JP6782769B2 - 2次元又は3次元の形状の階層的表現 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2016年9月28日に出願された欧州特許出願第15187192.8号の優先権を主張する。この出願は参照によりその全体が本願に含まれる。
[00108] − 放射投影ビームBを供給するための放射システムEx,IL。この特定の例では、放射システムは放射源SOも含む。
[00109] − パターニングデバイスMA(例えばレチクル)を保持するように構成され、投影光学部品PSに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第1のポジショナPMに接続された、第1のオブジェクトテーブル(例えばマスクテーブル)MTと、
[00110] − 基板W(例えばレジストでコーティングされたシリコンウェーハ)を保持するように構成され、投影光学部品PSに対して基板を正確に位置決めする第2のポジショナPWに接続された、第2のオブジェクトテーブル(基板テーブル)WTと、
[00111] − パターニングデバイスMAからの放射を、基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に結像するように構成された投影光学部品PS(例えば屈折光学システム、反射光学システム、又は反射屈折光学システム)と、を備える。
− プログラマブルミラーアレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層及び反射面を有するマトリックスアドレッサブル表面である。そのような装置の背後にある基本原理は、(例えば)反射面のアドレスエリアが入射放射を回折放射として反射すると共に、非アドレスエリアが入射放射を非回折放射として反射することである。適切なフィルタを用いて、反射ビームから前記の非回折放射をフィルタリングして、回折放射のみを残すことができる。このように、ビームは、マトリックスアドレッサブル表面のアドレスパターンに従ってパターン付与される。必要なマトリックスアドレスは、適切な電子手段を用いて実行できる。
− プログラマブルLCDアレイ。
Claims (14)
- ターゲットにビームを提供し、前記ターゲットによって方向転換された放射を検出し、検出された前記放射に基づいて前記ターゲットの形状を測定する光学メトロロジー装置又は検査装置において、測定された前記ターゲットの前記形状を幾何学的パラメータによって記述する処理を行うために、コンピュータシステムによって実施される、測定された前記ターゲットの前記形状を様々な形状によってモデル化する方法であって、
前記ターゲットの前記形状の測定データを取得することと、 取得された前記測定データに対して、前記形状の全体的な幾何学的形状を示す1つ以上の1次のサブ形状を適合させることと、
前記適合の誤差を決定することと、
前記誤差に対して、前記形状の詳細を示す1つ以上の2次のサブ形状を適合させることと、
を含み、
前記形状は、1つ以上の前記1次の前記サブ形状の一部であり、
前記1次の前記サブ形状と、前記2次の前記サブ形状とは、異なる形状であり、
前記1次の前記サブ形状及び前記2次の前記サブ形状のそれぞれは、前記幾何学的パラメータによって記述されることができ、各々の前記1次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数は、各々の前記2次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数よりも少ない、方法。 - 前記誤差は、前記形状の一部でなく、前記1次の前記サブ形状の一部である面積又は体積を含む、及び/又は、
前記誤差は、前記形状の一部であり、前記1次の前記サブ形状の一部でない面積又は体積を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記1次の前記サブ形状は、データベースから、設計レイアウトから、経験的に、又はモデルから取得される、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記1次の前記サブ形状を適合させることは、前記1次の前記サブ形状が全体的に前記形状の内側にありながら前記形状のできる限り大きい面積又は体積をカバーする前記1次の前記サブ形状の特徴を決定することを含む、請求項1から3の何れか一項に記載の方法。
- 前記1次の前記サブ形状を適合させることは、前記1次の前記サブ形状と前記形状との間の誤差関数を最小化することを含む、請求項1から4の何れか一項に記載の方法。
- 前記形状に対して、複数の前記1次の前記サブ形状を適合させることを含み、
前記1次の前記複数のサブ形状は、少なくとも部分的に相互に重複する、請求項1から5の何れか一項に記載の方法。 - ターゲットにビームを提供し、前記ターゲットによって方向転換された放射を検出し、検出された前記放射に基づいて前記ターゲットの形状を測定する光学メトロロジー装置又は検査装置において、測定された前記ターゲットの前記形状を幾何学的パラメータによって階層的に記述する処理を行うために、コンピュータシステムによって実施される、測定された前記ターゲットの前記形状を様々な形状によってモデル化しかつ前記形状の階層的記述を最適化する方法であって、
前記ターゲットの前記形状の測定データを取得することと、 取得された前記測定データに対して、前記形状の全体的な幾何学的形状を示す1つ以上の1次のサブ形状を適合させることと、
前記形状に対して、前記形状の詳細を示す1つ以上の2次のサブ形状を適合させることと、
前記1次の前記サブ形状及び前記2次の前記サブ形状を共に最適化することと、
を含み、
前記形状は、1つ以上の前記1次の前記サブ形状の一部であり、
前記1次の前記サブ形状と、前記2次の前記サブ形状とは、異なる形状であり、
前記1次の前記サブ形状及び前記2次の前記サブ形状のそれぞれは、前記幾何学的パラメータによって記述されることができ、各々の前記1次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数は、各々の前記2次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数よりも少ない、方法。 - ターゲットにビームを提供し、前記ターゲットによって方向転換された放射を検出し、検出された前記放射に基づいて前記ターゲットの形状を測定する光学メトロロジー装置又は検査装置において、測定された前記ターゲットの前記形状を幾何学的パラメータによって記述する処理を行うために、コンピュータシステムによって実施される、測定された前記ターゲットの前記形状から取得された実験データを様々な形状によってモデル化する方法であって、
前記ターゲットの前記形状の測定データから前記実験データを取得することと、
取得された前記実験データに対して、前記形状の全体的な幾何学的形状を示す1つ以上の1次のサブ形状を適合させることと、
適合させた前記1次の前記サブ形状のみが生成するデータを決定することと、
前記実験データと前記1次の前記適合させたサブ形状のみが生成する前記データとの差である残余データを決定することと、
前記残余データに対して、前記形状の詳細を示す1つ以上の2次のサブ形状を適合させることと、
前記2次の前記適合させたサブ形状のみが生成するデータを決定することと、
前記1次の前記適合させたサブ形状のみが生成する前記データ及び前記2次の前記適合させたサブ形状のみが生成する前記データを組み合わせることと、
前記組み合わせデータ及び前記実験データに基づいて、前記1次の前記適合させたサブ形状及び前記2次の前記適合させたサブ形状を調整することと、
を含み、
前記形状から取得された前記実験データは、1つ以上の前記1次の前記サブ形状の一部であり、
前記1次の前記サブ形状と、前記2次の前記サブ形状とは、異なる形状であり、
前記1次の前記サブ形状及び前記2次の前記サブ形状のそれぞれは、前記幾何学的パラメータによって記述されることができ、各々の前記1次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数は、各々の前記2次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数よりも少ない、方法。 - ターゲットにビームを提供し、前記ターゲットによって方向転換された放射を検出し、検出された前記放射に基づいて前記ターゲットの形状を測定する光学メトロロジー装置又は検査装置において、測定された前記ターゲットの前記形状を幾何学的パラメータによって記述する処理を行うために、コンピュータシステムによって実施される、測定された前記ターゲットの前記形状から取得された実験データを様々な形状によってモデル化する方法であって、
前記ターゲットの前記形状の測定データから前記実験データを取得することと、
取得された前記実験データに対して、前記形状の全体的な幾何学的形状を示す1つ以上の1次のサブ形状と、前記形状の詳細を示す1つ以上の2次のサブ形状と、を共に適合させることと、
前記1次の前記適合させたサブ形状及び前記2次の前記適合させたサブ形状が一緒に生成するデータを決定することと、
前記1次の前記適合させたサブ形状及び前記2次の前記適合させたサブ形状が一緒に生成する前記データ及び前記実験データに基づいて、これらのサブ形状を調整することと、
を含み、
前記形状から取得された前記実験データは、1つ以上の前記1次の前記サブ形状の一部であり、
前記1次の前記サブ形状と、前記2次の前記サブ形状とは、異なる形状であり、
前記1次の前記サブ形状及び前記2次の前記サブ形状のそれぞれは、前記幾何学的パラメータによって記述されることができ、各々の前記1次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数は、各々の前記2次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの数よりも少ない、方法。 - パターニングプロセスを用いて一連の基板にデバイスパターンが適用される、デバイスを製造する方法であって、
前記基板の少なくとも1つにおける前記デバイスパターンの一部として又は前記デバイスパターンの近くに形成された少なくとも1つのターゲットを検査することと、
請求項1から9の何れか一項に記載の方法を用いて、関心のある前記幾何学的パラメータを導出することと、
前記関心のある前記幾何学的パラメータに従って後の基板のために前記パターニングプロセスを制御することと、
を含む、方法。 - 記録された命令を有する非一時的コンピュータ読み取り可能媒体を含むコンピュータプログラム製品であって、
前記命令は、前記コンピュータシステムによって実行された場合に、請求項1から9の何れか一項に記載の方法を実施する、コンピュータプログラム製品。 - 記録された命令を有する非一時的コンピュータ読み取り可能媒体を含むコンピュータプログラム製品であって、
前記命令は、前記コンピュータシステムによって実行された場合に、請求項1から9の何れか一項に記載の方法を実施し、
前記非一時的コンピュータ読み取り可能媒体に、データベースが記録されており、
前記データベースは、複数の異なる次数のサブ形状のモデルを含み、
前記複数の異なる次数のサブ形状は、少なくとも、前記1次の前記サブ形状と、前記2次の前記サブ形状とを含み、
前記モデルの各々は、調整可能な前記幾何学的パラメータを有し、
前記コンピュータシステムが前記命令に基づいて請求項1から9の何れか一項に記載の方法を実施するとき、前記1次の前記サブ形状及び/又は前記2次の前記サブ形状は、前記データベースの前記モデルから取得されることができる、コンピュータプログラム製品。 - ターゲットにビームを提供し、ターゲットによって方向転換された放射を検出し、検出された放射に基づいてターゲットの形状を測定する光学メトロロジー装置又は検査装置において、測定されたターゲットの形状を幾何学的パラメータによって記述して処理するために、ターゲットの測定された形状を様々な形状によってモデル化する処理を実行するコンピュータプログラムと、前記コンピュータプログラムが前記モデル化する処理を実行するときに用いられるデータ構造とを記録した非一時的コンピュータ読み取り可能媒体を含むコンピュータプログラム製品であって、
前記データ構造は、少なくとも、1つ以上の1次のサブ形状の記述であるデータ要素と、1つ以上の2次のサブ形状の記述であるデータ要素と、を含み、
前記コンピュータプログラムは、
1つ又は複数のコンピュータシステムに、
前記ターゲットの前記形状の測定データを取得する処理と、
取得された前記測定データに対して、前記データ構造から、前記形状の全体的な幾何学的形状を示す1つ以上の前記1次のサブ形状の記述であるデータ要素を取得して適合させる処理と、
前記適合の誤差を決定する処理と、
前記誤差に対して、前記データ構造から、前記形状の詳細を示す1つ以上の前記2次のサブ形状の記述であるデータ要素を取得して適合させる処理と、を実行させ、
前記1次の前記サブ形状の前記記述は、各々の前記1次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの値であり、前記2次の前記サブ形状の前記記述は、各々の前記2次の前記サブ形状を記述するために必要な前記幾何学的パラメータの値であり、
前記1次の前記サブ形状と、前記2次の前記サブ形状とは、異なる形状であり、 各々の前記1次の前記サブ形状の前記記述に用いられた前記幾何学的パラメータの数は、各々の前記2次の前記サブ形状の前記記述に用いられた前記幾何学的パラメータの数よりも少ない、コンピュータプログラム製品。 - ターゲットにビームを提供し、前記ターゲットによって方向転換された放射を検出し、検出された前記放射に基づいて前記ターゲットの形状を測定し、測定された前記ターゲットの前記形状を幾何学的パラメータによって記述して処理するために、測定された前記ターゲットの前記形状を様々な形状によってモデル化するシステムであって、
基板上の測定ターゲット上にビームを提供するように、及び、前記ターゲットによって方向転換された放射を検出してパターニングプロセスのパラメータを決定するように、構成された検査装置と、
前記検査装置に含まれる請求項11から13の何れか一項に記載のコンピュータプログラム製品と、
を備え、
前記コンピュータプログラム製品に記録されたコンピュータプログラムは、
前記検査装置に、
前記ターゲットの前記形状の測定データを取得する処理と、
取得された前記測定データに対して、前記形状の全体的な幾何学的形状を示す1つ以上の1次のサブ形状を適合させる処理と、
前記適合の誤差を決定する処理と、 前記誤差に対して、前記形状の詳細を示す1つ以上の2次のサブ形状を適合させる処理と、を実行させる、システム。
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