JP6866038B2 - Manufacturing method of packaged device - Google Patents

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Description

本発明は、モールド樹脂を含む樹脂パッケージ基板を分割して複数のパッケージデバイスを製造するパッケージデバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a package device for manufacturing a plurality of package devices by dividing a resin package substrate containing a mold resin.

携帯電話機やパーソナルコンピュータに代表される電子機器では、電子回路等のデバイスを備えるデバイスチップが必須の構成要素になっている。デバイスチップは、例えば、シリコン等の半導体材料でなるウェーハの表面を複数の分割予定ライン(ストリート)で区画し、各領域にデバイスを形成した後、この分割予定ラインに沿ってウェーハを分割することで得られる。 In electronic devices such as mobile phones and personal computers, a device chip including a device such as an electronic circuit is an indispensable component. In the device chip, for example, the surface of a wafer made of a semiconductor material such as silicon is partitioned by a plurality of scheduled division lines (streets), devices are formed in each region, and then the wafer is divided along the planned division lines. Obtained at.

上述のような方法で得られたデバイスチップは、例えば、CSP(Chip Size Package)用のマザー基板に固定され、ワイヤボンデキング等の方法で電気的に接続された後に、表面側をモールド樹脂で封止される。このように、モールド樹脂によってデバイスチップを封止してパッケージデバイスを形成することで、衝撃、光、熱、水等の外的な要因からデバイスチップを保護できるようになる。 The device chip obtained by the above method is fixed to a mother substrate for CSP (Chip Size Package), electrically connected by a method such as wire bonding, and then the surface side is molded with a mold resin. It is sealed. By sealing the device chip with the mold resin to form the package device in this way, the device chip can be protected from external factors such as impact, light, heat, and water.

近年では、デバイスチップの表面とともに側面をモールド樹脂で覆う方法も検討されている(例えば、特許文献1参照)。この方法では、まず、ウェーハの表面側に設定されている分割予定ラインに沿って溝を形成する。次に、ウェーハの表面側をモールド樹脂で覆い、樹脂パッケージ基板を完成させる。この時、モールド樹脂は、ウェーハの溝にも充填される。その後、溝に沿って樹脂パッケージ基板を分割することで、デバイスチップの表面及び側面がモールド樹脂によって覆われた状態のパッケージデバイスが得られる。 In recent years, a method of covering the surface and side surfaces of the device chip with a mold resin has also been studied (see, for example, Patent Document 1). In this method, first, a groove is formed along a planned division line set on the surface side of the wafer. Next, the surface side of the wafer is covered with a mold resin to complete the resin package substrate. At this time, the mold resin is also filled in the groove of the wafer. Then, by dividing the resin package substrate along the groove, a package device in a state where the surface and side surfaces of the device chip are covered with the mold resin can be obtained.

この方法では、デバイスチップの側面が外部に露出しないので、上述した外的な要因に対する耐性は更に高まる。なお、溝に沿ってウェーハをパッケージデバイスへと分割する際には、レーザービームによるアブレーション加工を適用すると良い。このアブレーション加工では、切削ブレードによる切削加工等に比べてモールド樹脂の除去される幅(切り代)が狭くなるので、分割予定ラインの幅を狭く設定できるようになり、パッケージデバイスの取り数を増やせる。 In this method, since the side surface of the device chip is not exposed to the outside, the resistance to the above-mentioned external factors is further increased. When dividing the wafer into package devices along the groove, it is preferable to apply ablation processing by a laser beam. In this ablation process, the width (cutting allowance) of the mold resin removed is narrower than that of cutting with a cutting blade, so the width of the planned division line can be set narrower and the number of package devices can be increased. ..

特開2002−100709号公報JP-A-2002-100709

ところで、ウェーハやデバイスチップを封止する際に用いられるモールド樹脂の線膨張係数(熱膨張係数)と、ウェーハやデバイスチップの線膨張係数との間には、大きな差がある。そこで、この線膨張係数の差に起因する樹脂パッケージ基板の反りを防ぐために、シリカ等でなる粒状のフィラーをモールド樹脂に混入させている。 By the way, there is a large difference between the coefficient of linear expansion (coefficient of thermal expansion) of the mold resin used when sealing the wafer or the device chip and the coefficient of linear expansion of the wafer or the device chip. Therefore, in order to prevent the resin package substrate from warping due to the difference in the coefficient of linear expansion, a granular filler made of silica or the like is mixed in the mold resin.

しかしながら、パッケージ基板を分割するアブレーション加工の際に照射されるレーザービームは、モールド樹脂には吸収されるが、フィラーには殆ど吸収されない。よって、完成したパッケージデバイスの側面に、露出した状態のフィラーが残ってしまう可能性がある。このフィラーが後に脱落すると、他の製品の製造工程等に悪影響を与えるため問題である。 However, the laser beam emitted during the ablation process for dividing the package substrate is absorbed by the mold resin but hardly absorbed by the filler. Therefore, the exposed filler may remain on the side surface of the completed package device. If this filler falls off later, it adversely affects the manufacturing process of other products, which is a problem.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、モールド樹脂に混入されたフィラーの脱落を防止できるパッケージデバイスの製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a package device capable of preventing the filler mixed in the mold resin from falling off.

本発明の一態様によれば、フィラーが混入されたモールド樹脂を含む樹脂パッケージ基板を分割して複数のパッケージデバイスを製造するパッケージデバイスの製造方法であって、環状のフレームの開口に張られた粘着テープに該樹脂パッケージ基板を固定する固定ステップと、該固定ステップの後、該モールド樹脂に対して吸収性を有し、該フィラーに対して透過性を有する波長のレーザービームを該樹脂パッケージ基板の該モールド樹脂に照射して、該モールド樹脂の一部を除去し、該フィラーの大きさを超える幅の溝を形成することで、該樹脂パッケージ基板を複数のパッケージデバイスへと分割する分割ステップと、分割された該樹脂パッケージ基板の該溝を含む露出部分に洗浄用の流体を供給し、該分割ステップで除去された該モールド樹脂の一部に混入され該分割ステップで除去されずに該溝に残った該フィラーを該溝から除去する洗浄ステップと、を含むパッケージデバイスの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, it is a method of manufacturing a package device for manufacturing a plurality of package devices by dividing a resin package substrate containing a mold resin mixed with a filler, and the resin package substrate is stretched over an opening of an annular frame. A fixing step of fixing the resin package substrate to the adhesive tape, and after the fixing step, a laser beam having a wavelength that is absorbent to the mold resin and transparent to the filler is applied to the resin package substrate. By irradiating the mold resin of the above, removing a part of the mold resin, and forming a groove having a width exceeding the size of the filler, the resin package substrate is divided into a plurality of package devices. Then, a cleaning fluid is supplied to the exposed portion of the divided resin package substrate including the groove, mixed with a part of the mold resin removed in the dividing step, and not removed in the dividing step. Provided is a method of manufacturing a packaged device comprising a cleaning step of removing the filler remaining in the groove from the groove.

上述した本発明の一態様において、該樹脂パッケージ基板は、デバイスチップを該モールド樹脂で被覆してなるモールド基板と、該モールド基板に重なるインターポーザー基板と、を備え、該分割ステップの前に、該インターポーザー基板の露出した表面に液状の樹脂を塗布して保護膜を形成する液状樹脂塗布ステップを更に含み、該固定ステップでは、該樹脂パッケージ基板の該モールド基板側を該粘着テープに固定し、該分割ステップでは、該インターポーザー基板に対して吸収性を有する波長のレーザービームを該インターポーザー基板の該表面側から照射して、該インターポーザー基板を分割する第1溝を形成した後に、該モールド樹脂に対して吸収性を有し、該フィラーに対して透過性を有する波長のレーザービームを該第1溝の底に照射して、該第1溝に接続し該モールド樹脂を分割する第2溝を形成し、該洗浄ステップでは、該分割ステップで除去されずに該溝に残ったフィラーを該溝から除去しながら、該保護膜を該インターポーザー基板の表面から除去しても良い。 In one aspect of the present invention described above, the resin package substrate comprises a mold substrate obtained by coating a device chip with the mold resin and an interposer substrate that overlaps the mold substrate, and before the division step, A liquid resin coating step of applying a liquid resin to the exposed surface of the interposer substrate to form a protective film is further included, and in the fixing step, the mold substrate side of the resin package substrate is fixed to the adhesive tape. In the division step, a laser beam having a wavelength that is absorbent to the interposer substrate is irradiated from the surface side of the interposer substrate to form a first groove for dividing the interposer substrate, and then the first groove is formed. The bottom of the first groove is irradiated with a laser beam having a wavelength that is absorbent to the mold resin and transparent to the filler, and is connected to the first groove to divide the mold resin. A second groove may be formed, and in the cleaning step, the protective film may be removed from the surface of the interposer substrate while removing the filler remaining in the groove without being removed in the dividing step from the groove. ..

また、上述した本発明の一態様において、該流体は水であり、該洗浄ステップでは、該水を5MPa以上12MPa以下の圧力で該露出部分に供給することが好ましい。 Further, in one aspect of the present invention described above, the fluid is water, and it is preferable to supply the water to the exposed portion at a pressure of 5 MPa or more and 12 MPa or less in the washing step.

本発明の一態様に係るパッケージデバイスの製造方法では、樹脂パッケージ基板を複数のパッケージデバイスへと分割する際に、モールド樹脂に含まれるフィラーの大きさを超える幅の溝を形成するので、中央部が露出し、少なくとも両端部(2箇所)がモールド樹脂に固定された状態のフィラーが溝に残ることはない。すなわち、後の洗浄による除去が難しい状態のフィラーが溝に残ってしまうことはない。 In the method for manufacturing a package device according to one aspect of the present invention, when the resin package substrate is divided into a plurality of package devices, a groove having a width exceeding the size of the filler contained in the mold resin is formed. Is exposed, and the filler with at least both ends (two places) fixed to the mold resin does not remain in the groove. That is, the filler in a state that is difficult to remove by subsequent cleaning does not remain in the groove.

そのため、溝に洗浄用の流体を供給することで、パッケージデバイスへの分割の際に溝に残ったフィラーを溝から除去できる。よって、完成したパッケージデバイスからフィラーが脱落してしまうこともない。このように、本発明の一態様によれば、モールド樹脂に混入されたフィラーの脱落を防止できるパッケージデバイスの製造方法が提供される。 Therefore, by supplying the cleaning fluid to the groove, the filler remaining in the groove at the time of division into the package device can be removed from the groove. Therefore, the filler does not fall off from the completed package device. As described above, according to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a package device capable of preventing the filler mixed in the mold resin from falling off.

図1(A)及び図1(B)は、固定ステップを示す斜視図である。1 (A) and 1 (B) are perspective views showing a fixing step. 図2(A)及び図2(B)は、液状樹脂塗布ステップを示す断面図である。2 (A) and 2 (B) are cross-sectional views showing a liquid resin coating step. 図3(A)は、分割ステップでインターポーザー基板が分割される様子を示す断面図であり、図3(B)は、分割ステップでインターポーザー基板が分割された後の状態を拡大して示す断面図である。FIG. 3 (A) is a cross-sectional view showing how the interposer substrate is divided in the division step, and FIG. 3 (B) shows an enlarged state after the interposer substrate is divided in the division step. It is a cross-sectional view. 図4(A)は、分割ステップでモールド基板が分割される様子を示す断面図であり、図4(B)は、分割ステップでモールド基板が分割された後の状態を拡大して示す断面図である。FIG. 4 (A) is a cross-sectional view showing how the mold substrate is divided in the division step, and FIG. 4 (B) is an enlarged sectional view showing a state after the mold substrate is divided in the division step. Is. 図5(A)は、洗浄ステップを示す断面図であり、図5(B)は、洗浄ステップの後の状態を拡大して示す断面図である。5 (A) is a cross-sectional view showing a cleaning step, and FIG. 5 (B) is an enlarged cross-sectional view showing a state after the cleaning step. 図6(A)は、変形例に係る固定ステップを示す斜視図であり、図6(B)は、変形例に係る固定ステップの後の状態を拡大して示す断面図である。FIG. 6A is a perspective view showing a fixing step according to a modified example, and FIG. 6B is an enlarged cross-sectional view showing a state after the fixing step according to the modified example. 図7(A)は、変形例に係る分割ステップの後の状態を拡大して示す断面図であり、図7(B)は、変形例に係る洗浄ステップの後の状態を拡大して示す断面図である。FIG. 7 (A) is an enlarged cross-sectional view showing the state after the division step according to the modified example, and FIG. 7 (B) is an enlarged cross-sectional view showing the state after the cleaning step according to the modified example. It is a figure.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係るパッケージデバイスの製造方法は、固定ステップ(図1(A)、図1(B)参照)、液状樹脂塗布ステップ(図2(A)、図2(B)参照)、分割ステップ(図3(A)、図3(B)、図4(A)、図4(B)参照)、及び洗浄ステップ(図5(A)、図5(B)参照)を含む。 An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The method for manufacturing the package device according to the present embodiment includes a fixing step (see FIGS. 1A and 1B), a liquid resin coating step (see FIGS. 2A and 2B), and a dividing step. (See FIGS. 3 (A), 3 (B), 4 (A), 4 (B)), and a cleaning step (see FIGS. 5 (A), 5 (B)).

固定ステップでは、環状のフレームの開口に張られた粘着テープにモールド樹脂を含む樹脂パッケージ基板を固定する。液状樹脂塗布ステップでは、樹脂パッケージ基板に液状の樹脂を塗布して保護膜を形成する。分割ステップでは、樹脂パッケージ基板にレーザービームを照射して、この樹脂パッケージ基板を複数のパッケージデバイスへと分割する。具体的には、モールド樹脂に混入されているフィラーの大きさを超える幅の溝を形成することによって、この樹脂パッケージ基板を複数のパッケージデバイスへと分割する。 In the fixing step, the resin package substrate containing the mold resin is fixed to the adhesive tape stretched on the opening of the annular frame. In the liquid resin coating step, a liquid resin is applied to the resin package substrate to form a protective film. In the division step, the resin package substrate is irradiated with a laser beam to divide the resin package substrate into a plurality of package devices. Specifically, the resin package substrate is divided into a plurality of package devices by forming a groove having a width exceeding the size of the filler mixed in the mold resin.

洗浄ステップでは、樹脂パッケージ基板の溝を含む露出部分に洗浄用の流体を供給し、分割ステップで除去されずに溝に残ったフィラーを溝から除去する。なお、この洗浄ステップでは、液状樹脂塗布ステップで形成される保護膜も併せて除去する。以下、本実施形態に係るパッケージデバイスの製造方法について詳述する。 In the cleaning step, a cleaning fluid is supplied to the exposed portion of the resin package substrate including the groove, and the filler remaining in the groove without being removed in the dividing step is removed from the groove. In this cleaning step, the protective film formed in the liquid resin coating step is also removed. Hereinafter, the method for manufacturing the package device according to the present embodiment will be described in detail.

本実施形態では、まず、樹脂パッケージ基板を固定する固定ステップを行う。図1(A)及び図1(B)は、固定ステップを示す斜視図である。図1(A)及び図1(B)に示すように、本実施形態で使用される樹脂パッケージ基板1は、円盤状のモールド基板3と、このモールド基板3に重なる円盤状のインターポーザー基板5と、を含んでいる。 In the present embodiment, first, a fixing step of fixing the resin package substrate is performed. 1 (A) and 1 (B) are perspective views showing a fixing step. As shown in FIGS. 1A and 1B, the resin package substrate 1 used in the present embodiment includes a disk-shaped mold substrate 3 and a disk-shaped interposer substrate 5 that overlaps the mold substrate 3. And, including.

モールド基板3は、例えば、複数のデバイスチップ(不図示)をモールド樹脂3b(図3(B)参照)で被覆することにより形成される。このモールド樹脂3bには、線膨張係数(熱膨張係数)の違いに起因する樹脂パッケージ基板1の反りを抑制するために、シリカ等でなる粒状のフィラー3c(図3(B)参照)が混入されている。 The mold substrate 3 is formed, for example, by coating a plurality of device chips (not shown) with a mold resin 3b (see FIG. 3B). Granular filler 3c made of silica or the like (see FIG. 3B) is mixed in the mold resin 3b in order to suppress the warp of the resin package substrate 1 due to the difference in the coefficient of linear expansion (coefficient of thermal expansion). Has been done.

インターポーザー基板5は、例えば、シリコン(Si)等の半導体材料でなるウェーハである。このインターポーザー基板5の表面5a側は、格子状に設定された分割予定ライン(ストリート)13で複数の領域15に区画されており、各領域15には、モールド基板3内のデバイスチップに接続される配線や端子等が設けられている。なお、デバイスチップは、各領域15に対応する位置にのみ配置され、平面視で分割予定ライン13に重ならない。 The interposer substrate 5 is a wafer made of a semiconductor material such as silicon (Si). The surface 5a side of the interposer substrate 5 is divided into a plurality of regions 15 by scheduled division lines (streets) 13 set in a grid pattern, and each region 15 is connected to a device chip in the mold substrate 3. Wiring, terminals, etc. are provided. The device chip is arranged only at a position corresponding to each region 15 and does not overlap the planned division line 13 in a plan view.

ただし、樹脂パッケージ基板1(モールド基板3、インターポーザー基板5)の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。他の半導体、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる樹脂パッケージ基板を用いることもできる。また、ウェーハの表面側をモールド樹脂で封止して得られるWL−CSP(Wafer Level Chip Size Package)基板等を樹脂パッケージ基板1としても良い。 However, there are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the resin package substrate 1 (mold substrate 3, interposer substrate 5). A resin package substrate made of other materials such as semiconductors, ceramics, resins, and metals can also be used. Further, a WL-CSP (Wafer Level Chip Size Package) substrate or the like obtained by sealing the surface side of the wafer with a mold resin may be used as the resin package substrate 1.

図1(A)に示すように、本実施形態の固定ステップでは、この樹脂パッケージ基板1が備えるモールド基板3の表面3a側に、樹脂パッケージ基板1よりも径が大きい円形の粘着テープ7の中央部分を貼付する。また、この粘着テープ7の外周部分を、樹脂パッケージ基板1よりも径が大きい開口を持つ環状のフレーム9の第1面9a側に貼付する。具体的には、モールド基板3の表面3aとフレーム9の第1面9aとに対して、粘着テープ7の粘着面7aを密着させる。 As shown in FIG. 1A, in the fixing step of the present embodiment, the center of the circular adhesive tape 7 having a diameter larger than that of the resin package substrate 1 is located on the surface 3a side of the mold substrate 3 included in the resin package substrate 1. Paste the part. Further, the outer peripheral portion of the adhesive tape 7 is attached to the first surface 9a side of the annular frame 9 having an opening having a diameter larger than that of the resin package substrate 1. Specifically, the adhesive surface 7a of the adhesive tape 7 is brought into close contact with the surface 3a of the mold substrate 3 and the first surface 9a of the frame 9.

これにより、樹脂パッケージ基板1は、インターポーザー基板5の表面5aが露出した状態で、環状のフレーム9の開口に張られた粘着テープ7に固定される。すなわち、樹脂パッケージ基板1は、粘着テープ7を介してフレーム9に支持される。なお、本実施形態では、フレーム9に対応する形状及び大きさの粘着テープ7を用いているが、例えば、帯状の粘着テープを樹脂パッケージ基板(モールド基板)とフレームとに貼付してから、この粘着テープをフレームの形状に合わせてカットしても良い。 As a result, the resin package substrate 1 is fixed to the adhesive tape 7 stretched in the opening of the annular frame 9 with the surface 5a of the interposer substrate 5 exposed. That is, the resin package substrate 1 is supported by the frame 9 via the adhesive tape 7. In the present embodiment, the adhesive tape 7 having a shape and size corresponding to the frame 9 is used. For example, after the band-shaped adhesive tape is attached to the resin package substrate (mold substrate) and the frame, the adhesive tape 7 is used. The adhesive tape may be cut according to the shape of the frame.

固定ステップの後には、樹脂パッケージ基板1に液状の樹脂を塗布して保護膜を形成する液状樹脂塗布ステップを行う。具体的には、樹脂パッケージ基板1が備えるインターポーザー基板5の表面5a側に液状の樹脂を塗布して保護膜を形成する。図2(A)及び図2(B)は、液状樹脂塗布ステップを示す断面図である。 After the fixing step, a liquid resin coating step of coating the resin package substrate 1 with a liquid resin to form a protective film is performed. Specifically, a liquid resin is applied to the surface 5a side of the interposer substrate 5 included in the resin package substrate 1 to form a protective film. 2 (A) and 2 (B) are cross-sectional views showing a liquid resin coating step.

液状樹脂塗布ステップは、例えば、図2(A)等に示すスピンコーター2を用いて行われる。スピンコーター2は、樹脂パッケージ基板1を保持するためのスピンナテーブル4を備えている。スピンナテーブル4は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。 The liquid resin coating step is performed using, for example, the spin coater 2 shown in FIG. 2 (A) or the like. The spin coater 2 includes a spinner table 4 for holding the resin package substrate 1. The spinner table 4 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the vertical direction.

スピンナテーブル4の上面の一部は、樹脂パッケージ基板1を保持するための保持面4aになっている。保持面4aは、概ね平坦且つ水平に形成されており、スピンナテーブル4の内部に設けられた吸引路4b等を介して吸引源(不図示)に接続されている。このスピンナテーブル4の周囲には、フレーム9を固定するための複数のクランプ6が設けられている。また、スピンナテーブル4の上方には、保護膜の原料である液状の樹脂17を滴下するためのノズル8が配置されている。 A part of the upper surface of the spinner table 4 is a holding surface 4a for holding the resin package substrate 1. The holding surface 4a is formed substantially flat and horizontally, and is connected to a suction source (not shown) via a suction path 4b or the like provided inside the spinner table 4. A plurality of clamps 6 for fixing the frame 9 are provided around the spinner table 4. Further, above the spinner table 4, a nozzle 8 for dropping the liquid resin 17 which is a raw material of the protective film is arranged.

液状樹脂塗布ステップでは、まず、樹脂パッケージ基板1に貼付されている粘着テープ7の非粘着面7bをスピンナテーブル4の保持面4aに接触させる。この状態で吸引源の負圧を作用させることにより、樹脂パッケージ基板1は、インターポーザー基板5の表面5a側が上方に露出した状態でスピンナテーブル4に保持される。 In the liquid resin coating step, first, the non-adhesive surface 7b of the adhesive tape 7 attached to the resin package substrate 1 is brought into contact with the holding surface 4a of the spinner table 4. By applying the negative pressure of the suction source in this state, the resin package substrate 1 is held on the spinner table 4 with the surface 5a side of the interposer substrate 5 exposed upward.

次に、図2(A)に示すように、樹脂パッケージ基板1の上方に移動させたノズル8から樹脂パッケージ基板1に向けて液状の樹脂17を滴下する。また、スピンナテーブル4を回転させて、インターポーザー基板5の表面5a側全体に液状の樹脂17を被覆する。これにより、図2(B)に示す保護膜19が完成する。なお、クランプ6は、スピンナテーブル4の回転により生じる遠心力を利用してフレーム9を固定する。 Next, as shown in FIG. 2A, the liquid resin 17 is dropped from the nozzle 8 moved above the resin package substrate 1 toward the resin package substrate 1. Further, the spinner table 4 is rotated to coat the entire surface 5a side of the interposer substrate 5 with the liquid resin 17. As a result, the protective film 19 shown in FIG. 2 (B) is completed. The clamp 6 fixes the frame 9 by utilizing the centrifugal force generated by the rotation of the spinner table 4.

保護膜19の原料である樹脂17の種類等に特段の制限はない。本実施形態では、後の分割ステップでインターポーザー基板5の分割予定ライン13を適切に検出して加工できるように、可視域で概ね透明な樹脂17を用いる。また、本実施形態では、後の洗浄ステップで保護膜19を容易に除去できるように、水溶性の樹脂17を用いる。 There are no particular restrictions on the type of resin 17 that is the raw material for the protective film 19. In the present embodiment, a resin 17 that is substantially transparent in the visible region is used so that the planned division line 13 of the interposer substrate 5 can be appropriately detected and processed in a later division step. Further, in the present embodiment, the water-soluble resin 17 is used so that the protective film 19 can be easily removed in the subsequent cleaning step.

樹脂パッケージ基板1に滴下する樹脂17の分量は、例えば、5μm以下の厚みの保護膜19を形成できる範囲で調整される。樹脂パッケージ基板1の直径が4インチの場合には、例えば、10〜15ml、代表的には、12ml程度の樹脂17を樹脂パッケージ基板1に滴下すれば良い。スピンナテーブル4の回転数は、例えば、2000rpm〜3000rpm、スピンナテーブル4の回転時間は、例えば、20秒〜40秒、代表的には、30秒程度にする。 The amount of the resin 17 dropped onto the resin package substrate 1 is adjusted within a range in which a protective film 19 having a thickness of 5 μm or less can be formed, for example. When the diameter of the resin package substrate 1 is 4 inches, for example, 10 to 15 ml, typically about 12 ml of resin 17, may be dropped onto the resin package substrate 1. The rotation speed of the spinner table 4 is, for example, 2000 rpm to 3000 rpm, and the rotation time of the spinner table 4 is, for example, 20 seconds to 40 seconds, typically about 30 seconds.

液状樹脂塗布ステップの後には、樹脂パッケージ基板1を複数のパッケージデバイスへと分割する分割ステップを行う。具体的には、樹脂パッケージ基板1に対してレーザービームを照射し、この樹脂パッケージ基板1をアブレーション加工することで、樹脂パッケージ基板1を複数のパッケージデバイスへと分割する。 After the liquid resin coating step, a division step of dividing the resin package substrate 1 into a plurality of package devices is performed. Specifically, the resin package substrate 1 is irradiated with a laser beam, and the resin package substrate 1 is ablated to divide the resin package substrate 1 into a plurality of package devices.

図3(A)は、分割ステップでインターポーザー基板5が分割される様子を示す断面図であり、図3(B)は、分割ステップでインターポーザー基板5が分割された後の状態を拡大して示す断面図である。また、図4(A)は、分割ステップでモールド基板3が分割される様子を示す断面図であり、図4(B)は、分割ステップでモールド基板3が分割された後の状態を拡大して示す断面図である。 FIG. 3A is a cross-sectional view showing how the interposer substrate 5 is divided in the division step, and FIG. 3B is an enlarged view of the state after the interposer substrate 5 is divided in the division step. It is sectional drawing which shows. Further, FIG. 4A is a cross-sectional view showing how the mold substrate 3 is divided in the division step, and FIG. 4B is an enlarged view of the state after the mold substrate 3 is divided in the division step. It is sectional drawing which shows.

分割ステップは、例えば、図3(A)や図4(A)等に示すレーザー加工装置12を用いて行われる。レーザー加工装置12は、樹脂パッケージ基板1を保持するためのチャックテーブル14を備えている。チャックテーブル14は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。 The division step is performed using, for example, the laser processing apparatus 12 shown in FIGS. 3 (A), 4 (A), and the like. The laser processing apparatus 12 includes a chuck table 14 for holding the resin package substrate 1. The chuck table 14 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the vertical direction.

また、チャックテーブル14の下方には、移動機構(不図示)が設けられている。チャックテーブル14は、この移動機構によって加工送り方向(第1水平方向)及び割り出し送り方向(第2水平方向)に移動する。 A moving mechanism (not shown) is provided below the chuck table 14. The chuck table 14 moves in the machining feed direction (first horizontal direction) and the index feed direction (second horizontal direction) by this moving mechanism.

チャックテーブル14の上面の一部は、樹脂パッケージ基板1を保持するための保持面14aになっている。保持面14aは、チャックテーブル14の内部に形成された吸引路14b等を介して吸引源(不図示)に接続されている。このチャックテーブル14の周囲には、フレーム9を固定するための複数のクランプ16が設けられている。 A part of the upper surface of the chuck table 14 is a holding surface 14a for holding the resin package substrate 1. The holding surface 14a is connected to a suction source (not shown) via a suction path 14b or the like formed inside the chuck table 14. A plurality of clamps 16 for fixing the frame 9 are provided around the chuck table 14.

チャックテーブル14の上方には、レーザー照射ユニット18が配置されている。レーザー照射ユニット18は、例えば、レーザー発振器(不図示)でパルス発振されたレーザービーム18a,18bを所定の位置に照射、集光する。レーザー発振器は、インターポーザー基板5に対して吸収性を有する波長のレーザービーム18aと、モールド樹脂3bに対して吸収性を有し、フィラー3cに対して透過性を有する波長のレーザービーム18bと、を選択的にパルス発振できるように構成されている。 A laser irradiation unit 18 is arranged above the chuck table 14. The laser irradiation unit 18 irradiates and condenses laser beams 18a and 18b pulse-oscillated by a laser oscillator (not shown) at predetermined positions, for example. The laser oscillator includes a laser beam 18a having a wavelength that is absorbent to the interposer substrate 5, and a laser beam 18b having a wavelength that is absorbent to the mold resin 3b and transparent to the filler 3c. Is configured to be able to selectively oscillate a pulse.

分割ステップでは、まず、樹脂パッケージ基板1に貼付されている粘着テープ7の非粘着面7bをチャックテーブル14の保持面14aに接触させる。併せて、クランプ16でフレーム9を固定する。この状態で吸引源の負圧を作用させることにより、樹脂パッケージ基板1は、保護膜19側が上方に露出した状態でチャックテーブル14に保持される。 In the dividing step, first, the non-adhesive surface 7b of the adhesive tape 7 attached to the resin package substrate 1 is brought into contact with the holding surface 14a of the chuck table 14. At the same time, the frame 9 is fixed by the clamp 16. By applying the negative pressure of the suction source in this state, the resin package substrate 1 is held on the chuck table 14 with the protective film 19 side exposed upward.

その後、チャックテーブル14を回転、移動させて、樹脂パッケージ基板1とレーザー照射ユニット18との位置関係を調整する。そして、インターポーザー基板5を分割予定ライン13に沿ってアブレーション加工する。具体的には、図3(A)に示すように、レーザー照射ユニット18からレーザービーム18aを照射しながら、このレーザービーム18aが分割予定ライン13に沿って照射されるようにチャックテーブル14を移動させる。 After that, the chuck table 14 is rotated and moved to adjust the positional relationship between the resin package substrate 1 and the laser irradiation unit 18. Then, the interposer substrate 5 is ablated along the scheduled division line 13. Specifically, as shown in FIG. 3A, while irradiating the laser beam 18a from the laser irradiation unit 18, the chuck table 14 is moved so that the laser beam 18a is irradiated along the scheduled division line 13. Let me.

上述のように、レーザー照射ユニット18から照射されるレーザービーム18aは、インターポーザー基板5に対して吸収性を有している。よって、図3(A)に示すように、インターポーザー基板5の表面5a側から分割予定ライン13に沿ってレーザービーム18aを照射することで、インターポーザー基板5はアブレーション加工され、図3(B)に示すように、分割予定ライン13に沿ってインターポーザー基板5を分割する第1溝5bが形成される。 As described above, the laser beam 18a irradiated from the laser irradiation unit 18 has absorbency to the interposer substrate 5. Therefore, as shown in FIG. 3A, the interposer substrate 5 is ablated by irradiating the laser beam 18a from the surface 5a side of the interposer substrate 5 along the scheduled division line 13, and FIG. 3B ), The first groove 5b for dividing the interposer substrate 5 is formed along the scheduled division line 13.

ここで、第1溝5bの幅は、モールド樹脂3bに混入されているフィラー3cの大きさを超えるように設定される。具体的には、例えば、第1溝5bの幅を、フィラー3cの粒径(例えば、平均粒径)の1.2倍以上に設定することが望ましい。これにより、後の洗浄ステップでフィラー3cを適切に除去できるようになる。フィラー3cの粒径は任意に設定されるが、代表的には、5μm〜25μm程度である。 Here, the width of the first groove 5b is set so as to exceed the size of the filler 3c mixed in the mold resin 3b. Specifically, for example, it is desirable to set the width of the first groove 5b to 1.2 times or more the particle size of the filler 3c (for example, the average particle size). This allows the filler 3c to be properly removed in a later cleaning step. The particle size of the filler 3c is arbitrarily set, but is typically about 5 μm to 25 μm.

上述のような動作を繰り返し、全ての分割予定ライン13に沿って第1溝5bを形成した後には、モールド基板3を第1溝5bに沿ってアブレーション加工する。具体的には、図4(A)に示すように、レーザー照射ユニット18からレーザービーム18bを照射しながら、このレーザービーム18bが第1溝5bの底に沿って照射されるようにチャックテーブル14を移動させる。 After repeating the above-mentioned operation to form the first groove 5b along all the scheduled division lines 13, the mold substrate 3 is ablated along the first groove 5b. Specifically, as shown in FIG. 4A, the chuck table 14 irradiates the laser beam 18b from the laser irradiation unit 18 so that the laser beam 18b is irradiated along the bottom of the first groove 5b. To move.

上述のように、レーザー照射ユニット18から照射されるレーザービーム18bは、モールド樹脂3bに対して吸収性を有し、フィラー3cに対して透過性を有している。よって、図4(A)に示すように、インターポーザー基板5の表面5a側から第1溝5bの底に沿ってレーザービーム18bを照射することで、モールド基板3のモールド樹脂3bをアブレーション加工できる。 As described above, the laser beam 18b irradiated from the laser irradiation unit 18 has absorbency to the mold resin 3b and has transparency to the filler 3c. Therefore, as shown in FIG. 4A, the mold resin 3b of the mold substrate 3 can be ablated by irradiating the laser beam 18b from the surface 5a side of the interposer substrate 5 along the bottom of the first groove 5b. ..

一方で、上述のようなレーザービーム18bでは、モールド基板3のフィラー3cを殆どアブレーション加工できない。そのため、このレーザービーム18bの照射によって、図4(B)に示すように、第1溝5dに接続されモールド基板3(モールド樹脂3b)を分割する第2溝3dが形成される一方で、第2溝3dには、一部がモールド樹脂3bから露出した状態のフィラー3cが残る。 On the other hand, with the laser beam 18b as described above, the filler 3c of the mold substrate 3 can hardly be ablated. Therefore, as shown in FIG. 4B, the irradiation of the laser beam 18b forms the second groove 3d which is connected to the first groove 5d and divides the mold substrate 3 (mold resin 3b), while the second groove 3d is formed. In the 2 grooves 3d, the filler 3c in a state where a part is exposed from the mold resin 3b remains.

ここで、第2溝3dの幅は、モールド樹脂3bに混入されているフィラー3cの大きさを超えるように設定される。具体的には、例えば、第2溝3dの幅を、フィラー3cの粒径(例えば、平均粒径)の1.2倍以上に設定することが望ましい。これにより、第2溝3dに残ったフィラー3cを後の洗浄ステップで適切に除去できるようになる。 Here, the width of the second groove 3d is set so as to exceed the size of the filler 3c mixed in the mold resin 3b. Specifically, for example, it is desirable to set the width of the second groove 3d to 1.2 times or more the particle size (for example, average particle size) of the filler 3c. As a result, the filler 3c remaining in the second groove 3d can be appropriately removed in a later cleaning step.

上述のような動作を繰り返し、全ての分割予定ライン13に沿って第2溝3dが形成され、樹脂パッケージ基板1が複数のパッケージデバイス21へと分割されると、分割ステップは終了する。なお、本実施形態では、インターポーザー基板5の表面5a側が保護膜19によって覆われているので、アブレーション加工の際に発生する屑(デブリ)がインターポーザー基板5の表面5aに付着することは殆どない。よって、品質の良いパッケージデバイス21が得られる。 When the second groove 3d is formed along all the scheduled division lines 13 and the resin package substrate 1 is divided into the plurality of package devices 21 by repeating the above-mentioned operation, the division step ends. In the present embodiment, since the surface 5a side of the interposer substrate 5 is covered with the protective film 19, debris generated during the ablation process hardly adheres to the surface 5a of the interposer substrate 5. Absent. Therefore, a high quality package device 21 can be obtained.

分割ステップの後には、樹脂パッケージ基板1の第1溝5b及び第2溝3dを含む露出部分に洗浄用の流体を供給して樹脂パッケージ基板1を洗浄する洗浄ステップを行う。図5(A)は、洗浄ステップを示す断面図であり、図5(B)は、洗浄ステップの後の状態を拡大して示す断面図である。 After the division step, a cleaning step is performed in which a cleaning fluid is supplied to the exposed portion of the resin package substrate 1 including the first groove 5b and the second groove 3d to clean the resin package substrate 1. 5 (A) is a cross-sectional view showing a cleaning step, and FIG. 5 (B) is an enlarged cross-sectional view showing a state after the cleaning step.

洗浄ステップは、例えば、図5(A)等に示す洗浄装置22を用いて行われる。洗浄装置22は、樹脂パッケージ基板1を保持するためのスピンナテーブル24を備えている。スピンナテーブル24は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。 The cleaning step is performed using, for example, the cleaning device 22 shown in FIG. 5 (A) or the like. The cleaning device 22 includes a spinner table 24 for holding the resin package substrate 1. The spinner table 24 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the vertical direction.

スピンナテーブル24の上面の一部は、樹脂パッケージ基板1を保持するための保持面24aになっている。保持面24aは、概ね平坦且つ水平に形成されており、スピンナテーブル24の内部に設けられた吸引路24b等を介して吸引源(不図示)に接続されている。このスピンナテーブル24の周囲には、フレーム9を固定するための複数のクランプ26が設けられている。また、スピンナテーブル24の上方には、洗浄用の流体を噴射するためのノズル28が配置されている。 A part of the upper surface of the spinner table 24 is a holding surface 24a for holding the resin package substrate 1. The holding surface 24a is formed substantially flat and horizontally, and is connected to a suction source (not shown) via a suction path 24b or the like provided inside the spinner table 24. A plurality of clamps 26 for fixing the frame 9 are provided around the spinner table 24. A nozzle 28 for injecting a cleaning fluid is arranged above the spinner table 24.

洗浄ステップでは、まず、樹脂パッケージ基板1に貼付されている粘着テープ7の非粘着面7bをスピンナテーブル24の保持面24aに接触させる。この状態で吸引源の負圧を作用させることにより、樹脂パッケージ基板1は、保護膜19側が上方に露出した状態でスピンナテーブル24に保持される。 In the cleaning step, first, the non-adhesive surface 7b of the adhesive tape 7 attached to the resin package substrate 1 is brought into contact with the holding surface 24a of the spinner table 24. By applying the negative pressure of the suction source in this state, the resin package substrate 1 is held on the spinner table 24 with the protective film 19 side exposed upward.

次に、図5(A)に示すように、スピンナテーブル24を回転させて、樹脂パッケージ基板1の上方に移動させたノズル28から樹脂パッケージ基板1に向けて洗浄用の流体23を噴射する。これにより、樹脂パッケージ基板1の第1溝5b及び第2溝3dを含む露出部分に洗浄用の流体を供給して樹脂パッケージ基板1を洗浄できる。なお、クランプ26は、スピンナテーブル24の回転により生じる遠心力を利用してフレーム9を固定する。 Next, as shown in FIG. 5A, the spinner table 24 is rotated to inject the cleaning fluid 23 toward the resin package substrate 1 from the nozzle 28 moved above the resin package substrate 1. As a result, the resin package substrate 1 can be cleaned by supplying a cleaning fluid to the exposed portion of the resin package substrate 1 including the first groove 5b and the second groove 3d. The clamp 26 fixes the frame 9 by utilizing the centrifugal force generated by the rotation of the spinner table 24.

洗浄用の流体23の種類や噴射の圧力等に特段の制限はないが、本実施形態では、水を洗浄用の流体23として用い、噴射の圧力を5MPa以上12MPa以下とする。これにより、パッケージデバイス21に対して不具合を生じさせることなく、一部がモールド樹脂3bから露出した状態のフィラー3cを、この第2溝3dから除去できる。 There are no particular restrictions on the type of cleaning fluid 23, injection pressure, etc., but in this embodiment, water is used as the cleaning fluid 23, and the injection pressure is 5 MPa or more and 12 MPa or less. As a result, the filler 3c in a state where a part of the filler 3c is exposed from the mold resin 3b can be removed from the second groove 3d without causing a problem with the package device 21.

表1には、洗浄用の流体23として水を用いる場合の噴射の圧力について調査した結果を示す。 Table 1 shows the results of investigating the injection pressure when water is used as the cleaning fluid 23.

Figure 0006866038
Figure 0006866038

表1に示すように、圧力が3MPaの場合には、第2溝3dにフィラー3cが残る。一方で、圧力が14MPaの場合には、パッケージデバイス21が粘着テープ7から剥がれて飛散してしまう。よって、洗浄用の流体23として水を用いる場合には、噴射の圧力を5MPa以上12MPa以下とするのが望ましい。より望ましくは、10MPa以上12MPa以下である。 As shown in Table 1, when the pressure is 3 MPa, the filler 3c remains in the second groove 3d. On the other hand, when the pressure is 14 MPa, the package device 21 is peeled off from the adhesive tape 7 and scattered. Therefore, when water is used as the cleaning fluid 23, it is desirable that the injection pressure be 5 MPa or more and 12 MPa or less. More preferably, it is 10 MPa or more and 12 MPa or less.

なお、本実施形態では、上述のように、水溶性の樹脂17を用いて保護膜19を形成している。よって、洗浄用の流体23として水を用いることで、分割ステップで除去されずに第2溝3dに残ったフィラー3cを第2溝3dから除去しながら、インターポーザー基板5の表面5aから保護膜19を除去できる。洗浄用の流体23としては、他にも、水とエアーとを混合した混合流体(2流体)等を用いることができる。 In the present embodiment, as described above, the protective film 19 is formed by using the water-soluble resin 17. Therefore, by using water as the cleaning fluid 23, the filler 3c remaining in the second groove 3d without being removed in the dividing step is removed from the second groove 3d, and the protective film is removed from the surface 5a of the interposer substrate 5. 19 can be removed. As the cleaning fluid 23, a mixed fluid (two fluids) in which water and air are mixed can also be used.

以上のように、本実施形態に係るパッケージデバイスの製造方法では、樹脂パッケージ基板1を複数のパッケージデバイス21へと分割する際に、モールド樹脂3bに含まれるフィラー3cの大きさを超える幅の第2溝3d(及び第1溝5b)を形成するので、中央部が露出し、少なくとも両端部(2箇所)がモールド樹脂3bに固定された状態のフィラー3cが第2溝3dに残ることはない。すなわち、後の洗浄による除去が難しい状態のフィラー3cが第2溝3dに残ってしまうことはない。 As described above, in the method for manufacturing a package device according to the present embodiment, when the resin package substrate 1 is divided into a plurality of package devices 21, the width exceeds the size of the filler 3c contained in the mold resin 3b. Since the two grooves 3d (and the first groove 5b) are formed, the filler 3c in a state where the central portion is exposed and at least both end portions (two places) are fixed to the mold resin 3b does not remain in the second groove 3d. .. That is, the filler 3c, which is difficult to remove by subsequent cleaning, does not remain in the second groove 3d.

そのため、第2溝3dに洗浄用の流体23を供給することで、パッケージデバイス21への分割の際に第2溝3dに残ったフィラー3cを第2溝3d(及び第1溝5b)から除去できる。よって、完成したパッケージデバイス21からフィラー3cが脱落してしまうこともない。 Therefore, by supplying the cleaning fluid 23 to the second groove 3d, the filler 3c remaining in the second groove 3d at the time of division into the package device 21 is removed from the second groove 3d (and the first groove 5b). it can. Therefore, the filler 3c does not fall off from the completed package device 21.

なお、本発明は、上記実施形態の記載に制限されず種々変更して実施できる。例えば、上記実施形態では、モールド基板3とインターポーザー基板5とで構成された樹脂パッケージ基板1を分割して、複数のパッケージデバイス21を製造しているが、他の態様の樹脂パッケージ基板から複数のパッケージデバイスを製造することもできる。 The present invention is not limited to the description of the above embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, in the above embodiment, the resin package substrate 1 composed of the mold substrate 3 and the interposer substrate 5 is divided to manufacture a plurality of package devices 21, but a plurality of resin package substrates 21 of other embodiments are produced. Packaged devices can also be manufactured.

図6(A)は、変形例に係る固定ステップを示す斜視図であり、図6(B)は、変形例に係る固定ステップの後の状態を拡大して示す断面図である。また、図7(A)は、変形例に係る分割ステップの後の状態を拡大して示す断面図であり、図7(B)は、変形例に係る洗浄ステップの後の状態を拡大して示す断面図である。 FIG. 6A is a perspective view showing a fixing step according to a modified example, and FIG. 6B is an enlarged cross-sectional view showing a state after the fixing step according to the modified example. Further, FIG. 7 (A) is an enlarged cross-sectional view showing a state after the division step according to the modified example, and FIG. 7 (B) is an enlarged view of the state after the cleaning step according to the modified example. It is sectional drawing which shows.

図6(A)及び図6(B)に示すように、変形例で使用される樹脂パッケージ基板31は、円盤状のデバイスウェーハ33と、このデバイスウェーハ33の表面33a側等を被覆するモールド樹脂膜35と、モールド樹脂膜35から露出する球状の電極37と、を含んでいる。 As shown in FIGS. 6A and 6B, the resin package substrate 31 used in the modified example is a disk-shaped device wafer 33 and a mold resin that covers the surface 33a side of the device wafer 33 and the like. It includes a film 35 and a spherical electrode 37 exposed from the mold resin film 35.

デバイスウェーハ33は、格子状に形成された溝33cによって複数のチップに分離されており、各チップの表面33a側には、IC(Integrated Circuit)等のデバイス39が設けられている。一方で、モールド樹脂膜35は、モールド樹脂35aと、モールド樹脂35aに混入された粒状のフィラー35bとで構成され、溝33cに充填されるとともに、デバイスウェーハ33の表面33a側の中央部分(デバイス39が設けられた領域)を覆っている。電極37は、デバイス39の端子に接続されている。 The device wafer 33 is separated into a plurality of chips by grooves 33c formed in a grid pattern, and a device 39 such as an IC (Integrated Circuit) is provided on the surface 33a side of each chip. On the other hand, the mold resin film 35 is composed of the mold resin 35a and the granular filler 35b mixed in the mold resin 35a, is filled in the groove 33c, and is a central portion (device) on the surface 33a side of the device wafer 33. The area where 39 is provided) is covered. The electrode 37 is connected to the terminal of the device 39.

変形例に係る固定ステップでは、この樹脂パッケージ基板31が備えるデバイスウェーハ33の裏面33b側に、樹脂パッケージ基板31よりも径が大きい円形の粘着テープ7の中央部分を貼付する。また、この粘着テープ7の外周部分を、樹脂パッケージ基板31よりも径が大きい開口を持つ環状のフレーム9の第1面9a側に貼付する。 In the fixing step according to the modification, the central portion of the circular adhesive tape 7 having a diameter larger than that of the resin package substrate 31 is attached to the back surface 33b side of the device wafer 33 included in the resin package substrate 31. Further, the outer peripheral portion of the adhesive tape 7 is attached to the first surface 9a side of the annular frame 9 having an opening having a diameter larger than that of the resin package substrate 31.

具体的には、デバイスウェーハ33の裏面33bとフレーム9の第1面9aとに対して、粘着テープ7の粘着面7aを密着させる。これにより、樹脂パッケージ基板31は、モールド樹脂膜35及び電極37が露出した状態で、環状のフレーム9の開口に張られた粘着テープ7に固定される。すなわち、樹脂パッケージ基板31は、粘着テープ7を介してフレーム9に支持される。 Specifically, the adhesive surface 7a of the adhesive tape 7 is brought into close contact with the back surface 33b of the device wafer 33 and the first surface 9a of the frame 9. As a result, the resin package substrate 31 is fixed to the adhesive tape 7 stretched in the opening of the annular frame 9 with the mold resin film 35 and the electrodes 37 exposed. That is, the resin package substrate 31 is supported by the frame 9 via the adhesive tape 7.

固定ステップの後には、分割ステップを行う。変形例に係る分割ステップは、図3(A)や図4(A)等に示すレーザー加工装置12を用いて行うことができる。この分割ステップでは、まず、樹脂パッケージ基板31に貼付されている粘着テープ7の非粘着面7bをチャックテーブル14の保持面14aに接触させる。併せて、クランプ16でフレーム9を固定する。この状態で吸引源の負圧を作用させることにより、樹脂パッケージ基板31は、モールド樹脂膜35及び電極37が上方に露出した状態でチャックテーブル14に保持される。 After the fixing step, a dividing step is performed. The division step according to the modified example can be performed by using the laser processing apparatus 12 shown in FIGS. 3 (A), 4 (A), and the like. In this division step, first, the non-adhesive surface 7b of the adhesive tape 7 attached to the resin package substrate 31 is brought into contact with the holding surface 14a of the chuck table 14. At the same time, the frame 9 is fixed by the clamp 16. By applying the negative pressure of the suction source in this state, the resin package substrate 31 is held on the chuck table 14 in a state where the mold resin film 35 and the electrode 37 are exposed upward.

その後、チャックテーブル14を回転、移動させて、樹脂パッケージ基板31とレーザー照射ユニット18との位置関係を調整する。そして、溝33cに沿ってモールド樹脂膜35をアブレーション加工する。具体的には、レーザー照射ユニット18からレーザービーム18bを照射しながら、このレーザービーム18bが溝33cに沿って照射されるようにチャックテーブル14を移動させる。 After that, the chuck table 14 is rotated and moved to adjust the positional relationship between the resin package substrate 31 and the laser irradiation unit 18. Then, the mold resin film 35 is ablated along the groove 33c. Specifically, while irradiating the laser beam 18b from the laser irradiation unit 18, the chuck table 14 is moved so that the laser beam 18b is irradiated along the groove 33c.

ここで、レーザー照射ユニット18から照射されるレーザービーム18bは、モールド樹脂35aに対して吸収性を有し、フィラー35bに対して透過性を有している。よって、モールド樹脂膜35の表面側から溝33cに沿ってレーザービーム18bを照射することで、モールド樹脂膜35のモールド樹脂35aをアブレーション加工できる。 Here, the laser beam 18b irradiated from the laser irradiation unit 18 has absorbency with respect to the mold resin 35a and has transparency with respect to the filler 35b. Therefore, the mold resin 35a of the mold resin film 35 can be ablated by irradiating the laser beam 18b from the surface side of the mold resin film 35 along the groove 33c.

一方で、上述のようなレーザービーム18bでは、モールド樹脂膜35のフィラー35bを殆どアブレーション加工できない。そのため、このレーザービーム18bの照射によって、図7(A)に示すように、モールド樹脂膜35(モールド樹脂35a)を分割する溝35cが形成される一方で、溝35cには、一部がモールド樹脂35aから露出した状態のフィラー35bが残る。 On the other hand, with the laser beam 18b as described above, the filler 35b of the mold resin film 35 can hardly be ablated. Therefore, as shown in FIG. 7A, the irradiation of the laser beam 18b forms a groove 35c that divides the mold resin film 35 (mold resin 35a), while a part of the groove 35c is molded. The filler 35b exposed from the resin 35a remains.

ここで、溝35cの幅は、モールド樹脂35aに混入されているフィラー35bの大きさを超えるように設定される。具体的には、例えば、溝35cの幅を、フィラー35bの粒径(例えば、平均粒径)の1.2倍以上に設定することが望ましい。これにより、溝35cに残ったフィラー35bを後の洗浄ステップで適切に除去できるようになる。 Here, the width of the groove 35c is set so as to exceed the size of the filler 35b mixed in the mold resin 35a. Specifically, for example, it is desirable to set the width of the groove 35c to 1.2 times or more the particle size (for example, average particle size) of the filler 35b. As a result, the filler 35b remaining in the groove 35c can be appropriately removed in a later cleaning step.

上述のような動作を繰り返し、全ての溝33cに沿って溝35cが形成され、樹脂パッケージ基板31が複数のパッケージデバイス41へと分割されると、分割ステップは終了する。 When the above-mentioned operation is repeated, grooves 35c are formed along all the grooves 33c, and the resin package substrate 31 is divided into a plurality of package devices 41, the division step ends.

分割ステップの後には、樹脂パッケージ基板31の溝35cを含む露出部分に洗浄用の流体を供給して樹脂パッケージ基板31を洗浄する洗浄ステップを行う。変形例に係る洗浄ステップは、図5(A)等に示す洗浄装置22を用いて行うことができる。 After the division step, a cleaning step is performed in which the cleaning fluid is supplied to the exposed portion of the resin package substrate 31 including the groove 35c to clean the resin package substrate 31. The cleaning step according to the modified example can be performed by using the cleaning device 22 shown in FIG. 5A or the like.

この洗浄ステップでは、まず、樹脂パッケージ基板31に貼付されている粘着テープ7の非粘着面7bをスピンナテーブル24の保持面24aに接触させる。この状態で吸引源の負圧を作用させることにより、樹脂パッケージ基板31は、モールド樹脂膜35及び電極37が上方に露出した状態でスピンナテーブル24に保持される。 In this cleaning step, first, the non-adhesive surface 7b of the adhesive tape 7 attached to the resin package substrate 31 is brought into contact with the holding surface 24a of the spinner table 24. By applying the negative pressure of the suction source in this state, the resin package substrate 31 is held on the spinner table 24 with the mold resin film 35 and the electrode 37 exposed upward.

次に、スピンナテーブル24を回転させて、樹脂パッケージ基板31の上方に移動させたノズル28から樹脂パッケージ基板31に向けて洗浄用の流体23を噴射する。これにより、樹脂パッケージ基板31の溝35cを含む露出部分に洗浄用の流体23を供給して樹脂パッケージ基板31を洗浄できる。 Next, the spinner table 24 is rotated to inject the cleaning fluid 23 toward the resin package substrate 31 from the nozzle 28 moved above the resin package substrate 31. As a result, the cleaning fluid 23 can be supplied to the exposed portion of the resin package substrate 31 including the groove 35c to clean the resin package substrate 31.

洗浄用の流体23の種類や噴射の圧力等に特段の制限はないが、本実施形態では、水を洗浄用の流体23として用い、噴射の圧力を5MPa以上12MPa以下とする。これにより、パッケージデバイス41に対して不具合を生じさせることなく、一部がモールド樹脂35aから露出した状態のフィラー35bを、この溝35cから除去できる。 There are no particular restrictions on the type of cleaning fluid 23, injection pressure, etc., but in this embodiment, water is used as the cleaning fluid 23, and the injection pressure is 5 MPa or more and 12 MPa or less. As a result, the filler 35b in a state where a part of the filler 35b is exposed from the mold resin 35a can be removed from the groove 35c without causing a problem with the package device 41.

その他、上記実施形態や変形例等に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, etc. according to the above-described embodiment and modification can be appropriately modified and implemented as long as the scope of the object of the present invention is not deviated.

1 樹脂パッケージ基板
3 モールド基板
3a 表面
3b モールド樹脂
3c フィラー
3d 第2溝
5 インターポーザー基板
5a 表面
5b 第1溝
7 粘着テープ
7a 粘着面
7b 非粘着面
9 フレーム
9a 第1面
13 分割予定ライン(ストリート)
15 領域
17 樹脂
19 保護膜
21 パッケージデバイス
23 流体
31 樹脂パッケージ基板
33 デバイスウェーハ
33a 表面
33b 裏面
33c 溝
35 モールド樹脂膜
35a モールド樹脂
35b フィラー
35c 溝
37 電極
39 デバイス
41 パッケージデバイス
2 スピンコーター
4 スピンナテーブル
4a 保持面
4b 吸引路
6 クランプ
8 ノズル
12 レーザー加工装置
14 チャックテーブル
14a 保持面
14b 吸引路
16 クランプ
18 レーザー照射ユニット
18a,18b レーザービーム
22 洗浄装置
24 スピンナテーブル
24a 保持面
24b 吸引路
26 クランプ
28 ノズル
1 Resin package substrate 3 Mold substrate 3a Surface 3b Mold resin 3c Filler 3d 2nd groove 5 Interposer substrate 5a Surface 5b 1st groove 7 Adhesive tape 7a Adhesive surface 7b Non-adhesive surface 9 Frame 9a 1st surface 13 Scheduled division line (street) )
15 area 17 resin 19 protective film 21 package device 23 fluid 31 resin package substrate 33 device wafer 33a front surface 33b back surface 33c groove 35 mold resin film 35a mold resin 35b filler 35c groove 37 electrode 39 device 41 package device 2 spin coater 4 spinner table 4a Holding surface 4b Suction path 6 Clamp 8 Nozzle 12 Laser processing device 14 Chuck table 14a Holding surface 14b Suction path 16 Clamp 18 Laser irradiation unit 18a, 18b Laser beam 22 Cleaning device 24 Spinner table 24a Holding surface 24b Suction path 26 Clamp 28 Nozzle

Claims (3)

フィラーが混入されたモールド樹脂を含む樹脂パッケージ基板を分割して複数のパッケージデバイスを製造するパッケージデバイスの製造方法であって、
環状のフレームの開口に張られた粘着テープに該樹脂パッケージ基板を固定する固定ステップと、
該固定ステップの後、該モールド樹脂に対して吸収性を有し、該フィラーに対して透過性を有する波長のレーザービームを該樹脂パッケージ基板の該モールド樹脂に照射して、該モールド樹脂の一部を除去し、該フィラーの大きさを超える幅の溝を形成することで、該樹脂パッケージ基板を複数のパッケージデバイスへと分割する分割ステップと、
分割された該樹脂パッケージ基板の該溝を含む露出部分に洗浄用の流体を供給し、該分割ステップで除去された該モールド樹脂の一部に混入され該分割ステップで除去されずに該溝に残った該フィラーを該溝から除去する洗浄ステップと、を含むことを特徴とするパッケージデバイスの製造方法。
A method for manufacturing a package device in which a resin package substrate containing a mold resin mixed with a filler is divided to manufacture a plurality of package devices.
A fixing step of fixing the resin package substrate to the adhesive tape stretched on the opening of the annular frame, and
After the fixing step, one of the mold resins is irradiated with a laser beam having a wavelength that is absorbent to the mold resin and transparent to the filler. A division step of dividing the resin package substrate into a plurality of package devices by removing the portion and forming a groove having a width exceeding the size of the filler.
A cleaning fluid is supplied to the exposed portion of the divided resin package substrate including the groove, mixed with a part of the mold resin removed in the dividing step, and not removed in the dividing step into the groove. A method for manufacturing a package device, comprising: a cleaning step of removing the remaining filler from the groove.
該樹脂パッケージ基板は、デバイスチップを該モールド樹脂で被覆してなるモールド基板と、該モールド基板に重なるインターポーザー基板と、を備え、
該分割ステップの前に、該インターポーザー基板の露出した表面に液状の樹脂を塗布して保護膜を形成する液状樹脂塗布ステップを更に含み、
該固定ステップでは、該樹脂パッケージ基板の該モールド基板側を該粘着テープに固定し、
該分割ステップでは、該インターポーザー基板に対して吸収性を有する波長のレーザービームを該インターポーザー基板の該表面側から照射して、該インターポーザー基板を分割する第1溝を形成した後に、該モールド樹脂に対して吸収性を有し、該フィラーに対して透過性を有する波長のレーザービームを該第1溝の底に照射して、該第1溝に接続し該モールド樹脂を分割する第2溝を形成し、
該洗浄ステップでは、該分割ステップで除去されずに該溝に残ったフィラーを該溝から除去しながら、該保護膜を該インターポーザー基板の表面から除去することを特徴とする請求項1に記載のパッケージデバイスの製造方法。
The resin package substrate includes a mold substrate in which a device chip is coated with the mold resin, and an interposer substrate that overlaps the mold substrate.
Prior to the division step, a liquid resin coating step of applying a liquid resin to the exposed surface of the interposer substrate to form a protective film is further included.
In the fixing step, the mold substrate side of the resin package substrate is fixed to the adhesive tape.
In the division step, a laser beam having a wavelength capable of absorbing the interposer substrate is irradiated from the surface side of the interposer substrate to form a first groove for dividing the interposer substrate, and then the interposer substrate is divided. A laser beam having a wavelength that is absorbent to the mold resin and transparent to the filler is applied to the bottom of the first groove, and the laser beam is connected to the first groove to divide the mold resin. Form 2 grooves,
The cleaning step according to claim 1, wherein the protective film is removed from the surface of the interposer substrate while removing the filler remaining in the groove without being removed in the dividing step from the groove. How to manufacture packaged devices.
該流体は水であり、
該洗浄ステップでは、該水を5MPa以上12MPa以下の圧力で該露出部分に供給することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のパッケージデバイスの製造方法。
The fluid is water
The method for manufacturing a package device according to claim 1 or 2, wherein in the washing step, the water is supplied to the exposed portion at a pressure of 5 MPa or more and 12 MPa or less.
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