JP6770168B2 - 光学面の形状を干渉法により求める測定装置 - Google Patents
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Description
が成り立つ長さLBelを有するように構成され、式中、λは照明波の波長であり、fは、照明モジュールの瞳面と照明波の波面を試験対象物の光学面の目標形態に適合させるための干渉計の適合光学ユニットとの間の距離であり、lは、分割素子と試験対象物の光学面との間の距離である。一変形実施形態によれば、少なくとも1方向の瞳面の強度分布は、1mmを超える、特に2mmを超える、又は5mmを超える長さLBelを有する。適合光学ユニットは、照明波と試験対象物の表面との相互作用の上流に配置されたコリメータとして具現することができる。
β>100×λ/D
式中、λは照明波34の波長であり、Dは、試験波50との重畳ビーム経路への合成場所における、すなわち分割素子46の場所における参照波52のビーム径である。図1に示す実施形態では、Dは適合光学ユニット42の直径に対応する。数値例によれば、λ=633nm、D=200mm、したがってβ>0.32mradである。
式中、λは照明波34の波長であり、fは、瞳面28と適合光学ユニット42との間の距離であり、lは、分割素子46と試験対象物の光学面12との間の距離である。数値例によれば、λ=633nm、f=1020mm、l=1000mm、β=22mrad、したがってLBel>0.2973mmである。
12 光学面
14 試験対象物
16 照明モジュール
18 干渉計
20 評価ユニット
22 放射源
24 測定放射線
26 集束光学ユニット
28 瞳面
30 照明絞り
31 照明モジュールの瞳
31R 瞳の縁
32 拡散スクリーン
33 回転軸
34 照明波
36 共役面
38 面領域
38−1 弧状縞
38−1m 中心部分
38−2 ジグザグ状縞
38−3 直線縞
38−4 円形面領域
40 ビームスプリッタ
42 適合光学ユニット
44 光軸
44N 光軸に対する法平面
46 分割素子
48 フィゾー面
50 試験波
52 参照波
54 検出モジュール
56 結像絞り
58 カメラレンズ
60 検出器
62 検出面
62p 視野点
64 開口領域
66 マルチフリンジ干渉パターン
67 等高線
68 空間光変調器
70 4f結像光学ユニット
72 2f結像光学ユニット
74 最小限の面積を有する矩形
76 弧状縞
78 直線縞
Claims (17)
- 干渉法により試験対象物の光学面の形状を求める測定装置であって、
照明波を生成する照明モジュールと、
前記光学面に指向される試験波と参照波とに前記照明波を分割するよう構成された干渉計であり、前記試験波及び前記参照波は、該試験波及び前記参照波の重畳により干渉計の検出面でマルチフリンジ干渉パターンが生じるような相互間の傾斜を有する干渉計と
を備え、前記照明モジュールは、前記検出面のフーリエ面に配置された瞳面を有し、前記照明モジュールは、前記瞳面での前記照明波の強度分布が1つの空間的に分離された連続面領域を含むように前記照明波を生成するよう構成され、前記面領域は、前記面領域にフィットする最小限の面積の矩形が少なくとも1.5:1のアスペクト比を有するように構成され、
前記連続面領域は、縞として設計される測定装置。 - 干渉法により試験対象物の光学面の形状を求める測定装置であって、
照明波を生成する照明モジュールと、
前記光学面に指向される試験波と参照波とに前記照明波を分割するよう構成された干渉計であり、前記試験波及び前記参照波は、該試験波及び前記参照波の重畳により干渉計の検出面でマルチフリンジ干渉パターンが生じるような相互間の傾斜を有する干渉計と
を備え、前記照明モジュールは、前記検出面のフーリエ面に配置された瞳面を有し、前記照明モジュールは、前記瞳面での前記照明波の強度分布が複数の空間的に分離された連続面領域を含むように前記照明波を生成するよう構成され、前記面領域は、前記複数の面領域全体にフィットする最小限の面積の矩形が少なくとも1.5:1のアスペクト比を有するように構成され、
前記複数の面領域全体に形態が適合した被覆面が、縞として設計される測定装置。 - 請求項1又は2に記載の測定装置において、
前記縞は弧状縞である測定装置。 - 請求項3に記載の測定装置において、
前記瞳面に割り当てられた前記照明モジュールの瞳が、環状縁により画定され、前記弧状縞は、面積の差が20倍未満である2つの部分に前記瞳を細分する少なくとも1つの接線が前記縞に対してあるように構成される測定装置。 - 請求項4に記載の測定装置において、
全体で前記縞20%以上を占める前記縞の少なくとも一部分に対する各接線は、いずれの場合も面積の差が20倍未満の2つの部分に前記瞳を細分する測定装置。 - 請求項1又は2に記載の測定装置において、
前記縞は直線縞である測定装置。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の測定装置において、
前記瞳面に割り当てられた前記照明モジュールの前記瞳は、環状縁により画定され、前記縞は、前記瞳の縁に対して横断方向に延びる測定装置。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の測定装置において、
前記瞳面での前記強度分布は、複数の前記縞を含む測定装置。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の測定装置において、
前記検出面の視野点に関する前記瞳面の瞳点の経路長差が、試験経路長と参照経路長との間の差により規定され、前記試験経路長は、前記瞳点から前記検出面の前記視野点まで前記試験波の放射線が通る経路長であり、前記参照経路長は、前記瞳点から前記検出面の前記視野点まで前記参照波の放射線が通る経路長であり、前記縞は、前記視野点の前記経路長差の等高線に沿って延びる測定装置。 - 請求項9に記載の測定装置において、
複数の前記縞が、前記視野点の前記経路長差の等高線に沿って前記瞳面に延び、前記等高線は、前記照明波の波長の整数倍の差がある測定装置。 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載の測定装置において、
前記干渉計は、前記光学面との相互作用後の前記試験波と前記参照波と重畳ビーム経路で合成するよう構成され、その際に前記参照波は、β>100×λ/Dが成り立つ傾斜角βだけ前記試験波に対して傾斜し、式中、λは前記照明波の波長であり、Dは、前記試験波との前記重畳ビーム経路への合成場所における前記参照波のビーム径である測定装置。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載の測定装置において、
前記干渉計は、前記照明波を前記試験波及び前記参照波に分割する分割素子を含み、前記干渉計はさらに、前記光学面との相互作用後の前記試験波と前記参照波とを、該参照波を傾斜角βだけ前記試験波に対して傾斜させて重畳ビーム経路に合成するよう構成され、前記照明モジュールは、少なくとも1方向の前記瞳面での前記強度分布が、
が成り立つ長さLBelを有するように構成され、式中、λは前記照明波の波長であり、fは、前記照明モジュールの前記瞳面と前記照明波の波面を前記試験対象物の前記光学面の目標形態に適合させるための前記干渉計の適合光学ユニットとの間の距離であり、lは、前記分割素子と前記試験対象物の前記光学面との間の距離である測定装置。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載の測定装置において、
前記瞳面での前記強度分布は、前記マルチフリンジ干渉パターンが少なくとも1つの領域で50%以上のコントラストを有するように構成される測定装置。 - 請求項1〜13のいずれか1項に記載の測定装置において、前記強度分布は、前記瞳面に割り当てられた前記照明モジュールの前記瞳の70%未満が照明されるように構成される測定装置。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載の測定装置において、前記照明モジュールは、前記瞳面での前記強度分布をもたらす空間光変調器を含む測定装置。
- 干渉法により試験対象物の光学面の形状を求める方法であって、
照明波を照明モジュールにより生成し、
前記照明波を干渉計により前記光学面へ指向される試験波と参照波とに分割し、前記試験波及び前記参照波は、該試験波及び前記参照波の重畳により干渉計の検出面でマルチフリンジ干渉パターンが生じるように相互に対して傾斜させる方法において、
前記照明波は、前記検出面のフーリエ面に配置された瞳面でのその強度分布が1つの空間的に分離された連続面領域を含むように生成され、前記面領域は、前記面領域にフィットする最小限の面積の矩形が少なくとも1.5:1のアスペクト比を有するように構成され、
前記連続面領域は、縞として設計される方法。 - 干渉法により試験対象物の光学面の形状を求める方法であって、
照明波を照明モジュールにより生成し、
前記照明波を干渉計により前記光学面へ指向される試験波と参照波とに分割し、前記試験波及び前記参照波は、該試験波及び前記参照波の重畳により干渉計の検出面でマルチフリンジ干渉パターンが生じるように相互に対して傾斜させる方法において、
前記照明波は、前記検出面のフーリエ面に配置された瞳面でのその強度分布が複数の空間的に分離された連続面領域を含むように生成され、前記面領域は、前記複数の面領域全体にフィットする最小限の面積の矩形が少なくとも1.5:1のアスペクト比を有するように構成され、
前記複数の面領域全体に形態が適合した被覆面が、縞として設計される方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016213237.7A DE102016213237A1 (de) | 2016-07-20 | 2016-07-20 | Messvorrichtung zur interferometrischen Bestimmung einer Form einer optischen Oberfläche |
DE102016213237.7 | 2016-07-20 | ||
PCT/EP2017/000875 WO2018015014A1 (de) | 2016-07-20 | 2017-07-19 | Messvorrichtung zur interferometrischen bestimmung einer form einer optischen oberfläche |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019521352A JP2019521352A (ja) | 2019-07-25 |
JP6770168B2 true JP6770168B2 (ja) | 2020-10-14 |
Family
ID=59569266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019502752A Active JP6770168B2 (ja) | 2016-07-20 | 2017-07-19 | 光学面の形状を干渉法により求める測定装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10527403B2 (ja) |
JP (1) | JP6770168B2 (ja) |
CN (1) | CN109716056B (ja) |
DE (1) | DE102016213237A1 (ja) |
WO (1) | WO2018015014A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11391564B2 (en) * | 2019-09-30 | 2022-07-19 | Opto-Alignment Technology, Inc. | Active alignment technique for measuring tilt errors in aspheric surfaces during optical assembly using lens alignment station (LAS) |
WO2023051939A1 (en) | 2021-10-01 | 2023-04-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for characterizing the surface shape of an optical element, and interferometric test arrangement |
DE102022210483A1 (de) | 2021-10-06 | 2023-04-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
DE102022209477B3 (de) | 2022-09-12 | 2024-01-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrisches Messverfahren und interferometrische Messvorrichtung |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6312373B1 (en) * | 1998-09-22 | 2001-11-06 | Nikon Corporation | Method of manufacturing an optical system |
JP2001296104A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Hitachi Metals Ltd | 干渉縞検出装置 |
US6643024B2 (en) | 2001-05-03 | 2003-11-04 | Zygo Corporation | Apparatus and method(s) for reducing the effects of coherent artifacts in an interferometer |
US7057738B2 (en) * | 2003-08-28 | 2006-06-06 | A D Technology Corporation | Simultaneous phase-shifting Fizeau interferometer |
JP2008528955A (ja) | 2005-01-20 | 2008-07-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | ホログラム、及びホログラムを用いた光学素子の製造方法 |
DE102006035022A1 (de) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Herstellen einer optischen Komponente, Interferometeranordnung und Beugungsgitter |
DE102007021953B4 (de) * | 2007-05-10 | 2009-01-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Interferometrische Messvorrichtung zum Vermessen einer Oberfläche eines Prüflings |
WO2009006914A1 (en) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of measuring a deviation of an actual shape from a target shape of an optical surface |
US8004688B2 (en) * | 2008-11-26 | 2011-08-23 | Zygo Corporation | Scan error correction in low coherence scanning interferometry |
CN102607454A (zh) * | 2011-02-24 | 2012-07-25 | 南京理工大学 | 光学自由曲面干涉检测装置 |
JP5955574B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2016-07-20 | 株式会社東光高岳 | 立体形状計測装置 |
DE102013016752A1 (de) * | 2013-09-03 | 2015-03-05 | Universität Stuttgart | Verfahren und Anordnung zur robusten One-shot-Interferometrie, insbesondere auch zur optischen Kohärenz-Tomografie nach dem Spatial-domain-Ansatz (SD-OCT) |
JP2015102450A (ja) * | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 国立大学法人東北大学 | 微細輪郭形状測定装置および微細輪郭形状測定方法 |
CN111615667A (zh) * | 2018-01-17 | 2020-09-01 | Asml荷兰有限公司 | 测量目标的方法和量测设备 |
-
2016
- 2016-07-20 DE DE102016213237.7A patent/DE102016213237A1/de not_active Withdrawn
-
2017
- 2017-07-19 JP JP2019502752A patent/JP6770168B2/ja active Active
- 2017-07-19 CN CN201780054763.6A patent/CN109716056B/zh active Active
- 2017-07-19 WO PCT/EP2017/000875 patent/WO2018015014A1/de active Application Filing
-
2019
- 2019-01-18 US US16/251,703 patent/US10527403B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102016213237A1 (de) | 2018-01-25 |
US10527403B2 (en) | 2020-01-07 |
CN109716056A (zh) | 2019-05-03 |
US20190154427A1 (en) | 2019-05-23 |
CN109716056B (zh) | 2021-05-25 |
JP2019521352A (ja) | 2019-07-25 |
WO2018015014A1 (de) | 2018-01-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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