JP6834519B2 - 電子機器、プログラム、及び、テストパターンの解析方法 - Google Patents

Description

本開示は、テストパターンを解析するための機器、プログラム、及び方法に関する。

シートにテストパターンを形成する画像形成システムが知られている（特許文献１参照）。テストパターンの形成は、画像形成時の制御誤差、例えばシートの搬送誤差を抑えてシートに高品質な画像を形成するために行われる。画像形成システムとしては、インクジェットプリンタ及びドットインパクトプリンタに代表されるシリアルプリンタや、レーザプリンタ及びＬＥＤプリンタに代表される電子写真方式のページプリンタが知られている。

特開２０１３−２２６７５９号公報

テストパターンの形成方法としては、シートを微小量搬送してシートに第二のパターンを形成する動作を、シートに第一のパターンを形成した後、繰り返し実行する方法が知られている。搬送誤差は、微小量搬送毎に形成された第二のパターンと第一のパターンとの重なりに基づいて判定される。

別のテストパターン形成方法としては、記録ヘッド（インクジェットヘッド）が有する全ノズル群の内、シート搬送方向に対して上流側に位置するノズル群を用いて、シートに主走査方向の第一のパターンを形成し、シートを所定量搬送した後に、全ノズル群の内、下流側に位置するノズル群を用いて、シートに、主走査方向に対して傾斜した第二のパターンを形成する方法が知られている。第一のパターンは、主走査方向に沿ってドットが配列された直線形状にされる。第二のパターンは、主走査方向に沿う所定長さのドット列が、主走査方向に対して斜めに複数配列された階段形状にされる。搬送誤差は、第一のパターンと第二のパターンとの重なりに基づいて判定される。

しかしながら、従来技術によれば、微小量搬送なしでテストパターンを迅速に形成しつつ、当該テストパターンに基づき制御誤差を高精度に判定することが難しかった。
そこで、本開示の一側面によれば、新規なテストパターンに基づく、テストパターンの新規な解析技術を提供できることが望ましい。例えば、迅速に形成可能なテストパターンから制御誤差を高精度に判定可能な技術を提供できることが望ましい。

本発明者らは、迅速に形成可能なテストパターンを用いて制御誤差を高精度に判定するために、基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、基準方向に第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが基準方向と第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、第一のパターンと第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを、シートを形成することを想到するに至った。

第一のパターン及び第二のパターンの両者を基準方向に異なる角度で傾斜させることは、画像形成システムが形成可能な画像の解像度、特に基準方向に直交する方向における画像の解像度に限界がある場合において、有益である。即ち、第一のパターン及び第二のパターンのいずれか一方が基準方向に平行である場合よりも、第一のパターンと第二のパターンとが互いにより小さい角度で交わるようにテストパターンを形成することができる。

第一のパターンと第二のパターンとの間の角度を小さくすることによっては、制御誤差に起因する第一のパターンと第二のパターンとの相対位置の基準方向に直交する方向への変化に対する第一のパターンと第二のパターンとの交点位置の基準方向への変化を大きくすることができる。従って、この交点位置を検出することによって、基準方向に直交する方向への変化を生じさせる制御誤差を高精度に判定することができる。以下に説明する本開示の技術によれば、この交点位置の高精度な検出を可能にする。この交点位置の高精度な検出が、制御誤差の判定精度を向上させる。

本開示の一側面によれば、交点位置を検出するための電子機器が提供される。電子機器は、取得ユニットと、算出ユニットと、検出ユニットとを備える。
取得ユニットは、基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、基準方向に第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが基準方向と第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、第一のパターンと第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する。

算出ユニットは、読取画像データに基づき、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの重なり画像の基準方向とは直交する方向の幅を、基準方向において異なる複数地点に関して算出する。

検出ユニットは、算出した複数地点の幅の分布に基づき、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの交点位置を検出する。この電子機器によれば、分布に基づき交点位置を検出するので、高精度に交点位置を検出することができる。

本開示の一側面によれば、算出ユニットは、読取画像データが示す各画素の輝度と判定値との比較によりテストパターンに対応する画素を判別して、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの重なり画像の基準方向とは直交する方向の幅を、基準方向において異なる複数地点に関して算出するように構成され得る。テストパターンは、第一のパターン及び第二のパターンとは別に、直交する方向に既知の幅を有するモデルパターンを有した構成にされ得る。

この場合、算出ユニットは、上記判定値として、読取画像データから算出されるモデルパターンの直交する方向の幅が上記既知の幅に適合する判定値を設定し、設定した判定値に基づきテストパターンに対応する画素を判別して、重なり画像の複数地点の幅を算出するように構成され得る。モデルパターンに基づき判定値を設定する電子機器によれば、シート、並びに、インク及びトナー等の着色材の材質の影響を抑えて、高精度に幅を算出することができる。従って、高精度に交点位置を検出することができる。

本開示の一側面によれば、算出ユニットは、読取画像データから算出される重なり画像の複数地点の幅を、読取画像データから算出されるモデルパターンの幅とモデルパターンの既知の幅との誤差に基づき補正するように構成されてもよい。検出ユニットは、補正後の複数地点の幅の分布に基づいて、交点位置を検出するように構成され得る。この電子機器によれば、上記補正によって、交点位置を高精度に検出することができる。

本開示の一側面によれば、複数地点の幅のそれぞれは、当該複数地点の内の対応する地点を基準とするエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の直交する方向の幅の一群に対する評価値として算出されてもよい。エリアは、基準方向に所定画素数を有するエリアであり得る。評価値は、当該エリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の直交する方向の幅の平均値若しくは合計値、又は、これらと等価な値であり得る。

本開示の一側面によれば、複数地点の幅のそれぞれは、当該複数地点の内の対応する地点を基準とするエリアであって基準方向及び直交する方向のそれぞれに所定画素数を有するエリア内の各画素の輝度を二値化したときのエリア内の輝度の合計値又は合計値と等価な値として算出されてもよい。

本開示の一側面によれば、算出ユニットは、重なり画像において、直交する方向の幅が設計上同一であるグループ毎に、当該グループにおける基準方向に沿う各画素位置での直交する方向の幅の平均値又は中央値を算出するように構成されてもよい。算出ユニットは、上記複数地点のそれぞれに対応するエリア毎に、各グループの幅を平均値又は中央値に置換するように重なり画像を整形したときの、エリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出することにより、複数地点の幅のそれぞれを上記評価値の形態で算出するように構成されてもよい。

本開示の一側面によれば、上記のテストパターンは、テストパターンをシートに形成する画像形成システムの個体差に起因して、シートへの形成時に、第一のパターンと第二のパターンとの間の相対位置が直交する方向に変化するテストパターンであり得る。本開示の一側面によれば、このようなテストパターンの解析に好適な電子機器を提供することができる。

本開示の一側面によれば、シートの読取画像データを取得する取得ユニットと、読取画像データに基づき、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの重なり画像の基準方向とは直交する方向の幅を、基準方向において異なる複数地点に関して算出する算出ユニットと、算出した複数地点の幅の分布に基づき、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの交点位置を検出する検出ユニットと、を備え、複数地点の幅のそれぞれが、対応する地点を中心とするエリアであって基準方向に所定画素数を有するエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値であり、算出ユニットが、複数地点のそれぞれの評価値として、第一のブロック及び第二のブロックの直交する方向に沿う端縁が直交する方向に揃う基準方向の地点を基点に、基点から基準方向に第一の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって基準方向に第二の長さに対応する画素数を有するエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出するように構成された電子機器が提供されてもよい。第一の間隔は、第一のブロックと同じ第一の長さであり得る。

あるいは、算出ユニットは、基点から基準方向に第二の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって基準方向に第一の長さに対応する画素数を有するエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出するように構成されてもよい。第二の間隔は、第二のブロックと同じ第二の長さであり得る。

一例によれば、第一の長さＷ１及び第二の長さＷ２は、基準方向における単位長さの整数倍であり、第二の長さＷ２と第一の長さＷ１との差（Ｗ２−Ｗ１）は、第一の長さＷ１と第二の長さＷ２との最大公約数に一致する。この場合に、第一の間隔は、第一の長さＷ１であり得て、第二の間隔は、第二の長さＷ２であり得る。

上記第一及び第二の間隔によれば、交点位置を基準とした基準方向における評価値の線形性が理論上確保され、複数地点の幅（評価値）の分布に基づく交点位置の検出を、高精度に行うことができる。このエリアは、直交する方向に所定画素数を有するエリアであり得て、評価値は、エリア内の各画素の輝度を二値化したときの輝度の合計値又は合計値と等価な値であり得る。

本開示の一側面によれば、検出ユニットは、基準方向における複数地点の幅の分布に対してモデル曲線を基準方向に移動させたときに、複数地点の幅の分布とモデル曲線との間のずれ量が最小となるモデル曲線の配置において、モデル曲線が極値を示す基準方向の位置を、交点位置として検出するように構成されてもよい。

本開示の一側面によれば、上記ずれ量は、複数地点の内、モデル曲線が極値を示す地点を基準とした基準方向に所定範囲の地点を除く各地点の幅の、モデル曲線からの誤差に基づく量であり得る。例えば、第一のパターン及び第二のパターンが長さの異なるブロックの配列によって構成される場合、交点位置の近傍では、上記幅の変化に、第一のパターン及び第二のパターンの形状に起因する傾向が顕著に現れ得る。このような傾向が現れる交点位置（極値）近傍の領域を、ずれ量の算出に用いないことにより、交点位置を高精度に検出することができる。

本開示の一側面によれば、検出ユニットは、基準方向における複数地点の幅の分布に対してモデル曲線を基準方向に移動させたときに、複数地点の内、所定範囲内の地点を除く各地点の幅の、モデル曲線からの誤差の標準偏差が最小となるモデル曲線の配置において、モデル曲線が極値を示す基準方向の位置を、交点位置として検出するように構成されてもよい。上記所定範囲は、第一の長さと第二の長さとの最小公倍数に対応する長さを基準方向に有する範囲であり得る。このような範囲の設定により、高精度に交点位置を検出することができる。

本開示の一側面によれば、シートへの第一のパターンの形成動作とシートへの第二のパターンの形成動作とをシートの搬送動作を挟んで行う画像形成システムにおけるシートの搬送量を、シートの搬送量に誤差がないときの第一のパターンと第二のパターンとの交点位置と、検出された交点位置と、の誤差に基づき、当該誤差が縮小する方向に補正する補正ユニットを更に備えてもよい。

本開示の一側面によれば、コンピュータを、上述した取得ユニット、算出ユニット、検出ユニット、及び、補正ユニットの少なくとも一つとして機能させるためのプログラムが提供されてもよい。プログラムは、コンピュータ読取可能な非一時的な記録媒体に記録されてもよい。

本開示の一側面によれば、記録ヘッドを主走査方向に搬送し、シートを副走査方向に搬送することによって、シートに画像を形成する画像形成装置と、シートに形成された画像を光学的に読み取る読取装置と、画像形成装置及び読取装置を制御するコントローラと、を備える電子機器であって、コントローラが、上記取得ユニット、算出ユニット、及び、検出ユニットとして機能するように構成された電子機器が提供されてもよい。コントローラは、読取装置を制御して、シートの読取画像データを取得するように構成され得る。

コントローラは、シートへの第一のパターンの形成動作とシートへの第二のパターンの形成動作とをシートの搬送動作を挟んで実行するように画像形成装置を制御することによって、画像形成装置にテストパターンを形成させる処理と、検出された交点位置に基づき、シートの搬送量を補正する処理と、を実行するように構成されてもよい。

本開示の一側面によれば、テストパターンの解析方法であって、基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、基準方向に第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが基準方向と第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、第一のパターンと第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する手順と、読取画像データに基づき、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの重なり画像の基準方向とは直交する方向の幅を、基準方向において異なる複数地点に関して算出する手順と、算出した複数地点の幅の分布に基づき、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの交点位置を検出する手順と、を備える方法が提供されてもよい。

本開示の一側面によれば、上記算出する手順では、読取画像データが示す各画素の輝度と判定値との比較によりテストパターンに対応する画素を判別して、テストパターンにおける第一のパターンと第二のパターンとの重なり画像の基準方向とは直交する方向の幅を、基準方向において異なる複数地点に関して算出し得る。テストパターンは、第一のパターン及び第二のパターンとは別に、直交する方向に既知の幅を有するモデルパターンを有し得る。

この場合、上記算出する手順では、上記判定値として、読取画像データから算出されるモデルパターンの直交する方向の幅が既知の幅に適合する判定値を設定し、設定した判定値に基づきテストパターンに対応する画素を判別して、重なり画像の複数地点の幅を算出してもよい。

本開示の一側面によれば、上記算出する手順では、読取画像データから算出される重なり画像の複数地点の幅を、読取画像データから算出されるモデルパターンの幅とモデルパターンの既知の幅との誤差に基づき補正してもよい。この場合、検出する手順では、補正後の複数地点の幅の分布に基づいて、交点位置を検出し得る。

本開示の一側面によれば、上記算出する手順では、重なり画像において、直交する方向の幅が設計上同一であるグループ毎に、当該グループにおける基準方向に沿う各画素位置での直交する方向の幅の平均値又は中央値を算出し、複数地点のそれぞれに対応する基準方向に所定画素数を有するエリア毎に、各グループの幅を平均値又は中央値に置換するように重なり画像を整形したときの、エリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出することにより、複数地点の幅のそれぞれを評価値の形態で算出してもよい。

本開示の一側面によれば、複数地点の幅のそれぞれは、対応する地点を中心とするエリアであって基準方向に所定画素数を有するエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値であり得る。テストパターンは、テストパターンをシートに形成する画像形成システムの個体差に起因して、シートへの形成時に、第一のパターンと第二のパターンとの間の相対位置が直交する方向に変化するテストパターンであり得る。

この場合、上記算出する手順では、複数地点のそれぞれの評価値として、第一のブロック及び第二のブロックの直交する方向に沿う端縁が直交する方向に揃う基準方向の地点を基点に、基点から基準方向に第一の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって基準方向に第二の長さに対応する画素数を有するエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出してもよい。

あるいは、上記算出する手順では、基点から基準方向に第二の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって基準方向に第一の長さに対応する画素数を有するエリアにおける基準方向に沿う各画素位置での重なり画像の直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出してもよい。第一及び第二の間隔、並びに、第一及び第二の長さは、上記電子機器と同様の条件を満足し得る。

本開示の一側面によれば、上記検出する手順は、基準方向における複数地点の幅の分布に対してモデル曲線を基準方向に移動させたときに、複数地点の幅の分布とモデル曲線との間のずれ量が最小となるモデル曲線の配置において、モデル曲線が極値を示す基準方向の位置を、交点位置として検出する手順であってもよい。ずれ量は、複数地点の内、モデル曲線が極値を示す地点を基準とした基準方向に所定範囲の地点を除く各地点の幅の、モデル曲線からの誤差に基づく量であり得る。

本開示の一側面によれば、上記方法は、シートへの第一のパターンの形成動作とシートへの第二のパターンの形成動作とをシートの搬送動作を挟んで行う画像形成システムにおけるシートの搬送量を、シートの搬送量に誤差がないときの第一のパターンと第二のパターンとの交点位置と、検出された交点位置と、の誤差に基づき、当該誤差が縮小する方向に補正する手順を更に含んでいてもよい。

複合機の概略構成を表すブロック図である。 記録ヘッド周辺の用紙搬送機構の概略構成を表す図である。 メインコントローラが実行するテスト印刷処理を表すフローチャートである。 テストパターンを例示する図である。 第一及び第二のパターンの拡大図である。 モデルパターンの拡大図である。 テストパターンの形成過程を説明した図（その１）である。 テストパターンの形成過程を説明した図（その２）である。 交差パターンの拡大図である。 メインコントローラが実行する画像解析処理を表すフローチャートである。 メインコントローラが実行する閾値設定処理を表すフローチャートである。 副走査方向（Ｙ軸方向）の輝度分布を概略的に表す図である。 メインコントローラが実行する補正規則設定処理を表すフローチャートである。 幅と補正量との関係を表すグラフである。 メインコントローラが実行するグループ幅算出処理を表すフローチャートである。 設計上の幅が同一であるグループを示した図である。 評価対象エリアに関する説明図である。 メインコントローラが実行する評価値算出処理を表すフローチャートである。 交差パターンの整形に関する説明図である。 制御誤差がないときの評価値の分布を示す図である。 メインコントローラが実行する交点検出処理を表すフローチャートである。 制御誤差があるときの評価値の分布を示す図である。 区画化に関する説明図である。 モデル曲線のフィッティングに関する説明図である。

以下に本開示の例示的実施形態を図面と共に説明する。
図１に示す本実施形態のディジタル複合機（以下、単に「複合機」と称する。）１は、メインコントローラ１０と、プリンタ部２０、スキャナ部７０と、ユーザインタフェース９０とを備える。メインコントローラ１０は、複合機１全体を統括制御して、複合機１をプリンタ装置、スキャナ装置、及び複写装置として機能させる。メインコントローラ１０は、ＣＰＵ１１と、ＲＯＭ１３と、ＲＡＭ１５と、ＮＶＲＡＭ１７とを備える。

ＣＰＵ１１は、上記機能の実現のために、ＲＯＭ１３が記憶するプログラムに従う処理を実行する。ＲＡＭ１５は、ＣＰＵ１１によるプログラム実行時に作業領域として利用される。ＮＶＲＡＭ１７は、電気的にデータ書換可能な不揮発性メモリである。ＮＶＲＡＭ１７は、例えばフラッシュメモリ又はＥＥＰＲＯＭにより構成される。メインコントローラ１０は、外部装置３と通信可能な通信インタフェース（図示せず）を更に備える。外部装置３の例には、パーソナルコンピュータが含まれる。

プリンタ部２０は、メインコントローラ１０に制御されて、用紙Ｑに画像を形成する。プリンタ部２０は、インクジェットプリンタとして構成される。プリンタ部２０は、例えば、外部装置３からの受信データや、スキャナ部７０による原稿の読取画像を表す画像データに基づく画像を用紙Ｑに形成する。プリンタ部２０は更に、メインコントローラ１０に制御されて、用紙Ｑの搬送誤差を判定するためのテストパターンを用紙Ｑに形成する。

スキャナ部７０は、フラットベッド型のスキャナとして構成される。スキャナ部７０は、メインコントローラ１０に制御されて、原稿台に載置された原稿を光学的に読み取り、原稿の読取画像を表す画像データをメインコントローラ１０に入力する。ユーザインタフェース９０は、ユーザに各種情報を表示するためのディスプレイ、及び、ユーザからの指令を受け付けるための入力デバイスを備える。入力デバイスは、例えばメカニカルなキースイッチ又はディスプレイ上のタッチパネルであり得る。

詳述すると、プリンタ部２０は、印字コントローラ３０と、記録ヘッド４０と、キャリッジ搬送機構５１と、ＣＲモータ５３と、リニアエンコーダ５５と、用紙搬送機構６１と、ＰＦモータ６３と、ロータリエンコーダ６５と、を備える。

印字コントローラ３０は、メインコントローラ１０からの指令に従って、記録ヘッド４０からのインク液滴の吐出制御、キャリッジ５２（図２参照）の搬送制御、及び、用紙Ｑの搬送制御を実行するように構成される。印字コントローラ３０は、例えばＡＳＩＣで構成される。

記録ヘッド４０は、周知のインクジェットヘッドである。記録ヘッド４０は、印字コントローラ３０により制御されて、インク液滴を吐出し、用紙Ｑに画像を形成する。この記録ヘッド４０は、用紙Ｑと対向する下面に、インク液滴の吐出ノズルを備える。具体的に、記録ヘッド４０は、副走査方向に配列された吐出ノズルの一群Ｎ０を備える。副走査方向は、用紙Ｑの搬送方向に対応し、図２のＹ軸方向に対応する。主走査方向は、副走査方向に直交する方向に対応し、キャリッジ５２の搬送方向（図２の紙面法線方向／Ｘ軸方向）に対応する。以下では、記録ヘッド４０に設けられた吐出ノズルの一群Ｎ０を、ノズル群Ｎ０と表現する。

キャリッジ搬送機構５１は、記録ヘッド４０を搭載するキャリッジ５２を備え、キャリッジ５２を主走査方向に搬送する構成にされる。ＣＲモータ５３は、キャリッジ搬送機構５１の駆動源であり、直流モータにより構成される。ＣＲモータ５３は、印字コントローラ３０により制御される。キャリッジ５２の搬送制御は、印字コントローラ３０がＣＲモータ５３の回転を制御することにより実現される。

リニアエンコーダ５５は、キャリッジ５２の主走査方向の変位に応じたパルス信号をエンコーダ信号として印字コントローラ３０に入力する。印字コントローラ３０は、キャリッジ５２の主走査方向における位置及び速度を、リニアエンコーダ５５から入力されるエンコーダ信号に基づいて検出し、キャリッジ５２の位置及び速度をフィードバック制御する。印字コントローラ３０は、このキャリッジ５２の移動に合わせて記録ヘッド４０を制御し、用紙Ｑに対して主走査方向に相対移動している状態で、記録ヘッド４０にインク液滴を間欠的に吐出させることによって、用紙Ｑに目的の画像を形成する。

この他、用紙搬送機構６１は、用紙Ｑを給紙トレイ（図示せず）から排紙トレイ（図示せず）まで搬送するための機構である。図２は、用紙搬送機構６１が備える構成の内、記録ヘッド４０周辺の構成を示す。用紙搬送機構６１は、図２に示すように、記録ヘッド４０の下方にプラテン６１１を備える。用紙搬送機構６１は、このプラテン６１１より用紙搬送方向上流に、対向配置された搬送ローラ６１３及びピンチローラ６１４を備え、プラテン６１１より用紙搬送方向下流に、対向配置された排紙ローラ６１７及び拍車ローラ６１８を備える。

搬送ローラ６１３及び排紙ローラ６１７は、図示しない伝達機構を通じてＰＦモータ６３と連結されており、ＰＦモータ６３からの動力を受けて同期回転する。ＰＦモータ６３は、用紙搬送機構６１の駆動源であり、直流モータで構成される。

用紙搬送機構６１は、給紙ローラ（図示せず）の回転により、給紙トレイに載置された用紙Ｑを一枚ずつ分離し、当該分離した用紙Ｑを搬送ローラ６１３とピンチローラ６１４との間に提供する。搬送ローラ６１３は、ＰＦモータ６３により回転駆動されて、給紙トレイから供給される用紙Ｑを、図２破線矢印で示す用紙搬送方向下流に搬送する。搬送ローラ６１３は、ピンチローラ６１４との間に用紙Ｑを挟持した状態で、回転により用紙Ｑを下流に搬送する。

搬送ローラ６１３の回転により下流に搬送される用紙Ｑは、プラテン６１１に支持されながら、記録ヘッド４０の下方の記録領域Ｒ０を通過する。記録領域Ｒ０を通過した用紙Ｑは、排紙ローラ６１７と拍車ローラ６１８との間に挟持されて、排紙ローラ６１７の回転により下流に搬送される。排紙ローラ６１７を通過した用紙Ｑは、最終的に排紙トレイに排出される。

ロータリエンコーダ６５は、搬送ローラ６１３の回転軸、ＰＦモータ６３の回転軸、又は、ＰＦモータ６３から搬送ローラ６１３までの動力伝達経路に設けられて、搬送ローラ６１３の回転に応じたパルス信号を、エンコーダ信号として印字コントローラ３０に入力する。

印字コントローラ３０は、ロータリエンコーダ６５からのエンコーダ信号に基づいて、搬送ローラ６１３の回転量、回転速度及び回転位相φを検出する。回転位相φは、搬送ローラ６１３の１周を２πとしたときのゼロから２πの範囲における搬送ローラ６１３の回転角度φ（０≦φ＜２π）に対応する。

メインコントローラ１０は、プリンタ部２０の個体差に応じた制御パラメータ群をＮＶＲＡＭ１７に記憶する。メインコントローラ１０は、この制御パラメータ群に基づいて、プリンタ部２０を適切に制御する。具体的には、メインコントローラ１０は、ＮＶＲＡＭ１７が記憶する制御パラメータ群に基づいて、印字コントローラ３０の動作を規定するパラメータ群を印字コントローラ３０に設定して印字コントローラ３０を作動させることにより、印字コントローラ３０の動作を個体差に適合させて、プリンタ部２０を適切に制御する。

印字コントローラ３０は、メインコントローラ１０から設定されたパラメータ群に基づいたＣＲモータ５３及びＰＦモータ６３の制御を、リニアエンコーダ５５及びロータリエンコーダ６５からのエンコーダ信号に基づいて実行する。本実施形態では、こうしたメインコントローラ１０と印字コントローラ３０との協働により、記録ヘッド４０からのインク液滴の吐出制御、記録ヘッド４０を搭載するキャリッジ５２の搬送制御、及び用紙Ｑの搬送制御が実現される。

詳述すると、ＮＶＲＡＭ１７が記憶する制御パラメータ群には、搬送ローラ６１３の回転量及び回転位相と用紙搬送量との対応関係を表すパラメータが含まれる。メインコントローラ１０は、この制御パラメータ群に基づき、用紙Ｑの搬送誤差を含む制御誤差を抑制する方向に調整したパラメータ群を印字コントローラ３０に設定する。例えば、メインコントローラ１０は、目標とする用紙搬送量に対応する搬送ローラ６１３の目標回転量を算出し、算出した搬送ローラ６１３の目標回転量を表すパラメータを印字コントローラ３０に設定する。この設定によって、搬送ローラ６１３による用紙搬送は、搬送ローラ６１３の偏心や形状差による搬送誤差を抑えた形で実現される。

メインコントローラ１０は、搬送ローラ６１３の回転量及び回転位相と用紙搬送量との対応関係を表す上記制御パラメータの値を、テストパターンの形成結果に基づいて補正する。この制御パラメータは、初期段階で個体差を考慮しない標準値に定められており、テストパターンの形成結果に基づいて、個体差に応じた値に更新される。

メインコントローラ１０は、ユーザインタフェース９０又は外部装置３からテストパターンの印刷指令が入力されると、ＲＯＭ１３が記憶するプログラムに従って、図３に示すテスト印刷処理を実行する。例えば、複合機１を使用するユーザ、又は、複合機１の出荷前に製造元の作業者が、ユーザインタフェース９０又は外部装置３を操作することにより、テストパターンの印刷指令は入力される。このテスト印刷処理により用紙Ｑに形成されるテストパターンの一例は、図４に示される。

図４に例示されるテストパターンは、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２とが互いに交わる交差パターンＣＰと、複数種類のモデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４と、を備える。テストパターンは、これら交差パターンＣＰと、モデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４と、が主走査方向（図４に示すＸ軸方向）に配列されたパターン集合を、副走査方向に複数備えた構成にされる。交差パターンＣＰは、主に用紙Ｑの搬送誤差を検出するために用いられ、モデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４は、その検出精度を向上させるために用いられる。

図４に示されるパターン集合は、交差パターンＣＰを主走査方向に一つのみ備えるが、パターン集合は、主走査方向に複数の交差パターンＣＰを備えていてもよい。モデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４についても同様である。図４に示される交差パターンＣＰ及びモデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４は、一例であり、その配置間隔、長さ及び順序は、任意である。

図３に示すテスト印刷処理を開始すると、メインコントローラ１０は、印字コントローラ３０によるＰＦモータ６３の制御を通じて、用紙搬送機構６１に、用紙Ｑを記録ヘッド４０下方の記録領域Ｒ０まで搬送させる（Ｓ１１０）。

その後、メインコントローラ１０は、第一形成処理を実行する（Ｓ１２０）。第一形成処理において、メインコントローラ１０は、印字コントローラ３０を通じた制御により、記録ヘッド４０に、第一のノズル群Ｎ１を用いてテストパターンの一部画像を用紙Ｑに形成させる。この処理では、記録ヘッド４０が備えるノズル群Ｎ０の内、第一のノズル群Ｎ１のみが画像形成に用いられる。この処理では、第一のノズル群Ｎ１からのインク液滴の吐出により、第一の記録領域Ｒ１に位置する用紙Ｑの部位に、第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４が形成される（Ｓ１２０）。

図２に示されるように、第一のノズル群Ｎ１は、ノズル群Ｎ０の内、用紙搬送方向上流に位置するノズル群に対応する。第一の記録領域Ｒ１は、記録領域Ｒ０の内、第一のノズル群Ｎ１によって画像形成可能な、第一のノズル群Ｎ１下方の領域に対応する。記録領域Ｒ０は、記録ヘッド４０が有するノズル群Ｎ０下方の領域に対応する。図２に示される第二のノズル群Ｎ２は、ノズル群Ｎ０の内、第一のノズル群Ｎ１よりも用紙搬送方向下流に位置するノズル群に対応し、第二の記録領域Ｒ２は、記録領域Ｒ０の内、第二のノズル群Ｎ２によって画像形成可能な、第二のノズル群Ｎ２下方の領域に対応する。

第一のノズル群Ｎ１を用いて用紙Ｑに形成される第一のパターンＰＥ１は、図５の領域（Ｉ）に示されるように、ミクロには、階段状のパターンである。具体的に、第一のパターンＰＥ１は、主走査方向（図５に示すＸ軸方向）に第一の長さＢＬ１を有する矩形状のブロックＢＥ１が、主走査方向に対して鋭角θ１で傾斜した方向ＤＲ１に配列された構成される。

主走査方向において隣り合うブロックＢＥ１は、互いに接するように配置され、隣り合うブロックＢＥ１は、副走査方向（図５に示すＹ軸方向）に、ブロックＢＥ１の副走査方向に沿う側辺の幅ＢＷ１の半分だけずれた位置に形成される。このブロックＢＥ１は、詳細には、プリンタ部２０において用紙Ｑに形成可能な画像の最小単位であるドットが主走査方向に整列したドット列が、副走査方向において並列に複数個配置された構成にされていると理解されてよい。第一のパターンＰＥ１は、図４に示すように、マクロには、主走査方向に対して僅かに傾きを有する直線状のテストパターンである。

以下では、用紙Ｑの表面に対してＸＹ直交座標系を定義する。定義されるＸＹ直交座標系は、主走査方向にＸ軸を有し、用紙搬送方向、即ち副走査方向にＹ軸を有するＸＹ直交座標系である。Ｘ軸及びＹ軸の符号（正負）の向きは任意である。ここでは、形式的にＹ軸正方向を用紙搬送方向下流に向けて定義し、Ｘ軸正方向をＹ軸正方向に対して右方向に定義する。

本実施形態では更に、Ｙ座標をドット単位で定義する。即ち、Ｙ軸の単位長を、用紙Ｑに形成可能なドットの副走査方向の間隔（ドットピッチ）で定義する。このドットピッチは、副走査方向における記録ヘッド４０のノズル間隔に対応する。本実施形態では同様に、Ｘ座標をドット単位で定義する。即ち、Ｘ軸の単位長を、用紙Ｑに形成可能なドットの主走査方向の間隔（ドットピッチ）で定義する。Ｘ軸の単位長は、主走査方向における記録ヘッド４０のノズル間隔に対応する。

一般的なインクジェットプリンタでは、主走査方向の解像度が、副走査方向の解像度より高い。主走査方向の解像度が６００ｄｐｉであり副走査方向の解像度が３００ｄｐｉであるインクジェットプリンタが既に知られている。本実施形態の複合機１でも、主走査方向の解像度は、副走査方向の解像度より高く、主走査方向のドットピッチは、副走査方向のドットピッチよりも短い。このことは、テストパターンを形成するときに、主走査方向の自由度が副走査方向の自由度より高いことを意味する。本実施形態では、このような主走査方向及び副走査方向の解像度の違いを利用して、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２とが小さい角度で交わる交差パターンＣＰを形成する。

第一形成処理（Ｓ１２０）において用紙Ｑに形成されるモデルパターンＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４は、図６に示すように構成される。第一のモデルパターンＭＰ１は、第一のパターンＰＥ１の構成要素であるブロックＢＥ１を模したパターンであり、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２とが重なっていない状態をモデル化したパターンである。モデルパターンＭＰ１のＹ軸方向の幅ＤＷ１は、ブロックＢＥ１の幅ＢＷ１と同じ幅Ｗ０である。第一のモデルパターンＭＰ１は、第一形成処理（Ｓ１２０）において、ブロックＢＥ１と同じように用紙Ｑに形成される。但し、モデルパターンＭＰ１のＸ軸方向の長さは、ブロックＢＥ１の長さＢＬ１と同じである必要はない。

第二のモデルパターンＭＰ２は、交差パターンＣＰにおける第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交点周辺の第一の状態を模したパターンであり、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２とが重なっている状態をモデル化したパターンである。具体的に、モデルパターンＭＰ２は、第一のパターンＰＥ１の構成要素であるブロックＢＥ１と第二のパターンＰＥ２の構成要素であるブロックＢＥ２とを模した同一幅ＤＷ１＝Ｗ０の二つの矩形パターンＦＰ１，ＦＰ２を完全に重ねて形成される。詳細については後述するが、第二のパターンＰＥ２は、図５の領域（ＩＩ）に示すように、ブロックＢＥ２を構成要素に含み、第一のパターンＰＥ１と同様に、ブロックＢＥ２が階段状に配置された構成にされる。このブロックＢＥ２は、ブロックＢＥ１と主走査方向の長さが異なるだけであり、副走査方向の幅ＢＷ２は、ブロックＢＥ１と同じ幅Ｗ０である。

図６では、ブロックＢＥ１を模した矩形パターンＦＰ１を右上から左下に傾く直線でハッチングして示し、ブロックＢＥ２を模した矩形パターンＦＰ２を、左上から右下に傾く直線でハッチングして示す。矩形パターンＦＰ１，ＦＰ２は、夫々、ブロックＢＥ１，ＢＥ２の長さＢＬ１，ＢＬ２と同じである必要はない。図６に示す例によれば、矩形パターンＦＰ１，ＦＰ２の長さは同じであり、矩形パターンＦＰ１，ＦＰ２の実体は、同一形状のパターンである。

ブロックＢＥ１を模した矩形パターンＦＰ１に完全に重なるようにブロックＢＥ２を模した矩形パターンＦＰ２が用紙Ｑに形成されている結果として、図６では、モデルパターンＭＰ２として、ブロックＢＥ２を模した矩形パターンＦＰ２だけが示されている。

このモデルパターンＭＰ２は、記録ヘッド４０を主走査方向に往復動させて、往路で記録ヘッド４０に矩形パターンＦＰ１を形成させ、復路で記録ヘッド４０に矩形パターンＦＰ２を形成させることにより、形成可能である。あるいは、モデルパターンＭＰ２は、記録ヘッド４０を主走査方向に２回往復させて、１回目の往路又は復路では、記録ヘッド４０に矩形パターンＦＰ１を形成させ、２回目の往路又は復路では、記録ヘッド４０に矩形パターンＦＰ２を形成させることにより、形成可能である。

第三のモデルパターンＭＰ３は、交差パターンＣＰにおける第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交点周辺の第二の状態を模したパターンである。交点周辺では、ブロックＢＥ１，ＢＥ２が副走査方向において完全に重なる状態の他、ブロックＢＥ１，ＢＥ２が副走査方向において一部重なる状態が含まれる。モデルパターンＭＰ３は、ブロックＢＥ１，ＢＥ２が一部重なった状態を模している。

このモデルパターンＭＰ３は、ブロックＢＥ１を模した矩形パターンＦＰ１に、ブロックＢＥ２を模した矩形パターンＦＰ２を、副走査方向に幅ＤＷ１の半分だけずらして重ねるように形成される。このモデルパターンＭＰ３は、モデルパターンＭＰ２と同様に、用紙Ｑを停止させた状態で記録ヘッド４０を主走査方向に往復動させて形成される。モデルパターンＭＰ３は、矩形パターンＦＰ１の形成に際してインク液滴の吐出に用いるノズル群と、矩形パターンＦＰ２の形成に際してインク液滴の吐出に用いるノズル群と、を半分だけ変更することにより形成可能である。即ち、モデルパターンＭＰ３は、矩形パターンＦＰ２の形成時に、矩形パターンＦＰ１の形成時と一部同じノズルを用い、一部異なるノズルを用いてインク液滴を吐出して形成される。そのため、モデルパターンＭＰ３は、用紙Ｑの搬送誤差の影響を受けずに正確に、副走査方向に幅ＤＷ１の３／２倍の幅ＤＷ３を有した構成にされる。

第四のモデルパターンＭＰ４は、交差パターンＣＰにおける第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交点周辺の第三の状態を模したパターンである。交点周辺では、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが重なり始める状態が含まれる。モデルパターンＭＰ４は、ブロックＢＥ１，ＢＥ２が副走査方向において重ならずに、ブロックＢＥ１の下辺とブロックＢＥ２の上辺とが接触するように隣接した状態を模している。このモデルパターンＭＰ４は、モデルパターンＭＰ２，ＭＰ３と同様に、矩形パターンＦＰ１，ＦＰ２を用いて、用紙Ｑを停止させた状態で記録ヘッド４０を主走査方向に往復動させて形成される。このモデルパターンＭＰ４は、モデルパターンＭＰ３と同様、矩形パターンＦＰ１の形成に用いるノズル群と、矩形パターンＦＰ２の形成に用いるノズル群と、を変更することにより形成可能である。従って、このモデルパターンＭＰ４は、用紙Ｑの搬送誤差の影響を受けずに正確に、副走査方向に幅ＤＷ１の２倍の幅ＤＷ４を有した構成にされる。

第一形成処理（Ｓ１２０）の実行後、メインコントローラ１０は、印字コントローラ３０を通じて、用紙搬送機構６１に搬送ローラ６１３を所定量Ｌ１回転させることで、用紙Ｑを所定量Ｌ１用紙搬送方向下流に搬送させる（Ｓ１３０）。所定量Ｌ１は、第一のパターンＰＥ１の形成間隔に対応する。このように用紙Ｑを所定量Ｌ１搬送させる処理は、搬送ローラ６１３の回転量の制御により実現される。このため、Ｓ１３０の処理による実際の用紙搬送量は、所定量Ｌ１に対して誤差を含む。

Ｓ１３０の実行後、メインコントローラ１０は、用紙Ｑに対して最初に形成した第一のパターンＰＥ１が第二の記録領域Ｒ２に到達したか否かを判断する。到達していないと判断すると（Ｓ１４０でＮｏ）、メインコントローラ１０は、Ｓ１２０に移行して、第一形成処理を再実行し、記録ヘッド４０に第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４を用紙Ｑに再度形成させる。

図７の領域（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）（ＩＶ）には、Ｓ１２０，Ｓ１３０の繰返しによって用紙Ｑに間隔Ｌ１毎に、段階的に形成される第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４を示す。用紙Ｑの状態は、領域（Ｉ）に示す状態から、Ｓ１３０の実行、Ｓ１４０での否定判断、Ｓ１２０の再実行により、領域（ＩＩ）に示す状態に変化する。同様にして、Ｓ１３０，Ｓ１４０，Ｓ１２０の処理を介して、用紙Ｑの状態は、領域（ＩＩ）に示す状態から領域（ＩＩＩ）に示す状態、領域（ＩＩＩ）に示す状態から、領域（ＩＶ）に示す状態に変化する。図７に示す「Ｎ１」は、第一のノズル群Ｎ１の位置を概略的に示す。

所定量Ｌ１は、記録領域Ｒ０の内、第一のパターンＰＥ１が形成される第一の記録領域Ｒ１と、第二のパターンＰＥ２が形成される第二の記録領域Ｒ２と、の間の副走査方向長さＬ０（図２参照）の整数分の一であって、搬送ローラ６１３の外周の整数分の一に対応する。

本実施形態において、搬送ローラ６１３の回転量と実際の用紙搬送量との誤差は、用紙搬送時の搬送ローラ６１３の回転位相φに依存する。本実施形態では、この回転位相φに依存した用紙Ｑの搬送誤差の影響を抑えるために、搬送ローラ６１３の一周を複数区間に分割した異なる回転位相φ毎の用紙搬送誤差を判定する。所定量Ｌ１毎に実行される第一のパターンＰＥ１の形成は、回転位相φ毎の用紙搬送誤差を判定するためのものである。

メインコントローラ１０は、用紙Ｑに対して最初に形成した第一のパターンＰＥ１が第二の記録領域Ｒ２に到達するまでは、Ｓ１４０で否定判断して、Ｓ１２０，Ｓ１３０の処理を繰返し実行する。メインコントローラ１０は、Ｓ１４０において、上記最初に形成した第一のパターンＰＥ１が第二の記録領域Ｒ２に到達したと判断すると、Ｓ１５０に移行し、第二形成処理を実行する。

第二形成処理（Ｓ１５０）において、メインコントローラ１０は、記録ヘッド４０に、第一のノズル群Ｎ１を用いて、用紙Ｑの第一の記録領域Ｒ１に位置する部位に第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４を形成させ、更には、第二のノズル群Ｎ２を用いて、用紙Ｑの第二の記録領域Ｒ２に位置する部位に第二のパターンＰＥ２を形成させる（Ｓ１５０）。

即ち、メインコントローラ１０は、用紙Ｑを停止させた状態で、記録ヘッド４０に、異なるノズル群Ｎ１，Ｎ２を用いて、第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４と、第二のパターンＰＥ２と、をそれぞれ用紙Ｑに形成させる。これにより、第二のパターンＰＥ２は、第二の記録領域Ｒ２に移動した第一のパターンＰＥ１に対して交差するように形成される（図８の領域（Ｖ）（ＶＩ）参照）。

用紙Ｑに形成される第二のパターンＰＥ２は、図５の領域（ＩＩ）に示されるように、階段状のパターンである。具体的に、第二のパターンＰＥ２は、主走査方向に第二の長さＢＬ２を有する矩形状のブロックＢＥ２が、主走査方向に対して鋭角θ２で傾斜した方向ＤＲ２に配列された構成される。

主走査方向において隣り合うブロックＢＥ２は、第一のパターンＰＥ１と同様、互いに接するように配置され、隣り合うブロックＢＥ２は、副走査方向（Ｙ軸方向）に、ブロックＢＥ２の副走査方向に沿う側辺の幅ＢＷ２の半分だけずれた位置に形成される。幅ＢＷ２は、ブロックＢＥ１の幅ＢＷ１と同じ幅Ｗ０である。

第二のパターンＰＥ２は、図４に示すように、マクロには主走査方向に対して僅かに傾きを有する直線状のテストパターンである。但し、鋭角θ２は、鋭角θ１より小さい。即ち、第二のパターンＰＥ２は、主走査方向にブロックＢＥ１の長さＢＬ１より大きい第二の長さＢＬ２を有するブロックＢＥ２が主走査方向と第一の方向ＤＲ１との間の角度範囲で傾斜した第二の方向ＤＲ２に配列された構成にされる。

図９の領域（Ｉ）及び領域（ＩＩ）には、第二形成処理（Ｓ１５０）により用紙Ｑに形成される交差パターンＣＰの拡大図、換言すれば、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交差状態を示す。領域（Ｉ）は、用紙Ｑの搬送誤差が存在せずに、用紙Ｑが第一のパターンＰＥ１の形成時から正確に距離Ｌ０だけ搬送されたときの第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交差状態を示し、領域（ＩＩ）は、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹが存在し、用紙Ｑが第一のパターンＰＥ１の形成時から距離Ｌ０＋ΔＹだけ搬送されたときの第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交差状態を示す。

第二形成処理の実行後、メインコントローラ１０は、Ｓ１３０での処理と同様に、印字コントローラ３０を通じて、用紙搬送機構６１に用紙Ｑを所定量Ｌ１用紙搬送方向下流に搬送させる（Ｓ１６０）。その後、メインコントローラ１０は、Ｓ１７０において、所定数の第一のパターンＰＥ１の形成が完了したか否かを判断し、完了していないと判断した場合には（Ｓ１７０でＮｏ）、Ｓ１５０に移行する。

このようにして、メインコントローラ１０は、所定数の第一のパターンＰＥ１の形成が完了するまでは、Ｓ１７０で否定判断して、第二形成処理（Ｓ１５０）を実行し、上述したように記録ヘッド４０に第一のパターンＰＥ１及び第二のパターンＰＥ２、更にはモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４を用紙Ｑに形成させては（Ｓ１５０）、用紙搬送機構６１に用紙Ｑを所定量Ｌ１搬送させる処理を繰返し実行する（Ｓ１６０）。

図８の領域（Ｖ）（ＶＩ）には、Ｓ１５０，Ｓ１６０の繰返しによって用紙Ｑに間隔Ｌ１毎に、段階的に形成される第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４並びに第二のパターンＰＥ２を示す。用紙Ｑの状態は、図７の領域（ＩＶ）に示す状態から、Ｓ１３０の実行、Ｓ１４０での肯定判断、Ｓ１５０の実行を経て、図８の領域（Ｖ）に示す状態に変化する。更に、Ｓ１６０の実行、Ｓ１７０での否定判断、Ｓ１５０の実行を経て、図８の領域（ＶＩ）に示す状態に変化する。図８に示す「Ｎ１」及び「Ｎ２」は、それぞれ、第一のノズル群Ｎ１及び第二のノズル群Ｎ２の位置を概略的に示す。

メインコントローラ１０は、所定数の第一のパターンＰＥ１の形成が完了すると、Ｓ１８０に移行する。Ｓ１８０において、メインコントローラ１０は、第三形成処理を実行する。第三形成処理において、メインコントローラ１０は、印字コントローラ３０を通じて、記録ヘッド４０に、第二のノズル群Ｎ２を用いて、用紙Ｑの第二の記録領域Ｒ２に位置する部位に第二のパターンＰＥ２を形成させる（Ｓ１８０）。即ち、第二の記録領域Ｒ２に到達した第一のパターンＰＥ１に交差させるように、第二のパターンＰＥ２を記録ヘッド４０に形成させる。このとき、第一のパターンＰＥ１及びモデルパターンＭＰ１〜ＭＰ４は用紙Ｑに形成されない。用紙Ｑには、第二のパターンＰＥ２だけが形成される。

その後、メインコントローラ１０は、全ての第一のパターンＰＥ１に対する第二のパターンＰＥ２の形成を完了したか否かを判断する（Ｓ１９０）。完了していないと判断すると（Ｓ１９０でＮｏ）、Ｓ２００に移行する。Ｓ２００に移行すると、メインコントローラ１０は、Ｓ１３０での処理と同様に、用紙搬送機構６１に用紙Ｑを所定量Ｌ１搬送させて、Ｓ１８０に移行する。

このようにしてメインコントローラ１０は、全ての第一のパターンＰＥ１に対する第二のパターンＰＥ２の形成が完了するまでは、用紙搬送機構６１に用紙Ｑを所定量Ｌ１搬送させては（Ｓ２００）、記録ヘッド４０に第二のパターンＰＥ２を用紙Ｑに形成させる処理（Ｓ１８０）を繰返し実行する。そして、全ての第一のパターンＰＥ１に対する第二のパターンＰＥ２の形成が完了すると（Ｓ１９０でＹｅｓ）、排紙処理を実行する（Ｓ２１０）。

Ｓ２１０において、メインコントローラ１０は、印字コントローラ３０を通じて、用紙搬送機構６１に用紙Ｑを排紙トレイまで排出させる。更に、メインコントローラ１０は、テストパターンが印刷された用紙Ｑをスキャナ部７０の原稿台に載せてスキャン指示を入力することを促すメッセージを、ユーザインタフェース９０のディスプレイに表示させる（Ｓ２２０）。その後、ユーザインタフェース９０を通じてスキャン指示が入力されるまで待機する（Ｓ２３０）。

スキャン指示が入力されると、メインコントローラ１０は、スキャナ部７０を制御して、スキャナ部７０にテストパターンの印刷された用紙Ｑを読み取らせて、その読取画像を表す画像データを、スキャナ部７０から取得する（Ｓ２４０）。以下では、テストパターンの印刷された用紙Ｑの読取画像を表す画像データのことを、単に「読取画像データ」と表現する。

更に、メインコントローラ１０は、スキャナ部７０から取得した読取画像データに基づき、交差パターンＣＰ毎に、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との交点位置Ｘｃを検出し（Ｓ２５０）、検出した交点位置Ｘｃの標準位置Ｘｓからの誤差ΔＸを算出する（Ｓ２６０）。更には、交差パターンＣＰ毎に、この誤差ΔＸに基づき、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを算出する（Ｓ２６０）。標準位置Ｘｓは、用紙Ｑの搬送誤差がないときの交点位置に対応し、図９の領域（Ｉ）に例示される。用紙Ｑの搬送誤差ΔＹが存在するときの交点位置Ｘｃ、及び交点位置Ｘｃの誤差ΔＸは、図９の領域（ＩＩ）に例示される。

第一のパターンＰＥ１を方向ＤＲ１に沿う直線に近似し、第二のパターンＰＥ２を方向ＤＲ２に沿う直線に近似すれば、直線の傾きが固定であることに基づく一定の幾何学的関係から、交点位置Ｘｃの誤差ΔＸに対応する用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを算出することができる。例えば、搬送誤差ΔＹは、関係式ΔＹ＝ΔＸ（ｔａｎθ２−ｔａｎθ１）に従って算出することができる。

その後、メインコントローラ１０は、Ｓ２６０で算出された交差パターンＣＰ毎の用紙Ｑの搬送誤差ΔＹに基づき、ＮＶＲＡＭ１７が記憶する搬送ローラ６１３の回転量及び回転位相と用紙搬送量との対応関係を表す制御パラメータを更新し（Ｓ２７０）、図３に示すテスト印刷処理を終了する。

従来技術によれば、第一のパターンが傾きを有さず主走査方向に平行であるために、第一のパターンと第二のパターンとが交わる角度は、副走査方向のドットピッチの影響を受けて、あまり小さくすることができなかった。従って、用紙Ｑの搬送誤差が大きくない場合には、交点の変位も小さく、交点の変位から搬送誤差を精度よく算出することが難しかった。また、上記交わる角度を小さくしたとしても、第二のパターンは、詳細には直線ではなく階段形状であるため、従来技術によれば、用紙Ｑの搬送誤差が副走査方向に１画素分以上生じない限り、交点が標準位置からずれず、副走査方向のドットピッチ（ノズル間隔）未満の搬送誤差を検出することができなかった。

これに対し、本実施形態によれば、第一のパターンＰＥ１及び第二のパターンＰＥ２を共に傾けているために、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２とが交わる角度を、副走査方向のドットピッチの影響をあまり受けずに小さくすることができる。従って、図９から理解できるように、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹに対する交点位置Ｘｃの標準位置Ｘｓからの誤差ΔＸを、従来と比較して格段に大きくすることができ、交点の誤差ΔＸから用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを精度よく算出することができる。

従来では、副走査方向のドットピッチ未満の搬送誤差を検出する場合、用紙Ｑを微小搬送する必要があったが、本実施形態によれば、このような微小搬送を行うことなく、副走査方向のドットピッチ未満の搬送誤差を検出することができる。従って、本実施形態によれば、テストパターンを迅速又は効率的に形成しながら、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを精度よく算出可能である。

また、搬送誤差ΔＹの算出精度は、以下に説明する本開示に係る技術を用いて交点位置Ｘｃを高精度に検出することにより向上させることができる。以下では、交点位置Ｘｃを高精度に検出可能な技術を適用した画像解析処理の詳細を、図１０を参照して説明する。図１０に示される画像解析処理は、図３のＳ２５０で実行される。

図１０に示す画像解析処理を開始すると、メインコントローラ１０は、Ｓ２４０で取得した読取画像データに写るモデルパターンＭＰ１に基づき、読取画像データにおけるテストパターンの印字領域と非印字領域との識別に用いる輝度閾値ＴＨを設定する（Ｓ３１０）。本実施形態によれば、輝度閾値ＴＨ以下の輝度を示す領域がテストパターンの印字領域として識別され、輝度閾値ＴＨを超える輝度を示す領域がテストパターンの非印字領域として識別される。読取画像データに写る副走査方向の幅が既知のモデルパターンＭＰ１に基づき輝度閾値ＴＨを設定することにより、用紙Ｑの材質やインクの材質の起因する輝度変化の影響を抑えて、高精度にテストパターンの印字領域と非印字領域とを識別することができる。このことは、交点位置Ｘｃの高精度な検出に貢献する。読取画像データにおけるモデルパターンＭＰ１の領域は、読取画像データが示す輝度分布と、設計上のテストパターンの配置に基づいて想定される輝度分布との関係から、周知の画像解析技術を用いて特定可能である。

具体的に、Ｓ３１０では、図１１に示す閾値設定処理が実行されて、上記輝度閾値が設定される。閾値設定処理を開始すると、メインコントローラ１０は、読取画像データに写るモデルパターンＭＰ１の標本点を一つ選択する。ここで選択される標本点は、読取画像データにおいてモデルパターンＭＰ１が写る領域の一画素である。標本点は、読取画像データに写る複数のモデルパターンＭＰ１の夫々に対して、一つ又は複数定められる（Ｓ３１１）。

標本点の選択後、メインコントローラ１０は、当該選択した標本点からＹ軸方向に延びる画素列の輝度データを取得する（Ｓ３１２）。ここで言う読取画像データに対するＹ軸方向及びＸ軸方向は、夫々、テストパターン形成時の副走査方向及び主走査方向に対応する。ここでは、読取画像データに対してもＸＹ直交座標系を定義する。Ｙ軸方向は、テストパターン形成時の副走査方向、即ち用紙搬送方向に対応する。Ｘ軸方向は、テストパターン形成時の主走査方向、即ち用紙搬送方向に直交する方向に対応する。読取画像データにおけるＸＹ直交座標系では、読取画像データの画素単位で座標が定義される。

即ち、Ｓ３１２では、標本点とＸ座標が同じ画素列であって、標本点を基準としたＹ軸方向に所定範囲の画素列に属する各画素の輝度を示す輝度データを取得する。図１２には、この輝度データが示す輝度の概略分布を、横軸にＹ座標を示し、縦軸に輝度を示すグラフ上に表す。図１２からも理解できるように、輝度データは、モデルパターンＭＰ１の非印字領域に対応するＹ座標では、白に対応する高い輝度を示し、モデルパターンＭＰ１の印字領域に対応するＹ座標では、黒に対応する低い輝度を示し、その非印字領域と印字領域との境界では、上記高い輝度と上記低い輝度との間の輝度を示す。

輝度データの取得後、メインコントローラ１０は、輝度閾値ＴＨの候補に該当する閾値Ｔｈの全てに関して、当該閾値Ｔｈに基づいたモデルパターンＭＰ１のＹ軸方向（副走査方向）の幅Ｗを上記輝度データに基づいて算出し、モデルパターンＭＰ１の幅の設計値ＤＷ１との誤差が最も少ない閾値Ｔｈを探索する（Ｓ３１３〜Ｓ３１６）。

具体的に、メインコントローラ１０は、輝度閾値ＴＨの候補に該当する閾値Ｔｈの一つを選択し（Ｓ３１３）、選択した閾値Ｔｈに基づき、モデルパターンＭＰ１のＹ軸方向の幅Ｗを算出する（Ｓ３１４）。具体的には、輝度が閾値Ｔｈ以下となるＹ軸方向の画素群の始点から終点までの距離を、モデルパターンＭＰ１のＹ軸方向の幅Ｗとして算出する（Ｓ３１４）。以下では、Ｙ軸方向の幅のことを、単に「幅」と表現する。

メインコントローラ１０は、輝度閾値ＴＨの候補に該当する閾値Ｔｈの全てについてＳ３１３，Ｓ３１４の処理を実行するまで、Ｓ３１５で否定判断して、Ｓ３１３，Ｓ３１４の処理を、閾値Ｔｈを変えて実行する。そして、輝度閾値ＴＨの候補に該当する閾値Ｔｈの全てについてＳ３１３，Ｓ３１４の処理を実行すると（Ｓ３１５でＹｅｓ）、Ｓ３１６に移行する。

Ｓ３１６において、メインコントローラ１０は、閾値Ｔｈ毎に算出された幅Ｗの一群の中から、設計値ＤＷ１との誤差が最小の幅Ｗを探索し、誤差が最小の幅Ｗに対応する閾値Ｔｈを特定する。このようにして、メインコントローラ１０は、モデルパターンＭＰ１の設計値ＤＷ１との誤差が最も小さい閾値Ｔｈを探索する。

誤差が最小の幅Ｗに対応する閾値Ｔｈを探索して特定すると（Ｓ３１６）、メインコントローラ１０は、Ｓ３１７に移行して、全標本点に関して、Ｓ３１１〜Ｓ３１６の処理を実行したか否かを判断する。全標本点について実行していないと判断すると（Ｓ３１７でＮｏ）、メインコントローラ１０は、Ｓ３１１に移行し、未処理の標本点を一つ選択して（Ｓ３１１）、Ｓ３１２以降の処理を実行する。即ち、当該選択した標本点でのモデルパターンＭＰ１の幅Ｗに関して、設計値ＤＷ１との誤差が最小の閾値Ｔｈを探索して特定する。以下では、特定された上記誤差が最小の閾値Ｔｈを、特定閾値Ｔｈと表現する。

全標本点について上記処理を実行すると（Ｓ３１７でＹｅｓ）、各標本点の特定閾値Ｔｈに基づいて、輝度閾値ＴＨを設定する（Ｓ３１８）。輝度閾値ＴＨは、全標本点の特定閾値Ｔｈの統計的な代表値に設定される。本実施形態によれば、輝度閾値ＴＨは、全標本点の特定閾値Ｔｈの平均値に設定される。別例によれば、輝度閾値ＴＨは、全標本点の特定閾値Ｔｈの中央値に設定されてもよい。輝度閾値ＴＨは、一部の標本点の特定閾値Ｔｈに基づく値であってもよい。

例えば、輝度閾値ＴＨは、全標本点の内、特定閾値Ｔｈが高い標本点から所定数又は所定割合の標本点の当該特定閾値Ｔｈを除外して、更には、全標本点の内、特定閾値Ｔｈが低い標本点から所定数又は所定割合の標本点の当該特定閾値Ｔｈを除外して、残りの標本点の特定閾値Ｔｈの平均値として設定されてもよい。

メインコントローラ１０は、このようにして輝度閾値ＴＨを設定すると、当該閾値設定処理を終了し、Ｓ３２０（図１０）に移行する。
Ｓ３２０において、メインコントローラ１０は、図１３に示す補正規則設定処理を実行する。補正規則設定処理では、Ｓ３１０において設定した輝度閾値ＴＨによっても生じ得る幅Ｗの算出誤差を抑制するために、輝度閾値ＴＨに基づいて算出される幅Ｗの補正規則が設定される。本実施形態によれば、交差パターンＣＰの交点位置Ｘｃは、交差パターンＣＰの幅Ｗの分布に基づいて検出される。この幅Ｗは、一見すると、Ｓ３１０で設定された輝度閾値ＴＨを用いて高精度に算出可能であるように思われる。

しかしながら、交差パターンＣＰは、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが重なっていない部分と、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが重なっている部分と、を含む。用紙Ｑにおいて、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが重なる部分では、そこに付着するインク量が多いために、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが重なっていない部分よりも、輝度が低くなる。

特に、図６に示す第二のモデルパターンＭＰ２のように、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが完全に重なっている部分では、印字領域と非印字領域との境界の輝度勾配が、モデルパターンＭＰ１でモデル化されるような、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２とが重なっていない領域での輝度勾配よりも急峻になる。

このため、重なり部分を含む交差パターンＣＰに対し、重なり部分を含まないモデルパターンＭＰ１に基づいて設定された輝度閾値ＴＨを適用して、各地点の幅Ｗを算出しようとしても、幅Ｗを高精度に算出できない可能性がある。この理由から、Ｓ３２０では、補正規則を設定する。

補正規則設定処理を開始すると、メインコントローラ１０は、読取画像データに写る交差モデルパターンの標本点を一つ選択する（Ｓ３２１）。Ｓ３２１で選択される標本点は、読取画像データにおいて交差モデルパターンが写る領域の一画素である。ここでいう交差モデルパターンは、第二のモデルパターンＭＰ２、第三のモデルパターンＭＰ３、及び第四のモデルパターンＭＰ４のことを示す。標本点は、読取画像データに写る複数の交差モデルパターンの夫々に対して、一つ又は複数定められる。

標本点の選択後、メインコントローラ１０は、Ｓ３１２での処理と同様、当該選択した標本点からＹ軸方向に延びる画素列の輝度データを取得する（Ｓ３２２）。即ち、Ｓ３２２では、標本点とＸ座標が同じ画素列であって、標本点を基準としたＹ軸方向に所定範囲の画素列に属する各画素の輝度を示す輝度データを取得する。

輝度データの取得後、メインコントローラ１０は、Ｓ３１０で設定された輝度閾値ＴＨにより印字領域と非印字領域との境界を識別して、標本点に対応する交差モデルパターンのＹ軸方向（副走査方向）の幅Ｗを上記輝度データから算出する（Ｓ３２３）。具体的には、輝度が連続して輝度閾値ＴＨ以下となるＹ軸方向の画素群の始点から終点までの距離を、標本点に対応する交差モデルパターンのＹ軸方向の幅Ｗとして算出する（Ｓ３２３）。

その後、メインコントローラ１０は、Ｓ３２３で算出した幅Ｗに関して、交差モデルパターンの幅の設計値からの誤差を算出する（Ｓ３２４）。標本点に対応する交差モデルパターンが第二のモデルパターンＭＰ２である場合、幅の設計値はモデルパターンＭＰ１と同じ値ＤＷ１である。対応する交差モデルパターンが第三のモデルパターンＭＰ３である場合、幅の設計値は、図６に示すように、値ＤＷ３＝（３／２）・ＤＷ１である。対応する交差モデルパターンが第四のモデルパターンＭＰ４である場合、幅の設計値は、図６に示すように、ＤＷ４＝２・ＤＷ１である。

Ｓ３２４における誤差算出後、メインコントローラ１０は、交差モデルパターンの全標本点に関して、Ｓ３２１〜Ｓ３２４の処理を実行したか否かを判断する（Ｓ３２５）。全標本点について実行していないと判断すると（Ｓ３２５でＮｏ）、メインコントローラ１０は、Ｓ３２１に移行し、未処理の標本点を一つ選択して（Ｓ３２１）、Ｓ３２２以降の処理を実行する。即ち、当該選択した標本点における交差モデルパターンの幅Ｗに関して、設計値との誤差を算出する。

全標本点について上記処理を実行すると（Ｓ３２５でＹｅｓ）、メインコントローラ１０は、交差モデルパターンの種類毎に、当該交差モデルパターンについての複数の標本点から算出された誤差を統計処理して、誤差の代表値を算出する（Ｓ３２６）。代表値は、複数の標本点から算出された誤差の平均値又は中央値であり得る。但し、代表値の算出に、全標本点の誤差を用いる必要はない。

例えば、モデルパターンＭＰ２における複数の標本点について、輝度データから算出される幅と設計値との誤差を算出し（Ｓ３２４）、この誤差の平均値を算出する場合（Ｓ３２６）、メインコントローラ１０は、複数の標本点の内、誤差が高い標本点から所定割合の標本点を除外して残り標本点の誤差についての平均値を算出してもよい。Ｓ３２６では、モデルパターンＭＰ２についての誤差の代表値Ｅ１、モデルパターンＭＰ３についての誤差の代表値Ｅ３、モデルパターンＭＰ４についての誤差の代表値Ｅ４を、それぞれ算出することができる。

その後、メインコントローラ１０は、各モデルパターンＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４の誤差の代表値Ｅ１，Ｅ３，Ｅ４に基づき、輝度閾値ＴＨに基づいて算出される交差パターンＣＰの幅Ｗと補正量Ｃとの関係を表す補正規則を設定する（Ｓ３２７）。

交差パターンＣＰが幅ＤＷ１を有する地点（ブロックＢＥ１，ＢＥ２が完全に重なっている地点）では、読取画像データに基づいて算出される幅Ｗは、モデルパターンＭＰ２の誤差の代表値Ｅ１に対応する誤差を含んでいると推測される。即ち、読取画像データに基づいて算出される幅がＤＷ１＋Ｅ１であるとき、その幅の正しい値は、ＤＷ１であると推測される。

同様に、交差パターンＣＰが幅ＤＷ３を有する地点に関して、読取画像データに基づいて算出される幅Ｗは、モデルパターンＭＰ３の誤差の代表値Ｅ３に対応する誤差を含んでいると推測される。即ち、読取画像データに基づいて算出される幅がＤＷ３＋Ｅ３であるとき、その正しい値は、ＤＷ３であると推測される。同様に、交差パターンＣＰが幅ＤＷ４を有する地点に関して、読取画像データに基づいて算出される幅Ｗは、モデルパターンＭＰ４の誤差の代表値Ｅ４に対応する誤差を含んでいると推測される。即ち、読取画像データに基づいて算出される幅がＤＷ４＋Ｅ４であるとき、その正しい値は、ＤＷ４であると推測される。

従って、Ｓ３２７では、補正規則として、読取画像データから算出される幅Ｗに対する補正量Ｃを、次のように定めることができる。
（Ｉ）幅Ｗが値（ＤＷ１＋Ｅ１）以下であるとき、補正量Ｃ＝−Ｅ１
（ＩＩ）幅Ｗが値（ＤＷ３＋Ｅ３）であるとき、補正量Ｃ＝−Ｅ３
（ＩＩＩ）幅Ｗが値（ＤＷ４＋Ｅ４）以上であるとき、補正量Ｃ＝−Ｅ４
また、幅Ｗが範囲（ＤＷ１＋Ｅ１）＜Ｗ＜（ＤＷ３＋Ｅ３）にあるときの補正量Ｃ、及び、幅Ｗが範囲（ＤＷ３＋Ｅ３）＜Ｗ＜（ＤＷ４＋Ｅ４）にあるときの補正量Ｃは、次の通り、線形補間により定めることができる。

（ＩＶ）幅Ｗが範囲（ＤＷ１＋Ｅ１）＜Ｗ＜（ＤＷ３＋Ｅ３）にあるとき、補正量Ｃ＝α１・Ｗ＋β１
α１＝（Ｅ１−Ｅ３）／｛（ＤＷ３＋Ｅ３）−（ＤＷ１＋Ｅ１）｝
β１＝−α１・（ＤＷ３＋Ｅ３）−Ｅ３
（Ｖ）幅Ｗが範囲（ＤＷ３＋Ｅ３）＜Ｗ＜（ＤＷ４＋Ｅ４）にあるとき、補正量Ｃ＝α２・Ｗ＋β２
α２＝（Ｅ３−Ｅ４）／｛（ＤＷ４＋Ｅ４）−（ＤＷ３＋Ｅ３）｝
β２＝−α２・（ＤＷ４＋Ｅ４）−Ｅ４
上記補正規則に従う幅Ｗと補正量Ｃとの関係は、図１４において破線で示される。但し、輝度閾値ＴＨを用いて算出されるモデルパターンＭＰ３，ＭＰ４の幅（代表値Ｅ３，Ｅ４）の設計値に対する誤差は、輝度閾値ＴＨが適切である限り略ゼロである。なぜなら、モデルパターンＭＰ３，ＭＰ４の幅を規定する端縁（上辺及び下辺）は、重なり部分ではなく、モデルパターンＭＰ１の輝度と同様であるためである。

従って、補正規則を設定する際には、Ｅ３＝Ｅ４＝０とみなしてもよい。即ち、Ｓ３２７では、補正規則として、読取画像データから算出される幅Ｗに対する補正量Ｃを、次のように定めてもよい。
（Ｉ）幅Ｗが値（ＤＷ１＋Ｅ１）以下であるとき、補正量Ｃ＝−Ｅ１
（ＩＩ）幅Ｗが次の範囲内（ＤＷ１＋Ｅ１）＜Ｗ＜ＤＷ３にあるとき、補正量Ｃ＝α３・Ｗ＋β３
α３＝Ｅ１／｛ＤＷ３−（ＤＷ１＋Ｅ１）｝
β３＝−α３・ＤＷ３
（ＩＩＩ）幅Ｗが値ＤＷ３以上であるとき、補正量Ｃ＝０
上記補正規則に従う幅Ｗと補正量Ｃとの関係は、図１４において実線で示される。この補正規則の設定には、モデルパターンＭＰ３，ＭＰ４が不要である。従って、モデルパターンＭＰ３，ＭＰ４は、用紙Ｑに形成されなくてもよい。更なる別例として、値Ｅ３，Ｅ４の内、値Ｅ４のみをゼロとみなし、値Ｅ３については実測値を用いて、補正規則を設定してもよい。上記のように補正規則を設定すると、メインコントローラ１０は、図１３に示す補正規則設定処理を終了し、Ｓ３３０（図１０参照）に移行する。

Ｓ３３０において、メインコントローラ１０は、読取画像データに写る交差パターンＣＰの一群の中から、交点検出対象の交差パターンＣＰを一つ選択する。その後、この交点検出対象の交差パターンＣＰに関して、図１５に示すグループ幅算出処理を実行する（Ｓ３４０）。このグループ幅算出処理では、交差パターンＣＰの整形に必要な処理を実行する。

本実施形態における交差パターンＣＰは、同一形状のブロックＢＥ１が階段状に配列された第一のパターンＰＥ１と、同一形状のブロックＢＥ２が階段状に配列された第二のパターンＰＥ２と、が交差して形成される。このため、図１６に示すように、各Ｘ座標におけるＹ軸方向の交差パターンＣＰの幅Ｗは、交差位置Ｘｃ周辺において設計上限られた種類しか存在せず、同じ幅Ｗを有する画素グループが多く存在する。

そして、本実施形態によれば、第一のパターンＰＥ１と、第二のパターンＰＥ２との相対位置は、制御誤差により、基本的にＹ軸方向（副走査方向）に変化するだけであり、しかも、第二のパターンＰＥ２の全体が一体的に第一のパターンＰＥ１に対してＹ軸方向に相対移動するように変化する。

このため、設計上同じ幅Ｗの画素グループは、制御誤差によりＹ軸方向において、第一のパターンＰＥ１と第二のパターンＰＥ２との相対位置が変化しても、幾何学的に固定的に存在する。図１６に示す例によれば、設計上同じ幅Ｗの画素グループであるグループＡ，グループＢ、グループＣ、グループＤ、及び、グループＥが示されている。

図１６には、標準位置Ｘｓに交点位置Ｘｃが存在する交差パターンＣＰにおける第一のパターンＰＥ１及び第二のパターンＰＥ２の配置を示す。図１６の上段及び下段は、実際には位置ＸｓでＸ軸方向に接続されていると理解されてよい。図１６によれば、グループＡ，グループＢ、グループＣ、グループＤ、及び、グループＥがそれぞれ、Ｙ軸方向に同じ幅Ｗを有していることが理解できる。グループＡ、グループＢ、及び、グループＣは、第二のパターンＰＥ２が第一のパターンＰＥ１に対してＹ軸正方向にずれた位置に形成されるとき、そのずれ量だけ幅Ｗが増加するグループである。グループＤ及びグループＥは、第二のパターンＰＥ２が第一のパターンＰＥ１に対してＹ軸正方向にずれた位置に形成されるとき、そのずれ量だけ幅Ｗが減少するグループである。

本実施形態では、このような交差パターンＣＰの幾何学的特徴に基づき、設計上では同一幅である画素グループ毎に、当該画素グループに属する各Ｘ座標の画素のＹ軸方向の幅Ｗの代表値を算出し、交差パターンＣＰにおける対応する部分の幅Ｗを代表値に置き換えることにより、交差パターンＣＰを整形する。

図１５に示すグループ幅算出処理（Ｓ３４０）を開始すると、メインコントローラ１０は、設計上では同一幅である画素グループの一つを選択する（Ｓ３４１）。その後、メインコントローラ１０は、Ｓ３１０で設定された輝度閾値ＴＨに基づき、Ｓ３４１で選択した画素グループにおける幅Ｗの代表値を算出する（Ｓ３４２）。具体的には、当該画素グループに属するＸ座標毎に、Ｘ座標が同じ画素列であってＹ軸方向に所定範囲の画素列に属する各画素の輝度を示す輝度データを取得する。そして、当該画素グループに属するＸ座標毎に、取得した輝度データに基づき、輝度閾値ＴＨ以下となるＹ軸方向の画素群の始点から終点までの距離を、当該Ｘ座標に対応する画素のＹ軸方向の幅Ｗとして算出する。Ｓ３４２では、これら算出幅Ｗの平均値又は中央値を、当該選択した画素グループにおけるＹ軸方向の幅Ｗの代表値として算出する。

Ｓ３４２で、選択した画素グループの代表値を算出すると、メインコントローラ１０は、Ｓ３４３に移行し、Ｓ３４２で算出された代表値を、Ｓ３２０で設定された補正規則に従って補正する。この補正後の代表値を、対応する画素グループの幅Ｗとして特定する（Ｓ３４３）。以下では、Ｓ３４３で特定される画素グループの幅のことを、グループ幅とも表現する。

メインコントローラ１０は、全ての画素グループに対してＳ３４２，Ｓ３４３の処理を実行するまで、Ｓ３４４で否定判断して、選択する画素グループを切り替えながら、Ｓ３４１〜Ｓ３４３の処理を繰返し実行し、全ての画素グループについてＳ３４２，Ｓ３４３の処理を実行すると、Ｓ３４４で肯定判断して、当該グループ幅算出処理を終了する。このようにして、メインコントローラ１０は、画素グループ毎に、幅Ｗの代表値を算出及び補正して、グループ幅を特定する。

Ｓ３４０でのグループ幅算出処理を終えると、メインコントローラ１０は、交差パターンＣＰにおける評価対象エリアを一つ選択し（Ｓ３５０）、選択した評価対象エリアにおける幅Ｗの評価値Ｚを算出する（Ｓ３６０）。メインコントローラ１０は、全評価対象エリアについて評価値Ｚを算出するまでＳ３５０，Ｓ３６０の処理を繰り返し実行することで、交差位置Ｘｃ周辺における交差パターンＣＰの幅Ｗの評価値Ｚを、Ｘ軸方向に沿う複数地点（複数エリア）について得る。全評価対象エリアについてＳ３５０，Ｓ３６０の処理を終了すると（Ｓ３７０でＹｅｓ）、メインコントローラ１０は、Ｓ３８０に移行する。

ここで、評価エリア及び評価値Ｚについて詳述する。第一例によれば、メインコントローラ１０は、標準位置Ｘｓを基点に、当該基点からＸ軸方向に第一の間隔ＩＮＴ１離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであってＸ軸方向に長さＢＬ２に対応する画素数を有するエリアを、評価対象エリアとして選択する。

長さＢＬ２は、ブロックＢＥ２のＸ軸方向の長さであり、「長さＢＬ２に対応する画素数」は、長さＢＬ２を読取画像データにおける画素数に変換した値であり、読取画像データに写るブロックＢＥ２のＸ軸方向における画素数に対応する。以下において、読取画像データ上の長さＢＬ２について説明するとき、その長さＢＬ２は、画素数への変換値と理解されてよい。長さＢＬ１についても同様である。

即ち、第一例における評価対象エリアの一群は、ブロックＢＥ１及びブロックＢＥ２のＹ軸方向に沿う端縁がＹ軸方向に揃う標準位置Ｘｓを基点に、間隔ＩＮＴ１毎に配置される長さＢＬ２のエリアである。間隔ＩＮＴ１は、ブロックＢＥ１の長さＢＬ１に一致する（ＩＮＴ１＝ＢＬ１）。

詳述すれば、評価対象エリアの一群は、標準位置Ｘｓを、Ｘ座標の原点Ｘ＝０に設定したときに、ｋ＝−Ｋ，…，−２，−１，０，１，２，…，Ｋを含む座標Ｘ＝ＩＮＴ１・ｋを中心としたＸ軸方向に長さＢＬ２を有するエリアである。第ｋの評価対象エリアは、ＩＮＴ１・ｋ−（１／２）・ＢＬ２≦Ｘ≦ＩＮＴ１・ｋ＋（１／２）・ＢＬ２のエリアである。

Ｙ軸方向に関して、評価対象エリアは、隣接する交差パターンＣＰと重複しないようなサイズに定めることができる。例えば、評価対象エリアは、Ｙ軸方向において、注目する交差パターンＣＰの標準位置ＸｓのＹ座標を中心とした、交差パターンＣＰの副走査方向における形成間隔Ｌ１に対応する画素数以下の所定画素数のエリアに設定することができる。または、評価対象エリアは、図１７において破線で示すように、第一のパターンＰＥ１が有する各ブロックＢＥ１の存在地点を中心とした所定画素数のエリアに設定することができる。

この他、値Ｋ（評価対象エリアの一群）は、交点位置Ｘｃの変動範囲を考慮して定められ得る。本実施形態によれば、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹは、ブロックＢＥ１の幅ＢＷ１未満、特には、副走査方向のドットピッチ未満であることが想定され、交点位置Ｘｃの変動範囲も限定的である。

上述した第一例に代わる第二例によれば、メインコントローラ１０は、標準位置Ｘｓを基点に、当該基点からＸ軸方向に第二の間隔ＩＮＴ２離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであってＸ軸方向に長さＢＬ１に対応する画素数を有するエリアを、評価対象エリアとして選択することができる。長さＢＬ１は、ブロックＢＥ１のＸ軸方向の長さである。第二の間隔ＩＮＴ２は、ブロックＢＥ２の長さＢＬ２に一致する（ＩＮＴ２＝ＢＬ２）。

即ち、第二例における評価対象エリアの一群は、標準位置Ｘｓを、Ｘ座標の原点Ｘ＝０に設定したときに、ｋ＝−Ｋ，…，−２，−１，０，１，２，…，Ｋを含む座標Ｘ＝ＩＮＴ２・ｋを中心としたＸ軸方向に長さＢＬ１に対応する画素数を有するエリアである。第ｋの評価対象エリアは、ＩＮＴ２・ｋ−（１／２）・ＢＬ１≦Ｘ≦ＩＮＴ２・ｋ＋（１／２）・ＢＬ１のエリアである。Ｙ軸方向に関して、第二例の評価対象エリアは、第一例と同様に所定画素数の領域として定めることができる。

但し、本実施形態では、ブロックＢＥ１の長さＢＬ１及びブロックＢＥ２の長さＢＬ２を、ドット単位又は読取画像データにおける画素単位で整数表現したときの、長さＢＬ１，ＢＬ２が次の条件を満足する。具体的には、長さＢＬ２と長さＢＬ１との差（ＢＬ２−ＢＬ１）が、長さＢＬ１と長さＢＬ２との最大公約数Ｍに一致する条件を満足する。この条件を満足する環境下で、第一の間隔ＩＮＴ１は、具体的に、ブロックＢＥ１の長さＢＬ１に設定され、第二の間隔ＩＮＴ２は、ブロックＢＥ２の長さＢＬ２に設定される。例えば、ブロックＢＥ１が１６画素、ブロックＢＥ２が１８画素であるとき、ＢＬ２−ＢＬ１＝２は、値１８と値１６の最大公約数２に一致する。

このように長さＢＬ１，ＢＬ２及び間隔ＩＮＴ１，ＩＮＴ２を設定し、評価対象エリアの一群を定めることの利点は、評価対象エリアにおける幅Ｗの評価値Ｚとして、評価対象エリアにおける幅Ｗの平均値又は合計値又はその等価値を算出したときに、Ｘ軸方向における評価値Ｚの線形性が理論上確保され、評価値Ｚの分布に基づく交点位置Ｘｃの検出を、高精度に行うことができることである。

その理論は、次の通りである。
ＢＬ２＞ＢＬ１である次の自然数ＢＬ１，ＢＬ２を考える。Ｑ１，Ｑ２は、互いに素な自然数、Ｍは、ＢＬ１，ＢＬ２の最大公約数である。
ＢＬ１＝Ｍ・Ｑ１
ＢＬ２＝Ｍ・Ｑ２
図１７における座標Ｘ＝０から数えて、長さＢＬ１のブロックＢＥ２のｊ倍の距離の位置を考える。この位置を挟んでＹ軸方向の幅Ｗが細い区間の長さは、ｊ・ＢＬ１−（ｊ−１）・ＢＬ２であり、幅Ｗが太い区間の長さは、ｊ・（ＢＬ２−ＢＬ１）である。ｊ・ＢＬ１−（ｊ−１）・ＢＬ２＝０となるとき、ｊ＝Ｊ＝ＢＬ２／（ＢＬ２−ＢＬ１）である。

ここで、Ｊは整数であるとの前提を置く。Ｊが整数になるのは、Ｑ１，Ｑ２が互い素であることから、Ｑ２−Ｑ１＝１のときのみである。換言すれば（ＢＬ２−ＢＬ１）が最大公約数Ｍに一致するときのみである。

０＜ｊ＜ＪであるときのＸ＝ｊ・ＢＬ１を中心としたＸ軸方向の長さＬのエリアにおける幅Ｗの平均値は、次の通りである。
（Ｉ） （Ｌ／２）≧ｊ・（ＢＬ２−ＢＬ１）のときの平均値

（ＩＩ） （Ｌ／２）＜ｊ・（ＢＬ２−ＢＬ１）のときの平均値

Ｗ０は、本実施形態によれば、ブロックＢＥ１，ＢＥ２の幅ＢＷ１＝ＢＷ２である。Ｕは、本実施形態によれば、ブロックＢＥ１，ＢＥ２の幅ＢＷ１＝ＢＷ２の半分である。上式から、ｊ＝０で幅Ｗ＝Ｗ０から始まって、ｊが１増加する度に、平均値は、Ｕ・（ＢＬ２−ＢＬ１）／Ｌだけ増えることが理解できる。

ＸがＪ・ＢＬ１増加すると、幅ＷがＵ増加するという周期性がある。ｊ＝Ｊのときの幅Ｗの平均値は、次の通りである。
（ＩＩＩ） ｊ＝Ｊのときの平均値Ｗ０＋Ｕ
ｊが１増加すると、平均値は、Ｕ・（ＢＬ２−ＢＬ１）／Ｌだけ増えるのであるから、Ｊ倍したときの値はＵでなければならない。即ち、Ｊ・｛Ｕ・（ＢＬ２−ＢＬ１）／Ｌ｝＝Ｕを満足する必要である。Ｊ＝ＢＬ２／（ＢＬ２−ＢＬ１）であるからＢＬ２／Ｌ＝１であり、Ｌ＝ＢＬ２である必要がある。

Ｌ＝ＢＬ２であるとき、（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）は統合されて、エリアの幅Ｗの平均値は、（ｊ／Ｊ）・Ｕ＋Ｗ０である。あるいは、Ｘ＝ｊ・ＢＬ１を用いれば、平均値は、（Ｘ／（Ｊ・ＢＬ１））・Ｕ＋Ｗ０である。

従って、評価対象エリアの評価値Ｚとして幅Ｗの平均値又は合計値又はその等価値を算出するとき、上記のように評価対象エリアを設定することで、評価値Ｚの線形性が確保される。換言すれば、第一のパターンＰＥ１及び第二のパターンＰＥ２が階段状であることに基づく幅Ｗの一律でない変動を要因として、各エリアで評価値Ｚが変動することを抑えることができ、各エリアで適切な評価値Ｚを算出することができる。

メインコントローラ１０は、このような理論に従って定められた評価対象エリアを一つ選択すると（Ｓ３５０）と、Ｓ３６０（図１０参照）において、図１８に示す評価値算出処理を実行して、選択した評価対象エリアに対応する幅の評価値を算出する。

評価値算出処理を開始すると、メインコントローラ１０は、Ｓ３５０で選択した評価対象エリア内に位置する交差パターンＣＰの各区間が属する画素グループ及び各区間のＸ軸方向長さ（以下、区間長とも表現する、）を判別する（Ｓ３６１）。図１７において破線で囲むように、評価対象エリアは、幅Ｗの異なる複数区間を含み得る。これらの区間は、上述した画素グループのいずれかに属する。

図１９によれば、評価対象エリアは、区間長がＬＡであり設計上の幅が２・Ｗ０の区間と、区間長がＬＢ１であり、設計上のＹ軸方向の幅が（３／２）Ｗ０の区間と、区間長がＬＢ２であり、設計上のＹ軸方向の幅が（３／２）Ｗ０の区間と、を含む。

図１９上段に示すように、読取画像データにおいて評価対象エリア内の各Ｘ座標における幅Ｗは、設計上同一である画素グループに属しているＸ座標同士であっても、読取及び解析に際して生じる誤差から一律ではなく、ノイズ成分を含む。

メインコントローラ１０は、Ｓ３６２で、このようなノイズ成分を整形により取り除くために、Ｓ３６１で判別した評価対象エリア内の各区間が属する画素グループについてＳ３４０で算出されたグループ幅の情報を読み出す。

そして、評価対象エリア内の各区間におけるＸ座標毎の幅Ｗを、所属する画素グループのグループ幅に置き換えるようにして、評価対象エリア内の交差パターンＣＰを図１９下段に示すように整形した後、評価対象エリアの評価値Ｚを算出する（Ｓ３６３）。

評価値Ｚは、読取画像データにおける評価対象エリア内の各画素の輝度を、輝度閾値ＴＨを境界に二値化したときの輝度値の合計である。二値化は、輝度が輝度閾値ＴＨ以下の画素の当該輝度を値「０」に変換し、輝度が輝度閾値ＴＨより大きい画素の当該輝度を値「１」に変換することによって実現できる。この場合、評価対象エリアの二値化後の輝度がすべて値「１」であるとき、評価値Ｚは、評価対象エリアの面積に対応する最大値Ｚｍａｘを示し、評価対象エリアの二値化後の輝度がすべて値「０」であるとき、評価値Ｚは、最小値０を示す。

Ｓ３６３での整形は、読取画像データから評価対象エリア内の画像データを抽出し、抽出した画像データにおける各画素の輝度を二値化した後、各Ｘ座標における幅Ｗを、そのＸ座標が属する画素グループのグループ幅に置き換えるように、画像データに写る交差パターンを整形することにより実現することができる。あるいは、Ｓ３６３での整形は、評価値Ｚを算出する過程の計算式に組み込むことができる。

即ち、Ｓ３６３では、整形及び評価値Ｚの算出を次式に従って評価値Ｚを算出することにより同時に行うことができる。
Ｚ＝Ｚｍａｘ−Σ｛（グループ幅）・（区間長）｝
Σ｛（グループ幅）・（区間長）｝は、評価対象エリア内の区間毎に、区間のグループ幅を用いて得られる当該区間の面積（グループ幅Ｘ区間長）の総和である。換言すれば、Σ｛（グループ幅）・（区間長）｝は、評価対象エリア内における整形後の交差パターンＣＰの面積である。

メインコントローラ１０は、このようにして、評価対象エリアに対する幅Ｗの評価値Ｚを算出する。評価値Ｚは、上述したように、評価対象エリアの輝度合計値に対応するが、別例によれば、評価値Ｚは、輝度合計値を評価対象エリアの面積又は評価対象エリアのＸ軸方向の長さで除算した輝度平均値であってもよい。

輝度合計値を評価対象エリアのＸ軸方向の長さで除算した輝度平均値を、評価対象エリアのＹ軸方向の幅から減算した値は、評価対象エリアにおける交差パターンＣＰのＹ軸方向の幅Ｗの平均値に対応する。輝度合計値を評価対象エリアの面積（Ｚｍａｘ）から減算した値は、評価対象エリアにおける各Ｘ座標での交差パターンＣＰの幅Ｗの合計値に対応する。このように、評価値Ｚは、評価対象エリアにおける交差パターンＣＰのＹ軸方向の幅Ｗの平均値又は合計値と等価である。

メインコントローラ１０は、全評価対象エリアについて評価値Ｚを算出すると（Ｓ３７０でＹｅｓ）、Ｓ３８０（図１０参照）に移行し、各評価対象エリアの評価値Ｚに基づき、評価対象エリア中心の位置座標（Ｘ座標）と評価値Ｚとの対応関係を示した評価値分布データを生成する。仮に、用紙Ｑの搬送誤差がなく交点位置Ｘｃが標準位置Ｘｓであるときの評価値Ｚの分布は、図２０に示す通りである。図２０上段には、各評価対象エリアの評価値Ｚを、その評価対象エリア中心のＸ座標に対応する位置にプロットとしたグラフを示し、図２０下段には、図２０上段に示すグラフに対応する交差パターンＣＰの例を示す。

Ｓ３８０での処理を終えると、メインコントローラ１０は、Ｓ３９０に移行して、図２１に示す交点検出処理を実行する。この交点検出処理では、評価値Ｚの分布に、三角形状のモデル曲線をフィットさせて、評価値Ｚの分布に最も適合するモデル曲線の頂点位置を検出することにより、交差パターンＣＰの交点位置Ｘｃを検出する。モデル曲線は、評価値Ｚの分布曲線のモデルであり、理想的な評価値Ｚの分布を示す。具体的には、モデル曲線をＸ軸方向にスライドさせるように位置変化させ（図２４参照）、各位置でのモデル曲線と評価値Ｚの分布とのずれ量δを算出し、ずれ量δが最小であるモデル曲線の頂点のＸ座標を、交差パターンＣＰの交点位置Ｘｃとして検出する。

但し、用紙Ｑの搬送誤差によって、交差パターンＣＰの交点位置Ｘｃが標準位置Ｘｓからずれている場合には、図２２及び図２４に示すように、交点位置Ｘｃの周囲において、評価値Ｚの勾配が緩やかになる現象が発生する。図２０と同様、図２２の上段には、各評価対象エリアの評価値Ｚを、その評価対象エリア中心のＸ座標に対応する位置にプロットとしたグラフを示し、図２２下段には、図２２上段に示すグラフに対応する交差パターンＣＰの例を示す。

図２２に示す例によれば、交点位置Ｘｃの周辺では、第一のパターンＰＥ１に対する第二のパターンＰＥ２の相対位置が変化したとき、第一のパターンＰＥ１及び第二のパターンＰＥ２が階段形状であることに起因して、破線状の円で囲んで示すように、ブロックＢＥ２がブロックＢＥ１の上側（Ｙ軸方向正側）に突出する領域と、ブロックＢＥ２がブロックＢＥ１の下側（Ｙ軸方向負側）に突出する領域とが細かく交互に現れて、評価対象エリアの輝度合計値として算出される評価値Ｚの変化が乏しくなる。

このような交点位置Ｘｃの周囲にある評価値Ｚの勾配が緩やかな区間は、評価値Ｚの分布にモデル曲線をフィットさせて、交点位置Ｘｃを検出するときに、その検出精度を低下させる原因となり得る。この勾配が緩やかな区間は、交点位置Ｘｃの周辺において、およそ決まった形態で現れる。

そこで、本実施形態では、モデル曲線の頂点を基準に、有効区間及び無効区間を定め、有効区間の評価値Ｚのみを、モデル曲線とのずれ量δの算出に用いることで、勾配の緩やかな区間が交点位置Ｘｃの検出精度に悪影響を与えるのを抑える。

図２１に示す交点検出処理（Ｓ３９０）を開始すると、メインコントローラ１０は、Ｘ座標を区画化することによって、評価値分布データが評価値Ｚを有するＸ座標の領域を、図２３に示すように、複数の区画に分割する（Ｓ３９１）。図２３に示す一点鎖線が分割線である。上述した勾配な緩やかな区間は、ブロックＢＥ１の長さＢＬ１と、ブロックＢＥ２の長さＢＬ２との最小公倍数に対応する長さを有する。このため、用紙搬送誤差がないときの交点位置Ｘｃである標準位置Ｘｓを基準に、最小公倍数に対応する長さＨの区画毎に、Ｘ座標を分割する。

その後、メインコントローラ１０は、モデル曲線の頂点を配置するＸ座標を選択する（Ｓ３９２）。更に、Ｓ３９１で分割した区画の内、頂点が含まれる区画を、無効区間に設定し、当該頂点が含まれる区画の左側（Ｘ軸負方向）及び右側（Ｘ軸正方向）に隣接する二つの区画を、ずれ量δの算出時に参照する有効区間に設定し、残りの区画を無効区間に設定する（Ｓ３９３）。残りの区間を無効区間に設定するのは、交点位置Ｘｃから離れていくと、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２との重なりがなくなる結果、評価対象エリア内の輝度合計値又は輝度平均値として算出される評価値Ｚに変化がなくなるためである。即ち、交点位置Ｘｃから離れた領域では、評価値Ｚが三角状のモデル曲線と合致しない分布を示すため、ここでは、上記残りの区画を無効区間に設定する。但し、評価値Ｚとして、ブロックＢＥ１の端から、ブロックＢＥ１とブロックＢＥ２との間の隙間を含む、ブロックＢＥ２の端までの幅に対応する値を算出する場合には、評価値Ｚが、交点位置Ｘｃから離れた領域でも、評価値Ｚが三角状のモデル曲線と合致する分布を示すため、上記残りの区間も、有効区間に設定可能である。

その後、メインコントローラ１０は、評価値Ｚの分布を表すグラフに対して、Ｓ３９２で選択したＸ座標に頂点を位置合わせするようにモデル曲線を配置したときの、モデル曲線と評価値Ｚの分布とのずれ量δを算出する（Ｓ３９４）。モデル曲線は、傾き及び極大値（頂点での評価値Ｚ）が固定である三角状の曲線として理解されてよい。

具体的に、メインコントローラ１０は、有効区間に属する各Ｘ座標での評価値Ｚと、そのＸ座標でのモデル曲線が示す値Ｚｒとの誤差Ｅ＝Ｚ−Ｚｒの標準偏差（１／Ｎｓ）Σ（Ｅ−＜Ｅ＞）^２をずれ量δとして算出する。ここで値Ｎｓは、標準偏差の算出対象となった有効区間内の評価値Ｚの個数（標本数）に対応する。値＜Ｅ＞は、誤差Ｅの平均に対応する。このずれ量δは、無効区間に属する評価値Ｚを無視して算出される。

ずれ量δの算出後、メインコントローラ１０は、モデル曲線を予め定められた全範囲に対して走査したか否かを判断する（Ｓ３９５）。即ち、モデル曲線の頂点を、予め定められた全地点に対して配置して、ずれ量δを算出したか否かを判断する（Ｓ３９５）。

全範囲に対して走査していないと判断すると（Ｓ３９５でＮｏ）、メインコントローラ１０は、Ｓ３９２に移行し、モデル曲線の頂点を配置するＸ座標をずらすように新たに選択して、Ｓ３９３以降の処理を実行し、ずれ量δを算出する。

メインコントローラ１０は、このようにして図２４に示すようにモデル曲線をＸ軸方向に移動させながら、各モデル曲線の配置においてずれ量δを算出する。そして、モデル曲線を全範囲に対して走査してずれ量δを算出すると、Ｓ３９５で肯定判断して、Ｓ３９６に移行する。

Ｓ３９６において、メインコントローラ１０は、モデル曲線の配置毎に算出したずれ量δの内、ずれ量δが最小となったモデル曲線の頂点のＸ座標を、交点位置Ｘｃとして検出する。その後、交点検出処理を終了する。

このようにして、メインコントローラ１０は、交点検出処理を実行し、上述した評価値Ｚの緩やかな勾配が発生する領域の評価値Ｚを用いずにずれ量δを算出することによって、当該緩やかな勾配に起因して、交点位置Ｘｃの検出精度が低下するのを抑えつつ、高精度に交点位置Ｘｃを検出する。本実施形態では、上述したようにＸ座標を区画化して、有効区間及び無効区間を定めたが、Ｓ３９３では、モデル曲線の頂点を中心としたＸ軸方向に所定範囲の区間を無効区間に設定し、その無効区間の左右で隣接する所定範囲の区間を有効区間に設定して、Ｓ３９４でずれ量δを算出してもよい。無効区間の長さは、上記最小公倍数に対応する長さＨであり得る。

交点検出処理（Ｓ３９０）を終了すると、メインコントローラ１０は、図１０に示すように、全ての交差パターンＣＰについて、交点位置Ｘｃを検出したか否かを判断する（Ｓ４００）。そして、全ての交点位置Ｘｃを検出していない場合には、次の交差パターンＣＰを選択して（Ｓ３３０）、この交差パターンＣＰについてＳ３４０〜Ｓ３９０の処理を実行する。

そして、全ての交差パターンＣＰについて交点位置Ｘｃを検出すると（Ｓ４００でＹｅｓ）、当該画像解析処理を終了する。そして、交差パターンＣＰ毎に、検出された交差位置Ｘｃの標準位置Ｘｓからの誤差ΔＸに基づき、図３に示すように、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを算出し（Ｓ２６０）、算出した搬送誤差ΔＹに基づき、搬送誤差ΔＹを抑制する方向に、用紙Ｑの搬送制御時に用いられる制御パラメータの値を更新する（Ｓ２７０）。これにより、高精度に用紙Ｑを搬送できるようにする。

以上に説明した本実施形態の複合機１により得られる効果は、次の通りである。本実施形態によれば、Ｓ３１０における閾値設定処理の実行により、シート及びインクの材質等の変化に起因した輝度の変化による交点位置Ｘｃの検出精度の悪化を抑えることができる。従って、高精度に交点位置Ｘｃを検出することができる。

本実施形態によれば、更にＳ３２０で補正規則を設定することにより、ブロックＢＥ１，ＢＥ２の重なりの有無によるインク量の変化に起因した幅Ｗの算出誤差を抑制することができる。従って、更に高精度に交点位置Ｘｃを検出することができる。

更に、本実施形態によれば、交差パターンＣＰにおいて、設計上同一の幅となる部位をまとめて、これらの部位の幅の代表値（例えば平均値）を算出し、この代表値を用いて、交差パターンＣＰの幅を整形するように、各エリアの幅の評価値Ｚを算出する。従って、ノイズ成分による検出精度の悪化を抑えて、高精度に交点位置Ｘｃを検出することができる。

また、本実施形態によれば、上述したように評価対象エリアを選択し評価値Ｚを算出するため、階段状のパターンに起因する評価値Ｚの変動を抑えることができ、高精度に交点位置Ｘｃを検出することができる。

本実施形態によれば更に、評価値Ｚの分布にモデル曲線を合わせて、交点位置Ｘｃを算出する際、評価値Ｚの勾配が緩やかになると推定される区間の評価値Ｚを無視することで、勾配が緩やかになる区間の影響を抑えて、高精度に交点位置Ｘｃを検出する。

従って、本実施形態によれば、交点位置Ｘｃの標準位置Ｘｓからの誤差ΔＸに基づく用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを高精度に検出することができ、用紙Ｑの搬送誤差ΔＹを抑制する方向に、ＮＶＲＡＭ１７が記憶する制御パラメータを適切に補正することができる。従って、高精度に用紙Ｑを搬送して、用紙Ｑに高品質な画像を形成可能な複合機１を構成することができる。

以上に、本開示の例示的実施形態を説明したが、本開示が上述した例示的実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。上記実施形態は、交点位置Ｘｃを高精度に検出するために様々な技術を含むが、これらの技術は、個別に複合機１に適用することができる。即ち、一部の技術は、複合機１に適用されなくてもよい。

例えば、輝度閾値ＴＨは固定値であってもよい。補正規則は設定されなくてもよい。即ち、補正量Ｃはゼロであってもよい。この他、交差パターンＣＰは、グループ幅により整形されなくてもよい。

交点検出処理では、Ｘ座標を区画化した後、各区画の内、評価値Ｚの合計が最大となる区画を特定し、その評価値Ｚの合計が最大となる区画に交点があるとみなして、隣接する区画を有効区間に設定し、有効区間の評価値Ｚをそれぞれ直線近似して、得られる近似直線の交点のＸ座標を、交差パターンＣＰの交点位置Ｘｃとして検出してもよい。

この他、第一のパターンＰＥ１及び第二のパターンＰＥ２は、上述した例示的実施形態の構成に限定されない。交点位置Ｘｃの検出機能や制御パラメータの更新／補正機能は、複合機１とは別の電子機器に搭載されてもよい。この場合、複合機１の出荷に関わる作業者は、複合機１に対する適切な制御パラメータの設定のために、複合機１にて生成されたテストパターンを有する用紙Ｑを、電子機器が備えるスキャナに読み取らせ、この電子機器に、テストパターンを解析させることができる。また、電子機器が算出した適切な制御パラメータを、電子機器からの表示に基づき、又は、電子機器から複合機１への信号入力により、複合機１に設定することができる。

この他、上記実施形態における１つの構成要素が有する機能は、複数の構成要素に分散して設けられてもよい。複数の構成要素が有する機能は、１つの構成要素に統合されてもよい。上記実施形態の構成の一部は、省略されてもよい。上記実施形態の構成の少なくとも一部は、他の上記実施形態の構成に対して付加又は置換されてもよい。特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。

最後に用語間の対応関係を説明する。メインコントローラ１０が実行する読取処理（Ｓ２４０）は、取得ユニットによって実現される処理の一例に対応する。メインコントローラ１０が実行する画像解析処理におけるＳ３１０〜Ｓ３７０の処理は、算出ユニットによって実現される処理の一例に対応する。メインコントローラ１０が実行するＳ３８０，Ｓ３９０の処理は、検出ユニットによって実現される処理の一例に対応する。この他、メインコントローラ１０が実行するＳ２７０の処理は、補正ユニットにより実現される処理の一例に対応する。また、モデルパターンＭＰ２は、交点画像パターンの一例に対応し、モデルパターンＭＰ１は、非交点画像パターンの一例に対応する。

１…複合機、３…外部装置、１０…メインコントローラ、１１…ＣＰＵ、１３…ＲＯＭ、１５…ＲＡＭ、１７…ＮＶＲＡＭ、２０…プリンタ部、３０…印字コントローラ、４０…記録ヘッド、５１…キャリッジ搬送機構、５２…キャリッジ、５３…ＣＲモータ、５５…リニアエンコーダ、６１…用紙搬送機構、６３…ＰＦモータ、６５…ロータリエンコーダ、７０…スキャナ部、９０…ユーザインタフェース、６１１…プラテン、６１３…搬送ローラ、６１４…ピンチローラ、６１７…排紙ローラ、６１８…拍車ローラ、ＢＥ１，ＢＥ２…ブロック、ＣＰ…交差パターン、ＦＰ１，ＦＰ２…矩形パターン、ＭＰ１，ＭＰ２，ＭＰ３，ＭＰ４…モデルパターン、Ｎ０，Ｎ１，Ｎ２…ノズル群、ＰＥ１…第一のパターン、ＰＥ２…第二のパターン、Ｑ…用紙、Ｒ０，Ｒ１，Ｒ２…記録領域。

Claims (32)

1. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する取得ユニットと、
   前記読取画像データが示す各画素の輝度と判定値との比較により前記テストパターンに対応する画素を判別して、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点に関して算出する算出ユニットと、
   前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する検出ユニットと、
   を備え、
   前記テストパターンは、前記第一のパターン及び前記第二のパターンとは別に、前記直交する方向に既知の幅を有するモデルパターンを有し、
   前記算出ユニットは、前記判定値として、前記読取画像データから算出される前記モデルパターンの前記直交する方向の幅が前記既知の幅に適合する判定値を設定し、前記設定した判定値に基づき前記テストパターンに対応する画素を判別して、前記重なり画像の前記複数地点の幅を算出する電子機器。
2. 前記モデルパターンは、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが重なっていない状態をモデル化したパターンであって前記直交する方向に既知の幅を有する非交点画像パターンを有し、
   前記算出ユニットは、前記読取画像データから算出される前記非交点画像パターンの前記直交する方向の幅を前記非交点画像パターンの前記既知の幅に適合させるように、前記判定値を設定する請求項１記載の電子機器。
3. 前記モデルパターンは、前記交点位置において前記第一のパターンと前記第二のパターンとが重なっている状態をモデル化したパターンであって前記直交する方向に既知の幅を有する交点画像パターンを更に有し、
   前記算出ユニットは、前記読取画像データから算出される前記重なり画像の前記複数地点の幅を、前記読取画像データから算出される前記交点画像パターンの前記幅と前記交点画像パターンの前記既知の幅との誤差に基づき補正し、
   前記検出ユニットは、前記補正後の前記複数地点の幅の分布に基づいて、前記交点位置を検出する請求項２記載の電子機器。
4. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する取得ユニットと、
   前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点で算出する算出ユニットと、
   前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する検出ユニットと、
   を備え、
   前記テストパターンは、前記第一のパターン及び前記第二のパターンとは別に、前記直交する方向に既知の幅を有するモデルパターンを有し、
   前記算出ユニットは、前記読取画像データから算出される前記重なり画像の前記複数地点の幅を、前記読取画像データから算出される前記モデルパターンの前記幅と前記モデルパターンの前記既知の幅との誤差に基づき補正し、
   前記検出ユニットは、前記補正後の前記複数地点の幅の分布に基づいて、前記交点位置を検出する電子機器。
5. 前記モデルパターンは、前記交点位置において前記第一のパターンと前記第二のパターンとが重なっている状態をモデル化したパターンであって前記直交する方向に既知の幅を有する交点画像パターンを有し、
   前記補正は、前記読取画像データから算出される前記交点画像パターンの前記幅と前記交点画像パターンの前記既知の幅との誤差に基づく請求項４記載の電子機器。
6. 前記算出ユニットは、前記読取画像データが示す各画素の輝度と判定値との比較により前記テストパターンに対応する画素を判別して、前記複数地点の幅を算出し、その算出時には前記複数地点の幅を、前記誤差に基づき補正する請求項４又は請求項５記載の電子機器。
7. 前記算出ユニットは、前記読取画像データから算出される前記交点画像パターンの前記幅と前記交点画像パターンの前記既知の幅との誤差に基づき、前記読取画像データから算出される前記直交する方向の幅と補正量との関係を決定し、前記決定した関係に従って、前記読取画像データから算出される前記複数地点の幅を、その幅の大きさに応じた補正量によって補正する請求項３又は請求項５記載の電子機器。
8. 前記複数地点の幅のそれぞれは、前記複数地点の内の対応する地点を基準とするエリアであって前記基準方向に所定画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値として算出される請求項１〜請求項７のいずれか一項記載の電子機器。
9. 前記評価値は、前記エリアにおける前記基準方向に沿う前記各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の平均値若しくは合計値、又は、前記平均値若しくは合計値と等価な値である請求項８記載の電子機器。
10. 前記複数地点の幅のそれぞれは、前記複数地点の内の対応する地点を基準とするエリアであって前記基準方向及び前記直交する方向のそれぞれに所定画素数を有するエリア内の各画素の輝度を二値化したときの前記エリア内の輝度の合計値又は前記合計値と等価な値として算出される請求項１〜請求項７のいずれか一項記載の電子機器。
11. 前記算出ユニットは、前記重なり画像において、前記直交する方向の幅が設計上同一であるグループ毎に、当該グループにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記直交する方向の幅の平均値又は中央値を算出し、前記複数地点のそれぞれに対応する前記エリア毎に、前記各グループの前記直交する方向の幅を前記平均値又は中央値に置換するように前記重なり画像を整形したときの、前記エリアにおける前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出することにより、前記複数地点の幅のそれぞれを算出する請求項８又は請求項９記載の電子機器。
12. 前記算出ユニットは、前記重なり画像において、前記直交する方向の幅が設計上同一であるグループ毎に、当該グループにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記直交する方向の幅の平均値又は中央値を算出し、前記複数地点のそれぞれに対応する前記エリア毎に、前記各グループの前記直交する方向の幅を前記平均値又は中央値に置換するように前記重なり画像を整形し、且つ、前記エリアにおける各画素の輝度を二値化したときの、前記エリア内の輝度の合計値又は前記合計値と等価な値を算出することにより、前記複数地点の幅のそれぞれを算出する請求項１０記載の電子機器。
13. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する取得ユニットと、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点で算出する算出ユニットと、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する検出ユニットと、
    を備え、
    前記算出ユニットは、前記重なり画像において、前記直交する方向の幅が設計上同一であるグループ毎に、当該グループにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記直交する方向の幅の平均値又は中央値を算出し、前記複数地点のそれぞれに対応する前記基準方向に所定画素数を有するエリア毎に、前記各グループの幅を前記平均値又は中央値に置換するように前記重なり画像を整形したときの、前記エリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出することにより、前記複数地点の幅のそれぞれを前記評価値の形態で算出する電子機器。
14. 前記エリアは、前記直交する方向に所定画素数を有するエリアであり、
    前記算出ユニットは、前記エリア毎に、前記整形後の前記重なり画像における前記エリア内の各画素の輝度を二値化したときの輝度の合計値又は前記合計値と等価な値を、前記評価値として算出する請求項１３記載の電子機器。
15. 前記算出ユニットは、前記読取画像データが示す各画素の輝度と判定値との比較により前記テストパターンに対応する画素を判別し、前記判定値を境界に前記エリア内の各画素の輝度を二値化する請求項１４記載の電子機器。
16. 前記複数地点の幅のそれぞれは、対応する地点を中心とするエリアであって前記基準方向に所定画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値として算出され、
    前記テストパターンは、前記テストパターンを前記シートに形成する画像形成システムの個体差に起因して、前記シートへの形成時に、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの間の相対位置が前記直交する方向に変化するテストパターンであり、
    前記算出ユニットは、前記複数地点のそれぞれの前記評価値として、前記第一のブロック及び前記第二のブロックの前記直交する方向に沿う端縁が前記直交する方向に揃う前記基準方向の地点を基点に、前記基点から前記基準方向に第一の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって前記基準方向に前記第二の長さＷ２に対応する画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出し、又は、前記基点から前記基準方向に第二の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって前記基準方向に前記第一の長さＷ１に対応する画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出し、
    前記第一の長さＷ１及び前記第二の長さＷ２は、前記基準方向における単位長さの整数倍であり、前記第二の長さＷ２と前記第一の長さＷ１との差（Ｗ２−Ｗ１）は、前記第一の長さＷ１と前記第二の長さＷ２との最大公約数に一致し、前記第一の間隔は、前記第一の長さＷ１であり、前記第二の間隔は、前記第二の長さＷ２である請求項１〜請求項７のいずれか一項記載の電子機器。
17. 基準方向に第一の長さＷ１を有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さＷ２を有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する取得ユニットと、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点に関して算出する算出ユニットと、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する検出ユニットと、
    を備え、
    前記複数地点の幅のそれぞれは、対応する地点を中心とするエリアであって前記基準方向に所定画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値であり、
    前記テストパターンは、前記テストパターンを前記シートに形成する画像形成システムの個体差に起因して、前記シートへの形成時に、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの間の相対位置が前記直交する方向に変化するテストパターンであり、
    前記算出ユニットは、前記複数地点のそれぞれの前記評価値として、前記第一のブロック及び前記第二のブロックの前記直交する方向に沿う端縁が前記直交する方向に揃う前記基準方向の地点を基点に、前記基点から前記基準方向に第一の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって前記基準方向に前記第二の長さＷ２に対応する画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出し、又は、前記基点から前記基準方向に第二の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって前記基準方向に前記第一の長さＷ１に対応する画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出し、
    前記第一の長さＷ１及び前記第二の長さＷ２は、前記基準方向における単位長さの整数倍であり、前記第二の長さＷ２と前記第一の長さＷ１との差（Ｗ２−Ｗ１）は、前記第一の長さＷ１と前記第二の長さＷ２との最大公約数に一致し、前記第一の間隔は、前記第一の長さＷ１であり、前記第二の間隔は、前記第二の長さＷ２である電子機器。
18. 前記エリアは、前記直交する方向に所定画素数を有するエリアであり、
    前記評価値は、前記エリア内の各画素の輝度を二値化したときの輝度の合計値又は前記合計値と等価な値である請求項１７記載の電子機器。
19. 前記検出ユニットは、前記基準方向における前記複数地点の幅の分布に対してモデル曲線をフィットさせたときの、前記モデル曲線が極値を示す前記基準方向の位置を、前記交点位置として検出する請求項１〜請求項１８のいずれか一項記載の電子機器。
20. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する取得ユニットと、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点で算出する算出ユニットと、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する検出ユニットと、
    を備え、
    前記検出ユニットは、前記基準方向における前記複数地点の幅の分布に対してモデル曲線を前記基準方向に移動させたときに、前記複数地点の幅の分布と前記モデル曲線との間のずれ量が最小となる前記モデル曲線の配置において、前記モデル曲線が極値を示す前記基準方向の位置を、前記交点位置として検出する電子機器。
21. 前記ずれ量は、前記複数地点の内、前記モデル曲線が極値を示す地点を基準とした前記基準方向に所定範囲の地点を除く各地点の幅の、前記モデル曲線からの誤差に基づく請求項２０記載の電子機器。
22. 前記検出ユニットは、前記基準方向における前記複数地点の幅の分布に対してモデル曲線を前記基準方向に移動させたときに、前記複数地点の内、前記所定範囲内の地点を除く各地点の幅の、前記モデル曲線からの誤差の標準偏差が最小となる前記モデル曲線の配置において、前記モデル曲線が極値を示す前記基準方向の位置を、前記交点位置として検出する請求項２１記載の電子機器。
23. 前記所定範囲は、前記第一の長さと前記第二の長さとの最小公倍数に対応する長さを前記基準方向に有する範囲である請求項２２記載の電子機器。
24. 前記シートへの前記第一のパターンの形成動作と前記シートへの前記第二のパターンの形成動作とを前記シートの搬送動作を挟んで行う画像形成システムにおける前記シートの搬送量を、前記シートの搬送量に誤差がないときの前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置と、前記検出された交点位置と、の誤差に基づき、当該誤差が縮小する方向に補正する補正ユニット
    を更に備える請求項１〜請求項２３のいずれか一項記載の電子機器。
25. 請求項１〜請求項２３のいずれか一項記載の電子機器が備える前記取得ユニット、前記算出ユニット、及び、前記検出ユニットとして、コンピュータを機能させるためのプログラム。
26. 記録ヘッドを主走査方向に搬送し、シートを副走査方向に搬送することによって、前記シートに画像を形成する画像形成装置と、
    前記シートに形成された画像を光学的に読み取る読取装置と、
    前記画像形成装置及び前記読取装置を制御するコントローラと、
    を備え、
    前記コントローラは、請求項１〜請求項２３のいずれか一項記載の電子機器が備える前記取得ユニット、前記算出ユニット、及び、前記検出ユニットとして機能し、前記読取装置を制御して、前記シートの読取画像データを取得するように構成され、
    前記コントローラは、更に、
    前記シートへの前記第一のパターンの形成動作と前記シートへの前記第二のパターンの形成動作とを前記シートの搬送動作を挟んで実行するように前記画像形成装置を制御することによって、前記画像形成装置に前記テストパターンを形成させる処理と、
    前記検出された交点位置に基づき、前記シートの搬送量を補正する処理と、
    を実行するように構成される電子機器。
27. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する手順と、
    前記読取画像データが示す各画素の輝度と判定値との比較により前記テストパターンに対応する画素を判別して、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点に関して算出する手順と、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する手順と、
    を備え、
    前記テストパターンは、前記第一のパターン及び前記第二のパターンとは別に、前記直交する方向に既知の幅を有するモデルパターンを有し、
    前記算出する手順では、前記判定値として、前記読取画像データから算出される前記モデルパターンの前記直交する方向の幅が前記既知の幅に適合する判定値を設定し、前記設定した判定値に基づき前記テストパターンに対応する画素を判別して、前記重なり画像の前記複数地点の幅を算出するテストパターンの解析方法。
28. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する手順と、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点で算出する手順と、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する手順と、
    を備え、
    前記テストパターンは、前記第一のパターン及び前記第二のパターンとは別に、前記直交する方向に既知の幅を有するモデルパターンを有し、
    前記算出する手順では、前記読取画像データから算出される前記重なり画像の前記複数地点の幅を、前記読取画像データから算出される前記モデルパターンの前記幅と前記モデルパターンの前記既知の幅との誤差に基づき補正し、
    前記検出する手順では、前記補正後の前記複数地点の幅の分布に基づいて、前記交点位置を検出するテストパターンの解析方法。
29. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する手順と、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点で算出する手順と、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する手順と、
    を備え、
    前記算出する手順では、前記重なり画像において、前記直交する方向の幅が設計上同一であるグループ毎に、当該グループにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記直交する方向の幅の平均値又は中央値を算出し、前記複数地点のそれぞれに対応する前記基準方向に所定画素数を有するエリア毎に、前記各グループの幅を前記平均値又は中央値に置換するように前記重なり画像を整形したときの、前記エリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出することにより、前記複数地点の幅のそれぞれを前記評価値の形態で算出するテストパターンの解析方法。
30. 基準方向に第一の長さＷ１を有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さＷ２を有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する手順と、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点に関して算出する手順と、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する手順と、
    を備え、
    前記複数地点の幅のそれぞれは、対応する地点を中心とするエリアであって前記基準方向に所定画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記基準方向に直交する方向の幅の一群に対する評価値であり、
    前記テストパターンは、前記テストパターンを前記シートに形成する画像形成システムの個体差に起因して、前記シートへの形成時に、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの間の相対位置が前記直交する方向に変化するテストパターンであり、
    前記算出する手順では、前記複数地点のそれぞれの前記評価値として、前記第一のブロック及び前記第二のブロックの前記直交する方向に沿う端縁が前記直交する方向に揃う前記基準方向の地点を基点に、前記基点から前記基準方向に第一の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって前記基準方向に前記第二の長さＷ２に対応する画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出し、又は、前記基点から前記基準方向に第二の間隔離れた地点毎に、この地点を中心とするエリアであって前記基準方向に前記第一の長さＷ１に対応する画素数を有するエリアにおける前記基準方向に沿う各画素位置での前記重なり画像の前記直交する方向の幅の一群に対する評価値を算出し、
    前記第一の長さＷ１及び前記第二の長さＷ２は、前記基準方向における単位長さの整数倍であり、前記第二の長さＷ２と前記第一の長さＷ１との差（Ｗ２−Ｗ１）は、前記第一の長さＷ１と前記第二の長さＷ２との最大公約数に一致し、前記第一の間隔は、前記第一の長さＷ１であり、前記第二の間隔は、前記第二の長さＷ２であるテストパターンの解析方法。
31. 基準方向に第一の長さを有する第一のブロックが前記基準方向に対して鋭角で傾斜した第一の方向に配列された第一のパターンと、前記基準方向に前記第一の長さより大きい第二の長さを有する第二のブロックが前記基準方向と前記第一の方向との間の角度範囲で傾斜した第二の方向に配列された第二のパターンと、を有し、前記第一のパターンと前記第二のパターンとが互いに交わるテストパターンを有するシートの読取画像データを取得する手順と、
    前記読取画像データに基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重なり画像の前記基準方向とは直交する方向の幅を、前記基準方向において異なる複数地点で算出する手順と、
    前記算出した前記複数地点の幅の分布に基づき、前記テストパターンにおける前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置を検出する手順と、
    を備え、
    前記検出する手順は、前記基準方向における前記複数地点の幅の分布に対してモデル曲線を前記基準方向に移動させたときに、前記複数地点の幅の分布と前記モデル曲線との間のずれ量が最小となる前記モデル曲線の配置において、前記モデル曲線が極値を示す前記基準方向の位置を、前記交点位置として検出する手順であり、
    前記ずれ量は、前記複数地点の内、前記モデル曲線が極値を示す地点を基準とした前記基準方向に所定範囲の地点を除く各地点の幅の、前記モデル曲線からの誤差に基づく量であるテストパターンの解析方法。
32. 前記シートへの前記第一のパターンの形成動作と前記シートへの前記第二のパターンの形成動作とを前記シートの搬送動作を挟んで行う画像形成システムにおける前記シートの搬送量を、前記シートの搬送量に誤差がないときの前記第一のパターンと前記第二のパターンとの交点位置と、前記検出された交点位置と、の誤差に基づき、当該誤差が縮小する方向に補正する手順
    を更に含む請求項２７〜請求項３１のいずれか一項記載のテストパターンの解析方法。