JP6773114B2 - Ceramic electronic components - Google Patents

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Description

本発明は、セラミック電子部品に関する。 The present invention relates to ceramic electronic components.

電子部品本体の表面に表面電極が設けられたセラミック電子部品として、例えば、多層セラミック基板のような積層型セラミック電子部品が挙げられる。 Examples of the ceramic electronic component in which the surface electrode is provided on the surface of the electronic component main body include a laminated ceramic electronic component such as a multilayer ceramic substrate.

このようなセラミック電子部品においては、表面電極の高周波特性の劣化防止、表面電極が受ける応力緩和やめっき侵食への耐性劣化防止、すなわち表面電極の信頼性を高めるために、いわゆるフレーミング層と呼ばれる被覆セラミック層を表面電極の外周部に設けることが行われている(特許文献1参照)。 In such ceramic electronic components, a coating called a so-called framing layer is used to prevent deterioration of the high frequency characteristics of the surface electrode, stress relaxation received by the surface electrode, and prevention of deterioration of resistance to plating erosion, that is, to improve the reliability of the surface electrode. A ceramic layer is provided on the outer peripheral portion of the surface electrode (see Patent Document 1).

特開2012−186269号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-186269

上記被覆セラミック層は、表面電極の外周部に加えて、電子部品本体のセラミック層(以下、基材セラミック層という)上にも設けられる。
通常、被覆セラミック層は、被覆セラミック層形成用のセラミックグリーンシートを所定箇所に載置して焼成するか、又は、被覆セラミック層形成用のセラミックペーストを所定箇所に塗布して焼成することにより形成され、電子部品本体及び表面電極を得るための焼成と同時に焼成することによって形成されることが好ましいとされている。
The coated ceramic layer is provided not only on the outer peripheral portion of the surface electrode but also on the ceramic layer of the main body of the electronic component (hereinafter referred to as the base ceramic layer).
Usually, the coated ceramic layer is formed by placing a ceramic green sheet for forming a coated ceramic layer in a predetermined place and firing it, or by applying a ceramic paste for forming a coated ceramic layer in a predetermined place and firing it. It is said that it is preferably formed by firing at the same time as firing to obtain the main body of the electronic component and the surface electrode.

しかし、表面電極上と基材セラミック層上とでは、セラミックグリーンシート又はセラミックペーストの焼結性が異なるため、焼成後に得られる被覆セラミック層の強度に差が生じるという問題があった。具体的には、表面電極上の被覆セラミック層の強度が基材セラミック層上の被覆セラミック層の強度よりも低くなり、その結果、焼成により形成された被覆セラミック層が表面電極から剥離してしまうという問題があった。 However, since the sinterability of the ceramic green sheet or the ceramic paste is different between the surface electrode and the base ceramic layer, there is a problem that the strength of the coated ceramic layer obtained after firing is different. Specifically, the strength of the coated ceramic layer on the surface electrode is lower than the strength of the coated ceramic layer on the base ceramic layer, and as a result, the coated ceramic layer formed by firing is peeled off from the surface electrode. There was a problem.

本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、被覆セラミック層と表面電極との間の接合強度が高く、表面電極からの被覆セラミック層の剥離を防止することができるセラミック電子部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and is a ceramic electronic component that has high bonding strength between the coated ceramic layer and the surface electrode and can prevent the coated ceramic layer from peeling from the surface electrode. The purpose is to provide.

焼成後に得られる被覆セラミック層の強度に差が生じる原因は、基材セラミック層、表面電極及び被覆セラミック層の焼結性の違いに起因すると考えられる。
基材セラミック層と被覆セラミック層は互いにセラミック同士であるから、焼結性は互いに類似しており、基材セラミック層上に形成された被覆セラミック層には剥離等の問題は発生しにくいと考えられる。一方、表面電極と被覆セラミック層とを対比すると、被覆セラミック層がセラミックリッチの組成であるのに対して、表面電極が金属リッチの組成となっていることから、表面電極と被覆セラミック層とでは焼結性が互いに異なると考えられる。すなわち、本発明者は、表面電極と被覆セラミック層の焼結性の違いによって、表面電極と被覆セラミック層との接合強度が低下し、剥離の原因になっているのではないかと考えた。
It is considered that the cause of the difference in the strength of the coated ceramic layer obtained after firing is the difference in the sinterability of the base ceramic layer, the surface electrode and the coated ceramic layer.
Since the base ceramic layer and the coated ceramic layer are ceramics to each other, the sinterability is similar to each other, and it is considered that the coated ceramic layer formed on the base ceramic layer is unlikely to cause problems such as peeling. Be done. On the other hand, when the surface electrode and the coated ceramic layer are compared, the coated ceramic layer has a ceramic-rich composition, whereas the surface electrode has a metal-rich composition. It is considered that the sinterability is different from each other. That is, the present inventor considered that the difference in the sinterability between the surface electrode and the coated ceramic layer may reduce the bonding strength between the surface electrode and the coated ceramic layer, which may cause peeling.

そこで、本発明者は、表面電極上の被覆セラミック層と表面電極の間に、表面電極と被覆セラミック層との中間の性質を有するアンカー層を設けることによって、表面電極上に形成された被覆セラミック層の接合強度を向上させて、被覆セラミック層の剥離を防止することができることを見出し、本発明を完成した。 Therefore, the present inventor has provided a coated ceramic formed on the surface electrode by providing an anchor layer having an intermediate property between the surface electrode and the coated ceramic layer between the coated ceramic layer on the surface electrode and the surface electrode. We have found that it is possible to improve the bonding strength of the layers and prevent the coating ceramic layer from peeling off, and completed the present invention.

本発明のセラミック電子部品は、表面に基材セラミック層を有する電子部品本体と、上記電子部品本体の表面に設けられた表面電極と、上記表面電極の外周部を被覆する被覆セラミック層とを備えるセラミック電子部品であって、上記表面電極の外周部と上記被覆セラミック層の間に、金属成分及びセラミック成分を共に含むアンカー層が設けられていることを特徴とする。 The ceramic electronic component of the present invention includes an electronic component body having a base ceramic layer on its surface, a surface electrode provided on the surface of the electronic component body, and a coated ceramic layer covering the outer peripheral portion of the surface electrode. It is a ceramic electronic component, and is characterized in that an anchor layer containing both a metal component and a ceramic component is provided between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer.

本発明のセラミック電子部品は、表面電極の外周部に金属成分とセラミック成分とを共に有するアンカー層が設けられていることにより、被覆セラミック層とアンカー層との接合強度が、被覆セラミック層と表面電極との接合強度よりも高くなる。その結果、セラミック電子部品を焼成した際に、被覆セラミック層が剥離しにくくなる。 The ceramic electronic component of the present invention is provided with an anchor layer having both a metal component and a ceramic component on the outer peripheral portion of the surface electrode, so that the bonding strength between the coated ceramic layer and the anchor layer is increased between the coated ceramic layer and the surface. It is higher than the bonding strength with the electrode. As a result, when the ceramic electronic component is fired, the coated ceramic layer is less likely to peel off.

また、被覆セラミック層とアンカー層との間の接合強度が高いと、被覆セラミック層を形成した後にめっき層を形成する場合であっても、めっき層を形成する前の表面電極と被覆セラミック層との間にめっき液が侵入しにくくなるため、異常析出のリスクが低下する。 Further, if the bonding strength between the coated ceramic layer and the anchor layer is high, even when the plated layer is formed after the coated ceramic layer is formed, the surface electrode and the coated ceramic layer before the plating layer is formed Since the plating solution is less likely to enter during the period, the risk of abnormal precipitation is reduced.

アンカー層は、金属成分とセラミック成分とを共に含んでいるため、アンカー層と被覆セラミック層の境界付近においては、アンカー層のセラミック成分が被覆セラミック層と焼結する。また、アンカー層と表面電極の境界付近においては、アンカー層の金属成分が表面電極と焼結する。すなわち、それぞれの境界付近において、アンカー層中の金属成分又はセラミック成分のうち片方だけが優先的に焼結反応を起こすため、アンカー層と被覆セラミック層の境界付近及びアンカー層と表面電極の境界付近において物理的なアンカー構造が形成され、アンカー層及び被覆セラミック層並びにアンカー層及び表面電極が強固に接合されることとなる。
また、アンカー層は、金属成分とセラミック成分とを共に含んでいるため、アンカー層中の金属成分の本来の焼結開始温度を超えても、アンカー層中のセラミック成分の焼結開始温度に達するまでは焼結が始まらない。そのため、被覆セラミック層中の低融点成分(液相成分ともいう)が先に溶融し、アンカー層に浸入しながら焼結が進行する。このとき、液相成分がアンカー層に浸入しながら焼結が進行することで、被覆セラミック層とアンカー層の境界付近で物理的なアンカー構造を形成して、被覆セラミック層とアンカー層とが強固に接合される。
Since the anchor layer contains both a metal component and a ceramic component, the ceramic component of the anchor layer is sintered with the coated ceramic layer in the vicinity of the boundary between the anchor layer and the coated ceramic layer. Further, in the vicinity of the boundary between the anchor layer and the surface electrode, the metal component of the anchor layer is sintered with the surface electrode. That is, in the vicinity of each boundary, only one of the metal component or the ceramic component in the anchor layer preferentially causes the sintering reaction, so that the vicinity of the boundary between the anchor layer and the coated ceramic layer and the vicinity of the boundary between the anchor layer and the surface electrode A physical anchor structure is formed in the above, and the anchor layer, the coated ceramic layer, the anchor layer, and the surface electrode are firmly bonded to each other.
Further, since the anchor layer contains both the metal component and the ceramic component, the sintering start temperature of the ceramic component in the anchor layer is reached even if the original sintering start temperature of the metal component in the anchor layer is exceeded. Sintering does not start until. Therefore, the low melting point component (also referred to as the liquid phase component) in the coated ceramic layer melts first, and sintering proceeds while infiltrating into the anchor layer. At this time, the liquid phase component penetrates into the anchor layer and sintering proceeds, so that a physical anchor structure is formed near the boundary between the coated ceramic layer and the anchor layer, and the coated ceramic layer and the anchor layer are strengthened. Is joined to.

本発明のセラミック電子部品において、上記アンカー層は、上記表面電極の外周部と上記被覆セラミック層の間のみに設けられていることが好ましい。
アンカー層が、表面電極の外周部と被覆セラミック層の間にのみに設けられていると、表面電極のうち被覆セラミック層が設けられていない箇所は、表面電極が露出していることとなるため、表面電極のめっき付性が低下することがない。従って、被覆セラミック層の接合強度を保ったまま、表面電極のめっき付性の低下を抑制することができる。
In the ceramic electronic component of the present invention, the anchor layer is preferably provided only between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer.
If the anchor layer is provided only between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer, the surface electrode is exposed at the portion of the surface electrode where the coated ceramic layer is not provided. , The plating property of the surface electrode does not deteriorate. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the plating property of the surface electrode while maintaining the bonding strength of the coated ceramic layer.

本発明のセラミック電子部品において、上記アンカー層を構成する金属成分及びセラミック成分は、それぞれ、上記表面電極を構成する金属成分及び上記被覆セラミック層を構成するセラミック成分と同一の成分を含むことが好ましい。
アンカー層を構成する金属成分が表面電極を構成する金属成分と同一の成分を含んでいると、アンカー層と表面電極との反応性が向上し、接合強度が向上する。また、アンカー層を構成するセラミック成分が被覆セラミック層を構成するセラミック成分と同一の成分を含んでいると、アンカー層と被覆セラミック層との反応性が向上し、接合強度が向上する。従って、アンカー層を構成する金属成分及びセラミック成分が、それぞれ、表面電極を構成する金属成分及び被覆セラミック層を構成するセラミック成分と同一の成分を含むと、表面電極と被覆セラミック層との接合強度が向上し、剥離をさらに抑制できる。
In the ceramic electronic component of the present invention, it is preferable that the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer contain the same components as the metal component constituting the surface electrode and the ceramic component constituting the coated ceramic layer, respectively. ..
When the metal component constituting the anchor layer contains the same component as the metal component constituting the surface electrode, the reactivity between the anchor layer and the surface electrode is improved, and the bonding strength is improved. Further, when the ceramic component constituting the anchor layer contains the same component as the ceramic component constituting the coated ceramic layer, the reactivity between the anchor layer and the coated ceramic layer is improved, and the bonding strength is improved. Therefore, when the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer contain the same components as the metal component constituting the surface electrode and the ceramic component constituting the coated ceramic layer, respectively, the bonding strength between the surface electrode and the coated ceramic layer Can be improved and peeling can be further suppressed.

本発明のセラミック電子部品において、上記アンカー層を構成する金属成分とセラミック成分との合計体積に対する金属成分の体積の割合は、10%以上、90%以下であることが好ましい。
アンカー層を構成する金属成分とセラミック成分との合計体積に対する金属成分の体積の割合が、10%以上、90%以下であると、アンカー層が表面電極及び被覆セラミック層のどちらに対しても充分な接合強度を有することとなる。
In the ceramic electronic component of the present invention, the ratio of the volume of the metal component to the total volume of the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer is preferably 10% or more and 90% or less.
When the ratio of the volume of the metal component to the total volume of the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer is 10% or more and 90% or less, the anchor layer is sufficient for both the surface electrode and the coated ceramic layer. It will have a good bonding strength.

本発明によれば、被覆セラミック層と表面電極との間の接合強度が高く、表面電極からの被覆セラミック層の剥離を防止することができるセラミック電子部品を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a ceramic electronic component having high bonding strength between the coated ceramic layer and the surface electrode and capable of preventing peeling of the coated ceramic layer from the surface electrode.

図1は、本発明のセラミック電子部品の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the ceramic electronic component of the present invention. 図2A〜図2Bは、図1に示すセラミック電子部品1の製造方法の一例を模式的に示す断面図である。2A to 2B are cross-sectional views schematically showing an example of a method for manufacturing the ceramic electronic component 1 shown in FIG. 1. 図3は、本発明のセラミック電子部品の別の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the ceramic electronic component of the present invention.

以下、本発明のセラミック電子部品について説明する。
しかしながら、本発明は、以下の構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。
以下において記載する本発明の個々の望ましい構成を2つ以上組み合わせたものもまた本発明である。
Hereinafter, the ceramic electronic component of the present invention will be described.
However, the present invention is not limited to the following configurations, and can be appropriately modified and applied without changing the gist of the present invention.
A combination of two or more of the individual desirable configurations of the invention described below is also the invention.

以下の実施形態では、セラミック電子部品が、多層セラミック基板等の積層型セラミック電子部品である場合、すなわち、電子部品本体が、複数のセラミック層が積層された積層構造を有する場合について説明する。しかし、本発明は、積層型セラミック電子部品に限らず、電子部品本体が表面に基材セラミック層を有し、電子部品本体の表面に表面電極が設けられた種々のセラミック電子部品に対して適用することが可能である。 In the following embodiment, a case where the ceramic electronic component is a laminated ceramic electronic component such as a multilayer ceramic substrate, that is, a case where the electronic component main body has a laminated structure in which a plurality of ceramic layers are laminated will be described. However, the present invention is not limited to laminated ceramic electronic components, and is applicable to various ceramic electronic components in which the electronic component body has a base ceramic layer on the surface and surface electrodes are provided on the surface of the electronic component body. It is possible to do.

図1は、本発明のセラミック電子部品の一例を模式的に示す断面図である。
図1には全体的な構成が示されていないが、セラミック電子部品1は、表面に基材セラミック層11を有する電子部品本体10と、電子部品本体10の表面に設けられた表面電極20と、表面電極20の外周部を被覆する被覆セラミック層40とを備えている。
そして、アンカー層30が、表面電極20の外周部(図1中、両矢印W1で示す領域)と被覆セラミック層40の間に設けられている。図1に示すように、表面電極20の外周部は被覆セラミック層40により被覆されている。なお、表面電極20のうち、外周部ではない領域を中央部(図1中、両矢印W2で示す領域)とする。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the ceramic electronic component of the present invention.
Although the overall configuration is not shown in FIG. 1, the ceramic electronic component 1 includes an electronic component main body 10 having a base ceramic layer 11 on its surface, and a surface electrode 20 provided on the surface of the electronic component main body 10. A coated ceramic layer 40 that covers the outer peripheral portion of the surface electrode 20 is provided.
The anchor layer 30 is provided between the outer peripheral portion of the surface electrode 20 (the region indicated by the double-headed arrow W1 in FIG. 1) and the coating ceramic layer 40. As shown in FIG. 1, the outer peripheral portion of the surface electrode 20 is covered with a coated ceramic layer 40. The region of the surface electrode 20 that is not the outer peripheral portion is defined as the central portion (the region indicated by the double-headed arrow W2 in FIG. 1).

図1では、電子部品本体10は、複数の基材セラミック層11が積層された積層構造を有しており、電子部品本体10の内部には、内部配線導体としての内部導体膜12及びビアホール導体13が設けられている。内部導体膜12はビアホール導体13と電気的に接続されており、ビアホール導体13は表面電極20と電気的に接続されている。 In FIG. 1, the electronic component main body 10 has a laminated structure in which a plurality of base material ceramic layers 11 are laminated, and inside the electronic component main body 10, an internal conductor film 12 as an internal wiring conductor and a via hole conductor are provided. 13 is provided. The inner conductor film 12 is electrically connected to the via hole conductor 13, and the via hole conductor 13 is electrically connected to the surface electrode 20.

本明細書において、表面電極の上面にアンカー層が配置され、アンカー層を介して表面電極上に被覆セラミック層が配置されている場合であっても、表面電極が被覆セラミック層で被覆されているという。 In the present specification, the surface electrode is coated with the coated ceramic layer even when the anchor layer is arranged on the upper surface of the surface electrode and the coated ceramic layer is arranged on the surface electrode via the anchor layer. That is.

電子部品本体を構成する基材セラミック層は、低温焼結セラミック材料を含有することが好ましい。
低温焼結セラミック材料とは、セラミック材料のうち、1000℃以下の温度で焼結可能であり、AgやCuとの同時焼成が可能である材料を意味する。
The base material ceramic layer constituting the electronic component body preferably contains a low-temperature sintered ceramic material.
The low-temperature sintered ceramic material means a ceramic material that can be sintered at a temperature of 1000 ° C. or lower and can be co-fired with Ag or Cu at the same time.

基材セラミック層に含有される低温焼結セラミック材料としては、例えば、クオーツやアルミナ、フォルステライト等のセラミック材料にホウ珪酸ガラスを混合してなるガラス複合系低温焼結セラミック材料、ZnO−MgO−Al−SiO系の結晶化ガラスを用いた結晶化ガラス系低温焼結セラミック材料、BaO−Al−SiO系セラミック材料やAl−CaO−SiO−MgO−B系セラミック材料等を用いた非ガラス系低温焼結セラミック材料等が挙げられる。Examples of the low-temperature sintered ceramic material contained in the base ceramic layer include a glass composite low-temperature sintered ceramic material obtained by mixing borosilicate glass with a ceramic material such as quartz, alumina, and forsterite, ZnO-MgO-. Al 2 O 3 -SiO 2 -based crystallized glass crystallized glass-based low-temperature co-fired ceramic material with a, BaO-Al 2 O 3 -SiO 2 -based ceramic material and Al 2 O 3 -CaO-SiO 2 -MgO- Examples thereof include non-glass low-temperature sintered ceramic materials using B 2 O 3 ceramic materials and the like.

電子部品本体の内部に設けられる内部配線導体(内部導体膜及びビアホール導体)は、導電成分を含有する。内部配線導体に含有される導電成分としては、例えば、Au、Ag、Cu、Pt、Ta、W、Ni、Fe、Cr、Mo、Ti、Pd、Ru及びこれらの金属の1種を主成分とする合金等が挙げられる。内部配線導体は、導電成分として、Au、Ag又はCuを含有することが好ましく、Ag又はCuを含有することがより好ましい。Au、Ag及びCuは低抵抗であるため、特に、セラミック電子部品が高周波用途である場合に適している。 The internal wiring conductors (internal conductor film and via hole conductor) provided inside the main body of the electronic component contain a conductive component. As the conductive component contained in the internal wiring conductor, for example, Au, Ag, Cu, Pt, Ta, W, Ni, Fe, Cr, Mo, Ti, Pd, Ru and one of these metals are the main components. Examples include alloys. The internal wiring conductor preferably contains Au, Ag or Cu as a conductive component, and more preferably contains Ag or Cu. Since Au, Ag and Cu have low resistance, they are particularly suitable when ceramic electronic components are used for high frequency applications.

電子部品本体の表面に設けられた表面電極は、配線基板又は搭載部品のような他の電子部品と接続されるためのものである。表面電極と他の電子部品とは、半田付け等によって接続される。 The surface electrodes provided on the surface of the electronic component body are for connecting to other electronic components such as wiring boards or mounted components. The surface electrode and other electronic components are connected by soldering or the like.

表面電極に含有される導電成分としては、例えば、Au、Ag、Cu、Pt、Ta、W、Ni、Fe、Cr、Mo、Ti、Pd、Ru及びこれらの金属の1種を主成分とする合金等が挙げられる。表面電極は、内部配線導体と同じ導電成分を含有することが好ましく、具体的には、導電成分として、Au、Ag又はCuを含有することが好ましく、Ag又はCuを含有することがより好ましい。 As the conductive component contained in the surface electrode, for example, Au, Ag, Cu, Pt, Ta, W, Ni, Fe, Cr, Mo, Ti, Pd, Ru and one of these metals are the main components. Examples include alloys. The surface electrode preferably contains the same conductive component as the internal wiring conductor, and specifically, the surface electrode preferably contains Au, Ag, or Cu as the conductive component, and more preferably contains Ag or Cu.

表面電極の外周部の幅(図1中、W1で表される長さ)は特に限定されないが、40μm以上、100μm以下であることが好ましい。 The width of the outer peripheral portion of the surface electrode (the length represented by W1 in FIG. 1) is not particularly limited, but is preferably 40 μm or more and 100 μm or less.

表面電極は、1層構造を有していてもよいし、複層構造を有していてもよいが、複層構造を有していることが好ましい。
表面電極が1層構造を有する場合、焼結層のみからなることが好ましい。
焼結層は、導電性ペーストを基材セラミック層、アンカー層、被覆セラミック層と同時焼成させることによって形成されたものである。
The surface electrode may have a one-layer structure or a multi-layer structure, but it is preferable that the surface electrode has a multi-layer structure.
When the surface electrode has a one-layer structure, it is preferably composed of only a sintered layer.
The sintered layer is formed by simultaneously firing the conductive paste together with the base ceramic layer, the anchor layer, and the coated ceramic layer.

以下、表面電極の焼結層について説明する。
表面電極を構成する焼結層は、導電成分を含有する。焼結層には、電子部品本体との接合強度を高くするため、金属酸化物をさらに含有してもよい。
焼結層を複層構造とする場合、電子部品本体の表面に位置する基材セラミック層の上面に設けられた第1焼結層と、第1焼結層の上面に設けられた第2焼結層とを含む少なくとも2層構造を有していることがより好ましい。
Hereinafter, the sintered layer of the surface electrode will be described.
The sintered layer constituting the surface electrode contains a conductive component. The sintered layer may further contain a metal oxide in order to increase the bonding strength with the electronic component body.
When the sintered layer has a multi-layer structure, the first sintered layer provided on the upper surface of the base ceramic layer located on the surface of the electronic component body and the second baked layer provided on the upper surface of the first sintered layer. It is more preferable to have at least a two-layer structure including a layer.

第1焼結層に含有される導電成分としては、例えば、Au、Ag、Cu、Pt、Ta、W、Ni、Fe、Cr、Mo、Ti、Pd、Ru及びこれらの金属の1種を主成分とする合金等が挙げられる。第1焼結層は、内部配線導体と同じ導電成分を含有することが好ましく、具体的には、導電成分として、Au、Ag又はCuを含有することが好ましく、Ag又はCuを含有することがより好ましい。 As the conductive component contained in the first sintered layer, for example, Au, Ag, Cu, Pt, Ta, W, Ni, Fe, Cr, Mo, Ti, Pd, Ru and one of these metals are mainly used. Examples thereof include alloys as components. The first sintered layer preferably contains the same conductive component as the internal wiring conductor, and specifically, preferably contains Au, Ag or Cu as the conductive component, and may contain Ag or Cu. More preferred.

第1焼結層に含有される金属酸化物としては、例えば、Al、Zr、Ti、Si及び、Mgからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含むものが挙げられる。上記金属酸化物は、1種でもよく、2種以上でもよい。これらの中では、Al、Zr及びTiからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含むものが好ましく、Alを含む金属酸化物がより好ましい。 Examples of the metal oxide contained in the first sintered layer include those containing at least one metal element selected from the group consisting of Al, Zr, Ti, Si, and Mg. The metal oxide may be one kind or two or more kinds. Among these, those containing at least one metal element selected from the group consisting of Al, Zr and Ti are preferable, and metal oxides containing Al are more preferable.

第1焼結層中の金属酸化物の含有量は特に限定されないが、第2焼結層中の金属酸化物の含有量よりも多いことが好ましい。具体的には、第1焼結層中の金属酸化物の含有量は、1重量%以上が好ましく、3重量%以上がより好ましい。一方、第1焼結層中の金属酸化物の含有量は、10重量%未満が好ましく、5重量%未満がより好ましい。 The content of the metal oxide in the first sintered layer is not particularly limited, but is preferably higher than the content of the metal oxide in the second sintered layer. Specifically, the content of the metal oxide in the first sintered layer is preferably 1% by weight or more, more preferably 3% by weight or more. On the other hand, the content of the metal oxide in the first sintered layer is preferably less than 10% by weight, more preferably less than 5% by weight.

第1焼結層が金属酸化物を含有する場合、導電成分を構成する金属の粒子と金属酸化物の粒子とが分散して存在していてもよく、金属の粒子の周囲に金属酸化物が被覆されていてもよいが、金属の粒子の周囲に金属酸化物が被覆されていることが好ましい。金属の粒子の周囲に金属酸化物が被覆されている場合、金属酸化物の含有量が少なくても、電子部品本体との接合強度を高くすることができる。 When the first sintered layer contains a metal oxide, the metal particles constituting the conductive component and the metal oxide particles may be dispersed and exist, and the metal oxide may be present around the metal particles. Although it may be coated, it is preferable that the metal oxide is coated around the metal particles. When the metal oxide is coated around the metal particles, the bonding strength with the electronic component body can be increased even if the content of the metal oxide is small.

第1焼結層の平面視形状は特に限定されず、例えば、矩形をはじめとする四角形のほか、四角形以外の多角形、円形、楕円形等が挙げられる。 The plan-view shape of the first sintered layer is not particularly limited, and examples thereof include a quadrangle including a rectangle, a polygon other than the quadrangle, a circle, and an ellipse.

表面電極を構成する第2焼結層は、導電成分を含有する。第2焼結層に含有される導電成分は、第1焼結層に含有される導電成分と同じであることが好ましい。 The second sintered layer constituting the surface electrode contains a conductive component. The conductive component contained in the second sintered layer is preferably the same as the conductive component contained in the first sintered layer.

第2焼結層は、第1焼結層に含有される金属酸化物と同じ金属酸化物を含有していてもよいが、金属酸化物の含有量が多くなると、第2焼結層の上面にめっきが付着しにくくなる。そのため、第2焼結層は、第1焼結層よりも少ない金属酸化物を含有することが好ましく、上記金属酸化物を実質的に含有しないことがより好ましい。第2焼結層が金属酸化物を含有する場合において、第1焼結層中の金属酸化物の含有量が1重量%以上10重量%未満であるときは、第2焼結層中の金属酸化物の含有量は、1重量%未満であることが好ましい。また、第1焼結層中の金属酸化物の含有量が3重量%以上5重量%未満であるときは、第2焼結層中の金属酸化物の含有量は、3重量%未満であることが好ましい。 The second sintered layer may contain the same metal oxide as the metal oxide contained in the first sintered layer, but when the content of the metal oxide increases, the upper surface of the second sintered layer It becomes difficult for plating to adhere to. Therefore, the second sintered layer preferably contains less metal oxide than the first sintered layer, and more preferably does not substantially contain the metal oxide. When the second sintered layer contains a metal oxide and the content of the metal oxide in the first sintered layer is 1% by weight or more and less than 10% by weight, the metal in the second sintered layer The oxide content is preferably less than 1% by weight. When the content of the metal oxide in the first sintered layer is 3% by weight or more and less than 5% by weight, the content of the metal oxide in the second sintered layer is less than 3% by weight. Is preferable.

第2焼結層の上面の面積は、第1焼結層の上面の面積と実質的に同じであることが好ましい。すなわち、第2焼結層の平面視形状は、第1焼結層の平面視形状と実質的に同じであることが好ましい。 It is preferable that the area of the upper surface of the second sintered layer is substantially the same as the area of the upper surface of the first sintered layer. That is, it is preferable that the plan view shape of the second sintered layer is substantially the same as the plan view shape of the first sintered layer.

なお、焼結層の数は2層に限定されず、基材セラミック層の上面に設けられた第1焼結層と、上面にめっき層が設けられる第2焼結層との間に他の焼結層が設けられていてもよい。 The number of sintered layers is not limited to two, and there is another layer between the first sintered layer provided on the upper surface of the base ceramic layer and the second sintered layer provided on the upper surface. A sintered layer may be provided.

続いて、表面電極上に設けられるアンカー層について説明する。
アンカー層は、金属成分とセラミック成分とを共に有する層であり、金属成分とセラミック成分とを含むペースト材料を表面電極の上面、又は、表面電極となる導電性ペースト膜の上面に形成し、焼成することで得られる。
Subsequently, the anchor layer provided on the surface electrode will be described.
The anchor layer is a layer having both a metal component and a ceramic component, and a paste material containing the metal component and the ceramic component is formed on the upper surface of the surface electrode or the upper surface of the conductive paste film serving as the surface electrode and fired. Obtained by doing.

アンカー層を構成する金属成分は特に限定されないが、Au、Ag、Cu、Pt、Ta、W、Ni、Fe、Cr、Mo、Ti、Pd、Ru及びこれらの金属の1種を主成分とする合金等が挙げられ、表面電極を構成する金属成分と同一の成分を含むことが好ましく、アンカー層を構成する金属成分と表面電極を構成する金属成分とが同一であることがより好ましい。なお、表面電極が複層構造である場合、アンカー層を構成する金属成分は、最も外側(アンカー層に近い側)の焼結層を構成する金属成分と同一の成分を含むことが好ましく、アンカー層を構成する金属成分と最も外側(アンカー層に近い側)の焼結層を構成する金属成分とが同一であることがより好ましい。 The metal components constituting the anchor layer are not particularly limited, but are mainly composed of Au, Ag, Cu, Pt, Ta, W, Ni, Fe, Cr, Mo, Ti, Pd, Ru and one of these metals. Examples thereof include alloys, which preferably contain the same components as the metal components constituting the surface electrode, and more preferably the metal components constituting the anchor layer and the metal components constituting the surface electrode are the same. When the surface electrode has a multi-layer structure, the metal component constituting the anchor layer preferably contains the same component as the metal component constituting the outermost (closer to the anchor layer) sintered layer, and the anchor. It is more preferable that the metal component constituting the layer and the metal component constituting the outermost sintered layer (the side closer to the anchor layer) are the same.

アンカー層を構成するセラミック成分は特に限定されないが、被覆セラミック層を構成するセラミック成分と同一の成分を含むことが好ましく、アンカー層を構成するセラミック成分と被覆セラミック層を構成するセラミック成分とが同一であることがより好ましい。
アンカー層は金属成分とセラミック成分とを共に有するから、表面電極及び被覆セラミック層のいずれと接合した場合であっても、良好な接合強度を保つことができる。
The ceramic component constituting the anchor layer is not particularly limited, but preferably contains the same component as the ceramic component constituting the coated ceramic layer, and the ceramic component constituting the anchor layer and the ceramic component constituting the coated ceramic layer are the same. Is more preferable.
Since the anchor layer has both a metal component and a ceramic component, good bonding strength can be maintained regardless of whether the anchor layer is bonded to the surface electrode or the coated ceramic layer.

アンカー層を構成する金属成分とセラミック成分との割合は特に限定されないが、金属成分とセラミック成分との合計体積に対する金属成分の体積の割合が5%以上、95%以下であることが好ましく、10%以上、90%以下であることがより好ましく、40%以上、60%以下であることがさらに好ましい。
金属成分とセラミック成分との合計体積に対する金属成分の体積の割合が5%以上、95%以下であると、アンカー層を表面電極及び被覆セラミック層に接合することができる。
The ratio of the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer is not particularly limited, but the ratio of the volume of the metal component to the total volume of the metal component and the ceramic component is preferably 5% or more and 95% or less. It is more preferably% or more and 90% or less, and further preferably 40% or more and 60% or less.
When the ratio of the volume of the metal component to the total volume of the metal component and the ceramic component is 5% or more and 95% or less, the anchor layer can be bonded to the surface electrode and the coated ceramic layer.

アンカー層を構成する金属成分及びセラミック成分は、アンカー層中でそれぞれ分散して存在していてもよく、金属成分の周囲をセラミック成分が覆う形態であってもよい。 The metal component and the ceramic component constituting the anchor layer may be dispersedly present in the anchor layer, or may be in a form in which the ceramic component covers the periphery of the metal component.

アンカー層の厚みは特に限定されないが、5μm以上、10μm以下であることが好ましい。 The thickness of the anchor layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 10 μm or less.

アンカー層は表面電極上の全域に形成されていてもよいが、表面電極の外周部のみに形成されていることが好ましい。すなわち、アンカー層は、表面電極の中央部には設けられず、表面電極の外周部と被覆セラミック層の間のみに設けられていることが好ましい。
表面電極上にさらにめっき層を形成する場合、表面電極の中央部にアンカー層が設けられているとめっき付性が低下する。
The anchor layer may be formed over the entire surface electrode, but is preferably formed only on the outer peripheral portion of the surface electrode. That is, it is preferable that the anchor layer is not provided in the central portion of the surface electrode, but is provided only between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer.
When a plating layer is further formed on the surface electrode, if an anchor layer is provided at the center of the surface electrode, the plating property is lowered.

表面電極の外周部を被覆する被覆セラミック層は、電子部品本体の表面に位置する基材セラミック層上と表面電極上とに設けられている。表面電極上には上述したアンカー層が配置されているため、表面電極上に設けられた被覆セラミック層は、アンカー層を介して表面電極上に設けられている。 The coated ceramic layer that covers the outer peripheral portion of the surface electrode is provided on the base ceramic layer located on the surface of the electronic component body and on the surface electrode. Since the anchor layer described above is arranged on the surface electrode, the coated ceramic layer provided on the surface electrode is provided on the surface electrode via the anchor layer.

被覆セラミック層は、低温焼結セラミック材料を含有することが好ましい。この場合、被覆セラミック層に含有される低温焼結セラミック材料は、基材セラミック層に含有される低温焼結セラミック材料と同一であっても異なっていてもよいが、基材セラミック層に含有される低温焼結セラミック材料と同一であることが好ましい。 The coated ceramic layer preferably contains a low temperature sintered ceramic material. In this case, the low-temperature sintered ceramic material contained in the coated ceramic layer may be the same as or different from the low-temperature sintered ceramic material contained in the base ceramic layer, but is contained in the base ceramic layer. It is preferably the same as the low temperature sintered ceramic material.

アンカー層上に形成された被覆セラミック層の厚みは特に限定されないが、2μm以上、20μm以下であることが好ましい。
なお、アンカー層上に形成された被覆セラミック層の厚みが変動している場合、被覆セラミック層が形成された外周部の面積と、外周部に存在する被覆セラミック層の体積から求めた被覆セラミック層の平均厚みを、アンカー層上に形成された被覆セラミック層の厚みとする。
The thickness of the coated ceramic layer formed on the anchor layer is not particularly limited, but is preferably 2 μm or more and 20 μm or less.
When the thickness of the coated ceramic layer formed on the anchor layer varies, the coated ceramic layer obtained from the area of the outer peripheral portion where the coated ceramic layer is formed and the volume of the coated ceramic layer existing on the outer peripheral portion. Let the average thickness of the coating ceramic layer be the thickness of the coated ceramic layer formed on the anchor layer.

表面電極の表面にはさらに、めっき層が形成されていてもよい。
めっき層は、表面電極上に電解めっき又は無電解めっきを施すことによって形成されるものである。めっき層は、通常、焼結層、アンカー層及び被覆セラミック層を形成した後に形成されるため、めっき層は被覆セラミック層によって被覆されていない。
A plating layer may be further formed on the surface of the surface electrode.
The plating layer is formed by subjecting a surface electrode to electrolytic plating or electroless plating. Since the plating layer is usually formed after forming the sintered layer, the anchor layer and the coating ceramic layer, the plating layer is not coated by the coating ceramic layer.

めっき層は、Au、Ag、Ni、Pd、Cu、Sn又はこれらの金属を含む合金からなることが好ましい。めっき層は、表面電極側から1層目がNi、2層目がAuであるNi/Auめっき層、表面電極側から1層目がNi、2層目がSnであるNi/Snめっき層、表面電極側から1層目がNi、2層目がPd、3層目がAuであるNi/Pd/Auめっき層等の複数層からなるめっき層であってもよい。 The plating layer is preferably made of Au, Ag, Ni, Pd, Cu, Sn or an alloy containing these metals. The plating layer is a Ni / Au plating layer in which the first layer is Ni from the surface electrode side and the second layer is Au, a Ni / Sn plating layer in which the first layer is Ni from the surface electrode side and the second layer is Sn. The first layer from the surface electrode side may be a plating layer composed of a plurality of layers such as a Ni / Pd / Au plating layer in which the first layer is Ni and the second layer is Pd and the third layer is Au.

めっき層の厚みは特に限定されないが、1μm以上、10μm以下であることが好ましい。 The thickness of the plating layer is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 10 μm or less.

図1に示すセラミック電子部品1は、好ましくは以下のように製造される。
図2A〜図2Bは、図1に示すセラミック電子部品1の製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
The ceramic electronic component 1 shown in FIG. 1 is preferably manufactured as follows.
2A to 2B are cross-sectional views schematically showing an example of a method for manufacturing the ceramic electronic component 1 shown in FIG. 1.

まず、図2Aに示す未焼結の積層体100を作製する。
未焼結の積層体100を作製するため、複数の基材セラミックグリーンシート111を準備する。基材セラミックグリーンシート111は、焼成後に基材セラミック層11となるものである。
First, the unsintered laminate 100 shown in FIG. 2A is produced.
In order to prepare the unsintered laminate 100, a plurality of base material ceramic green sheets 111 are prepared. The base material ceramic green sheet 111 becomes the base material ceramic layer 11 after firing.

基材セラミックグリーンシートは、例えば低温焼結セラミック材料のようなセラミック原料の粉末と、有機バインダと溶剤とを含有するスラリーを、ドクターブレード法等によってシート状に成形したものである。上記スラリーには、分散剤、可塑剤等の種々の添加剤が含有されていてもよい。 The base material ceramic green sheet is obtained by molding a slurry containing a powder of a ceramic raw material such as a low-temperature sintered ceramic material, an organic binder and a solvent into a sheet by a doctor blade method or the like. The slurry may contain various additives such as a dispersant and a plasticizer.

上記スラリーに含有される有機バインダとしては、例えば、ブチラール樹脂(ポリビニルブチラール)、アクリル樹脂、メタクリル樹脂等を用いることができる。溶剤としては、例えば、トルエン、イソプロピルアルコール等のアルコール等を用いることができる。可塑剤としては、例えば、ジ−n−ブチルフタレート等を用いることができる。 As the organic binder contained in the slurry, for example, butyral resin (polyvinyl butyral), acrylic resin, methacrylic resin and the like can be used. As the solvent, for example, alcohols such as toluene and isopropyl alcohol can be used. As the plasticizer, for example, di-n-butylphthalate or the like can be used.

次に、特定の基材セラミックグリーンシート111に、ビアホール導体13のための貫通孔を形成する。該貫通孔に、例えばAg又はCuを導電成分として含有する導電性ペーストを充填することにより、ビアホール導体13となるべき導電性ペースト体113を形成する。 Next, a through hole for the via hole conductor 13 is formed in the specific base material ceramic green sheet 111. By filling the through holes with a conductive paste containing, for example, Ag or Cu as a conductive component, a conductive paste body 113 to be a via hole conductor 13 is formed.

また、上記導電性ペーストと同じ組成の導電性ペーストを用いて、例えばスクリーン印刷等の方法によって、特定の基材セラミックグリーンシート111に、内部導体膜12となるべき導電性ペースト膜112を形成する。 Further, using a conductive paste having the same composition as the above-mentioned conductive paste, a conductive paste film 112 to be an internal conductor film 12 is formed on a specific base material ceramic green sheet 111 by a method such as screen printing. ..

さらに、積層後に表面に配置される基材セラミックグリーンシート111上に、焼成により表面電極20となるべき導電性ペースト膜120を形成する。焼成により表面電極20となるべき導電性ペースト膜120は、例えばAg又はCuを導電成分として含有する導電性ペーストを用いて、スクリーン印刷等の方法によって形成することができる。なお焼成により表面電極20となるべき導電性ペースト膜120は、基材セラミックグリーンシート111を積層した後、焼成する前に形成してもよい。 Further, a conductive paste film 120 to be a surface electrode 20 is formed on the base material ceramic green sheet 111 arranged on the surface after lamination by firing. The conductive paste film 120 that should become the surface electrode 20 by firing can be formed by a method such as screen printing using, for example, a conductive paste containing Ag or Cu as a conductive component. The conductive paste film 120 that should become the surface electrode 20 by firing may be formed after laminating the base ceramic green sheet 111 and before firing.

なお、表面電極を複層構造とする場合には、第1焼結層となるべき導電性ペースト膜上に、第2焼結層となるべき導電性ペースト膜を、スクリーン印刷等の方法によって形成することができる。 When the surface electrode has a multi-layer structure, a conductive paste film to be the second sintered layer is formed on the conductive paste film to be the first sintered layer by a method such as screen printing. can do.

その後、焼成により表面電極20となるべき導電性ペースト膜120の外周部にのみ、アンカー層30となるアンカー層ペースト膜130を形成する。アンカー層ペースト膜130は、例えば低温焼結セラミック材料のようなセラミック原料の粉末と、導電成分としてAg又はCuを含有する粉末とを、有機バインダと溶剤との混合物に分散させたアンカー層ペースト、又は、導電成分であるAg又はCuの表面にセラミックコートを施したセラミックコート金属粒子を有機バインダと溶剤との混合物に分散させたアンカー層ペーストを用いて、スクリーン印刷等の方法によって形成することができる。 After that, the anchor layer paste film 130 to be the anchor layer 30 is formed only on the outer peripheral portion of the conductive paste film 120 to be the surface electrode 20 by firing. The anchor layer paste film 130 is an anchor layer paste in which a powder of a ceramic raw material such as a low-temperature sintered ceramic material and a powder containing Ag or Cu as a conductive component are dispersed in a mixture of an organic binder and a solvent. Alternatively, it can be formed by a method such as screen printing using an anchor layer paste in which ceramic coated metal particles having a ceramic coating on the surface of Ag or Cu, which is a conductive component, dispersed in a mixture of an organic binder and a solvent. it can.

別途、被覆セラミックグリーンシート140を準備する。被覆セラミックグリーンシート140は、焼成後に被覆セラミック層40となるものである。 Separately, a coated ceramic green sheet 140 is prepared. The coated ceramic green sheet 140 becomes a coated ceramic layer 40 after firing.

被覆セラミックグリーンシートは、例えば低温焼結セラミック材料のようなセラミック原料の粉末と、有機バインダと溶剤とを含有するスラリーを、ドクターブレード法等によってシート状に成形したものである。上記スラリーには、分散剤、可塑剤等の種々の添加剤が含有されていてもよい。なお、被覆セラミックグリーンシートを作製するためのスラリーとして、基材セラミックグリーンシートを作製するためのスラリーを使用することもできる。 The coated ceramic green sheet is obtained by molding a slurry containing a powder of a ceramic raw material such as a low-temperature sintered ceramic material, an organic binder and a solvent into a sheet by a doctor blade method or the like. The slurry may contain various additives such as a dispersant and a plasticizer. As the slurry for producing the coated ceramic green sheet, the slurry for producing the base ceramic green sheet can also be used.

続いて、ビアホール導体13となるべき導電性ペースト体113又は内部導体膜12となるべき導電性ペースト膜112が形成された基材セラミックグリーンシート111と、焼成により表面電極20となるべき導電性ペースト膜120が形成された基材セラミックグリーンシート111と、被覆セラミックグリーンシート140とを積層し、圧着することにより、未焼結の積層体100を作製する。被覆セラミックグリーンシート140は、積層後に表面に配置される基材セラミックグリーンシート111上とアンカー層30となるべきアンカー層ペースト膜130上とに配置する。 Subsequently, the base material ceramic green sheet 111 on which the conductive paste body 113 to be the via hole conductor 13 or the conductive paste film 112 to be the internal conductor film 12 is formed, and the conductive paste to be the surface electrode 20 by firing. The base ceramic green sheet 111 on which the film 120 is formed and the coated ceramic green sheet 140 are laminated and pressure-bonded to produce an unsintered laminated body 100. The coated ceramic green sheet 140 is arranged on the base ceramic green sheet 111 arranged on the surface after lamination and on the anchor layer paste film 130 which should be the anchor layer 30.

なお、被覆セラミックグリーンシート140に代えて、ペースト状組成物を、未焼結の積層体100の表面に位置する基材セラミックグリーンシート111上とアンカー層30となるべきアンカー層ペースト膜130上とに塗布することによっても、未焼結の積層体100を作製することができる。この場合、積層する前の基材セラミックグリーンシート111上とアンカー層30となるべきアンカー層ペースト膜130上とにペースト状組成物を塗布してもよい。 Instead of the coated ceramic green sheet 140, the paste-like composition is placed on the base ceramic green sheet 111 located on the surface of the unsintered laminate 100 and on the anchor layer paste film 130 to be the anchor layer 30. The unsintered laminate 100 can also be produced by applying to. In this case, the paste-like composition may be applied on the base material ceramic green sheet 111 before laminating and on the anchor layer paste film 130 to be the anchor layer 30.

その後、未焼結の積層体100を焼成する。これによって、図2Bに示すように、表面に基材セラミック層11を有する電子部品本体10と、基材セラミック層11の表面に設けられた表面電極20と、表面電極20の外周部を被覆する被覆セラミック層40と、表面電極20と被覆セラミック層40の間に設けられたアンカー層30とを備える積層体であるセラミック電子部品1が得られる。 Then, the unsintered laminate 100 is fired. As a result, as shown in FIG. 2B, the electronic component main body 10 having the base ceramic layer 11 on the surface, the surface electrode 20 provided on the surface of the base ceramic layer 11, and the outer peripheral portion of the surface electrode 20 are covered. A ceramic electronic component 1 which is a laminated body including a coated ceramic layer 40 and an anchor layer 30 provided between the surface electrode 20 and the coated ceramic layer 40 can be obtained.

なお、表面電極は、焼結後の電子部品本体の表面に導電性ペースト膜を形成し、焼成することによっても形成することができる。アンカー層は、焼結後の表面電極の表面にアンカー層ペースト膜を形成し、焼成することによっても形成することができる。また、被覆セラミック層は、焼結後のアンカー層上に被覆セラミックグリーンシートを配置し、この被覆セラミックグリーンシートを焼成することによっても形成することができる。ただし、電子部品本体を得るための焼成によって、表面電極、アンカー層及び被覆セラミック層を電子部品本体と同時に焼成してセラミック電子部品を得ることが好ましい。表面電極、アンカー層及び被覆セラミック層を電子部品本体と同時に焼成して形成する方が、製造工程の効率化及び低コスト化にとって有利であり、また、電子部品本体と表面電極との間の接合強度、表面電極とアンカー層との接合強度、アンカー層と被覆セラミック層の接合強度、及び、電子部品本体と被覆セラミック層との間の接合強度を高くすることができる。表面電極、アンカー層及び被覆セラミック層を同時焼成によって形成する場合には、電子部品本体を構成する基材セラミック層は、上述したように低温焼結セラミック材料を含有することが好ましい。 The surface electrode can also be formed by forming a conductive paste film on the surface of the main body of the electronic component after sintering and firing it. The anchor layer can also be formed by forming an anchor layer paste film on the surface of the surface electrode after sintering and firing it. Further, the coated ceramic layer can also be formed by arranging the coated ceramic green sheet on the anchor layer after sintering and firing the coated ceramic green sheet. However, it is preferable that the surface electrode, the anchor layer and the coated ceramic layer are fired at the same time as the electronic component body by firing to obtain the electronic component body to obtain the ceramic electronic component. It is advantageous to bake the surface electrode, the anchor layer and the coated ceramic layer at the same time as the electronic component body to improve the efficiency and cost of the manufacturing process, and to join the electronic component body and the surface electrode. The strength, the bonding strength between the surface electrode and the anchor layer, the bonding strength between the anchor layer and the coating ceramic layer, and the bonding strength between the electronic component body and the coating ceramic layer can be increased. When the surface electrode, the anchor layer and the coated ceramic layer are formed by simultaneous firing, the base material ceramic layer constituting the electronic component body preferably contains a low-temperature sintered ceramic material as described above.

また、未焼結の積層体100の焼結温度では実質的に焼結しない金属酸化物(Al等)を主成分とする拘束グリーンシートを準備し、未焼結の積層体100の最表面に拘束グリーンシートを配置した状態で未焼結の積層体100を焼成してもよい。この場合、拘束グリーンシートは、焼成時において実質的に焼結しないので収縮が生じず、積層体に対して主面方向での収縮を抑制するように作用する。Further, a restraint green sheet containing a metal oxide (Al 2 O 3, etc.) as a main component, which is not substantially sintered at the sintering temperature of the unsintered laminate 100, is prepared, and the unsintered laminate 100 is prepared. The unsintered laminate 100 may be fired with the restraint green sheet arranged on the outermost surface. In this case, the restraint green sheet does not substantially sinter during firing, so that shrinkage does not occur, and the restraint green sheet acts to suppress shrinkage in the main surface direction with respect to the laminated body.

本発明のセラミック電子部品では、表面電極の外周部と被覆セラミック層の間にアンカー層が配置されている。その結果、表面電極上の被覆セラミック層の焼結性が向上し、被覆セラミック層と表面電極との間の接合強度が高くなるため、セラミック電子部品を焼成した場合に、被覆セラミック層が表面電極から剥離しにくくなる。 In the ceramic electronic component of the present invention, an anchor layer is arranged between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer. As a result, the sinterability of the coated ceramic layer on the surface electrode is improved, and the bonding strength between the coated ceramic layer and the surface electrode is increased. Therefore, when the ceramic electronic component is fired, the coated ceramic layer becomes the surface electrode. It becomes difficult to peel off from.

図3は、本発明のセラミック電子部品の別の一例を模式的に示す断面図である。
図3に示すセラミック電子部品2では、アンカー層30が表面電極20上の全域に形成されておらず、表面電極20の外周部と被覆セラミック層40の間のみに設けられている。そのため、表面電極20上にめっき層を形成する場合において、めっき付性が低下することがない。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the ceramic electronic component of the present invention.
In the ceramic electronic component 2 shown in FIG. 3, the anchor layer 30 is not formed over the entire surface electrode 20, but is provided only between the outer peripheral portion of the surface electrode 20 and the coated ceramic layer 40. Therefore, when the plating layer is formed on the surface electrode 20, the plating property does not deteriorate.

以下、本発明のセラミック電子部品をより具体的に開示した実施例を示す。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, examples in which the ceramic electronic component of the present invention is disclosed more specifically will be shown. The present invention is not limited to these examples.

[アンカー層による効果の確認]
図2A及び図2Bで説明した方法により、基材セラミック層の表面に設けられた表面電極と、上記表面電極の外周部を被覆する被覆セラミック層とを備え、上記表面電極上にアンカー層が配置されたセラミック電子部品1−1〜1−2を作製した。
表面電極上の全域にアンカー層を配置したものをセラミック電子部品1−1とし、表面電極の外周部と被覆セラミック層の間のみにアンカー層を配置した以外は全てセラミック電子部品1−1と同様としたものをセラミック電子部品1−2とした。また、アンカー層を配置せず、表面電極の外周部に直接被覆セラミック層を配置したものをセラミック電子部品1−3とした。
それぞれ1000個のセラミック電子部品について、焼成後のセラミック電子部品の断面を観察し、被覆セラミック層が表面電極から剥離しているかどうかを目視で判定し、剥離が発生していないものの割合(良品率)を判定した。良品率が90%以上のものを◎(優:剥離が極めて起こりにくい)、80%以上90%未満のものを○(良:剥離が起こりにくい)、60%以上80%未満のものを△(可:多少剥離がみられる)、60%未満のものを×(不良:剥離が起こりやすい)として評価した。結果を表1に示す。
[Confirmation of effect by anchor layer]
According to the method described with reference to FIGS. 2A and 2B, a surface electrode provided on the surface of the base material ceramic layer and a coated ceramic layer covering the outer peripheral portion of the surface electrode are provided, and an anchor layer is arranged on the surface electrode. The ceramic electronic components 1-1 to 1-2 were produced.
Ceramic electronic components 1-1 are those in which the anchor layer is arranged over the entire surface electrode, and all are the same as ceramic electronic components 1-1 except that the anchor layer is arranged only between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer. The ceramic electronic component 1-2 was used. Further, the ceramic electronic component 1-3 in which the coating ceramic layer was directly arranged on the outer peripheral portion of the surface electrode without arranging the anchor layer was used.
For each of 1000 ceramic electronic parts, the cross section of the ceramic electronic parts after firing is observed, and it is visually determined whether or not the coated ceramic layer is peeled from the surface electrode, and the ratio of those in which peeling does not occur (non-defective rate). ) Was judged. Good product rate of 90% or more is ◎ (excellent: peeling is extremely difficult to occur), 80% or more and less than 90% is ○ (good: peeling is difficult to occur), 60% or more and less than 80% is △ ( Possible: Some peeling was observed), and those less than 60% were evaluated as x (defective: easy peeling). The results are shown in Table 1.

Figure 0006773114
Figure 0006773114

表1より、表面電極上にアンカー層を配置することにより、被覆セラミック層の剥離を大幅に抑制することができ、被覆セラミック層と表面電極との間の接合強度を高められたことが確認された。
また、アンカー層は表面電極上の全域に設けることは必須ではなく、表面電極の外周部と被覆セラミック層の間にのみアンカー層を設けることで充分な効果を発揮することが確認された。
From Table 1, it was confirmed that by arranging the anchor layer on the surface electrode, the peeling of the coated ceramic layer could be significantly suppressed and the bonding strength between the coated ceramic layer and the surface electrode was enhanced. It was.
Further, it was confirmed that it is not essential to provide the anchor layer over the entire surface electrode, and that a sufficient effect is exhibited by providing the anchor layer only between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer.

[アンカー層の組成による効果の確認]
セラミック電子部品1−1から、表面電極及びアンカー層の組成を変更したセラミック電子部品1−4〜1−9を作製し、[アンカー層による効果の確認]と同様の方法で、良品率を評価した。
表面電極、アンカー層及び被覆セラミック層の組成並びに良品率の評価結果を表2に示す。
[Confirmation of effect by composition of anchor layer]
Ceramic electronic components 1-4 to 1-9 in which the composition of the surface electrode and the anchor layer are changed are produced from the ceramic electronic component 1-1, and the non-defective rate is evaluated by the same method as in [Confirmation of effect by anchor layer]. did.
Table 2 shows the composition of the surface electrode, the anchor layer and the coated ceramic layer, and the evaluation results of the non-defective rate.

Figure 0006773114
Figure 0006773114

表2より、アンカー層を構成する金属成分とセラミック成分との合計体積に対する金属成分の体積の割合が10%以上、90%以下であるセラミック電子部品1−1及び1−4〜1−7では、良品率が○(良)以上であり、被覆セラミック層の剥離がより抑制されることが確認された。また、セラミック電子部品1−1及び1−6〜1−7の対比により、アンカー層の金属成分と表面電極の金属成分とが同一である場合、及び、アンカー層のセラミック成分と被覆セラミック層のセラミック成分とが同一である場合に、被覆セラミック層の剥離がより抑制されることが確認された。 From Table 2, in the ceramic electronic components 1-1 and 1-4 to 1-7, the ratio of the volume of the metal component to the total volume of the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer is 10% or more and 90% or less. It was confirmed that the non-defective product rate was ○ (good) or higher, and the peeling of the coated ceramic layer was further suppressed. Further, by comparing the ceramic electronic parts 1-1 and 1-6 to 1-7, when the metal component of the anchor layer and the metal component of the surface electrode are the same, and when the ceramic component of the anchor layer and the coating ceramic layer are used. It was confirmed that the peeling of the coated ceramic layer was further suppressed when the ceramic components were the same.

1、2 セラミック電子部品
10 電子部品本体
11 基材セラミック層
20 表面電極
30 アンカー層
40 被覆セラミック層
W1 表面電極の外周部
W2 表面電極の中央部
1, 2 Ceramic electronic component 10 Electronic component body 11 Base material Ceramic layer 20 Surface electrode 30 Anchor layer 40 Coated ceramic layer W1 Outer peripheral part of surface electrode W2 Central part of surface electrode

Claims (12)

表面に基材セラミック層を有する電子部品本体と、前記電子部品本体の表面に設けられた表面電極と、前記表面電極の外周部を被覆する被覆セラミック層とを備えるセラミック電子部品であって、
前記表面電極の外周部と前記被覆セラミック層の間に、金属成分及びセラミック成分を共に含むアンカー層が設けられ
前記アンカー層を構成する金属成分及びセラミック成分は、それぞれ、前記表面電極を構成する金属成分及び前記被覆セラミック層を構成するセラミック成分と同一の成分を含むことを特徴とするセラミック電子部品。
A ceramic electronic component including an electronic component body having a base ceramic layer on its surface, a surface electrode provided on the surface of the electronic component body, and a coated ceramic layer covering the outer peripheral portion of the surface electrode.
An anchor layer containing both a metal component and a ceramic component is provided between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coating ceramic layer .
A ceramic electronic component characterized in that the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer contain the same components as the metal component constituting the surface electrode and the ceramic component constituting the coated ceramic layer, respectively .
前記アンカー層を構成する金属成分及びセラミック成分は、前記アンカー層中にそれぞれ分散して存在している、請求項1に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to claim 1, wherein the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer are dispersed and exist in the anchor layer, respectively. 前記アンカー層を構成する金属成分及びセラミック成分は、前記金属成分の周囲を前記セラミック成分が被覆する、請求項1に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to claim 1, wherein the metal component and the ceramic component constituting the anchor layer are such that the ceramic component covers the periphery of the metal component. 前記アンカー層の厚みが5μm以上10μm以下である、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the anchor layer is 5 μm or more and 10 μm or less. 前記被覆セラミック層は、低温焼結セラミック材料を含有する、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to any one of claims 1 to 4, wherein the coated ceramic layer contains a low-temperature sintered ceramic material. 前記基材セラミック層は、低温焼結セラミック材料を含み、The base material ceramic layer contains a low temperature sintered ceramic material and contains.
前記被覆セラミック層に含有される低温焼結セラミック材料は、前記基材セラミック層を構成する低温焼結セラミック材料と同一である、請求項5に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to claim 5, wherein the low-temperature sintered ceramic material contained in the coated ceramic layer is the same as the low-temperature sintered ceramic material constituting the base material ceramic layer.
前記表面電極は、前記電子部品の上面に設けられた第1焼結層と、前記第1焼結層の上面に設けられた第2焼結層とを含む少なくとも2層構造を有し、前記第1焼結層中の金属酸化物の含有量は、前記第2焼結層中の金属酸化物の含有量よりも多い、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。The surface electrode has at least a two-layer structure including a first sintered layer provided on the upper surface of the electronic component and a second sintered layer provided on the upper surface of the first sintered layer. The ceramic electronic component according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of the metal oxide in the first sintered layer is higher than the content of the metal oxide in the second sintered layer. 前記第1焼結層中の導電成分を構成する金属の粒子と金属酸化物の粒子とが分散して存在する、請求項7に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to claim 7, wherein the metal particles and the metal oxide particles constituting the conductive component in the first sintered layer are dispersed and exist. 前記第1焼結層中の金属の粒子の周囲に金属酸化物が被覆されている、請求項7に記載のセラミック電子部品。The ceramic electronic component according to claim 7, wherein a metal oxide is coated around the metal particles in the first sintered layer. 前記表面電極の第1焼結層に含有される導電成分と前記表面電極の第2焼結層に含有される導電成分は同じである、請求項7乃至9のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。The ceramic according to any one of claims 7 to 9, wherein the conductive component contained in the first sintered layer of the surface electrode and the conductive component contained in the second sintered layer of the surface electrode are the same. Electronic components. 前記アンカー層は、前記表面電極の外周部と前記被覆セラミック層の間のみに設けられている請求項1乃至10のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。 The ceramic electronic component according to any one of claims 1 to 10, wherein the anchor layer is provided only between the outer peripheral portion of the surface electrode and the coated ceramic layer. 前記アンカー層を構成する金属成分とセラミック成分との合計体積に対する金属成分の体積の割合は、10%以上、90%以下である請求項1乃至11のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。 Ratio of the volume of the metal component to the total volume of the metal component and a ceramic component constituting the anchor layer is preferably 10% or more, 90% or less, a ceramic electronic component according to any one of claims 1 to 11 ..
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