JP6817243B2 - スペクトル処理装置及び方法 - Google Patents
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- ベースライン成分を含むスペクトルを受け入れる手段と、
複数の基底関数からなる基底関数列に対して複数の重みからなる重み列を作用させてベースラインモデルを生成する手段であって、前記ベースライン成分に対して前記ベースラインモデルをフィッティングさせる第1条件、及び、前記重み列のLpノルム(但しp≦1)を小さくする第2条件に従って、推定ベースライン成分としての最適ベースラインモデルを探索する探索手段と、
を含むことを特徴とするスペクトル処理装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記最適ベースラインモデルの探索過程において前記重み列がスパース化し、
前記基底関数列の中の一部により前記最適ベースラインモデルが構成される、
ことを特徴とするスペクトル処理装置。 - 請求項1記載の装置において、
更に、前記スペクトルから前記推定ベースライン成分を減算する減算手段を含む、
ことを特徴とするスペクトル処理装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記第1条件は、前記ベースライン成分の中の代表部分に対して前記ベースラインモデルの中の対応成分をフィッティングさせる条件である、
ことを特徴とするスペクトル処理装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記ベースライン成分と前記ベースラインモデルとから求められる残差のL2ノルムと、前記ベースラインモデルのLpノルムと、によって評価値Jが定義され、
前記評価値Jを最小化する条件が前記第1条件及び前記第2条件を構成する、
ことを特徴とするスペクトル処理装置。 - 請求項5記載の装置において、
更に、前記スペクトルの中から前記ベースライン成分の中の代表部分を選択する選択手段を含み、
前記残差は前記ベースライン成分の中の前記代表部分と前記ベースラインモデルの中の対応部分との間の残差である、
ことを特徴とするスペクトル処理装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記スペクトルはNMRスペクトルである、
ことを特徴とするスペクトル処理装置。 - ベースライン成分を含むスペクトルを受け入れる工程と、
複数の基底関数からなる基底関数列に対して複数の重みからなる重み列を作用させてベースラインモデルを生成する工程であって、前記ベースライン成分に対して前記ベースラインモデルをフィッティングさせる第1条件、及び、前記重み列のLpノルム(但しp≦1)を小さくする第2条件に従って、推定ベースライン成分としての最適ベースラインモデルを探索する工程と、
を含むことを特徴とするスペクトル処理方法。 - 情報処理装置においてスペクトル処理方法を実行するプログラムであって、
ベースライン成分を含むスペクトルを受け入れる機能と、
複数の基底関数からなる基底関数列に対して複数の重みからなる重み列を作用させてベースラインモデルを生成する機能であって、前記ベースライン成分に対して前記ベースラインモデルをフィッティングさせる第1条件、及び、前記重み列のLpノルム(但しp≦1)を小さくする第2条件に従って、推定ベースライン成分としての最適ベースラインモデルを探索する機能と、
を含むことを特徴とするプログラム。
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