JP6890198B2 - 創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法 - Google Patents

Description

本発明は、細胞賦活化剤、創傷治療薬、抗炎症薬、歯肉炎治療薬及び歯周病治療薬に関する。
本願は、２０１７年６月１６日に、日本に出願された特願２０１７−１１９１５２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

従来、歯科治療等の医療用途へのプラズマを患部に照射し、創傷等の治癒を図る装置が知られている。
例えば、特許文献１には、歯科治療を行うインスツルメントにプラズマジェット照射手段を搭載し、治療患部にプラズマジェット照射を可能にした歯科用診療装置が開示されている。
特許文献１に記載の発明によれば、発生したプラズマを患部に直接照射することで、創傷等の治癒を図っている。

特許第５４４１０６６号公報

いわゆるプラズマ照射装置としては、プラズマジェット照射装置と活性ガス照射装置とがある。
プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生し、発生したプラズマとプラズマ中もしくは周辺の気体と反応して生成したヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等の活性酸素種、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等の活性窒素種を被照射物に直接照射する。
活性ガス照射装置は、プラズマを発生し、発生したプラズマ中もしくは周辺の気体、照射対象に含まれる水分等と反応して生成したヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等の活性酸素種、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等の活性窒素種を含む活性ガスを被照射物に照射する。

活性ガスの組成は、プラズマを生成するガスや周辺気体によって異なる。
また、活性ガスの組成によってプラズマ照射の効果が異なる。
しかしながら、医療用途で低温のプラズマを発生させるプラズマジェット照射装置は、プラズマを発生させるプラズマ発生ガスが一般的に希ガスに限られる。
そこで、本発明は、広範なプラズマ発生ガスを用いてプラズマを発生させ、活性ガスを照射することができる医療用治療器具を提供することを目的とする。

本発明は、以下の態様を有する。
＜１＞下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌのガスである、細胞賦活化剤。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
＜２＞下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌのガスである、細胞賦活化剤。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
＜３＞下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌのガスである、細胞賦活化剤。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
＜４＞＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の細胞賦活化剤からなる、創傷治療薬。
＜５＞＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の細胞賦活化剤からなる、抗炎症薬。
＜６＞＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の細胞賦活化剤からなる、歯肉炎治療薬。
＜７＞＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の細胞賦活化剤からなる、歯周病治療薬。

また、本発明は、以下の態様を有してもよい。
［１］プラズマを発生し、発生したプラズマにより生じた活性ガスを照射口から照射する医療用治療器具において、
前記活性ガスは、前記照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、かつ、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、医療用治療器具。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
［２］プラズマを発生し、発生したプラズマにより生じた活性ガスを照射口から照射する医療用治療器具において、
前記活性ガスは、前記照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、医療用治療器具。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
［３］プラズマを発生し、発生したプラズマにより生じた活性ガスを照射口から照射する医療用治療器具において、
前記活性ガスは、前記照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、医療用治療器具。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
［４］歯科用である、［１］〜［３］のいずれかに記載の医療用治療器具。

［５］［１］〜［４］のいずれかに記載の医療用治療器具を用い、前記活性ガスを被照射物に照射する、医療用治療器具の使用方法。
［６］プラズマ発生ガスに電圧を印加してプラズマを発生し、前記プラズマにより生じた活性ガスを細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物に照射して、前記被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進する、活性ガスの照射方法であって、
前記活性ガスは、照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、かつ、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、活性ガスの照射方法（但し、ヒトに対する医療行為を除く）。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
［７］プラズマ発生ガスに電圧を印加してプラズマを発生し、前記プラズマにより生じた活性ガスを細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物に照射して、前記被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進する、活性ガスの照射方法であって、
前記活性ガスは、照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、活性ガスの照射方法（但し、ヒトに対する医療行為を除く）。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
［８］プラズマ発生ガスに電圧を印加してプラズマを発生し、前記プラズマにより生じた活性ガスを細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物に照射して、前記被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進する、活性ガスの照射方法であって、
前記活性ガスは、照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、活性ガスの照射方法（但し、ヒトに対する医療行為を除く）。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
［９］前記プラズマ発生ガスは、窒素ガスを主成分とする、［６］〜［８］のいずれかに記載の活性ガスの照射方法。
［１０］前記プラズマ発生ガスは、酸素濃度が１体積％以下である、［６］〜［９］のいずれかに記載の活性ガスの照射方法。

［１１］プラズマ発生ガスに電圧を印加してプラズマを発生し、前記プラズマにより生じた活性ガスをヒトの細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物に照射する治療方法であって、
前記活性ガスは、照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、かつ、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、治療方法。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
［１２］プラズマ発生ガスに電圧を印加してプラズマを発生し、前記プラズマにより生じた活性ガスをヒトの細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物に照射する治療方法であって、
前記活性ガスは、照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、治療方法。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
［１３］プラズマ発生ガスに電圧を印加してプラズマを発生し、前記プラズマにより生じた活性ガスをヒトの細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物に照射する治療方法であって、
前記活性ガスは、照射口から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における温度が４０℃以下であり、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである、治療方法。
＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
［１４］前記プラズマ発生ガスは、窒素ガスを主成分とする、［１１］〜［１３］のいずれかに記載の治療方法。
［１５］前記プラズマ発生ガスは、酸素濃度が１体積％以下である、［１１］〜［１４］のいずれかに記載の治療方法。

本発明の医療用治療器具によれば、広範なプラズマ発生ガスを用いてプラズマを発生させ、活性ガスを照射することができる。

本発明の一実施形態に係る医療用治療器具の模式図である。 本発明の一実施形態に係る医療用治療器具のインスツルメントの部分断面図である。 図２のｘ−ｘ線で切断した断面図である。 実施例７の創傷の初期の写真である。 実施例７の創傷の１４日後の写真である。 実施例８の創傷の初期の写真である。 実施例８の創傷の１４日後の写真である。 実施例１３の創傷の初期の写真である。 実施例１３の創傷の１４日後の写真である。 実施例１４の創傷の初期の写真である。 実施例１４の創傷の１４日後の写真である。 比較例２の創傷の初期の写真である。 比較例２の創傷の１４日後の写真である。 比較例３の創傷の初期の写真である。 比較例３の創傷の１４日後の写真である。 実施例１０の１４日後の創傷から採取した組織の光学顕微鏡写真である。 実施例１１の１４日後の創傷から採取した組織の光学顕微鏡写真である。 実施例１２の１４日後の創傷から採取した組織の光学顕微鏡写真である。 比較例１の１４日後の創傷から採取した組織の光学顕微鏡写真である。 比較例４の１４日後の創傷から採取した組織の光学顕微鏡写真である。

本発明の医療用治療器具は、プラズマを発生し、発生したプラズマにより生じた活性ガスを照射口から照射する医療用治療器具である。
なお、本明細書において、活性ガスとは、ラジカル等の活性種、励起した原子、励起した分子、イオン等のいずれかを含む化学活性の高いガスをいう。
以下、好適な実施の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。

《医療用治療器具》
本発明の一実施形態に係る医療用治療器具１００の模式図を図１に示す。
医療用治療器具１００は、インスツルメント１０と、給電ユニット２０と、ガス管路３０と、電気配線４０とを備える。インスツルメント１０は、ガス管路３０及び電気配線４０を介して、給電ユニット２０と接続されている。ガス管路３０及び電気配線４０は、一つに束ねられてインスツルメント１０に接続されることが好ましい。

インスツルメント１０は、プラズマにより生じた活性ガスを照射口から照射する照射器具である。
図２に示すように、インスツルメント１０は、ノズル１と、筒状のカウリング２とを備える。ノズル１は、台座部１ｂと、台座部１ｂから延びる照射管１ｃとを備える。
カウリング２は、ヘッド部２ａと胴体部２ｂとで構成されている。ヘッド部２ａの先端部の形状はテーパー状であり、その頂部に、ノズル１が設けられている。ノズル１の台座部１ｂと、カウリング２のヘッド部２ａとは、着脱可能に嵌合している。胴体部２ｂの外面には、スイッチ９が設けられている。

カウリング２のヘッド部２ａと、台座部１ｂとの内部には、流路７が形成されている。
ノズル１の照射管１ｃの内部には、流路８が形成されている。照射管１ｃの先端側には、プラズマにより生じた活性ガスを照射する照射口１ａが形成されている。

カウリング２の内部空間には、管状誘電体３と、内部電極４と、外部電極５とが備えられている。管状誘電体３は、長手方向に延びるように設置され、カウリング２の内面と接している。管状誘電体３の管軸Ｏ１は、カウリング２の管軸と一致している。管状誘電体３の内空部には、筒状の内部電極４が設置されている。内部電極４の管軸は、管状誘電体３の管軸Ｏ１と一致している。管状誘電体３の内面と内部電極４とは、離間して配置されており、流路６が形成されている。流路６は、プラズマ発生ガスが流れる流路となっている。流路６、７、８は、照射口１ａに至るまで連通する。内部電極４が配置された管状誘電体３の外側の外周部の一部には、管状の外部電極５が設置されている。外部電極５の管軸は、管状誘電体３の管軸Ｏ１と一致している。

図３に、図２のｘ−ｘ線で切断した断面図を示す。図３に示すように、円筒状のカウリング２、円筒状の外部電極５、管状誘電体３、内部電極４が、この順で外側から中心（管軸Ｏ１）へ向けて同心円状に配置されている。外部電極５は、管状誘電体３の外周面に密着して配置されている。外部電極５は、カウリング２の胴体部２ｂの内周面に密着して配置されている。
内部電極４は、前記同心円の中心を含む位置に配置され、管状誘電体３の内周面から離間して配置されている。内部電極４と管状誘電体３との間には流路６が形成され、流路６をプラズマ発生ガスが通流する。

ノズル１の管軸Ｏ２は、管状誘電体３の管軸Ｏ１と点Ｑで、角度θをなすように交わっている。管軸Ｏ１と、管軸Ｏ２とのなす角度θは、医療用治療器具１００の用途等を勘案して、適宜決定できる。

照射口１ａの開口径は、例えば、０．５〜５ｍｍが好ましい。開口径が上記下限値以上であれば、活性ガスの圧力損失を抑えられる。開口径が上記上限値以下であれば、照射される活性ガスの流速を高めて、治癒等をより促進できる。

照射管１ｃ内の流路８の長さ（即ち、距離Ｌ２）は、医療用治療器具１００の用途等を勘案して、適宜決定できる。

ノズル１の材料は、特に限定されないが、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ノズル１の材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属が挙げられる。

カウリング２のヘッド部２ａに形成された流路７は、管軸Ｏ１の延長線上にある。外部電極５の先端中心点Ｐから、管軸Ｏ１と管軸Ｏ２との交点Ｑまでの距離Ｌ１は、医療用治療器具１００に求める大きさや、照射された面（被照射面）における活性ガスの温度等を勘案して適宜決定される。

カウリング２の形状は特に限定されず、外部電極５及び内部電極４を内部空間に収納可能な形状であることが好ましい。管状誘電体３も同様に内部空間に収納されることが好ましい。カウリング２は、円筒状の形状であることが好ましいが、手で持ちやすいように加工された形状であってもよい。

カウリング２のヘッド部２ａ及びノズル１は、ヒトの口腔内に挿入され得る大きさであると、インスツルメント１０を歯科用の治療器具に容易に適用できるため好ましい。

カウリング２の胴体部２ｂは、感電防止の観点から、電気絶縁性の材料によって構成されていることが好ましい。例えば、胴体部２ｂは、電気絶縁性の材料のみで形成されてもよいし、電気絶縁性の材料とその表面に金属材料の層を有する多層構造でもよい。
電気絶縁性の材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。
金属材料としては、ステンレス、チタン、アルミニウム等が挙げられる。
カウリング２のヘッド部２ａの材料は特に限定されず、上記した電気絶縁性の材料の他、金属材料が用いられてもよい。ヘッド部２ａの材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属が挙げられる。ヘッド部２ａと胴体部２ｂとの材料は、同じであってもよく、異なっていてもよい。

管状誘電体３の材料は特に限定されず、公知のプラズマ発生装置に使用される誘電体材料が適用できる。管状誘電体３の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等が挙げられる。管状誘電体３の誘電率は低いほど好ましい。管状誘電体３の材料としては、誘電率の低いガラスが好ましい。
管状誘電体３の断面形状は特に限定されず、例えば、円、楕円、四角形、六角形等が挙げられる。

内部電極４の外周面には、ねじ状の溝（即ち、らせん状の溝）が設けられている。即ち、内部電極４の外周面には、らせん状の凸条が設けられている。図２において、管状誘電体３を挟んで内部電極４の外周面が外部電極５の内周面に対向している。内部電極４の外周面に設けられたねじ山は、外部電極５の内周面に近接するように位置している。内部電極４の外周面に設けられたねじ状の溝（ねじ谷）は、外部電極５の内周面から遠ざかる位置に配置されている。
上記配置により、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなるため、低電力でプラズマを生成し、維持することができる。

内部電極４と外部電極５とが対向した領域において、内部電極４の外周面に設けられたねじ山の頂点と外部電極５の内周面との距離は、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。ねじ山における２箇所以上で、プラズマを発生し得る距離で外部電極５の内周面に近接していることが好ましい。低温のプラズマを大気圧で発生し得る距離として、例えば、０．０１〜２．０ｍｍが挙げられる。
内部電極４における外部電極５と対向している領域の長さＬ３は、１〜１００ｍｍが好ましく、２〜５０ｍｍがより好ましい。長さＬ３が上記下限値以上であれば、プラズマの発生個所を増やして、より効率的にプラズマを発生できる。長さＬ３が上記上限値以下であれば、プラズマのガスの温度上昇が抑制され、被照射面における活性ガスの温度を低く保つことができる。本実施形態において、長さＬ３は、外部電極５の長さと等しい。
なお、外部電極５は、管軸Ｏ１方向に２つ以上に分かれていてもよい。外部電極５が管軸Ｏ１方向に分かれている場合、長さＬ３は、２つの外部電極の後端から先端までの長さであり、２つの外部電極の間の距離を含むものとする。

インスツルメント１０に備えられる内部電極４の形状は、ねじ状の溝が設けられた形状に限定されず、外部電極５に対向する電極表面に凹凸を有する形状であってもよい。例えば、コイル状の形状や、棒状又は筒状の内部電極４の外周面にイボ（突起）、穴、貫通孔が複数形成された形状が挙げられる。内部電極４における管軸Ｏ１に直交する断面形状は特に限定されず、例えば、円、楕円形、四角形、六角形等が挙げられる。

内部電極４の材料は、導電材であれば特に限定されず、公知のプラズマ発生装置に使用される金属が適用できる。

外部電極５の形状は、内部電極４に沿って配置可能な形状であれば特に限定されず、例えば、円筒状、棒状、板状等の形状が挙げられる。外部電極５の形状としては、円筒状が好ましく、管状誘電体３の外周面に密着して設置することが可能な内径を有する円筒状がより好ましい。この様な円筒状であることにより、内部電極４の外周面に外部電極５の内周面が確実に対向するように、外部電極５を配置することができる。

外部電極５が棒状又は板状である場合、当該外部電極５の個数は特に限定されず、１個でもよく、２個以上でもよい。２個以上が設置される場合、管状誘電体３の外周に均等の間隔で配置されると、プラズマ発生ガスの電離する箇所が分散されるので、好ましい。

外部電極５の材料は、導電材であれば特に限定されず、公知のプラズマ発生装置に使用される金属が適用できる。外部電極５と内部電極４との材料は、同じであってもよく、異なっていてもよい。

給電ユニット２０は、インスツルメント１０に電気を供給する装置である。給電ユニット２０としては、公知の電気供給装置を使用することができる。
給電ユニット２０は、外部電極５と内部電極４の間に印加する電圧及び周波数を制御する機能を有することが好ましい。

給電ユニット２０は、インスツルメント１０に送電する装置である。本実施形態の給電ユニット２０は、ガス管路３０を介して、インスツルメント１０にプラズマ発生ガスを送るポンプを備える。給電ユニット２０は、外部電極５と内部電極４との間に印加する電圧及び周波数を調節できる。
なお、給電ユニット２０は、ポンプを備えなくてもよい。この場合、給電ユニット２０とは独立して、ポンプを備えてもよい。また、プラズマ発生ガスの供給源における圧力によって、インスツルメント１０にプラズマ発生ガスを供給してもよい。

ガス管路３０は、給電ユニット２０からインスツルメント１０にプラズマ発生ガスを供給する経路である。ガス管路３０は、インスツルメント１０の管状誘電体３の後端部に接続されている。ガス管路３０の材料は特に限定されず、公知のガス管に用いられる材料を適用できる。ガス管路３０の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等が挙げられ、可撓性を有する材料が好ましい。

電気配線４０は、給電ユニット２０からインスツルメント１０に電気を供給する配線である。電気配線４０は、インスツルメント１０の内部電極４、外部電極５及びスイッチ９に接続されている。電気配線４０の材料は特に限定されず、公知の電気配線に用いられる材料を適用できる。電気配線４０の材料としては、絶縁材料で被覆された金属導線等が挙げられる。

《医療用治療器具の使用方法》
図１及び図２に基づいて、医療用治療器具１００の使用方法を説明する。給電ユニット２０からインスツルメント１０にプラズマ発生ガスを供給する。インスツルメント１０に供給されたプラズマ発生ガスは、管状誘電体３の後端部から管状誘電体３の内空部へと導入される。
次に、給電ユニット２０からインスツルメント１０に電気を供給し、スイッチ９をＯＮにして、内部電極４と外部電極５の間に電圧を印加する。管状誘電体３の内空部に導入されたプラズマ発生ガスは、内部電極４と外部電極５が対向する位置において電離され、プラズマになる。

本発明においては、内部電極４と外部電極５とが、プラズマ発生ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。このため、内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、流路６、７、８を経由して、照射口１ａへ誘導される。プラズマはイオン、電子、励起した分子や原子、プラズマ発生ガスの種類によっては活性種などを含んだ活性ガスである。プラズマ発生部から遠ざかるにつれて活性ガスの組成は変化し、照射口１ａへと誘導された時点では電離したイオンと電子は再結合し、活性種が主な構成要素となる。また、照射口１ａの近傍に存在する気体と噴出した活性ガスが反応し、別種の活性ガスが生じる場合もある。その結果、照射口１ａからは、プラズマ発生ガスや照射口１ａの近傍に存在する気体に応じた活性ガスが照射される。
よって、ノズル１から照射される流体は、プラズマそのものを含まず、プラズマによって生じた活性種を含む活性ガスである。この点で、本発明の医療用治療器具１００は、従来のプラズマジェット照射装置とは異なる。
活性ガスに含まれる活性種（ラジカル等）としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等が挙げられる。

管状誘電体３の内空部において、内部電極４の外周面と外部電極５の内周面が、管状誘電体３を挟んで互いに対向して配置されている。内部電極４のねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなるため、低電力でプラズマを生成し、維持することができる。
内部電極４の外周面がねじ状である場合に限らず、外周面の表面に複数の凹凸が形成された前述の内部電極であれば同様に、低電力でプラズマを生成し、維持することができる。
なお、内部電極４は、外周面にねじ山等の凹凸を有しなくてもよい。即ち、内部電極４は、外周面に凹凸を有しない円柱の部材でもよい。

照射口１ａから１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離にある被照射面における活性ガスの温度は、４０℃以下である。被照射面における活性ガスの温度を４０℃以下にすることで、被照射面への刺激を低減できる。
被照射面における活性ガスの温度は、被照射面に棒状熱電対の先端部を位置し、測定する値である。被照射面における活性ガスの温度は、後述するように、ノズル１の照射口１ａにおける活性ガスの温度を制御することにより調整できる。

ノズル１の照射口１ａにおける活性ガスの温度は、５０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましく、４０℃以下がさらに好ましい。
ノズル１の照射口１ａにおける活性ガスの温度が前記上限値以下であると、被照射面における活性ガスの温度を４０℃以下にしやすい。
ノズル１の照射口１ａにおける活性ガスの温度の下限値は、特に限定されず、例えば、０℃以上である。

ノズル１の照射口１ａから照射される活性ガスの温度は、管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量、プラズマが通過する道のり（図２のＬ１とＬ２の合計距離）、プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度、及びこれらを組み合わせることによって調整できる。
管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量が前記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。前記上限値以下であると、ノズル１の照射口１ａにおける活性ガスの温度を５０℃以下にしやすい。
なお、医療用治療器具１００において、管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量（導入流量）と、照射口１ａから照射される活性ガスの流量（照射流量）との流量比（導入流量：照射流量）は、０．８〜１．２が好ましく、０．９〜１がより好ましく、１：１がさらに好ましい。導入流量と照射流量とを上記範囲になるように調整することで、照射流量の制御が容易になる。導入流量と照射流量とは、管状誘電体３の形状や照射口１ａの開口径を適宜調整することにより、上記範囲に調整できる。

ノズル１の照射口１ａにおける活性ガスの温度は、Ｌ１とＬ２の合計距離によって調整できる。Ｌ１とＬ２の合計距離は、医療用治療器具１００に求める大きさや、被照射面における活性ガスの温度等を勘案して適宜決定される。
Ｌ１とＬ２の合計距離が長ければ、被照射面における活性ガス温度をより低くできる。Ｌ１とＬ２の合計距離が短ければ、活性ガスのラジカル濃度をより高めて、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果をより高められる。
Ｌ１とＬ２の合計距離は、照射管１ｃの長さ、内部電極４及び外部電極５を設置する位置によって調整できる。

ノズル１の照射口１ａから照射される活性ガスの温度は、プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度によって調整できる。
プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度を低くすることで、照射口１ａから照射される活性ガスの温度を低くすることができる。プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度は、内部電極４と外部電極５との間に印加する電圧の大きさ及び周波数によって適宜決定される。

プラズマによって生じる活性ガスのラジカル濃度は、０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである。プラズマによって生じる活性ガスのラジカル濃度は、０．１〜１００μｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．１〜５０μｍｏｌ／Ｌがより好ましい。
プラズマによって生じる活性ガスのラジカル濃度が前記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。前記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減しやすい。

プラズマによって生じる活性ガスのラジカル濃度は、管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量、Ｌ１とＬ２の合計距離、プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度、及びこれらを組み合わせることによって調整できる。
管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましく、１〜５Ｌ／ｍｉｎがより好ましく、１〜３Ｌ／ｍｉｎがさらに好ましい。
管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量が前記下限値以上であると、ラジカル濃度を０．１μｍｏｌ／Ｌ以上にしやすい。前記上限値以下であると、被照射面における活性ガスの温度を４０℃以下にしやすい。
プラズマによって生じる活性ガスのラジカル濃度は、医療用治療器具を用い、下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法によって求めることができる。

＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。

プラズマによって被照射面に移送される活性ガスのラジカル濃度は、Ｌ１とＬ２の合計距離によって調整できる。Ｌ１とＬ２の合計距離は、医療用治療器具１００に求める大きさや、被照射面における活性ガスの温度等を勘案して適宜決定される。
Ｌ１とＬ２の合計距離は、照射管１ｃの長さ、内部電極４及び外部電極５を設置する位置によって調整できる。

プラズマによって被照射面に移送される活性ガスのラジカル濃度は、プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度によって調整できる。
プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度は、内部電極４と外部電極５との間に印加する電圧の大きさ及び周波数によって適宜決定される。
プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度が高いと、ラジカル濃度を高めやすい。プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度が低いとラジカル濃度を低減しやすい。

プラズマによって生じる活性ガスの一重項酸素濃度は、０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌである。プラズマによって生じる活性ガスの一重項酸素濃度は、０．１〜１００μｍｏｌ／Ｌが好ましく、０．１〜５０μｍｏｌ／Ｌがより好ましい。
プラズマによって生じる活性ガスの一重項酸素濃度が前記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。前記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減しやすい。
プラズマによって生じる活性ガスの一重項酸素濃度は、医療用治療器具を用い、下記一重項酸素濃度の測定方法によって求めることができる。

＜一重項酸素濃度の測定方法＞
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。

プラズマによって生じる活性ガスの一重項酸素濃度は、管状誘電体３に導入されるプラズマ発生ガスの流量、Ｌ１とＬ２の合計距離、プラズマ発生位置におけるプラズマガス温度、及びこれらを組み合わせることによって調整できる。
プラズマ発生ガスの流量、Ｌ１とＬ２の合計距離、プラズマガス温度の調整については、ラジカル濃度の場合と同様である。

プラズマによって生じる活性ガスは、ラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであり、かつ、一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであることが好ましい。
プラズマによって生じる活性ガスのラジカル濃度及び一重項酸素濃度が前記範囲内であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒をより一層促進しやすい。

内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、５．０ｋＶｐｐ以上２０ｋＶｐｐ未満が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Ｖｐｐ（Ｖｏｌｔ ｐｅａｋ ｔｏ ｐｅａｋ）」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。
なお、内部電極４が外周面に凹凸を有しない円柱の部材である場合、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、１０ｋＶｐｐ以上が好ましい。外周面に凹凸を有さない内部電極４を用いる場合、外周面に凹凸を有する内部電極４を用いる場合に比べて、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧を高める必要がある。
印加する交流電圧を前記上限値未満にすることによって、発生するプラズマガスの温度を低く抑えることができる。印加する交流電圧を前記下限値以上にすることによって、プラズマを発生しやすい。

内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧の周波数は、０．５ｋＨｚ以上２０ｋＨｚ未満が好ましく、１ｋＨｚ以上１５ｋＨｚ未満がより好ましく、２ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ未満がさらに好ましく、３ｋＨｚ以上９ｋＨｚ未満が特に好ましく、４ｋＨｚ以上８ｋＨｚ未満が最も好ましい。
交流電圧の周波数を前記上限値未満にすることによって、発生するプラズマの温度を低く抑えることができる。交流電圧の周波数を前記下限値以上にすることによって、プラズマを発生しやすい。

照射口１ａから照射される活性ガスの流量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
照射口１ａから照射される活性ガスの流量が前記下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効率を充分に高められる。照射口１ａから照射される活性ガスの流量が前記上限値以下であると、被照射面における活性ガスの温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、当該被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者に熱による痛みをより抑制できる。

管状誘電体３に導入するプラズマ発生ガスの種類は特に限定されず、例えば、酸素、ヘリウム、アルゴン、窒素、二酸化炭素、空気等の公知のプラズマ生成用ガスを使用することができる。
医療用治療器具１００のインスツルメント１０は、前述した様に、内部電極４の外周面に設けられたねじ山の効果で、低電力でプラズマを発生し維持することができる。
このため、本発明では、従来の希ガスに限られず、広範な種類のプラズマ発生ガスを用いることができる。
管状誘電体３に導入するプラズマ発生ガスは、１種のガスでもよく、２種以上を混合したガスでもよい。

管状誘電体３に導入するプラズマ発生ガスは、窒素ガスを主成分とすることが好ましい。ここで、窒素ガスを主成分とするとは、プラズマ発生ガスに含まれる窒素ガスの体積が、５０体積％超であることをいう。すなわち、プラズマ発生ガスに含まれる窒素ガスの体積は、５０体積％超であることが好ましく、７０体積％以上であることがより好ましく、９０〜１００体積％であることがさらに好ましい。プラズマ発生ガスの主成分が窒素ガスであると、プラズマ中の準安定状態の窒素分子の寿命が長いため、ガスの活性が維持されやすく、被照射物に到達する活性ガスのラジカル濃度を高めやすい。
プラズマ発生ガスの残りのガス成分の種類は特に限定されず、例えば、空気が挙げられる。空気と窒素と混合して、プラズマ発生ガスとし、窒素ガスプラズマを生成することができる。
プラズマ発生ガスは、窒素を主成分とすることで、被照射物の清浄化、賦活化又は治癒をより促進できる。加えて、窒素を主成分とすることで、プラズマ発生ガス中の酸素を低減して、活性ガス中のオゾンを低減できる。活性ガス照射装置１０を口腔内の治療に用いる場合、活性ガス中のオゾンを低減することが好ましい。
従来のプラズマ発生部では、窒素を含むプラズマ発生ガスを用いると、プラズマを発生しにくかった。本実施形態においては、外周面にらせん状の凸条（ねじ山）を備える（即ち、らせん状の溝を備える）内部電極を用いるため、容易にプラズマを発生できる。

管状誘電体３に導入するプラズマ発生ガスは、酸素濃度が１体積％以下であることが好ましい。酸素濃度が前記上限値以下であると、過剰なオゾンの発生をより抑制できる。

《活性ガスの照射方法》
医療用治療器具１００で発生する活性ガスは、細胞、生体組織、生物個体等の生体に照射する目的で使用されることが好ましい。生体に活性ガスを照射することによって、当該生体を治療若しくは賦活することができる。例えば、切傷、擦傷、火傷等の外傷又はその他の異常がある患部に活性ガスを照射することによって、当該外傷及び異常の表面の細菌の不活化が図られ、治癒を促進する効果が得られる。

外傷や異常のある患部に活性ガスを照射する際に、患部に対する刺激を抑制する目的で照射量を少なくすることが求められる場合がある。この場合、医療用治療器具１００の管状誘電体３の後端部から導入するプラズマ発生ガスの導入量を少なくすることによって、照射口１ａから照射される活性ガスの照射量を少なくすることができる。

活性ガスに含まれる活性種の濃度を高めることによって、前記治癒をより促進することが求められる場合がある。この場合、活性ガスを照射する際に、照射口１ａを被照射部分に対して０．０１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離に近づけることによって、より高濃度の活性種を含む活性ガスを照射することができる。
医療用治療器具１００は、照射する活性ガスの温度を５０℃以下に設定できる。このため、照射口１ａを被照射部分に対して近づけた場合にも、被照射部分の温度が過度に高くなるおそれがない。したがって、被照射部分が患部である場合にも、当該患部に過度の刺激を与えることなく活性ガスを照射することができる。

医療用治療器具１００で発生したプラズマによって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。後述する実施例で示す様に、プラズマによって生じる活性ガスを、細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分を清浄化若しくは賦活化する又はその被照射部分にある傷若しくは異常を治癒することができる。
前記生体組織としては、内蔵等の各器官、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯肉、歯槽骨、歯根膜及びセメント質等の歯周組織、歯、骨等が挙げられる。
活性ガスの照射によって処理可能な疾患及び症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等が挙げられる。

外傷や異常の治癒を促進する目的でプラズマによって生じる活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に限定されない。例えば、毎分０．５Ｌ以上５．０Ｌの照射量で、プラズマによって生じる活性ガスを患部に照射する場合、１日当たりの照射回数は、１〜５回が好ましい。また、毎分０．５Ｌ以上５．０Ｌの照射量の場合、１回当たりの照射時間は、１０秒〜１０分が好ましい。毎分０．５Ｌ以上５．０Ｌの照射量の場合、照射する期間は、１〜３０日間が好ましい。これらの条件であれば、治癒のさらなる促進を図れる。

上述の通り、本実施形態の医療用治療器具は、低温のプラズマをより安定的に発生し、プラズマにより生じた活性ガスを患部等に照射できる。照射された活性ガスは、照射対象の組織を損傷せずに、組織の修復を促進できる。このため、本実施形態の医療用治療器具は、皮膚等の美容用器具としても有用である。

本発明の医療用治療器具は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。
また、本発明の医療用治療器具は、動物治療用器具としても好適である。

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

（温度測定）
下記仕様とした以外は、医療用治療器具１００と同様の医療用治療器具を作製した。この医療用治療器具を使用して、１５ｋＶｐｐ、７．５ｋＨｚの交流電圧を外部電極と内部電極の間に印加して、大気圧の窒素ガスプラズマを発生させた。２５℃の室内において、照射口から３ｍｍ離れた位置に熱電対の測定部を位置させた。活性ガスの照射を開始し、その６０秒後に読み取られた温度を被照射面における活性ガスの温度とした。
その結果、照射口から３ｍｍの距離においては３４．９℃であった。
＜仕様＞
・照射口１ａ内径１ｍｍ。
・管状誘電体３：ガラス製、内径３ｍｍ。
・内部電極４：ステンレス製、平行ねじ、一条ねじ。外径２ｍｍ、ピッチ０．４ｍｍ、ねじ山高さ０．２１４ｍｍ。
・外部電極５：銅板。
・角度θ：２０°。

（ヒドロキシルラジカル濃度の測定）
プラズマ発生ガスとして、純度９９．９９％（体積基準）の窒素ガスを用い、流量１Ｌ／ｍｉｎで、インスツルメントに導入し、１５ｋＶｐｐ、７．５ｋＨｚの交流電圧でプラズマを生成した。ノズルは、照射口の内径が１ｍｍのものを用いた。
ヒドロキシルラジカルを検出する薬剤としてＤＭＰＯを用い、ＤＭＰＯの濃度が０．２ｍｏｌ／Ｌとなるように、ｐＨが７．３〜７．５に調整されたリン酸緩衝生理食塩水に溶解した。
内径１１．５ｍｍの円柱状のセルにＤＭＰＯ溶液０．４ｍＬを入れ、セルに入れた溶液の液面が、照射口から５ｍｍ離れた位置になるようにインスツルメントを設置した。プラズマにより生じた活性ガスを３０秒間溶液に照射し、ＥＳＲ法により活性ガス照射後の溶液中のヒドロキシルラジカル濃度を測定した。ラジカル濃度（ヒドロキシルラジカル濃度）は、３μｍｏｌ／Ｌであった。

ＥＳＲ法の設定条件は、以下の通りとした。
マイクロ波の周波数は、９．６３ＧＨｚとし、マイクロ波電力１０ｍＷとした。上記ＤＭＰＯ溶液を３４４±５ｍＴの磁場中に設置し、変調振幅０．２ｍＴ、掃引時間２０秒で測定した。

（一重項酸素濃度の測定）
一重項酸素を検出する薬剤としてＴＰＣを用い、ＴＰＣの濃度が０．１ｍｏｌ／Ｌとなるようにしたこと以外は、ヒドロキシルラジカル濃度の測定と同様にして一重項酸素濃度を測定した。
一重項酸素濃度は、３μｍｏｌ／Ｌであった。

（創傷の治癒の促進、実施例１〜１４、比較例１〜４）
ブタ４頭の背中の皮膚を切開し、切り取りし、同領域に黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ）を播種して創傷部位感染モデルを作成した。表１に示す活性ガス発生条件に従い、可能な限り近づけて活性ガスをそれぞれの創傷部位感染モデルに照射した。活性ガスの照射は、初期（１日目）及び７日後に行った。表１の流量は、インスツルメントに導入した窒素ガスの流量を表す。表１の電圧は、内部電極と外部電極との間に印加した交流電圧を表す。表１の周波数は、内部電極と外部電極との間に印加した電圧の周波数を表す。比較例１〜４では、内部電極と外部電極との間に電圧を印加していないため、活性種を含まない窒素ガスを創傷に照射したことになる。
但し、実施例１〜４は、参考例である。

臨床症状スコアは、それぞれの創傷に、発赤、紅斑、丘疹、滲出液（膿汁含）、膿疱が認められるかを目視で確認した。５項目の症状について、下記指標に基づいて点数化し、合計した。表１の点数は、同じ活性ガス発生条件で活性ガスを照射した創傷のブタ４頭の平均値を表す。点数が大きいほど、創傷の程度が重度であることを示す。
０点：なし。
１点：軽度。
２点：中程度。
３点：重度。

上記の臨床症状スコアをブタが創傷を負った初期（１日目）と、それぞれの創傷の１４日後について点数化し、下記式に従ってスコア改善率（％）を算出した。
スコア改善率（％）＝（（臨床症状スコア（初期）−臨床症状スコア（１４日後））／臨床症状スコア（初期））×１００
結果を表１に示す。

表１に示すように、活性ガスの流量を１Ｌ／ｍｉｎとした実施例１〜４では、スコア改善率は７６．９〜８４．４％であり、活性ガスが創傷を治癒する効果が認められた。活性ガスの流量を２Ｌ／ｍｉｎとした実施例５〜８では、スコア改善率は８９．２〜９３．６％であり、活性ガスが創傷を治癒する、より高い効果が認められた。活性ガスの流量を３Ｌ／ｍｉｎとした実施例９〜１４では、スコア改善率は全て９２．２％以上であり、活性ガスが創傷を治癒するさらに高い効果が認められた。
一方、活性種を含まない窒素ガスを照射した比較例１〜４（自然治癒）では、スコア改善率は６４．８％以下であった。
実施例７、８、１３、１４の創傷の写真を図４〜１１に示す。図４、６、８、１０は、それぞれ、実施例７、８、１３、１４における活性ガス照射前の創傷の写真である。図５、７、９、１１は、それぞれ、実施例７、８、１３、１４における１４日後の創傷の写真である。
比較例２、３の創傷の写真を図１２〜１５に示す。図１２、１４は、それぞれ、比較例２、３における活性ガス照射前の創傷の写真である。図１３、１５は、それぞれ、比較例２、３における１４日後の創傷の写真である。
実施例７、８、１３、１４の１４日後の創傷を示す図５、７、９、１１は、比較例２、３の１４日後の創傷を示す図１３、図１５よりも、創傷の治癒の程度が良好であることがわかる。

（細胞の賦活化、実施例１０〜１２、比較例１、４）
上述した実施例１０〜１２、比較例１、４の各例の創傷について、１４日後のそれぞれの病理組織を採取し、１０質量％中性緩衝ホルマリン液で固定した。１４日後の各例の組織細胞を光学顕微鏡で観察し、写真撮影をした。
結果を図１６〜２０に示す。図１６〜２０は、それぞれ順に、実施例１０〜１２、比較例１、４の写真である。
図１６〜２０において、向かって右側の写真は、向かって左側の写真の四角で囲まれた箇所の拡大写真である。

図１６〜１８に示すように、流量３Ｌ／ｍｉｎの活性ガスを照射した実施例１０〜１２では、創傷部位は左右からの表皮が完全に再生され、表皮構造を構築し、正常に近い表皮へ再生していることから、表皮再生の効果が認められた。
また、創傷部位において主にリンパ球の炎症細胞の浸潤がみられるが、線維芽細胞が増生しており、好中球などの浸潤による化膿性炎症の部位は消失していることから、創傷治癒過程の中期から後期の増殖期ステージとみられ、創傷治癒及び抗炎症作用が認められた。
また、感染させた細菌は、切片上は認められず、殺菌作用が認められた。
一方、図１９〜２０に示すように、活性種を含まない窒素ガスを照射した比較例１、４（自然治癒）では、創傷部位の表皮は左右乖離しており、表皮再生の効果は認められなかった。
また、構成される炎症細胞はリンパ球および好中球の割合が多くみられ、線維芽細胞の増生が比較的まばらで一部水腫状とみられる像を呈していることから、創傷治癒の初期から中期前半の炎症期ステージとみられ、実施例１０〜１２のような創傷治癒および抗炎症作用は認められなかった。
また、感染させた細菌はそのまま残存しており、殺菌作用は認められなかった。

本発明は、医療分野で利用可能である。

１・・・ノズル、１ａ・・・照射口、１ｂ・・・台座部、１ｃ・・・照射管、２・・・カウリング、２ａ・・・ヘッド部、２ｂ・・・胴体部、３・・・管状誘電体、４・・・内部電極、５・・・外部電極、６〜８・・・流路、９・・・スイッチ、１０・・・インスツルメント、２０・・・給電ユニット、３０・・・ガス管路、４０・・・電気配線、Ｏ１〜Ｏ２・・・管軸、１００・・・医療用治療器具

Claims (3)

1. 下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌのガスである、創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法であって、
   電極を有するプラズマ発生部にプラズマ生成用ガスを２〜１０Ｌ／ｍｉｎで供給し、前記電極に電圧を印加してプラズマを発生し、発生したプラズマによりヒドロキシラジカルを発生する、創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法。
   ＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定法＞
   ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
2. 下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌのガスである、創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法であって、
   電極を有するプラズマ発生部にプラズマ生成用ガスを２〜１０Ｌ／ｍｉｎで供給し、前記電極に電圧を印加してプラズマを発生し、発生したプラズマにより一重項酸素を発生する、創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法。
   ＜一重項酸素濃度の測定方法＞
   ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。
3. 下記ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法により求められるラジカル濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌであり、かつ、下記一重項酸素濃度の測定方法により求められる一重項酸素濃度が０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌのガスである、創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法であって、
   電極を有するプラズマ発生部にプラズマ生成用ガスを２〜１０Ｌ／ｍｉｎで供給し、前記電極に電圧を印加してプラズマを発生し、発生したプラズマによりヒドロキシラジカルを及び一重項酸素を発生する、創傷治療用又は抗炎症用の細胞賦活化剤の生成方法。
   ＜ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法＞
   ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法によりヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル濃度とする。
   ＜一重項酸素濃度の測定方法＞
   ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとし、活性ガスを３０秒間照射した後、活性ガスが照射された前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法により一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素濃度とする。

Images