JP6843057B2 - 殺菌システム - Google Patents

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Description

本発明は、容器のキャップ等の被殺菌物を殺菌するための殺菌システムに関する。
被殺菌物の一例としてのPETボトルなどの容器のキャップを殺菌する方法として、特開2013−28398号公報(特許文献1)に記載された殺菌方法が知られている。特許文献1では、過酸化水素の含む殺菌剤を容器やそのキャップ内に吹き込むことにより、容器内の殺菌を行う方法が記載されている。
特許文献1の殺菌方法のように過酸化水素を含む殺菌剤を用いた場合、殺菌剤がキャップに残留しないようにその後洗浄する必要がある。しかし、洗浄によって全ての殺菌剤を除去することは困難であり、殺菌剤がキャップに残留するリスクがある。また、特許文献1の殺菌方法では、殺菌剤噴霧やその後の洗浄は主として高温下で行われるため、熱収縮が生じる樹脂素材で形成されているPETボトルのキャップにおいては、過剰な熱収縮や変形を防ぐためにその殺菌工程に種々の制約を抱えることになる。
特開2013−28398号公報
これに対し、発明者は、ボトルに取付けるキャップ等の被殺菌物への殺菌剤の残留及び被殺菌物の過剰な熱収縮や変形のおそれのない、被殺菌物を殺菌するための殺菌装置として、プラズマを発生させて、そのプラズマと水蒸気とを反応させることにより生成される活性酸素を用いてプラズマとともに殺菌を行う新規の方法を見出した。活性酸素は時間経過に伴い消滅するため残留することがなく、かつ、活性酸素を用いた殺菌は被殺菌物に対して熱収縮を生じさせるほどの熱を与える必要はない。したがって、このプラズマと活性酸素を含む殺菌剤による殺菌を行う方法によれば、上記した殺菌剤残留や被殺菌物の熱収縮・変形の問題を回避できる。しかし、この方法は新規な方法であるため、この方法を用いた殺菌システムの効率的な運転についてはまだ十分には検討されていない。
そこで、活性酸素を用いた殺菌を効率的に行うことができる殺菌システムの実現が望まれる。
本発明に係る殺菌システムは、
プラズマを発生させて、得られたプラズマにより被殺菌物を殺菌する殺菌装置と、
その内部で前記殺菌装置が前記殺菌を行うチャンバーと、を備える殺菌システムであって、
記殺菌装置は、
前記プラズマとして、供給される酸素からオゾンを含む酸素プラズマを生成するプラズマ生成部と
前記プラズマ生成部に前記酸素を供給する酸素供給路と、
殺菌剤を吐出する吐出口と、
前記プラズマ生成部と前記吐出口との間の中継部と、
前記中継部に水蒸気を供給する水蒸気供給部と、を有し、
記酸素プラズマと、供給される前記水蒸気と前記酸素プラズマとが反応して生成される活性酸素と前記殺菌剤として前記吐出口から吐出され
前記チャンバーは、吐出される前記酸素プラズマに含まれる前記オゾンを回収して導通路によって前記殺菌装置に返還するオゾン回収部を有し、
前記導通路は、前記オゾンを含む前記酸素プラズマとともに回収された前記オゾンを前記中継部に供給して前記水蒸気と反応させるために、前記酸素供給路に接続され、または前記プラズマ生成部に直接接続されている
上記構成について説明すると、殺菌装置において酸素(O)が供給され、酸素をプラズマ化することで、酸素ラジカルとオゾン(O)とを含む酸素プラズマが生成され、これを水蒸気と反応させることにより、活性酸素が生成される。特に、酸素プラズマと水蒸気を反応させることにより、活性酸素の中でも特に反応性の高いヒドロキシラジカル(・OH)が主に生成される。
具体的に説明すると、水蒸気とプラズマが反応することにより、以下の(1)式のようにHOから水素ラジカル(・H)とヒドロキシラジカルが生成される。
O → ・H+・OH・・・・・(1)
また、水素ラジカルはオゾンと反応して、以下の(2)式のようにヒドロキシラジカルと酸素(O)が生成される。
・H+O → ・OH+O・・・・・(2)
(1)式と(2)式は、次の(3)式にまとめることができる。
O+O → 2・OH+O・・・・・(3)
つまり、酸素プラズマと水蒸気を反応させることにより、上記(3)式のように、オゾンとHOとが反応して、効率的にヒドロキシラジカル(・OH)を生成することができる。その結果、生成される活性酸素は、ヒドロキシラジカルを主として含むこととなる。このように、オゾンとHOとを反応させることにより、特に反応性の高いヒドロキシラジカルを主として含むことになり、高い殺菌効果を奏することができる。
しかし、オゾンは必ずしも全てHOと反応するわけではなく、水蒸気と未反応の酸素プラズマとして、オゾンも殺菌装置から吐出されることになる。そこで、上記構成によれば、吐出される酸素プラズマに含まれるオゾンを回収して殺菌装置に返還するオゾン回収部を備えている。これにより、ヒドロキシラジカルを生成するのにオゾンを再利用できるから、オゾンの無駄のない運転が可能になる。したがって、活性酸素を用いた殺菌を効率的に行うことができる。
以下、本発明に係る殺菌システムの好適な態様について説明する。但し、以下に記載する好適な態様例によって、本発明の範囲が限定される訳ではない。
一つの態様として、前記オゾン回収部で回収した前記オゾンを、前記酸素とともに前記殺菌装置に供給すると好適である。
この構成によれば、回収したオゾンを供給される酸素とともに殺菌装置に返還するから、酸素や水蒸気とは別の箇所からオゾンを殺菌装置内に戻すのに比べ、装置構成を簡略化できる。
一つの態様として、前記導通路は、前記プラズマ生成部に直接接続されていると好適である。
この構成によれば、回収したオゾンを供給される水蒸気とともに殺菌装置に返還するから、酸素や水蒸気とは別の箇所からオゾンを殺菌装置内に戻すのに比べ、装置構成を簡略化できる。
一つの態様として、前記オゾン回収部で回収した前記オゾンを除湿する除湿部を備えると好適である。
オゾン回収部が回収するオゾンガス中に水蒸気が含まれている場合に、例えば、水蒸気を含んだ状態のオゾンがプラズマ生成部に返還されると、水蒸気によりプラズマ生成部が不具合を起こすおそれがある。これに対し、上記構成では、回収したオゾンを除湿する除湿部を備えるから、活性酸素を生成するのに安全にオゾンを再利用することができる。
一つの態様として、前記オゾン回収部で回収した前記オゾンの量を測定するオゾン測定器と、前記オゾン測定器で測定された前記オゾンの量に基づいて前記殺菌装置に供給する前記酸素の量を調整する供給酸素制御部と、を備えると好適である。
オゾンを再利用する場合、その分だけ供給する酸素の量を減らしたとしても、同じ量の活性酸素を生成することが可能である。これに対し、上記構成では、再利用するオゾンの量だけ、供給される酸素の量を調整して、酸素使用量を低減することができる。これにより、活性酸素を用いた殺菌を一層効率的に行うことができる。
活性酸素を用いた殺菌を行う殺菌装置の概略構成図 活性酸素を用いた殺菌を行う殺菌装置の装置構成ブロック図 殺菌システムの概略構成図 第1実施形態における殺菌システムを示す図 第2実施形態における殺菌システムを示す図
〔第1の実施形態〕
本発明に係る殺菌システムの実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態の殺菌システム100は、被殺菌物の一例としてのPETボトルなどの容器のキャップ80を殺菌するものであり、プラズマを発生させて、得られたプラズマによりキャップ80を殺菌する殺菌装置1を備える。殺菌装置1には、酸素と水蒸気とが供給され、殺菌装置1は、供給される酸素からオゾンを含む酸素プラズマを生成し、生成した酸素プラズマと、供給される水蒸気と酸素プラズマとが反応して生成される活性酸素(Reactive Oxidizing Species(ROS)、例えばOH radicalやsingulet oxygenなど)と、を含む殺菌剤を吐出し、キャップ80の殺菌を行う。そこで、まず、活性酸素を用いた殺菌を行うための殺菌装置1の装置構成について説明する。
図1は、殺菌装置1による活性酸素の生成機構を示す。殺菌装置1は、活性酸素を生成して、活性酸素を含む殺菌剤70をキャップ80に対して吐出(照射)するノズル10を有している。このノズル10は、プラズマを生成するプラズマ生成部11と、プラズマと活性酸素とを含む殺菌剤70を吐出する吐出口12と、プラズマ生成部11と吐出口12との間に配置された中継部13と、を備える。なお、図1,4,5では殺菌装置1が活性酸素を含む殺菌剤70をキャップ80に対して直接的に吐出する構成を示してあるが、これに限られず、キャップ80に殺菌剤70を直接吐出させるのではなくキャップ80を通過させるチャンバー内に殺菌剤70を吐出して、チャンバー内に充満させた殺菌剤70によりキャップ80を殺菌する等、間接的にキャップ80を殺菌するようにしてもよい。
このノズル10は装置内でプラズマとしていわゆる大気圧プラズマを生成するものである。大気圧プラズマを用いることにより、低圧プラズマを生成する際に必要な真空容器などを要せず装置コストを低減でき、また連続処理が可能であるため作業効率が高い。また、低温下でも生成できるため、被処理物を高温にさらさずに済むという利点もある。以下に、ノズル10による大気圧プラズマ(以下、単にプラズマと称する)の生成と、プラズマを利用した活性酸素の生成について説明する。
プラズマ生成部11は、周知の構造を有しており、内部電極11aと外部電極11bとを備える。プラズマ生成部11では、交流電源20により、内部電極11aと外部電極11bとの間に高電圧(例えば、周波数14kHzで実効電圧20kV)を印加することで、プラズマ生成部11内に電界を発生させる。そして、プラズマ生成部11内にエアー(air)とともにガスを供給し、発生電界にガスを通気させることにより、プラズマを生成する。生成されたプラズマは、中継部13へと送られる。本実施形態では、プラズマ生成部11内にガスの一例として酸素(O、ozygen)が供給され、プラズマ生成部11では、プラズマとして、オゾンを含む酸素プラズマが生成される。具体的にはプラズマ化により酸素ラジカルとオゾン(O)が発生し、これらが中継部13へと送られる。
中継部13は、エバポレータ40と接続してあり、中継部13にはさらに水蒸気が送られる。これにより、中継部13において、プラズマ生成部11から送られるプラズマ(酸素ラジカルとオゾン)とエバポレータ40から送られる水蒸気(vapor)とが反応して、活性酸素が生成される。本実施形態では、酸素プラズマ(酸素ラジカルとオゾン)と水蒸気を反応させることにより、活性酸素の中でも特に反応性の高いヒドロキシラジカル(・OH)が主に生成されるようにしている。
具体的に説明すると、水蒸気とプラズマが反応することにより、以下の(4)式のようにHOから水素ラジカル(・H)とヒドロキシラジカルが生成される。
O → ・H+・OH・・・・・(4)
また、水素ラジカルはオゾンと反応して、以下の(5)式のようにヒドロキシラジカルと酸素(O)が生成される。
・H+O → ・OH+O・・・・・(5)
(4)式と(5)式は、次の(6)式にまとめることができる。
O+O → 2・OH+O・・・・・(6)
つまり、酸素プラズマと水蒸気を反応させることにより、上記(6)式の反応を生じさせて効率的にヒドロキシラジカル(・OH)を生成することができる。その結果、生成される活性酸素は、ヒドロキシラジカルを主として含むこととなる。特に反応性の高いヒドロキシラジカルを主として含むことにより、高い殺菌効果を奏することができる。そして、このように生成された活性酸素と水蒸気と未反応のプラズマ(酸素ラジカルとオゾン)とが殺菌剤70として吐出口12からキャップ80に吐出されて、キャップ80の殺菌が行われる。
次に、図2に示された活性酸素を用いて殺菌を行う殺菌装置1の装置構成を説明する。殺菌装置1は、ノズル10のほか、交流電源20を構成するジェネレーター21とトランスフォーマー22、ノズル10やエバポレータ40に各種ガスを供給するガス供給機30、中継部13に水蒸気を送るエバポレータ40、エバポレータ40に水を供給するポンプ50、ノズル10に冷却水を供給するチラー60と、を備える。
ジェネレーター21は交流電流を発生する。例えば、本実施形態では、周波数が14kHzで、実効電圧300V、実効電流11Aの条件のものを用いている。そして、ジェネレーター21から供給された交流電流の電圧をトランスフォーマー22にて300Vから20kVまで昇圧する。これにより、プラズマ生成部11における内部電極11aと外部電極11bとの間に20kVの高電圧を印加する。
ガス供給機30は、プラズマ生成部11に接続されて、ノズル10(プラズマ生成部11)に対し、エアーとともに酸素(O)を供給する。また、エバポレータ40に対し、エバポレータ40で生成された水蒸気を中継部13に送るためのエアーを供給する。ガス供給機30は、コントロールパネル31を有する。このコントロールパネル31を操作することで、各種ガスの対象への供給量を調整することができる。本実施形態では、コントロールパネル31を操作することにより、例えば、ノズル10に対してはエアーを6L/minで酸素を3L/minで送り、エバポレータ40にはエアーを3L/minで送るようにしてある。
エバポレータ40は、中継部13に接続され、中継部13に水蒸気を送る。具体的には、内蔵された電熱線(図示しない)を300℃に加熱し、ポンプ50から供給される水を電熱線により加熱して水蒸気を発生させる。そして、ガス供給機30から供給されるエアーに水蒸気が混合されて、エアーとともに水蒸気が中継部13に供給される。なお、本実施形態では、例えば、ポンプ50はエバポレータ40に水(water)を1.2mL/minで供給する。
チラー60は、ノズル10に冷却水(coolong water)を供給することにより、高電圧が印加されることにより発熱するノズル10を冷却する。
上記のように構成された殺菌装置1では、ガス供給機30からノズル10に対してエアーとともに供給される酸素がノズル10のプラズマ生成部11でプラズマ化し、生成された酸素プラズマが中継部13においてエバポレータ40からエアーとともに供給される水蒸気と反応してヒドロキシラジカルを主とする活性酸素が連続的に生成される。そして、中継部13で連続的に生成される活性酸素と水蒸気と未反応のプラズマとが殺菌剤70として吐出口12から連続的に吐出されて、これにより、キャップ80の連続処理が可能となる。本実施形態では、例えば、プラズマと活性酸素を含む殺菌剤70が50〜80℃の温度で、50000mm/secの流量で吐出口から吐出される。
活性酸素を用いた殺菌を行うことにより、次のような利点がある。過酸化水素を含む殺菌剤を用いた場合、殺菌剤が被殺菌物に残留しないようにその後洗浄する必要がある。しかし、洗浄によって全ての殺菌剤を除去することは困難であり、殺菌剤が被殺菌物に残留するリスクがある。また、殺菌剤噴霧やその後の洗浄は主として高温下で行われるため、被殺菌物が樹脂素材などの熱収縮が生じる素材である場合、過剰な熱収縮や変形を防ぐためにその殺菌工程に種々の制約を抱えることになる。これに対し、活性酸素は時間経過に伴い消滅するため残留することがなく、かつ、活性酸素を用いた殺菌は被殺菌物に対して熱収縮を生じさせるほどの熱を与える必要はない。したがって、上記した殺菌剤残留や被殺菌物の熱収縮・変形の問題を回避できる。
以上が、活性酸素を用いた殺菌のための装置構成であるが、本実施形態に係る殺菌システム100では、より効率的な運転を行うため、プラズマ生成部11で生成され、吐出口12から未反応のプラズマとして放出されるオゾンを回収して殺菌装置1に返還し、再利用する構成としてある。つまり、上記したように、オゾンはヒドロキシラジカルを生成するのに利用されるものであり、吐出口12から吐出される未反応のオゾンを殺菌装置1に返還し、ヒドロキシラジカルを生成するのに再利用することで、オゾンの無駄のない効率的な運転を可能にしている。以下、その構成について、図3,4を例に説明する。
図3は本実施形態に係る殺菌システム100の概略構成を示し、本実施形態に係る殺菌システム100は、吐出口12から吐出される酸素プラズマに含まれるオゾンを回収するオゾン回収部120を備える。より詳しくは、殺菌装置1はチャンバー110内でキャップ80の殺菌を行う構成にし、該チャンバー110にオゾン回収部120が設けられている。そして、本実施形態に係る殺菌システム100は、オゾン回収部120で回収したオゾンを除湿する除湿部130を備え、除湿部130により除湿されたオゾンが殺菌装置1に返還され、ヒドロキシラジカルを生成するのに再利用される。
なお、オゾン回収部120は、オゾンを回収可能なものであれば特に限定されず、例えば、フィルターを用いてオゾンのみを選択的に回収するものであってもいいし、例えば吸引ファン等によって、オゾンを含んだ状態にあるチャンバー110内のガスを回収するものであってもよい。また、除湿部130もオゾンガスを除湿可能であれば特に限定されず、公知の適当な方法により除湿を行えばよい。
図4は本実施形態に係る殺菌システム100の具体的構成を示す(なお、図4では、殺菌装置1におけるノズル10以外の構成については省略してある)。図4に示すように、本実施形態では、オゾン回収部120で回収したオゾンを、ガス供給機30から供給される酸素とともにプラズマ生成部11に供給する。詳しくは、ノズル10はチャンバー110内に配置され、例えばコンベア等の搬送部90により搬送されるキャップ80を、チャンバー110内で殺菌する。チャンバー110にはオゾン回収部120が設けられており、吸引口121からチャンバー110内のガスとともにオゾンを吸引する。そして、オゾン回収部120の上方には除湿部130が連設されており、除湿部130によりオゾン回収部120が回収したオゾンガスを除湿する(HOを分離する)。除湿部130における除湿後のオゾンガスの導通路131は、ガス供給機30からの酸素を供給する酸素供給路32に連結され、これにより、ガス供給機30からエアー(air)により供給される酸素(O)とともにオゾン回収部120により回収した除湿後のオゾンガス(O)がプラズマ生成部11に供給される。そして、オゾン回収部120により回収したオゾンも中継部13へと供給され、水蒸気(HO)との反応によるヒドロキシラジカルの生成に再利用されることになる。このように、オゾンを無駄なく使用できるから、活性酸素を用いた殺菌が一層効率的に行われる。
また、水蒸気を含んだ状態のオゾンがプラズマ生成部11に返還されると、水蒸気によりプラズマ生成部11が不具合を起こすおそれがあるが、除湿部130により除湿をおこなったオゾンガスを活性酸素を生成するのに安全に再利用することができる。
〔第2の実施形態〕
本発明に係る殺菌システムの第2の実施形態について、図5を参照して説明する。本実施形態では、オゾン回収部120が回収したオゾンガスの行先が第1の実施形態と異なっている。以下、本実施形態に係る殺菌システムについて、主に第1の実施形態との相違点について説明する。なお、特に明記しない点に関しては、第1の実施形態と同様であり、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図5に示す本実施形態に係る殺菌システム100では、除湿部130における除湿後のオゾンガスの導通路131は、エバポレータ40からの水蒸気を供給する水蒸気供給路41に連結され(なお、図5ではオゾンガスの導通路131と水蒸気供給路41との連結部分については省略してある)、これにより、エバポレータから供給される水蒸気(HO)とともにオゾン回収部120により回収したオゾン(O)が中継部13に供給される。そして、オゾン回収部120により回収したオゾンも中継部13へと供給され、回収したオゾンも中継部13における酸素プラズマと水蒸気(HO)との反応によるヒドロキシラジカルの生成に再利用されることになる。このように、オゾンを無駄なく使用できるから、活性酸素を用いた殺菌が一層効率的に行われる。
なお、本実施形態では、除湿部130を省き、オゾン回収部120により回収したオゾンガスを除湿することなくそのまま水蒸気供給路41に供給するようにしてもよい。
〔その他の実施形態〕
最後に、本発明に係る殺菌システムのその他の実施形態について説明する。なお、以下のそれぞれの実施形態で開示される構成は、矛盾が生じない限り、他の実施形態で開示される構成と組み合わせて適用することも可能である。
(1)上記の実施形態において、殺菌システム100は、オゾン回収部120で回収したオゾンの量を測定するオゾン測定器と、オゾン測定器で測定されたオゾンの量に基づいてガス供給機30が供給する酸素の量を調整する供給酸素制御部と、を備えていてもよい。これにより、殺菌装置1に返還されるオゾンの分だけガス供給機30が供給する酸素の量を低減させるといった運転が可能となる。これにより、一層無駄のない効率的な運転が可能となる。
(2)上記の実施形態では、回収したオゾンを酸素又は水蒸気とともに殺菌装置1に返還する構成を例として説明した。しかし、本発明の実施形態はこれに限定されない。例えば、オゾンガスの導通路131を酸素供給路32や水蒸気供給路41に連結することなく、直接殺菌装置1に連結し、回収したオゾンを殺菌装置1に返還するようにしても良い。
(3)上記の実施形態では、被殺菌物としてキャップ80を用いた構成を例に説明した。しかし、本発明の実施形態はこれに限定されず、被殺菌物として何を用いるかは適宜変更可能である。
(4)上記の実施形態では、チャンバー110内にノズル10が設けて、殺菌剤70をキャップ80に対して直接的に吐出する構成を示したが、チャンバー110外にノズル10を設け、且つ、チャンバー110に吐出口12を接続した状態とし、チャンバー110中に殺菌剤70を吐出して、チャンバー110内に充満させた殺菌剤70により間接的にキャップ80を殺菌する等、キャップ80を間接的に殺菌するようにしてもよい。
(5)その他の構成に関しても、本明細書において開示された実施形態は全ての点で例示であって、本発明の範囲はそれらによって限定されることはないと理解されるべきである。当業者であれば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜改変が可能であることを容易に理解できるであろう。従って、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変された別の実施形態も、当然、本発明の範囲に含まれる。
本発明は、例えばキャップなどの被殺菌物を殺菌するための殺菌システムに利用することができる。
1 殺菌装置
70 殺菌剤
80 キャップ(被殺菌物)
100 殺菌システム
120 オゾン回収部
130 除湿部

Claims (5)

  1. プラズマを発生させて、得られたプラズマにより被殺菌物を殺菌する殺菌装置と、
    その内部で前記殺菌装置が前記殺菌を行うチャンバーと、を備える殺菌システムであって、
    記殺菌装置は、
    前記プラズマとして、供給される酸素からオゾンを含む酸素プラズマを生成するプラズマ生成部と
    前記プラズマ生成部に前記酸素を供給する酸素供給路と、
    殺菌剤を吐出する吐出口と、
    前記プラズマ生成部と前記吐出口との間の中継部と、
    前記中継部に水蒸気を供給する水蒸気供給部と、を有し、
    記酸素プラズマと、供給される前記水蒸気と前記酸素プラズマとが反応して生成される活性酸素と前記殺菌剤として前記吐出口から吐出され
    前記チャンバーは、吐出される前記酸素プラズマに含まれる前記オゾンを回収して導通路によって前記殺菌装置に返還するオゾン回収部を有し、
    前記導通路は、前記オゾンを含む前記酸素プラズマとともに回収された前記オゾンを前記中継部に供給して前記水蒸気と反応させるために、前記酸素供給路に接続され、または前記プラズマ生成部に直接接続されている殺菌システム。
  2. 前記オゾン回収部で回収した前記オゾンを、前記酸素とともに前記殺菌装置に供給する請求項1に記載の殺菌システム。
  3. 前記導通路は、前記プラズマ生成部に直接接続されている請求項1又は2に記載の殺菌システム。
  4. 前記オゾン回収部で回収した前記オゾンを除湿する除湿部を備える請求項2又は3に記載の殺菌システム。
  5. 前記オゾン回収部で回収した前記オゾンの量を測定するオゾン測定器と、
    前記オゾン測定器で測定された前記オゾンの量に基づいて前記殺菌装置に供給する前記酸素の量を調整する供給酸素制御部と、を備える請求項2〜4のいずれか1項に記載の殺菌システム。
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