JP6899298B2 - 研磨方法および研磨装置 - Google Patents
研磨方法および研磨装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6899298B2 JP6899298B2 JP2017185751A JP2017185751A JP6899298B2 JP 6899298 B2 JP6899298 B2 JP 6899298B2 JP 2017185751 A JP2017185751 A JP 2017185751A JP 2017185751 A JP2017185751 A JP 2017185751A JP 6899298 B2 JP6899298 B2 JP 6899298B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stopper
- polishing
- load
- moving
- determined
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
本発明の好ましい態様は、前記ストッパーの傾き量を決定する工程は、前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出する工程であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパーの移動速度を決定する工程は、前記研磨荷重を予め設定された目標値に維持させることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であり、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパーの移動速度を算出する工程は、フィードバック制御を実行して、前記研磨荷重の目標値と、前記研磨荷重との偏差を最小とすることができる該ストッパーの移動速度を決定する工程であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパーの傾き量を決定する工程は、前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出する工程であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパーの移動速度を決定する工程は、前記荷重を予め設定された目標値に維持させることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であり、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパーの移動速度を算出する工程は、フィードバック制御を実行して、前記荷重の目標値と、前記荷重との偏差を最小とすることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパー傾き量決定部は、前記距離センサによって測定された前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパー速度決定部は、前記研磨荷重を予め設定された目標値に維持させることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパー速度決定部は、フィードバック制御を実行して、前記研磨荷重の目標値と、前記決定された荷重を前記アクチュエータで発生した力の値から減算することによって決定される前記研磨荷重との偏差を最小とすることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記研磨装置は前記算出された移動速度で前記基板を研磨するように構成されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパー傾き量決定部は、前記距離センサによって測定された前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパー速度決定部は、前記荷重決定部によって決定された荷重を予め設定された目標値に維持させることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ストッパー速度決定部は、フィードバック制御を実行して、前記荷重の目標値と、前記荷重決定部によって決定された荷重との偏差を最小とすることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記研磨装置は前記算出された移動速度で前記基板を研磨するように構成されていることを特徴とする。
2 ウェハステージ(基板ステージ)
3 ステージモータ
7 研磨テープ
10 研磨ヘッド組立体
11 研磨ヘッド
12 押圧部材
12a 貫通孔
14 巻き出しリール
15 巻き取りリール
17,18 リールモータ
20 テープ送り装置
21,22 ガイドローラ
23 第1の距離センサ
25 エアシリンダ
27 荷重伝達部材
27a 押圧部材ホルダー
30 真空ライン
31 位置決め部材
32 第2の距離センサ
33 直動ガイド
34 突部
35 ストッパー
36 サーボモータ
37 ストッパー移動機構
38 ボールねじ機構
39 フレーム
41 ストッパー傾き量決定部
42 荷重決定部
43 ストッパー速度決定部
Claims (20)
- アクチュエータで発生した力を研磨ヘッドに加えることで研磨具を前記研磨ヘッドで基板に押し付け、
前記研磨ヘッドに連結された位置決め部材の所定の方向への移動をストッパーで制限しながら、前記ストッパーをストッパー移動機構により前記所定の方向に移動させ、
前記位置決め部材から荷重を受けたときの前記ストッパーの傾き量を決定し、
前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定し、
前記決定された荷重を、前記アクチュエータで発生した力の値から減算することによって、前記研磨具から前記基板に加えられる研磨荷重を決定し、
前記研磨荷重が目標範囲内に収まることができる前記ストッパーの移動速度を決定し、
前記ストッパーを前記決定された移動速度で前記所定の方向に移動させながら前記基板を研磨することを特徴とする研磨方法。 - 前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定する工程は、前記位置決め部材から前記ストッパーに加えられた荷重と前記ストッパーの傾き量との関係を示す、予め構築されたデータベースに基づいて、前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定する工程であることを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
- 前記ストッパーの傾き量を決定する工程は、前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出する工程であることを特徴とする請求項1または2に記載の研磨方法。
- 前記ストッパーの移動速度を決定する工程は、前記研磨荷重を予め設定された目標値に維持させることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であり、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の研磨方法。
- 前記ストッパーの移動速度を算出する工程は、フィードバック制御を実行して、前記研磨荷重の目標値と、前記研磨荷重との偏差を最小とすることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であることを特徴とする請求項4に記載の研磨方法。
- アクチュエータで発生した力を研磨ヘッドに加えることで研磨具を前記研磨ヘッドで基板に押し付け、
前記研磨ヘッドに連結された位置決め部材の所定の方向への移動をストッパーで制限しながら、前記ストッパーをストッパー移動機構により前記所定の方向に移動させ、
前記位置決め部材から荷重を受けたときの前記ストッパーの傾き量を決定し、
前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定し、
前記荷重が目標範囲内に収まることができる前記ストッパーの移動速度を決定し、
前記ストッパーを前記決定された移動速度で前記所定の方向に移動させながら前記基板を研磨することを特徴とする研磨方法。 - 前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定する工程は、前記位置決め部材から前記ストッパーに加えられた荷重と前記ストッパーの傾き量との関係を示す、予め構築されたデータベースに基づいて、前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定する工程であることを特徴とする請求項6に記載の研磨方法。
- 前記ストッパーの傾き量を決定する工程は、前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出する工程であることを特徴とする請求項6または7に記載の研磨方法。
- 前記ストッパーの移動速度を決定する工程は、前記荷重を予め設定された目標値に維持させることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であり、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一項に記載の研磨方法。
- 前記ストッパーの移動速度を算出する工程は、フィードバック制御を実行して、前記荷重の目標値と、前記荷重との偏差を最小とすることができる該ストッパーの移動速度を算出する工程であることを特徴とする請求項9に記載の研磨方法。
- 基板を保持する基板保持部と、
研磨具を前記基板に押し付ける研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドに連結され、前記研磨ヘッドに力を加えるアクチュエータと、
前記研磨ヘッドと一体に移動可能な位置決め部材と、
前記研磨ヘッドの移動距離を測定する距離センサと、
前記研磨ヘッドおよび前記位置決め部材の移動を制限するストッパーと、
前記ストッパーを所定の方向に移動させるストッパー移動機構と、
前記位置決め部材から荷重を受けたときの前記ストッパーの傾き量を決定するストッパー傾き量決定部と、
前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定する荷重決定部と、
前記決定された荷重を、前記アクチュエータで発生した力の値から減算することによって、前記研磨具から前記基板に加えられる研磨荷重を決定し、該研磨荷重が目標範囲内に収まることができる前記ストッパーの移動速度を決定するストッパー速度決定部とを備えていることを特徴とする研磨装置。 - 前記荷重決定部は、前記位置決め部材から前記ストッパーに加えられた荷重と前記ストッパーの傾き量との関係を示す、予め構築されたデータベースを備え、該データベースに基づいて、前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定することを特徴とする請求項11に記載の研磨装置。
- 前記ストッパー傾き量決定部は、前記距離センサによって測定された前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出することを特徴とする請求項11または12に記載の研磨装置。
- 前記ストッパー速度決定部は、前記研磨荷重を予め設定された目標値に維持させることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか一項に記載の研磨装置。
- 前記ストッパー速度決定部は、フィードバック制御を実行して、前記研磨荷重の目標値と、前記決定された荷重を前記アクチュエータで発生した力の値から減算することによって決定される前記研磨荷重との偏差を最小とすることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記研磨装置は前記算出された移動速度で前記基板を研磨するように構成されていることを特徴とする請求項14に記載の研磨装置。
- 基板を保持する基板保持部と、
研磨具を前記基板に押し付ける研磨ヘッドと、
前記研磨ヘッドに連結され、前記研磨ヘッドに力を加えるアクチュエータと、
前記研磨ヘッドと一体に移動可能な位置決め部材と、
前記研磨ヘッドの移動距離を測定する距離センサと、
前記研磨ヘッドおよび前記位置決め部材の移動を制限するストッパーと、
前記ストッパーを所定の方向に移動させるストッパー移動機構と、
前記位置決め部材から荷重を受けたときの前記ストッパーの傾き量を決定するストッパー傾き量決定部と、
前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定する荷重決定部と、
前記荷重が目標範囲内に収まることができる前記ストッパーの移動速度を決定するストッパー速度決定部とを備えていることを特徴とする研磨装置。 - 前記荷重決定部は、前記位置決め部材から前記ストッパーに加えられた荷重と前記ストッパーの傾き量との関係を示す、予め構築されたデータベースを備え、該データベースに基づいて、前記荷重を前記ストッパーの傾き量から決定することを特徴とする請求項16に記載の研磨装置。
- 前記ストッパー傾き量決定部は、前記距離センサによって測定された前記研磨ヘッドの移動距離と、前記ストッパー移動機構が前記ストッパーを移動させた移動距離との差に基づいて、該ストッパーの傾き量を算出することを特徴とする請求項16または17に記載の研磨装置。
- 前記ストッパー速度決定部は、前記荷重決定部によって決定された荷重を予め設定された目標値に維持させることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記目標値は前記目標範囲内の値であることを特徴とする請求項16乃至18のいずれか一項に記載の研磨装置。
- 前記ストッパー速度決定部は、フィードバック制御を実行して、前記荷重の目標値と、前記荷重決定部によって決定された荷重との偏差を最小とすることができる前記ストッパーの移動速度を算出し、前記研磨装置は前記算出された移動速度で前記基板を研磨するように構成されていることを特徴とする請求項19に記載の研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017185751A JP6899298B2 (ja) | 2017-09-27 | 2017-09-27 | 研磨方法および研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017185751A JP6899298B2 (ja) | 2017-09-27 | 2017-09-27 | 研磨方法および研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019058980A JP2019058980A (ja) | 2019-04-18 |
| JP6899298B2 true JP6899298B2 (ja) | 2021-07-07 |
Family
ID=66175968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017185751A Expired - Fee Related JP6899298B2 (ja) | 2017-09-27 | 2017-09-27 | 研磨方法および研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6899298B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023070852A (ja) * | 2021-11-10 | 2023-05-22 | 株式会社荏原製作所 | 荷重調整システムおよび荷重調整方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011079079A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Canon Inc | 研磨装置 |
| JP2013103318A (ja) * | 2011-11-16 | 2013-05-30 | Toshiba Corp | 研磨装置及び研磨方法 |
| JP6130677B2 (ja) * | 2013-01-31 | 2017-05-17 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置および研磨方法 |
| JP6568006B2 (ja) * | 2016-04-08 | 2019-08-28 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置および研磨方法 |
-
2017
- 2017-09-27 JP JP2017185751A patent/JP6899298B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019058980A (ja) | 2019-04-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6568006B2 (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
| US9694467B2 (en) | Polishing method of polishing a substrate | |
| US9573241B2 (en) | Polishing apparatus and polishing method | |
| KR20210093167A (ko) | 연마 헤드 시스템 및 연마 장치 | |
| JP7121572B2 (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
| JP7049984B2 (ja) | 研磨装置および静止リングの傾きを制御する方法 | |
| US11534886B2 (en) | Polishing device, polishing head, polishing method, and method of manufacturing semiconductor device | |
| JP7169210B2 (ja) | 研磨方法および研磨装置 | |
| KR20160124142A (ko) | 연마 장치 및 연마 방법 | |
| JP6899298B2 (ja) | 研磨方法および研磨装置 | |
| JP2018001325A (ja) | ヘッド高さ調整装置およびヘッド高さ調整装置を備える基板処理装置 | |
| WO2023074231A1 (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
| JP7811109B2 (ja) | 基板研磨方法、基板研磨装置、およびプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
| JP2021028097A (ja) | 研磨方法、研磨システム、基板処理方法、および基板処理システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200422 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210310 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210316 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210507 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210608 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210614 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6899298 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |