JP6844021B2 - Soldering equipment, soldering method and manufacturing method of wiring board with parts - Google Patents
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Description
本発明は、はんだ付け装置及びはんだ付け方法に関する。 The present invention relates to a soldering apparatus and a soldering method.
国際公開第2013/111651号(特許文献1)は、ノズルから噴流する溶融はんだの高さを測定する方法を開示している。特許文献1では、導電性のゲージ部材を用いて、ノズルから噴流する溶融はんだの高さが測定されている。 International Publication No. 2013/111651 (Patent Document 1) discloses a method for measuring the height of molten solder jetted from a nozzle. In Patent Document 1, the height of the molten solder jetted from the nozzle is measured by using a conductive gauge member.
しかしながら、ノズルから噴流する溶融はんだの高さを同じであっても、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状が変化すると、溶融はんだとプリント基板のようなはんだ付けされる対象物との間の接触の態様が変化する。そのため、はんだ付け不良が発生し得る。本発明の目的は、より適切なはんだ付けを可能にするはんだ付け装置及びはんだ付け方法を提供することである。 However, even if the height of the molten solder jetted from the nozzle is the same, if the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle changes, the contact between the molten solder and the object to be soldered such as a printed circuit board The aspect of is changed. Therefore, soldering defects may occur. An object of the present invention is to provide a soldering apparatus and a soldering method that enable more appropriate soldering.
本発明のはんだ付け装置は、噴流部と、測定部とを備える。噴流部は、ノズルを含む。測定部は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第1の表面形状を測定するように構成されている。 The soldering apparatus of the present invention includes a jet unit and a measuring unit. The jet section includes a nozzle. The measuring unit is configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region formed on the surface of the molten solder jetted from the nozzle.
本発明のはんだ付け方法は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、測定部によって拡散反射領域の第1の表面形状を測定することとを備える。 The soldering method of the present invention includes forming a diffuse reflection region on the surface of the molten solder jetted from a nozzle, and measuring the first surface shape of the diffuse reflection region by a measuring unit.
拡散反射領域の第1の表面形状は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状に追従する。測定部によって拡散反射領域の第1の表面形状を測定することにより、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状が測定され得る。本発明のはんだ付け装置及びはんだ付け方法は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状に対応する拡散反射領域の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切なはんだ付けを可能にする。 The first surface shape of the diffuse reflection region follows the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle. By measuring the first surface shape of the diffuse reflection region by the measuring unit, the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle can be measured. The soldering apparatus and soldering method of the present invention enable more appropriate soldering by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region corresponding to the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle.
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. The same reference number will be assigned to the same configuration, and the description will not be repeated.
実施の形態1.
図1から図10を参照して、実施の形態1に係るはんだ付け装置1を説明する。Embodiment 1.
The soldering apparatus 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 10.
はんだ付け装置1は、ノズル12aを含む噴流部10と、拡散反射領域形成部30(図5参照)と、測定部20とを主に備える。はんだ付け装置1は、搬送部4と、予備加熱部9と、筐体3と、表示部41と、制御部40(図10参照)と、メモリ43(図10参照)とをさらに備えてもよい。
The soldering apparatus 1 mainly includes a
搬送部4は、ノズル12aの上方へ配線基板6を搬送する。搬送部4は、例えば、搬送コンベアであってもよい。はんだ付け装置1は、配線基板6の裏面6bにノズル12aから噴流する溶融はんだ14を接触させて、配線基板6のおもて面6aに搭載されている部品7を、配線基板6の裏面6b上に設けられている電気配線にはんだ付けしてもよい。部品7は、例えば、コンデンサまたは抵抗のような電子部品であってもよい。配線基板6は、プリント基板であってもよい。
The
溶融はんだ14は、例えば、錫−鉛または錫−銀−銅のような錫を主成分とするはんだ合金で構成されてもよい。溶融はんだ14は、例えば、錫−銅系合金、錫−銀系合金、またはこれらの合金にアンチモン、ビスマス、ニッケルもしくはゲルマニウムなどを添加したはんだ合金で構成されてもよい。
The
図1から図3に示されるように、噴流部10は、溶融はんだ14が貯留されているはんだ槽10sと、ダクト11と、ノズル部12と、ポンプ13pとを含む。ダクト11は、はんだ槽10sに係止または固定されている。ダクト11は、頂部11tと底部11bとを含む。ダクト11は、底部11bに開口11aを有する。ダクト11は、開口11aを通じて、はんだ槽10sに連通している。ポンプ13pは、はんだ槽10s内に貯留されている溶融はんだ14を、ダクト11及びノズル12aに送り出す。ポンプ13pは、インペラ13nと、インペラ13nに接続されているモータ13mとを含んでもよい。インペラ13nは、ダクト11内に配置されている。インペラ13nは、開口11aに面するように配置されてもよい。モータ13mがインペラ13nを回転させることによって、溶融はんだ14がはんだ槽10sからダクト11及びノズル12aに送り出される。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
図5に示されるように、ノズル部12は、ノズル12aを含む。ノズル12aは、高さ方向(z方向)に突出している。高さ方向(z方向)は、ノズル12aから配線基板6に向かって溶融はんだ14が噴出する方向である。ノズル12aの開口12bから、溶融はんだ14が噴流する。ノズル12aの開口12bは、細長い矩形またはスリットの形状を有してもよい。ノズル12aの開口12bは、配線基板6の搬送方向(x方向)及び高さ方向(z方向)に交差する幅方向(y方向)に沿って延在してもよい。溶融はんだ14は、ノズル12aから、配線基板6の搬送方向の上流側(−x方向)と下流側(+x方向)とに向けて流出する。ノズル12aの開口12bは、円形の形状を有してもよい。ノズル12aは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって覆われる。
As shown in FIG. 5, the
図2及び図3に示されるように、ノズル12aは、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さdが変化するように構成されてもよい。ノズル12aは、搬送部4に対するノズル12aの相対的な高さが変化するように構成されてもよい。ノズル12aは、ダクト11に対するノズル12aの相対的な高さが変化するように構成されてもよい。ノズル12aは、ダクト11に対して移動するようにダクト11の頂部11tに設けられてもよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
具体的には、ダクト11は、高さ方向(z方向)に延在する支柱11fと、支柱11fの端部に設けられているボルト11hとを含んでもよい。ノズル部12は、孔12eを有する板部12dを含む。板部12dは、高さ方向(z方向)と配線基板6の搬送方向(x方向)とに交差する幅方向(y方向)に延在している。ボルト11hは孔12eに挿入されている。ボルト11hを回転させることによって、ボルト11hは支柱11fに対して高さ方向(z方向)に移動することができる。ノズル12a(ノズル部12)は、ボルト11hとともに高さ方向(z方向)に移動することができる。こうして、配線基板6に対するノズル12a(ノズル部12)の相対的な高さdを変化させ得る。
Specifically, the
図4に示されるように、本実施の形態の一変形例では、噴流部10の下方に、昇降部18が設けられてもよい。昇降部18は、噴流部10を高さ方向(z方向)に移動させる。こうして、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さdを変化させてもよい。
As shown in FIG. 4, in one modification of the present embodiment, the elevating
図5に示されるように、ノズル部12はガイド板12cを含んでもよい。ガイド板12cは、ノズル12aから配線基板6の搬送方向(x方向)に沿って延在している。ガイド板12cは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14を配線基板6の搬送方向(x方向)に沿ってガイドする。ガイド板12cは、ノズル12aに対する取り付け位置(ノズル12aの頂部に対する相対的な高さ)が変化するように構成されてもよい。ガイド板12cは、配線基板6の搬送方向(x方向)における長さが変化するように構成されてもよい。
As shown in FIG. 5, the
図2及び図3に示されるように、噴流部10は、はんだ槽10s内に第1のヒータ13hをさらに含んでもよい。第1のヒータ13hは、溶融はんだ14を加熱して、はんだを溶融状態に保つ。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、図6に示されるように、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14がこのガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。はんだの自然酸化膜は、約2nmから約3nmの厚さを有してもよい。はんだ酸化膜15は、例えば、酸化錫膜であってもよい。
The
図5から図7に示されるように、拡散反射領域形成部30は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成するように構成されている。拡散反射領域形成部30は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面の一部上に選択的に拡散反射領域16を形成するように構成されてもよい。
As shown in FIGS. 5 to 7, the diffuse reflection
拡散反射領域形成部30は、部材31と、部材31を移動させるように構成されている駆動部32とを含んでもよい。部材31は、ノズル12aに対して移動するように構成されている。部材31は、連結部33を介して駆動部32に接続されてもよい。部材31は、例えば、板部材であってもよい。駆動部32は、例えば、モータであってもよい。
The diffuse reflection
駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させるように構成されている。具体的には、駆動部32は、部材31を高さ方向(z方向)に移動させる。図6に示されるように、部材31は、溶融はんだ14の表面に形成されているはんだ酸化膜15を貫通して、部材31の一部が溶融はんだ14に浸漬される。続いて、図7に示されるように、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、部材31を溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させる。特定的には、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、高さ方向(z方向)及び溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に交差する幅方向(y方向)に沿って、部材31を移動させてもよい。
The
はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含み、拡散反射領域形成部30は拡散反射膜形成部である。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。
The
拡散反射領域16は、溶融はんだ14の表面上に直線状または曲線状に延在してもよい。特定的には、拡散反射領域16は、ノズル12aから溶融はんだ14が流出する方向に沿って延在してもよい。拡散反射領域16は、ノズル12aから、配線基板6の搬送方向の上流方向(−x方向)及び下流方向(+x方向)の少なくとも一つに向かって延在してもよい。
The diffuse
図8に示されるように、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定するように構成されている。本明細書において、表面形状は、表面の位置も含む。測定部20は、光学的測定部であってもよい。具体的には、測定部20は、拡散反射領域16に光22を照射するように構成されている光源部21と、拡散反射領域16によって拡散反射される光22を検出するように構成されている光検出部23とを含んでもよい。測定部20は、例えば、レーザ変位計であってもよく、特定的には二次元レーザ変位計であってもよい。
As shown in FIG. 8, the measuring
光源部21は、例えば、半導体レーザであってもよい。光源部21は、走査される光22を出射してもよい。特定的には、光源部21から出射される光22は、配線基板6の搬送方向(x方向)と幅方向(y方向)とに沿って走査されてもよい。
The
光源部21から出射された光22は、拡散反射領域16において拡散反射される。拡散反射領域16は、拡散反射領域16に隣接する領域におけるはんだ酸化膜15と比べて、拡散反射の割合が大きく、鏡面反射の割合が小さい。なお、表面の拡散反射の割合は、当該表面に垂直に入射する光に対する、当該入射方向と異なる方向へ反射される光の割合を意味する。表面の鏡面反射の割合は、当該表面に垂直に入射する光に対する、当該光の入射方向に反射される光の割合を意味する。
The light 22 emitted from the
光検出部23は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。光検出部23は、例えば、CMOS位置センサであってもよい。測定部20は、三角測量方式によって、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定してもよい。具体的には、拡散反射領域16で拡散反射された光22を光検出部23で検出することにより、光検出部23に対する拡散反射領域16の表面の角度及び距離の情報が得られる。この情報に基づいて、拡散反射領域16の第1の表面形状が測定され得る。
The
拡散反射領域16(拡散反射膜15a)は、溶融はんだ14の表面上に浮遊している。拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状に追従している。拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状と実質的に等価であると見なされ得る。測定部20を用いて拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状を測定することによって、溶融はんだ14の表面形状が測定され得る。
The diffuse reflection region 16 (diffuse
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面は、絶えず揺らいでいる。そのため、拡散反射領域16を含まないはんだ酸化膜15で鏡面反射される光を光検出部23によって受光して、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面の形状を正確に測定することは困難である。これに対し、本実施の形態では、測定部20は、拡散反射領域16(拡散反射膜15a)で拡散反射される光22を検出する。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面が揺らいでも、拡散反射領域16で拡散反射される光22は、光検出部23によって安定的に受光され得る。拡散反射領域16において拡散反射された光22によって、噴流する溶融はんだ14の表面の形状は正確かつ容易に測定され得る。
The surface of the
拡散反射領域16(拡散反射膜15a)を観察することにより、測定部20はノズル12aから噴流する溶融はんだ14に対して容易に位置決めされ得る。溶融はんだ14が噴流していても、拡散反射領域16(拡散反射膜15a)はほとんど移動しない。なぜなら、はんだ酸化膜15は、粘性流体とみなすことができる溶融はんだ14に対して壁として機能し、粘性流体は、一般に、壁の近傍において実質的にゼロの流速を有するからである。そのため、溶融はんだ14の表面の形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状は、正確かつ容易に測定され得る。
By observing the diffuse reflection region 16 (diffuse
部品7を配線基板6にはんだ付けするために配線基板6をノズル12aの上方に搬送すると、拡散反射膜15aは、配線基板6に押し流される。そのため、拡散反射膜15aは、配線基板6に対する部品7のはんだ付けに悪影響を及ぼさない。駆動部32は、例えば、測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状が測定する前に、部材31を溶融はんだ14から引き上げる。駆動部32は、拡散反射領域16の第1の表面形状が計測された後に、部材31を溶融はんだ14から引き上げてもよい。
When the
図9に示されるように、測定部20は、ノズル12aの第2の表面形状をさらに測定するように構成されてもよい。溶融はんだ14がノズル12aから噴流する前に、測定部20によって、ノズル12aの位置及び形状が測定され得る。そのため、適切な形状を有するノズル12aが、配線基板6に対して正確に位置決めされ得る。
As shown in FIG. 9, the measuring
図10に示されるように、制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、噴流部10を制御するように構成されている。本明細書において、噴流部10を制御することは、ポンプ13pに接続されるモータ13mの回転数、第1のヒータ13hの温度、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さ、ノズル12aの頂部に対するガイド板12cの相対的な高さ及びガイド板12cの長さの少なくとも一つを調整することを意味する。
As shown in FIG. 10, the
具体的には、メモリ43には、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとを比較するように構成されている。制御部40は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御するように構成されている。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状が第1の形状基準データに一致するように、噴流部10を制御してもよい。
Specifically, the
制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御するように構成されてもよい。本明細書において、ノズル12aを制御することは、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さ、ノズル12aの頂部に対するガイド板12cの相対的な高さ及びガイド板12cの長さの少なくとも一つを調整することを意味する。
The
具体的には、メモリ43には、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとを比較するように構成されている。制御部40は、ノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル12aを制御するように構成されている。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致するように、ノズル12aを制御してもよい。メモリ43には、配線基板6の種類に関するデータがさらに格納されてもよい。
Specifically, the
図1及び図4に示されるように、予備加熱部9は、ノズル12aに対して、配線基板6の搬送方向(x方向)における上流側(−x方向)に配置されている。噴流部10におけるはんだ付けに先立って、予備加熱部9は、配線基板6を加熱する。予備加熱部9は、第2のヒータ9hと、温度センサ9sとを含む。配線基板6は、予備加熱部9内を搬送部4によって搬送されながら、予備加熱部9において加熱される。第2のヒータ9hは、予備加熱部9内に搬送される配線基板6を加熱する。温度センサ9sは、予備加熱部9内の温度を検出する。図10に示されるように、予備加熱部9は、制御部40に接続されてもよい。制御部40は、予備加熱部9を制御してもよい。制御部40は、温度センサ9sの出力を受信して、温度センサ9sの出力に基づいて第2のヒータ9hを制御してもよい。
As shown in FIGS. 1 and 4, the preheating
図1に示されるように、筐体3は、噴流部10と、測定部20と、予備加熱部9とを収容している。搬送部4の一部及び制御部40もまた、筐体3内に収容されている。制御部40は、搬送部4を制御してもよい。例えば、制御部40は、搬送部4による配線基板6の搬送速度を制御してもよい。
As shown in FIG. 1, the
図1に示されるように、表示部41は、筐体3上に設けられている。図10に示されるように、表示部41は、制御部40に接続されている。制御部40は、測定部20によって得られた拡散反射領域16の第1の表面形状、ノズル12aの第2の表面形状、ポンプ13pに接続されるモータ13mの回転数、第1のヒータ13hの温度、第2のヒータ9hの温度、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さ、ノズル12aの頂部に対するガイド板12cの相対的な高さ、ガイド板12cの長さ、配線基板6の種類及び搬送部4における配線基板6の搬送速度などを含むデータを、表示部41に出力する。表示部41は、これらデータを表示する。
As shown in FIG. 1, the
図5から図11を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)を備える。拡散反射領域16は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面の一部上に選択的に形成されてもよい。The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 11.
The soldering method of the present embodiment includes forming a diffuse
図5から図7に示されるように、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させることを含んでもよい。具体的には、駆動部32は、部材31を高さ方向(z方向)に移動させる。図6に示されるように、部材31は、溶融はんだ14の表面に形成されているはんだ酸化膜15を貫通して、部材31の一部が溶融はんだ14に浸漬される。続いて、図7に示されるように、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、部材31を溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させる。特定的には、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、幅方向(y方向)に沿って、部材31を移動させてもよい。
As shown in FIGS. 5 to 7, forming the diffuse reflection region 16 (S11) causes the
はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含んでもよい。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。
The
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)を備える。図8に示されるように、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)は、拡散反射領域16に光22を照射することと、拡散反射領域16によって拡散反射された光22を検出することとを含んでもよい。
The soldering method of the present embodiment includes measuring the first surface shape of the diffuse
拡散反射領域16(拡散反射膜15a)は、溶融はんだ14の表面上に浮遊している。拡散反射領域16の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状に追従している。拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状と実質的に等価であると見なされ得る。測定部20を用いて拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状を測定することによって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状が測定され得る。測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状が測定された後に、駆動部32は、部材31を、溶融はんだ14から引き上げてもよい。
The diffuse reflection region 16 (diffuse
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、ノズル12aを含む噴流部10を制御すること(S13、S14)をさらに備えてもよい。噴流部10を制御すること(S13、S14)は、拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)と、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S14)とを含んでもよい。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データは、例えば、後述するノズル12aをクリーニングした直後にノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に関する過去のデータであってもよい。
The soldering method of the present embodiment further comprises controlling the
具体的には、メモリ43には、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状とメモリ43に格納されている第1の形状基準データとを比較する。制御部40は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御する。
Specifically, the
特定的には、制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状がノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の形状基準データに一致するように、噴流部10を制御してもよい。測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状がノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の形状基準データに一致しない場合(図11のNG1の場合)には、噴流部10を制御し(S14)、それから、工程(S11)から工程(S13)によって、拡散反射領域16の第1の表面形状が第1の形状基準データに一致しているか否かを確認する。測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状がノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の形状基準データに一致するまで、工程(S11)から工程(S14)を繰り返す。
Specifically, the
測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状を第1の形状基準データに一致させた後に、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって、部品7を配線基板6にはんだ付けする(S30)。具体的には、配線基板6は、搬送部4によって、ノズル12aの上方へ搬送される。配線基板6の裏面6bにノズル12aから噴流する溶融はんだ14を接触させて、配線基板6のおもて面6aに搭載されている部品7は、配線基板6の裏面6b上に設けられている電気配線にはんだ付けされる。
After matching the first surface shape of the diffuse
はんだ付け装置1を何度も使用すると、ノズル12aの開口12b内にはんだ酸化物が堆積する。この堆積されたはんだ酸化物は、ノズル12aの開口12b内の溶融はんだ14の流れを阻害し、はんだ付け不良を引き起こす。堆積されたはんだ酸化物を除去するために、ノズル12aがはんだ付け装置1から取り外されて、分解及びクリーニングされる。ノズル12aをクリーニングし終えた後、ノズル12aを再び組み立てて、はんだ付け装置1に取り付ける。ノズル12aを組み立てる時に、組立誤差が発生することがある。ノズル12aをはんだ付け装置1に取り付ける際に、取り付け誤差が発生することがある。これらの誤差により、クリーニング後のノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状は、クリーニング前のノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状と異なり得る。これらの誤差は、ノズル12aをクリーニングした後に、はんだ不良を引き起こし得る。
When the soldering apparatus 1 is used many times, solder oxide is deposited in the
図11に示されるように、これらの誤差が発生しないように、本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によってノズル12aの第2の表面形状を測定すること(S21)と、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御すること(S22,S23)とをさらに備えてもよい。
As shown in FIG. 11, in order to prevent these errors from occurring, the soldering method of the present embodiment measures the second surface shape of the
測定部20によってノズル12aの第2の表面形状を測定する工程(S21)では、図9に示されるように、ノズル12aから溶融はんだ14を噴流させずに、ノズル12aの第2の表面形状が測定部20によって測定されてもよい。ノズル12aは、例えば、表面が窒化処理されたステンレス鋼によって構成されている。ノズル12aは、はんだ酸化膜15よりも、表面における拡散反射の割合が大きく、かつ、表面における鏡面反射の割合が小さい。そのため、ノズル12aの第2の表面形状は、測定部20によって直接測定され得る。
In the step (S21) of measuring the second surface shape of the
ノズル12aを制御すること(S22,S23)は、ノズル12aの第2の表面形状と、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データとを比較すること(S22)と、ノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル12aを制御すること(S23)とを含んでもよい。ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データは、例えば、ノズル12aをクリーニングした直後におけるノズル12aの第2の表面形状に関する過去のデータであってもよい。
Controlling the
具体的には、メモリ43には、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状とメモリ43に格納されている第2の形状基準データとを比較する。制御部40は、ノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル12aを制御する。
Specifically, the
特定的には、制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致するように、ノズル12aを制御してもよい。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致しない場合(図11のNG3の場合)には、ノズル12aを制御し(S23)、それから、工程(S21)及び工程(S22)によって、ノズル12aの第2の表面形状が第2の形状基準データに一致しているか否かを確認する。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致するまで、工程(S21)から工程(S23)を繰り返す。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状をノズル12aの第2の形状基準データに一致させた後に、ノズル12aから溶融はんだ14を噴流させて、溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成する(S11)。
Specifically, the
図11に示されるように、工程(S11)から工程(S14)のみでは測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状を第1の形状基準データに一致させることができない場合(図11のNG2の場合)には、工程(S21)から工程(S23)によって、ノズル12aを再び制御し、それから、工程(S11)から工程(S14)によって、拡散反射領域16の第1の表面形状を第1の形状基準データに一致させてもよい。
As shown in FIG. 11, when the first surface shape of the diffuse
配線基板6の種類が変更される場合も、ノズル12aを分解及びクリーニングする場合と同様の工程が行われてもよい。具体的には、配線基板6の種類が変更される時、工程(S21)から工程(S23)を行う。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状が、異なる種類の配線基板6に対応する第2の形状基準データに一致するように、ノズル12aが制御される。続いて、工程(S11)から工程(S14)を行う。測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状が、異なる種類の配線基板6に対応する第1の形状基準データに一致するように、ノズル12aが制御される。制御部40は、配線基板6の種類をメモリ43から読み出して、第1の形状基準データ及び第2の形状基準データを、異なる種類の配線基板6に対応する第1の形状基準データ及び第2の形状基準データに置き換えてもよい。こうして、配線基板6の種類が変更されても、はんだ付け不良の発生が抑制され得る。
When the type of the
測定部20によって得られた拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとを比較する工程(S13)は、以下に例示する方法によって行われてもよい。第1の例では、電子計算機を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状のデータから、特徴的な部分のデータ(例えば、拡散反射領域16の第1の表面形状の最も高い位置のデータなど)を抽出する。電子計算機を用いて、当該特徴的な部分のデータが、当該特徴的な部分の第1の形状基準データと比較されてもよい。第2の例では、工程(S13)において、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとが表示部41に表示され、これらが目視によって比較されてもよい。同様に、測定部20によって得られたノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとを比較する工程(S22)においても、電気計算機または目視によって、これらが比較されてもよい。
The step (S13) of comparing the first surface shape of the diffuse
本実施の形態の一変形例のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法では、実施の形態3に開示された拡散反射領域形成部30cを用いて、本実施の形態の拡散反射領域16(拡散反射膜15a)が形成されてもよい。
In the soldering device 1 and the soldering method of one modification of the present embodiment, the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film) of the present embodiment is used by using the diffuse reflection
本実施の形態のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法の効果を説明する。
本実施の形態のはんだ付け装置1は、噴流部10と、測定部20とを備える。噴流部10は、ノズル12aを含む。測定部20は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に形成される拡散反射領域16の第1の表面形状を測定するように構成されている。拡散反射領域16の第1の表面形状は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に追従する。測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することにより、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状が容易に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。The effects of the soldering apparatus 1 and the soldering method of the present embodiment will be described.
The soldering device 1 of the present embodiment includes a
本実施の形態のはんだ付け装置1は、溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成するように構成されている拡散反射領域形成部30をさらに備えてもよい。そのため、拡散反射領域16が溶融はんだ14の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The soldering apparatus 1 of the present embodiment may further include a diffuse reflection
本実施の形態のはんだ付け装置1では、拡散反射領域形成部30は、部材31と、駆動部32とを含んでもよい。駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させるように構成されてもよい。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。そのため、拡散反射領域16が溶融はんだ14の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering device 1 of the present embodiment, the diffuse reflection
本実施の形態のはんだ付け装置1は、制御部40をさらに備えてもよい。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、噴流部10を制するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The soldering device 1 of the present embodiment may further include a
本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されているメモリ43をさらに備えてもよい。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとを比較するように構成されてもよい。制御部40は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The soldering apparatus 1 of the present embodiment may further include a
本実施の形態のはんだ付け装置1では、測定部20は、ノズル12aの第2の表面形状をさらに測定するように構成されてもよい。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aの第2の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering apparatus 1 of the present embodiment, the measuring
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)と、測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)とを備える。拡散反射領域16の第1の表面形状は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に追従する。測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することにより、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状が測定され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, the diffuse
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S12)は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を移動させることを含んでもよい。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。そのため、拡散反射領域16が溶融はんだ14の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S12) moves the
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、ノズル12aを含む噴流部10を制御すること(S13,S14)をさらに備えてもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The soldering method of the present embodiment further includes controlling the
本実施の形態のはんだ付け方法では、噴流部10を制御すること(S13,S14)は、拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)と、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S14)とを含んでもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, controlling the jet portion 10 (S13, S14) means that the first surface shape of the diffuse
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によってノズル12aの第2の表面形状を測定すること(S21)と、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御すること(S22,S23)とをさらに備えてもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aの第2の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, the second surface shape of the
実施の形態2.
図12及び図13を参照して、実施の形態2に係るはんだ付け装置1bを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1bは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。Embodiment 2.
The
はんだ付け装置1bは、実施の形態1の測定部20に代えて、測定部20bを備えている。測定部20bは、光源部21bと、光検出部23bとを含む。光源部21bは、拡散反射領域16に光22bを照射するように構成されている。光源部21bは、細長い矩形またはスリットの断面形状を有する光22bを出射してもよい。光源部21bは、例えば、レーザ墨出し器であってもよい。光検出部23bは、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出するように構成されている。光検出部23bは、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。撮像部は、例えば、CCDカメラであってもよい。拡散反射領域16で拡散反射される光22bを光検出部23bで検出することにより、拡散反射領域16の第1の表面形状が容易に測定され得る。
The
図11から図13を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of this embodiment will be described with reference to FIGS. 11 to 13. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)を備える。拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)は、拡散反射領域16に光22bを照射することと、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出することとを含む。測定部20bは、光検出部23bを含む。光検出部23bは、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。拡散反射された光22bを検出することは、撮像部によって拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得することを含む。
The soldering method of the present embodiment includes measuring the first surface shape of the diffuse
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)を備える。具体的には、制御部40は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を、メモリ43に格納されている第1の形状基準データ(第1の基準画像)と比較してもよい。特定的には、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像と第1の形状基準データ(第1の基準画像)とを重ね合わせて、これら画像の差分に相当する面積を算出する。この面積に基づいて、測定部20bによって得られた拡散反射領域16の第1の表面形状の画像が、第1の形状基準データ(第1の基準画像)と比較されてもよい。
The soldering method of the present embodiment includes the first surface shape of the diffuse
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによってノズル12aの第2の表面形状を測定すること(S21)を備えてもよい。測定部20bは、ノズル12aの第2の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である光検出部23bを含む。
The soldering method of the present embodiment may include measuring the second surface shape of the
本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによって得られるノズル12aの第2の表面形状と、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データとを比較すること(S22)を備える。具体的には、制御部40は、ノズル12aの第2の表面形状の画像を、メモリ43に格納されている第2の形状基準データ(第2の基準画像)と比較してもよい。特定的には、ノズル12aの第2の表面形状の画像と、第2の形状基準データ(第2の基準画像)とを重ね合わせて、これら画像の差分に相当する面積を算出する。この面積に基づいて、測定部20bによって得られたノズル12aの第2の表面形状の画像が、第2の形状基準データ(第2の基準画像)と比較されてもよい。
In the soldering method of the present embodiment, the second surface shape of the
本実施の形態のはんだ付け装置1b及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1b及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
The effects of the
本実施の形態のはんだ付け装置1bでは、測定部20bは、拡散反射領域16に光22bを照射するように構成されている光源部21bと、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出するように構成されている光検出部23bとを含む。光検出部23bは、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)は、拡散反射領域16に光22bを照射することと、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出することとを含む。拡散反射された光22bを検出することは、撮像部によって拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得することを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1b及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
実施の形態3.
図14及び図15を参照して、実施の形態3に係るはんだ付け装置1cを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1cは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
The
図14に示されるように、はんだ付け装置1cは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30に代えて、拡散反射領域形成部30cを備えている。拡散反射領域形成部30cは、溶融はんだ14の表面に向けて酸素を含むガス34を吹き付けるように構成されているガス吹き付け部35を含む。ガス吹き付け部35は、溶融はんだ14の表面の一部に選択的に酸素を含むガス34を吹き付けるように構成されてもよい。酸素を含むガス34は、例えば、空気であってもよい。ガス吹き付け部35の噴出口は、例えば、溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に沿って延在する細長い形状を有してもよいし、円の形状を有してもよい。ガス吹き付け部35は、ノズル12aに対して移動するように構成されている。
As shown in FIG. 14, the
溶融はんだ14の表面のうちガス34が吹き付けられた部分は、他の部分よりも優先的に酸化される。ガス34は、溶融はんだ14の酸化を促進する。図15に示されるように、溶融はんだ14の表面のうちガス34が吹き付けられた部分に、選択的に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15cを含んでもよく、拡散反射領域形成部30cは拡散反射膜形成部であってもよい。拡散反射膜15cは、拡散反射領域16(拡散反射膜15c)に隣接する領域におけるはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜である。
The portion of the surface of the
光源部21bから出射される光22をはんだ酸化厚膜に照射すると、はんだ酸化厚膜において、光22の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光22が拡散反射する。こうして、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜15cとして機能する。拡散反射膜15c(はんだ酸化厚膜)の厚さは、拡散反射膜15c(はんだ酸化厚膜)に隣接するはんだ酸化膜15の厚さの2倍以上であってもよく、3倍以上であってもよく、5倍以上であってもよく、10倍以上であってもよい。拡散反射膜15c(はんだ酸化厚膜)の厚さは、光22の波長の0.10倍以上であってもよく、0.12倍以上であってもよく、0.15倍以上であってもよく、0.18倍以上であってもよく、0.20倍以上であってもよい。
When the solder oxide thick film is irradiated with the light 22 emitted from the
図11、図14及び図15を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11, 14 and 15. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.
本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)は、図14に示されるように、溶融はんだ14の表面の一部に選択的に酸素を含むガス34を吹き付けることを含む。ガス34は、溶融はんだ14の酸化を促進する。図15に示されるように、溶融はんだ14の表面のうちガス34が吹き付けられた部分に、選択的に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15cを含む。拡散反射膜15cは、拡散反射領域16に隣接する領域におけるはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜である。はんだ酸化厚膜において、光22の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光22が拡散反射するため、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜15cとして機能する。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse
本実施の形態の一変形例のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法では、測定部20は実施の形態2の測定部20bに置き換えられてもよい。本実施の形態の別の変形例のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法では、実施の形態1に開示された拡散反射領域形成部30を用いて、本実施の形態の拡散反射領域16(拡散反射膜15c)が形成されてもよい。
In the
本実施の形態のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
The effects of the
本実施の形態のはんだ付け装置1cでは、拡散反射領域形成部30cは、溶融はんだ14の表面に向けて酸素を含むガス34を吹き付けるように構成されているガス吹き付け部35を含む。本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成することは、溶融はんだ14の表面の一部に選択的に酸素を含むガス34を吹き付けることを含む。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜(はんだ酸化厚膜)によって構成される拡散反射膜15cを含む。そのため、拡散反射領域16が容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
実施の形態4.
図16から図21を参照して、実施の形態4に係るはんだ付け装置1dを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1dは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
The
はんだ付け装置1dは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30に代えて、拡散反射領域形成部30dを備えている。拡散反射領域形成部30dは、部材31dと、振動子32dとを含む。振動子32dは、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させるように構成されている。振動子32dは、部材31dを、例えば、幅方向(y方向)に振動させる。振動子32dは、例えば、チタン酸ジルコン酸塩、チタン酸バリウムまたはチタン酸塩などのセラミックス材料で構成された圧電素子であってもよいし、電磁モータ、静電モータまたは超音波モータで構成された振動モータであってもよい。
The
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、図16及び図17に示されるように、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14がこのガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。
The
図18から図20に示されるように、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、振動子32dを用いて、部材31dを溶融はんだ14の表面に沿って振動させる。はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、部材31dの幅方向(y方向)の両側に形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含み、拡散反射領域形成部30dは拡散反射膜形成部である。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図16を参照)をより多く拡散反射しやすい。測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。
As shown in FIGS. 18 to 20, the
図18から図20に示されるように、部材31dの振動回数が増加するにつれて、拡散反射膜15aの幅も増加する。拡散反射膜15aの幅は、幅方向(y方向)における拡散反射膜15aの長さである。拡散反射膜15aが細切れに形成されることなく、広い面積を有する拡散反射膜15aが得られる。広い面積にわたって、拡散反射領域16の第1の表面形状(溶融はんだ14の表面形状)が安定的に測定され得る。
As shown in FIGS. 18 to 20, the width of the diffuse
部材31dは、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。部材31dは、配線基板6の搬送方向(x方向)に沿って延在している棒部材であってもよい。部材31dは、配線基板6がノズル12aの上方を搬送される際、配線基板6の裏面6bに接触するように構成されている。裏面6bは、溶融はんだ14に対向する配線基板6の面である。具体的には、部材31dは、ノズル12aの上方に延在している。配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、部材31dは、配線基板6の搬送経路内に配置されている。配線基板6の搬送経路の幅は、配線基板6の幅と同じ幅を有している。配線基板6の幅は、幅方向(y方向)における配線基板6の長さである。配線基板6の搬送経路の幅は、幅方向(y方向)における配線基板6の搬送経路の長さである。
The
配線基板6の側面6cは、搬送部4の腕部4aによって把持されているが、配線基板6のおもて面6aと裏面6bとは、搬送部4の腕部4aによって把持されていない。配線基板6の裏面6bは、溶融はんだ14に接触しているのに対し、配線基板6のおもて面6aは、溶融はんだ14に接触していない。配線基板6の裏面6bの温度は、配線基板6のおもて面6aの温度よりも高い。配線基板6のおもて面6aと裏面6bとの間の温度差に起因して、配線基板6は、ノズル12aに向けて突出するように反ろうとする。部材31dは、配線基板6の裏面6bに接触して、配線基板6が反ることを防止し得る。
The side surface 6c of the
図11及び図16から図21を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 16 to 21. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.
本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)は、図16から図20に示されるように、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させることを含む。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse
溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15(はんだ自然酸化膜)が形成されている。部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させると、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図16を参照)をより多く拡散反射しやすい。
A solder oxide film 15 (solder natural oxide film) is formed on the surface of the
測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。配線基板6が部材31dに接触していないときに、拡散反射領域16を形成し(S11)、かつ、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。
The measuring
本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって部品7を配線基板6にはんだ付けする(S30)工程において、配線基板6の裏面6bが部材31dに接触しながら、配線基板6は搬送される。部材31dは、配線基板6が反ることを防止し得る。
In the soldering method of the present embodiment, in the step of soldering the
本実施の形態のはんだ付け装置1d及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1d及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
The effects of the
本実施の形態のはんだ付け装置1dでは、拡散反射領域形成部30dは、部材31dと、振動子32dとを含む。振動子32dは、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させるように構成されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1dは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
本実施の形態のはんだ付け装置1dでは、部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)に沿って延在している。部材31dは、対象物(配線基板6)の裏面6bに接触するように構成されている。裏面6bは、溶融はんだ14に対向するはんだ付けされる対象物(配線基板6)の面である。部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の裏面6bに接触して、はんだ付けされる対象物(配線基板6)が反ることを防止し得る。本実施の形態のはんだ付け装置1dは、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成することは、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させることを含む。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse
本実施の形態のはんだ付け方法では、部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)に沿って延在している。はんだ付けされる対象物(配線基板6)の裏面6bが部材31dに接触しながら、はんだ付けされる対象物(配線基板6)は搬送される。裏面6bは、溶融はんだ14に対向するはんだ付けされる対象物(配線基板6)の面である。部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)が反ることを防止し得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, the
実施の形態5.
図22から図27を参照して、実施の形態5に係るはんだ付け装置1eを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1eは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。Embodiment 5.
The
はんだ付け装置1eは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30に代えて、拡散反射領域形成部30eを備えている。拡散反射領域形成部30eは、2つの静止部材36を含む。静止部材36は、例えば、搬送部4に取り付けられている。一方の静止部材36は、配線基板6の搬送方向(x方向)におけるノズル12aの開口12bの中心線12m(図23を参照)に対して、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。他方の静止部材36は、ノズル12aの開口12bの中心線12mに対して、配線基板6の搬送方向(x方向)の上流側に配置されている。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されるように、静止部材36はノズル12aの上方に配置されている。静止部材36の残部は、溶融はんだ14から露出している。
The
配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材36がはんだ付けを妨げることが防止される。静止部材36は、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は、例えば、長方形の形状を有している。配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は、多角形の形状を有してもよいし、円形の形状を有してもよいし、流線形の形状を有してもよい。
The
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、図22から図25に示されるように、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、溶融はんだ14が、このガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。
The
静止部材36の周りで、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16が形成される理由は、溶融はんだ14が静止部材36に沿って流れる際、溶融はんだ14は静止部材36に接触し、溶融はんだ14の流れは静止部材36の周りで乱れ、静止部材36の周りで溶融はんだ14の流速が減少するためであると推測される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含み、拡散反射領域形成部30eは拡散反射膜形成部である。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図22を参照)をより多く拡散反射しやすい。測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。
The
図11及び図22から図27を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 22 to 27. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.
本実施の形態に係るはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aの上方に配置された静止部材36に沿って溶融はんだ14を流すことを含む。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されている。静止部材36に沿って溶融はんだ14を流すことによって、静止部材36の周りで、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図16を参照)をより多く拡散反射しやすい。
In the soldering method according to the present embodiment, forming the diffuse
測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。
The measuring
本実施の形態に係るはんだ付け方法では、配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材36がはんだ付けを妨げることが防止される。
In the soldering method according to the present embodiment, the
図26を参照して、本実施の形態の第1変形例では、拡散反射領域形成部30eは、1つの静止部材36を含んでもよい。拡散反射領域形成部30eは、3つ以上の静止部材36を含んでもよい。
With reference to FIG. 26, in the first modification of the present embodiment, the diffuse reflection
図27を参照して、本実施の形態の第2変形例では、静止部材36は、静止部材36の中央部がノズル12aに向かって突出するように曲げられた形状を有している。溶融はんだ14の表面の高さ(z方向の位置)が変化しても、溶融はんだ14の表面が静止部材36に接触し続けることができるため、静止部材36の周りに拡散反射領域16が安定的に形成され得る。
With reference to FIG. 27, in the second modification of the present embodiment, the
本実施の形態の第3変形例では、静止部材36の周りに、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15c(図15)が形成されてもよく、拡散反射領域16は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15c(図15)を含んでもよい。
In the third modification of the present embodiment, the diffuse
本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
The effects of the
本実施の形態に係るはんだ付け装置1eでは、拡散反射領域形成部30eは、静止部材36を含む。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されるように静止部材36はノズル12aの上方に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1eは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
本実施の形態に係るはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aの上方に配置された静止部材36に沿って溶融はんだ14を流すことを含む。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method according to the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) includes flowing the
本実施の形態に係るはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法では、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は対象物(配線基板6)の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材36がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
本実施の形態に係るはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法では、静止部材36は、静止部材36の中央部がノズル12aに向かって突出するように曲げられた形状を有している。溶融はんだ14の表面の高さ(z方向の位置)が変化しても、溶融はんだ14の表面が静止部材36に接触し続けることができるため、静止部材36の周りに拡散反射領域16が安定的に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
実施の形態6.
図28から図32を参照して、実施の形態6に係るはんだ付け装置1fを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1fは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
The
はんだ付け装置1fでは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30が省略されている。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側(+x方向)に配置されている。
In the
図28から図30を参照して、拡散反射領域16は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。配線基板6の前側面6fは、配線基板6の搬送方向側にある配線基板6の側面である。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。
With reference to FIGS. 28 to 30, the diffuse
具体的には、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、溶融はんだ14が、このガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。
Specifically, the
搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6の一部が溶融はんだ14の表面に接触する。そのため、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図22を参照)をより多く拡散反射しやすい。測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されているため、配線基板6に妨げられることなく、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。
While the
図29、図31及び図32を参照して、拡散反射領域16sは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の少なくとも一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。拡散反射領域16sは、配線基板6に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。
With reference to FIGS. 29, 31 and 32, in the diffuse
具体的には、図29に示されるように、搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6の裏面6bまたは前側面6fが溶融はんだ14の表面に接触する。図31及び図32に示されるように、配線基板6に付着していたフラックスの残渣が、はんだ酸化膜15の一部を溶かして、溶融はんだ14の表面に残留する。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16sが形成される。拡散反射領域16sは、配線基板6に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。フラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46ははんだ酸化膜15よりも厚いため、拡散反射膜46は、はんだ酸化膜15よりも、光22(図31を参照)をより多く拡散反射しやすい。
Specifically, as shown in FIG. 29, the
測定部20は、拡散反射領域16sにおいて拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16sの第1の表面形状を測定することができる。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、配線基板6sに続いて搬送部4によって搬送される別の配線基板6s(図31を参照)に搭載されている部品7がより適切に(より良好に)はんだ付けされる。
The measuring
図28から図33を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 28 to 33. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)を接触させることを含む。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) means that a part of the wiring board 6 (for example, the
溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15(はんだ自然酸化膜)が形成されている。搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6の一部が溶融はんだ14の表面に接触する。そのため、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図22を参照)をより多く拡散反射しやすい。
A solder oxide film 15 (solder natural oxide film) is formed on the surface of the
測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されているため、配線基板6に妨げられることなく、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。
The measuring
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16sを形成すること(S31)と、測定部20によって拡散反射領域16sの第1の表面形状を測定すること(S32)と、ノズル12aを含む噴流部10を制御すること(S33、S34)をさらに備える。噴流部10を制御すること(S33、S34)は、拡散反射領域16sの第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S33)と、拡散反射領域16sの第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S34)とを含む。
In the soldering method of the present embodiment, the diffuse
具体的には、図29に示されるように、搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が溶融はんだ14の表面に接触する。図31及び図32に示されるように、配線基板6に付着していたフラックスの残渣が、はんだ酸化膜15の一部を溶かして、溶融はんだ14の表面に残留する。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16sが形成される(S31)。すなわち、拡散反射領域16sを形成すること(S31)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の少なくとも一部を接触させることを含む。拡散反射領域16sは、配線基板6に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。フラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46ははんだ酸化膜15よりも厚いため、拡散反射膜46は、はんだ酸化膜15よりも、光22(図31を参照)をより多く拡散反射しやすい。
Specifically, as shown in FIG. 29, while the
測定部20は、拡散反射領域16sにおいて拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16sの第1の表面形状を測定する(S32)。
The measuring
拡散反射領域16sの第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S33)は、拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)と同様である。拡散反射領域16sの第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S34)は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S14)と同様である。
Comparing the first surface shape of the diffuse
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって、部品7を別の配線基板6sにはんだ付けすること(S40)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって、部品7を配線基板6にはんだ付けすること(S30)と同様である。別の配線基板6sは、配線基板6sに続いて搬送部4によって搬送される。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、別の配線基板6sに搭載されている部品7がより適切に(より良好に)はんだ付けされる。
Soldering the
本実施の形態では、拡散反射領域16の第1表面形状と拡散反射領域16sの第1表面形状とは、同一の測定部20を用いて測定されているが、拡散反射領域16sの第1表面形状は、測定部20とは別の測定部(図示せず)を用いて測定されてもよい。この別の測定部は、測定部20と同じ構成を有しているが、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されていなくてもよい。
In the present embodiment, the first surface shape of the diffuse
本実施の形態のはんだ付け装置1f及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1f及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。
The effects of the
本実施の形態のはんだ付け装置1fでは、拡散反射領域16は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。測定部20は、ノズル12aよりも、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1fは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
本実施の形態のはんだ付け装置1fでは、拡散反射領域16sは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の少なくとも一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。拡散反射領域16sは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。本実施の形態のはんだ付け装置1fは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)を接触させることを含む。測定部20は、ノズル12aよりも、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) is a part of the object to be soldered to the
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16sを形成すること(S31)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の少なくとも一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)を接触させることを含む。拡散反射領域16sは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse
実施の形態7.
図34から図39を参照して、実施の形態7に係るはんだ付け装置1gを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
The soldering apparatus 1g according to the seventh embodiment will be described with reference to FIGS. 34 to 39. The soldering apparatus 1g of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment, but is mainly different in the following points.
はんだ付け装置1gでは、拡散反射領域形成部30gは、ノズル12a内に設けられた筒部材37を含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。具体的には、筒部材37は、流入口37iと、上端開口37jとを有している。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、流入口37iから筒部材37の内部に流れる。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、筒部材37の外部にも流れる。筒部材37の上端開口37jは、溶融はんだ14から露出している。筒部材37は、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。
In the soldering apparatus 1g, the diffuse reflection
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面は、絶えず揺らいでいる。筒部材37の内部は、筒部材37によって取り囲まれている。そのため、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎは、筒部材37の外部における溶融はんだ14の表面の揺らぎよりも小さくなる。また、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、筒部材37の外部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15が形成されるが、筒部材37の内部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜が形成される。測定部20から出射される光22をはんだ酸化厚膜に照射すると、はんだ酸化厚膜において、光22の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光22が拡散反射する。こうして、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜15cとして機能する。拡散反射領域16は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cを含む。
The surface of the
測定部20は、筒部材37の上端開口37jから光22を入射させて、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。
The measuring
はんだ付け装置1gでは、配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。筒部材37は、例えば、ノズル12aの開口12bの中に配置されている。複数の筒部材37が、はんだ付け装置1gに設けられてもよい。複数の筒部材37は、溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に沿って配置されてもよい。複数の筒部材37は、溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に交差する幅方向(y方向)に沿って配置されてもよい。筒部材37は、例えば、円筒部材である。筒部材37は、角筒部材であってもよいし、楕円筒部材であってもよい。
In the soldering apparatus 1g, the
図36及び図37を参照して、拡散反射領域形成部30gは、溶融はんだ14の流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材38をさらに含んでもよい。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の流入口37iに設けられている。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部に流れ込む溶融はんだ14に圧力損失を与えて、溶融はんだ14の流れ圧力を低減させるように構成されている。そのため、流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎを減少させる。はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。流れ圧力低減部材38は、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。
With reference to FIGS. 36 and 37, the diffuse reflection
図36及び図37に示されるように、流れ圧力低減部材38は、溶融はんだ14が流れる複数の微小貫通穴39aを有する板部材39b(例えば、パンチングメタル構造を有する板部材)で構成されてもよい。図38及び図39に示されるように、流れ圧力低減部材38は、複数の板部材39dで構成されてもよい。複数の板部材39dは、筒部材37の内部に、筒部材37の長手方向(z方向)に沿って千鳥状に配置されている。複数の板部材39dの各々は、筒部材37の内径よりも小さなサイズを有しており、複数の板部材39dの各々と筒部材37の内壁との間に、溶融はんだ14が流れる隙間が形成されている。
As shown in FIGS. 36 and 37, the flow
図11及び図34から図39を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 34 to 39. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12a内に設けられた筒部材37の内部に溶融はんだ14を流すことを含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。具体的には、筒部材37は、流入口37iと、上端開口37jとを有している。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、流入口37iから筒部材37の内部に流れる。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、筒部材37の外部にも流れる。筒部材37の上端開口37jは、溶融はんだ14から露出している。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) includes flowing the
ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面は、絶えず揺らいでいる。筒部材37の内部は、筒部材37によって取り囲まれている。そのため、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎは、筒部材37の外部における溶融はんだ14の表面の揺らぎよりも小さくなる。そして、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、筒部材37の外部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15が形成されるが、筒部材37の内部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cを含む。
The surface of the
本実施の形態のはんだ付け方法では、配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。
In the soldering method of the present embodiment, the
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、流れ圧力低減部材38を用いて、筒部材37に流入する溶融はんだ14の流れ圧力を低減させることをさらに含む。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部に流れ込む溶融はんだ14の流れ圧力を低減させる。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎを減少させる。はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) further reduces the flow pressure of the
本実施の形態のはんだ付け装置1g及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1g及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1g and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering device 1g and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering device 1 and the soldering method of the first embodiment.
本実施の形態のはんだ付け装置1gでは、拡散反射領域形成部30gは、ノズル12a内に設けられた筒部材37を含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜(はんだ酸化厚膜)によって構成される拡散反射膜15cを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering apparatus 1g of the present embodiment, the diffuse reflection
本実施の形態のはんだ付け装置1gでは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37ははんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering device 1g of the present embodiment, the
本実施の形態のはんだ付け装置1gでは、拡散反射領域形成部30gは、溶融はんだ14の流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材38をさらに含む。筒部材37は、溶融はんだ14が流入する流入口37iを有している。流れ圧力低減部材38は、流入口37iに設けられている。そのため、拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering apparatus 1g of the present embodiment, the diffuse reflection
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12a内に設けられた筒部材37の内部に溶融はんだ14を流すことを含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜(はんだ酸化厚膜)によって構成される拡散反射膜15cを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) includes flowing the
本実施の形態のはんだ付け方法では、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37ははんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, the
本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、筒部材37に流入する溶融はんだ14の流れ圧力を低減させることをさらに含む。そのため、拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) further includes reducing the flow pressure of the
実施の形態8.
図40を参照して、実施の形態8に係るはんだ付け装置1hを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1hは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備え、同様の効果を奏するが、主に以下の点で異なる。Embodiment 8.
The
はんだ付け装置1hは、送風部50をさらに備える。送風部50は、測定部20に向けて送風するように構成されている。送風部50は、配線基板6の搬送経路に平行に送風してもよい。送風部50は、例えば、軸流ファン、遠心ファン、斜流ファンまたは横流ファンである。溶融はんだ14からの輻射熱に起因して、測定部20の温度が過度に上昇して、測定部20が故障または誤動作することがある。送風部50は、測定部20に向けて送風することによって、測定部20を冷却して、測定部20が故障または誤動作することを防止する。さらに、送風部50は、筐体3内に舞っているフラックスの残渣の粉じん及びはんだ酸化物の粉じんが測定部20に付着することを防止する。そのため、測定部20を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状が正確にかつ安定的に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1hは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The
図11及び図40を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備え、同様の効果を奏するが、以下の点で異なる。 The soldering method of this embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 40. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment and has the same effect, but differs in the following points.
本実施の形態のはんだ付け方法は、送風部50を用いて、測定部20に向けて送風することをさらに備える。測定部20に向けて送風しながら、測定部20を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定(S12)してもよい。測定部20に向けて送風することによって、測定部20が冷却されて、測定部20が故障または誤動作することを防止する。筐体3内に舞っているフラックスの残渣の粉じん及びはんだ酸化物の粉じんが測定部20に付着することが防止される。そのため、測定部20を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状が正確にかつ安定的に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The soldering method of the present embodiment further comprises blowing air toward the measuring
今回開示された実施の形態1−8はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態1−8の少なくとも2つを組み合わせてもよい。例えば、実施の形態2−7のはんだ付け装置1b−1gに、実施の形態8の送風部50をさらに設けてもよい。実施の形態3−8の測定部20を、実施の形態2の測定部20bに置き換えてもよい。本発明の範囲は、上記した説明ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。
It should be considered that Embodiments 1-8 disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. As long as there is no contradiction, at least two of Embodiments 1-8 disclosed this time may be combined. For example, the
1,1b,1c,1d,1e,1f,1g,1h はんだ付け装置、3 筐体、4 搬送部、4a 腕部、6,6s 配線基板、6a おもて面、6b 裏面、6c 側面、6f 前側面、7 部品、9 予備加熱部、9h 第2のヒータ、9s 温度センサ、10 噴流部、10s はんだ槽、11 ダクト、11a 開口、11b 底部、11f 支柱、11h ボルト、11t 頂部、12 ノズル部、12a ノズル、12b 開口、12c ガイド板、12d 板部、12m 中心線、12e 孔、13h 第1のヒータ、13m モータ、13n インペラ、13p ポンプ、14 溶融はんだ、15 はんだ酸化膜、15a,15c,46 拡散反射膜、16,16s 拡散反射領域、18 昇降部、20,20b 測定部、21,21b 光源部、22,22b 光、23,23b 光検出部、30,30c,30d,30e,30g 拡散反射領域形成部、31,31d 部材、32 駆動部、32d 振動子、33 連結部、34 ガス、35 ガス吹き付け部、36 静止部材、37 筒部材、37i 流入口、37j 上端開口、38 流れ圧力低減部材、39a 微小貫通穴、39b,39d 板部材、40 制御部、41 表示部、43 メモリ、50 送風部。 1,1b, 1c, 1d, 1e, 1f, 1g, 1h Soldering device, 3 housing, 4 transport part, 4a arm part, 6,6s wiring board, 6a front surface, 6b back surface, 6c side surface, 6f Front side surface, 7 parts, 9 preheating part, 9h second heater, 9s temperature sensor, 10 jet part, 10s solder tank, 11 duct, 11a opening, 11b bottom, 11f strut, 11h bolt, 11t top, 12 nozzle part , 12a nozzle, 12b opening, 12c guide plate, 12d plate part, 12m center line, 12e hole, 13h first heater, 13m motor, 13n impeller, 13p pump, 14 molten solder, 15 solder oxide film, 15a, 15c, 46 Diffuse reflection film, 16,16s Diffuse reflection area, 18 Elevating part, 20,20b measurement part, 21,21b light source part, 22,22b light, 23,23b light detection part, 30,30c, 30d, 30e, 30g Diffuse Reflection region forming part, 31, 31d member, 32 drive part, 32d oscillator, 33 connecting part, 34 gas, 35 gas blowing part, 36 stationary member, 37 cylinder member, 37i inlet, 37j upper end opening, 38 flow pressure reduction Member, 39a micro through hole, 39b, 39d plate member, 40 control unit, 41 display unit, 43 memory, 50 blower unit.
Claims (34)
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第1の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備え、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け装置。 The jet part including the nozzle and
A measuring unit configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region formed on the surface of the molten solder jetted from the nozzle is provided .
The diffuse reflection region is a soldering apparatus including a diffuse reflection film formed of a solder oxide film.
前記振動子は、前記部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させるように構成されている、請求項2に記載のはんだ付け装置。 The diffuse reflection region forming portion includes a member and an oscillator.
The transducer, while immersing at least a portion of said member to said molten solder, said along the surface of the molten solder is configured to vibrate the member, soldering apparatus according to claim 2 ..
前記部材は、前記はんだ付けされる対象物の裏面に接触するように構成されており、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項3に記載のはんだ付け装置。 The member extends along the transport direction of the object to be soldered.
The third aspect of the present invention, wherein the member is configured to be in contact with the back surface of the object to be soldered, and the back surface is a surface of the object to be soldered facing the molten solder. Soldering equipment.
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されるように前記静止部材は前記ノズルの上方に配置されている、請求項2に記載のはんだ付け装置。 The diffuse reflection region forming portion includes a stationary member and includes a stationary member.
Wherein the stationary member such that a portion of the stationary member is immersed in the molten solder is located above the nozzle, soldering apparatus according to claim 2.
前記筒部材の内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されている、請求項2に記載のはんだ付け装置。 The diffuse reflection region forming portion includes a tubular member provided in the nozzle.
As the diffuse reflection area in the interior of the tubular member is formed, the tubular member is disposed, the soldering apparatus according to claim 2.
前記筒部材は、前記溶融はんだが流入する流入口を有し、
前記流れ圧力低減部材は前記流入口に設けられている、請求項8または請求項9に記載のはんだ付け装置。 The diffuse reflection region forming portion further includes a flow pressure reducing member that reduces the flow pressure of the molten solder.
The tubular member has an inflow port into which the molten solder flows.
The soldering apparatus according to claim 8 or 9 , wherein the flow pressure reducing member is provided at the inflow port.
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されている、請求項1に記載のはんだ付け装置。 The diffuse reflection region is formed by contacting a part of the object to be soldered with the molten solder jetting from the nozzle.
The measuring unit, than the nozzle is disposed on the downstream side in the transport direction of the soldering object being, soldering apparatus according to claim 1.
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第1の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備え、
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部が接触することによって形成され、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け装置。 The jet part including the nozzle and
A measuring unit configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region formed on the surface of the molten solder jetted from the nozzle is provided.
The diffuse reflection region is formed by contacting at least a part of an object to be soldered to the molten solder jetting from the nozzle.
The diffuse reflection area, the comprises a soldered are diffuse reflective film composed of residues of flux which was attached to the object, with I the device.
前記光検出部は、前記拡散反射領域の前記第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載のはんだ付け装置。 The measuring unit includes a light source unit configured to irradiate the diffuse reflection region with light, and a light detection unit configured to detect the light diffusely reflected in the diffuse reflection region. ,
The soldering according to any one of claims 1 to 12, wherein the light detection unit is an imaging unit configured to acquire an image of the first surface shape of the diffuse reflection region. apparatus.
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第1の表面形状に基づいて、前記噴流部を制御するように構成されている、請求項1から請求項14のいずれか1項に記載のはんだ付け装置。 With more control
Any one of claims 1 to 14, wherein the control unit is configured to control the jet unit based on the first surface shape of the diffuse reflection region obtained by the measurement unit. Soldering equipment as described in the section.
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第1の表面形状と前記第1の形状基準データとを比較するように構成されており、
前記制御部は、前記拡散反射領域の前記第1の表面形状と前記第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御するように構成されている、請求項15に記載のはんだ付け装置。 Further provided with a memory in which the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder jetted from the nozzle is stored.
The control unit is configured to compare the first surface shape of the diffuse reflection region obtained by the measurement unit with the first shape reference data.
15. The control unit is configured to control the jet unit based on the result of comparison between the first surface shape of the diffuse reflection region and the first shape reference data. The soldering equipment described.
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第2の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御するように構成されている、請求項15または請求項16に記載のはんだ付け装置。 The measuring unit is configured to further measure the second surface shape of the nozzle.
The soldering device according to claim 15 or 16, wherein the control unit is configured to control the nozzle based on the second surface shape of the nozzle obtained by the measuring unit.
測定部によって前記拡散反射領域の第1の表面形状を測定することとを備え、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け方法。 Forming a diffuse reflection region on the surface of the molten solder jetted from the nozzle,
The measuring unit comprises measuring the first surface shape of the diffuse reflection region.
The soldering method, wherein the diffuse reflection region includes a diffuse reflection film formed of a solder oxide film.
前記はんだ付けされる対象物の裏面が前記部材に接触しながら、前記はんだ付けされる対象物は搬送され、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項19に記載のはんだ付け方法。 The member extends along the transport direction of the object to be soldered.
While the back surface of the object to be soldered is in contact with the member, the object to be soldered is conveyed, and the back surface is the surface of the object to be soldered facing the molten solder. The soldering method according to claim 19.
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されている、請求項18に記載のはんだ付け方法。 Forming the diffuse reflection region includes flowing the molten solder along a stationary member arranged above the nozzle.
The portion of the stationary member is immersed in the molten solder, the soldering method according to claim 18.
前記筒部材の前記内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されている、請求項18に記載のはんだ付け方法。 Forming the diffuse reflection region includes flowing the molten solder inside a tubular member provided in the nozzle.
As the diffuse reflection area in the interior of said tubular member is formed, the tubular member is disposed, the soldering method according to claim 18.
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されている、請求項18に記載のはんだ付け方法。 Forming the diffuse reflection region includes contacting a part of the object to be soldered with the molten solder jetting from the nozzle.
The measuring unit, than the nozzle, the is disposed on the downstream side in the transport direction of the soldered object being, soldering method of claim 18.
測定部によって前記拡散反射領域の第1の表面形状を測定することとを備え、
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部を接触させることを含み、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け方法。 Forming a diffuse reflection region on the surface of the molten solder jetted from the nozzle,
The measuring unit comprises measuring the first surface shape of the diffuse reflection region.
Forming the diffuse reflection region includes contacting at least a part of the object to be soldered with the molten solder jetting from the nozzle.
The diffuse reflection area, the comprises a soldering object being diffuse reflective film composed of residues of the flux adhering to, with I the process.
拡散反射される前記光を検出することは、撮像部によって前記拡散反射領域の前記第1の表面形状の画像することを含む、請求項18から請求項28のいずれか1項に記載のはんだ付け方法。 Measuring the first surface shape of the diffuse reflection region includes irradiating the diffuse reflection region with light and detecting the light diffusely reflected by the diffuse reflection region.
The soldering according to any one of claims 18 to 28, wherein detecting the diffusely reflected light includes imaging the first surface shape of the diffuse reflection region by an imaging unit. Method.
前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第2の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御することとをさらに備える、請求項31または請求項32に記載のはんだ付け方法。 Measuring the second surface shape of the nozzle with the measuring unit,
The soldering method according to claim 31 or 32, further comprising controlling the nozzle based on the second surface shape of the nozzle obtained by the measuring unit.
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