JP6815961B2 - 質量分析装置および質量分析方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態に係る質量分析装置の構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る質量分析装置1は、ビーム照射部10と、レーザ照射部20と、質量分析部30と、制御部40と、可変電源50と、試料台60と、チャンバ70と、を備える。
以下、第2実施形態について説明する。本実施形態では、装置の構成は、上述した質量分析装置1と同様であるので説明を省略する。
Claims (4)
- イオンビームを試料へ照射するビーム照射部と、
前記試料の上方にレーザ光を照射するレーザ照射部と、
イオン化された粒子を質量分析する質量分析部と、
前記質量分析部の分析結果に基づいて、前記レーザ照射部および前記質量分析部の少なくとも一方を制御する制御動作を行う制御部と、
を備え、
前記ビーム照射部は、前記イオンビームを照射する照射モードと、前記イオンビームを照射しない非照射モードとを繰り返し、
前記制御部は、前記照射モードと前記非照射モードの各々における前記分析結果に基づいて前記制御動作を行う、質量分析装置。 - 前記質量分析部は、前記粒子の軌道に沿って配置された電極を有し、
前記制御部は、前記制御動作で、前記電極に印加される電圧を制御する、請求項1に記載の質量分析装置。 - 前記レーザ照射部は、前記レーザ光を集光するレンズ部を有し、
前記制御部は、前記制御動作で、前記レンズ部の位置、または前記イオンビームの照射開始時間から前記レーザ光の照射開始時間までの遅延時間を制御する、請求項1または2に記載の質量分析装置。 - イオンビームを試料へ照射する照射モードと、前記イオンビームを前記試料へ照射しない非照射モードとを繰り返し、
前記試料の上方にレーザ光を照射し、
前記レーザ光でイオン化された粒子を質量分析し、
前記照射モードと前記非照射モードの各々における前記粒子の分析結果に基づいて、前記レーザ光の照射条件と前記粒子の質量分析条件との少なくとも一方を制御する、質量分析方法。
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