JP6846760B2 - 汚泥処理方法及び汚泥処理装置 - Google Patents
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Description
なお、本発明の汚泥処理装置は、新設してもよいし、既存の設備を改造することにより作製してもよい。中でも、低コストかつ容易に汚泥処理装置を得る観点からは、本発明の汚泥処理装置は、既存の設備に対して後述する電磁波照射器を取り付けることにより作製することが好ましい。
図1は、本発明に従う汚泥処理装置の一例の概略構成を示す図である。図1に示す汚泥処理装置100は、薬品溶解槽10と、混合槽20と、任意の脱水機30とを備えている。さらに、汚泥処理装置100は、薬品溶解槽10に対して供給水を流入させる供給水ライン41に対して取り付けられた供給水ライン用電磁波照射器51、薬品溶解槽10に対して取り付けられた薬品溶解槽用電磁波照射器52、混合槽20に対して取り付けられた混合物用電磁波照射器53を備える。
なお、透磁率はJIS C 2550に従って測定することができる。
本発明の汚泥処理方法は、供給水に対して凝集剤を溶解させて凝集剤溶解水を得る凝集剤溶解工程と、凝集剤溶解水と原汚泥とを混合する混合工程と、を含む。そして、凝集剤溶解工程は、供給水、及び/又は、供給水と凝集剤とを含む混合液に対して電磁波を照射して、凝集剤の溶解を促進することを含む。また、混合工程は、凝集剤溶解水及び原汚泥の混合物に対して電磁波を照射して、汚泥の凝集を促進することを含む。かかる汚泥処理方法によれば、汚泥処理に用いる凝集剤の使用量を十分に低減するとともに、高効率で汚泥を凝集することができる。さらに、混合工程の前段に、原汚泥に対して電磁波を照射する原汚泥電磁波照射工程を行うことが好ましい。原汚泥電磁波照射工程を実施すれば、混合工程における混合を促進するとともに、一層高効率で汚泥を凝集することができる。このため、凝集剤の添加量を一層低減することができる。
また、図1では、汚泥処理装置100が混合物用電磁波照射器53及び原汚泥用電磁波照射器54の双方を備えるものとして図示したが、本発明の汚泥処理は、混合物用電磁波照射器及び原汚泥用電磁波照射器の少なくとも一方を有していればよい。
また、図1では、薬品溶解槽用電磁波照射器52及び混合物用電磁波照射器53は、「投げ込み式」の電磁波照射器であるものとして図示したが、これらの電磁波照射器も、供給水ライン用電磁波照射器51等と同様の形式の電磁波照射器により構成されていても良い。
また、本発明の汚泥処理装置に備えられる電磁波照射器において電磁波を照射する電磁波発振部の形状はコイルに限定されるものではなく、また、電磁波発振部の設置位置も配管の外周面上に限定されるものではない。例えば、電磁波発振部は、配管内に配置してもよい。
薬注率(%)=凝集剤使用量÷処理した原汚泥量
ここで、凝集剤使用量=(凝集剤溶解水溶解水濃度)×凝集剤溶解水使用量
<脱水ケーキ含水率>
(社)日本下水道協会発行の「下水試験方法」に従って、脱水ケーキの含水量を測定した。
<凝集剤溶解工程>
上述した図1に示す汚泥処理装置100と同様の構成を有する汚泥処理装置を用いて汚泥処理を行い、処理効果を確認した。用いた汚泥処理装置の薬品溶解槽の容量は1m3であり、混合槽の容量は150Lであり、これらは共に撹拌機を備えていた。また、混合層の後段側に備えられた脱水機は、ベルト幅が1mのベルトプレス脱水機であった。かかる汚泥処理装置において、供給水ライン用電磁波照射器により薬品溶解槽の前段側で、供給水に対して電磁波を照射して供給水のゼータ電位をプラスとした。そして、薬品溶解槽に電磁波処理済供給水0.5m3流入させてから、薬品溶解槽内に取り付けられた撹拌機の駆動、及び高分子凝集剤であるカチオン性高分子の供給を開始した。この際のカチオン性高分子の供給量は、得られる凝集剤溶解水の濃度が0.2%となる量とし、また、電磁波処理済供給水の供給量は、薬品溶解槽内の水量が1.0m3となるようにした。撹拌機駆動後における、凝集剤及び供給水の供給速度は、撹拌機の駆動開始時点から20分後の時点で、凝集剤及び供給水の供給が完了する速度とした。そして、撹拌機の駆動開始から1時間後に撹拌機の駆動を停止した。なお、撹拌開始直後は目視可能な程度の小さな凝集剤の粒子が薬品溶解槽内に分散され、撹拌される様子を視認することができたが、徐々に粒子が小さくなり、撹拌機の駆動開始から1時間後には、粒子が目視不能な状態となった。
さらに、原汚泥用電磁波照射器により混合槽の前段側で、TS(蒸発残留物)量が2%の原汚泥に対して電磁波を照射して原汚泥のゼータ電位をマイナスとした。
上記原汚泥電磁波照射工程にて得られた電磁波処理済原汚泥を、混合槽に対して供給した。また、上記凝集剤溶解工程にて得られた凝集剤溶解水も、混合槽に対して供給した。混合工程における凝集剤溶解水と電磁波処理済原汚泥との混合比率は薬注入率が1.5%となるように調節した。そして、混合槽に備えられた撹拌機を駆動させて、電磁波処理済原汚及び凝集剤溶解水を混合して混合物を得た。この際の撹拌時間は3分であった。
その後、上記混合工程にて得られた混合物を、混合物ラインを経て脱水機に流入させ、脱水処理して脱水ケーキを得た。得られた脱水ケーキの含水率を上記に従って測定したところ、78%であった。結果を表1に示す。
<原汚泥電磁波照射工程>に代えて、<混合工程>において混合物用電磁波照射器により混合物に対して電磁波照射を行った以外は、実施例1と同様にして汚泥処理を行った。結果を表1に示す。
凝集剤溶解工程、混合工程、及び脱水工程を、電磁波照射を行うことなく実施した。実施例1と同様に、凝集剤の粒子が目視不能な状態となるまで、撹拌をおこなった。その結果、撹拌機の駆動開始から駆動停止まで、4時間を要した。また、混合工程において、薬注率が2.0%となるような比率で、凝集剤溶解水と汚泥とを混合した。
これらの点以外は、上記3つの工程における条件は実施例1と同様にして、汚泥処理を行った。結果を表1に示す。
実施例1と同様にして凝集剤溶解工程を行った。得られた凝集剤溶解水を用いて、混合工程において、薬注率が1.9%となるような比率で、凝集剤溶解水と汚泥とを混合した。かかる点以外は比較例1と同様にして混合工程及び脱水工程を行って、汚泥処理した。結果を表1に示す。
凝集剤溶解工程において、電磁波処理済供給水に代えて、電磁波処理を経ていない供給水を用いた。実施例1と同様に、薬品溶解槽に供給水0.5m3流入させてから、薬品溶解槽内に取り付けられた撹拌機の駆動、及び高分子凝集剤であるカチオン性高分子の供給を開始した。併せて、撹拌機の駆動の開始に併せて、薬品溶解槽用電磁波照射器の駆動を開始して、電磁波を薬品溶解槽内の供給水と凝集剤とを含む混合液に対して照射した。これらの点以外は実施例1と同様にして凝集剤溶解工程を行った。そして、混合工程にあたり、薬注率が1.8%となるような比率で、凝集剤溶解水と汚泥とを混合した点以外は、比較例1と同様の混合工程及び脱水工程を行って、汚泥処理した。結果を表1に示す。
電磁波照射を行わなかった点以外は比較例1と同様にして、凝集剤溶解工程を行った。そして、混合工程において、凝集剤溶解水と原汚泥との混合比率を、薬注率が1.8%となるような比率に変更した以外は、実施例1と同様の混合工程及び脱水工程を行って、汚泥処理した。結果を表1に示す。
凝集剤溶解工程を、電磁波照射を行うことなく実施した。そして、混合工程において、凝集剤溶解水と原汚泥との混合比率を、薬注率が1.7%となるような比率に変更した以外は、実施例2と同様の混合工程及び脱水工程を行って、汚泥処理した。結果を表1に示す。
一方、凝集剤溶解工程において電磁波照射を行わなかった比較例1、4〜5、及び凝集剤溶解工程では電磁波照射を行ったものの、以降の工程では電磁波を照射しなかった比較例2〜3では、薬注率の低減と得られる脱水ケーキの含水率を低くすることとを両立することができなかったことが分かる。
20 混合槽
30 脱水機
41 供給水ライン
51 供給水ライン用電磁波照射器
52 薬品溶解槽用電磁波照射器
53 混合物用電磁波照射器
54 原汚泥用電磁波照射器
60 凝集汚泥
100 汚泥処理装置
511,521,531,541 コイル
512,522,532,542 交流電流発生器
Claims (4)
- 供給水に対して凝集剤を溶解させて凝集剤溶解水を得る凝集剤溶解工程と、
前記凝集剤溶解水と原汚泥とを混合する混合工程と、を含み、
前記凝集剤溶解工程が、前記供給水に対して電磁波を照射して、前記凝集剤の溶解を促進することを含み、
前記混合工程にて前記凝集剤溶解水及び前記原汚泥の混合物に対して電磁波を照射すること、及び/又は、前記混合工程の前段に前記原汚泥に対して電磁波を照射する原汚泥電磁波照射工程を行うことにより、汚泥の凝集を促進する、汚泥処理方法。 - 前記原汚泥電磁波照射工程、及び前記混合工程にて前記混合物に対して電磁波を照射することを含む、請求項1に記載の汚泥処理方法。
- 供給水に対して凝集剤を溶解させて凝集剤溶解水を得る薬品溶解槽と前記凝集剤溶解水と原汚泥とを混合する混合槽と、前記混合槽に対して原汚泥を供給する原汚泥供給ラインとを備える汚泥処理装置であって、
前記薬品溶解槽に対して供給水を流入させる供給水ラインが供給水用電磁波照射器を有し、
前記混合槽が混合物用電磁波照射器を有し、且つ/又は、前記原汚泥供給ラインが原汚泥用電磁波照射器を有する、汚泥処理装置。 - 前記混合槽が混合物用電磁波照射器を有するとともに、前記原汚泥供給ラインが原汚泥用電磁波照射器を有する、請求項3に記載の汚泥処理装置。
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