JP6790154B2 - 協調型学習システム及び監視システム - Google Patents
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Description
図1から図8は、第1実施形態の協調型学習モデルを用いたプロセス改善方法を説明するための図であり、図1は、協調型学習システムが適用された監視システムの機能ブロックを示す図である。図1に示すように、監視装置100には、時系列に連続する複数の工程から収集された監視データが入力され、複数の工程別に設けられた監視モデルでの監視結果を用いてプロセス全体の管理を行う。
110 データ収集制御装置
120 監視制御装置
121 監視制御部
122 監視モデル管理部
123 教師データ管理部
130 記憶装置
n 工程
Yn 監視モデル
Claims (9)
- 所定の遷移時間間隔で時系列に連続する複数の工程別に監視モデルが設けられたプロセス監視における協調型学習システムであって、
第1工程の第1監視データと、前記第1工程に対する上流又は下流の第2工程の第2監視データと、前記第1監視データを入力パラメータとして第1監視モデルが出力する前記第1工程の監視結果と、を時系列に記憶する記憶部と、
前記第1監視データと前記第1監視モデルの監視結果とを用いて、前記第1監視モデルに対する親モデル学習処理と、第1時刻の前記第1監視モデルの監視結果を教師データとして用い、前記第1時刻に対して遷移時間分異なる第2時刻における前記第2監視データを入力パラメータとした第2監視モデルに対する子モデル学習処理と、を行うモデル学習部と、
を有することを特徴とする協調型学習システム。 - 前記モデル学習部は、第1時刻における前記第1監視モデルの監視結果を教師データとして用い、前記第1時刻に対して遷移時間分異なる第2時刻における前記第2監視データと、前記第2時刻における前記第1監視データとを入力パラメータとした前記第2監視モデルに対する子モデル学習処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の協調型学習システム。
- 前記第2工程に対する上流又は下流の第3工程の第3監視データと、前記第2監視データを入力パラメータとして前記子モデル学習処理によって構築された第2監視モデルが出力する前記第2工程の監視結果と、が時系列に記憶されており、
前記モデル学習部は、第3時刻における前記第2監視モデルの監視結果を教師データとして用い、前記第3時刻に対して遷移時間分異なる第4時刻における前記第3監視データを入力パラメータとした第3監視モデルに対する前記子モデル学習処理を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の協調型学習システム。 - 前記第2工程に対する上流又は下流の第3工程の第3監視データが時系列に記憶されており、
前記モデル学習部は、第1時刻の前記第1監視モデルの監視結果を教師データとして用い、前記第1時刻に対して遷移時間分異なる第5時刻における前記第3監視データを入力パラメータとした第3監視モデルに対する前記子モデル学習処理を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の協調型学習システム。 - 前記第1工程は、所定の遷移時間間隔で時系列に連続する複数の工程において、プロセス全体のボトルネックとなる工程であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載の協調型学習システム。
- 所定の遷移時間間隔で時系列に連続する複数の工程のプロセス監視を行う監視システムであって、
複数の工程それぞれから出力される各監視データを収集するデータ収集制御装置と、
複数の工程別に設定される各監視モデルを用い、工程別に前記監視データに基づく監視結果を出力する監視制御装置と、
前記工程別の監視モデルの学習制御を行う協調型学習装置と、を備え、
前記協調型学習装置は、
第1工程の第1監視データと、前記第1工程に対する上流又は下流の第2工程の第2監視データと、前記第1監視データを入力パラメータとして第1監視モデルが出力する前記第1工程の監視結果と、を時系列に記憶し、
前記第1監視データと前記第1監視モデルの監視結果とを用いた、前記第1監視モデルに対する親モデル学習処理と、第1時刻の前記第1監視モデルの監視結果を教師データとして用いた、前記第1時刻に対して遷移時間分異なる第2時刻における前記第2監視データを入力パラメータとした第2監視モデルに対する子モデル学習処理と、を行うことを特徴とする監視システム。 - 前記第1工程は、所定の遷移時間間隔で時系列に連続する複数の工程において、プロセス全体のボトルネックとなる工程であり、
前記複数の工程は、水処理工程であることを特徴とする請求項6に記載の監視システム。 - 所定の遷移時間間隔で時系列に連続する複数の工程別に監視モデルが設けられたプロセス監視における協調型学習処理を行うコンピュータによって実行されるプログラムであって、
第1工程の第1監視データと、前記第1工程に対する上流又は下流の第2工程の第2監視データと、前記第1監視データを入力パラメータとして第1監視モデルが出力する前記第1工程の監視結果と、を時系列に記憶する第1機能と、
前記第1監視データと前記第1監視モデルの監視結果とを用いて、前記第1監視モデルに対する親モデル学習処理と、第1時刻の前記第1監視モデルの監視結果を教師データとして用い、前記第1時刻に対して遷移時間分異なる第2時刻における前記第2監視データを入力パラメータとした第2監視モデルに対する子モデル学習処理と、を行う第2機能と、
を前記コンピュータに実現させるためのプログラム。 - 所定の遷移時間間隔で時系列に連続する複数の工程のプロセス監視を行うコンピュータによって実行されるプログラムであって、
複数の工程それぞれから出力される各監視データを収集する第1機能と、
複数の工程別に設定される各監視モデルを用い、工程別に前記監視データに基づく監視結果を出力する第2機能と、
前記工程別の監視モデルの学習制御を行う第3機能と、を前記コンピュータに実現させるとともに、
前記第3機能は、
第1工程の第1監視データと、前記第1工程に対する上流又は下流の第2工程の第2監視データと、前記第1監視データを入力パラメータとして第1監視モデルが出力する前記第1工程の監視結果と、を時系列に記憶し、
前記第1監視データと前記第1監視モデルの監視結果とを用いた、前記第1監視モデルに対する親モデル学習処理と、第1時刻の前記第1監視モデルの監視結果を教師データとして用いた、前記第1時刻に対して遷移時間分異なる第2時刻における前記第2監視データを入力パラメータとした第2監視モデルに対する子モデル学習処理と、を行うことを特徴とするプログラム。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019041166A JP6790154B2 (ja) | 2019-03-07 | 2019-03-07 | 協調型学習システム及び監視システム |
EP20767448.2A EP3936958A4 (en) | 2019-03-07 | 2020-01-23 | COOPERATIVE LEARNING SYSTEM AND MONITORING SYSTEM |
KR1020217024315A KR102430263B1 (ko) | 2019-03-07 | 2020-01-23 | 협조형 학습 시스템 및 감시 시스템 |
CN202080012310.9A CN113396370A (zh) | 2019-03-07 | 2020-01-23 | 协调型学习系统以及监视系统 |
PCT/JP2020/002203 WO2020179264A1 (ja) | 2019-03-07 | 2020-01-23 | 協調型学習システム及び監視システム |
US17/428,840 US11509550B2 (en) | 2019-03-07 | 2020-01-23 | Cooperative learning system and monitoring system |
SG11202108298TA SG11202108298TA (en) | 2019-03-07 | 2020-01-23 | Cooperative learning system and monitoring system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019041166A JP6790154B2 (ja) | 2019-03-07 | 2019-03-07 | 協調型学習システム及び監視システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020144640A JP2020144640A (ja) | 2020-09-10 |
JP6790154B2 true JP6790154B2 (ja) | 2020-11-25 |
Family
ID=72337503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019041166A Active JP6790154B2 (ja) | 2019-03-07 | 2019-03-07 | 協調型学習システム及び監視システム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11509550B2 (ja) |
EP (1) | EP3936958A4 (ja) |
JP (1) | JP6790154B2 (ja) |
KR (1) | KR102430263B1 (ja) |
CN (1) | CN113396370A (ja) |
SG (1) | SG11202108298TA (ja) |
WO (1) | WO2020179264A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220374325A1 (en) * | 2021-05-18 | 2022-11-24 | International Business Machines Corporation | Goal seek analysis based on status models |
JP2023067232A (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-16 | 株式会社Sumco | 監視方法、監視プログラム、監視装置、ウェーハの製造方法、及びウェーハ |
CN115826506B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-08-08 | 东莞市金唐水处理设备有限公司 | 水处理控制系统及控制装置 |
JP2024011516A (ja) * | 2022-07-14 | 2024-01-25 | 株式会社日立製作所 | 特性予測装置、特性予測方法、および、特性予測プログラム |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5022610B1 (ja) | 1971-02-19 | 1975-08-01 | ||
KR100649387B1 (ko) * | 1999-06-22 | 2006-11-27 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 초소형전자 제조에 사용하기 위한 공정수행 간 제어기 |
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EP1543392A1 (en) * | 2002-06-28 | 2005-06-22 | Umetrics AB | Method and device for monitoring and fault detection in industrial processes |
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JP5022610B2 (ja) | 2006-02-27 | 2012-09-12 | 株式会社東芝 | 下水処理場運転支援装置 |
WO2011146914A2 (en) * | 2010-05-21 | 2011-11-24 | Fisher-Rosemount Systems, Inc. | Multi-stage process modeling method |
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JP6501593B2 (ja) | 2015-04-03 | 2019-04-17 | 住友化学株式会社 | 予測ルール生成システム、予測システム、予測ルール生成方法及び予測方法 |
JP6613175B2 (ja) | 2016-03-03 | 2019-11-27 | 株式会社日立製作所 | 異常検出装置、系統安定度監視装置、及びそのシステム |
JP6714491B2 (ja) | 2016-10-14 | 2020-06-24 | 株式会社日立製作所 | 意思決定支援システムおよび意思決定支援方法 |
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-
2019
- 2019-03-07 JP JP2019041166A patent/JP6790154B2/ja active Active
-
2020
- 2020-01-23 KR KR1020217024315A patent/KR102430263B1/ko active IP Right Grant
- 2020-01-23 CN CN202080012310.9A patent/CN113396370A/zh active Pending
- 2020-01-23 US US17/428,840 patent/US11509550B2/en active Active
- 2020-01-23 SG SG11202108298TA patent/SG11202108298TA/en unknown
- 2020-01-23 EP EP20767448.2A patent/EP3936958A4/en active Pending
- 2020-01-23 WO PCT/JP2020/002203 patent/WO2020179264A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3936958A4 (en) | 2022-11-30 |
US20220131772A1 (en) | 2022-04-28 |
EP3936958A1 (en) | 2022-01-12 |
WO2020179264A1 (ja) | 2020-09-10 |
JP2020144640A (ja) | 2020-09-10 |
CN113396370A (zh) | 2021-09-14 |
US11509550B2 (en) | 2022-11-22 |
KR102430263B1 (ko) | 2022-08-09 |
SG11202108298TA (en) | 2021-08-30 |
KR20210110674A (ko) | 2021-09-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200414 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20200414 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20200617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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