JP6873152B2 - マイクロ波周波数においてトロイダルプラズマ放電を加熱する電磁場を成形するアダプタ - Google Patents
マイクロ波周波数においてトロイダルプラズマ放電を加熱する電磁場を成形するアダプタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP6873152B2 JP6873152B2 JP2018552656A JP2018552656A JP6873152B2 JP 6873152 B2 JP6873152 B2 JP 6873152B2 JP 2018552656 A JP2018552656 A JP 2018552656A JP 2018552656 A JP2018552656 A JP 2018552656A JP 6873152 B2 JP6873152 B2 JP 6873152B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microwave
- electromagnetic field
- bushing
- adapter
- field forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/461—Microwave discharges
- H05H1/463—Microwave discharges using antennas or applicators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Description
Claims (6)
- トロイダルプラズマ放電を加熱するマイクロ波電磁場を成形するアダプタであって、マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)とマイクロ波接続部の下側のブッシング(3)との間に延伸される少なくとも2つの電磁場形成エレメント(1)を備え、
前記マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)は、前記マイクロ波接続部の下側のブッシング(3)へ、互いに平行しかつ導電性であるロッドの形状を有する前記電磁場形成エレメント(1)によって固定的に接続され、
前記ロッドは、螺旋セクションの形状に曲げられる、アダプタ。 - トロイダルプラズマ放電を加熱するマイクロ波電磁場を成形するアダプタであって、マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)とマイクロ波接続部の下側のブッシング(3)との間に延伸される少なくとも2つの電磁場形成エレメント(1)を備え、
前記マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)は、前記マイクロ波接続部の下側のブッシング(3)へ、互いに平行しかつ誘電体スペーサ(9)により分離されるリングワッシャ(8)の形式の前記電磁場形成エレメント(1)によって固定的に接続される、アダプタ。 - 前記リングワッシャ(8)の直径は、前記誘電体スペーサ(9)の直径と等しいかまたはそれより大きい、請求項2に記載のアダプタ。
- トロイダルプラズマ放電を加熱するマイクロ波電磁場を成形するアダプタであって、マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)とマイクロ波接続部の下側のブッシング(3)との間に延伸される少なくとも2つの電磁場形成エレメント(1)を備え、前記電磁場形成エレメント(1)は、前記ブッシング(2、3)のピッチ表面発生器に対して0〜90度の角度で位置合わせされ、
前記ブッシュ(2、3)内には、前記電磁場形成エレメント(1)の間に垂直なスロット(7)が製造される、アダプタ。 - 前記マイクロ波接続部の下側のブッシング(3)は、円筒形の外部接続部(4)を装備する、請求項1〜4のいずれか一項に記載のアダプタ。
- トロイダルプラズマ放電を加熱するマイクロ波電磁場を成形するアダプタであって、マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)とマイクロ波接続部の下側のブッシング(3)との間に延伸される少なくとも2つの電磁場形成エレメント(1)を備え、
前記マイクロ波接続部の上側のブッシング(2)は、前記マイクロ波接続部の下側のブッシング(3)へ、互いに平行しかつ導電性であるワイヤの形状を有する前記電磁場形成エレメント(1)によって固定的に接続される、アダプタ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PLP.416758 | 2016-04-05 | ||
PL416758A PL235377B1 (pl) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | Adapter kształtujący mikrofalowe pole elektromagnetyczne nagrzewające toroidalne wyładowanie plazmowe |
PCT/PL2017/000032 WO2017176131A1 (en) | 2016-04-05 | 2017-03-28 | An adapter shaping electromagnetic field, which heats toroidal plasma discharge at microwave frequency |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019514168A JP2019514168A (ja) | 2019-05-30 |
JP6873152B2 true JP6873152B2 (ja) | 2021-05-19 |
Family
ID=58765888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018552656A Active JP6873152B2 (ja) | 2016-04-05 | 2017-03-28 | マイクロ波周波数においてトロイダルプラズマ放電を加熱する電磁場を成形するアダプタ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US12022601B2 (ja) |
EP (1) | EP3449699B1 (ja) |
JP (1) | JP6873152B2 (ja) |
AU (1) | AU2017246939B2 (ja) |
CA (1) | CA3020093A1 (ja) |
PL (1) | PL235377B1 (ja) |
WO (1) | WO2017176131A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT523626B1 (de) * | 2020-05-22 | 2021-10-15 | Anton Paar Gmbh | Hohlleiter-Einkoppeleinheit |
EP4089716A1 (en) | 2021-05-12 | 2022-11-16 | Analytik Jena GmbH | Mass spectrometry apparatus |
EP4089713A1 (en) | 2021-05-12 | 2022-11-16 | Analytik Jena GmbH | Hybrid mass spectrometry apparatus |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2675561B2 (ja) * | 1987-12-18 | 1997-11-12 | 株式会社日立製作所 | プラズマ微量元素分折装置 |
JP2805009B2 (ja) * | 1988-05-11 | 1998-09-30 | 株式会社日立製作所 | プラズマ発生装置及びプラズマ元素分析装置 |
JPH02215038A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-28 | Hitachi Ltd | マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置 |
US5537004A (en) * | 1993-03-06 | 1996-07-16 | Tokyo Electron Limited | Low frequency electron cyclotron resonance plasma processor |
JPH11162694A (ja) * | 1997-10-31 | 1999-06-18 | Applied Materials Inc | 放電用部品及びプラズマ装置 |
AUPQ861500A0 (en) | 2000-07-06 | 2000-08-03 | Varian Australia Pty Ltd | Plasma source for spectrometry |
EP1421832B1 (de) | 2001-08-28 | 2006-10-04 | Jeng-Ming Wu | Plasmabrenner mit mikrowellenanregung |
KR100551138B1 (ko) * | 2003-09-09 | 2006-02-10 | 어댑티브프라즈마테크놀로지 주식회사 | 균일한 플라즈마 발생을 위한 적응형 플라즈마 소스 |
JP2008513993A (ja) * | 2004-09-14 | 2008-05-01 | アダプティーブ プラズマ テクノロジー コープ | 適応型プラズマソース及びこれを用いた半導体ウェハー処理方法 |
US7291985B2 (en) * | 2005-10-04 | 2007-11-06 | Topanga Technologies, Inc. | External resonator/cavity electrode-less plasma lamp and method of exciting with radio-frequency energy |
US8154216B2 (en) * | 2005-10-04 | 2012-04-10 | Topanga Technologies, Inc. | External resonator/cavity electrode-less plasma lamp and method of exciting with radio-frequency energy |
JP4765648B2 (ja) * | 2006-02-07 | 2011-09-07 | パナソニック株式会社 | マイクロプラズマジェット発生装置 |
WO2007105411A1 (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | University Of The Ryukyus | プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ生成方法 |
PL221507B1 (pl) * | 2008-06-20 | 2016-04-29 | Edward Reszke | Sposób i układ do wytwarzania plazmy |
JP6568050B2 (ja) | 2013-03-13 | 2019-08-28 | ラドム コーポレイションRadom Corporation | 誘電体共振器を使用するマイクロ波プラズマ分光計 |
PL408615A1 (pl) | 2014-06-19 | 2015-12-21 | Instytut Optyki Stosowanej Im. Prof. Maksymiliana Pluty | Palnik do rotacyjnego źródła wzbudzenia plazmy |
-
2016
- 2016-04-05 PL PL416758A patent/PL235377B1/pl unknown
-
2017
- 2017-03-28 JP JP2018552656A patent/JP6873152B2/ja active Active
- 2017-03-28 US US16/091,479 patent/US12022601B2/en active Active
- 2017-03-28 AU AU2017246939A patent/AU2017246939B2/en active Active
- 2017-03-28 CA CA3020093A patent/CA3020093A1/en not_active Abandoned
- 2017-03-28 WO PCT/PL2017/000032 patent/WO2017176131A1/en active Application Filing
- 2017-03-28 EP EP17725371.3A patent/EP3449699B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2017246939A1 (en) | 2018-10-25 |
PL416758A1 (pl) | 2017-10-09 |
JP2019514168A (ja) | 2019-05-30 |
EP3449699B1 (en) | 2021-12-15 |
AU2017246939B2 (en) | 2022-05-12 |
WO2017176131A1 (en) | 2017-10-12 |
EP3449699A1 (en) | 2019-03-06 |
US12022601B2 (en) | 2024-06-25 |
CA3020093A1 (en) | 2017-10-12 |
PL235377B1 (pl) | 2020-07-13 |
US20190159329A1 (en) | 2019-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10863611B2 (en) | Microwave plasma spectrometer using dielectric resonator | |
Jankowski et al. | Microwave induced plasma analytical spectrometry | |
CA1246762A (en) | Surface wave launchers to produce plasma columns and means for producing plasma of different shapes | |
JP6873152B2 (ja) | マイクロ波周波数においてトロイダルプラズマ放電を加熱する電磁場を成形するアダプタ | |
Jankowski et al. | Recent developments in instrumentation of microwave plasma sources for optical emission and mass spectrometry: Tutorial review | |
CN106063384B (zh) | 用于激发并维持等离子体的基于波导的设备 | |
US8981644B2 (en) | Lucent waveguide electromagnetic wave plasma light source | |
JP5699085B2 (ja) | 低電力のガスプラズマ源 | |
US5049843A (en) | Strip-line for propagating microwave energy | |
US11602040B2 (en) | Waveguide injecting unit | |
US9041291B2 (en) | Lamp | |
US20140265850A1 (en) | Waveguide-based apparatus for exciting and sustaining a plasma | |
US9099291B2 (en) | Impedance tuning of an electrode-less plasma lamp | |
US8773225B1 (en) | Waveguide-based apparatus for exciting and sustaining a plasma | |
US20100074808A1 (en) | Plasma generating system | |
RU2236721C1 (ru) | Сверхвысокочастотный возбудитель безэлектродной газоразрядной лампы | |
CN116133223A (zh) | 环形分布纵向排列等离子激发装置 | |
Yoshida | Holey-plate structure surface-wave plasma source | |
Бондаренко et al. | Resonant irregular hybrid structures | |
Martynyuk et al. | The Optimized Microwave Plasmatron with Nonequilibrium Plasma |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200123 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210312 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210420 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6873152 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |