JP6823131B2 - 検査システム - Google Patents
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Description
本発明は、以下の態様としても実現可能である。
[態様1]
表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備える、検査システム。
[態様2]
態様1に記載の検査システムであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールに低輝度照明源を分配するための少なくとも1つのライトパイプをさらに含む、検査システム。
[態様3]
態様2に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つのライトパイプからの光を前記複数のTDIセンサーモジュールに対して分割および分配するためのプリズムをさらに含む、検査システム。
[態様4]
態様2に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つのライトパイプからの光を前記複数のTDIセンサーモジュールに対して分割および分配するための鏡をさらに含む、検査システム。
[態様5]
態様1に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つのライトパイプからの光を前記複数のTDIセンサーモジュールに均等に分配するための複数のライトパイプをさらに含む、検査システム。
[態様6]
態様1に記載の検査システムであって、
第1の列のTDIセンサーモジュールは、第2の列のTDIセンサーモジュールからオフセットしている、検査システム。
[態様7]
態様6に記載の検査システムであって、
前記オフセットは、TDI走査方向に対して横方向である、検査システム。
[態様8]
態様6に記載の検査システムであって、
前記オフセットはTDI走査方向である、検査システム。
[態様9]
態様1に記載の検査システムであって、
前記複数の局所回路のうち少なくとも1つが、エイリアシング効果を低下させるよう、前記TDIセンサーと関連付けられたクロックを制御する、検査システム。
[態様10]
態様1に記載の検査システムであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは同一である、検査システム。
[態様11]
態様1に記載の検査システムであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、異なる積分段を有する少なくとも2つのTDIセンサーを含む、検査システム。
[態様12]
態様1に記載の検査システムであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、TDI走査方向において整列される、検査システム。
[態様13]
態様1に記載の検査システムであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域を取り込む、検査システム。
[態様14]
態様1に記載の検査システムであって、
第1の組の前記複数のTDIセンサーモジュールはTDI走査方向において整列され、第2の組の前記複数のTDIセンサーモジュールは前記TDI走査方向において整列され、前記第1の組のTDIセンサーモジュールおよび前記第2の組のTDIセンサーモジュールは、異なる検査領域を取り込む、検査システム。
[態様15]
態様1に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取付および連結を行うためのプリント基板(PCB)をさらに含む、検査システム。
[態様16]
態様15に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイはデータトランシーバーをさらに含み、前記データトランシーバーは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記PCB上に取り付けられ、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
[態様17]
態様16に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、検査システム。
[態様18]
態様15に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイはフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)は、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからのデジタル化信号を受信し、前記FPGAは前記PCB上に取り付けられる、検査システム。
[態様19]
態様18に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーから反対側において前記PCB上に取り付けられたデータトランシーバーと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとをさらに含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
[態様20]
態様1に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含む、検査システム。
[態様21]
態様20に記載の検査システムであって、
前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路は、前記シリコン基板の反対側に形成/取り付けされる、検査システム。
[態様22]
態様20に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーをさらに含み、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
[態様23]
態様20に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイはデータトランシーバーをさらに含み、前記データトランシーバーおよび前記複数の局所回路は、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられ、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
[態様24]
態様22に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、検査システム。
[態様25]
態様20に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイはフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)は、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからデジタル化信号を受信し、前記FPGAは前記シリコン基板上に取り付けられる、検査システム。
[態様26]
態様25に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとを含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
[態様27]
検査システムのためのモジュラーアレイであって、前記モジュラーアレイは、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、時間遅延積分(TDI)センサーモジュールと、
を含む、モジュラーアレイ。
[態様28]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
第1の列のTDIセンサーモジュールは、第2の列のTDIセンサーモジュールからオフセットしている、モジュラーアレイ。
[態様29]
態様28に記載のモジュラーアレイであって、
前記オフセットは、TDI走査方向に対して横方向である、モジュラーアレイ。
[態様30]
態様28に記載のモジュラーアレイであって、
前記オフセットはTDI走査方向である、モジュラーアレイ。
[態様31]
態様27に記載の検査システムであって、
前記複数の局所回路のうち少なくとも1つが、エイリアシング効果を低下させるよう、前記TDIセンサーと関連付けられたクロックを制御する、検査システム。
[態様32]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは同一である、モジュラーアレイ。
[態様33]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、異なる積分段を有する少なくとも2つのTDIセンサーを含む、モジュラーアレイ。
[態様34]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、TDI走査方向において整列される、モジュラーアレイ。
[態様35]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域を取り込む、モジュラーアレイ。
[態様36]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
第1の組の前記複数のTDIセンサーモジュールはTDI走査方向において整列され、第2の組の前記複数のTDIセンサーモジュールは前記TDI走査方向において整列され、前記第1の組のTDIセンサーモジュールおよび前記第2の組のTDIセンサーモジュールは、異なる検査領域を取り込む、モジュラーアレイ。
[態様37]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結のためのプリント基板(PCB)をさらに含む、モジュラーアレイ。
[態様38]
態様37に記載のモジュラーアレイであって、
前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記PCBに取り付けられたデータトランシーバーをさらに含み、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、モジュラーアレイ。
[態様39]
態様38に記載のモジュラーアレイであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、モジュラーアレイ。
[態様40]
態様37に記載のモジュラーアレイであって、
フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)は、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからデジタル化信号を受信し、前記FPGAは前記PCB上に取り付けられる、モジュラーアレイ。
[態様41]
態様40に記載のモジュラーアレイであって、
前記TDIセンサーから反対側において前記PCB上に取り付けられたデータトランシーバーと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとをさらに含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、モジュラーアレイ。
[態様42]
態様27に記載のモジュラーアレイであって、
前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含む、モジュラーアレイ。
[態様43]
態様42に記載の検査システムであって、
前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路は、前記シリコン基板の反対側に形成/取り付けされる、検査システム。
[態様44]
態様42に記載のモジュラーアレイであって、
前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーをさらに含み、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、モジュラーアレイ。
[態様45]
態様42に記載の検査システムであって、
前記モジュラーアレイはデータトランシーバーをさらに含み、前記データトランシーバーおよび前記複数の局所回路は、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられ、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
[態様46]
態様44に記載のモジュラーアレイであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、モジュラーアレイ。
[態様47]
態様42に記載のモジュラーアレイであって、
前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからデジタル化信号を受信するフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記FPGAは前記シリコン基板に取り付けられる、モジュラーアレイ。
[態様48]
態様47に記載のモジュラーアレイであって、
前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとをさらに含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、モジュラーアレイ。
[態様49]
検査システムのためのモジュラーアレイを形成する方法であって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーを形成するステップと、
前記複数のTDIセンサーからのデータを駆動および処理するための複数の回路を形成するステップであって、各TDIセンサーは、前記TDIセンサーの近隣において局所的に配置された1組の独自の前記複数の回路を有する、ステップと、
を含む、方法。
Claims (15)
- 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、TDI走査方向に整列され、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記TDIセンサーは、前記シリコン基板の一方の側に形成/取り付けされ、前記複数の局所回路は、前記シリコン基板の他方の側に形成/取り付けされる、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、TDI走査方向に整列され、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーをさらに含み、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、TDI走査方向に整列され、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイはデータトランシーバーをさらに含み、前記データトランシーバーおよび前記複数の局所回路は、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられ、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 請求項3に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、TDI走査方向に整列され、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイはフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)は、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからデジタル化信号を受信し、前記FPGAは前記シリコン基板上に取り付けられ、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとを含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記TDIセンサーは、前記シリコン基板の一方の側に形成/取り付けされ、前記複数の局所回路は、前記シリコン基板の他方の側に形成/取り付けされる、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーをさらに含み、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイはデータトランシーバーをさらに含み、前記データトランシーバーおよび前記複数の局所回路は、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられ、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 請求項8に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
前記複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイは、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)は、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからのデジタル化信号を受信し、前記FPGAは前記シリコン基板上に取り付けられ、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーから反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとをさらに含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
第1の組の前記複数のTDIセンサーモジュールはTDI走査方向において整列され、第2の組の前記複数のTDIセンサーモジュールは前記TDI走査方向において整列され、前記第1の組のTDIセンサーモジュールおよび前記第2の組のTDIセンサーモジュールは、異なる検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記TDIセンサーは、前記シリコン基板の一方の側に形成/取り付けされ、前記複数の局所回路は、前記シリコン基板の他方の側に形成/取り付けされる、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
第1の組の前記複数のTDIセンサーモジュールはTDI走査方向において整列され、第2の組の前記複数のTDIセンサーモジュールは前記TDI走査方向において整列され、前記第1の組のTDIセンサーモジュールおよび前記第2の組のTDIセンサーモジュールは、異なる検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路から反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーをさらに含み、
前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
第1の組の前記複数のTDIセンサーモジュールはTDI走査方向において整列され、第2の組の前記複数のTDIセンサーモジュールは前記TDI走査方向において整列され、前記第1の組のTDIセンサーモジュールおよび前記第2の組のTDIセンサーモジュールは、異なる検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイはデータトランシーバーをさらに含み、前記データトランシーバーおよび前記複数の局所回路は、前記TDIセンサーから反対側において前記シリコン基板上に取り付けられ、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つの処理回路が前記データトランシーバーに連結される、検査システム。 - 請求項13に記載の検査システムであって、
前記少なくとも1つの処理回路はフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)である、検査システム。 - 表面を検査するための検査システムであって、
複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュールを含むモジュラーアレイであって、各TDIセンサーモジュールは、
TDIセンサーと、
前記TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路と、
を含む、モジュラーアレイと、
前記表面からの光を受信し、前記光の一部を前記複数のTDIセンサーモジュール上へと導くように構成された光学系と、
前記モジュラーアレイからのデータを受信する画像プロセッサと、
を備え、
第1の組の前記複数のTDIセンサーモジュールはTDI走査方向において整列され、第2の組の前記複数のTDIセンサーモジュールは前記TDI走査方向において整列され、前記第1の組のTDIセンサーモジュールおよび前記第2の組のTDIセンサーモジュールは、異なる検査領域を取り込み、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーおよび前記複数の局所回路の取り付けおよび連結を行うためのシリコン基板をさらに含み、
前記モジュラーアレイはフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)をさらに含み、前記フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)は、前記複数の局所回路のうち少なくとも1つからデジタル化信号を受信し、前記FPGAは前記シリコン基板上に取り付けられ、
前記モジュラーアレイは、前記TDIセンサーの反対側において前記シリコン基板上に取り付けられたデータトランシーバーと、前記複数の局所回路と、前記FPGAとをさらに含み、前記FPGAは前記データトランシーバーに連結される、検査システム。
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US8553217B2 (en) | 2009-06-19 | 2013-10-08 | Kla-Tencor Corporation | EUV high throughput inspection system for defect detection on patterned EUV masks, mask blanks, and wafers |
US8575576B2 (en) * | 2011-02-14 | 2013-11-05 | Kla-Tencor Corporation | Optical imaging system with laser droplet plasma illuminator |
US8971588B2 (en) * | 2011-03-30 | 2015-03-03 | General Electric Company | Apparatus and method for contactless high resolution handprint capture |
US9793673B2 (en) | 2011-06-13 | 2017-10-17 | Kla-Tencor Corporation | Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier |
US8873596B2 (en) | 2011-07-22 | 2014-10-28 | Kla-Tencor Corporation | Laser with high quality, stable output beam, and long life high conversion efficiency non-linear crystal |
US8947521B1 (en) | 2011-08-08 | 2015-02-03 | Kla-Tencor Corporation | Method for reducing aliasing in TDI based imaging |
US8748828B2 (en) * | 2011-09-21 | 2014-06-10 | Kla-Tencor Corporation | Interposer based imaging sensor for high-speed image acquisition and inspection systems |
US9503606B2 (en) | 2011-09-28 | 2016-11-22 | Semiconductor Components Industries, Llc | Time-delay-and-integrate image sensors having variable integration times |
US10197501B2 (en) | 2011-12-12 | 2019-02-05 | Kla-Tencor Corporation | Electron-bombarded charge-coupled device and inspection systems using EBCCD detectors |
US8754972B2 (en) | 2012-02-01 | 2014-06-17 | Kla-Tencor Corporation | Integrated multi-channel analog front end and digitizer for high speed imaging applications |
US9496425B2 (en) * | 2012-04-10 | 2016-11-15 | Kla-Tencor Corporation | Back-illuminated sensor with boron layer |
US9151940B2 (en) | 2012-12-05 | 2015-10-06 | Kla-Tencor Corporation | Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier |
US9426400B2 (en) | 2012-12-10 | 2016-08-23 | Kla-Tencor Corporation | Method and apparatus for high speed acquisition of moving images using pulsed illumination |
US8929406B2 (en) | 2013-01-24 | 2015-01-06 | Kla-Tencor Corporation | 193NM laser and inspection system |
US9529182B2 (en) | 2013-02-13 | 2016-12-27 | KLA—Tencor Corporation | 193nm laser and inspection system |
US9448343B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-09-20 | Kla-Tencor Corporation | Segmented mirror apparatus for imaging and method of using the same |
US9608399B2 (en) | 2013-03-18 | 2017-03-28 | Kla-Tencor Corporation | 193 nm laser and an inspection system using a 193 nm laser |
US9478402B2 (en) | 2013-04-01 | 2016-10-25 | Kla-Tencor Corporation | Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor |
US9658170B2 (en) * | 2013-06-26 | 2017-05-23 | Kla-Tencor Corporation | TDI imaging system with variable voltage readout clock signals |
US9347890B2 (en) | 2013-12-19 | 2016-05-24 | Kla-Tencor Corporation | Low-noise sensor and an inspection system using a low-noise sensor |
US9748294B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-08-29 | Hamamatsu Photonics K.K. | Anti-reflection layer for back-illuminated sensor |
US9410901B2 (en) | 2014-03-17 | 2016-08-09 | Kla-Tencor Corporation | Image sensor, an inspection system and a method of inspecting an article |
US9804101B2 (en) | 2014-03-20 | 2017-10-31 | Kla-Tencor Corporation | System and method for reducing the bandwidth of a laser and an inspection system and method using a laser |
TWI640843B (zh) * | 2014-04-02 | 2018-11-11 | 美商克萊譚克公司 | 用於產生遮罩之高密度對位映圖的方法、系統及電腦程式產品 |
FR3024312B1 (fr) * | 2014-07-28 | 2016-07-15 | E2V Semiconductors | Procede de capture d'image, a defilement et integration de signal, corrigeant des defauts d'image dus a des particules cosmiques |
US9767986B2 (en) | 2014-08-29 | 2017-09-19 | Kla-Tencor Corporation | Scanning electron microscope and methods of inspecting and reviewing samples |
US9419407B2 (en) | 2014-09-25 | 2016-08-16 | Kla-Tencor Corporation | Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus |
US9891177B2 (en) * | 2014-10-03 | 2018-02-13 | Kla-Tencor Corporation | TDI sensor in a darkfield system |
US9748729B2 (en) | 2014-10-03 | 2017-08-29 | Kla-Tencor Corporation | 183NM laser and inspection system |
JP6192626B2 (ja) * | 2014-10-09 | 2017-09-06 | 三菱電機株式会社 | Ccdイメージセンサ及びその画素群の配置方法 |
US9860466B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-01-02 | Kla-Tencor Corporation | Sensor with electrically controllable aperture for inspection and metrology systems |
US10748730B2 (en) | 2015-05-21 | 2020-08-18 | Kla-Tencor Corporation | Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer |
US10462391B2 (en) | 2015-08-14 | 2019-10-29 | Kla-Tencor Corporation | Dark-field inspection using a low-noise sensor |
US9525423B1 (en) * | 2015-09-23 | 2016-12-20 | Xilinx, Inc. | Power distribution network IP block |
US10313622B2 (en) | 2016-04-06 | 2019-06-04 | Kla-Tencor Corporation | Dual-column-parallel CCD sensor and inspection systems using a sensor |
US10778925B2 (en) | 2016-04-06 | 2020-09-15 | Kla-Tencor Corporation | Multiple column per channel CCD sensor architecture for inspection and metrology |
US10429321B2 (en) | 2016-08-29 | 2019-10-01 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus for high-speed imaging sensor data transfer |
US10141156B2 (en) | 2016-09-27 | 2018-11-27 | Kla-Tencor Corporation | Measurement of overlay and edge placement errors with an electron beam column array |
CN107884318B (zh) * | 2016-09-30 | 2020-04-10 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种平板颗粒度检测方法 |
KR102650388B1 (ko) | 2016-11-23 | 2024-03-25 | 삼성전자주식회사 | 검사 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 |
US10175555B2 (en) | 2017-01-03 | 2019-01-08 | KLA—Tencor Corporation | 183 nm CW laser and inspection system |
US11333621B2 (en) | 2017-07-11 | 2022-05-17 | Kla-Tencor Corporation | Methods and systems for semiconductor metrology based on polychromatic soft X-Ray diffraction |
US11317500B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-26 | Kla-Tencor Corporation | Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology |
US10959318B2 (en) | 2018-01-10 | 2021-03-23 | Kla-Tencor Corporation | X-ray metrology system with broadband laser produced plasma illuminator |
US11114489B2 (en) | 2018-06-18 | 2021-09-07 | Kla-Tencor Corporation | Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor |
US10943760B2 (en) | 2018-10-12 | 2021-03-09 | Kla Corporation | Electron gun and electron microscope |
US11114491B2 (en) | 2018-12-12 | 2021-09-07 | Kla Corporation | Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor |
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US11272607B2 (en) | 2019-11-01 | 2022-03-08 | Kla Corporation | Laser produced plasma illuminator with low atomic number cryogenic target |
US11259394B2 (en) | 2019-11-01 | 2022-02-22 | Kla Corporation | Laser produced plasma illuminator with liquid sheet jet target |
US11143604B1 (en) | 2020-04-06 | 2021-10-12 | Kla Corporation | Soft x-ray optics with improved filtering |
US11848350B2 (en) | 2020-04-08 | 2023-12-19 | Kla Corporation | Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor using a silicon on insulator wafer |
JP7440354B2 (ja) * | 2020-06-26 | 2024-02-28 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
CN112055157B (zh) * | 2020-09-21 | 2021-06-29 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 多组tdi成像的摄像同步性控制系统 |
DE102022133829A1 (de) * | 2022-12-19 | 2024-06-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Maskeninspektion |
Family Cites Families (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4106046A (en) * | 1977-01-26 | 1978-08-08 | Westinghouse Electric Corp. | Radiant energy sensor |
US4112316A (en) * | 1977-04-28 | 1978-09-05 | Westinghouse Electric Corp. | Charge coupled device circuit with increased signal bandwidth |
US4280141A (en) * | 1978-09-22 | 1981-07-21 | Mccann David H | Time delay and integration detectors using charge transfer devices |
US4382267A (en) * | 1981-09-24 | 1983-05-03 | Rca Corporation | Digital control of number of effective rows of two-dimensional charge-transfer imager array |
US4580155A (en) * | 1982-12-21 | 1986-04-01 | Northern Telecom Limited | Deep depletion CCD imager |
JPH0564090A (ja) * | 1991-09-05 | 1993-03-12 | Canon Inc | 撮像装置 |
US5440648A (en) * | 1991-11-19 | 1995-08-08 | Dalsa, Inc. | High speed defect detection apparatus having defect detection circuits mounted in the camera housing |
US5434629A (en) * | 1993-12-20 | 1995-07-18 | Focus Automation Systems Inc. | Real-time line scan processor |
WO1996000381A1 (fr) * | 1994-06-27 | 1996-01-04 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Appareil de detection de corps etrangers dans une matiere coulante |
JPH08186241A (ja) * | 1995-01-06 | 1996-07-16 | Canon Inc | 撮像素子と固体撮像装置 |
FR2733111B1 (fr) * | 1995-04-11 | 1997-05-23 | Thomson Csf | Procede de detection a cycles d'integration et de lecture repartis pour camera a balayage, et barrette de detection correspondante |
JPH09189610A (ja) * | 1996-01-11 | 1997-07-22 | Nippon Avionics Co Ltd | 2次元時間遅延積分型熱画像装置 |
DE19714221A1 (de) * | 1997-04-07 | 1998-10-08 | Zeiss Carl Fa | Konfokales Mikroskop mit einem motorischen Scanningtisch |
JPH11153516A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Toppan Printing Co Ltd | 画像撮像装置 |
JP2882409B1 (ja) * | 1998-04-24 | 1999-04-12 | 株式会社東京精密 | 外観検査装置 |
US9029793B2 (en) * | 1998-11-05 | 2015-05-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Imaging device |
US6867406B1 (en) * | 1999-03-23 | 2005-03-15 | Kla-Tencor Corporation | Confocal wafer inspection method and apparatus using fly lens arrangement |
JP4298061B2 (ja) * | 1999-06-03 | 2009-07-15 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 固体撮像装置 |
US20010050331A1 (en) * | 1999-12-30 | 2001-12-13 | Yung Benjamin P. | Staggered bilinear sensor |
US7046283B1 (en) * | 2000-10-11 | 2006-05-16 | Dalsa, Inc. | Arrangements of clock line drivers |
KR20020084541A (ko) | 2001-05-02 | 2002-11-09 | (주)한비젼 | 이동형 단말기기에 적용 가능한 초박형 영상모듈의 구현 |
US7009163B2 (en) * | 2001-06-22 | 2006-03-07 | Orbotech Ltd. | High-sensitivity optical scanning using memory integration |
US7233350B2 (en) * | 2002-01-05 | 2007-06-19 | Candela Microsystems, Inc. | Image sensor with interleaved image output |
US7227984B2 (en) * | 2003-03-03 | 2007-06-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Method and apparatus for identifying defects in a substrate surface by using dithering to reconstruct under-sampled images |
JP2005012449A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Alps Electric Co Ltd | Ccdセンサ |
FR2856872B1 (fr) * | 2003-06-27 | 2005-09-23 | Atmel Grenoble Sa | Capteur d'image a barrettes lineaires aboutees |
JP2005158780A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法及びその装置 |
JP4185037B2 (ja) * | 2004-10-14 | 2008-11-19 | 株式会社東芝 | 欠陥検査装置 |
US7952633B2 (en) * | 2004-11-18 | 2011-05-31 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus for continuous clocking of TDI sensors |
US7609309B2 (en) * | 2004-11-18 | 2009-10-27 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Continuous clocking of TDI sensors |
JP4713185B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-06-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 異物欠陥検査方法及びその装置 |
US7528943B2 (en) * | 2005-12-27 | 2009-05-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Method and apparatus for simultaneous high-speed acquisition of multiple images |
KR100770690B1 (ko) * | 2006-03-15 | 2007-10-29 | 삼성전기주식회사 | 카메라모듈 패키지 |
JP2007295105A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Mitsubishi Electric Corp | 撮像装置 |
JP4695552B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 画像処理装置及び方法 |
JP2008096430A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-04-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法およびその装置 |
US20080068593A1 (en) | 2006-09-13 | 2008-03-20 | Hiroyuki Nakano | Method and apparatus for detecting defects |
US7675561B2 (en) * | 2006-09-28 | 2010-03-09 | Cypress Semiconductor Corporation | Time delayed integration CMOS image sensor with zero desynchronization |
JP2008224303A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Toray Eng Co Ltd | 自動外観検査装置 |
US8126255B2 (en) * | 2007-09-20 | 2012-02-28 | Kla-Tencor Corp. | Systems and methods for creating persistent data for a wafer and for using persistent data for inspection-related functions |
IL188825A0 (en) * | 2008-01-16 | 2008-11-03 | Orbotech Ltd | Inspection of a substrate using multiple cameras |
GB0802478D0 (en) | 2008-02-11 | 2008-03-19 | Cmosis Nv | Tiem delay integration in imaging device |
US8624971B2 (en) * | 2009-01-23 | 2014-01-07 | Kla-Tencor Corporation | TDI sensor modules with localized driving and signal processing circuitry for high speed inspection |
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