JP2008272770A - Stationary solder bath device - Google Patents

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solder bath
solder
static
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oxide film
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Atsushi Hiraiwa
淳 平岩
Motonori Tanaka
元紀 田中
Daisuke Hasegawa
大輔 長谷川
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Kojima Industries Corp
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Kojima Press Industry Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stationary solder bath device using a stationary solder bath, and capable of reducing the temperature difference of molten solder in the stationary solder bath and satisfactorily removing an oxide film produced on the liquid surface of the molten solder. <P>SOLUTION: The stationary solder bath device includes: a box shaped stationary solder bath 10 which is open on top to store molten solder 12; a planar stirring/removing plate 21 which removes an oxide film 14 on the liquid level 13 while the molten solder 12 is stirred, by being sunk in the molten solder 12 in the lower part and by moving from a starting position on one side to an ending point position on the other side inside the stationary solder bath 10, with the upper part projected from the liquid level 13 of the molten solder 12; and a driving mechanism 30 which transfers the stirring/removing plate 21 from the starting position to the ending point position. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は静止型半田槽装置に関する。   The present invention relates to a static solder bath apparatus.

静止型半田槽内の溶融半田において、その底部近傍に配設されたヒータに近い部分においては加熱されやすく高温になり、液面近傍は外気に触れて低温になりやすい。このため溶融半田の温度管理が厄介となり、ときには、半田付けに影響を及ぼすことがある。
また、溶融半田の液面は外気に触れて酸化し、酸化膜が発生するため、この酸化膜の除去を頻繁に行わなければならず厄介であった。
また、従来、例えば、特許文献1に開示された回転式半田トレー(回転式半田槽装置)が知られている。
これにおいては、器体の上面に凹設された凹部内にトレー(円形トレー)を回転可能に設け、凹部の底板部に、器体内部に配設されたモータを駆動源とし、かつ歯車列機構によって回転される上下方向の回転軸を転がり軸受によって回転可能に取り付け、回転軸の上端部にトレー底部中心部をトルク伝達可能に連結し、さらに、トレーの溶融半田の液面にスカム除去体を配設した構造となっている。そして、トレーの回転によってトレー内の溶融半田を均一な状態に保ち、スカム除去体によって溶融半田の液面上の酸化膜を除去するようになっている。
実開平7−33456号公報
In the molten solder in the static solder bath, the portion near the heater disposed in the vicinity of the bottom of the molten solder is likely to be heated and becomes high temperature, and the vicinity of the liquid surface is likely to become low temperature by touching the outside air. For this reason, temperature management of molten solder becomes troublesome, and sometimes soldering is affected.
In addition, since the surface of the molten solder is oxidized by contact with the outside air and an oxide film is generated, it is troublesome to frequently remove the oxide film.
Conventionally, for example, a rotary solder tray (rotary solder bath apparatus) disclosed in Patent Document 1 is known.
In this, a tray (circular tray) is rotatably provided in a recess formed in the upper surface of the container, and a motor disposed in the container is used as a drive source on the bottom plate of the recess, and a gear train. The rotating shaft in the vertical direction rotated by the mechanism is rotatably mounted by a rolling bearing, the center of the bottom of the tray is connected to the upper end of the rotating shaft so that torque can be transmitted, and the scum removing body is attached to the liquid surface of the molten solder on the tray. It is the structure which arranged. The molten solder in the tray is kept in a uniform state by the rotation of the tray, and the oxide film on the liquid surface of the molten solder is removed by the scum remover.
Japanese Utility Model Publication No. 7-33456

ところで、特許文献1に開示された回転式半田トレー(回転式半田槽装置)においては、静止型半田槽には適応することができない。
また、器体上にトレーを、器体内部にモータ、歯車列機構、回転軸等を配設しなければならず、装置全体が大型化すると共に、構造が複雑化しコスト高となる傾向にある。
Incidentally, the rotary solder tray (rotary solder bath apparatus) disclosed in Patent Document 1 cannot be applied to a static solder bath.
In addition, a tray must be placed on the body, and a motor, gear train mechanism, rotating shaft, etc. must be placed inside the body, which tends to increase the size of the entire device, complicate the structure, and increase the cost. .

この発明の目的は、前記問題点に鑑み、静止型半田槽を用い、その静止型半田槽内の溶融半田の温度差を小さく抑制すると共に、溶融半田の液面上に発生する酸化膜を良好に除去することができる静止型半田槽装置を提供することである。   In view of the above problems, an object of the present invention is to use a static solder bath, to suppress the temperature difference of the molten solder in the static solder bath, and to improve the oxide film generated on the liquid surface of the molten solder. It is to provide a static solder bath apparatus that can be removed.

前記目的を達成するために、この発明の請求項1に係る静止型半田槽装置は、溶融半田が貯留される上方に開口した箱形状の静止型半田槽と、
下部が前記溶融半田内に沈められ、上部が溶融半田の液面上から突出した状態で前記静止型半田槽内の一側部の開始位置から他側部の終点位置へ移動することで前記溶融半田を攪拌しながら液面上の酸化膜を除去する板状の攪拌・除去板と、
前記攪拌・除去板を前記開始位置から前記終点位置へ移動させる駆動機構とを備えていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a static solder bath apparatus according to claim 1 of the present invention includes a box-shaped static solder bath opened upward in which molten solder is stored;
The lower part is submerged in the molten solder, and the upper part protrudes from the liquid surface of the molten solder and moves from the start position of one side part to the end point position of the other side part in the static solder bath. A plate-like stirring / removing plate that removes the oxide film on the liquid surface while stirring the solder;
And a drive mechanism for moving the agitation / removal plate from the start position to the end position.

前記構成において、駆動機構によって攪拌・除去板を静止型半田槽内の一側部の開始位置から他側部の終点位置まで移動させる簡単な構造によって、溶融半田を攪拌してその溶融半田の温度差を小さく抑制することができる共に、溶融半田の液面上に発生する酸化膜を良好に除去することができる。   In the above-described configuration, the molten solder is agitated by a simple structure in which the stirring / removal plate is moved by the drive mechanism from the start position on one side in the static solder bath to the end position on the other side. The difference can be suppressed small, and the oxide film generated on the liquid surface of the molten solder can be satisfactorily removed.

この発明の請求項2に係る静止型半田槽装置は、請求項1に記載の静止型半田槽装置であって、
攪拌・除去板は、開始位置から終点位置へ移動する動作によって静止型半田槽の他側部に集められた集積酸化膜のうち、前記静止型半田槽の上縁を越える前記集積酸化膜の上積み部分を、前記静止型半田槽から排出する排出部を一体状に有していることを特徴とする。
前記構成において、攪拌・除去板の排出部によって、静止型半田槽の他側部に集められた集積酸化膜のうちの上積み部分を排出することができる。これによって、集積酸化膜を手作業によって取り除く手間や、あるいは集積酸化膜を排出するための専用の排出装置を製作して組み付けるコストを削減することができる。
A static solder bath apparatus according to claim 2 of the present invention is the static solder bath apparatus according to claim 1,
The agitation / removal plate is stacked on the integrated oxide film over the upper edge of the static solder tank among the integrated oxide films collected on the other side of the static solder tank by the movement from the start position to the end position. The portion is integrally provided with a discharge portion that discharges the portion from the stationary solder bath.
In the above-described configuration, the stacked portion of the integrated oxide film collected on the other side of the stationary solder bath can be discharged by the discharge portion of the stirring / removal plate. As a result, it is possible to reduce the trouble of manually removing the integrated oxide film, or the cost of manufacturing and assembling a dedicated discharge device for discharging the integrated oxide film.

この発明の請求項3に係る静止型半田槽装置は、請求項2に記載の静止型半田槽装置であって、
静止型半田槽の外側には、攪拌・除去板の排出部によって排出された排出酸化膜を受けて所定位置まで案内する排出シュートと、この排出シュートに案内された排出酸化膜を受け入れて回収する回収箱とが配設されていることを特徴とする。
前記構成において、攪拌・除去板の排出部によって排出された排出酸化膜は排出シュートによって受けられて所定位置まで案内され回収箱内に投入されて回収される。
このため、排出酸化膜を回収する手間が不要となると共に、静止型半田槽の周囲に排出酸化膜が飛散して汚される不具合が生じない。
A static solder bath apparatus according to claim 3 of the present invention is the static solder bath apparatus according to claim 2,
On the outside of the static solder bath, the discharge oxide film discharged by the discharge portion of the stirring / removal plate is received and guided to a predetermined position, and the discharge oxide film guided by the discharge chute is received and collected. A collection box is provided.
In the above configuration, the discharged oxide film discharged by the discharge portion of the agitation / removal plate is received by the discharge chute, guided to a predetermined position, put into the recovery box, and recovered.
For this reason, the trouble of collecting the discharged oxide film becomes unnecessary, and there is no problem that the discharged oxide film is scattered and fouled around the stationary solder bath.

次に、この発明を実施するための最良の形態を実施例にしたがって説明する。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to examples.

(実施例1)
この発明の実施例1を図1〜図7にしたがって説明する。
図1はこの発明の実施例1に係る静止型半田槽装置を示す斜視図である。図2は攪拌・除去板の駆動機構を示す側断面図である。図3は攪拌・除去板が開始位置に配置された状態を示す説明図である。図4は攪拌・除去板が終点位置の直前まで移動された状態を示す説明図である。図5は攪拌・除去板が終点位置まで移動された状態を示す説明図である。図6は終点位置の攪拌・除去板が上昇端位置まで上昇された状態を示す説明図である。図7は開始位置に戻された攪拌・除去板が元の下降端位置まで下降された状態を示す説明図である。
Example 1
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
1 is a perspective view showing a stationary solder bath apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a side sectional view showing a drive mechanism of the stirring / removal plate. FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate is disposed at the start position. FIG. 4 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate is moved to just before the end point position. FIG. 5 is an explanatory view showing a state where the stirring / removal plate is moved to the end point position. FIG. 6 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate at the end position is raised to the rising end position. FIG. 7 is an explanatory view showing a state in which the stirring / removal plate returned to the start position is lowered to the original lower end position.

図1と図2に示すように、この実施例1に係る静止型半田槽装置は、主として、プリント基板の実装面上に配設される各種の電子部品のピンをプリント基板のランド(導電配線)に半田付けするものであり、静止型半田槽10、攪拌・除去板21、駆動機構30、排出シュート40、及び回収箱45を備えている。
図3に示すように、静止型半田槽10は、上方に開口する方形箱形状に形成され、静止型半田槽10内には溶融半田12が貯留され、底部にはヒータ11が内設されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the static solder bath apparatus according to the first embodiment mainly uses pins of various electronic components arranged on the mounting surface of the printed board as lands (conductive wiring). And a stationary solder tank 10, a stirring / removing plate 21, a drive mechanism 30, a discharge chute 40, and a collection box 45.
As shown in FIG. 3, the static solder bath 10 is formed in a rectangular box shape that opens upward, the molten solder 12 is stored in the static solder bath 10, and the heater 11 is installed at the bottom. Yes.

攪拌・除去板21は、静止型半田槽10内の溶融半田12が付着しにくいステンレス鋼板等より形成されると共に、静止型半田槽10の槽内の幅方向の寸法に対応する幅寸法を有し、かつ下部22が静止型半田槽10の溶融半田12(溶融半田12の深さ寸法の約1/4〜3/4程度の範囲)内に沈められ、上部23が溶融半田12の液面上から突出した状態で配置される。
また、攪拌・除去板21は、次に詳述する駆動機構30によって往復動及び昇降動される。
The agitation / removal plate 21 is formed of a stainless steel plate or the like to which the molten solder 12 in the static solder bath 10 is difficult to adhere, and has a width dimension corresponding to the width dimension in the static solder bath 10. In addition, the lower part 22 is submerged in the molten solder 12 (about 1/4 to 3/4 of the depth of the molten solder 12) in the static solder bath 10, and the upper part 23 is the liquid level of the molten solder 12. It is arranged in a state protruding from above.
The agitation / removal plate 21 is reciprocated and moved up and down by a drive mechanism 30 described in detail below.

図1と図2に示すように、駆動機構30は、往復作動機構32と昇降機構36とを備え、攪拌・除去板21を、静止型半田槽10内の一側部の開始位置から他側部の終点位置へ移動せることで溶融半田12を攪拌しながら液面13上の酸化膜14を除去する。さらに、攪拌・除去板21を終点位置へ移動させた後、その下端が溶融半田12の液面上から上方へ離反する上昇端位置まで上昇させて元の開始位置へ戻し、かつ元の下降端まで下降せる動作を順次に繰り返して行う。   As shown in FIGS. 1 and 2, the drive mechanism 30 includes a reciprocating mechanism 32 and an elevating mechanism 36, and the stirring / removing plate 21 is moved from the start position of one side portion in the stationary solder bath 10 to the other side. The oxide film 14 on the liquid surface 13 is removed while stirring the molten solder 12 by moving to the end point position of the part. Furthermore, after the stirring / removal plate 21 is moved to the end point position, the lower end of the stirring / removing plate 21 is raised to the rising end position where the molten solder 12 separates upward from the liquid level to return to the original starting position, and the original lowering end. The operation to descend to is repeated sequentially.

すなわち、この実施例1において、駆動機構30の往復作動機構32は、静止型半田槽10の外側の長手方向に沿って配置され、かつモータ(可逆転モータ)31を駆動源として長尺状のケース体32a内に回転可能に支持された送りねじ33と、ナット34とを備えている。
そして、ナット34に一体状をなして移動可能に連結された可動支持体35に昇降機構36としての昇降用シリンダ37が取り付けられ、この昇降用シリンダ37のロッド38の先端部に攪拌・除去板21の上部から延出された連結片26がねじ等によって連結されている。
なお、駆動機構30のモータ31及び昇降用シリンダ37は、制御装置(図示しない)によって設定されたプログラムに基づいて作動制御される。
That is, in the first embodiment, the reciprocating mechanism 32 of the drive mechanism 30 is disposed along the longitudinal direction outside the stationary solder tank 10 and is long with the motor (reversible motor) 31 as a drive source. A feed screw 33 rotatably supported in the case body 32a and a nut 34 are provided.
An elevating cylinder 37 as an elevating mechanism 36 is attached to a movable support 35 that is integrally connected to the nut 34 so as to be movable. A stirring / removing plate is attached to the tip of a rod 38 of the elevating cylinder 37. A connecting piece 26 extending from the upper portion of 21 is connected by a screw or the like.
The motor 31 and the lifting cylinder 37 of the drive mechanism 30 are controlled to operate based on a program set by a control device (not shown).

また、この実施例1において、攪拌・除去板21の上端部から水平状に折り曲げられた水平張出部24の先端に排出部25が下方に向けて折り曲げられている。そして、攪拌・除去板21が開始位置から終点位置へ移動する動作によって静止型半田槽10の他側部に集められた集積酸化膜15のうち、静止型半田槽10の他側壁に形成された排出口10a10aの上縁を越える集積酸化膜15の上積み部分15aを、排出部25によって静止型半田槽10の排出口10aから排出するようになっている。
また、静止型半田槽10の他側壁の排出口10aの上面高さは他方壁部より適宜に低く形成されている。一方、下降端位置にある攪拌・除去板21の排出部25の下端面の高さは、排出口10aの上面高さよりも若干高い位置に配置されるようになっている。
Further, in the first embodiment, the discharge portion 25 is bent downward from the top end of the horizontal overhang portion 24 bent horizontally from the upper end portion of the stirring / removal plate 21. The agitation / removal plate 21 is formed on the other side wall of the static solder bath 10 among the integrated oxide films 15 collected on the other side of the static solder bath 10 by the movement of the start position to the end position. The stacked portion 15a of the integrated oxide film 15 that exceeds the upper edge of the discharge port 10a10a is discharged from the discharge port 10a of the stationary solder bath 10 by the discharge unit 25.
In addition, the height of the upper surface of the discharge port 10a on the other side wall of the stationary solder tank 10 is appropriately lower than the other wall portion. On the other hand, the height of the lower end surface of the discharge portion 25 of the stirring / removal plate 21 at the descending end position is arranged at a position slightly higher than the upper surface height of the discharge port 10a.

図1と図3に示すように、静止型半田槽10の他側壁の排出口10aの外側には、攪拌・除去板21の排出部25によって排出された排出酸化膜(集積酸化膜15の上積み部分15a)16を所定位置まで排出案内する排出シュート40が所定の傾斜角度をもって設置されており、この排出シュート40の下傾端には、排出シュート40を通して排出された排出酸化膜16を受け入れて収納する回収箱45が配設されている。   As shown in FIGS. 1 and 3, on the outside of the discharge port 10a on the other side wall of the static solder bath 10, there is a discharge oxide film (stacked on the integrated oxide film 15) discharged by the discharge portion 25 of the stirring / removal plate 21. A discharge chute 40 for discharging and guiding the portion 15a) 16 to a predetermined position is installed at a predetermined inclination angle. The discharge oxide film 16 discharged through the discharge chute 40 is received at the lower inclined end of the discharge chute 40. A collection box 45 for storage is disposed.

この実施例1に係る半田槽装置は上述したように構成される。
したがって、攪拌・除去板21が開始位置にかつ下降端位置に配置された状態において、モータ31が正方向に作動され、送りねじ33が一方向に回転されることによって、ナット34と共に可動支持体35が移動され、これによって、攪拌・除去板21が図3に示す開始位置から図5に示す終点位置へ移動する。
The solder bath apparatus according to the first embodiment is configured as described above.
Accordingly, in a state where the stirring / removing plate 21 is disposed at the start position and the lower end position, the motor 31 is operated in the forward direction and the feed screw 33 is rotated in one direction, so that the movable support body together with the nut 34 is supported. As a result, the agitation / removal plate 21 is moved from the start position shown in FIG. 3 to the end point position shown in FIG.

ここで、昇降用シリンダ37が作動され、攪拌・除去板21が上昇端位置まで上昇される。すると、モータ31が逆方向に作動され、送りねじ33が前記とは逆方向に回転されることによって、ナット34と共に可動支持体35が逆移動され、これによって、図6に示すように、攪拌・除去板21が終点位置から元の開始位置まで後退移動される。
ここで、昇降用シリンダ37によって、攪拌・除去板21が元の下降端位置まで下降される(図7参照)。
なお、攪拌・除去板21が元の下降端位置まで下降された状態において、例えば、プリント基板のスルーホールに挿通された電子部品のピンが静止型半田槽10の溶融半田12の液面13に浸漬されることによって、プリント基板のランドに電子部品のピンが半田付けされる。
そして、半田付け終了後、再び、攪拌・除去板21が前記した各動作を順次に繰り返して行う。
Here, the elevating cylinder 37 is operated, and the stirring / removal plate 21 is raised to the rising end position. Then, the motor 31 is operated in the opposite direction, and the feed screw 33 is rotated in the opposite direction, whereby the movable support 35 is moved backward together with the nut 34. As a result, as shown in FIG. The removal plate 21 is moved backward from the end point position to the original start position.
Here, the agitation / removal plate 21 is lowered to the original lowered end position by the elevating cylinder 37 (see FIG. 7).
In the state where the agitation / removal plate 21 is lowered to the original lower end position, for example, the pin of the electronic component inserted into the through hole of the printed board is on the liquid surface 13 of the molten solder 12 in the stationary solder bath 10. By soaking, the pins of the electronic component are soldered to the land of the printed circuit board.
Then, after the soldering is completed, the agitating / removing plate 21 repeats the above-described operations in order.

図3と図5に示すように、攪拌・除去板21が静止型半田槽10内の一側部の開始位置から他側部の終点位置まで移動(前進)する動作によって、静止型半田槽10内の溶融半田12を攪拌してその溶融半田12の温度差を小さく抑制することができる共に、溶融半田12の液面13上に発生する酸化膜14を静止型半田槽10内の他側部に集めて良好に除去することができる。   As shown in FIG. 3 and FIG. 5, the static solder bath 10 is moved (moved forward) from the start position on one side of the static solder bath 10 to the end position on the other side in the static solder bath 10. The molten solder 12 in the molten solder 12 can be agitated to suppress the temperature difference between the molten solder 12 and the oxide film 14 generated on the liquid surface 13 of the molten solder 12 can be removed from the other side of the static solder bath 10. And can be removed well.

また、攪拌・除去板21が、図4に示す終点位置の直前位置から図5に示す終点位置へ移動する間において、この攪拌・除去板21の上部に一体に形成された排出部25の移動動作によって、静止型半田槽10の他側部に集められた集積酸化膜15のうち、上積み部分15aを排出口10aから排出することができる。これによって、集積酸化膜15を手作業によって取り除く手間や、あるいは集積酸化膜15を排出するための専用の排出装置を製作して組み付けるコストを削減することができる。   Further, while the agitation / removal plate 21 moves from the position immediately before the end point position shown in FIG. 4 to the end point position shown in FIG. By operation, among the integrated oxide film 15 collected on the other side of the static solder bath 10, the upper stacked portion 15a can be discharged from the discharge port 10a. As a result, it is possible to reduce the trouble of manually removing the integrated oxide film 15 or the cost of manufacturing and assembling a dedicated discharge device for discharging the integrated oxide film 15.

また、この実施例1において、静止型半田槽10の排出口10aから排出された排出酸化膜16は排出シュート40によって受けられ、この排出シュート40の下傾端まで落下案内された後、回収箱45内に投入されて回収される(図5参照)。
このため、排出酸化膜16を回収する手間が不要となると共に、静止型半田槽10の周囲に排出酸化膜16が飛散して汚される不具合が生じない。
Further, in the first embodiment, the discharged oxide film 16 discharged from the discharge port 10a of the stationary solder tank 10 is received by the discharge chute 40 and guided to drop to the lower inclined end of the discharge chute 40, and then the collection box. It is thrown into 45 and collected (see FIG. 5).
For this reason, the trouble of collecting the discharged oxide film 16 becomes unnecessary, and there is no problem that the discharged oxide film 16 is scattered around the stationary solder tank 10 and is contaminated.

(実施例2)
次に、この発明の実施例2を図8〜図10にしたがって説明する。
図8はこの発明の実施例2に係る静止型半田槽装置を示す斜視図である。図9は攪拌・除去板が開始位置から終点位置まで移動された状態を示す説明図である。図10は終点位置の攪拌・除去板が上昇端位置まで上昇された後、元の開始位置まで戻される状態を示す説明図である。
(Example 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 8 is a perspective view showing a stationary solder bath apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 9 is an explanatory view showing a state where the stirring / removal plate is moved from the start position to the end position. FIG. 10 is an explanatory view showing a state where the stirring / removal plate at the end point position is raised to the rising end position and then returned to the original starting position.

図8に示すように、この実施例2においては、ステンレス製の攪拌・除去板121の形状を変更し、排出シュート及び回収箱の設置を廃止したものである。
すなわち、攪拌・除去板121は、静止型半田槽10の槽内の幅方向の寸法に対応する幅寸法を有し、かつ下部122が静止型半田槽10の溶融半田12(溶融半田12の深さ寸法の約1/4〜3/4程度の範囲)内に沈められ、上部123が溶融半田12の液面13上から突出した状態で配置される四角板状に形成されている。
As shown in FIG. 8, in the second embodiment, the shape of the stainless steel stirring / removal plate 121 is changed and the installation of the discharge chute and the collection box is abolished.
That is, the agitation / removal plate 121 has a width dimension corresponding to the dimension in the width direction in the tank of the static solder tank 10, and the lower portion 122 is the molten solder 12 (the depth of the molten solder 12 in the static solder tank 10). The upper portion 123 is formed in a square plate shape that is disposed so as to protrude from the liquid level 13 of the molten solder 12.

また、この実施例2においても、攪拌・除去板121は、実施例1と同様の往復作動機構32、昇降機構36としての昇降用シリンダ37を備えた駆動機構30によって往復動及び昇降動される。そして、昇降用シリンダ37のロッド38の先端部に攪拌・除去板121の上部から延出された連結片126がねじ等によって連結されている。
この実施例2のその他の構成は実施例1と同様に構成されるためその説明は省略する。
Also in the second embodiment, the agitation / removal plate 121 is reciprocated and moved up and down by the drive mechanism 30 including the reciprocating mechanism 32 and the elevating cylinder 37 as the elevating mechanism 36 as in the first embodiment. . A connecting piece 126 extending from the top of the stirring / removing plate 121 is connected to the tip of the rod 38 of the lifting cylinder 37 by a screw or the like.
Since other configurations of the second embodiment are configured in the same manner as the first embodiment, the description thereof is omitted.

この実施例2に係る静止型半田槽装置は上述したように構成される。
したがって、攪拌・除去板121が開始位置にかつ下降端位置に配置された状態において、図9に示すように、開始位置から終点位置へ移動する。
ここで、攪拌・除去板121が上昇端位置まで上昇された後、図10に示すように、元の終点位置まで戻されて下降端位置まで下降される。
The static solder bath apparatus according to the second embodiment is configured as described above.
Therefore, in the state where the stirring / removing plate 121 is located at the start position and at the descending end position, as shown in FIG. 9, the stirring / removing plate 121 moves from the start position to the end point position.
Here, after the stirring / removal plate 121 is raised to the rising end position, as shown in FIG. 10, it is returned to the original end position and lowered to the lowering end position.

図9に示すように、攪拌・除去板121が静止型半田槽10内の一側部の開始位置から他側部の終点位置まで移動(前進)する動作によって、静止型半田槽10内の溶融半田12を攪拌してその溶融半田12の温度差を小さく抑制することができる共に、溶融半田12の液面13上に発生する酸化膜14を静止型半田槽10内の他側部に集めて良好に除去することができる。
また、静止型半田槽10内の他側部に集められて集積された集積酸化膜15は、手作業によって静止型半田槽10から排出することもでき、専用の排出装置を製作して設置することで対応することもできる。
As shown in FIG. 9, the melting in the static solder bath 10 is performed by the movement of the stirring / removal plate 121 from the start position on one side in the static solder bath 10 to the end position on the other side (advance). The solder 12 can be agitated to suppress the temperature difference between the molten solder 12 and the oxide film 14 generated on the liquid surface 13 of the molten solder 12 is collected on the other side of the static solder bath 10. It can be removed well.
Further, the integrated oxide film 15 collected and collected on the other side of the static solder bath 10 can be discharged from the static solder bath 10 by hand, and a dedicated discharge device is manufactured and installed. You can also respond.

この発明の実施例1に係る静止型半田槽装置を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a stationary solder bath apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. 同じく攪拌・除去板の駆動機構を示す側断面図である。It is a sectional side view which similarly shows the drive mechanism of a stirring and removal board. 同じく攪拌・除去板が開始位置に配置された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state by which the stirring / removal board was similarly arrange | positioned in the starting position. 同じく攪拌・除去板が終点位置の直前まで移動された状態を示す説明図である。Similarly, it is explanatory drawing which shows the state which the stirring and removal board was moved to just before an end point position. 同じく攪拌・除去板が終点位置まで移動された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state by which the stirring / removal board was similarly moved to the end point position. 同じく終点位置の攪拌・除去板が上昇端位置まで上昇された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state in which the stirring / removal board of the end point position was similarly raised to the raise end position. 同じく開始位置に戻された攪拌・除去板が元の下降端位置まで下降された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state in which the stirring / removal board similarly returned to the start position was lowered | hung to the original fall end position. この発明の実施例2に係る静止型半田槽装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the stationary type solder tank apparatus which concerns on Example 2 of this invention. 同じく攪拌・除去板が開始位置から終点位置まで移動された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state from which the stirring / removal board was similarly moved from the start position to the end point position. 同じく終点位置の攪拌・除去板が上昇端位置まで上昇された後、元の開始位置まで戻される状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which is similarly returned to the original start position, after the stirring and removal board of an end point position is raised to a raise end position.

符号の説明Explanation of symbols

10 静止型半田槽
12 溶融半田
13 液面
14 酸化膜
15 集積酸化膜
16 排出酸化膜
21、121 攪拌・除去板
22、122 下部
23、123 上部
25 排出部
30 駆動機構
40 排出シュート
45 回収箱
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Static type solder tank 12 Molten solder 13 Liquid surface 14 Oxide film 15 Integrated oxide film 16 Discharge oxide film 21, 121 Stirring / removal plate 22, 122 Lower 23, 123 Upper 25 Discharge part 30 Drive mechanism 40 Discharge chute 45 Collection box

Claims (3)

溶融半田が貯留される上方に開口した箱形状の静止型半田槽と、
下部が前記溶融半田内に沈められ、上部が溶融半田の液面上から突出した状態で前記静止型半田槽内の一側部の開始位置から他側部の終点位置へ移動することで前記溶融半田を攪拌しながら液面上の酸化膜を除去する板状の攪拌・除去板と、
前記攪拌・除去板を前記開始位置から前記終点位置へ移動させる駆動機構とを備えていることを特徴とする静止型半田槽装置。
A box-shaped static solder bath opened upward in which molten solder is stored;
The lower part is submerged in the molten solder, and the upper part protrudes from the liquid surface of the molten solder and moves from the start position of one side part to the end point position of the other side part in the static solder bath. A plate-like stirring / removing plate that removes the oxide film on the liquid surface while stirring the solder;
A stationary solder bath apparatus, comprising: a drive mechanism that moves the agitation / removal plate from the start position to the end position.
請求項1に記載の静止型半田槽装置であって、
攪拌・除去板は、開始位置から終点位置へ移動する動作によって静止型半田槽の他側部に集められた集積酸化膜のうち、前記静止型半田槽の上縁を越える前記集積酸化膜の上積み部分を、前記静止型半田槽から排出する排出部を一体状に有していることを特徴とする静止型半田槽装置。
The static solder bath apparatus according to claim 1,
The agitation / removal plate is stacked on the integrated oxide film over the upper edge of the static solder tank among the integrated oxide films collected on the other side of the static solder tank by the movement from the start position to the end position. A static solder bath apparatus having a discharge portion for discharging the portion from the static solder bath in an integrated manner.
請求項2に記載の静止型半田槽装置であって、
静止型半田槽の外側には、攪拌・除去板の排出部によって排出された排出酸化膜を受けて所定位置まで排出案内する排出シュートと、この排出シュートを通して排出された排出酸化膜を収納する回収箱とが配設されていることを特徴とする静止型半田槽装置。
The static solder bath apparatus according to claim 2,
On the outside of the static solder bath, a discharge chute that receives the discharge oxide film discharged by the discharge part of the stirring / removal plate and guides it to a predetermined position, and a recovery that stores the discharge oxide film discharged through this discharge chute A static solder bath apparatus, wherein a box is disposed.
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