JP2008272770A - Stationary solder bath device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は静止型半田槽装置に関する。 The present invention relates to a static solder bath apparatus.
静止型半田槽内の溶融半田において、その底部近傍に配設されたヒータに近い部分においては加熱されやすく高温になり、液面近傍は外気に触れて低温になりやすい。このため溶融半田の温度管理が厄介となり、ときには、半田付けに影響を及ぼすことがある。
また、溶融半田の液面は外気に触れて酸化し、酸化膜が発生するため、この酸化膜の除去を頻繁に行わなければならず厄介であった。
また、従来、例えば、特許文献1に開示された回転式半田トレー(回転式半田槽装置)が知られている。
これにおいては、器体の上面に凹設された凹部内にトレー(円形トレー)を回転可能に設け、凹部の底板部に、器体内部に配設されたモータを駆動源とし、かつ歯車列機構によって回転される上下方向の回転軸を転がり軸受によって回転可能に取り付け、回転軸の上端部にトレー底部中心部をトルク伝達可能に連結し、さらに、トレーの溶融半田の液面にスカム除去体を配設した構造となっている。そして、トレーの回転によってトレー内の溶融半田を均一な状態に保ち、スカム除去体によって溶融半田の液面上の酸化膜を除去するようになっている。
In addition, since the surface of the molten solder is oxidized by contact with the outside air and an oxide film is generated, it is troublesome to frequently remove the oxide film.
Conventionally, for example, a rotary solder tray (rotary solder bath apparatus) disclosed in Patent Document 1 is known.
In this, a tray (circular tray) is rotatably provided in a recess formed in the upper surface of the container, and a motor disposed in the container is used as a drive source on the bottom plate of the recess, and a gear train. The rotating shaft in the vertical direction rotated by the mechanism is rotatably mounted by a rolling bearing, the center of the bottom of the tray is connected to the upper end of the rotating shaft so that torque can be transmitted, and the scum removing body is attached to the liquid surface of the molten solder on the tray. It is the structure which arranged. The molten solder in the tray is kept in a uniform state by the rotation of the tray, and the oxide film on the liquid surface of the molten solder is removed by the scum remover.
ところで、特許文献1に開示された回転式半田トレー(回転式半田槽装置)においては、静止型半田槽には適応することができない。
また、器体上にトレーを、器体内部にモータ、歯車列機構、回転軸等を配設しなければならず、装置全体が大型化すると共に、構造が複雑化しコスト高となる傾向にある。
Incidentally, the rotary solder tray (rotary solder bath apparatus) disclosed in Patent Document 1 cannot be applied to a static solder bath.
In addition, a tray must be placed on the body, and a motor, gear train mechanism, rotating shaft, etc. must be placed inside the body, which tends to increase the size of the entire device, complicate the structure, and increase the cost. .
この発明の目的は、前記問題点に鑑み、静止型半田槽を用い、その静止型半田槽内の溶融半田の温度差を小さく抑制すると共に、溶融半田の液面上に発生する酸化膜を良好に除去することができる静止型半田槽装置を提供することである。 In view of the above problems, an object of the present invention is to use a static solder bath, to suppress the temperature difference of the molten solder in the static solder bath, and to improve the oxide film generated on the liquid surface of the molten solder. It is to provide a static solder bath apparatus that can be removed.
前記目的を達成するために、この発明の請求項1に係る静止型半田槽装置は、溶融半田が貯留される上方に開口した箱形状の静止型半田槽と、
下部が前記溶融半田内に沈められ、上部が溶融半田の液面上から突出した状態で前記静止型半田槽内の一側部の開始位置から他側部の終点位置へ移動することで前記溶融半田を攪拌しながら液面上の酸化膜を除去する板状の攪拌・除去板と、
前記攪拌・除去板を前記開始位置から前記終点位置へ移動させる駆動機構とを備えていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a static solder bath apparatus according to claim 1 of the present invention includes a box-shaped static solder bath opened upward in which molten solder is stored;
The lower part is submerged in the molten solder, and the upper part protrudes from the liquid surface of the molten solder and moves from the start position of one side part to the end point position of the other side part in the static solder bath. A plate-like stirring / removing plate that removes the oxide film on the liquid surface while stirring the solder;
And a drive mechanism for moving the agitation / removal plate from the start position to the end position.
前記構成において、駆動機構によって攪拌・除去板を静止型半田槽内の一側部の開始位置から他側部の終点位置まで移動させる簡単な構造によって、溶融半田を攪拌してその溶融半田の温度差を小さく抑制することができる共に、溶融半田の液面上に発生する酸化膜を良好に除去することができる。 In the above-described configuration, the molten solder is agitated by a simple structure in which the stirring / removal plate is moved by the drive mechanism from the start position on one side in the static solder bath to the end position on the other side. The difference can be suppressed small, and the oxide film generated on the liquid surface of the molten solder can be satisfactorily removed.
この発明の請求項2に係る静止型半田槽装置は、請求項1に記載の静止型半田槽装置であって、
攪拌・除去板は、開始位置から終点位置へ移動する動作によって静止型半田槽の他側部に集められた集積酸化膜のうち、前記静止型半田槽の上縁を越える前記集積酸化膜の上積み部分を、前記静止型半田槽から排出する排出部を一体状に有していることを特徴とする。
前記構成において、攪拌・除去板の排出部によって、静止型半田槽の他側部に集められた集積酸化膜のうちの上積み部分を排出することができる。これによって、集積酸化膜を手作業によって取り除く手間や、あるいは集積酸化膜を排出するための専用の排出装置を製作して組み付けるコストを削減することができる。
A static solder bath apparatus according to claim 2 of the present invention is the static solder bath apparatus according to claim 1,
The agitation / removal plate is stacked on the integrated oxide film over the upper edge of the static solder tank among the integrated oxide films collected on the other side of the static solder tank by the movement from the start position to the end position. The portion is integrally provided with a discharge portion that discharges the portion from the stationary solder bath.
In the above-described configuration, the stacked portion of the integrated oxide film collected on the other side of the stationary solder bath can be discharged by the discharge portion of the stirring / removal plate. As a result, it is possible to reduce the trouble of manually removing the integrated oxide film, or the cost of manufacturing and assembling a dedicated discharge device for discharging the integrated oxide film.
この発明の請求項3に係る静止型半田槽装置は、請求項2に記載の静止型半田槽装置であって、
静止型半田槽の外側には、攪拌・除去板の排出部によって排出された排出酸化膜を受けて所定位置まで案内する排出シュートと、この排出シュートに案内された排出酸化膜を受け入れて回収する回収箱とが配設されていることを特徴とする。
前記構成において、攪拌・除去板の排出部によって排出された排出酸化膜は排出シュートによって受けられて所定位置まで案内され回収箱内に投入されて回収される。
このため、排出酸化膜を回収する手間が不要となると共に、静止型半田槽の周囲に排出酸化膜が飛散して汚される不具合が生じない。
A static solder bath apparatus according to claim 3 of the present invention is the static solder bath apparatus according to claim 2,
On the outside of the static solder bath, the discharge oxide film discharged by the discharge portion of the stirring / removal plate is received and guided to a predetermined position, and the discharge oxide film guided by the discharge chute is received and collected. A collection box is provided.
In the above configuration, the discharged oxide film discharged by the discharge portion of the agitation / removal plate is received by the discharge chute, guided to a predetermined position, put into the recovery box, and recovered.
For this reason, the trouble of collecting the discharged oxide film becomes unnecessary, and there is no problem that the discharged oxide film is scattered and fouled around the stationary solder bath.
次に、この発明を実施するための最良の形態を実施例にしたがって説明する。 Next, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to examples.
(実施例1)
この発明の実施例1を図1〜図7にしたがって説明する。
図1はこの発明の実施例1に係る静止型半田槽装置を示す斜視図である。図2は攪拌・除去板の駆動機構を示す側断面図である。図3は攪拌・除去板が開始位置に配置された状態を示す説明図である。図4は攪拌・除去板が終点位置の直前まで移動された状態を示す説明図である。図5は攪拌・除去板が終点位置まで移動された状態を示す説明図である。図6は終点位置の攪拌・除去板が上昇端位置まで上昇された状態を示す説明図である。図7は開始位置に戻された攪拌・除去板が元の下降端位置まで下降された状態を示す説明図である。
Example 1
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
1 is a perspective view showing a stationary solder bath apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a side sectional view showing a drive mechanism of the stirring / removal plate. FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate is disposed at the start position. FIG. 4 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate is moved to just before the end point position. FIG. 5 is an explanatory view showing a state where the stirring / removal plate is moved to the end point position. FIG. 6 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate at the end position is raised to the rising end position. FIG. 7 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate returned to the start position is lowered to the original lower end position.
図1と図2に示すように、この実施例1に係る静止型半田槽装置は、主として、プリント基板の実装面上に配設される各種の電子部品のピンをプリント基板のランド(導電配線)に半田付けするものであり、静止型半田槽10、攪拌・除去板21、駆動機構30、排出シュート40、及び回収箱45を備えている。
図3に示すように、静止型半田槽10は、上方に開口する方形箱形状に形成され、静止型半田槽10内には溶融半田12が貯留され、底部にはヒータ11が内設されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the static solder bath apparatus according to the first embodiment mainly uses pins of various electronic components arranged on the mounting surface of the printed board as lands (conductive wiring). And a
As shown in FIG. 3, the
攪拌・除去板21は、静止型半田槽10内の溶融半田12が付着しにくいステンレス鋼板等より形成されると共に、静止型半田槽10の槽内の幅方向の寸法に対応する幅寸法を有し、かつ下部22が静止型半田槽10の溶融半田12(溶融半田12の深さ寸法の約1/4〜3/4程度の範囲)内に沈められ、上部23が溶融半田12の液面上から突出した状態で配置される。
また、攪拌・除去板21は、次に詳述する駆動機構30によって往復動及び昇降動される。
The agitation /
The agitation /
図1と図2に示すように、駆動機構30は、往復作動機構32と昇降機構36とを備え、攪拌・除去板21を、静止型半田槽10内の一側部の開始位置から他側部の終点位置へ移動せることで溶融半田12を攪拌しながら液面13上の酸化膜14を除去する。さらに、攪拌・除去板21を終点位置へ移動させた後、その下端が溶融半田12の液面上から上方へ離反する上昇端位置まで上昇させて元の開始位置へ戻し、かつ元の下降端まで下降せる動作を順次に繰り返して行う。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
すなわち、この実施例1において、駆動機構30の往復作動機構32は、静止型半田槽10の外側の長手方向に沿って配置され、かつモータ(可逆転モータ)31を駆動源として長尺状のケース体32a内に回転可能に支持された送りねじ33と、ナット34とを備えている。
そして、ナット34に一体状をなして移動可能に連結された可動支持体35に昇降機構36としての昇降用シリンダ37が取り付けられ、この昇降用シリンダ37のロッド38の先端部に攪拌・除去板21の上部から延出された連結片26がねじ等によって連結されている。
なお、駆動機構30のモータ31及び昇降用シリンダ37は、制御装置(図示しない)によって設定されたプログラムに基づいて作動制御される。
That is, in the first embodiment, the
An
The
また、この実施例1において、攪拌・除去板21の上端部から水平状に折り曲げられた水平張出部24の先端に排出部25が下方に向けて折り曲げられている。そして、攪拌・除去板21が開始位置から終点位置へ移動する動作によって静止型半田槽10の他側部に集められた集積酸化膜15のうち、静止型半田槽10の他側壁に形成された排出口10a10aの上縁を越える集積酸化膜15の上積み部分15aを、排出部25によって静止型半田槽10の排出口10aから排出するようになっている。
また、静止型半田槽10の他側壁の排出口10aの上面高さは他方壁部より適宜に低く形成されている。一方、下降端位置にある攪拌・除去板21の排出部25の下端面の高さは、排出口10aの上面高さよりも若干高い位置に配置されるようになっている。
Further, in the first embodiment, the
In addition, the height of the upper surface of the
図1と図3に示すように、静止型半田槽10の他側壁の排出口10aの外側には、攪拌・除去板21の排出部25によって排出された排出酸化膜(集積酸化膜15の上積み部分15a)16を所定位置まで排出案内する排出シュート40が所定の傾斜角度をもって設置されており、この排出シュート40の下傾端には、排出シュート40を通して排出された排出酸化膜16を受け入れて収納する回収箱45が配設されている。
As shown in FIGS. 1 and 3, on the outside of the
この実施例1に係る半田槽装置は上述したように構成される。
したがって、攪拌・除去板21が開始位置にかつ下降端位置に配置された状態において、モータ31が正方向に作動され、送りねじ33が一方向に回転されることによって、ナット34と共に可動支持体35が移動され、これによって、攪拌・除去板21が図3に示す開始位置から図5に示す終点位置へ移動する。
The solder bath apparatus according to the first embodiment is configured as described above.
Accordingly, in a state where the stirring / removing
ここで、昇降用シリンダ37が作動され、攪拌・除去板21が上昇端位置まで上昇される。すると、モータ31が逆方向に作動され、送りねじ33が前記とは逆方向に回転されることによって、ナット34と共に可動支持体35が逆移動され、これによって、図6に示すように、攪拌・除去板21が終点位置から元の開始位置まで後退移動される。
ここで、昇降用シリンダ37によって、攪拌・除去板21が元の下降端位置まで下降される(図7参照)。
なお、攪拌・除去板21が元の下降端位置まで下降された状態において、例えば、プリント基板のスルーホールに挿通された電子部品のピンが静止型半田槽10の溶融半田12の液面13に浸漬されることによって、プリント基板のランドに電子部品のピンが半田付けされる。
そして、半田付け終了後、再び、攪拌・除去板21が前記した各動作を順次に繰り返して行う。
Here, the elevating
Here, the agitation /
In the state where the agitation /
Then, after the soldering is completed, the agitating / removing
図3と図5に示すように、攪拌・除去板21が静止型半田槽10内の一側部の開始位置から他側部の終点位置まで移動(前進)する動作によって、静止型半田槽10内の溶融半田12を攪拌してその溶融半田12の温度差を小さく抑制することができる共に、溶融半田12の液面13上に発生する酸化膜14を静止型半田槽10内の他側部に集めて良好に除去することができる。
As shown in FIG. 3 and FIG. 5, the
また、攪拌・除去板21が、図4に示す終点位置の直前位置から図5に示す終点位置へ移動する間において、この攪拌・除去板21の上部に一体に形成された排出部25の移動動作によって、静止型半田槽10の他側部に集められた集積酸化膜15のうち、上積み部分15aを排出口10aから排出することができる。これによって、集積酸化膜15を手作業によって取り除く手間や、あるいは集積酸化膜15を排出するための専用の排出装置を製作して組み付けるコストを削減することができる。
Further, while the agitation /
また、この実施例1において、静止型半田槽10の排出口10aから排出された排出酸化膜16は排出シュート40によって受けられ、この排出シュート40の下傾端まで落下案内された後、回収箱45内に投入されて回収される(図5参照)。
このため、排出酸化膜16を回収する手間が不要となると共に、静止型半田槽10の周囲に排出酸化膜16が飛散して汚される不具合が生じない。
Further, in the first embodiment, the discharged
For this reason, the trouble of collecting the discharged
(実施例2)
次に、この発明の実施例2を図8〜図10にしたがって説明する。
図8はこの発明の実施例2に係る静止型半田槽装置を示す斜視図である。図9は攪拌・除去板が開始位置から終点位置まで移動された状態を示す説明図である。図10は終点位置の攪拌・除去板が上昇端位置まで上昇された後、元の開始位置まで戻される状態を示す説明図である。
(Example 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 8 is a perspective view showing a stationary solder bath apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 9 is an explanatory view showing a state where the stirring / removal plate is moved from the start position to the end position. FIG. 10 is an explanatory view showing a state where the stirring / removal plate at the end point position is raised to the rising end position and then returned to the original starting position.
図8に示すように、この実施例2においては、ステンレス製の攪拌・除去板121の形状を変更し、排出シュート及び回収箱の設置を廃止したものである。
すなわち、攪拌・除去板121は、静止型半田槽10の槽内の幅方向の寸法に対応する幅寸法を有し、かつ下部122が静止型半田槽10の溶融半田12(溶融半田12の深さ寸法の約1/4〜3/4程度の範囲)内に沈められ、上部123が溶融半田12の液面13上から突出した状態で配置される四角板状に形成されている。
As shown in FIG. 8, in the second embodiment, the shape of the stainless steel stirring /
That is, the agitation /
また、この実施例2においても、攪拌・除去板121は、実施例1と同様の往復作動機構32、昇降機構36としての昇降用シリンダ37を備えた駆動機構30によって往復動及び昇降動される。そして、昇降用シリンダ37のロッド38の先端部に攪拌・除去板121の上部から延出された連結片126がねじ等によって連結されている。
この実施例2のその他の構成は実施例1と同様に構成されるためその説明は省略する。
Also in the second embodiment, the agitation /
Since other configurations of the second embodiment are configured in the same manner as the first embodiment, the description thereof is omitted.
この実施例2に係る静止型半田槽装置は上述したように構成される。
したがって、攪拌・除去板121が開始位置にかつ下降端位置に配置された状態において、図9に示すように、開始位置から終点位置へ移動する。
ここで、攪拌・除去板121が上昇端位置まで上昇された後、図10に示すように、元の終点位置まで戻されて下降端位置まで下降される。
The static solder bath apparatus according to the second embodiment is configured as described above.
Therefore, in the state where the stirring / removing
Here, after the stirring /
図9に示すように、攪拌・除去板121が静止型半田槽10内の一側部の開始位置から他側部の終点位置まで移動(前進)する動作によって、静止型半田槽10内の溶融半田12を攪拌してその溶融半田12の温度差を小さく抑制することができる共に、溶融半田12の液面13上に発生する酸化膜14を静止型半田槽10内の他側部に集めて良好に除去することができる。
また、静止型半田槽10内の他側部に集められて集積された集積酸化膜15は、手作業によって静止型半田槽10から排出することもでき、専用の排出装置を製作して設置することで対応することもできる。
As shown in FIG. 9, the melting in the
Further, the
10 静止型半田槽
12 溶融半田
13 液面
14 酸化膜
15 集積酸化膜
16 排出酸化膜
21、121 攪拌・除去板
22、122 下部
23、123 上部
25 排出部
30 駆動機構
40 排出シュート
45 回収箱
DESCRIPTION OF
Claims (3)
下部が前記溶融半田内に沈められ、上部が溶融半田の液面上から突出した状態で前記静止型半田槽内の一側部の開始位置から他側部の終点位置へ移動することで前記溶融半田を攪拌しながら液面上の酸化膜を除去する板状の攪拌・除去板と、
前記攪拌・除去板を前記開始位置から前記終点位置へ移動させる駆動機構とを備えていることを特徴とする静止型半田槽装置。 A box-shaped static solder bath opened upward in which molten solder is stored;
The lower part is submerged in the molten solder, and the upper part protrudes from the liquid surface of the molten solder and moves from the start position of one side part to the end point position of the other side part in the static solder bath. A plate-like stirring / removing plate that removes the oxide film on the liquid surface while stirring the solder;
A stationary solder bath apparatus, comprising: a drive mechanism that moves the agitation / removal plate from the start position to the end position.
攪拌・除去板は、開始位置から終点位置へ移動する動作によって静止型半田槽の他側部に集められた集積酸化膜のうち、前記静止型半田槽の上縁を越える前記集積酸化膜の上積み部分を、前記静止型半田槽から排出する排出部を一体状に有していることを特徴とする静止型半田槽装置。 The static solder bath apparatus according to claim 1,
The agitation / removal plate is stacked on the integrated oxide film over the upper edge of the static solder tank among the integrated oxide films collected on the other side of the static solder tank by the movement from the start position to the end position. A static solder bath apparatus having a discharge portion for discharging the portion from the static solder bath in an integrated manner.
静止型半田槽の外側には、攪拌・除去板の排出部によって排出された排出酸化膜を受けて所定位置まで排出案内する排出シュートと、この排出シュートを通して排出された排出酸化膜を収納する回収箱とが配設されていることを特徴とする静止型半田槽装置。 The static solder bath apparatus according to claim 2,
On the outside of the static solder bath, a discharge chute that receives the discharge oxide film discharged by the discharge part of the stirring / removal plate and guides it to a predetermined position, and a recovery that stores the discharge oxide film discharged through this discharge chute A static solder bath apparatus, wherein a box is disposed.
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