JP6844021B2 - Soldering equipment, soldering method and manufacturing method of wiring board with parts - Google Patents

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Description

本発明は、はんだ付け装置及びはんだ付け方法に関する。 The present invention relates to a soldering apparatus and a soldering method.

国際公開第2013/111651号(特許文献1)は、ノズルから噴流する溶融はんだの高さを測定する方法を開示している。特許文献1では、導電性のゲージ部材を用いて、ノズルから噴流する溶融はんだの高さが測定されている。 International Publication No. 2013/111651 (Patent Document 1) discloses a method for measuring the height of molten solder jetted from a nozzle. In Patent Document 1, the height of the molten solder jetted from the nozzle is measured by using a conductive gauge member.

国際公開第2013/111651号International Publication No. 2013/111651

しかしながら、ノズルから噴流する溶融はんだの高さを同じであっても、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状が変化すると、溶融はんだとプリント基板のようなはんだ付けされる対象物との間の接触の態様が変化する。そのため、はんだ付け不良が発生し得る。本発明の目的は、より適切なはんだ付けを可能にするはんだ付け装置及びはんだ付け方法を提供することである。 However, even if the height of the molten solder jetted from the nozzle is the same, if the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle changes, the contact between the molten solder and the object to be soldered such as a printed circuit board The aspect of is changed. Therefore, soldering defects may occur. An object of the present invention is to provide a soldering apparatus and a soldering method that enable more appropriate soldering.

本発明のはんだ付け装置は、噴流部と、測定部とを備える。噴流部は、ノズルを含む。測定部は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第1の表面形状を測定するように構成されている。 The soldering apparatus of the present invention includes a jet unit and a measuring unit. The jet section includes a nozzle. The measuring unit is configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region formed on the surface of the molten solder jetted from the nozzle.

本発明のはんだ付け方法は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、測定部によって拡散反射領域の第1の表面形状を測定することとを備える。 The soldering method of the present invention includes forming a diffuse reflection region on the surface of the molten solder jetted from a nozzle, and measuring the first surface shape of the diffuse reflection region by a measuring unit.

拡散反射領域の第1の表面形状は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状に追従する。測定部によって拡散反射領域の第1の表面形状を測定することにより、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状が測定され得る。本発明のはんだ付け装置及びはんだ付け方法は、ノズルから噴流する溶融はんだの表面形状に対応する拡散反射領域の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切なはんだ付けを可能にする。 The first surface shape of the diffuse reflection region follows the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle. By measuring the first surface shape of the diffuse reflection region by the measuring unit, the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle can be measured. The soldering apparatus and soldering method of the present invention enable more appropriate soldering by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region corresponding to the surface shape of the molten solder jetted from the nozzle.

実施の形態1に係るはんだ付け装置の概略斜視図である。It is the schematic perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るはんだ付け装置の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るはんだ付け装置の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1の一変形例に係るはんだ付け装置の概略断面図である。It is schematic sectional drawing of the soldering apparatus which concerns on one modification of Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the first embodiment. 実施の形態1に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the first embodiment. 実施の形態1に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るはんだ付け装置を用いてノズルの第2の表面形状を測定する工程を示す概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view which shows the process of measuring the 2nd surface shape of a nozzle by using the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係るはんだ付け装置の制御ブロック図である。It is a control block diagram of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1から実施の形態5、実施の形態7及び実施の形態8に係るはんだ付け方法のフローチャートを示す図である。It is a figure which shows the flowchart of the soldering method which concerns on Embodiment 1, Embodiment 5, Embodiment 7, and Embodiment 8. 実施の形態2に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態3に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態4に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施の形態4に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the fourth embodiment. 実施の形態4に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the fourth embodiment. 実施の形態4に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the fourth embodiment. 実施の形態4に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the fourth embodiment. 実施の形態4に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施の形態5に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施の形態5に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施の形態5に係るはんだ付け装置の概略部分拡大平面図である。It is a schematic partial enlarged plan view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施の形態5に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施の形態5の第1変形例に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on 1st modification of Embodiment 5. 実施の形態5の第2変形例に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on the 2nd modification of Embodiment 5. 実施の形態6に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 6. 実施の形態6に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大斜視図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged perspective view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the sixth embodiment. 実施の形態6に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the sixth embodiment. 実施の形態6に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大斜視図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged perspective view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the sixth embodiment. 実施の形態6に係るはんだ付け装置を用いて拡散反射領域を形成する工程を示す概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partially enlarged cross-sectional view showing a step of forming a diffuse reflection region using the soldering apparatus according to the sixth embodiment. 実施の形態6に係るはんだ付け方法のフローチャートを示す図である。It is a figure which shows the flowchart of the soldering method which concerns on Embodiment 6. 実施の形態7に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 7. FIG. 実施の形態7に係るはんだ付け装置の概略部分拡大断面図である。It is a schematic partial enlarged sectional view of the soldering apparatus which concerns on Embodiment 7. FIG. 実施の形態7に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partial enlarged cross-sectional view of a diffuse reflection region forming portion included in the soldering apparatus according to the seventh embodiment. 実施の形態7に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大底面図である。FIG. 5 is an enlarged bottom view of a schematic portion of a diffuse reflection region forming portion included in the soldering apparatus according to the seventh embodiment. 実施の形態7に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic partial enlarged cross-sectional view of a diffuse reflection region forming portion included in the soldering apparatus according to the seventh embodiment. 実施の形態7に係るはんだ付け装置に含まれる拡散反射領域形成部の概略部分拡大底面図である。FIG. 5 is an enlarged bottom view of a schematic portion of a diffuse reflection region forming portion included in the soldering apparatus according to the seventh embodiment. 実施の形態8に係るはんだ付け装置の概略部分拡大斜視図である。It is a schematic partial enlarged perspective view of the soldering apparatus which concerns on embodiment 8.

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. The same reference number will be assigned to the same configuration, and the description will not be repeated.

実施の形態1.
図1から図10を参照して、実施の形態1に係るはんだ付け装置1を説明する。
Embodiment 1.
The soldering apparatus 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 10.

はんだ付け装置1は、ノズル12aを含む噴流部10と、拡散反射領域形成部30(図5参照)と、測定部20とを主に備える。はんだ付け装置1は、搬送部4と、予備加熱部9と、筐体3と、表示部41と、制御部40(図10参照)と、メモリ43(図10参照)とをさらに備えてもよい。 The soldering apparatus 1 mainly includes a jet unit 10 including a nozzle 12a, a diffuse reflection region forming unit 30 (see FIG. 5), and a measuring unit 20. The soldering device 1 may further include a transport unit 4, a preheating unit 9, a housing 3, a display unit 41, a control unit 40 (see FIG. 10), and a memory 43 (see FIG. 10). Good.

搬送部4は、ノズル12aの上方へ配線基板6を搬送する。搬送部4は、例えば、搬送コンベアであってもよい。はんだ付け装置1は、配線基板6の裏面6bにノズル12aから噴流する溶融はんだ14を接触させて、配線基板6のおもて面6aに搭載されている部品7を、配線基板6の裏面6b上に設けられている電気配線にはんだ付けしてもよい。部品7は、例えば、コンデンサまたは抵抗のような電子部品であってもよい。配線基板6は、プリント基板であってもよい。 The transport unit 4 transports the wiring board 6 above the nozzle 12a. The transport unit 4 may be, for example, a conveyor. In the soldering device 1, the molten solder 14 ejected from the nozzle 12a is brought into contact with the back surface 6b of the wiring board 6, and the component 7 mounted on the front surface 6a of the wiring board 6 is attached to the back surface 6b of the wiring board 6. It may be soldered to the electrical wiring provided above. The component 7 may be an electronic component such as a capacitor or a resistor, for example. The wiring board 6 may be a printed circuit board.

溶融はんだ14は、例えば、錫−鉛または錫−銀−銅のような錫を主成分とするはんだ合金で構成されてもよい。溶融はんだ14は、例えば、錫−銅系合金、錫−銀系合金、またはこれらの合金にアンチモン、ビスマス、ニッケルもしくはゲルマニウムなどを添加したはんだ合金で構成されてもよい。 The molten solder 14 may be composed of a tin-based solder alloy such as tin-lead or tin-silver-copper. The molten solder 14 may be composed of, for example, a tin-copper alloy, a tin-silver alloy, or a solder alloy obtained by adding antimony, bismuth, nickel, germanium, or the like to these alloys.

図1から図3に示されるように、噴流部10は、溶融はんだ14が貯留されているはんだ槽10sと、ダクト11と、ノズル部12と、ポンプ13pとを含む。ダクト11は、はんだ槽10sに係止または固定されている。ダクト11は、頂部11tと底部11bとを含む。ダクト11は、底部11bに開口11aを有する。ダクト11は、開口11aを通じて、はんだ槽10sに連通している。ポンプ13pは、はんだ槽10s内に貯留されている溶融はんだ14を、ダクト11及びノズル12aに送り出す。ポンプ13pは、インペラ13nと、インペラ13nに接続されているモータ13mとを含んでもよい。インペラ13nは、ダクト11内に配置されている。インペラ13nは、開口11aに面するように配置されてもよい。モータ13mがインペラ13nを回転させることによって、溶融はんだ14がはんだ槽10sからダクト11及びノズル12aに送り出される。 As shown in FIGS. 1 to 3, the jet portion 10 includes a solder tank 10s in which the molten solder 14 is stored, a duct 11, a nozzle portion 12, and a pump 13p. The duct 11 is locked or fixed to the solder tank 10s. The duct 11 includes a top portion 11t and a bottom portion 11b. The duct 11 has an opening 11a at the bottom 11b. The duct 11 communicates with the solder tank 10s through the opening 11a. The pump 13p sends the molten solder 14 stored in the solder tank 10s to the duct 11 and the nozzle 12a. The pump 13p may include an impeller 13n and a motor 13m connected to the impeller 13n. The impeller 13n is arranged in the duct 11. The impeller 13n may be arranged so as to face the opening 11a. When the motor 13m rotates the impeller 13n, the molten solder 14 is sent out from the solder tank 10s to the duct 11 and the nozzle 12a.

図5に示されるように、ノズル部12は、ノズル12aを含む。ノズル12aは、高さ方向(z方向)に突出している。高さ方向(z方向)は、ノズル12aから配線基板6に向かって溶融はんだ14が噴出する方向である。ノズル12aの開口12bから、溶融はんだ14が噴流する。ノズル12aの開口12bは、細長い矩形またはスリットの形状を有してもよい。ノズル12aの開口12bは、配線基板6の搬送方向(x方向)及び高さ方向(z方向)に交差する幅方向(y方向)に沿って延在してもよい。溶融はんだ14は、ノズル12aから、配線基板6の搬送方向の上流側(−x方向)と下流側(+x方向)とに向けて流出する。ノズル12aの開口12bは、円形の形状を有してもよい。ノズル12aは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって覆われる。 As shown in FIG. 5, the nozzle portion 12 includes the nozzle 12a. The nozzle 12a projects in the height direction (z direction). The height direction (z direction) is the direction in which the molten solder 14 is ejected from the nozzle 12a toward the wiring board 6. The molten solder 14 is jetted from the opening 12b of the nozzle 12a. The opening 12b of the nozzle 12a may have the shape of an elongated rectangle or slit. The opening 12b of the nozzle 12a may extend along the width direction (y direction) intersecting the transport direction (x direction) and the height direction (z direction) of the wiring board 6. The molten solder 14 flows out from the nozzle 12a toward the upstream side (−x direction) and the downstream side (+ x direction) of the wiring board 6 in the transport direction. The opening 12b of the nozzle 12a may have a circular shape. The nozzle 12a is covered with the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a.

図2及び図3に示されるように、ノズル12aは、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さdが変化するように構成されてもよい。ノズル12aは、搬送部4に対するノズル12aの相対的な高さが変化するように構成されてもよい。ノズル12aは、ダクト11に対するノズル12aの相対的な高さが変化するように構成されてもよい。ノズル12aは、ダクト11に対して移動するようにダクト11の頂部11tに設けられてもよい。 As shown in FIGS. 2 and 3, the nozzle 12a may be configured such that the relative height d of the nozzle 12a with respect to the wiring board 6 changes. The nozzle 12a may be configured so that the relative height of the nozzle 12a with respect to the conveying portion 4 changes. The nozzle 12a may be configured such that the relative height of the nozzle 12a with respect to the duct 11 changes. The nozzle 12a may be provided on the top 11t of the duct 11 so as to move with respect to the duct 11.

具体的には、ダクト11は、高さ方向(z方向)に延在する支柱11fと、支柱11fの端部に設けられているボルト11hとを含んでもよい。ノズル部12は、孔12eを有する板部12dを含む。板部12dは、高さ方向(z方向)と配線基板6の搬送方向(x方向)とに交差する幅方向(y方向)に延在している。ボルト11hは孔12eに挿入されている。ボルト11hを回転させることによって、ボルト11hは支柱11fに対して高さ方向(z方向)に移動することができる。ノズル12a(ノズル部12)は、ボルト11hとともに高さ方向(z方向)に移動することができる。こうして、配線基板6に対するノズル12a(ノズル部12)の相対的な高さdを変化させ得る。 Specifically, the duct 11 may include a support column 11f extending in the height direction (z direction) and a bolt 11h provided at an end portion of the support column 11f. The nozzle portion 12 includes a plate portion 12d having a hole 12e. The plate portion 12d extends in the width direction (y direction) intersecting the height direction (z direction) and the transport direction (x direction) of the wiring board 6. The bolt 11h is inserted into the hole 12e. By rotating the bolt 11h, the bolt 11h can move in the height direction (z direction) with respect to the support column 11f. The nozzle 12a (nozzle portion 12) can move in the height direction (z direction) together with the bolt 11h. In this way, the relative height d of the nozzle 12a (nozzle portion 12) with respect to the wiring board 6 can be changed.

図4に示されるように、本実施の形態の一変形例では、噴流部10の下方に、昇降部18が設けられてもよい。昇降部18は、噴流部10を高さ方向(z方向)に移動させる。こうして、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さdを変化させてもよい。 As shown in FIG. 4, in one modification of the present embodiment, the elevating part 18 may be provided below the jet part 10. The elevating part 18 moves the jet part 10 in the height direction (z direction). In this way, the relative height d of the nozzle 12a with respect to the wiring board 6 may be changed.

図5に示されるように、ノズル部12はガイド板12cを含んでもよい。ガイド板12cは、ノズル12aから配線基板6の搬送方向(x方向)に沿って延在している。ガイド板12cは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14を配線基板6の搬送方向(x方向)に沿ってガイドする。ガイド板12cは、ノズル12aに対する取り付け位置(ノズル12aの頂部に対する相対的な高さ)が変化するように構成されてもよい。ガイド板12cは、配線基板6の搬送方向(x方向)における長さが変化するように構成されてもよい。 As shown in FIG. 5, the nozzle portion 12 may include a guide plate 12c. The guide plate 12c extends from the nozzle 12a along the transport direction (x direction) of the wiring board 6. The guide plate 12c guides the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a along the transport direction (x direction) of the wiring board 6. The guide plate 12c may be configured so that the mounting position with respect to the nozzle 12a (the height relative to the top of the nozzle 12a) changes. The guide plate 12c may be configured so that the length of the wiring board 6 in the transport direction (x direction) changes.

図2及び図3に示されるように、噴流部10は、はんだ槽10s内に第1のヒータ13hをさらに含んでもよい。第1のヒータ13hは、溶融はんだ14を加熱して、はんだを溶融状態に保つ。 As shown in FIGS. 2 and 3, the jet portion 10 may further include a first heater 13h in the solder bath 10s. The first heater 13h heats the molten solder 14 to keep the solder in a molten state.

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、図6に示されるように、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14がこのガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。はんだの自然酸化膜は、約2nmから約3nmの厚さを有してもよい。はんだ酸化膜15は、例えば、酸化錫膜であってもよい。 The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is exposed to a gas containing oxygen (for example, air). Therefore, as shown in FIG. 6, a solder oxide film 15 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The solder oxide film 15 is a natural oxide film of solder formed by contacting the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a with this gas. The natural oxide film of the solder may have a thickness of about 2 nm to about 3 nm. The solder oxide film 15 may be, for example, a tin oxide film.

図5から図7に示されるように、拡散反射領域形成部30は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成するように構成されている。拡散反射領域形成部30は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面の一部上に選択的に拡散反射領域16を形成するように構成されてもよい。 As shown in FIGS. 5 to 7, the diffuse reflection region forming portion 30 is configured to form a diffuse reflection region 16 on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region forming portion 30 may be configured to selectively form the diffuse reflection region 16 on a part of the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a.

拡散反射領域形成部30は、部材31と、部材31を移動させるように構成されている駆動部32とを含んでもよい。部材31は、ノズル12aに対して移動するように構成されている。部材31は、連結部33を介して駆動部32に接続されてもよい。部材31は、例えば、板部材であってもよい。駆動部32は、例えば、モータであってもよい。 The diffuse reflection region forming unit 30 may include a member 31 and a driving unit 32 configured to move the member 31. The member 31 is configured to move with respect to the nozzle 12a. The member 31 may be connected to the drive unit 32 via the connecting unit 33. The member 31 may be, for example, a plate member. The drive unit 32 may be, for example, a motor.

駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させるように構成されている。具体的には、駆動部32は、部材31を高さ方向(z方向)に移動させる。図6に示されるように、部材31は、溶融はんだ14の表面に形成されているはんだ酸化膜15を貫通して、部材31の一部が溶融はんだ14に浸漬される。続いて、図7に示されるように、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、部材31を溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させる。特定的には、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、高さ方向(z方向)及び溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に交差する幅方向(y方向)に沿って、部材31を移動させてもよい。 The drive unit 32 is configured to move the member 31 in one direction along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14. Specifically, the drive unit 32 moves the member 31 in the height direction (z direction). As shown in FIG. 6, the member 31 penetrates the solder oxide film 15 formed on the surface of the molten solder 14, and a part of the member 31 is immersed in the molten solder 14. Subsequently, as shown in FIG. 7, the drive unit 32 moves the member 31 in one direction along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14. .. Specifically, the drive unit 32 has a width at which at least a part of the member 31 is immersed in the molten solder 14 and intersects in the height direction (z direction) and the direction in which the molten solder 14 flows out from the nozzle 12a (x direction). The member 31 may be moved along the direction (y direction).

はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含み、拡散反射領域形成部30は拡散反射膜形成部である。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。 The solder oxide film 15 is folded over, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film, and the diffuse reflection region forming portion 30 is a diffuse reflection film forming portion. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15.

拡散反射領域16は、溶融はんだ14の表面上に直線状または曲線状に延在してもよい。特定的には、拡散反射領域16は、ノズル12aから溶融はんだ14が流出する方向に沿って延在してもよい。拡散反射領域16は、ノズル12aから、配線基板6の搬送方向の上流方向(−x方向)及び下流方向(+x方向)の少なくとも一つに向かって延在してもよい。 The diffuse reflection region 16 may extend linearly or curvedly on the surface of the molten solder 14. Specifically, the diffuse reflection region 16 may extend along the direction in which the molten solder 14 flows out from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 may extend from the nozzle 12a toward at least one of the upstream direction (−x direction) and the downstream direction (+ x direction) of the wiring board 6 in the transport direction.

図8に示されるように、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定するように構成されている。本明細書において、表面形状は、表面の位置も含む。測定部20は、光学的測定部であってもよい。具体的には、測定部20は、拡散反射領域16に光22を照射するように構成されている光源部21と、拡散反射領域16によって拡散反射される光22を検出するように構成されている光検出部23とを含んでもよい。測定部20は、例えば、レーザ変位計であってもよく、特定的には二次元レーザ変位計であってもよい。 As shown in FIG. 8, the measuring unit 20 is configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16. In the present specification, the surface shape also includes the position of the surface. The measuring unit 20 may be an optical measuring unit. Specifically, the measuring unit 20 is configured to detect the light source unit 21 configured to irradiate the diffuse reflection region 16 with light 22 and the light 22 diffusely reflected by the diffuse reflection region 16. The light detection unit 23 may be included. The measuring unit 20 may be, for example, a laser displacement meter, or specifically a two-dimensional laser displacement meter.

光源部21は、例えば、半導体レーザであってもよい。光源部21は、走査される光22を出射してもよい。特定的には、光源部21から出射される光22は、配線基板6の搬送方向(x方向)と幅方向(y方向)とに沿って走査されてもよい。 The light source unit 21 may be, for example, a semiconductor laser. The light source unit 21 may emit the light 22 to be scanned. Specifically, the light 22 emitted from the light source unit 21 may be scanned along the transport direction (x direction) and the width direction (y direction) of the wiring board 6.

光源部21から出射された光22は、拡散反射領域16において拡散反射される。拡散反射領域16は、拡散反射領域16に隣接する領域におけるはんだ酸化膜15と比べて、拡散反射の割合が大きく、鏡面反射の割合が小さい。なお、表面の拡散反射の割合は、当該表面に垂直に入射する光に対する、当該入射方向と異なる方向へ反射される光の割合を意味する。表面の鏡面反射の割合は、当該表面に垂直に入射する光に対する、当該光の入射方向に反射される光の割合を意味する。 The light 22 emitted from the light source unit 21 is diffusely reflected in the diffuse reflection region 16. The diffuse reflection region 16 has a larger ratio of diffuse reflection and a smaller ratio of specular reflection than the solder oxide film 15 in the region adjacent to the diffuse reflection region 16. The ratio of diffuse reflection on the surface means the ratio of light reflected in a direction different from the incident direction to the light vertically incident on the surface. The ratio of specular reflection of a surface means the ratio of light reflected in the incident direction of the light to the light vertically incident on the surface.

光検出部23は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。光検出部23は、例えば、CMOS位置センサであってもよい。測定部20は、三角測量方式によって、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定してもよい。具体的には、拡散反射領域16で拡散反射された光22を光検出部23で検出することにより、光検出部23に対する拡散反射領域16の表面の角度及び距離の情報が得られる。この情報に基づいて、拡散反射領域16の第1の表面形状が測定され得る。 The light detection unit 23 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 can measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16. The photodetector 23 may be, for example, a CMOS position sensor. The measuring unit 20 may measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by a triangulation method. Specifically, by detecting the light 22 diffusely reflected in the diffuse reflection region 16 by the light detection unit 23, information on the angle and distance of the surface of the diffuse reflection region 16 with respect to the light detection unit 23 can be obtained. Based on this information, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 can be measured.

拡散反射領域16(拡散反射膜15a)は、溶融はんだ14の表面上に浮遊している。拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状に追従している。拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状と実質的に等価であると見なされ得る。測定部20を用いて拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状を測定することによって、溶融はんだ14の表面形状が測定され得る。 The diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) is suspended on the surface of the molten solder 14. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) follows the surface shape of the molten solder 14. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) can be regarded as substantially equivalent to the surface shape of the molten solder 14. The surface shape of the molten solder 14 can be measured by measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) using the measuring unit 20.

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面は、絶えず揺らいでいる。そのため、拡散反射領域16を含まないはんだ酸化膜15で鏡面反射される光を光検出部23によって受光して、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面の形状を正確に測定することは困難である。これに対し、本実施の形態では、測定部20は、拡散反射領域16(拡散反射膜15a)で拡散反射される光22を検出する。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面が揺らいでも、拡散反射領域16で拡散反射される光22は、光検出部23によって安定的に受光され得る。拡散反射領域16において拡散反射された光22によって、噴流する溶融はんだ14の表面の形状は正確かつ容易に測定され得る。 The surface of the molten solder 14 jetting from the nozzle 12a is constantly swaying. Therefore, it is difficult to accurately measure the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a by receiving the light mirror-reflected by the solder oxide film 15 that does not include the diffuse reflection region 16 by the light detection unit 23. is there. On the other hand, in the present embodiment, the measuring unit 20 detects the light 22 that is diffusely reflected in the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a). Even if the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a fluctuates, the light 22 diffusely reflected in the diffuse reflection region 16 can be stably received by the photodetector 23. The surface shape of the molten solder 14 jetted by the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16 can be accurately and easily measured.

拡散反射領域16(拡散反射膜15a)を観察することにより、測定部20はノズル12aから噴流する溶融はんだ14に対して容易に位置決めされ得る。溶融はんだ14が噴流していても、拡散反射領域16(拡散反射膜15a)はほとんど移動しない。なぜなら、はんだ酸化膜15は、粘性流体とみなすことができる溶融はんだ14に対して壁として機能し、粘性流体は、一般に、壁の近傍において実質的にゼロの流速を有するからである。そのため、溶融はんだ14の表面の形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状は、正確かつ容易に測定され得る。 By observing the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a), the measuring unit 20 can be easily positioned with respect to the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Even if the molten solder 14 is jetted, the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) hardly moves. This is because the solder oxide film 15 functions as a wall with respect to the molten solder 14 which can be regarded as a viscous fluid, and the viscous fluid generally has a flow velocity of substantially zero in the vicinity of the wall. Therefore, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 can be measured accurately and easily.

部品7を配線基板6にはんだ付けするために配線基板6をノズル12aの上方に搬送すると、拡散反射膜15aは、配線基板6に押し流される。そのため、拡散反射膜15aは、配線基板6に対する部品7のはんだ付けに悪影響を及ぼさない。駆動部32は、例えば、測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状が測定する前に、部材31を溶融はんだ14から引き上げる。駆動部32は、拡散反射領域16の第1の表面形状が計測された後に、部材31を溶融はんだ14から引き上げてもよい。 When the wiring board 6 is conveyed above the nozzle 12a in order to solder the component 7 to the wiring board 6, the diffuse reflection film 15a is swept away by the wiring board 6. Therefore, the diffuse reflection film 15a does not adversely affect the soldering of the component 7 to the wiring board 6. The drive unit 32 pulls up the member 31 from the molten solder 14 before, for example, the measuring unit 20 measures the first surface shape of the diffuse reflection region 16. The drive unit 32 may pull up the member 31 from the molten solder 14 after the first surface shape of the diffuse reflection region 16 is measured.

図9に示されるように、測定部20は、ノズル12aの第2の表面形状をさらに測定するように構成されてもよい。溶融はんだ14がノズル12aから噴流する前に、測定部20によって、ノズル12aの位置及び形状が測定され得る。そのため、適切な形状を有するノズル12aが、配線基板6に対して正確に位置決めされ得る。 As shown in FIG. 9, the measuring unit 20 may be configured to further measure the second surface shape of the nozzle 12a. The position and shape of the nozzle 12a can be measured by the measuring unit 20 before the molten solder 14 is jetted from the nozzle 12a. Therefore, the nozzle 12a having an appropriate shape can be accurately positioned with respect to the wiring board 6.

図10に示されるように、制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、噴流部10を制御するように構成されている。本明細書において、噴流部10を制御することは、ポンプ13pに接続されるモータ13mの回転数、第1のヒータ13hの温度、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さ、ノズル12aの頂部に対するガイド板12cの相対的な高さ及びガイド板12cの長さの少なくとも一つを調整することを意味する。 As shown in FIG. 10, the control unit 40 is configured to control the jet unit 10 based on the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20. In the present specification, controlling the jet unit 10 means the rotation speed of the motor 13m connected to the pump 13p, the temperature of the first heater 13h, the relative height of the nozzle 12a with respect to the wiring substrate 6, and the nozzle 12a. It means adjusting at least one of the relative height of the guide plate 12c with respect to the top and the length of the guide plate 12c.

具体的には、メモリ43には、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとを比較するように構成されている。制御部40は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御するように構成されている。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状が第1の形状基準データに一致するように、噴流部10を制御してもよい。 Specifically, the memory 43 stores the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The control unit 40 is configured to compare the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20 with the first shape reference data. The control unit 40 is configured to control the jet unit 10 based on the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data. The control unit 40 may control the jet unit 10 so that the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20 matches the first shape reference data.

制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御するように構成されてもよい。本明細書において、ノズル12aを制御することは、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さ、ノズル12aの頂部に対するガイド板12cの相対的な高さ及びガイド板12cの長さの少なくとも一つを調整することを意味する。 The control unit 40 may be configured to control the nozzle 12a based on the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measurement unit 20. In the present specification, controlling the nozzle 12a means at least one of the relative height of the nozzle 12a with respect to the wiring board 6, the relative height of the guide plate 12c with respect to the top of the nozzle 12a, and the length of the guide plate 12c. Means to adjust one.

具体的には、メモリ43には、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとを比較するように構成されている。制御部40は、ノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル12aを制御するように構成されている。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致するように、ノズル12aを制御してもよい。メモリ43には、配線基板6の種類に関するデータがさらに格納されてもよい。 Specifically, the memory 43 stores the second shape reference data regarding the second target surface shape of the nozzle 12a. The control unit 40 is configured to compare the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measurement unit 20 with the second shape reference data. The control unit 40 is configured to control the nozzle 12a based on the comparison result between the second surface shape of the nozzle 12a and the second shape reference data. The control unit 40 may control the nozzle 12a so that the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measurement unit 20 matches the second shape reference data of the nozzle 12a. Data regarding the type of the wiring board 6 may be further stored in the memory 43.

図1及び図4に示されるように、予備加熱部9は、ノズル12aに対して、配線基板6の搬送方向(x方向)における上流側(−x方向)に配置されている。噴流部10におけるはんだ付けに先立って、予備加熱部9は、配線基板6を加熱する。予備加熱部9は、第2のヒータ9hと、温度センサ9sとを含む。配線基板6は、予備加熱部9内を搬送部4によって搬送されながら、予備加熱部9において加熱される。第2のヒータ9hは、予備加熱部9内に搬送される配線基板6を加熱する。温度センサ9sは、予備加熱部9内の温度を検出する。図10に示されるように、予備加熱部9は、制御部40に接続されてもよい。制御部40は、予備加熱部9を制御してもよい。制御部40は、温度センサ9sの出力を受信して、温度センサ9sの出力に基づいて第2のヒータ9hを制御してもよい。 As shown in FIGS. 1 and 4, the preheating unit 9 is arranged on the upstream side (−x direction) of the wiring board 6 in the transport direction (x direction) with respect to the nozzle 12a. Prior to soldering in the jet section 10, the preheating section 9 heats the wiring board 6. The preheating unit 9 includes a second heater 9h and a temperature sensor 9s. The wiring board 6 is heated in the preheating section 9 while being conveyed in the preheating section 9 by the transport section 4. The second heater 9h heats the wiring board 6 conveyed into the preheating unit 9. The temperature sensor 9s detects the temperature inside the preheating unit 9. As shown in FIG. 10, the preheating unit 9 may be connected to the control unit 40. The control unit 40 may control the preheating unit 9. The control unit 40 may receive the output of the temperature sensor 9s and control the second heater 9h based on the output of the temperature sensor 9s.

図1に示されるように、筐体3は、噴流部10と、測定部20と、予備加熱部9とを収容している。搬送部4の一部及び制御部40もまた、筐体3内に収容されている。制御部40は、搬送部4を制御してもよい。例えば、制御部40は、搬送部4による配線基板6の搬送速度を制御してもよい。 As shown in FIG. 1, the housing 3 houses a jet unit 10, a measuring unit 20, and a preheating unit 9. A part of the transport unit 4 and the control unit 40 are also housed in the housing 3. The control unit 40 may control the transport unit 4. For example, the control unit 40 may control the transfer speed of the wiring board 6 by the transfer unit 4.

図1に示されるように、表示部41は、筐体3上に設けられている。図10に示されるように、表示部41は、制御部40に接続されている。制御部40は、測定部20によって得られた拡散反射領域16の第1の表面形状、ノズル12aの第2の表面形状、ポンプ13pに接続されるモータ13mの回転数、第1のヒータ13hの温度、第2のヒータ9hの温度、配線基板6に対するノズル12aの相対的な高さ、ノズル12aの頂部に対するガイド板12cの相対的な高さ、ガイド板12cの長さ、配線基板6の種類及び搬送部4における配線基板6の搬送速度などを含むデータを、表示部41に出力する。表示部41は、これらデータを表示する。 As shown in FIG. 1, the display unit 41 is provided on the housing 3. As shown in FIG. 10, the display unit 41 is connected to the control unit 40. The control unit 40 has a first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20, a second surface shape of the nozzle 12a, a rotation speed of the motor 13m connected to the pump 13p, and a first heater 13h. Temperature, temperature of second heater 9h, relative height of nozzle 12a with respect to wiring board 6, relative height of guide plate 12c with respect to top of nozzle 12a, length of guide plate 12c, type of wiring board 6 And the data including the transfer speed of the wiring board 6 in the transfer unit 4 is output to the display unit 41. The display unit 41 displays these data.

図5から図11を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。
本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)を備える。拡散反射領域16は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面の一部上に選択的に形成されてもよい。
The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 11.
The soldering method of the present embodiment includes forming a diffuse reflection region 16 on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S11). The diffuse reflection region 16 may be selectively formed on a part of the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a.

図5から図7に示されるように、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させることを含んでもよい。具体的には、駆動部32は、部材31を高さ方向(z方向)に移動させる。図6に示されるように、部材31は、溶融はんだ14の表面に形成されているはんだ酸化膜15を貫通して、部材31の一部が溶融はんだ14に浸漬される。続いて、図7に示されるように、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、部材31を溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させる。特定的には、駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、幅方向(y方向)に沿って、部材31を移動させてもよい。 As shown in FIGS. 5 to 7, forming the diffuse reflection region 16 (S11) causes the member 31 to be immersed along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14. It may include moving in one direction. Specifically, the drive unit 32 moves the member 31 in the height direction (z direction). As shown in FIG. 6, the member 31 penetrates the solder oxide film 15 formed on the surface of the molten solder 14, and a part of the member 31 is immersed in the molten solder 14. Subsequently, as shown in FIG. 7, the drive unit 32 moves the member 31 in one direction along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14. .. Specifically, the drive unit 32 may move the member 31 along the width direction (y direction) while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14.

はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含んでもよい。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。 The solder oxide film 15 is folded over, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 may include a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)を備える。図8に示されるように、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)は、拡散反射領域16に光22を照射することと、拡散反射領域16によって拡散反射された光22を検出することとを含んでもよい。 The soldering method of the present embodiment includes measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by the measuring unit 20 (S12). As shown in FIG. 8, measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (S12) involves irradiating the diffuse reflection region 16 with light 22 and the light diffusely reflected by the diffuse reflection region 16. It may include detecting 22.

拡散反射領域16(拡散反射膜15a)は、溶融はんだ14の表面上に浮遊している。拡散反射領域16の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状に追従している。拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状は、溶融はんだ14の表面形状と実質的に等価であると見なされ得る。測定部20を用いて拡散反射領域16(拡散反射膜15a)の第1の表面形状を測定することによって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状が測定され得る。測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状が測定された後に、駆動部32は、部材31を、溶融はんだ14から引き上げてもよい。 The diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) is suspended on the surface of the molten solder 14. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 follows the surface shape of the molten solder 14. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) can be regarded as substantially equivalent to the surface shape of the molten solder 14. By measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15a) using the measuring unit 20, the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a can be measured. After the first surface shape of the diffuse reflection region 16 is measured by the measuring unit 20, the driving unit 32 may pull the member 31 from the molten solder 14.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、ノズル12aを含む噴流部10を制御すること(S13、S14)をさらに備えてもよい。噴流部10を制御すること(S13、S14)は、拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)と、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S14)とを含んでもよい。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データは、例えば、後述するノズル12aをクリーニングした直後にノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に関する過去のデータであってもよい。 The soldering method of the present embodiment further comprises controlling the jet portion 10 including the nozzle 12a (S13, S14) based on the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20. May be good. Controlling the jet portion 10 (S13, S14) compares the first surface shape of the diffuse reflection region 16 with the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. This may include (S13) and controlling the jet unit 10 based on the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data (S14). The first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is, for example, past data regarding the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a immediately after cleaning the nozzle 12a described later. It may be.

具体的には、メモリ43には、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状とメモリ43に格納されている第1の形状基準データとを比較する。制御部40は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御する。 Specifically, the memory 43 stores the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The control unit 40 compares the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20 with the first shape reference data stored in the memory 43. The control unit 40 controls the jet unit 10 based on the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data.

特定的には、制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状がノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の形状基準データに一致するように、噴流部10を制御してもよい。測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状がノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の形状基準データに一致しない場合(図11のNG1の場合)には、噴流部10を制御し(S14)、それから、工程(S11)から工程(S13)によって、拡散反射領域16の第1の表面形状が第1の形状基準データに一致しているか否かを確認する。測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状がノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の形状基準データに一致するまで、工程(S11)から工程(S14)を繰り返す。 Specifically, the control unit 40 is jetted so that the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 matches the first shape reference data of the molten solder 14 ejected from the nozzle 12a. 10 may be controlled. When the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 does not match the first shape reference data of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (in the case of NG1 in FIG. 11), the jetting unit 10 (S14), and then, from step (S11) to step (S13), it is confirmed whether or not the first surface shape of the diffuse reflection region 16 matches the first shape reference data. Steps (S11) to (S14) are repeated until the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 matches the first shape reference data of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a.

測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状を第1の形状基準データに一致させた後に、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって、部品7を配線基板6にはんだ付けする(S30)。具体的には、配線基板6は、搬送部4によって、ノズル12aの上方へ搬送される。配線基板6の裏面6bにノズル12aから噴流する溶融はんだ14を接触させて、配線基板6のおもて面6aに搭載されている部品7は、配線基板6の裏面6b上に設けられている電気配線にはんだ付けされる。 After matching the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 with the first shape reference data, the component 7 is soldered to the wiring board 6 by the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (). S30). Specifically, the wiring board 6 is conveyed above the nozzle 12a by the conveying unit 4. The component 7 mounted on the front surface 6a of the wiring board 6 is provided on the back surface 6b of the wiring board 6 by bringing the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a into contact with the back surface 6b of the wiring board 6. Soldered to electrical wiring.

はんだ付け装置1を何度も使用すると、ノズル12aの開口12b内にはんだ酸化物が堆積する。この堆積されたはんだ酸化物は、ノズル12aの開口12b内の溶融はんだ14の流れを阻害し、はんだ付け不良を引き起こす。堆積されたはんだ酸化物を除去するために、ノズル12aがはんだ付け装置1から取り外されて、分解及びクリーニングされる。ノズル12aをクリーニングし終えた後、ノズル12aを再び組み立てて、はんだ付け装置1に取り付ける。ノズル12aを組み立てる時に、組立誤差が発生することがある。ノズル12aをはんだ付け装置1に取り付ける際に、取り付け誤差が発生することがある。これらの誤差により、クリーニング後のノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状は、クリーニング前のノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状と異なり得る。これらの誤差は、ノズル12aをクリーニングした後に、はんだ不良を引き起こし得る。 When the soldering apparatus 1 is used many times, solder oxide is deposited in the opening 12b of the nozzle 12a. This deposited solder oxide impedes the flow of the molten solder 14 in the opening 12b of the nozzle 12a, causing poor soldering. To remove the deposited solder oxide, the nozzle 12a is removed from the soldering apparatus 1 and disassembled and cleaned. After cleaning the nozzle 12a, the nozzle 12a is reassembled and attached to the soldering apparatus 1. When assembling the nozzle 12a, an assembly error may occur. When the nozzle 12a is attached to the soldering apparatus 1, an attachment error may occur. Due to these errors, the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a after cleaning may be different from the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a before cleaning. These errors can cause solder defects after cleaning the nozzle 12a.

図11に示されるように、これらの誤差が発生しないように、本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によってノズル12aの第2の表面形状を測定すること(S21)と、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御すること(S22,S23)とをさらに備えてもよい。 As shown in FIG. 11, in order to prevent these errors from occurring, the soldering method of the present embodiment measures the second surface shape of the nozzle 12a by the measuring unit 20 (S21) and the measuring unit. It may further include controlling the nozzle 12a (S22, S23) based on the second surface shape of the nozzle 12a obtained by 20.

測定部20によってノズル12aの第2の表面形状を測定する工程(S21)では、図9に示されるように、ノズル12aから溶融はんだ14を噴流させずに、ノズル12aの第2の表面形状が測定部20によって測定されてもよい。ノズル12aは、例えば、表面が窒化処理されたステンレス鋼によって構成されている。ノズル12aは、はんだ酸化膜15よりも、表面における拡散反射の割合が大きく、かつ、表面における鏡面反射の割合が小さい。そのため、ノズル12aの第2の表面形状は、測定部20によって直接測定され得る。 In the step (S21) of measuring the second surface shape of the nozzle 12a by the measuring unit 20, as shown in FIG. 9, the second surface shape of the nozzle 12a is formed without jetting the molten solder 14 from the nozzle 12a. It may be measured by the measuring unit 20. The nozzle 12a is made of, for example, stainless steel whose surface is nitrided. The nozzle 12a has a larger ratio of diffuse reflection on the surface and a smaller ratio of specular reflection on the surface than the solder oxide film 15. Therefore, the second surface shape of the nozzle 12a can be directly measured by the measuring unit 20.

ノズル12aを制御すること(S22,S23)は、ノズル12aの第2の表面形状と、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データとを比較すること(S22)と、ノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル12aを制御すること(S23)とを含んでもよい。ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データは、例えば、ノズル12aをクリーニングした直後におけるノズル12aの第2の表面形状に関する過去のデータであってもよい。 Controlling the nozzle 12a (S22, S23) is to compare the second surface shape of the nozzle 12a with the second shape reference data regarding the second target surface shape of the nozzle 12a (S22) and the nozzle. Controlling the nozzle 12a based on the result of comparison between the second surface shape of 12a and the second shape reference data (S23) may be included. The second shape reference data regarding the second target surface shape of the nozzle 12a may be, for example, past data regarding the second surface shape of the nozzle 12a immediately after cleaning the nozzle 12a.

具体的には、メモリ43には、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データが格納されている。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状とメモリ43に格納されている第2の形状基準データとを比較する。制御部40は、ノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとの間の比較結果に基づいてノズル12aを制御する。 Specifically, the memory 43 stores the second shape reference data regarding the second target surface shape of the nozzle 12a. The control unit 40 compares the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measurement unit 20 with the second shape reference data stored in the memory 43. The control unit 40 controls the nozzle 12a based on the comparison result between the second surface shape of the nozzle 12a and the second shape reference data.

特定的には、制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致するように、ノズル12aを制御してもよい。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致しない場合(図11のNG3の場合)には、ノズル12aを制御し(S23)、それから、工程(S21)及び工程(S22)によって、ノズル12aの第2の表面形状が第2の形状基準データに一致しているか否かを確認する。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状がノズル12aの第2の形状基準データに一致するまで、工程(S21)から工程(S23)を繰り返す。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状をノズル12aの第2の形状基準データに一致させた後に、ノズル12aから溶融はんだ14を噴流させて、溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成する(S11)。 Specifically, the control unit 40 may control the nozzle 12a so that the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measurement unit 20 matches the second shape reference data of the nozzle 12a. When the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20 does not match the second shape reference data of the nozzle 12a (in the case of NG3 of FIG. 11), the nozzle 12a is controlled (S23), and then By the step (S21) and the step (S22), it is confirmed whether or not the second surface shape of the nozzle 12a matches the second shape reference data. Steps (S21) to (S23) are repeated until the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20 matches the second shape reference data of the nozzle 12a. After matching the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20 with the second shape reference data of the nozzle 12a, the molten solder 14 is jetted from the nozzle 12a and diffusely reflected on the surface of the molten solder 14. The region 16 is formed (S11).

図11に示されるように、工程(S11)から工程(S14)のみでは測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状を第1の形状基準データに一致させることができない場合(図11のNG2の場合)には、工程(S21)から工程(S23)によって、ノズル12aを再び制御し、それから、工程(S11)から工程(S14)によって、拡散反射領域16の第1の表面形状を第1の形状基準データに一致させてもよい。 As shown in FIG. 11, when the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 cannot be matched with the first shape reference data only by the steps (S11) to (S14) ( In the case of NG2 in FIG. 11), the nozzle 12a is controlled again by the steps (S21) to the step (S23), and then the first surface of the diffuse reflection region 16 is controlled by the steps (S11) to the step (S14). The shape may be matched with the first shape reference data.

配線基板6の種類が変更される場合も、ノズル12aを分解及びクリーニングする場合と同様の工程が行われてもよい。具体的には、配線基板6の種類が変更される時、工程(S21)から工程(S23)を行う。測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状が、異なる種類の配線基板6に対応する第2の形状基準データに一致するように、ノズル12aが制御される。続いて、工程(S11)から工程(S14)を行う。測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状が、異なる種類の配線基板6に対応する第1の形状基準データに一致するように、ノズル12aが制御される。制御部40は、配線基板6の種類をメモリ43から読み出して、第1の形状基準データ及び第2の形状基準データを、異なる種類の配線基板6に対応する第1の形状基準データ及び第2の形状基準データに置き換えてもよい。こうして、配線基板6の種類が変更されても、はんだ付け不良の発生が抑制され得る。 When the type of the wiring board 6 is changed, the same process as in the case of disassembling and cleaning the nozzle 12a may be performed. Specifically, when the type of the wiring board 6 is changed, the process (S21) to the process (S23) are performed. The nozzle 12a is controlled so that the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20 matches the second shape reference data corresponding to the different types of wiring boards 6. Subsequently, the steps (S11) to the step (S14) are performed. The nozzle 12a is controlled so that the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 matches the first shape reference data corresponding to the different types of wiring boards 6. The control unit 40 reads out the type of the wiring board 6 from the memory 43, and uses the first shape reference data and the second shape reference data as the first shape reference data and the second shape reference data corresponding to the different types of wiring boards 6. It may be replaced with the shape reference data of. In this way, even if the type of the wiring board 6 is changed, the occurrence of soldering defects can be suppressed.

測定部20によって得られた拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとを比較する工程(S13)は、以下に例示する方法によって行われてもよい。第1の例では、電子計算機を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状のデータから、特徴的な部分のデータ(例えば、拡散反射領域16の第1の表面形状の最も高い位置のデータなど)を抽出する。電子計算機を用いて、当該特徴的な部分のデータが、当該特徴的な部分の第1の形状基準データと比較されてもよい。第2の例では、工程(S13)において、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとが表示部41に表示され、これらが目視によって比較されてもよい。同様に、測定部20によって得られたノズル12aの第2の表面形状と第2の形状基準データとを比較する工程(S22)においても、電気計算機または目視によって、これらが比較されてもよい。 The step (S13) of comparing the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20 with the first shape reference data may be performed by the method exemplified below. In the first example, using a computer, from the data of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 to the data of the characteristic portion (for example, the highest position of the first surface shape of the diffuse reflection region 16). Data etc.) is extracted. Using a computer, the data of the characteristic portion may be compared with the first shape reference data of the characteristic portion. In the second example, in the step (S13), the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data are displayed on the display unit 41, and these may be visually compared. Similarly, in the step (S22) of comparing the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20 with the second shape reference data, these may be compared by an electric calculator or visual inspection.

本実施の形態の一変形例のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法では、実施の形態3に開示された拡散反射領域形成部30cを用いて、本実施の形態の拡散反射領域16(拡散反射膜15a)が形成されてもよい。 In the soldering device 1 and the soldering method of one modification of the present embodiment, the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film) of the present embodiment is used by using the diffuse reflection region forming portion 30c disclosed in the third embodiment. 15a) may be formed.

本実施の形態のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法の効果を説明する。
本実施の形態のはんだ付け装置1は、噴流部10と、測定部20とを備える。噴流部10は、ノズル12aを含む。測定部20は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に形成される拡散反射領域16の第1の表面形状を測定するように構成されている。拡散反射領域16の第1の表面形状は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に追従する。測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することにより、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状が容易に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。
The effects of the soldering apparatus 1 and the soldering method of the present embodiment will be described.
The soldering device 1 of the present embodiment includes a jet unit 10 and a measuring unit 20. The jet portion 10 includes a nozzle 12a. The measuring unit 20 is configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16 formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 follows the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. By measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by the measuring unit 20, the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a can be easily measured. The soldering apparatus 1 of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1は、溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成するように構成されている拡散反射領域形成部30をさらに備えてもよい。そのため、拡散反射領域16が溶融はんだ14の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 The soldering apparatus 1 of the present embodiment may further include a diffuse reflection region forming portion 30 configured to form a diffuse reflection region 16 on the surface of the molten solder 14. Therefore, the diffuse reflection region 16 can be easily formed on the surface of the molten solder 14. The soldering apparatus 1 of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1では、拡散反射領域形成部30は、部材31と、駆動部32とを含んでもよい。駆動部32は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を一方向に移動させるように構成されてもよい。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。そのため、拡散反射領域16が溶融はんだ14の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering device 1 of the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30 may include a member 31 and a driving portion 32. The drive unit 32 may be configured to move the member 31 in one direction along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. Therefore, the diffuse reflection region 16 can be easily formed on the surface of the molten solder 14. The soldering apparatus 1 of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1は、制御部40をさらに備えてもよい。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、噴流部10を制するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 The soldering device 1 of the present embodiment may further include a control unit 40. The control unit 40 may be configured to control the jet unit 10 based on the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20. The soldering apparatus 1 of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されているメモリ43をさらに備えてもよい。制御部40は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとを比較するように構成されてもよい。制御部40は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 The soldering apparatus 1 of the present embodiment may further include a memory 43 in which first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is stored. The control unit 40 may be configured to compare the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measurement unit 20 with the first shape reference data. The control unit 40 may be configured to control the jet unit 10 based on the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data. The soldering apparatus 1 of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1では、測定部20は、ノズル12aの第2の表面形状をさらに測定するように構成されてもよい。制御部40は、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御するように構成されてもよい。本実施の形態のはんだ付け装置1は、ノズル12aの第2の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1 of the present embodiment, the measuring unit 20 may be configured to further measure the second surface shape of the nozzle 12a. The control unit 40 may be configured to control the nozzle 12a based on the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measurement unit 20. The soldering apparatus 1 of the present embodiment enables more appropriate (better) soldering by using the measurement result of the second surface shape of the nozzle 12a.

本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)と、測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)とを備える。拡散反射領域16の第1の表面形状は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に追従する。測定部20によって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することにより、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状が測定され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, the diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S11), and the first surface shape of the diffuse reflection region 16 is formed by the measuring unit 20. It includes measuring (S12). The first surface shape of the diffuse reflection region 16 follows the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. By measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by the measuring unit 20, the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a can be measured. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S12)は、部材31の少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31を移動させることを含んでもよい。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。そのため、拡散反射領域16が溶融はんだ14の表面上に容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S12) moves the member 31 along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31 in the molten solder 14. May include soldering. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. Therefore, the diffuse reflection region 16 can be easily formed on the surface of the molten solder 14. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状に基づいて、ノズル12aを含む噴流部10を制御すること(S13,S14)をさらに備えてもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 The soldering method of the present embodiment further includes controlling the jet unit 10 including the nozzle 12a (S13, S14) based on the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20. May be good. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、噴流部10を制御すること(S13,S14)は、拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)と、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S14)とを含んでもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, controlling the jet portion 10 (S13, S14) means that the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The jet unit 10 is controlled based on the comparison result with the first shape reference data regarding (S13) and the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data. (S14) and may be included. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20によってノズル12aの第2の表面形状を測定すること(S21)と、測定部20によって得られるノズル12aの第2の表面形状に基づいて、ノズル12aを制御すること(S22,S23)とをさらに備えてもよい。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aの第2の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, the second surface shape of the nozzle 12a is measured by the measuring unit 20 (S21), and the nozzle is based on the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20. It may further include controlling 12a (S22, S23). The soldering method of the present embodiment enables more appropriate (better) soldering by using the measurement result of the second surface shape of the nozzle 12a.

実施の形態2.
図12及び図13を参照して、実施の形態2に係るはんだ付け装置1bを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1bは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 2.
The soldering apparatus 1b according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 12 and 13. The soldering apparatus 1b of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment, but differs mainly in the following points.

はんだ付け装置1bは、実施の形態1の測定部20に代えて、測定部20bを備えている。測定部20bは、光源部21bと、光検出部23bとを含む。光源部21bは、拡散反射領域16に光22bを照射するように構成されている。光源部21bは、細長い矩形またはスリットの断面形状を有する光22bを出射してもよい。光源部21bは、例えば、レーザ墨出し器であってもよい。光検出部23bは、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出するように構成されている。光検出部23bは、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。撮像部は、例えば、CCDカメラであってもよい。拡散反射領域16で拡散反射される光22bを光検出部23bで検出することにより、拡散反射領域16の第1の表面形状が容易に測定され得る。 The soldering apparatus 1b includes a measuring unit 20b instead of the measuring unit 20 of the first embodiment. The measuring unit 20b includes a light source unit 21b and a light detecting unit 23b. The light source unit 21b is configured to irradiate the diffuse reflection region 16 with light 22b. The light source unit 21b may emit light 22b having an elongated rectangular shape or a cross-sectional shape of a slit. The light source unit 21b may be, for example, a laser marking device. The light detection unit 23b is configured to detect the light 22b diffusely reflected by the diffuse reflection region 16. The light detection unit 23b is an imaging unit configured to acquire an image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16. The imaging unit may be, for example, a CCD camera. By detecting the light 22b diffusely reflected in the diffuse reflection region 16 by the photodetector 23b, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 can be easily measured.

図11から図13を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of this embodiment will be described with reference to FIGS. 11 to 13. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによって拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)を備える。拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)は、拡散反射領域16に光22bを照射することと、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出することとを含む。測定部20bは、光検出部23bを含む。光検出部23bは、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。拡散反射された光22bを検出することは、撮像部によって拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得することを含む。 The soldering method of the present embodiment includes measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by the measuring unit 20b (S12). Measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (S12) includes irradiating the diffuse reflection region 16 with light 22b and detecting the light 22b diffusely reflected by the diffuse reflection region 16. .. The measuring unit 20b includes a photodetecting unit 23b. The light detection unit 23b is an imaging unit configured to acquire an image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16. Detecting the diffusely reflected light 22b includes acquiring an image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by the imaging unit.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによって得られる拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)を備える。具体的には、制御部40は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を、メモリ43に格納されている第1の形状基準データ(第1の基準画像)と比較してもよい。特定的には、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像と第1の形状基準データ(第1の基準画像)とを重ね合わせて、これら画像の差分に相当する面積を算出する。この面積に基づいて、測定部20bによって得られた拡散反射領域16の第1の表面形状の画像が、第1の形状基準データ(第1の基準画像)と比較されてもよい。 The soldering method of the present embodiment includes the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20b and the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. (S13). Specifically, the control unit 40 uses the image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a as a first shape reference stored in the memory 43. It may be compared with the data (first reference image). Specifically, the image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first shape reference data (first reference image) are superposed, and the area corresponding to the difference between these images is calculated. Based on this area, the image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 obtained by the measuring unit 20b may be compared with the first shape reference data (first reference image).

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによってノズル12aの第2の表面形状を測定すること(S21)を備えてもよい。測定部20bは、ノズル12aの第2の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である光検出部23bを含む。 The soldering method of the present embodiment may include measuring the second surface shape of the nozzle 12a by the measuring unit 20b (S21). The measuring unit 20b includes a photodetecting unit 23b, which is an imaging unit configured to acquire an image of the second surface shape of the nozzle 12a.

本実施の形態のはんだ付け方法は、測定部20bによって得られるノズル12aの第2の表面形状と、ノズル12aの第2の目標表面形状に関する第2の形状基準データとを比較すること(S22)を備える。具体的には、制御部40は、ノズル12aの第2の表面形状の画像を、メモリ43に格納されている第2の形状基準データ(第2の基準画像)と比較してもよい。特定的には、ノズル12aの第2の表面形状の画像と、第2の形状基準データ(第2の基準画像)とを重ね合わせて、これら画像の差分に相当する面積を算出する。この面積に基づいて、測定部20bによって得られたノズル12aの第2の表面形状の画像が、第2の形状基準データ(第2の基準画像)と比較されてもよい。 In the soldering method of the present embodiment, the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20b is compared with the second shape reference data regarding the second target surface shape of the nozzle 12a (S22). To be equipped. Specifically, the control unit 40 may compare the image of the second surface shape of the nozzle 12a with the second shape reference data (second reference image) stored in the memory 43. Specifically, the image of the second surface shape of the nozzle 12a and the second shape reference data (second reference image) are superposed, and the area corresponding to the difference between these images is calculated. Based on this area, the image of the second surface shape of the nozzle 12a obtained by the measuring unit 20b may be compared with the second shape reference data (second reference image).

本実施の形態のはんだ付け装置1b及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1b及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1b and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering device 1b and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering device 1 and the soldering method of the first embodiment.

本実施の形態のはんだ付け装置1bでは、測定部20bは、拡散反射領域16に光22bを照射するように構成されている光源部21bと、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出するように構成されている光検出部23bとを含む。光検出部23bは、拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である。本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定すること(S12)は、拡散反射領域16に光22bを照射することと、拡散反射領域16によって拡散反射される光22bを検出することとを含む。拡散反射された光22bを検出することは、撮像部によって拡散反射領域16の第1の表面形状の画像を取得することを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1b及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering device 1b of the present embodiment, the measuring unit 20b detects the light source unit 21b configured to irradiate the diffuse reflection region 16 with the light 22b and the light 22b diffusely reflected by the diffuse reflection region 16. It includes an optical detection unit 23b configured to do so. The light detection unit 23b is an imaging unit configured to acquire an image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16. In the soldering method of the present embodiment, measuring the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (S12) involves irradiating the diffuse reflection region 16 with light 22b and diffuse reflection by the diffuse reflection region 16. Includes detecting the light 22b. Detecting the diffusely reflected light 22b includes acquiring an image of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 by the imaging unit. The soldering apparatus 1b and the soldering method of the present embodiment are more appropriate (using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows for better) soldering.

実施の形態3.
図14及び図15を参照して、実施の形態3に係るはんだ付け装置1cを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1cは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 3.
The soldering apparatus 1c according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 14 and 15. The soldering apparatus 1c of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment, but differs mainly in the following points.

図14に示されるように、はんだ付け装置1cは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30に代えて、拡散反射領域形成部30cを備えている。拡散反射領域形成部30cは、溶融はんだ14の表面に向けて酸素を含むガス34を吹き付けるように構成されているガス吹き付け部35を含む。ガス吹き付け部35は、溶融はんだ14の表面の一部に選択的に酸素を含むガス34を吹き付けるように構成されてもよい。酸素を含むガス34は、例えば、空気であってもよい。ガス吹き付け部35の噴出口は、例えば、溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に沿って延在する細長い形状を有してもよいし、円の形状を有してもよい。ガス吹き付け部35は、ノズル12aに対して移動するように構成されている。 As shown in FIG. 14, the soldering apparatus 1c includes a diffuse reflection region forming portion 30c instead of the diffuse reflection region forming portion 30 of the first embodiment. The diffuse reflection region forming portion 30c includes a gas blowing portion 35 configured to blow a gas 34 containing oxygen toward the surface of the molten solder 14. The gas spraying portion 35 may be configured to selectively spray a gas 34 containing oxygen onto a part of the surface of the molten solder 14. The oxygen-containing gas 34 may be, for example, air. The spout of the gas blowing portion 35 may have, for example, an elongated shape extending along the direction (x direction) in which the molten solder 14 flows out from the nozzle 12a, or may have a circular shape. The gas blowing portion 35 is configured to move with respect to the nozzle 12a.

溶融はんだ14の表面のうちガス34が吹き付けられた部分は、他の部分よりも優先的に酸化される。ガス34は、溶融はんだ14の酸化を促進する。図15に示されるように、溶融はんだ14の表面のうちガス34が吹き付けられた部分に、選択的に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15cを含んでもよく、拡散反射領域形成部30cは拡散反射膜形成部であってもよい。拡散反射膜15cは、拡散反射領域16(拡散反射膜15c)に隣接する領域におけるはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜である。 The portion of the surface of the molten solder 14 to which the gas 34 is sprayed is oxidized preferentially over the other portions. The gas 34 promotes the oxidation of the molten solder 14. As shown in FIG. 15, a diffuse reflection region 16 is selectively formed on a portion of the surface of the molten solder 14 to which the gas 34 is sprayed. The diffuse reflection region 16 may include a diffuse reflection film 15c formed of a solder oxide film, and the diffuse reflection region forming portion 30c may be a diffuse reflection film forming portion. The diffuse reflection film 15c is a thick solder oxide film thicker than the solder oxide film 15 in the region adjacent to the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection film 15c).

光源部21bから出射される光22をはんだ酸化厚膜に照射すると、はんだ酸化厚膜において、光22の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光22が拡散反射する。こうして、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜15cとして機能する。拡散反射膜15c(はんだ酸化厚膜)の厚さは、拡散反射膜15c(はんだ酸化厚膜)に隣接するはんだ酸化膜15の厚さの2倍以上であってもよく、3倍以上であってもよく、5倍以上であってもよく、10倍以上であってもよい。拡散反射膜15c(はんだ酸化厚膜)の厚さは、光22の波長の0.10倍以上であってもよく、0.12倍以上であってもよく、0.15倍以上であってもよく、0.18倍以上であってもよく、0.20倍以上であってもよい。 When the solder oxide thick film is irradiated with the light 22 emitted from the light source unit 21b, interference fringes of the light 22 are formed in the solder oxide thick film, and a larger proportion of the light 22 is diffusely reflected. In this way, the solder oxide thick film functions as a diffuse reflection film 15c. The thickness of the diffuse reflection film 15c (soldering oxide thick film) may be twice or more, or three times or more, the thickness of the solder oxide film 15 adjacent to the diffuse reflection film 15c (solder oxide thick film). It may be 5 times or more, or 10 times or more. The thickness of the diffuse reflection film 15c (solder oxide thick film) may be 0.10 times or more, 0.12 times or more, or 0.15 times or more the wavelength of the light 22. It may be 0.18 times or more, or 0.20 times or more.

図11、図14及び図15を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11, 14 and 15. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.

本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)は、図14に示されるように、溶融はんだ14の表面の一部に選択的に酸素を含むガス34を吹き付けることを含む。ガス34は、溶融はんだ14の酸化を促進する。図15に示されるように、溶融はんだ14の表面のうちガス34が吹き付けられた部分に、選択的に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15cを含む。拡散反射膜15cは、拡散反射領域16に隣接する領域におけるはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜である。はんだ酸化厚膜において、光22の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光22が拡散反射するため、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜15cとして機能する。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S11) is one of the surfaces of the molten solder 14 as shown in FIG. It includes selectively spraying a gas 34 containing oxygen on the part. The gas 34 promotes the oxidation of the molten solder 14. As shown in FIG. 15, a diffuse reflection region 16 is selectively formed on a portion of the surface of the molten solder 14 to which the gas 34 is sprayed. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15c formed of a solder oxide film. The diffuse reflection film 15c is a thick solder oxide film thicker than the solder oxide film 15 in the region adjacent to the diffuse reflection region 16. In the solder oxide thick film, interference fringes of light 22 are formed, and a larger proportion of light 22 is diffusely reflected, so that the solder oxide thick film functions as a diffuse reflection film 15c.

本実施の形態の一変形例のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法では、測定部20は実施の形態2の測定部20bに置き換えられてもよい。本実施の形態の別の変形例のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法では、実施の形態1に開示された拡散反射領域形成部30を用いて、本実施の形態の拡散反射領域16(拡散反射膜15c)が形成されてもよい。 In the soldering apparatus 1c and the soldering method of one modification of the present embodiment, the measuring unit 20 may be replaced with the measuring unit 20b of the second embodiment. In the soldering apparatus 1c and the soldering method of another modification of the present embodiment, the diffuse reflection region 16 (diffuse reflection) of the present embodiment is used by using the diffuse reflection region forming portion 30 disclosed in the first embodiment. A film 15c) may be formed.

本実施の形態のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1c and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering device 1c and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering device 1 and the soldering method of the first embodiment.

本実施の形態のはんだ付け装置1cでは、拡散反射領域形成部30cは、溶融はんだ14の表面に向けて酸素を含むガス34を吹き付けるように構成されているガス吹き付け部35を含む。本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成することは、溶融はんだ14の表面の一部に選択的に酸素を含むガス34を吹き付けることを含む。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜(はんだ酸化厚膜)によって構成される拡散反射膜15cを含む。そのため、拡散反射領域16が容易に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1c及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1c of the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30c includes a gas blowing portion 35 configured to blow a gas 34 containing oxygen toward the surface of the molten solder 14. In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 includes selectively blowing an oxygen-containing gas 34 onto a part of the surface of the molten solder 14. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15c formed of a solder oxide film (solder oxide thick film). Therefore, the diffuse reflection region 16 can be easily formed. The soldering apparatus 1c and the soldering method of the present embodiment are more appropriate (using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows for better) soldering.

実施の形態4.
図16から図21を参照して、実施の形態4に係るはんだ付け装置1dを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1dは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 4.
The soldering apparatus 1d according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 16 to 21. The soldering apparatus 1d of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment, but is mainly different in the following points.

はんだ付け装置1dは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30に代えて、拡散反射領域形成部30dを備えている。拡散反射領域形成部30dは、部材31dと、振動子32dとを含む。振動子32dは、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させるように構成されている。振動子32dは、部材31dを、例えば、幅方向(y方向)に振動させる。振動子32dは、例えば、チタン酸ジルコン酸塩、チタン酸バリウムまたはチタン酸塩などのセラミックス材料で構成された圧電素子であってもよいし、電磁モータ、静電モータまたは超音波モータで構成された振動モータであってもよい。 The soldering apparatus 1d includes a diffuse reflection region forming portion 30d instead of the diffuse reflection region forming portion 30 of the first embodiment. The diffuse reflection region forming portion 30d includes a member 31d and an oscillator 32d. The vibrator 32d is configured to vibrate the member 31d along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31d in the molten solder 14. The vibrator 32d causes the member 31d to vibrate, for example, in the width direction (y direction). The vibrator 32d may be, for example, a piezoelectric element made of a ceramic material such as zirconate titanate, barium titanate or titanate, or may be made of an electromagnetic motor, an electrostatic motor or an ultrasonic motor. It may be a vibration motor.

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、図16及び図17に示されるように、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14がこのガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。 The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is exposed to a gas containing oxygen (for example, air). Therefore, as shown in FIGS. 16 and 17, a solder oxide film 15 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The solder oxide film 15 is a natural oxide film of solder formed by contacting the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a with this gas.

図18から図20に示されるように、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、振動子32dを用いて、部材31dを溶融はんだ14の表面に沿って振動させる。はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、部材31dの幅方向(y方向)の両側に形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含み、拡散反射領域形成部30dは拡散反射膜形成部である。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図16を参照)をより多く拡散反射しやすい。測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。 As shown in FIGS. 18 to 20, the member 31d is vibrated along the surface of the molten solder 14 by using the vibrator 32d while immersing at least a part of the member 31d in the molten solder 14. The solder oxide film 15 is folded over, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 is formed on both sides of the member 31d in the width direction (y direction). The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film, and the diffuse reflection region forming portion 30d is a diffuse reflection film forming portion. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15. Therefore, the diffuse reflection film 15a is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 16) than the solder oxide film 15. The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 can measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16.

図18から図20に示されるように、部材31dの振動回数が増加するにつれて、拡散反射膜15aの幅も増加する。拡散反射膜15aの幅は、幅方向(y方向)における拡散反射膜15aの長さである。拡散反射膜15aが細切れに形成されることなく、広い面積を有する拡散反射膜15aが得られる。広い面積にわたって、拡散反射領域16の第1の表面形状(溶融はんだ14の表面形状)が安定的に測定され得る。 As shown in FIGS. 18 to 20, the width of the diffuse reflection film 15a also increases as the number of vibrations of the member 31d increases. The width of the diffuse reflection film 15a is the length of the diffuse reflection film 15a in the width direction (y direction). The diffuse reflection film 15a having a wide area can be obtained without forming the diffuse reflection film 15a into small pieces. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 (the surface shape of the molten solder 14) can be stably measured over a wide area.

部材31dは、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。部材31dは、配線基板6の搬送方向(x方向)に沿って延在している棒部材であってもよい。部材31dは、配線基板6がノズル12aの上方を搬送される際、配線基板6の裏面6bに接触するように構成されている。裏面6bは、溶融はんだ14に対向する配線基板6の面である。具体的には、部材31dは、ノズル12aの上方に延在している。配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、部材31dは、配線基板6の搬送経路内に配置されている。配線基板6の搬送経路の幅は、配線基板6の幅と同じ幅を有している。配線基板6の幅は、幅方向(y方向)における配線基板6の長さである。配線基板6の搬送経路の幅は、幅方向(y方向)における配線基板6の搬送経路の長さである。 The member 31d is made of a material that is difficult to dissolve in the molten solder 14, such as SUS316 or titanium. The member 31d may be a rod member extending along the transport direction (x direction) of the wiring board 6. The member 31d is configured to come into contact with the back surface 6b of the wiring board 6 when the wiring board 6 is conveyed above the nozzle 12a. The back surface 6b is the surface of the wiring board 6 facing the molten solder 14. Specifically, the member 31d extends above the nozzle 12a. The member 31d is arranged in the transport path of the wiring board 6 in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6. The width of the transport path of the wiring board 6 has the same width as the width of the wiring board 6. The width of the wiring board 6 is the length of the wiring board 6 in the width direction (y direction). The width of the transport path of the wiring board 6 is the length of the transport path of the wiring board 6 in the width direction (y direction).

配線基板6の側面6cは、搬送部4の腕部4aによって把持されているが、配線基板6のおもて面6aと裏面6bとは、搬送部4の腕部4aによって把持されていない。配線基板6の裏面6bは、溶融はんだ14に接触しているのに対し、配線基板6のおもて面6aは、溶融はんだ14に接触していない。配線基板6の裏面6bの温度は、配線基板6のおもて面6aの温度よりも高い。配線基板6のおもて面6aと裏面6bとの間の温度差に起因して、配線基板6は、ノズル12aに向けて突出するように反ろうとする。部材31dは、配線基板6の裏面6bに接触して、配線基板6が反ることを防止し得る。 The side surface 6c of the wiring board 6 is gripped by the arm portion 4a of the transport portion 4, but the front surface 6a and the back surface 6b of the wiring board 6 are not gripped by the arm portion 4a of the transport portion 4. The back surface 6b of the wiring board 6 is in contact with the molten solder 14, whereas the front surface 6a of the wiring board 6 is not in contact with the molten solder 14. The temperature of the back surface 6b of the wiring board 6 is higher than the temperature of the front surface 6a of the wiring board 6. Due to the temperature difference between the front surface 6a and the back surface 6b of the wiring board 6, the wiring board 6 tends to warp so as to project toward the nozzle 12a. The member 31d can prevent the wiring board 6 from warping when it comes into contact with the back surface 6b of the wiring board 6.

図11及び図16から図21を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 16 to 21. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.

本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)は、図16から図20に示されるように、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させることを含む。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S11) means that at least the member 31d is formed as shown in FIGS. 16 to 20. This includes vibrating the member 31d along the surface of the molten solder 14 while immersing a part in the molten solder 14.

溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15(はんだ自然酸化膜)が形成されている。部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させると、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図16を参照)をより多く拡散反射しやすい。 A solder oxide film 15 (solder natural oxide film) is formed on the surface of the molten solder 14. When the member 31d is vibrated along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31d in the molten solder 14, the solder oxide film 15 folds over and onto the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. , The diffuse reflection region 16 is formed. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15. Therefore, the diffuse reflection film 15a is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 16) than the solder oxide film 15.

測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。配線基板6が部材31dに接触していないときに、拡散反射領域16を形成し(S11)、かつ、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。 The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 measures the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (S12). When the wiring board 6 is not in contact with the member 31d, the diffuse reflection region 16 is formed (S11), and the first surface shape of the diffuse reflection region 16 is measured (S12).

本実施の形態のはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって部品7を配線基板6にはんだ付けする(S30)工程において、配線基板6の裏面6bが部材31dに接触しながら、配線基板6は搬送される。部材31dは、配線基板6が反ることを防止し得る。 In the soldering method of the present embodiment, in the step of soldering the component 7 to the wiring board 6 by the molten solder 14 ejected from the nozzle 12a (S30), the back surface 6b of the wiring board 6 is in contact with the member 31d for wiring. The substrate 6 is conveyed. The member 31d can prevent the wiring board 6 from warping.

本実施の形態のはんだ付け装置1d及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1d及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1d and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering device 1d and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering device 1 and the soldering method of the first embodiment.

本実施の形態のはんだ付け装置1dでは、拡散反射領域形成部30dは、部材31dと、振動子32dとを含む。振動子32dは、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させるように構成されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1dは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1d of the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30d includes a member 31d and an oscillator 32d. The vibrator 32d is configured to vibrate the member 31d along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31d in the molten solder 14. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The soldering apparatus 1d of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1dでは、部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)に沿って延在している。部材31dは、対象物(配線基板6)の裏面6bに接触するように構成されている。裏面6bは、溶融はんだ14に対向するはんだ付けされる対象物(配線基板6)の面である。部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の裏面6bに接触して、はんだ付けされる対象物(配線基板6)が反ることを防止し得る。本実施の形態のはんだ付け装置1dは、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1d of the present embodiment, the member 31d extends along the transport direction (x direction) of the object to be soldered (wiring board 6). The member 31d is configured to come into contact with the back surface 6b of the object (wiring board 6). The back surface 6b is the surface of the object to be soldered (wiring board 6) facing the molten solder 14. The member 31d can prevent the object to be soldered (wiring board 6) from warping when it comes into contact with the back surface 6b of the object to be soldered (wiring board 6). The soldering apparatus 1d of this embodiment enables more appropriate (better) soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成することは、部材31dの少なくとも一部を溶融はんだ14に浸漬させながら、溶融はんだ14の表面に沿って部材31dを振動させることを含む。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 means that the member 31d is vibrated along the surface of the molten solder 14 while immersing at least a part of the member 31d in the molten solder 14. Including. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)に沿って延在している。はんだ付けされる対象物(配線基板6)の裏面6bが部材31dに接触しながら、はんだ付けされる対象物(配線基板6)は搬送される。裏面6bは、溶融はんだ14に対向するはんだ付けされる対象物(配線基板6)の面である。部材31dは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)が反ることを防止し得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, the member 31d extends along the transport direction (x direction) of the object to be soldered (wiring board 6). The object to be soldered (wiring board 6) is conveyed while the back surface 6b of the object to be soldered (wiring board 6) is in contact with the member 31d. The back surface 6b is the surface of the object to be soldered (wiring board 6) facing the molten solder 14. The member 31d can prevent the object to be soldered (wiring board 6) from warping. The soldering method of this embodiment enables more appropriate (better) soldering.

実施の形態5.
図22から図27を参照して、実施の形態5に係るはんだ付け装置1eを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1eは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 5.
The soldering apparatus 1e according to the fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 22 to 27. The soldering apparatus 1e of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment, but is mainly different in the following points.

はんだ付け装置1eは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30に代えて、拡散反射領域形成部30eを備えている。拡散反射領域形成部30eは、2つの静止部材36を含む。静止部材36は、例えば、搬送部4に取り付けられている。一方の静止部材36は、配線基板6の搬送方向(x方向)におけるノズル12aの開口12bの中心線12m(図23を参照)に対して、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。他方の静止部材36は、ノズル12aの開口12bの中心線12mに対して、配線基板6の搬送方向(x方向)の上流側に配置されている。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されるように、静止部材36はノズル12aの上方に配置されている。静止部材36の残部は、溶融はんだ14から露出している。 The soldering apparatus 1e includes a diffuse reflection region forming portion 30e instead of the diffuse reflection region forming portion 30 of the first embodiment. The diffuse reflection region forming portion 30e includes two stationary members 36. The stationary member 36 is attached to, for example, the transport unit 4. One stationary member 36 is on the downstream side of the wiring board 6 in the transport direction (x direction) with respect to the center line 12 m (see FIG. 23) of the opening 12b of the nozzle 12a in the transport direction (x direction) of the wiring board 6. Is located in. The other stationary member 36 is arranged on the upstream side of the wiring board 6 in the transport direction (x direction) with respect to the center line 12 m of the opening 12b of the nozzle 12a. The stationary member 36 is arranged above the nozzle 12a so that a part of the stationary member 36 is immersed in the molten solder 14. The rest of the stationary member 36 is exposed from the molten solder 14.

配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材36がはんだ付けを妨げることが防止される。静止部材36は、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は、例えば、長方形の形状を有している。配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は、多角形の形状を有してもよいし、円形の形状を有してもよいし、流線形の形状を有してもよい。 The stationary member 36 is arranged outside the transport path of the wiring board 6 in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6. Therefore, it is prevented that the stationary member 36 interferes with soldering. The stationary member 36 is made of a material that is difficult to dissolve in the molten solder 14, such as SUS316 or titanium. In a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6, the stationary member 36 has, for example, a rectangular shape. In a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6, the stationary member 36 may have a polygonal shape, a circular shape, or a circular shape. It may have a streamlined shape.

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、図22から図25に示されるように、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、溶融はんだ14が、このガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。 The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is exposed to a gas containing oxygen (for example, air). Therefore, as shown in FIGS. 22 to 25, the solder oxide film 15 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The solder oxide film 15 is a natural oxide film of solder formed by contacting the molten solder 14 with this gas.

静止部材36の周りで、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16が形成される理由は、溶融はんだ14が静止部材36に沿って流れる際、溶融はんだ14は静止部材36に接触し、溶融はんだ14の流れは静止部材36の周りで乱れ、静止部材36の周りで溶融はんだ14の流速が減少するためであると推測される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含み、拡散反射領域形成部30eは拡散反射膜形成部である。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図22を参照)をより多く拡散反射しやすい。測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。 The solder oxide film 15 is folded around the stationary member 36, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The reason why the diffuse reflection region 16 is formed is that when the molten solder 14 flows along the stationary member 36, the molten solder 14 comes into contact with the stationary member 36, and the flow of the molten solder 14 is disturbed around the stationary member 36 and is stationary. It is presumed that this is because the flow velocity of the molten solder 14 decreases around the member 36. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film, and the diffuse reflection region forming portion 30e is a diffuse reflection film forming portion. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15. Therefore, the diffuse reflection film 15a is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 22) than the solder oxide film 15. The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 can measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16.

図11及び図22から図27を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 22 to 27. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.

本実施の形態に係るはんだ付け方法では、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aの上方に配置された静止部材36に沿って溶融はんだ14を流すことを含む。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されている。静止部材36に沿って溶融はんだ14を流すことによって、静止部材36の周りで、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。そのため、拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図16を参照)をより多く拡散反射しやすい。 In the soldering method according to the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S11) is along the stationary member 36 arranged above the nozzle 12a. Includes flowing molten solder 14. A part of the stationary member 36 is immersed in the molten solder 14. By flowing the molten solder 14 along the stationary member 36, the solder oxide film 15 is folded around the stationary member 36, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. .. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15. Therefore, the diffuse reflection film 15a is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 16) than the solder oxide film 15.

測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。 The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 measures the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (S12).

本実施の形態に係るはんだ付け方法では、配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材36がはんだ付けを妨げることが防止される。 In the soldering method according to the present embodiment, the stationary member 36 is arranged outside the transport path of the wiring board 6 in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6. .. Therefore, it is prevented that the stationary member 36 interferes with soldering.

図26を参照して、本実施の形態の第1変形例では、拡散反射領域形成部30eは、1つの静止部材36を含んでもよい。拡散反射領域形成部30eは、3つ以上の静止部材36を含んでもよい。 With reference to FIG. 26, in the first modification of the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30e may include one stationary member 36. The diffuse reflection region forming portion 30e may include three or more stationary members 36.

図27を参照して、本実施の形態の第2変形例では、静止部材36は、静止部材36の中央部がノズル12aに向かって突出するように曲げられた形状を有している。溶融はんだ14の表面の高さ(z方向の位置)が変化しても、溶融はんだ14の表面が静止部材36に接触し続けることができるため、静止部材36の周りに拡散反射領域16が安定的に形成され得る。 With reference to FIG. 27, in the second modification of the present embodiment, the stationary member 36 has a shape in which the central portion of the stationary member 36 is bent so as to project toward the nozzle 12a. Even if the height (position in the z direction) of the surface of the molten solder 14 changes, the surface of the molten solder 14 can continue to be in contact with the stationary member 36, so that the diffuse reflection region 16 is stable around the stationary member 36. Can be formed

本実施の形態の第3変形例では、静止部材36の周りに、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15c(図15)が形成されてもよく、拡散反射領域16は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15c(図15)を含んでもよい。 In the third modification of the present embodiment, the diffuse reflection film 15c (FIG. 15) which is a solder oxide thick film may be formed around the stationary member 36, and the diffuse reflection region 16 is a solder oxide thick film. A diffuse reflective film 15c (FIG. 15) may be included.

本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1e and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering apparatus 1e and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering apparatus 1 and the soldering method of the first embodiment.

本実施の形態に係るはんだ付け装置1eでは、拡散反射領域形成部30eは、静止部材36を含む。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されるように静止部材36はノズル12aの上方に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1eは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1e according to the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30e includes the stationary member 36. The stationary member 36 is arranged above the nozzle 12a so that a part of the stationary member 36 is immersed in the molten solder 14. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The soldering apparatus 1e of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態に係るはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aの上方に配置された静止部材36に沿って溶融はんだ14を流すことを含む。静止部材36の一部が溶融はんだ14に浸漬されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method according to the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) includes flowing the molten solder 14 along the stationary member 36 arranged above the nozzle 12a. A part of the stationary member 36 is immersed in the molten solder 14. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態に係るはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法では、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、静止部材36は対象物(配線基板6)の搬送経路の外側に配置されている。そのため、静止部材36がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1e and the soldering method according to the present embodiment, the stationary member 36 is viewed in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the object to be soldered (wiring board 6). It is arranged outside the transport path of the object (soldering board 6). Therefore, it is prevented that the stationary member 36 interferes with soldering. The soldering apparatus 1e and the soldering method of the present embodiment are more appropriate (using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows for better) soldering.

本実施の形態に係るはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法では、静止部材36は、静止部材36の中央部がノズル12aに向かって突出するように曲げられた形状を有している。溶融はんだ14の表面の高さ(z方向の位置)が変化しても、溶融はんだ14の表面が静止部材36に接触し続けることができるため、静止部材36の周りに拡散反射領域16が安定的に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1e及びはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering device 1e and the soldering method according to the present embodiment, the stationary member 36 has a shape in which the central portion of the stationary member 36 is bent so as to project toward the nozzle 12a. Even if the height (position in the z direction) of the surface of the molten solder 14 changes, the surface of the molten solder 14 can continue to be in contact with the stationary member 36, so that the diffuse reflection region 16 is stable around the stationary member 36. Can be formed The soldering apparatus 1e and the soldering method of the present embodiment are more appropriate (using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows for better) soldering.

実施の形態6.
図28から図32を参照して、実施の形態6に係るはんだ付け装置1fを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1fは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 6.
The soldering apparatus 1f according to the sixth embodiment will be described with reference to FIGS. 28 to 32. The soldering device 1f of the present embodiment has the same configuration as the soldering device 1 of the first embodiment, but is mainly different in the following points.

はんだ付け装置1fでは、実施の形態1の拡散反射領域形成部30が省略されている。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側(+x方向)に配置されている。 In the soldering apparatus 1f, the diffuse reflection region forming portion 30 of the first embodiment is omitted. The measuring unit 20 is arranged on the downstream side (+ x direction) of the wiring board 6 in the transport direction (x direction) from the nozzle 12a.

図28から図30を参照して、拡散反射領域16は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。配線基板6の前側面6fは、配線基板6の搬送方向側にある配線基板6の側面である。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。 With reference to FIGS. 28 to 30, the diffuse reflection region 16 is formed by contacting a part of the wiring board 6 (for example, the back surface 6b or the front side surface 6f of the wiring board 6) with the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. It is formed. The front side surface 6f of the wiring board 6 is a side surface of the wiring board 6 on the transport direction side of the wiring board 6. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film.

具体的には、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15が形成されている。はんだ酸化膜15は、溶融はんだ14が、このガスに接触することによって形成される、はんだの自然酸化膜である。 Specifically, the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is exposed to a gas containing oxygen (for example, air). Therefore, the solder oxide film 15 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The solder oxide film 15 is a natural oxide film of solder formed by contacting the molten solder 14 with this gas.

搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6の一部が溶融はんだ14の表面に接触する。そのため、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図22を参照)をより多く拡散反射しやすい。測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されているため、配線基板6に妨げられることなく、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。 While the wiring board 6 is transported by the transport unit 4, a part of the wiring board 6 comes into contact with the surface of the molten solder 14. Therefore, the solder oxide film 15 is folded over, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15. The diffuse reflection film 15a is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 22) than the solder oxide film 15. The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 can measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16. Since the measuring unit 20 is arranged downstream of the nozzle 12a in the transport direction (x direction) of the wiring board 6, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 is formed without being hindered by the wiring board 6. Can be measured.

図29、図31及び図32を参照して、拡散反射領域16sは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の少なくとも一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。拡散反射領域16sは、配線基板6に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。 With reference to FIGS. 29, 31 and 32, in the diffuse reflection region 16s, at least a part of the wiring board 6 (for example, the back surface 6b or the front side surface 6f of the wiring board 6) is formed on the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. It is formed by contact. The diffuse reflection region 16s includes a diffuse reflection film 46 composed of a flux residue adhering to the wiring board 6.

具体的には、図29に示されるように、搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6の裏面6bまたは前側面6fが溶融はんだ14の表面に接触する。図31及び図32に示されるように、配線基板6に付着していたフラックスの残渣が、はんだ酸化膜15の一部を溶かして、溶融はんだ14の表面に残留する。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16sが形成される。拡散反射領域16sは、配線基板6に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。フラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46ははんだ酸化膜15よりも厚いため、拡散反射膜46は、はんだ酸化膜15よりも、光22(図31を参照)をより多く拡散反射しやすい。 Specifically, as shown in FIG. 29, the back surface 6b or the front side surface 6f of the wiring board 6 comes into contact with the surface of the molten solder 14 while the wiring board 6 is conveyed by the conveying unit 4. As shown in FIGS. 31 and 32, the flux residue adhering to the wiring board 6 dissolves a part of the solder oxide film 15 and remains on the surface of the molten solder 14. A diffuse reflection region 16s is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16s includes a diffuse reflection film 46 composed of a flux residue adhering to the wiring board 6. Since the diffuse reflection film 46 composed of the flux residue is thicker than the solder oxide film 15, the diffuse reflection film 46 is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 31) than the solder oxide film 15.

測定部20は、拡散反射領域16sにおいて拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16sの第1の表面形状を測定することができる。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、配線基板6sに続いて搬送部4によって搬送される別の配線基板6s(図31を参照)に搭載されている部品7がより適切に(より良好に)はんだ付けされる。 The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16s. In this way, the measuring unit 20 can measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16s. Using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16s corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a, another wiring board 6s (6s) which is conveyed by the conveying unit 4 following the wiring board 6s ( The component 7 mounted (see FIG. 31) is soldered more appropriately (better).

図28から図33を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 28 to 33. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)を接触させることを含む。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) means that a part of the wiring board 6 (for example, the back surface 6b or the front side surface of the wiring board 6) is formed on the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. 6f) includes contacting. The measuring unit 20 is arranged on the downstream side of the wiring board 6 in the transport direction (x direction) with respect to the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film.

溶融はんだ14の表面上に、はんだ酸化膜15(はんだ自然酸化膜)が形成されている。搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6の一部が溶融はんだ14の表面に接触する。そのため、はんだ酸化膜15が折り重なって、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。拡散反射膜15aは、例えば、はんだ酸化膜15の一部が寄せ集められて形成された、しわ状のはんだ酸化膜である。拡散反射膜15aは、はんだ酸化膜15よりも、光22(図22を参照)をより多く拡散反射しやすい。 A solder oxide film 15 (solder natural oxide film) is formed on the surface of the molten solder 14. While the wiring board 6 is transported by the transport unit 4, a part of the wiring board 6 comes into contact with the surface of the molten solder 14. Therefore, the solder oxide film 15 is folded over, and a diffuse reflection region 16 is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The diffuse reflection film 15a is, for example, a wrinkled solder oxide film formed by gathering a part of the solder oxide film 15. The diffuse reflection film 15a is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 22) than the solder oxide film 15.

測定部20は、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定する(S12)。測定部20は、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されているため、配線基板6に妨げられることなく、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。 The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 measures the first surface shape of the diffuse reflection region 16 (S12). Since the measuring unit 20 is arranged downstream of the nozzle 12a in the transport direction (x direction) of the wiring board 6, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 is formed without being hindered by the wiring board 6. Can be measured.

本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に拡散反射領域16sを形成すること(S31)と、測定部20によって拡散反射領域16sの第1の表面形状を測定すること(S32)と、ノズル12aを含む噴流部10を制御すること(S33、S34)をさらに備える。噴流部10を制御すること(S33、S34)は、拡散反射領域16sの第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S33)と、拡散反射領域16sの第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S34)とを含む。 In the soldering method of the present embodiment, the diffuse reflection region 16s is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S31), and the first surface shape of the diffuse reflection region 16s is formed by the measuring unit 20. It further includes measuring (S32) and controlling the jet unit 10 including the nozzle 12a (S33, S34). Controlling the jet portion 10 (S33, S34) compares the first surface shape of the diffuse reflection region 16s with the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. This includes (S33) and controlling the jet unit 10 based on the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16s and the first shape reference data (S34).

具体的には、図29に示されるように、搬送部4によって配線基板6が搬送されながら、配線基板6一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が溶融はんだ14の表面に接触する。図31及び図32に示されるように、配線基板6に付着していたフラックスの残渣が、はんだ酸化膜15の一部を溶かして、溶融はんだ14の表面に残留する。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面上に、拡散反射領域16sが形成される(S31)。すなわち、拡散反射領域16sを形成すること(S31)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14に配線基板6の少なくとも一部を接触させることを含む。拡散反射領域16sは、配線基板6に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。フラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46ははんだ酸化膜15よりも厚いため、拡散反射膜46は、はんだ酸化膜15よりも、光22(図31を参照)をより多く拡散反射しやすい。 Specifically, as shown in FIG. 29, while the wiring board 6 is transported by the transport unit 4, a part of the wiring board 6 (for example, the back surface 6b or the front side surface 6f of the wiring board 6) is the surface of the molten solder 14. Contact. As shown in FIGS. 31 and 32, the flux residue adhering to the wiring board 6 dissolves a part of the solder oxide film 15 and remains on the surface of the molten solder 14. A diffuse reflection region 16s is formed on the surface of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S31). That is, forming the diffuse reflection region 16s (S31) includes bringing at least a part of the wiring board 6 into contact with the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. The diffuse reflection region 16s includes a diffuse reflection film 46 composed of a flux residue adhering to the wiring board 6. Since the diffuse reflection film 46 composed of the flux residue is thicker than the solder oxide film 15, the diffuse reflection film 46 is more likely to diffuse and reflect light 22 (see FIG. 31) than the solder oxide film 15.

測定部20は、拡散反射領域16sにおいて拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16sの第1の表面形状を測定する(S32)。 The measuring unit 20 detects the diffusely reflected light 22 in the diffuse reflection region 16s. In this way, the measuring unit 20 measures the first surface shape of the diffuse reflection region 16s (S32).

拡散反射領域16sの第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S33)は、拡散反射領域16の第1の表面形状とノズル12aから噴流する溶融はんだ14の第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較すること(S13)と同様である。拡散反射領域16sの第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S34)は、拡散反射領域16の第1の表面形状と第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて噴流部10を制御すること(S14)と同様である。 Comparing the first surface shape of the diffuse reflection region 16s with the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S33) is the first of the diffuse reflection region 16. It is the same as comparing the surface shape of the above with the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (S13). Controlling the jet portion 10 based on the comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region 16s and the first shape reference data (S34) is the first surface shape and the first surface shape of the diffuse reflection region 16. It is the same as controlling the jet unit 10 based on the comparison result with the shape reference data of 1 (S14).

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって、部品7を別の配線基板6sにはんだ付けすること(S40)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14によって、部品7を配線基板6にはんだ付けすること(S30)と同様である。別の配線基板6sは、配線基板6sに続いて搬送部4によって搬送される。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、別の配線基板6sに搭載されている部品7がより適切に(より良好に)はんだ付けされる。 Soldering the component 7 to another wiring board 6s by the molten solder 14 ejected from the nozzle 12a (S40) means soldering the component 7 to the wiring board 6 by the molten solder 14 ejected from the nozzle 12a (S40). It is the same as S30). Another wiring board 6s is conveyed by the transfer unit 4 following the wiring board 6s. Using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16s corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a, the component 7 mounted on another wiring board 6s is more appropriately (better). To be soldered.

本実施の形態では、拡散反射領域16の第1表面形状と拡散反射領域16sの第1表面形状とは、同一の測定部20を用いて測定されているが、拡散反射領域16sの第1表面形状は、測定部20とは別の測定部(図示せず)を用いて測定されてもよい。この別の測定部は、測定部20と同じ構成を有しているが、ノズル12aよりも、配線基板6の搬送方向(x方向)の下流側に配置されていなくてもよい。 In the present embodiment, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 and the first surface shape of the diffuse reflection region 16s are measured using the same measuring unit 20, but the first surface of the diffuse reflection region 16s. The shape may be measured using a measuring unit (not shown) different from the measuring unit 20. This other measuring unit has the same configuration as the measuring unit 20, but may not be arranged downstream of the nozzle 12a in the transport direction (x direction) of the wiring board 6.

本実施の形態のはんだ付け装置1f及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1f及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1f and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering device 1f and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering device 1 and the soldering method of the first embodiment.

本実施の形態のはんだ付け装置1fでは、拡散反射領域16は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。測定部20は、ノズル12aよりも、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1fは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1f of the present embodiment, in the diffuse reflection region 16, a part of the object to be soldered to the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (for example, the back surface 6b or the front surface 6f of the wiring board 6) is It is formed by contact. The measuring unit 20 is arranged downstream of the nozzle 12a in the transport direction (x direction) of the object to be soldered (wiring board 6). The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. The soldering apparatus 1f of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1fでは、拡散反射領域16sは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の少なくとも一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)が接触することによって形成されている。拡散反射領域16sは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。本実施の形態のはんだ付け装置1fは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1f of the present embodiment, the diffuse reflection region 16s is at least a part of the object to be soldered to the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (for example, the back surface 6b or the front surface 6f of the wiring board 6). Is formed by contact. The diffuse reflection region 16s includes a diffuse reflection film 46 composed of flux residues adhering to the object to be soldered (wiring substrate 6). The soldering apparatus 1f of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16s corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)を接触させることを含む。測定部20は、ノズル12aよりも、はんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送方向(x方向)の下流側に配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜15aを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) is a part of the object to be soldered to the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (for example, the back surface 6b of the wiring board 6). Alternatively, it includes contacting the front side surface 6f). The measuring unit 20 is arranged downstream of the nozzle 12a in the transport direction (x direction) of the object to be soldered (wiring board 6). The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15a formed of a solder oxide film. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16sを形成すること(S31)は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14にはんだ付けされる対象物の少なくとも一部(例えば、配線基板6の裏面6bまたは前側面6f)を接触させることを含む。拡散反射領域16sは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜46を含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16sの第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16s (S31) means that at least a part of the object to be soldered to the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a (for example, the back surface of the wiring board 6). 6b or front side surface 6f) is included in contact. The diffuse reflection region 16s includes a diffuse reflection film 46 composed of flux residues adhering to the object to be soldered (wiring substrate 6). In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16s corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

実施の形態7.
図34から図39を参照して、実施の形態7に係るはんだ付け装置1gを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 7.
The soldering apparatus 1g according to the seventh embodiment will be described with reference to FIGS. 34 to 39. The soldering apparatus 1g of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment, but is mainly different in the following points.

はんだ付け装置1gでは、拡散反射領域形成部30gは、ノズル12a内に設けられた筒部材37を含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。具体的には、筒部材37は、流入口37iと、上端開口37jとを有している。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、流入口37iから筒部材37の内部に流れる。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、筒部材37の外部にも流れる。筒部材37の上端開口37jは、溶融はんだ14から露出している。筒部材37は、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。 In the soldering apparatus 1g, the diffuse reflection region forming portion 30g includes a tubular member 37 provided in the nozzle 12a. The tubular member 37 is arranged so that the diffuse reflection region 16 is formed inside the tubular member 37. Specifically, the tubular member 37 has an inflow port 37i and an upper end opening 37j. The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a flows from the inflow port 37i into the inside of the tubular member 37. The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a also flows to the outside of the tubular member 37. The upper end opening 37j of the tubular member 37 is exposed from the molten solder 14. The tubular member 37 is made of a material that is difficult to dissolve in the molten solder 14, such as SUS316 or titanium.

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面は、絶えず揺らいでいる。筒部材37の内部は、筒部材37によって取り囲まれている。そのため、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎは、筒部材37の外部における溶融はんだ14の表面の揺らぎよりも小さくなる。また、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、筒部材37の外部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15が形成されるが、筒部材37の内部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜が形成される。測定部20から出射される光22をはんだ酸化厚膜に照射すると、はんだ酸化厚膜において、光22の干渉縞が形成されて、より多くの割合の光22が拡散反射する。こうして、はんだ酸化厚膜は、拡散反射膜15cとして機能する。拡散反射領域16は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cを含む。 The surface of the molten solder 14 jetting from the nozzle 12a is constantly swaying. The inside of the tubular member 37 is surrounded by the tubular member 37. Therefore, the fluctuation of the surface of the molten solder 14 inside the tubular member 37 is smaller than the fluctuation of the surface of the molten solder 14 outside the tubular member 37. Further, the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is exposed to a gas containing oxygen (for example, air). Therefore, the solder oxide film 15 is formed on the surface of the molten solder 14 outside the tubular member 37, but inside the tubular member 37, the solder oxide thickness is thicker than that of the solder oxide film 15 on the surface of the molten solder 14. A film is formed. When the solder oxide thick film is irradiated with the light 22 emitted from the measuring unit 20, interference fringes of the light 22 are formed in the solder oxide thick film, and a larger proportion of the light 22 is diffusely reflected. In this way, the solder oxide thick film functions as a diffuse reflection film 15c. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15c which is a thick solder oxide film.

測定部20は、筒部材37の上端開口37jから光22を入射させて、拡散反射領域16において拡散反射された光22を検出する。こうして、測定部20は、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定することができる。 The measuring unit 20 incidents light 22 from the upper end opening 37j of the tubular member 37 and detects the light 22 diffusely reflected in the diffuse reflection region 16. In this way, the measuring unit 20 can measure the first surface shape of the diffuse reflection region 16.

はんだ付け装置1gでは、配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。筒部材37は、例えば、ノズル12aの開口12bの中に配置されている。複数の筒部材37が、はんだ付け装置1gに設けられてもよい。複数の筒部材37は、溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に沿って配置されてもよい。複数の筒部材37は、溶融はんだ14がノズル12aから流れ出す方向(x方向)に交差する幅方向(y方向)に沿って配置されてもよい。筒部材37は、例えば、円筒部材である。筒部材37は、角筒部材であってもよいし、楕円筒部材であってもよい。 In the soldering apparatus 1g, the tubular member 37 is arranged outside the transport path of the wiring board 6 in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6. Therefore, it is prevented that the tubular member 37 interferes with soldering. The tubular member 37 is arranged, for example, in the opening 12b of the nozzle 12a. A plurality of tubular members 37 may be provided in the soldering apparatus 1 g. The plurality of tubular members 37 may be arranged along the direction (x direction) in which the molten solder 14 flows out from the nozzle 12a. The plurality of tubular members 37 may be arranged along the width direction (y direction) at which the molten solder 14 intersects the direction (x direction) in which the molten solder 14 flows out from the nozzle 12a. The tubular member 37 is, for example, a cylindrical member. The tubular member 37 may be a square tubular member or an elliptical tubular member.

図36及び図37を参照して、拡散反射領域形成部30gは、溶融はんだ14の流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材38をさらに含んでもよい。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の流入口37iに設けられている。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部に流れ込む溶融はんだ14に圧力損失を与えて、溶融はんだ14の流れ圧力を低減させるように構成されている。そのため、流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎを減少させる。はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。流れ圧力低減部材38は、SUS316またはチタンのような溶融はんだ14に溶けにくい材料で構成されている。 With reference to FIGS. 36 and 37, the diffuse reflection region forming portion 30g may further include a flow pressure reducing member 38 that reduces the flow pressure of the molten solder 14. The flow pressure reducing member 38 is provided at the inflow port 37i of the tubular member 37. The flow pressure reducing member 38 is configured to give a pressure loss to the molten solder 14 flowing into the tubular member 37 to reduce the flow pressure of the molten solder 14. Therefore, the flow pressure reducing member 38 reduces the fluctuation of the surface of the molten solder 14 inside the tubular member 37. The diffuse reflection film 15c, which is a thick solder oxide film, can be formed more reliably in a shorter time. The flow pressure reducing member 38 is made of a material that is difficult to dissolve in the molten solder 14, such as SUS316 or titanium.

図36及び図37に示されるように、流れ圧力低減部材38は、溶融はんだ14が流れる複数の微小貫通穴39aを有する板部材39b(例えば、パンチングメタル構造を有する板部材)で構成されてもよい。図38及び図39に示されるように、流れ圧力低減部材38は、複数の板部材39dで構成されてもよい。複数の板部材39dは、筒部材37の内部に、筒部材37の長手方向(z方向)に沿って千鳥状に配置されている。複数の板部材39dの各々は、筒部材37の内径よりも小さなサイズを有しており、複数の板部材39dの各々と筒部材37の内壁との間に、溶融はんだ14が流れる隙間が形成されている。 As shown in FIGS. 36 and 37, the flow pressure reducing member 38 may be composed of a plate member 39b (for example, a plate member having a punching metal structure) having a plurality of minute through holes 39a through which the molten solder 14 flows. Good. As shown in FIGS. 38 and 39, the flow pressure reducing member 38 may be composed of a plurality of plate members 39d. The plurality of plate members 39d are arranged inside the tubular member 37 in a staggered manner along the longitudinal direction (z direction) of the tubular member 37. Each of the plurality of plate members 39d has a size smaller than the inner diameter of the tubular member 37, and a gap through which the molten solder 14 flows is formed between each of the plurality of plate members 39d and the inner wall of the tubular member 37. Has been done.

図11及び図34から図39を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備えるが、以下の点で異なる。 The soldering method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 34 to 39. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment, but differs in the following points.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12a内に設けられた筒部材37の内部に溶融はんだ14を流すことを含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。具体的には、筒部材37は、流入口37iと、上端開口37jとを有している。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、流入口37iから筒部材37の内部に流れる。ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、筒部材37の外部にも流れる。筒部材37の上端開口37jは、溶融はんだ14から露出している。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) includes flowing the molten solder 14 into the tubular member 37 provided in the nozzle 12a. The tubular member 37 is arranged so that the diffuse reflection region 16 is formed inside the tubular member 37. Specifically, the tubular member 37 has an inflow port 37i and an upper end opening 37j. The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a flows from the inflow port 37i into the inside of the tubular member 37. The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a also flows to the outside of the tubular member 37. The upper end opening 37j of the tubular member 37 is exposed from the molten solder 14.

ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面は、絶えず揺らいでいる。筒部材37の内部は、筒部材37によって取り囲まれている。そのため、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎは、筒部材37の外部における溶融はんだ14の表面の揺らぎよりも小さくなる。そして、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14は、酸素を含むガス(例えば、空気)に曝されている。そのため、筒部材37の外部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15が形成されるが、筒部材37の内部では、溶融はんだ14の表面上にはんだ酸化膜15よりも厚いはんだ酸化厚膜が形成される。拡散反射領域16は、はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cを含む。 The surface of the molten solder 14 jetting from the nozzle 12a is constantly swaying. The inside of the tubular member 37 is surrounded by the tubular member 37. Therefore, the fluctuation of the surface of the molten solder 14 inside the tubular member 37 is smaller than the fluctuation of the surface of the molten solder 14 outside the tubular member 37. The molten solder 14 jetted from the nozzle 12a is exposed to a gas containing oxygen (for example, air). Therefore, the solder oxide film 15 is formed on the surface of the molten solder 14 outside the tubular member 37, but inside the tubular member 37, the solder oxide thickness is thicker than that of the solder oxide film 15 on the surface of the molten solder 14. A film is formed. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15c which is a thick solder oxide film.

本実施の形態のはんだ付け方法では、配線基板6に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37は配線基板6の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。 In the soldering method of the present embodiment, the tubular member 37 is arranged outside the transport path of the wiring board 6 in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the wiring board 6. Therefore, it is prevented that the tubular member 37 interferes with soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、流れ圧力低減部材38を用いて、筒部材37に流入する溶融はんだ14の流れ圧力を低減させることをさらに含む。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部に流れ込む溶融はんだ14の流れ圧力を低減させる。流れ圧力低減部材38は、筒部材37の内部における溶融はんだ14の表面の揺らぎを減少させる。はんだ酸化厚膜である拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) further reduces the flow pressure of the molten solder 14 flowing into the tubular member 37 by using the flow pressure reducing member 38. Including. The flow pressure reducing member 38 reduces the flow pressure of the molten solder 14 flowing into the inside of the tubular member 37. The flow pressure reducing member 38 reduces the fluctuation of the surface of the molten solder 14 inside the tubular member 37. The diffuse reflection film 15c, which is a thick solder oxide film, can be formed more reliably in a shorter time.

本実施の形態のはんだ付け装置1g及びはんだ付け方法の効果を説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1g及びはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け装置1及びはんだ付け方法と同様の以下の効果を奏する。 The effects of the soldering apparatus 1g and the soldering method of the present embodiment will be described. The soldering device 1g and the soldering method of the present embodiment have the same effects as those of the soldering device 1 and the soldering method of the first embodiment.

本実施の形態のはんだ付け装置1gでは、拡散反射領域形成部30gは、ノズル12a内に設けられた筒部材37を含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜(はんだ酸化厚膜)によって構成される拡散反射膜15cを含む。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1g of the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30g includes a tubular member 37 provided in the nozzle 12a. The tubular member 37 is arranged so that the diffuse reflection region 16 is formed inside the tubular member 37. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15c formed of a solder oxide film (solder oxide thick film). The soldering apparatus 1g of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1gでは、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37ははんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering device 1g of the present embodiment, the tubular member 37 is the object to be soldered in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the object to be soldered (wiring board 6). It is arranged outside the transport path of the object (soldering board 6). Therefore, it is prevented that the tubular member 37 interferes with soldering. The soldering apparatus 1g of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け装置1gでは、拡散反射領域形成部30gは、溶融はんだ14の流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材38をさらに含む。筒部材37は、溶融はんだ14が流入する流入口37iを有している。流れ圧力低減部材38は、流入口37iに設けられている。そのため、拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1gは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering apparatus 1g of the present embodiment, the diffuse reflection region forming portion 30g further includes a flow pressure reducing member 38 that reduces the flow pressure of the molten solder 14. The tubular member 37 has an inflow port 37i into which the molten solder 14 flows. The flow pressure reducing member 38 is provided at the inflow port 37i. Therefore, the diffuse reflection film 15c can be formed in a shorter time and more reliably. The soldering apparatus 1g of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、ノズル12a内に設けられた筒部材37の内部に溶融はんだ14を流すことを含む。筒部材37の内部に拡散反射領域16が形成されるように、筒部材37は配置されている。拡散反射領域16は、はんだ酸化膜(はんだ酸化厚膜)によって構成される拡散反射膜15cを含む。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) includes flowing the molten solder 14 into the tubular member 37 provided in the nozzle 12a. The tubular member 37 is arranged so that the diffuse reflection region 16 is formed inside the tubular member 37. The diffuse reflection region 16 includes a diffuse reflection film 15c formed of a solder oxide film (solder oxide thick film). In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、はんだ付けされる対象物(配線基板6)に向けてノズル12aが突出する方向(z方向)からの平面視において、筒部材37ははんだ付けされる対象物(配線基板6)の搬送経路の外側に配置されている。そのため、筒部材37がはんだ付けを妨げることが防止される。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, the tubular member 37 is the object to be soldered in a plan view from the direction (z direction) in which the nozzle 12a protrudes toward the object to be soldered (wiring board 6). It is arranged outside the transport path of (wiring board 6). Therefore, it is prevented that the tubular member 37 interferes with soldering. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

本実施の形態のはんだ付け方法では、拡散反射領域16を形成すること(S11)は、筒部材37に流入する溶融はんだ14の流れ圧力を低減させることをさらに含む。そのため、拡散反射膜15cがより短時間でかつより確実に形成され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 In the soldering method of the present embodiment, forming the diffuse reflection region 16 (S11) further includes reducing the flow pressure of the molten solder 14 flowing into the tubular member 37. Therefore, the diffuse reflection film 15c can be formed in a shorter time and more reliably. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

実施の形態8.
図40を参照して、実施の形態8に係るはんだ付け装置1hを説明する。本実施の形態のはんだ付け装置1hは、実施の形態1のはんだ付け装置1と同様の構成を備え、同様の効果を奏するが、主に以下の点で異なる。
Embodiment 8.
The soldering apparatus 1h according to the eighth embodiment will be described with reference to FIG. 40. The soldering apparatus 1h of the present embodiment has the same configuration as the soldering apparatus 1 of the first embodiment and exhibits the same effect, but is mainly different in the following points.

はんだ付け装置1hは、送風部50をさらに備える。送風部50は、測定部20に向けて送風するように構成されている。送風部50は、配線基板6の搬送経路に平行に送風してもよい。送風部50は、例えば、軸流ファン、遠心ファン、斜流ファンまたは横流ファンである。溶融はんだ14からの輻射熱に起因して、測定部20の温度が過度に上昇して、測定部20が故障または誤動作することがある。送風部50は、測定部20に向けて送風することによって、測定部20を冷却して、測定部20が故障または誤動作することを防止する。さらに、送風部50は、筐体3内に舞っているフラックスの残渣の粉じん及びはんだ酸化物の粉じんが測定部20に付着することを防止する。そのため、測定部20を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状が正確にかつ安定的に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け装置1hは、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 The soldering device 1h further includes a blower unit 50. The blower unit 50 is configured to blow air toward the measurement unit 20. The blower unit 50 may blow air in parallel with the transport path of the wiring board 6. The blower portion 50 is, for example, an axial fan, a centrifugal fan, a mixed flow fan, or a cross flow fan. Due to the radiant heat from the molten solder 14, the temperature of the measuring unit 20 may rise excessively, causing the measuring unit 20 to malfunction or malfunction. The blower unit 50 cools the measurement unit 20 by blowing air toward the measurement unit 20 to prevent the measurement unit 20 from malfunctioning or malfunctioning. Further, the blower unit 50 prevents the dust of the flux residue and the dust of the solder oxide flying in the housing 3 from adhering to the measuring unit 20. Therefore, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 can be accurately and stably measured by using the measuring unit 20. The soldering apparatus 1h of the present embodiment is more appropriate (better) by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

図11及び図40を参照して、本実施の形態のはんだ付け方法を説明する。本実施の形態のはんだ付け方法は、実施の形態1のはんだ付け方法と同様の工程を備え、同様の効果を奏するが、以下の点で異なる。 The soldering method of this embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 40. The soldering method of the present embodiment includes the same steps as the soldering method of the first embodiment and has the same effect, but differs in the following points.

本実施の形態のはんだ付け方法は、送風部50を用いて、測定部20に向けて送風することをさらに備える。測定部20に向けて送風しながら、測定部20を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状を測定(S12)してもよい。測定部20に向けて送風することによって、測定部20が冷却されて、測定部20が故障または誤動作することを防止する。筐体3内に舞っているフラックスの残渣の粉じん及びはんだ酸化物の粉じんが測定部20に付着することが防止される。そのため、測定部20を用いて、拡散反射領域16の第1の表面形状が正確にかつ安定的に測定され得る。本実施の形態のはんだ付け方法は、ノズル12aから噴流する溶融はんだ14の表面形状に対応する拡散反射領域16の第1の表面形状の測定結果を用いて、より適切な(より良好な)はんだ付けを可能にする。 The soldering method of the present embodiment further comprises blowing air toward the measuring unit 20 by using the air blowing unit 50. The first surface shape of the diffuse reflection region 16 may be measured (S12) by using the measuring unit 20 while blowing air toward the measuring unit 20. By blowing air toward the measuring unit 20, the measuring unit 20 is cooled to prevent the measuring unit 20 from malfunctioning or malfunctioning. It is possible to prevent the flux residue dust and the solder oxide dust flying in the housing 3 from adhering to the measuring unit 20. Therefore, the first surface shape of the diffuse reflection region 16 can be accurately and stably measured by using the measuring unit 20. In the soldering method of the present embodiment, a more appropriate (better) solder is used by using the measurement result of the first surface shape of the diffuse reflection region 16 corresponding to the surface shape of the molten solder 14 jetted from the nozzle 12a. Allows soldering.

今回開示された実施の形態1−8はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態1−8の少なくとも2つを組み合わせてもよい。例えば、実施の形態2−7のはんだ付け装置1b−1gに、実施の形態8の送風部50をさらに設けてもよい。実施の形態3−8の測定部20を、実施の形態2の測定部20bに置き換えてもよい。本発明の範囲は、上記した説明ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。 It should be considered that Embodiments 1-8 disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. As long as there is no contradiction, at least two of Embodiments 1-8 disclosed this time may be combined. For example, the soldering apparatus 1b-1g of the second embodiment may be further provided with the blower portion 50 of the eighth embodiment. The measuring unit 20 of the third embodiment may be replaced with the measuring unit 20b of the second embodiment. The scope of the present invention is shown by the claims rather than the above description, and is intended to include all modifications within the meaning and scope of the claims.

1,1b,1c,1d,1e,1f,1g,1h はんだ付け装置、3 筐体、4 搬送部、4a 腕部、6,6s 配線基板、6a おもて面、6b 裏面、6c 側面、6f 前側面、7 部品、9 予備加熱部、9h 第2のヒータ、9s 温度センサ、10 噴流部、10s はんだ槽、11 ダクト、11a 開口、11b 底部、11f 支柱、11h ボルト、11t 頂部、12 ノズル部、12a ノズル、12b 開口、12c ガイド板、12d 板部、12m 中心線、12e 孔、13h 第1のヒータ、13m モータ、13n インペラ、13p ポンプ、14 溶融はんだ、15 はんだ酸化膜、15a,15c,46 拡散反射膜、16,16s 拡散反射領域、18 昇降部、20,20b 測定部、21,21b 光源部、22,22b 光、23,23b 光検出部、30,30c,30d,30e,30g 拡散反射領域形成部、31,31d 部材、32 駆動部、32d 振動子、33 連結部、34 ガス、35 ガス吹き付け部、36 静止部材、37 筒部材、37i 流入口、37j 上端開口、38 流れ圧力低減部材、39a 微小貫通穴、39b,39d 板部材、40 制御部、41 表示部、43 メモリ、50 送風部。 1,1b, 1c, 1d, 1e, 1f, 1g, 1h Soldering device, 3 housing, 4 transport part, 4a arm part, 6,6s wiring board, 6a front surface, 6b back surface, 6c side surface, 6f Front side surface, 7 parts, 9 preheating part, 9h second heater, 9s temperature sensor, 10 jet part, 10s solder tank, 11 duct, 11a opening, 11b bottom, 11f strut, 11h bolt, 11t top, 12 nozzle part , 12a nozzle, 12b opening, 12c guide plate, 12d plate part, 12m center line, 12e hole, 13h first heater, 13m motor, 13n impeller, 13p pump, 14 molten solder, 15 solder oxide film, 15a, 15c, 46 Diffuse reflection film, 16,16s Diffuse reflection area, 18 Elevating part, 20,20b measurement part, 21,21b light source part, 22,22b light, 23,23b light detection part, 30,30c, 30d, 30e, 30g Diffuse Reflection region forming part, 31, 31d member, 32 drive part, 32d oscillator, 33 connecting part, 34 gas, 35 gas blowing part, 36 stationary member, 37 cylinder member, 37i inlet, 37j upper end opening, 38 flow pressure reduction Member, 39a micro through hole, 39b, 39d plate member, 40 control unit, 41 display unit, 43 memory, 50 blower unit.

Claims (34)

ノズルを含む噴流部と、
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第1の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備え
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け装置。
The jet part including the nozzle and
A measuring unit configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region formed on the surface of the molten solder jetted from the nozzle is provided .
The diffuse reflection region is a soldering apparatus including a diffuse reflection film formed of a solder oxide film.
前記溶融はんだの前記表面上に前記拡散反射領域を形成するように構成されている拡散反射領域形成部をさらに備える、請求項1に記載のはんだ付け装置。 The soldering apparatus according to claim 1, further comprising a diffuse reflection region forming portion configured to form the diffuse reflection region on the surface of the molten solder. 前記拡散反射領域形成部は、部材と、振動子とを含み、
前記振動子は、前記部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させるように構成されている、請求項2に記載のはんだ付け装置。
The diffuse reflection region forming portion includes a member and an oscillator.
The transducer, while immersing at least a portion of said member to said molten solder, said along the surface of the molten solder is configured to vibrate the member, soldering apparatus according to claim 2 ..
前記部材は、はんだ付けされる対象物の搬送方向に沿って延在しており、
前記部材は、前記はんだ付けされる対象物の裏面に接触するように構成されており、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項に記載のはんだ付け装置。
The member extends along the transport direction of the object to be soldered.
The third aspect of the present invention, wherein the member is configured to be in contact with the back surface of the object to be soldered, and the back surface is a surface of the object to be soldered facing the molten solder. Soldering equipment.
前記拡散反射領域形成部は、静止部材を含み、
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されるように前記静止部材は前記ノズルの上方に配置されている、請求項2に記載のはんだ付け装置。
The diffuse reflection region forming portion includes a stationary member and includes a stationary member.
Wherein the stationary member such that a portion of the stationary member is immersed in the molten solder is located above the nozzle, soldering apparatus according to claim 2.
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記静止部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項に記載のはんだ付け装置。 The solder according to claim 5 , wherein the stationary member is arranged outside the transport path of the object to be soldered in a plan view from a direction in which the nozzle protrudes toward the object to be soldered. Soldering device. 前記静止部材は、前記静止部材の中央部が前記ノズルに向かって突出するように曲げられた形状を有している、請求項または請求項に記載のはんだ付け装置。 The soldering device according to claim 5 or 6 , wherein the stationary member has a shape in which a central portion of the stationary member is bent so as to project toward the nozzle. 前記拡散反射領域形成部は、前記ノズル内に設けられた筒部材を含み、
前記筒部材の内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されている、請求項2に記載のはんだ付け装置。
The diffuse reflection region forming portion includes a tubular member provided in the nozzle.
As the diffuse reflection area in the interior of the tubular member is formed, the tubular member is disposed, the soldering apparatus according to claim 2.
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記筒部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項に記載のはんだ付け装置。 The solder according to claim 8 , wherein the tubular member is arranged outside the transport path of the object to be soldered in a plan view from a direction in which the nozzle protrudes toward the object to be soldered. Soldering device. 前記拡散反射領域形成部は、前記溶融はんだの流れ圧力を低減させる流れ圧力低減部材をさらに含み、
前記筒部材は、前記溶融はんだが流入する流入口を有し、
前記流れ圧力低減部材は前記流入口に設けられている、請求項または請求項に記載のはんだ付け装置。
The diffuse reflection region forming portion further includes a flow pressure reducing member that reduces the flow pressure of the molten solder.
The tubular member has an inflow port into which the molten solder flows.
The soldering apparatus according to claim 8 or 9 , wherein the flow pressure reducing member is provided at the inflow port.
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の一部が接触することによって形成され、
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されている、請求項1に記載のはんだ付け装置。
The diffuse reflection region is formed by contacting a part of the object to be soldered with the molten solder jetting from the nozzle.
The measuring unit, than the nozzle is disposed on the downstream side in the transport direction of the soldering object being, soldering apparatus according to claim 1.
ノズルを含む噴流部と、
前記ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に形成される拡散反射領域の第1の表面形状を測定するように構成されている測定部とを備え、
前記拡散反射領域は、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部が接触することによって形成され、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け装置。
The jet part including the nozzle and
A measuring unit configured to measure the first surface shape of the diffuse reflection region formed on the surface of the molten solder jetted from the nozzle is provided.
The diffuse reflection region is formed by contacting at least a part of an object to be soldered to the molten solder jetting from the nozzle.
The diffuse reflection area, the comprises a soldered are diffuse reflective film composed of residues of flux which was attached to the object, with I the device.
前記測定部は、前記拡散反射領域に光を照射するように構成されている光源部と、前記拡散反射領域で拡散反射される前記光を検出するように構成されている光検出部とを含み、
前記光検出部は、前記拡散反射領域の前記第1の表面形状の画像を取得するように構成されている撮像部である、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載のはんだ付け装置。
The measuring unit includes a light source unit configured to irradiate the diffuse reflection region with light, and a light detection unit configured to detect the light diffusely reflected in the diffuse reflection region. ,
The soldering according to any one of claims 1 to 12, wherein the light detection unit is an imaging unit configured to acquire an image of the first surface shape of the diffuse reflection region. apparatus.
前記測定部に向けて送風するように構成されている送風部をさらに備える、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載のはんだ付け装置。 The soldering apparatus according to any one of claims 1 to 13, further comprising a blowing unit configured to blow air toward the measuring unit. 制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第1の表面形状に基づいて、前記噴流部を制御するように構成されている、請求項1から請求項14のいずれか1項に記載のはんだ付け装置。
With more control
Any one of claims 1 to 14, wherein the control unit is configured to control the jet unit based on the first surface shape of the diffuse reflection region obtained by the measurement unit. Soldering equipment as described in the section.
前記ノズルから噴流する前記溶融はんだの第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データが格納されているメモリをさらに備え、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第1の表面形状と前記第1の形状基準データとを比較するように構成されており、
前記制御部は、前記拡散反射領域の前記第1の表面形状と前記第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御するように構成されている、請求項15に記載のはんだ付け装置。
Further provided with a memory in which the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder jetted from the nozzle is stored.
The control unit is configured to compare the first surface shape of the diffuse reflection region obtained by the measurement unit with the first shape reference data.
15. The control unit is configured to control the jet unit based on the result of comparison between the first surface shape of the diffuse reflection region and the first shape reference data. The soldering equipment described.
前記測定部は、前記ノズルの第2の表面形状をさらに測定するように構成されており、
前記制御部は、前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第2の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御するように構成されている、請求項15または請求項16に記載のはんだ付け装置。
The measuring unit is configured to further measure the second surface shape of the nozzle.
The soldering device according to claim 15 or 16, wherein the control unit is configured to control the nozzle based on the second surface shape of the nozzle obtained by the measuring unit.
ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、
測定部によって前記拡散反射領域の第1の表面形状を測定することとを備え、
前記拡散反射領域は、はんだ酸化膜によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け方法。
Forming a diffuse reflection region on the surface of the molten solder jetted from the nozzle,
The measuring unit comprises measuring the first surface shape of the diffuse reflection region.
The soldering method, wherein the diffuse reflection region includes a diffuse reflection film formed of a solder oxide film.
前記拡散反射領域を形成することは、部材の少なくとも一部を前記溶融はんだに浸漬させながら、前記溶融はんだの前記表面に沿って前記部材を振動させることを含む、請求項18に記載のはんだ付け方法。 The soldering according to claim 18 , wherein forming the diffuse reflection region includes vibrating the member along the surface of the molten solder while immersing at least a part of the member in the molten solder. Method. 前記部材は、はんだ付けされる対象物の搬送方向に沿って延在しており、
前記はんだ付けされる対象物の裏面が前記部材に接触しながら、前記はんだ付けされる対象物は搬送され、前記裏面は、前記溶融はんだに対向する前記はんだ付けされる対象物の面である、請求項19に記載のはんだ付け方法。
The member extends along the transport direction of the object to be soldered.
While the back surface of the object to be soldered is in contact with the member, the object to be soldered is conveyed, and the back surface is the surface of the object to be soldered facing the molten solder. The soldering method according to claim 19.
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルの上方に配置された静止部材に沿って前記溶融はんだを流すことを含み、
前記静止部材の一部が前記溶融はんだに浸漬されている、請求項18に記載のはんだ付け方法。
Forming the diffuse reflection region includes flowing the molten solder along a stationary member arranged above the nozzle.
The portion of the stationary member is immersed in the molten solder, the soldering method according to claim 18.
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記静止部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項21に記載のはんだ付け方法。 21. The solder according to claim 21, wherein the stationary member is arranged outside the transport path of the object to be soldered in a plan view from a direction in which the nozzle protrudes toward the object to be soldered. How to attach. 前記静止部材は、前記静止部材の中央部が前記ノズルに向かって突出するように曲げられた形状を有している、請求項21または請求項22に記載のはんだ付け方法。 The soldering method according to claim 21, wherein the stationary member has a shape in which a central portion of the stationary member is bent so as to project toward the nozzle. 前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズル内に設けられた筒部材の内部に前記溶融はんだを流すことを含み、
前記筒部材の前記内部に前記拡散反射領域が形成されるように、前記筒部材は配置されている、請求項18に記載のはんだ付け方法。
Forming the diffuse reflection region includes flowing the molten solder inside a tubular member provided in the nozzle.
As the diffuse reflection area in the interior of said tubular member is formed, the tubular member is disposed, the soldering method according to claim 18.
はんだ付けされる対象物に向けて前記ノズルが突出する方向からの平面視において、前記筒部材は前記はんだ付けされる対象物の搬送経路の外側に配置されている、請求項24に記載のはんだ付け方法。 24. The solder according to claim 24, wherein the tubular member is arranged outside the transport path of the object to be soldered in a plan view from a direction in which the nozzle protrudes toward the object to be soldered. How to attach. 前記拡散反射領域を形成することは、前記筒部材に流入する前記溶融はんだの流れ圧力を低減させることをさらに含む、請求項24または請求項25に記載のはんだ付け方法。 The soldering method according to claim 24 or 25, wherein forming the diffuse reflection region further includes reducing the flow pressure of the molten solder flowing into the tubular member. 前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の一部を接触させることを含み、
前記測定部は、前記ノズルよりも、前記はんだ付けされる対象物の搬送方向の下流側に配置されている、請求項18に記載のはんだ付け方法。
Forming the diffuse reflection region includes contacting a part of the object to be soldered with the molten solder jetting from the nozzle.
The measuring unit, than the nozzle, the is disposed on the downstream side in the transport direction of the soldered object being, soldering method of claim 18.
ノズルから噴流する溶融はんだの表面上に拡散反射領域を形成することと、
測定部によって前記拡散反射領域の第1の表面形状を測定することとを備え、
前記拡散反射領域を形成することは、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだにはんだ付けされる対象物の少なくとも一部を接触させることを含み、
前記拡散反射領域は、前記はんだ付けされる対象物に付着していたフラックスの残渣によって構成される拡散反射膜を含む、はんだ付け方法。
Forming a diffuse reflection region on the surface of the molten solder jetted from the nozzle,
The measuring unit comprises measuring the first surface shape of the diffuse reflection region.
Forming the diffuse reflection region includes contacting at least a part of the object to be soldered with the molten solder jetting from the nozzle.
The diffuse reflection area, the comprises a soldering object being diffuse reflective film composed of residues of the flux adhering to, with I the process.
前記拡散反射領域の前記第1の表面形状を測定することは、前記拡散反射領域に光を照射することと、前記拡散反射領域によって拡散反射される前記光を検出することとを含み、
拡散反射される前記光を検出することは、撮像部によって前記拡散反射領域の前記第1の表面形状の画像することを含む、請求項18から請求項28のいずれか1項に記載のはんだ付け方法。
Measuring the first surface shape of the diffuse reflection region includes irradiating the diffuse reflection region with light and detecting the light diffusely reflected by the diffuse reflection region.
The soldering according to any one of claims 18 to 28, wherein detecting the diffusely reflected light includes imaging the first surface shape of the diffuse reflection region by an imaging unit. Method.
前記測定部に向けて送風することをさらに備える、請求項18から請求項29のいずれか1項に記載のはんだ付け方法。 The soldering method according to any one of claims 18 to 29, further comprising blowing air toward the measuring unit. 前記測定部によって得られる前記拡散反射領域の前記第1の表面形状に基づいて、前記ノズルを含む噴流部を制御することをさらに備える、請求項18から請求項30のいずれか1項に記載のはんだ付け方法。 The aspect according to any one of claims 18 to 30, further comprising controlling a jet portion including the nozzle based on the first surface shape of the diffuse reflection region obtained by the measuring portion. Soldering method. 前記噴流部を制御することは、前記拡散反射領域の前記第1の表面形状と前記ノズルから噴流する前記溶融はんだの第1の目標表面形状に関する第1の形状基準データとを比較することと、前記拡散反射領域の前記第1の表面形状と前記第1の形状基準データとの間の比較結果に基づいて前記噴流部を制御することとを含む、請求項31に記載のはんだ付け方法。 Controlling the jet portion is to compare the first surface shape of the diffuse reflection region with the first shape reference data regarding the first target surface shape of the molten solder jetted from the nozzle. The soldering method according to claim 31, wherein the jet portion is controlled based on a comparison result between the first surface shape of the diffuse reflection region and the first shape reference data. 前記測定部によって前記ノズルの第2の表面形状を測定することと、
前記測定部によって得られる前記ノズルの前記第2の表面形状に基づいて、前記ノズルを制御することとをさらに備える、請求項31または請求項32に記載のはんだ付け方法。
Measuring the second surface shape of the nozzle with the measuring unit,
The soldering method according to claim 31 or 32, further comprising controlling the nozzle based on the second surface shape of the nozzle obtained by the measuring unit.
請求項18から請求項33のいずれか1項に記載のはんだ付け方法を用いて、部品を配線基板にはんだ付けすることを備える、部品付き配線基板の製造方法。A method for manufacturing a wiring board with parts, which comprises soldering parts to a wiring board by using the soldering method according to any one of claims 18 to 33.
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Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0775775B2 (en) * 1991-08-23 1995-08-16 松下電器産業株式会社 Corrugated surface management device for jet soldering device and soldering device using the same
MY126741A (en) * 1991-11-05 2006-10-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd Jig for detecting height of wavy solder surface, method of controlling height of solder surface, soldering apparatus, jig for detecting warp of printed circuit board, and method of producing printed circuit board
JPH08293667A (en) * 1995-04-25 1996-11-05 Nihon Dennetsu Kk Cleaning for warp preventing equipment of soldered board
JPH11233931A (en) * 1998-02-17 1999-08-27 Fujitsu Ten Ltd Oxygen concentration measuring system
JP2008272770A (en) * 2007-04-26 2008-11-13 Kojima Press Co Ltd Stationary solder bath device
WO2010003732A2 (en) * 2008-07-09 2010-01-14 Robert Bosch Gmbh Magnetic position sensor
CN101789452B (en) * 2010-02-03 2011-12-28 秦皇岛东吴电子有限公司 Diffuse reflection type tin-coated welding strip and method for producing same
JP5288012B2 (en) * 2012-01-25 2013-09-11 千住金属工業株式会社 Jet solder height confirmation jig and its handling method
JP6436854B2 (en) * 2015-05-26 2018-12-12 三菱電機株式会社 Soldering apparatus and soldering method
JP6555938B2 (en) * 2015-06-10 2019-08-07 三菱電機株式会社 Molten solder flow state detector

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