによって生じた除去不良を確認した。さらに印刷14回目、15回目のインク膜形成工程において、一部のインク膜除去不良由来と考えられるピンホール状のインク膜形成不良が発生したため、連続印刷を中止した。また印刷後の電気特性評価において、印刷7回目以降の印刷物には断線、ショートが多数、発生していることが確認され、印刷良品が得られていなかったことを確認した(表2)。印刷物の顕微鏡観察からも、印刷7回目以降は全体的に解像性が低いことを確認した。
反転オフセット印刷用の絶縁体インクとして、UV硬化性スチレンアクリル樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PGMEA)溶液(固形分として20%、ほぼ無色)を用いる以外は、実施例1と同様にして印刷準備を実施した。本発明の方法で印刷した後、印刷基材上のパターニングされた該絶縁体インク膜を高圧水銀ランプを具備したUV照射装置を用いて、積算光量2000mJ/cm2で硬化することにより、絶縁性を有する透明の印刷物とすることができる。
インク以外の部材、装置は実施例1と同様にして、印刷準備を実施した。
実施例1と同様にして、前記弾性基材上にインク膜を形成した。
インク膜形成後、エバ・ジャパン社製ハイパースペクトルカメラSIS−1を用いて波長範囲1000nmから1600nmの近赤外領域でインク膜全体を撮像した。前記インク膜形成工程で良好なインク膜が形成されているかどうかは、該インク膜が透明薄膜であるため、目視では判断できないが、本発明の近赤外域の撮像画像からは判断できる。前記絶縁体インクでは1320nm、および1420nmの反射スペクトルからインク膜形成状態を判断した(図7)。撮像画像と反射スペクトルから良好なインク膜が形成されていないことが確認された場合は、直ちに印刷を中断し、以後の工程を実施しないことにより、生産性低下を抑制することができ、版洗浄に伴う洗浄液使用、廃液処理の負荷を低減することができる。
実施例1と同様にして、インク膜が形成された弾性基材を版に密着させ、前記インク膜の不要な部分を除去凸版に接触させることで除去し、弾性基材表面に印刷パターンを形成した。
実施例1と同様にして、印刷パターンが形成された弾性基材を印刷基材に密着させて離すことで、印刷パターンを印刷基材に転写することにより、印刷基材上に印刷パターンが形成された印刷物を得た。
転写後の弾性基材を前記ハイパースペクトルカメラSIS−1を用いて波長範囲1000nmから1600nmの範囲で30秒毎に撮像した。撮像画像をもとに取得した多波長反射スペクトルから、弾性基材上、もしくは弾性基材内部に浸透したPGMEAと見られるインク由来の液体成分を確認した。さらに30秒毎の撮像の結果、乾燥の進行に伴って、該インク由来成分の低減が確認された。該インク由来成分はPGMEAなどの揮発性液体であり、乾燥工程の送風によって揮発し、しだいに前記弾性基材から除去されたと考えられる。本発明の方法で弾性基材の乾燥度を検査することにより、乾燥に必要な最短時間を決定できるので、印刷時間の短縮が可能となり、乾燥に必要な送風量を最小限に抑えることに寄与できる。
前記乾燥工程で撮像したインク膜の多波長反射スペクトル(図7)を解析して、乾燥進行に伴う、多波長反射スペクトルの経時変化を追跡した(図8)。乾燥の進行に伴い、多波長反射スペクトルの変化率が低下することが確認された。測定波長領域1000nm〜1600nmの範囲で変化率が1.01を下回るまで前記弾性基材を乾燥することにより、繰返し印刷が可能であることを確認した。なお、繰返し印刷が可能となる変化率は使用するインクによって異なるため、使用するインク毎に弾性基材の多波長反射スペクトルを測定し、その経時変化から変化率を導出して、乾燥度との関係を取得し、必要な乾燥時間を決定してから、連続印刷を実施する。したがって解析する多波長反射スペクトル、および前記変化率は本実施例に限定されない。
前記乾燥工程で前記弾性基材の多波長反射スペクトルを測定し、該スペクトルが経時的にほとんど変化せず、インク由来成分の残留がほとんどないと判断された後に送風乾燥を終了して、次の印刷を実施することにより、安定的に繰返し印刷を実施することができる。ここで弾性基材の乾燥が不十分のまま、繰返し印刷を実施すると、前記弾性基材の表面、あるいは内部にインク由来の液体成分が蓄積され、インク膜形成不良や、濃縮時間の長時間化など、安定的な連続印刷の妨げとなり、好ましくない。また送風による乾燥時間を過剰に長くすると、印刷工程が長時間化し、かつ、送風に伴うエネルギー使用量増大につながり、好ましくない。本発明の多波長スペクトルを測定する反転オフセット印刷方法により、適切な乾燥時間を印刷毎に設定することができ、この結果、安定的な印刷が実施できため、印刷欠陥が大幅に低減された印刷物を効率的に得ることができる。
連続20回の印刷の後、得られた印刷物をレーザー顕微鏡で観察したところ、印刷欠陥はほぼ見られず、印刷パターンは良好であった。また日置電機株式会社製X−Y C HiTESTERを用いて前記記載の直線パターン(合計80本)と印刷基材底面との間の静電容量を測定することにより、直線パターンの断線、および隣接する直線パターンの連結を検査したところ、これらの欠陥は最大1個以下であり、良好であった(表3)。
実施例2において、本発明の近赤外領域の多波長反射スペクトル測定から、印刷11回目で塗工方向にスジ状の塗布不良が検出されたので、印刷を中断し、不良なインク膜を除去した。なお、このとき該インク膜は透明であることから、目視による欠陥の検出は不可能であった。塗布欠陥を含むインク膜を除去した後、連続印刷を再開した。
実施例2において、本発明の近赤外領域の多波長反射スペクトル測定から、印刷5回目に転写不良によるインク膜の弾性基材への残留を検出したので、印刷を中断し、不良なインク膜を除去した。なお、このとき該インク膜は透明であることから、目視による欠陥の検出は不可能であった。弾性基材に残留するインク膜を除去した後、連続印刷を再開した。
前記インク膜濃縮工程における濃縮時間を90秒に固定する以外は、実施例2と同様にして、印刷準備を実施した後、反転オフセット印刷を連続で実施した(インク膜の撮像、多波長反射スペクトル測定は実施しない)。インク膜は透明なので、目視で欠陥、転写不良等を判断できないため、所定の連続20回印刷を実施した(図4参照)。その後、印刷物を顕微鏡観察で解像性を評価し、さらにハイテスタを用いて図3記載の直線パターンの断線、およびショート(直線パターンの連結)を検査したところ、印刷7回目から欠陥数増大が顕著になり、印刷良品は得られなかった。また印刷良品が得られないにもかかわらず、印刷毎に実施する版洗浄の洗浄廃液が蓄積され、生産性が低下した。
1a : インク膜が塗布された弾性基材
1b : インク膜2aが形成された弾性基材
1c : インク膜2bが形成された弾性基材
1d : 印刷物
2 : インク膜
2a : 濃縮されたインク膜
2b : 弾性基材表面にパターニングされたインク膜
2c : 除去凸版に除去されたインク膜
3 : 除去凸版
4 : インク膜が付着した除去凸版
5 : 印刷基材
6 : 回転ドラム
7 : 定盤が走行するレール
8 : ハイパースペクトルカメラ
9 : ランプ
10 : 画像出力端末
11 : 弾性基材乾燥装置
12 : 空気
Claims (7)
- 少なくとも、インク離型性を有する弾性基材上にインクを塗布してインク膜を得る第一工程と、
前記インク膜を濃縮する第二工程と、
前記弾性基材上の前記インク膜を除去凸版と接触させて、前記インク膜から不要部分を除去して、前記弾性基材上にパターニングされたインク膜を得る第三工程と、
前記弾性基材上の前記パターニングされたインク膜を印刷基材に接触転写させて、印刷物を得る第四工程と、
前記弾性基材を乾燥する第五工程、
を含む印刷方法において、
前記第一工程で得られるインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、塗工欠陥箇所を特定し、塗布欠陥印刷物を排除することを特徴とする印刷方法。 - 請求項1記載の第二工程において、前記インク離型性を有する弾性基材上のインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、前記第二工程の濃縮時間を決定することを特徴とする印刷方法。
- 請求項1記載の第四工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、転写欠陥の有無を判断することを特徴とする印刷方法。
- 請求項1記載の第五工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、弾性基材の乾燥時間を決定することを特徴とする印刷方法。
- 前記多波長反射スペクトルの検出手段がハイパースペクトルカメラである請求項1〜4いずれか1項に記載の印刷方法。
- 前記反射スペクトルの範囲が300nmから2500nmである、請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷方法。
- 前記反射スペクトルの範囲が400nmから1000nmである、請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷方法。
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